TW201227865A

TW201227865A - Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method

Info

Publication number: TW201227865A
Application number: TW100132050A
Authority: TW
Inventors: Yasuo Aoki
Original assignee: Nikon Corp
Priority date: 2010-09-07
Filing date: 2011-09-06
Publication date: 2012-07-01
Also published as: JP6304509B2; CN105372947B; HK1179697A1; US8598538B2; JP2019204109A; JP2012060117A; CN105372947A; KR101911721B1; TW202014806A; TWI681262B; US20120056105A1; CN103119518B; JP6904384B2; TW201842418A; JP6558721B2; TW201704896A; WO2012033211A1; JP2016191935A; KR20180116485A; JP5954557B2

Description

201227865 六、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明係關於一種移動體裝置、物體處理裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方:，更詳言之，係關於使物體沿既定二維平面移動之移動體裝置、對保持於該移動體裝置之物體進行既定處理之物體處理裝置、於保持於前述移動體裝置之物體形成既定圖案之曝光裝置、使用前述曝光裝置之平板顯示器之製造方法、以及使用前述曝光裝置之元件製造方法。【先前技術】以在，在製造液晶顯示元件、半導體元件（積體電路等）等電子元件（微型元件）的微影製程中，主要使用例如步進重複方式之投影曝光裝置（所謂步進機）、或步進掃描方式之投影曝光裝置（所謂掃描步進機（亦稱掃描機））等。此種曝光裝置，曝光對象之物體（玻璃板或晶圓（以下總稱為基板」））載置於基板載台裝置上。之後，形成於光罩 (或標線片）之電路圖案，藉由經由投影透鏡等光學系統之曝光用光之照射而轉印至基板（參照例如專利文獻〇。近年來’曝光裝置之曝光對象物即基板、特別是液晶顯示元件用之矩形玻璃板之尺寸例如為一邊三公尺以上等，有大型化之傾向，伴隨於此，基板載台裝置亦大型化，其重量亦增大。因此，被期望開發出一種載台裝置，係能將曝光對象物（基板）高速且高精度地導引，且小型、輕量。 201227865 [專利文獻] [專利文獻1 ]美國 s月專利申請公開第2010/ 0018950 【發明内容】根據本發明之第1能心樣’提供一種移動體裝置，其具 .第1移動體’可保持沿與水平面平行之既定二維平面配置之物體之端部，於、乂至^别述二維平面内之第1方向以既定行程移動；以及筮第移動體，包含在前述第1移動體於别述第1方向之可務叙移動範圍内從下方支承前述物體之物 :構件，能與前述帛1移動體-起移動於在前述二唯平面内與前述第1方向正交之第2方向。 < 藉此’藉由第1移動體, 保持於該帛1移動體之既定行程移動，之物體，則在被物體支承構件從下方支承之狀態下於第〗 r ^ 支承構侏夕绝方向以既定行程移動。又，具有物體牛之第2移動體由於盥第，、乐1移動體一起移動於第2 方向’因此能將物體往帛1方弟2 動。由於物體在及/成第2方向任意移、1動靶圍内隨時被物體支承構件從方支承’因此可抑制因自重導致之f 載置於呈右伽# & 疋乂與將物體戰罝於”有與该物體相同程度面保持構件之产± 〈保符構件上並驅動該清形相較，能使裝置更輕量化、小型化。且備根Lt發明之第2態樣’提供—種物體處理裝置，复本备明之移動體裝置；以及執行裝置，為了谁心前述物體相關之為了進仃與既疋處理’從與前述保持m目反之側對 201227865 該物體中保持於前述保持裝置之部分執行既定動作。根：本發明之第3態樣’提供—種第！曝光裝置，皇具備.本發明之移動體裝置；以，、曝光據以將既定圖宰形成於…由…使別述物體圆茱形成於该物體上之圖案形成裝置。根=明…態樣，提供_種平板顯示器之製造評平^3.使用上述第1 #光裝置使作為前述物體而 =反員示器裝置之基板曝光之動作；以及使曝光後之刖述基板顯影之動作。根據本發明之帛5態樣’提供—種元件製造方法其 :二：用上述第1曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。由处旦明之第6態樣’提供一種第2曝光裝置，藉由月匕置束使物體曝光據以將既定圖案形成於該物體上，其具.第」移動體，可保持沿與水平面平行之既定二維平之：述物體之端部，於至少前述二維平面内之第1 體二==行程移動；帛2移動體’包含在前述第1移動物體方向之可移動範圍内從下方支承前述物體之承構件，能與前述第i移動體一起移動於在前述二 =内與前述第i方向正交之第2方向;以及曝光系統，藉由月心能量束使冑述物體曝光。才艮據本發明之g 〜、樣’提供一種平板顯示器之製造田二其包含：使用上述第2曝光裝置使作為前述物體而：板1不器裝置之基板曝光之動作；以及使曝光後之刖述基板顯影之動作。 6 201227865 根據本發明之第8態樣’提供一種元件製造方法，其包含：使用上述第2曝光裝置使前述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。【實施方式】《第1實施形態》以下’根據圖1〜圖8(B)說明第1實施形態。圖1係概略顯示第1實施形態之液晶曝光裝置1 〇之構成。液晶曝光裝置10係以用於液晶顯示裝置（平板顯示器）之矩形玻璃基板P(以下單稱為基板P)為曝光對象物之步進掃描方式之投影曝光裝置、亦即所謂掃描機。液晶曝光裝置10如圖1所示，具備照明系統I0p、保持光罩Μ之光罩載台MST、投影光學系統pL、支承上述光罩載台MST及投影光學系統PL等之裝置本體3()、保持基板P之基板載台裝置PST、以及此等之控制系統等。以下之 …月中，將在曝光時光罩Μ與基板p相對投影光學系統凡 =相對掃描之方向設為X轴方向、將在水平面内與X軸向==設為Y軸方向、將與x軸及γ軸正交之方方向二、°且將繞X軸、Y軸、及Z軸之旋轉(傾斜） :刀，叹為0x、0y、及“方向。又以及Ζ軸方向之位置分別作 …軸Υ轴置來說明。 γ位置、以及Ζ位、、、月系統ΙΟΡ，與例如美說明書等所規_ 發月專利第6，552，775號句寺所揭不之照明系統為 U構成。亦即，照明系統 201227865 IOP係將從未圖示之光源（例如水銀燈）射出之光分別經由未圖示之反射鏡、分色鏡、快門、波長選擇過濾器、各種透鏡等，作為曝光用照明光（照明光）IL照射於光罩Μ。照明光IL係使用例如i線（波長365nm)、g線（波長436nm)、卜線（波長405nm)等之光（或者上述i線、g線、h線之合成光）。又，照明光IL之波長，可藉由波長選擇過濾器，依照例如被要求之解析度適當進行切換。