TW201226325A - Hydrophobic organic solvent dispersion fluid of surface-modified anhydrous zinc antimonate colloidal particle, and coating composition and coated material by use of the liquid - Google Patents

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Tomonari Shinji
Yoshinari Koyama
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Description

201226325 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關經表面修飾之無水銻酸鋅錠粒子之疏水 性有機溶劑分散液及使用該疏水性有機溶劑分散液之包覆 組成物及使用該包覆組成物之被覆構件。 本發明之無水銻酸鋅錠粒子之疏水性有機溶劑分散液 適用於樹脂、塑料、玻璃、紙、磁帶等之透明性防靜電材 料、透明性紫外線吸收劑、透明性熱線吸收劑、高折射率 硬包覆劑、防反射劑等之各種用途。 【先前技術】 先前曾揭示無水銻酸鋅錠粒子之水性溶膠或有機溶劑 溶膠。此等溶膠爲,經乙基胺、丙基胺、異丙基胺、二異 丁基胺等之烷基胺或三乙醇胺、單乙醇胺等之烷醇胺、伸 乙基二胺等之二胺與乳酸、酒石酸、蘋果酸、檸檬酸等之 氧基羧酸安定化之無水銻酸鋅錠粒子之水性溶膠或有機溶 劑溶膠。 曾揭示前述有機溶劑溶膠之分散劑爲,甲醇、乙醇、 丙醇、丁醇等之醇類、乙二醇、二乙二醇等之乙二醇類、 乙基溶纖劑、丙基溶纖劑等之溶纖劑類或二甲基甲醯胺、 二甲基乙醯胺等之醯胺類(參考專利文獻1)。 又’曾揭示以無水銻酸鋅錠粒子爲核,該核之表面包 覆著含矽物質所得’經表面改質之無水銻酸鋅錠粒子分散 於液體,且含有胺及/或氧基羧酸之溶膠(參考專利文獻 -5- 201226325 2 )。 另外曾揭示以無水銻酸鋅錠粒子爲核,該核之表面包 覆著含鋁物質、高分子型表面活性劑或兩者之材料所得, 經表面改質之無水銻酸鋅錠粒子分散於液體之溶膠(參考 專利文獻3 )。 此等溶膠爲,分散於甲基乙基酮等之疏水性有機溶劑 時,無水銻酸鋅錠粒子之表面無法得到充分之疏水性,而 無法保有分散性,因此溶膠中會發生錠粒子凝聚,而發生 固液分離。又,混合黏合劑成分製作包覆液時,會使無水 銻酸鋅錠粒子與黏合劑成分之混合性變差,而使包覆液中 發生凝聚物,及發生固液分離。 爲了使透明性塑料防止靜電,而需求無損基材之透明 性之高透明性之防靜電被膜,由該類使用無水銻酸鋅錠粒 子之溶膠所得之包覆液而得的被膜無法得到高透明性。 先前技術文獻 專利文獻 [專利文獻1]特開平6-2 1 9743號公報 [專利文獻2]特開平11-314918號公報 [專利文獻3]特開2005-330177號公報 【發明內容】 發明之槪要 發明所欲解決之課題
S -6- 201226325 本發明之課題爲,提供含有具有先前所沒有之高透明 性之無水銻酸鋅錠粒子的疏水性有機溶劑分散液,及使用 前述疏水性有機溶劑分散液之包覆組成物及塗覆該包覆組 成物之構件。 解決課題之方法 即,本發明爲,第1觀點爲一種疏水性有機溶劑分散 液,其爲含有經烷基胺及具有酸基之表面活性劑修飾表面 的具有5至500nm之一次粒徑之無水銻酸鋅錠粒子之疏水 性有機溶劑分散液; 第2觀點爲第1觀點所記載之疏水性有機溶劑分散液, 其中前述烷基胺爲碳原子數4至18之烷基胺; 第3觀點爲第1觀點所記載之疏水性有機溶劑分散液, 其中前述具有酸基之表面活性劑之酸基爲羧酸基、磺酸基 或磷酸基; 第4觀點爲第1觀點至第3觀點中任何一觀點所記載之 疏水性有機溶劑分散液,其中前述疏水性有機溶劑爲甲基 溶纖劑、乙基溶纖劑、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酸 異丁酯、乙酸異丙酯、乙酸異戊酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯 、乙酸丙酯、乙酸戊酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基 醚乙酸酯、二甲苯、甲苯及苯所成群中所選出之至少1種 贅 第5觀點爲一種包覆組成物,其爲含有第1觀點至第4 觀點中任何一觀點所記載之疏水性有機溶劑分散液與黏合 201226325 劑成分; 第6觀點爲第5觀點所記載之包覆組成物,其中前述黏 合劑成分爲丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、環 氧樹脂、聚乙烯醇樹脂、三聚氰胺樹脂、明膠及明膠衍生 物、纖維素及纖維素衍生物、聚醯亞胺樹脂、苯酚樹脂、 有機矽化合物、脲醛樹脂、二烯丙基酞酸酯樹脂及丁醛樹 脂所成群中所選出之至少1種; 第7觀點爲一種構件,其爲基材之表面上具有由第5觀 點或第6觀點所記載之包覆組成物所形成之被膜; 第8觀點爲第7觀點所記載之構件,其中前述基材爲塑 料、橡膠、玻璃、金屬、陶瓷或紙; 第9觀點爲第7觀點或第8觀點所記載之構件,其中前 述被膜具有1〇12Ω/□以下之表面電阻値; 第1 〇觀點爲一種附防反射膜之構件,其爲第7觀點至 第9觀點中任何一觀點所記載之構件之被膜上另具有防反 射膜。 發明之效果 本發明之含有經烷基胺及具有酸基之表面活性劑修飾 表面的具有5至5〇Onm之一次粒徑之無水銻酸鋅錠粒子的 疏水性有機溶劑分散液爲,具有優良分散性及保存安定性 〇 混合本發明之疏水性有機溶劑分散液與黏合劑所得之 包覆組成物,藉由塗佈於基材可形成高透明性之導電性被
S -8- 201226325 膜。特別是基材爲透明性基材時,藉由使用本發明之包覆 組成物,可於無損該基材之透明性下製作具有導電性或防 靜電性之被膜之構件。由本發明之包覆組成物所得之被膜 所具有的表面電阻値爲1012Ω /□以下,即導電性良好,具 有優良之防靜電性能。 實施發明之形態 [疏水性有機溶劑分散液] 本發明之對象之疏水性有機溶劑分散液爲,含有經烷 基胺及具有酸基之表面活性劑修飾表面的具有5至500nm 之一次粒徑之無水銻酸鋅錠粒子的疏水性有機溶劑分散液 〇 該疏水性有機溶劑分散液例如可由,將烷基胺加入無 水銻酸鋅錠粒子之水性溶膠中,對其進行溶劑取代得甲醇 或乙醇分散液後,加入具有酸基之表面活性劑,再以疏水 性有機溶劑進行溶劑取代所得。 <無水銻酸鋅錠粒子> 本發明所使用之無水銻酸鋅錠粒子可由下述已知之方 法所得。 例如,本發明所使用之無水銻酸鋅錠粒子較佳爲,可 使用特開平6-21 97M號公報所記載之方法所得之無水銻酸 鋅。該公報曾記載,Zn0/Sb205莫耳比爲0.8至1.2,藉由 透過型電子顯微鏡觀察所得之一次粒徑爲5至500nm,較 201226325 佳爲5至5 Onm之無水銻酸鋅及其製造方法。具體上該無水 銻酸鋅係藉由’以ZnO/Sb2〇5莫耳比爲〇. 8至! 2之條件混 合鋅化合物與膠質氧化銻後,於500至11〇〇。(:下進行焙燒 製造。又所使用之膠質氧化銻爲後述之氧化銻溶膠時,可 藉由混合氧化銻溶膠與鋅化合物,乾燥後於500至1100 °C 下進行焙燒製造無水銻酸鋅。 前述鋅化合物爲,由氫氧化鋅、氧化鋅、鋅之無機酸 鹽或有機酸鹽所成群中所選出之至少1種鋅化合物。鋅之 無機酸鹽如,碳酸鋅、鹼性碳酸鋅、硝酸鋅、氯化鋅、硫 酸鋅等。又,鋅之有機酸鹽如,甲酸鋅、乙酸鋅、草酸鋅 等。此等之鋅化合物可使用市售工業藥品用之物,但使用 氫氧化鋅及氧化鋅時,可使用一次粒徑爲5 OOnm以下之物 。特佳爲含有藉由焙燒可揮散之酸的鹽,即碳酸鹽(碳酸 鋅、鹼性碳酸鋅)或有機酸鹽,此等可使用1種或2種以上 混用。 製造前述無水銻酸鋅所使用之膠質氧化銻爲,一次粒 徑爲300nm以下之氧化銻,例如五氧化銻溶膠、十三氧化 六銻溶膠、水合四氧化銻溶膠等之氧化銻溶膠、及膠質狀 三氧化銻等。該一次粒徑係指以透過型電子顯微鏡觀察測 定之粒徑。 前述五氧化銻溶膠可由已知之方法,例如將三氧化銻 氧化之方法(特公昭5 7- 1 1 8 48號公報)、以離子交換樹脂 對銻酸鹼進行脫鹼之方法(美國專利第4 1 1 024 7號說明書 )、對銻酸蘇打進行酸處理之方法(特開昭60-4 1 5 3 6號公