於光罩載台MST例如籍由真空吸附固定有光罩M，該光罩Μ係於其圖案面（圖i之下面）形成有電路圖案等。光罩載台MST，以非接觸狀態搭載於固定於裝置本體3〇一部分即鏡筒定盤31 _L之一對光罩載台導# 35上，能籍由包含例如線性馬達之光罩載台驅動系統（未圖示）以既定行程被驅動於掃描方向（X軸方向），且分別適當被微幅驅動於Y 軸方向及0z方向。光罩載台MST在又¥平面内之位置資訊（包含02方向之旋轉資訊），係藉由包含未圖示之雷射干涉儀之光罩干涉儀系統予以測量。投影光學系統PL係在光罩載台MST之圖i下方支承於鏡筒定盤3卜本實施形態之投影光學系統pL具有與例如美國發明專利第6, 552, 775號說明f所揭示之投影光學系統相同之構成。亦即，投影光學系统PL包含光罩Μ之圖案像之投影區域配置成交錯格子狀之複數個投影光學系統（多透鏡投影光料、統），係發揮與具有以γ軸方向為長邊方向之長方形之單-像場之投影光學系統同等之功能。本實施形態t之複數個投影光學系統均使用例如以兩側遠心之等 8 201227865 倍系統形成正立正像者。又，以π物丄、以下將投影光學系統PL之配置成交錯格子狀之複數個投影F ^ 仅〜區域總稱為曝光區域ΙΑ(參照圖2)。因此，在以來自照明李絲ΤΓΛΠ 糸、，先Ι0Ρ之照明光IL照明光罩Μ 上之照明區域後，籍由通過光1 4 尤罩M之照明光IL ,使該照明區域内之光罩Μ的電路圖案之拇示 < 投衫像（部分正立像）經由投影光學系統PL形成於，昭明氺ττ ，、月先IL之照射區域（曝光區域 IA)’ §亥區域IA係與表面塗布右本Rb/i+、Λ 々有先阻（感應劑）之基板Ρ上的照明區域共輛。接著，藉由光|载台mst與基板載台裝置 pst之同步驅動’使光罩M相對照明區域（照明光叫移動於掃描方向(X轴方向）’且使基板p相對曝光區域i A(照明光IL)移動於掃描方向（X軸方向），藉此進行基板p上之一以將光罩Μ之圖案（光本實施形態中，係藉由個照射區域（區劃區域）之掃描曝光罩圖案）轉印於該照射區域。亦即照明系統ΙΟΡ及投影光學系統PL將光罩Μ之圖案生成於基板Ρ上，藉由照明光IL對基板ρ上之感應層（光阻層）之曝光將該圖案形成於基板？上。裝置本體30包含前述之鏡筒定盤3卜從下方分別.支承鏡筒定盤3 1之+Υ側及-γ側端部附近之一對橫柱架32、以及從下方支承一對橫柱架32之基板載台架台33。基板載台架台33包含以X軸方向為長度方向之俯視矩形之板狀構件 (參照圖2)所構成之本體部33a、分別支承一對橫柱架32之一對支承部33b、以及連接一對支承部33b與本體部33a之對連接。卩33c。本體部33a、一對支承部33b、以及一對 201227865 連接。卩33c形成為一體。一對支承部3儿分別從下方被支承於。又置於潔淨室之地i i上之防振裝置34上。藉此，支承於裝置本體30之上述光罩載台MST及投影光學系統p]L與地11於振動上分離。於本體部33a上面，如圖2所示固定有一對γ固定子 37。對Y固定子37由與γ軸平行延伸之構件構成，於χ 軸方向以既疋間隔彼此平行配置。一對Y固定子3 7分別具有包含排列於γ軸方向之複數個永久磁石之磁石單元。又，於本體。卩33a上面且為+χ側之γ固定子37之+χ側及X 側，刀別彼此平行地固定有與γ軸平行延伸之γ線性導引構件38。又，於本體部33a上面且為·χ側之.γ固定子w 之+Χ側及-X側，亦分別彼此平行地固定有與Υ軸平行延伸之Υ線性導引構件38。此外，圖2(及圖5(Α)〜圖8(B))中，係省略了基板載台架台33中之一對支承部33b及一對連接部33c(分別參照圖1)之圖示。如圖2所不’基板載台裝置PST具備Y步進定盤50、基板支承構件60、複數個空氣懸浮裝置70、以及定點載台 80等。 Y步進疋盤50’由以X軸方向為長度方向之俯視矩形且與χγ平面平行之板狀構件構成，配置於本體部33a上方。Y步進定盤50之寬度（γ軸方向之尺寸（長度））設定為與基板P寬度（Y軸方向之尺寸（長度））為相同程度（實際上係些微較長）。又，Y步進定盤5〇之長度方向之尺寸（長度）設定為涵蓋基板P在X軸方向之移動範圍之尺寸（長度），本實施 ⑧ 10 201227865 形態中，設定為例如基板p之X軸方向尺寸之25倍程度。由圖2及圖3可知，於γ步進定盤5〇之中央部形成有於γ 軸方向較長之長孔狀開口部5〇a。於Y步進定盤50之下面，如圖3所示，一對γ可動子 57分別對向於一對γ固定子37而固定。各γ可動子w具有包含未圖示線圈之線圈單元。Υ步進定盤50藉由由一對 Υ固定子37與一對Υ可動子57構成之例如兩個（―對代線性馬達而在基板載台架台33上於γ軸方向被以既定行程驅動0 又，於Υ步進定盤50之下面固定有複數個γ滑件58。 Υ:滑件58由ΧΖ刮面為倒υ字狀構件構，卡合於Υ線性導引構件38βγ滑件58如圖二= 對一支γ線性導引構件U π女, 仰態中，於Υ步進定盤5〇之下 …應地固定有例如γ線性導引構加、口 3十為八個之Υ滑件58(圖3中，八個Y滑件5 8甲之四個障藏於1 思臧於其他四個之紙面深側）。返回圖2,於γ步進定盤5〇之上面 X線性導件54。千仃地固定有與Μ平行延伸之基板支承構件60,如圖2所示從下方支承基板Ρ。基板支承構件60包含―:开;構：構成，㈣連結-對Χ支承構件61之_個連 ' 支承構件 …支承構件61，分別由：:62。 ΥΖ剖面矩形(參照圖丨)之棒狀向為=向之〃、丫軸方向以既 201227865 定間隔（較基板㈣向之尺寸短些許之間隔）彼此平行配置。一對X支承構件午1各自之長度方向尺寸，設定為較基板P之X軸方向之尺寸長些許。基板P之+Y側及彳側之端部附近被一對X支承構件61由下方支承。於對X支承構件61各自之上面具有未圖示之吸附墊。-對X支承構件61係從下方藉由例如真空吸附而吸附保持基板1>之Y轴方向之兩端部附近。於_γ側之χ支承構件61之-”則側面安裝有具有與Υ軸正交之反射面之”多動鏡68y(棒反射鏡）。如圖1所示，一對X支承構件6UY軸方向之間隔， -對X線!生導件54之間隔對應。於—對χ支承構件6】 ^自之下面，岐有由YZ剖面逆u字狀構件構成、能以低摩擦可滑動地卡合於對應之\線性導件“之X滑件M。此外，雖圖i中因在紙面深處方向重疊而未圖示，但又滑件64相對一支X線性導件54設有例如兩個。連接構件62由以γ軸方向為長度方向之χζ剖面矩形 (參照圖3)之棒狀構件構成，連結一對χ支承構件61之·χ 側端部相互間。此處之連接構件62，由圖i及圖3可知，搭載於-對X支承構件61各自之上面上，其下面之z位置與基板P下面位置大致相同。又，如圖2所示，於連接構件62之_X側側面’安裝有具有與又轴正交之反射面之 x移動鏡68x(棒反射鏡）。又’基板支承構件60,雖未圖示，但其藉由例如固定於”進定盤50上面之一對固定子(例如包含排列於X軸 (§> 12 201227865 方向之複數個永久磁石之磁石留-、Λ 〜艰石早7L)與固定於一對X支承構件61各自之下面之可動子丨丨a a α人卞I例如包含線圈之線圈單元）所構成之兩個X線性馬達，在γ步 /運疋盤50上於X軸方向被以既疋彳于程驅動。基板支承^描·姓，又艰構件60，藉由γ步進定盤5〇於Υ軸方向被以既定行程喘私 ^ . 程％動，而與該Υ步進定盤50 —體地於Υ軸方向被以既定行裎臁叙丁柱驅動，並與此並行地（或獨立地）

在Υ步進定盤50上於XU古A

孕方向被以既疋行程驅動，而於X 軸方向及Y軸方向被以既定行程驅動。基板支承構件60在χγ承；& > ,职& 你AY干面内之位置資訊，藉由包含一對X干涉儀66x及一對γ千斗说、丁 Y干涉儀06y之基板干涉儀系統求出。一對X干涉儀66x 及一對Y干涉儀66y透過未圖示之支承構件固定於裝置本體3“χ干㈣_或γ干㈣ 6630以未圖示之分束器將來自未圖示之光源之光分割，將豆 -:方之光作為測距光照射於χ移動鏡—（或γ移動鏡 68y)將其另彳之光作為參照光照射於安裝於投影光學系統PL(或者能視為與投影弁昼& 一 ~丹仅办尤予系統PL —體之構件）之固定鏡 (未圖不使上述測距光之來自χ移動鏡—（或Y移動鏡 68Υ)之反射光及參照光之來自固定鏡之反射光再度重疊而射入未圖示之受光元件’根據該光之干涉求出以固定鏡之反射面之位置為基準之χ移動鏡68χ(或Y移動鏡Μ力之反射面之位置（亦即，基板支承構件60之位移）。用以驅動基板支承構件6G之χ線性馬達，係根據一對 X干涉儀66χ之輸出被控制，用以驅動Υ步進定盤50之γ 線性馬達，係根攄—斟V工、本& , , , & i 很像對Υ干涉儀66y(或未圖示之γ線性編 13 201227865 碼器沁輪出被控制。又，一對γ干涉儀吻，其間隔（及台數）被設定為不論基板支承構件60之χ軸方向之位置為何來自至少一方之Υ干涉儀66y之測距光照射於Υ移動鏡68y相對於此，一對χ干涉儀66χ，其間隔則被設定為 :論基板支承構件6〇之Y軸方向之位置為何，隨時有來自一對X干涉儀66x之測距光照射於χ移動鏡68χ。複數台、本實施形態中例如為1〇台之空氣懸浮裝置7〇固定於Υ步進定盤50上面。例如1〇台之空氣懸浮裝置7〇中’例如5台於γ軸方向以既定間隔配置於開口部心之 +Χ側且為—對Χ線性導件54間之區域，其他例如5台則於γ軸方向以既定間隔配置於開口部5〇κ_χ側且為一對 X線I·生導件54間之區域。例如i〇台之空氣懸浮裝置除了配置相異以外，其餘均實質相同。各空氣懸浮裝置70,由延伸於χ軸方向（χ抽方向尺寸較Υ軸及Ζ轴方向尺寸長）之長方體狀構件構成，其長度方向尺寸歧為與基板之χ軸方向尺寸大致相同程度（實際上係短些許空氣懸浮裝置7〇於其上面（對向於基板ρ下面之面）具有多孔質構件，藉由從該多孔質構件所具有之複數個微細孔將加壓氣體（例如空氣）喷出於基板ρ下面，而使基板Ρ懸浮。加壓氣體，亦可從外部被供應至空氣懸浮裝置 70 ’亦可由空氣懸浮裝置7〇 0藏有送風裝置等。又，喷出加壓氣體之孔亦可係藉由機械式加工而形成者。複數個空氣懸浮裝置70對基板ρ之懸浮量（空氣懸浮裝置7〇之上面與基板Ρ之下面之距離），設定為例如數十微米〜數千微米 ⑧ 14 201227865 程度。定點载台80,如圖4所示具備搭載於基板載台架台33 之本體部33a上之重量抵銷裝置81、從下方被重量抵鎖裝置以支承之空氣炎頭裝置88、將空氣爽頭裝置88驅動於 θχ、0y、以及Z軸之三自由度方向之複數個z音圈馬達 95等。重量抵銷裝置81 ’如圖3所示插人於形成在γ步進定盤5〇之開口部池内。此處，規定上述開口部*之開口端部間之尺寸（及/或重量抵销裝置81之外形尺寸）被設定為在Y步進定盤50以既定行程移動於丫軸方向時，規定上述開口部50a之開口端部與重量抵銷裝置8ι不接觸。此外，只^能迴避在γ步進定盤5G以既定行程移動於γ軸方向時重量抵銷裝置81與γ步進定盤5〇之接觸，開口部術之形狀則不特別限定，例如亦可係圓形。返回圖4，重量抵銷裝置81具備固定於基板載台架台叫參照® !)之本體部…之筐體82、收容於筐體J内: 可伸縮於2軸方向之壓縮線圈彈簧83、以及搭載於I縮線圈彈簧83上之Z滑件84等。筐體82由+2側開口之有底筒狀之構件構成。Z滑件84由延伸於z軸之筒透過平行板彈簧褒置85(包含在2軸方向分離配置之與成灯平面平行之一對板彈簧）連接於筐體82之内壁面。平行板彈簧裝置85配置於z滑件84之+χ側、_χ側、+γ側、以及 -Υ側（+Υ側及·Υ側之平行板彈簧裝置85未圖示）。ζ滑件以藉由平行板彈簧裝置85所具有之板彈簧之剛性（拉伸剛 15 201227865 性)而被限制相對值體82之往與面平行之方向之相對移動’相對於此，⑨z轴方向則可藉由板彈簣之可挽性相對筐體82以微幅行程相對移冑。Z滑件84之上端部阳則之端部)從筐體82之+Z側端部往上方突出，而從下方支承空氣失頭裝置.又，於Z滑件84之上端面形成有半球狀之凹部84a。重量抵銷裝置81藉由壓縮線圈彈簧83之彈性力（重力方向往上（+Z方向）之力），抵銷基板p、z滑件84、空氣央頭裝置88等之重量（重力加速度所導致之向下方向）之力）’而減低對複數個Z音圈馬達95之負荷。此外，亦可取代壓縮線圏彈| 83,而如例如美國發明專利中請公開第 2010/GG1895G號說明書所揭示之重量抵銷裝置，使用空氣彈簧等能控制載重之構件來抵銷空氣夾頭裝置Μ等之重 :曼 ° 空氣夾頭裝置88配置於重量抵銷裝置81上方側）。空氣夾頭裝置88具有底座構件89、固定於底座構件 89上之真空預負荷空氣軸承9〇、分別配置於真空預負荷空氣軸承90之+X側及_X側之一對空氣懸浮裝置9ι。、二底座構件89由與XY平面平行配置之板狀構件構成，其下面之Z位置如圖3所示配置為較進定盤5g上面之 Z位置高些許。返回圖4，於底座構件89下面中央固定有具有半球面狀軸承面之球面空氣軸承92。球面空氣軸承％插入於形成在Z滑件84之凹部84a。藉此，空氣夾頭裝置 88相對χγ平面擺動自如（旋轉自如於0 X及θ y方向）地支 16 201227865 承於Z滑件8 4。此外，作在脸咖γ ΧΥ平㈣Μ 氣夾㈣置88支承成相對 ΧΥ平面擺動自如之裝置，可· έ 7 冲' 了係例如美國發明專利申請公開弟2010/ 0018950號說明書所福所揭不之使用複數個空氣軸承之擬似球面軸承裝置，亦可使用彈性鉸鏈裝置。真空預負荷空氣軸承90，如圓2所示由俯視下為以γ 軸方向為長度方向之長方形板狀構件構成，其面積設定為較曝光區域ΙΑ之面積廣些許。真空預負荷空氣軸承％於其上面具有氣體㈣孔及氣體吸引孔，從氣體喷出孔將加壓氣體（例如空氣）往基板Ρ之下面喷出，且從氣體吸引孔吸引與基板Ρ之間之氣體。真空預負荷空氣軸承9〇藉由往基板Ρ下面喷出之氣體之壓力和與基板ρ之間之負壓之平衡於其上面與基板Ρ下面之間形成高剛性之氣體膜，而將基板Ρ隔著大致-定之空隙（間隙/隙縫）以非㈣方式吸附保持。以真空預負荷空氣軸承9G之上面（基板保持面）與基板P下面之間之距離成為例如數微米〜數十微米程度之方式，a又定所喷出之氣體之流量或壓力、及吸引之氣體之流量或壓力。此處，如圖2所示，真空預負荷空氣軸承9〇配置於緊鄰杈衫光學系統PL之下方（_z側），吸附保持位於緊鄰投影光學系統PL下方之基板ρ之與曝光區域IA對應之部位（被曝光部位）。由於真空預負荷空氣軸承9〇對基板p施加所謂預負荷，因此能提高於與基板ρ之間形成之氣體膜之剛性，假使基板P產生扭曲或翹曲，亦能將基板p中位於緊鄰投影光學系統PL下方之被曝光位置之形狀確實地沿真空預負 201227865 啊90上面矯正。又，真空預負荷空氣軸承90由、；拘束基板P在χγ平面内之位置，因此即使係基板ρ j真卫預負荷g氣軸承9〇吸附保持被曝光部位之狀態.，亦 Γ1目對照明光1L(參照圖3)沿χγ彳面移動。