-10- S 201226325 報、特開昭62- 1 82 1 1 6號公報)等製造。十三氧化六銻溶 膠可由,將三氧化銻氧化之方法(特開昭62- 1 25849號公 報)製造。又,水合四氧化銻溶膠也可由,將三氧化銻氧 化之方法(特開昭52_2 1 298號公報)製造。 膠質狀三氧化銻可由氣相法(特公昭6 1 -3 2 92號公報 )製造。 前述之氧化銻溶膠特佳爲,氧化銻之一次粒徑爲2至 200nm,較佳爲2至40nm的不含胺及鈉般之鹼之氧化溶膠 〇 製造前述無水銻酸鋅時,所使用之氧化銻溶膠可爲, 氧化銻(Sb2〇5、Sb6013SSb204 )濃度爲1至60質量%之 物,又可使用藉由噴霧乾燥、真空乾燥、凍結乾燥等之方 法將此等乾燥所得之氧化銻溶膠之乾燥物。 又前述膠質氧化銻可使用市售以五氧化銻溶膠、五氧 化銻粉末或超微粒子三氧化銻粉末之形態作爲工業藥品用 之物。 前述鋅化合物與氧化銻溶膠可使用薩達肯式攪拌機、 范德拉型攪拌機、分散器等之攪拌裝置,以混合溫度爲0 °C至100°c,混合時間爲〇.1至30小時之條件進行混合。 又前述鋅化合物與氧化銻溶膠之乾燥物或膠質狀三氧 化銻可使用乳鉢、V型混合機、漢氏混合機、球磨機等之 混合裝置進行混合。 此時前述鋅化合物與氧化銻溶膠或其乾燥物或膠質狀 三氧化銻較佳以Zn〇/Sb205之莫耳比爲0.8至1.2之條件混 -11 - 201226325 合。 前述鋅化合物與氧化銻溶膠之混合物(漿液)可使用 噴霧乾燥器、轉鼓乾燥器、箱型熱風乾燥器、真空乾燥器 、凍結乾燥器等,於5 00 °C以下進行乾燥。又,乾燥前可 藉由吸引過濾、離心過濾、濾器加壓等將該獎液固液分離 ,再依情形藉由注水洗淨去除來自原料之S〇4等之可溶性 不純物,其後使用箱型熱風乾燥器等以室溫至500 °c乾燥 所得之濕餅物。前述乾燥較佳於300 °C以下進行。 前述鋅化合物與氧化銻溶膠之混合物之乾燥物或前述 鋅化合物與氧化銻溶膠之乾燥物之混合物或前述鋅化合物 與膠質狀三氧化銻之混合物係於500 °c至1100 °C下,較佳 於5 5 0 °c至900°c下焙燒0.5小時至50小時,較佳爲2小時至 20小時。藉由該焙燒之固相反應得無水銻酸鋅。無水銻酸 鋅可藉由焙燒條件成爲白色至藍綠色。 由前述方法所得之無水銻酸鋅爲,以透過型電子顯微 鏡觀察之一次粒徑爲5至500nm錠級微粒子。特別是焙燒 溫度爲50(TC至680°C所得之無水銻酸鋅之電阻値爲o.ikQ 至1ΜΩ,故具有利用電子導電之導電性。 <無水銻酸鋅錠粒子之水性溶膠> 藉由濕式粉碎由前述方法所得之無水銻酸鋅而得水性 溶膠後,藉由脫離子處理,得高透明性之無水銻酸鋅錠粒 子之水性溶膠。 前述濕式粉碎係使用,使用氧化锆球、玻璃球等之粉
S -12- 201226325 碎等徑物之濕式粉碎裝置進行。前述無水銻酸鋅可藉由進 行濕式粉碎,調製以透過型電子顯微鏡觀察之一次粒徑爲 5至500nm之無水鍊酸鋅銳粒子之水性溶膠。 前述藉由濕式粉碎所得之無水鍊酸锌銳粒子之水性溶 膠後可藉由脫離子處理’得高透明性之無水銻酸綷錠粒子 之水性溶膠。脫離子處理可藉由陰離子交換及/或陽離子 交換而達成,陰離子交換、陽離子交換可各自藉由陰離子 交換樹脂、陽離子交換樹脂進行。 <添加烷基胺、甲醇或乙醇分散液> 相對於前述經脫離子處理之無水鍊酸鋅淀粒子之水性 溶膠,添加分散劑用之碳原子數4至18之烷基胺。該碳原 子數4至18之烷基胺如,η-丁基胺、二-η·丁基胺、三·η·丁 基胺、二-η -戊基胺、三-η -戊基胺等,其中較佳爲η_ 丁基 胺、二-η -丁基胺、三-η -丁基胺等之低分子量烷基胺。 