此種非接觸式，夾員裝置(真空預負荷空氣軸承)，例如揭示於美國發明第7’ 607’ 647號說明書等。此外，從真空預負荷空氣 ^承90 f出之加壓氣體亦可由外部供冑，亦可由真空預負 :空氣軸承90内藏有送風裝置等。又，吸引真空預負荷空氣軸承90上面與基板p下面之間之氣體之吸引裝置（真空穿置）亦同樣地，亦可設於真空預負荷空氣軸承9〇外部，由真空預負荷空氣軸承9〇内藏。又，氣體喷出孔及氣體吸引孔’亦可係機械式加玉而形成者，亦可使用多孔質材料。又’作為真空預負荷之方法，亦可不進行氣體吸引，而僅使用正壓氣體（例如貝努里夾頭裝置）使負壓產生。 γ對空氣懸浮裝置91均與上述空氣懸浮裝置7〇、同樣地，藉由從其上面對基板P(參照圖2)之下面喷出加壓氣體 (例如空氣）來使基板P懸浮。一對空氣懸浮裝置9ι上面之 z位置被設定為與真空預負荷空氣軸承9〇上面之z位置大致相同。又’如圖3所示’真空預負荷空氣軸承9〇及空氣懸浮裝置91上面之Z位置’設定為較複數個空氣懸浮裝置70上面之z位置高些許之位置。因此，上述複數個空氣懸浮裝置70，係使用能使基板p較一對空氣懸浮裝置幻更高地懸浮之高懸浮類型之裝置。此外，一對空氣懸浮較置91亦可不僅對基板P喷出加壓氣體，而與真空預負荷: 18 201227865 氣轴承90同樣地吸引其上面與一总板P間之空氣。此情形下，最好係將吸引壓設定為較真空預負荷空氣轴承9〇之預負何弱之負荷。複數個Z音圈馬達95之各個，如圖4所示包含固定於地"上所設置之底座框架98之2固定子…與固定於底座構件89之Z可動子95beZ音圈馬達⑴列如配置於重量抵鎖裝置81之+X側、_X側、+γ側、以及_γ側(+γ側及_γ 側之Ζ音圈馬達95係未圖示），能將空氣夾頭裝置μ以微幅行程驅動於0X、0y、以及Ζ軸之三自由度方向。此外，複數個Z音圈馬達95只要配置於至少不位於同一直線上之二處即可。底座框架98包含分別插通形成於本體部33a之複數個貝通孔33d之複數支（例如與z音圈馬達％對應而有四支）腳部98a、以及被該複數支腳部98a從下方支承之本體部 98b。本體部98b，由俯視為圓環狀之板狀構件構成，於形成於其中央部之開口部98c内插入有上述重量抵銷裝置 81。複數支腳部98a均與本體部33a為非接觸狀態，而於振動上分離。因此，使用複數個Z音圈馬達95驅動空氣夾頭裝置88時之反作用力不會傳遞至重量抵銷裝置81。被複數個Z音圈馬達95驅動之空氣夾頭裝置88在三自由度方向之位置資訊，係使用固定於本體部33a之複數個本貫把形態中為例如四個Z感測器9 6求出β Z感测器 96分別於重量抵銷裝置81之+乂側、_χ側、+γ側、々側各设有一個（+Υ側及_γ側之ζ感測器未圖示）。ζ感测器％ 19 201227865 ::Γ:出定於空氣f頭裝置88之底座構件89下面之標的件89之座框架98之本體部98b(本體部33a)與底座構件之Z轴方向之距離之變化。未圖示之主控制裝置，係 :：個z感測器96之輸出隨時求出空氣夾頭裝置“在z 、x及θγ方向之位置資訊，根據其測量值藉由適當控制四固Ζ音圈馬達95來控制空氣夾頭裝置88之位置。由於複數個ζ感測器96及標的部97配置於複數個ζ音圈馬達95附近，因此能進行高速且高回應之控制。此外，ζ感測器96與標的部97之配置亦可相反。處二氣夾頭裝置88之最終位置，被控制為通過真空預負何空氣軸承90上方之基板ρ之上面隨時位於投影光學系統PL之焦深内。未圖示之主控制裝置係一邊藉由未圖示之面位置測量系統（自動聚焦感測器）監測基板ρ上面之位置（面位置），一邊將空氣夾頭裝置88驅動控制（自動聚焦控制）成該基板Ρ上面隨時位於投影光學.系統PL之焦深内 (投影光學系統PL隨時對焦於基板ρ上面）。此外，由於ζ 感測器96只要能求出空氣夾頭裝置88在ζ軸、0 χ及θ y 方向之位置資訊即可’因此只要設於例如不位於同—直線上之三處’三個亦可。以上述方式構成之液晶曝光裝置1 〇(參照圖1 )，係在未圖示之主控制裝置之管理下，藉由未圖示之光罩裝载器將光罩Μ裝載於光罩載台MST，以及藉由未圖示之基板裝裁器將基板Ρ裝載於基板支承構件60上。其後，藉由主控制裝置使用未圖示之對準檢測系統執行對準測量，在對準測 201227865 置結束後，即進扞牛订步進掃描方式之曝光動作。此處'根據_ C γ A、尊圓5(A)〜圖8(B)說明上述曝光動作板載台裝置PST之叙从 ^ 〈動作一例。此外，以下雖說明於一片基板上設定有四個昭m ,* · 1口 “、、射區域之情形（所謂取四面之情形），但設定於片基板P上之照射區域之數目及配置可適當變更。曝光處理，例如圖5(A)所示，係依照設定於基板p之 -Y側且-X側之第！照射區域si、設定於基板p之+γ側且 X側之第2照射區域S2、設定於基板p之+γ側且側之第3照射區域S3、設定於基板Ρ之-Υ側且+Χ側之第4照射區域S4之順序進行。基板載台裝置PST中，如圖5(A) 所不，根據一對X干涉儀66χ及+γ側γ干涉儀66y之輸出將基.板支承構件60在χγ平面内之位置控制成第【照射區域S:1位於曝光區域ία之+χ側。此後，如圖9(B)所示，相對照明光il(參照圖丨）將基板支承構件60根據一對X干涉儀66χ之輸出於_χ方向以既定之一疋速度驅動（參照圖5 (Β)之箭頭），藉此，於基板ρ上之第1照射區域S1轉印光罩圖案。在對第1照射區域s}之曝光處理結束後，基板載台裝置PST，如圖6(A)所示，根據對Y干涉儀6 6 y之輸出將基板支承構件6 〇之位置控制成第2照射區域S2之+X側端部位於較曝光區域IA(圖6(A) 中未圖示。參照圖2)略靠-X側處。其次，如圖6(B)所示’相對照明光il(參照圖1)將基板支承構件60根據一對X干涉儀66x之輸出於+χ方向以既定之—定速度驅動（參照圖6(B)之箭頭），藉此，於基板p 21 201227865 上之第2照射區域S2轉印光罩圖案。此後，如圖7(a)所示，根據一對X干涉儀66x之輸出將基板支承構件6〇在χγ平面内之位置控制成第3照射區域S3之_χ側端部位於較曝光區域ΙΑ(圖7(Α)中未圖示。參照圖2)略靠+χ側處（參照圖 7(Α)之箭頭）’並如圖7(B)所示，藉由相對照明光IL(參照圖 1)將基板支承構件60根據一對X干涉儀66x之輸出於_乂方向以既定之一定速度驅動（參照圖7(B)之箭頭），於基板p 上之第3照射區域S3轉印光罩圖案。其次，如圖8(A)所示，根據-X側之γ干涉儀66y之輸出將基板支承構件60在XY平面内之位置控制成第4照射區娬S4之+χ側端部位於較曝光區域IA(圖8(A)中未圖示。參照圖2)略靠_X側處（參照圖8(A)之箭頭），並如圖所示，藉由相對照明光IL(參照圖1}將基板支承構件6〇根據一對X干涉儀66x之輸出於+X方向以既定之一定速 (參照圖8(B)之箭頭），於基板p上之第4照射區域s4轉印光罩圖案。主控制裝置在進行圖5(A)〜圖8(B)之步進掃描方式之曝光動作中，係測量基板p表面之被曝光部位之面位置資〇fL接著，主控制裝置根據其測量值控制空氣夾頭裝置88 所具有之真空預負荷空氣軸承9〇之2軸、ΘΧ及^方向各自之位置（面位置），以定位成基板p表面中位於緊鄰投影光學系統PL下方之被曝光部位之面位置位於投影光學系統 PL之焦深内。藉此，即使例如假設於基板p表面產生起伏或基板P產生厚度之誤差’亦可確實地使基板p之被哮光 22 201227865 部位之面位置位於投影光學系統PL之焦深内，而能使曝光精度提升。又’基板P中與曝光區域IA對應之部分以外之區域之大部分係被複數空氣懸浮裝置7〇懸浮支承。是以，抑制因基板P之自重導致之彎曲。

如上述，第1實施形態之液晶曝光裝置1〇所具有之基板載台裝置PST，由於係集中控制基板表面中與曝光區域對應之位置之面位置，因此例如與如美國發明專利申請公開第2010/ 0018950號說明書所揭示之載台裝置，將具有與基板P相同程度之面積之基板保持具（亦即基板p整體）往Z 軸方向及傾斜方向分別驅動之情形相車交，可大幅減低其重量。 . 又，基板支承構件60由於係僅保持基板P端部之構成，因此假使基板P大型化.，用以驅動基板支承構件60之 X線性馬達只要係輪出小者即可，而能減低運轉成本。又，電源設備等基礎設備之整備亦容易。又，由於X線性馬達之輸出小即可，因此亦能減低期初成本。又，由於X線性馬達之輸出（推力）較小，因此驅動反作用力給予裝置整體之影響（因振動而對曝光精度之影響）亦較少。X，與習知之上述基板載口裝置相較’組裝、調整、維護等均容易。又，由於構件之數目較少且各構件為輕量，因此輸送亦容易。 =其f含複數個空氣懸浮裝1 7°在内，Y步進定盤50 一土反支承構件6〇大型，但基板ρ之ζ軸方向之定位係、、Λ 載D 80進仃，空氣懸浮裝置70本身僅使基板Ρ懸一因此不要求剛性，而能使用較輕量者。 ’、、 23 201227865 又，由於藉複數個空氣懸浮震i 7〇之基板p之懸浮量 :定為例如設定為數十微米〜數千微米程度(亦即懸浮量較疋點載D 8G大）’因此假使基板p產生挽曲或空氣懸浮裝置 70之。又置位置偏移，亦防止基板p與空氣懸浮裝置之接觸。又’由於從複數個空氣懸浮|置7G喷出之加壓氣體之剛性較低’因此使用定點載台8G進行基板p之面位置控制時之Z音圈馬達95之負荷較小。又由於支承基板P之基板支承構件6〇為簡單之構成’因此能使重量較輕。因此，驅動基板支承構件6〇時之反作用力雖會透過γ步較盤5G傳至裝置本體3q，但由於其驅動反作用力本身較小，因此即使產生因驅動反作用力導致之裝置振動(裝置本體30之榣動或振動激發之共振現象等）’對曝光精度造成影響之可能性亦小。又由於Y步進定盤50重量較基板支承構件6〇重，因此其驅動反作用力亦較驅動基板支承構件6()時大，但由於驅動Y步進定盤50係在使基板ργ以長行程移動於"由方向時（亦即非曝光時）’因此因該驅動反㈣力導致之上述裝置振動對曝光精度造成影響之可能性亦小。《第2實施形態》其次根據圖9及圖10說明第2實施形態之基板載台裝置。第2實施形態之基板載台裴置pSTa之差異點在於，能將支承基板P之基板支承構件16〇相對γ步進定盤5〇微幅驅動於X軸、Y軸、以及ΘΖ方向。此外，針對本第2實施形態之基板載台裝置PSTa中具有與上述第i實施形態之基 ⑧ 24 201227865 板載台裝置PST(參照圖2)相同構成及功能之構件，使用與上述第1實施形態相同之符號，省略其說明。基板载台裝置PSTa具有一對X托架2〇。一對X托架 20分別配置於在γ步進定盤150上方且為基板支承構件ι6〇之+X側、-Y侧。各X托架20由與χγ平面平行配置之以 X軸方向為長度方向之俯視為長方形之板狀構件構成，如圖 10所示’於其下面之四角部附近固定有YZ剖面逆^字形之X滑件24(四個滑件24中之兩個隱藏於其他兩個之紙面深側）。相對於此，於Y步進定盤150上面之+γ側及_γ側端部附近，分別固定有在Υ軸方向分離配置之一對χ線性導件 54。 +Χ側之X托架2〇於+Υ側之一對χ線性導件54上透過X滑件24滑動自如地搭載，_γ側之χ托架2〇於々側之一對X線性導件54上透過χ滑件24滑動自如地搭載。X 托架20藉由χ線性馬達（包含固定於χ托架2〇之未圖示之 X可動子及對應X可動子固定於γ步進定盤15()之又固定子)在，步進定盤150上於Χ軸方向以既定行程被驅動q 托木20之位置資訊藉由γ線性編碼器系統(包含固定於χ 托木20之未圖不之線性編碼器讀頭（檢測器）與固定於γ 進定盤15〇之未圖示之丫線性標尺）求μ 係根據上述Υ線性編瑪器系統之測量值被同步驅動。、又’在¥步進定盤150上面之+Υ側端部附近及々侧端部附近且為一對χ線性邋彳生 ^ 入綠〖生導件54之内側，分別固定有χ 55。 X導件55由延伸於χ舳古a * ' 件、入軸方向之γΖ剖面矩形之構件構 25 201227865 鬲。兩支X 詞' X支承構成（參照圖1〇)，其上面之平面度被設定為非常導件55之間隔與基板支承構件16〇所具有之— 件6 1之間隔大致一致。於基板支承構件160之一對χ支承構件61各自之下面，如圖10所示安裝有其軸承面對向於χ導件W上面之空氣軸承65。基板支承構件16〇藉由空氣軸承65之作用被懸浮支承於-對X導件55上。此外，在上述第U施形態中’雖於Χ支承構件61之下面較有X滑件64(參照圖υ，但本第2實施形態之基板支承構件16〇不具彳χ滑件以。回到圖9,基板支承構件副藉由兩個又音圈馬達“χ 及兩個Υ音圈馬達29y相對…托架2〇被微幅驅動於χ 軸、Υ軸、以及θζ方向。兩個Χ音圈馬達29χ之一方及兩個Υ音圈馬達29y之一方配置於基板支承構件16〇之_γ 側兩個χ音圈馬達29χ之另一方及兩個γ音圈馬達W 之另一方配置於基板支承構件1 6〇之+γ側。一方及另一方之X音圈馬達29x配置於彼此相對併合有基板支承構件16〇與基板.P之系統之重心位置CG成為點對稱之位置，一方及另一方之Y音圈馬達29y配置於彼此相對上述重心位置CG 成為點對稱之位置。如圖10所示，一方（-Y側）之Y音圈馬達29y包含透過支承構件28固定於-γ側之χ托架2〇上面之固定子27y(例如具有包含線圈之線圈單元）與固定於-Y側之χ支承構件 1側面之可動子67y(例如具有包含磁石之磁石單元）。此外，圖10中雖隱藏於χ音圈馬達29χ之紙面深側，但另一 26 201227865 方（+Y側）之Y音圈馬達29y(參照圖9)之構成與一方之γ音圈馬達29y相同。又’另—方γ側）之X音圈馬達29χ包含透過支承構件28固定於+γ側之χ托架2〇上面之固定子 27χ與固定於+Υ側之X支承構件61側面之可動子67)^此外圖1 0中雖隱藏於Υ音圈馬達2 9 y之紙面深側，但一方 (-Y側）之X音圈馬達29X之構成與另一方之χ音圈馬達29χ 相同。回到圖9，基板支承構件i 6 〇，在一對X托架2 〇分別在Y步進定盤150上被以既定行程驅動於χ軸方向時，係藉由兩個X音圈馬達29x相對一對χ托架2〇被同步驅動（以與一對X托架20相同方向、相同速度驅動）。藉此，一對χ 托架20與基板支承構件16〇一體移動於χ軸方向。又，基板支承構件16〇在Y步進定盤15〇及一對χ托架2〇被以既定行程驅動於Y軸方向時，係藉由兩個γ音圈馬達29乂相對一對X托架20被同步驅動（以與一對χ托架2〇相同方向、相同速度驅動）。藉此，Y步進定盤15〇與基板支承構件160 —體移動於Υ軸方向。又，基板支承構件16〇係藉由兩個X音圈馬達29χ(或兩個γ音圈馬達29y)之推力差’ 繞與通過重心位置CG之Z軸平行之軸線之方向方向) 被適當微幅驅動。基板支承構件16〇、亦即基板卩在又丫平面内(包含θζ方向)之位置資訊，藉由一對χ干涉儀求出。此外’本第2實施形態中之基板载台裝置以以之步進掃描時之動作等由於與上述帛i實施形態相同，因此省略其說明。 