烷基胺之添加量相對於無水銻酸鋅固體成分較佳爲 0.1至10質量%,更佳爲〇·2至2.0質量%。 前述添加烷基胺之無水銻酸鋅錠粒子之水性溶膠可藉 由,以甲醇或乙醇進行溶劑取代得甲醇分散液或乙醇分散 液。溶劑取代可於常壓或減壓下進行。 <添加表面活性劑〉 相對於前述藉由溶劑取代所得之無水銻酸鋅錠粒子之 甲醇分散液或甲醇分散液,添加具有酸基之表面活性劑, -13- 201226325 可進行無水銻酸鋅錠粒子之表面修飾。 前述具有酸基之表面活性劑係使用,具有羧酸基、磺 酸基、磷酸基所成群中所選出之至少1種官能基之表面活 性劑。 具有羧酸基之表面活性劑如,月桂酸鉀、肉豆蔻酸鉀 、聚環氧乙烷月桂醚乙酸、聚環氧乙烷月桂醚乙酸鈉、聚 環氧乙烷環氧丙烷月桂醚乙酸、聚環氧丙烷月桂醚乙酸鈉 、聚環氧乙烷十三烷醚乙酸、椰子油脂肪酸肌胺酸三乙醇 胺、月桂醯肌胺酸銨等。 具有磺酸基之表面活性劑如,月桂基硫酸銨、聚環氧 乙烷月桂醚硫酸銨、聚環氧乙烷環氧丙烷月桂醚硫酸銨、 聚環氧丙烷月桂醚硫酸銨、聚環氧乙烷壬基苯醚硫酸銨、 聚環氧乙烷三苯乙烯基苯醚硫酸銨、聚環氧乙烷環氧丙烷 三苯乙烯基苯醚硫酸銨、聚環氧丙烷三苯乙烯基苯醚硫酸 銨、聚環氧乙烷椰子油脂肪酸單乙醇醯胺硫酸銨、聚環氧 乙烷環氧丙烷椰子油脂肪酸單乙醇醯胺硫酸銨、聚環氧丙 烷椰子油脂肪酸單乙醇醯胺硫酸銨、二辛基磺基琥珀酸聚 環氧乙烷磺基琥珀酸月桂基三銨、二辛基磺基琥珀酸聚環 氧乙烷環氧丙烷磺基琥珀酸月桂基二銨、二辛基磺基琥珀 酸聚環氧丙烷磺基琥珀酸月桂基二銨、聚環氧乙烷月桂基 磺基琥珀酸二鈉、聚環氧乙烷十三烷基磺基琥珀酸二鈉、 聚環氧乙烷肉豆蔻基磺基琥珀酸二鈉、聚環氧乙烷環氧丙 烷磺基琥珀酸月桂基二銨、聚環氧丙烷磺基琥珀酸月桂基 二銨、椰子油脂肪酸甲基牛磺酸銨、單異丙基萘磺酸銨、
S -14- 201226325 二異丙基萘磺酸銨、η-丁基萘颯、十三烷基二苯醚二磺酸 銨、木質素磺酸銨等。 具有磷酸基之表面活性劑如,二聚環氧乙烷月桂醚磷 酸銨、二聚環氧乙烷環氧丙烷月桂醚磷酸銨、二聚環氧丙 烷月桂醚磷酸銨、二聚環氧乙烷油醚磷酸、二聚環氧乙烷 環氧丙烷月桂醚磷酸、二聚環氧丙烷油醚磷酸、月桂基磷 酸銨、辛醚磷酸錶、鯨蠟醚磷酸銨、聚環氧乙烷月桂醚磷 酸、聚環氧乙烷環氧丙烷月桂醚磷酸、聚環氧丙烷月桂醚 磷酸、聚環氧乙烷三苯乙烯基苯醚磷酸三乙醇胺、聚環氧 乙烷環氧丙烷三苯乙烯基苯醚磷酸三乙醇胺、聚環氧丙烷 三苯乙烯基苯醚磷酸三乙醇胺。其中較佳爲聚環氧乙烷烷 基苯醚磷酸、聚環氧乙烷烷醚磷酸等之具有聚環氧乙烷基 或苯基之物。 本發明所使用之表面活性劑又以使用上述中具有磷酸 基之表面活性劑特佳。具有磷酸基之表面活性劑可使用候 斯范(登記商標)PE-510' PE-610、 LB-400、 EC-6103、 RE-410等(均爲東邦化學工業(股)製)、Disperbyk ( 登記商標)-102、Disperbyk-110、Disperbyk-111 、 Disperbyk-116 、 Disperbyk-140 、 Disperbyk-161 、
Disperbyk-163、Di sperbyk· 1 64、Disperbyk-1 80等(均爲 巨化學日本(股)製)等市售之物,但非限定於此等。 具有酸基之表面活性劑相對於無水銻酸鋅錠粒子(固 體成分)之使用量較佳爲1.0至50質量%,更佳爲1.5至30 質量%。 -15- 201226325 <疏水性有機溶劑分散液> 經烷基胺及具有酸基之表面活性劑修飾表面之無水銻 酸辞錠粒子之甲醇分散液或乙醇分散液可藉由,以疏水性 有機溶劑進行溶劑取代得疏水性有機溶劑分散液。 本發明所使用之疏水性有機溶劑較佳爲,甲基纖維素 、乙基溶纖劑等之醚類、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等之 酮類、乙酸異丁酯、乙酸異丙酯、乙酸異戊酯、乙酸乙酯 、乙酸丁酯、乙酸丙酯 '乙酸戊酯等之酯類、丙二醇單甲 醚等之醚醇類、丙二醇單甲醚乙酸酯等之醚酯類、二甲苯 、甲苯、苯等之烴類。 