27 201227865 根據本第2實施形態之基板載台裝置PSTa，除了上述第1實施形態可得到之效果以外，保持基板p之基板支承構件160對Y步進定盤丨5〇為非接觸，且在與χγ平面平行之方向為於振動上分離，因此可抑制驅動基板支承構件 160時之X線性馬達（或γ線性馬達）之反作用力及振動之傳達。又，在將基板ρ驅動於掃描方向時，由於能微幅驅動於交又掃描方向及方向，因此能進行更高精度之曝光。又，基板支承構件160由於係僅保持基板ρ端部之構成，因此假使基板Ρ大型化，用以驅動基板支承構件16〇之音圈馬達只要係輸出小者即可，而能減低運轉成本。《第3實施形態》其次根據圖11〜圖13(A)說明第3實施形態。第3實施形態相較於上述第1實施形態（參照圖丨等），在裝置本體 3〇及基板載台裝置PST之構成上具有差異。此外，針對本第3實施形態之裝置本體130及基板載台裝置pSTb中具有與上述第1實施形態相同構成及功能之構件，使用與上述第1實施形態相同之符號，省略其說明。如圖12(B)所示’第3實施形態之基板載台裝置pSTb，係Y步進定盤50搭載於設置於地11上之架台4〇上。架台 40，如圖11所示，係實質上為相同者於χ軸方向分離設有 —對，Υ步進定盤50架設搭載於該兩個架台4〇上。於一對架台40各自之上面，由圖11及圖12(Α)可知，固定有用以將Υ步進疋盤5 0直進導引於Υ轴方向之複數個γ線性導引構件3 8、以及構成用以將Υ步進定盤5 〇驅動於γ轴方 28 201227865 向之Y線性導件之Y固定件37。又’裝置本體130，如圖11所示’基板載台架台133 之本體部133a及連接部133c在X軸方向之尺寸設定為較上述第1貫施形癌之本體部3 3 a及連接部3 3 c (分別參_照圖 1)短。本體部133a架設於一對支承部33b之長度方向之中央部間。於本體部133a上，如圖12(A)所示，搭載有定點載台80之重量抵銷裝置81。又’於本體部133a形成有被底座框架98之腳部98a插通之貫通孔。此處，上述一對架台40如圖11所示，一方配置於本體部133a之+X側，另一方配置於本體部133a之_χ側，而與本體部133a分離，且與基板載台架台133(亦即裝置本體 130(參照圖12(C)))於振動上分離。因此，能抑制將γ步進定盤50驅動於Y軸方向時之反作用力及振動等傳達至裝置本體130。又，第3實施形態之基板載台裝置psTb，由於定點载台80搭載於裝置本體13〇之一部分即本體部133。丫步進定盤50搭載於一對架台4〇上，因此基板支承構件6仆之z 位置（基板支承構件60b平行地沿XY平面移動時之移動平面之Z位置)與定點載台80之2位置有可能會因例如防振裝置34之作用而變化。因此，本第3實施形態中，基板支' 承構件60b，如13⑷所示，使用可相對χ支承構微幅移動於Z軸保持構件161b吸附保持基板p(以4 Z轴方向*拘束基板P之方式）(保持構件16ib在圖u〜s ⑻中未圖示保持構件_由延伸於又軸方向之料 29 201227865 構件構成’於其上面具有未圖示之吸附塾(真空吸引用之配管等係未圖朴在保持構件16心面之長度方向兩端部附近，分別安裝有往下方（-z側）突出之銷162卜銷i62b插入於形成在X支承構件61b上面之凹部内，被收容於該凹部内之壓縮線圈彈簧從下方支承。藉此，保持構件16Ib(亦即基板p)能相對X支承構件6丨b移動於z軸方向因此，如上所述，假使基板支承構件6〇b之z位置與定點载台80之Z位置偏移，基板p亦會依據空氣懸浮裝置川之Z位置而相對χ支承構件61b移動（上下動）於二轴方向，因此可抑制對基板p之z軸方向之負肖。此外，亦可如圖 13(B)之基板支承構件6〇c所示，使用複數個平行板彈簧裝置162c使具有未圖示吸附墊之保持構件i6ic相對X支承構件61b微幅移動於z軸方向。又，本第3實施形態中，可將基板支承構件60b(或6〇c)與上述第2實施形態同樣地構成為能相對Y步進定盤5〇微幅驅動於γ軸方向及θ z方向。此外，上述第1〜第3實施形態之液晶曝光裝置之構成亦可適當變更。例如，上述帛1及f 2實施形態之基板支承構件60、160 ’雖係從下方吸附保持基板p之構成，但並不限於此’亦可藉由例如將基板P之端部往Y軸方向（從一方之x支承構件61側往另一方之X支承構件61側）按壓之按壓裝置保持基板。此情形下，能對基板P之大致全面進行曝光處理。又’直進導引Y步進定盤5〇、150或基板支承構件60、 30 201227865 160、60b、60c 之—±丄；於陶£等形成之導構::丨^ 之非接觸一軸導5丨裝置。、’ ^體靜歷轴承(空氣軸承) 16。lb作：動”進定盤5〇、15°或基板支承構件6〇、 3广裝置、組合有皮帶(或繩)與旋轉馬達之皮帶驅動㈣1=板t承構件6°、16〇，，之位置資訊亦可猸立炎屮其碼盗糸統求出。x ’亦可使用線性編碼器系統基板支承構件60、160、_、6〇c所具有之一對χ 支表構件61(上述第3實施形態中為61b)各自之位置資訊，此情形下，亦可不將_對χ支承構件61彼此機械式地連結 (不需要連結構件62)。又’定點载台80(參照圖4)中，驅動空氣夹頭裝置88 曰圈馬達95之固定子95a，在其驅動反作用力小至可忽置本體3G造成之影響之程度時，亦可以於基板、3(上述第3實施形態則為本體部133a)。〇又，、定點载台80中，亦可將空氣夹頭裝置88構成為 σ移動於X軸方向’在開始掃描曝光動作前，預先使真空預負荷:氣轴承9〇位於基板ρ之移動方向上游側（例如在圖 f )所不之第1照射區域S 1之曝光前為曝光區域ΙΑ之+χ ^則）並在3亥位置預先進行基板p上面之面位置調整，伴隨著基板P在~描方向移動，使空氣央頭裝置88與基板p(基板支承構件6〇)同步移動(曝光申，使之在緊鄰曝光區域Μ 31 201227865 之下方停止）。述第〗貫轭形態令，在掃描曝光時雖不進行基板P往Y軸方向及ΘΖ方向之微幅定位，但此情形下，亦可將光罩載台MST構成為能微幅驅動於Υ軸方向及ΘΖ方向’藉由使光罩Mil隨基板ρ來進行位置對齊。又’亦可設置質量塊，在使用線性馬達驅動γ步進定盤50、基板支承構件㈣可動構件時減低其驅動反作用力。又，照明光，不限於ArF準分子雷射光（波長193_)，亦月b使用KrF準分子雷射光（波長248㈣等紫外光、F2雷射光（波長mnm)等真空紫外光。另外，作為照明光，可使用例如諧波，其係以摻有辑（或辑及镱兩者）之光纖放大器，將從刪半導體雷射或纖維雷射振堡出之紅外線區或可見區的單波I雷射光放大’ 1以非線形光學結晶將其轉換波長成紫外光。又，亦可使用固態雷射（波長：355nm、266nm 等。又，上述各實施形態中，雖已說明投影光學系統^^係具備複數支投影光學系統之多透鏡方式之投影光學系統但投影光學系、统之支數不限於此，只$有一支[上即可。又，不限於多透鏡方式之投影光學系統，亦可係使用了 Offner型之大型反射鏡的投影光學系統等。又，上述實施形態中，雖係說明使用投影倍率為等倍系統者來作為投影光學系統pL，但並不限於此，投影光學系統亦可係放大系統及縮小系統之任一者。又，上述實施形態中，雖使用於具光透射性之基板上 32 201227865 形成既定遮光圖案（或相位圖案，減光圖案）的光透射性光罩 (標線片）’但亦可使用例如美國發明專利第6,778,257號說明書所揭示之電子光罩來代替此標線片，該電子光罩（可變成形光罩）係根據欲曝光圖案之電子資料來形成透射圖案、反射圖案、或發光圖案，其係使用例如非發光型影像顯示元件（亦稱為空間光調變器）之—種之DMD(Digital Micro-mirror Device)之可變成形光罩。此外’曝光裝置’在適用為將尺寸（包含外徑、對角線、一邊之至少一個）為500mm以上之基板、例如液晶顯示元件等平板顯示器（FPD)用之大型基板曝光之曝光裝置時，特別有效。又，曝光裝置亦可適用於步進重複方式之曝光處理、步進接合方式之曝光裝置。又，曝光裝置用途並不限定於將液晶顯示元件圖案轉印至角型玻璃板之液晶用曝光裝置，亦可廣泛適用於用來製造例如半導體製造用之曝光裝置、薄膜磁頭、微型機器及DNA晶片等的曝光裝置。又，除了製造半導體元件等微型元件以外’為了製造用於光曝光裝置、EUV曝光裝置、x 射線曝光裝置及電子射線曝光裝置等的光罩或標線片，亦能將上述各實施形態適用於用以將電路圖案轉印至玻璃基板或矽晶圓等之曝光裝置。此外，作為曝光對象之物體並不限玻璃板，亦可係例如晶圓、陶瓷基板、膜構件、或者空白光罩等其他物體。又，曝光對象物為平板顯示器用之基板時，該基板之厚度不特別限定，亦包含例如膜狀（具有 33 201227865 可撓性之片狀構件）者。又作為使物體沿既定二維平面移動之移動體裝置（载台裝置），並不限於曝光裝置，亦可使用例如用於物體之檢查之物體檢查裝置等進行物體相關之既定處理之物體處理裝置等。此外’援用與至此為止之説明中所引用之曝光裝置等相關之所有美國發明專利申請公開說明書及美國發明專利說明書之揭示作為本說明書記載之一部分。《元件製造方法》其次，說明在微影步驟使用上述各實施形態之曝光裝置之微型元件之製造方法。上述各實施形態之曝光裝.置 1〇,可藉由在板體（玻璃基板）上形成既定圖案（電路圖案、電極圖案等）而製得作為微型元件之液晶顯示元件。 <圖案形成步驟> 首先係執行使用上述各實施形態之曝光裝置將圖案 ^形成於感光性基板（塗布有光阻之玻璃基板等）之所謂光微衫步驟。藉由此光微影步驟，於感光性基板上形成包含多數個電極等之既定圖案。其後，經曝光之基板，藉由經過顯影步驟'触刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟而於基板上形成既定圖案。 <彩色濾光片形成步驟> 其次，形成與R(Red)、G(Green)、B(Biue)對應之三個點之組多數個排列成矩陣狀、或將R、G、b之三條條紋之遽光器組複數個排列於水平掃描線方向之彩色遽光片。 ⑧ 34 201227865 <單元組裝步驟> 接著’使用在圖案形成步驟製得之具有既定圖案的基板、以及在彩色濾光片形成步驟製得之彩色濾光片等組裝液晶面板（液晶單元）。例如於在圖案形成步驟製得之具有既定圖案的基板與在彩色濾光片形成步驟製得之彩色濾光片之間注入液晶，而製造液晶面板（液晶單元）。 <模組組裝步驟> 其後’安裝用以進行已組裝完成之液晶面板（液晶單元）之顯示動作的電路、背光等各零件，而完成液晶顯示元件。此時’在圖案形成步驟中，由於係使用上述各實施形態之曝光裝置而能以高產能且高精度進行板體的曝光，其結果能提升液晶顯示元件的生產性。如以上所說明’本發明之物體移動裝置適於沿既定二維平面驅動物體。又，本發明之物體處理裝置適於對物體進行既定處理。又，本發明之曝光裝置適於於物體形成既疋圖案。又，本發明之平板顯示器之製造方法適於製造平板顯示器。又’本發明之元件製造方法適於生產微型元件。【圖式簡單說明】圖1係概略顯示第1實施形態之液晶曝光裝置之構成的圖。圖2係圖丨之液晶曝光裝置所具有之基板載台裝置之俯视圖。、圖3係圖2之A-A線剖面圖。 35 201227865 圖4係基板載台裝置所具有之定點載台裝置之剖面圖 (圖3之一部分放大圖）。圖5(A)及圖5(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖（其1及其2)。圖6(A)及圖6(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖（其3及其4)。圖7(A)及圖7(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖（其5及其6)。圖8(A)及圖8(B)係用以說明曝光處理時之基板載台裝置之動作之圖（其7及其8)。圖9係第2實施形態之基板載台裝置之俯視圖。圖1 〇係從+X側觀看圖9之基板載台裝置之圖。圖1 1係第3實施形態之基板載台裝置之俯視圖。圖12(A)係圖11之B-B線剖面圖，圖12(B)係從+X側觀看圖11之基板載台裝置之側視圖。圖13(A)係圖11之基板載台裝置所具有之基板支承構件之剖面圖，圖13(B)係顯示第3實施形態之基板支承構件之變形例之圖。【主要元件符號說明】 ⑧ 10 液晶曝光裝置 11 地 20 X托架 24 X滑件 36 201227865 27x, 27y 固定子 28 支承構件 29x X音圈馬達 29y Y音圈馬達 30, 130 裝置本體 3 1 鏡筒定盤 32 橫柱架 33 基板載台架台 33a 本體部 33b 支承部 33c 連接部 33d 貫通孔 34 防振裝置 37 Y固定子 38 Y線性導引構件 40 架台 50 Y步進定盤 50a 開口部 54 X線性導件 55 X導件 57 Y可動子 58 Y滑件 60, 60b, 60c, 160 基板支承構件 61 X支承構件 201227865 61b X支承構件 62 連結構件 64 X滑件 65 空氣軸承 66x X干涉儀 66y Y干涉儀 67x, 67y 可動子 6 8x X移動鏡 6 8y Y移動鏡 70 空氣懸浮裝置 80 定點載台 81 重量抵銷裝置 82 筐體 83 壓縮線圈彈簧 84 Z滑件 84a 凹部 85 平行板彈簧裝置 88 空氣夾頭裝置 89 底座構件 90 真空預負荷空氣軸承 91 空氣懸浮裝置 92 球面空氣軸承 95 Z音圈馬達 95a Z固定子 ⑧ 38 201227865 95b Z可動子 96 z感測器 97 標的部 98 底座框架 98a 腳部 98b 本體部 98c 開口部 133 基板載台架台 133a 本體部 133c 連接部 150 Y步進定盤 161c 保持構件 162c 平行板彈簧裝置 CG 重心位置 IA 曝光區域 IL 照明光 IOP 照明系統 M 光罩 MST 光罩載台 P 基板 PL 投影光學系統 PST, PSTa, PSTb 基板載 SI 第1照射區域 S2 第2照射區域 39 201227865 S3 第3照射區域 S4 第4照射區域

Claims