含有經烷基胺及具有酸基之表面活性劑修飾表面之無 水銻酸鋅錠粒子之疏水性有機溶劑分散液較佳爲,將以該 疏水性有機溶劑分散液:甲醇:水=1 : 1 : 1之質量比例混 合所得之稀釋液稀釋1小時後使用pH計器測得之pH (以下 記爲 pH ( 1 + 1 + 1))爲 4.0以上。pH ( 1 + 1 + 1)未達 4.0 時 該疏水性有機溶劑分散液將缺乏保存安定性,經24小時後 會成爲凝聚狀態。 本發明所得之含有經烷基胺及具有酸基之表面活性劑 修飾表面的具有5至500nm之一次粒徑之無水銻酸鋅錠粒 子之疏水性有機溶劑分散液爲,無水銻酸鋅濃度1至60質 量%之分散液。 [包覆組成物]
S -16- 201226325 本發明之對象之一爲含有,含有經烷基胺及具有酸基 之表面活性劑修飾表面的具有5至500nm之一次粒徑之無 水銻酸鋅錠粒子之疏水性有機溶劑分散液與黏合劑成分之 包覆組成物。本發明之包覆組成物適用於製造具有透明導 電性、透明防靜電性或高折射率性之被膜。 該組成物所使用之黏合劑於本說明書記載中無特別限 定’但可使用丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、 環氧樹脂' 聚乙烯醇樹脂、三聚氰胺樹脂、明膠及明膠衍 生物、纖維素及纖維素衍生物、聚醯亞胺樹脂 '苯酚樹脂 、有機矽化合物、脲醛樹脂、二烯丙基酞酸酯樹脂及丁醛 樹脂所成群中所選出之1種或2種以上。 丙烯酸樹脂如,以由下述所示(甲基)丙烯酸衍生之 化合物(單體)爲構成成分之物,此等單體可單獨或2種 以上混合使用。又,上述組成物中可以單體、低聚物、聚 合物中任何一種狀態使用。 三氟乙基丙烯酸酯、三氟甲基丙烯酸酯、苯基縮水甘 油基丙嫌酸酯、經基乙基(甲基)丙烯酸酯、丙烯醯嗎啉 、新戊二醇(甲基)丙烯酸酯、丨,6_己二醇二(甲基)丙 烯酸酯、三羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙 院四(甲基)丙嫌酸醋、季戊四醇四(甲基)丙焴酸酯、 季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(甲基)丙烯酸 酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙 烯酸酯、二乙—醇一(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、九乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇 -17- 201226325 二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四 丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、九丙二醇二(甲基)丙烯酸 酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊 二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、 2-乙基或2-丁基-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、19-壬二醇 二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙[4-(丙烯氧基二乙氧基)苯 基]丙烷、2,2-雙[4-(甲基丙烯氧基二乙氧基)苯基]丙烷 、3-苯氧基-2-丙醯丙烯酸酯、l,6 -雙(3 -丙烯氧基-2-羥基 丙基)-己醚、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油 三(甲基)丙烯酸酯、三- (2 -羥基乙基)-三聚異氰酸酯 (甲基)丙烯酸酯、季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季 戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、2_羥基丙基(甲基)丙烯酸 酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、t-丁基(甲基)丙烯酸酯 、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、硬脂醯丙烯酸酯、2_乙 基己基卡必醇丙烯酸酯、ω -羧基聚己內酯單丙烯酸酯、 丙烯醯氧基乙基酸、丙烯酸二聚物、月桂基(甲基)丙烯 酸酯、2-甲氧基乙基丙烯酸酯、丁氧基乙基丙烯酸酯、乙 氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇丙烯酸酯、甲 氧基聚乙二醇丙烯酸酯、硬脂醯(甲基)丙烯酸酯、環己 基(甲基)丙烯酸酯、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、異冰 片基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基丙烯酸酯、苄基丙烯 酸酯、苯基縮水甘油醚環氧丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基 )丙烯酸酯、苯氧基(聚)乙二醇丙烯酸酯、壬基苯酹乙 氧基化丙烯酸酯、丙烯醯氧基乙基酞酸、三溴苯基丙烯酸
S -18- 201226325 酯、三溴苯酚乙氧基化(甲基)丙烯酸酯、甲基甲基丙烯 酸酯、三溴苯基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯醯氧基乙基酸、 甲基丙烯醯氧基乙基馬來酸、甲基丙烯醯氧基乙基六氫酞 酸、甲基丙烯醯氧基乙基酞酸、聚乙二醇(甲基)丙烯酸 酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、羧基乙基丙烯酸酯 、:N-羥甲基丙烯醯胺、N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基 甲基丙烯醯胺、N-n-丁氧基甲基丙烯醯胺、t-丁基丙烯醯 胺磺酸、N-甲基丙烯醯胺、N-二甲基丙烯醯胺、N-二甲基 胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺 、縮水甘油基甲基丙烯酸酯、η-丁基甲基丙烯酸酯、乙基 甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸烯丙酯、鯨蠟基甲基丙烯酸酯 '十五烷基甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯 酸酯、二乙基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯醯氧 基乙基琥珀酸、己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯 、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇 二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯單硬脂酸酯、乙二醇二 丙烯酸酯、2-羥基乙基甲基丙烯醯基磷酸酯、雙酚a乙二 醇加成物丙烯酸酯、雙酚F乙二醇加成物丙烯酸酯、三環 癸烷甲醇二丙烯酸酯、三羥基乙基三聚異氰酸酯二丙烯酸 酯、2 -羥基-1-丙烯氧基-3 -甲基丙烯氧基丙烷、三羥甲基 丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷乙二醇加成物三丙烯酸酯 、三羥甲基丙烷丙二醇加成物三丙烯酸酯、季戊四醇三丙 烯酸酯、三丙烯醯氧基乙基磷酸酯、三羥基乙基三聚異氰 酸酯三丙烯酸酯、改質ε -己內酯三丙烯酸酯、三經甲基 -19- 201226325 丙烷乙氧基三丙烯酸酯、甘油丙二醇加成物三丙烯酸酯、 季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇乙二醇加成物四丙烯酸酯 、雙三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六(五)丙烯 酸酯、二季戊四醇單羥基五丙烯酸酯及環氧丙烯酸酯等。 