201227865 七、申請專利範圍： l一種移動體裝置’其具備：第1移動體，可保持沿與水平面平行之既定二維平面配^物體之端部，於至少前述二維平面内之第i方向以既疋行程移動；以及第2移動體，包含在前述第1移動體於前述第1方向之：移動範圍内從下方支承前述物體之物體支承構件，能與刖述第1移動體—扭法文备上_ 起移動於在則述二維平面内與前述方向正交之第2方向。申請Λ利範圍第1項之移動體裝置’其中，前述第體’猎由包3設於前述第2移動體之導引構件之一轴導1裝置在前述第2移動體上被導引於前述第i方向被限制相對前述第2移動體之往前述第2方向之相對移動。 •如申凊專利範圍第i或2項之移動體裝置盆中，火述第1移動體，藉由包含設於前述第2移動體之固定子2 =2第i移動體之可動子之線性馬達而在前述第2移動體上破驅動於前述第1方向。 4·如申請專利範圍第！項之移動體能在前述箆9铱叙触，步具備 =第2移動體上移動於前述第1方向之第3移動體，別述第1移動體藉由被前述第3 ，前述第1方向，且相移動於筐2 t人助隨破被幅驅動於前沭向及繞與前述二維平面正交之軸之方向之至少— 5·如申請專利範圍第4項之移動體裝置二―方。 1移動體以非接觸狀態搭載於前述第2移動體上。⑴、’〔第 41 201227865 6_如申請專利範圍第丨至5項中任—項之移動體裝置，其中，前述物體支承構件以非接觸方式支承前述物體。 7.如申請專利範圍第6項之移動體裝置，其中，前述物體支承構件藉由往前述物體之下面噴出加壓氣體而以非接觸方式支承該物體。〒猜寻利範圍第丨至7項中任—項之移動體裝置其進一步具備干涉儀系統’該干涉儀系統對前述第"多，體所具有之反射面照射測距光束且接收其反射光，根據；反射光求出前述第1移動體之位置資訊； =第1移動體係根據前述干涉儀系統之輸出而㊆制別这—維平面内之位置。二申請專利範圍第…項中任一項之移動體裝置 ' ,具備凋整裝置，該調整裝置包含且有|^.+. &趣面積小之保持面之保持裝置，使用舒：、有“』迷㈣體下方保持前述物體之中㈣面”料置從前述彩與前述二維平面交又之方:持面對向之部分以調整丁囬乂又之方向之位置。 I〇.如申ft專利範圍第9項之移動 — 保持裝置以非接觸方式保持前述物體。…、’前述 u.如申請專利範圍第〗〇項之調整裝置，藉由從前述保…斜動體裝置，其令’前述引前述保持裝置與前述物體：門：述物體噴出氣體且吸重力方向”荷而以非二=:體’對前述物體施加如申請專利範圍第9 置，其令，前述㈣u 項中任—項之移動體裝，述一维平面内之位置係固 42 201227865 定。丨3•如申請專利範圍第12項之移動體裝置，宜調整裝置搭载於第1底座構件上；述如述第2移動體在盘箭技，@^ 之第2底座構件上移動於、前述第2方^構件於振動上分離 —_彳_第13項之=體_^，前這 =1移_額㈣體保持成能移動於與前述面父又之方向。、卡卞請專利範圍第12至14項中任—項之移動體裝裝置前述物體支承構件在前述f !方向於前述調整側及另一側支承前述物體。專利範圍第9至15項中任—項之移動體裝置之重量之重量抵銷裝置。，、肖4銷^保持裝 17.—種物體處理裝置，其具備：及申請專利範圍第9至16項中任一項之移動體裝置丨以執仃裝置’為了進行與前述物體相關之既定處理之持裝置相反之側對該物體中保持於前述保〜。卩分執行既定動作。 i 、十、18.如中請專利範圍第17項之物體處理裝置，其中〜置執仃裝置係使用能量束將既定圖案形成於前述物體之裝 19. 種曝光裝置，其具備： 43 201227865 及申請專利範圍第1至16項中任項之移動體裝置；以藉由能量束使前述物體曝光據以物體上之圖案形成裝置。义圖案形成於該 20. 如申請專利範圍第19項之曝力裝置，其中，前述物體係用於平板顯示器裝置之基板。 21. —種平板顯示器之製造方法，其包人. 使用申請專利範圍第2〇項之曝 ^二义之動作；以& 彳置使則述基板曝光使曝光後之前述基板顯影之動作。 22. —種元件製造方法，其包含使用申請專利範圍第19項之曝、光裝置使則述物體曝光之動作；以及使曝光後之前述物體顯影之動作。 2,3·-種曝光裝置，藉由能量束使物體曝光據以將既定圖案形成於該物體上，其具備：第1移動體，可保持沿與水平面平行之既定二維平面配置之前述物體之端部’於至少前述二維平面内之第i方向以既定行程移動；第2移動體，包含在前述第1移動體於前述第i方向之：移動範圍内從下方支承前述物體之物體支承構件，能與前述第1移動體一起移動於在前述二維平面内與前述第i 方向正交之第2方向；以及曝光系統，藉由前述能量束使前述物體曝光。 44 201227865 24·如申請專利範圍第23項之曝光裝置，戈 1移動體人< 前述第導引穿署广於前述第2移動體之導引構件之1 A置在前述第2移動體上被導引於前述第轴被限制相對前述第2移動體之往前述第2方向之：:移且 ^如中請專利範圍第23或24項之曝光裝置，。刚述弟1銘叙挪从 τ’ 移動體，糟由包含設於前述第2移與設於前述第"多動體之可動子之線性馬達而子移會；艘μ 1 月』4第2 體上破驅動於前述第1方向。 At 26.如申請專利範圍第23項之曝光裝置，其進一步具此在：述第2移動體上移動於前述第1方向之第3移動體; 卞，引述第1移動體藉由被前述第3移動體誘導而移動於乂第1方向，且相對前述第3移動體被微幅驅動於前述 2方向及繞與前述二維平面正交之軸之方向之至少一方。 27. 如申請專利範圍第26項之曝光裝置，其中，前述第 1移動體以非接觸狀態搭載於前述第2移動體上。 28. 如申請專利範圍第23至27項中任一項之曝光裝置’其中’前述物體支承構件以非接觸方式支承前述物體。 29. 如申請專利範圍第28項之曝光裝置，其令，前述物體支承構件藉由往前述物體之下面噴出加壓氣體而以非接觸方式支承該物體。 30. 如申凊專利範圍第23至29項中任一項之曝光裝其進—步具備測量前述第1移動體之位置資訊之測量裝置；前述第1移動體係根據前述測量裝置之測量資訊而被 45 201227865 控制於前述二維平面内之位置。 31 ·如申請專利範圍第23至30項中任一置’其進一步具備調整裝置，該調整裝置包八：之曝光裝物體面積小之保持面之保持裝置，藉由前述：持：較前述述物體下方保持前述物體之中與前述保持面對^置從前調整與前述二維平面交叉之方向之位置。向之部分以 32. 如申請專利範圍第”項之曝光裝置义持裝置以非接觸方式保持前述物^ ”中、述保 33. 如申請專利範圍第32項之曝光裝置，其中整裝置，藉由從前述保持剛乂調裝置與則述物體間之靜壓、以及藉由真空吸引韦持裝置與前述物體間之負壓述保持述物體。負壓之千衡，而以非接觸方式保持前置如申叫專利範圍第31至33項中任一項之曝光裝置’其中’前述調整裝置在前述二維平面内之位置係固定 A如申請專利範圍第34項之曝光裝置，其中整裝置搭載於第丨底座構件上；周月』述第2移動體在與前述第1底座構件振動上分離之第2底座構件上移動於前述第2方向。 36·如申睛專利範圍第35項之曝光裝置，其中，前述第 1移動體將前述物體彳半姑^ ^ ®保持成能移動於與前述既定二維平面交叉之方向。 37.如申睛專利範圍第34 i 36 $中任—項之曝光裝置’其中’前述物體支承構件在前述第i方向於前述調整 46 201227865 裝置之一側及另一側支承前述物體。 38·如申請專利範圍第31至37 jgi $ T任一^篇夕置，其中，前述調整裝置進一步具有田、曝光裝 Θ以·抵銷韵·、+、h 置之重量之重量抵銷裝置。 ~返保持裴 J δ 項中任置，其中，前述物體係用於平板顯壬—項之曝光裝、益裝置之基板。 40.—種平板顯示器之製造方沐 ^ ，其包含：使用申請專利範圍第39項之戚，之動作；以及 4裳置使前述基板曝光使曝光後之前述基板顯影之動作 41. 一種元件製造方法，其包含. 使用申請專利範圍第23至」9項Φ 使前述物體曝光之動作；以及 r任一項之曝光裝置使曝光後之前述物體顯影之〜動作。八、圖式· (如次頁）