聚酯樹脂如,以二羧酸成分與乙二醇成分爲構成成分 之線狀聚酯。二羧酸成分與乙二醇成分之例示如下所述。 此等可各自單獨或2種以上混合使用。 二羧酸成分:對苯二酸、間苯二酸、酞酸、2,6-萘二 羧酸、4,4-二苯基二羧酸' 1,4-環己烷二羧酸、己二酸、 癸二酸、苯基茚滿二羧酸及二聚物酸等。 乙二醇成分:乙二醇、1,4 -丁二醇、新戊二醇、二乙 二醇、二丙二醇、1,6-己二醇、1,4-環己烷二甲醇、苯二 甲基二醇、二羥甲基丙酸、甘油、三羥甲基丙烷、聚(環 氧乙烷)二醇、聚(四環氧甲烷)二醇、雙酚A之環氧化 物加成物及氫化雙酚A之環氧化物加成物等。 胺基甲酸酯樹脂一般如,聚異氰酸酯與含活性氫化合 物加聚反應所得之物。前述聚異氰酸酯與含活性氫化合物 之例示如下所述。此等可各自單獨或2種以上混合使用。 聚異氤酸酯:伸乙基二異氰酸酯、四伸甲基二異氰酸 酯、六伸甲基二異氰酸酯(HDI)、二苯基甲烷二異氰酸 酯(MDI)、伸甲苯基二異氰酸酯(TDI)、十二伸甲基 二異氰酸酯、1,6,1 1--f--烷三異氰酸酯、2,2,4-三甲基六 伸甲基二異氰酸酯、賴胺酸二異氰酸酯[2,6 -二異氰酸根合 甲基己酸酯]、雙(2-異氰酸根合乙基)富馬酸酯、雙(
S -20- 201226325 2-異氰酸根合乙基)碳酸酯、2-異氰酸根合乙基-2,6-氰酸根合六己酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、 己基甲烷-4,4’-二異氰酸酯(氫化MDI)、環伸己基 氰酸酯、甲基環伸己基二異氰酸酯、雙(2 -異氰酸根 基)-4-環己烯-1,2 -二羧酸酯、2,5-或2,6 -降冰片烷二 酸酯、m-或p-伸二甲苯基二異氰酸酯、α,α,α,,α,-基伸二甲基二異氰酸酯等,及聚異氰酸酯之改質物如 質MDI (胺基甲酸酯改質MDI、碳二醯亞胺改質MDI 氫二價碳基磷酸酯改質MDI)、胺基甲酸酯改質TDI 二脲改質HDI、三聚異氰酸酯改質HDI、三聚異氰酸 質IPDI等之聚異氰酸酯之改質物及此等之2種以上混 等。 含活性氫化合物:2價醇(例如乙二醇、二乙二 1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇等 具有支鏈之二醇(例如丙二醇、新戊二醇、3 -甲基-1, 二醇、2,2-二乙基-1,3-丙二醇、1,2-、1,3-或 2,3-丁二 )、具有環狀基之二醇(例如1,4 -雙(羥基甲基)環 、m-或ρ-苯二甲二醇等)、2價苯酚(例如雙酚a等) 價醇(例如甘油、三經甲基丙院、季戊四醇、山梨糖 )、糖類及其衍生物(例如蔗糖、甲基糖苷等)、脂 一胺(例如伸乙基二胺 '六伸甲基二胺等)、脂環式 (例如4,4’-二胺基-3,3,-二甲基二環己基甲烷、二胺 己院、異佛爾酮二胺等)、芳香族二胺(例如二乙基 二胺等)、芳香脂肪族二胺(例如伸二甲苯基二胺 二異 二環 二異 合乙 異氰 四甲 ,改 、三 、縮 酯改 合物 醇、 )' 5-戊 醇等 己烷 、多 醇等 肪族 二胺 基環 甲苯 -21 - 201226325 α,α’,α’-四甲基伸二甲苯基二胺等)、雜環二胺(哌啶 等)、多官能胺(例如二伸乙基三胺、三伸乙基四胺等) 、高分子多元醇(例如聚酯聚醇、聚醚聚酯等)、脂肪族 聚羧酸(例如琥珀酸、戊二酸、馬來酸、富馬酸、己二酸 、壬二酸' 癸二酸、六氫酞酸等)、芳香族聚羧酸(例如 酞酸、間苯二酸、對苯二酸、四溴酞酸、四氯酞酸、偏苯 三酸、均苯四酸等)、無水馬來酸、無水酞酸、對苯二酸 二甲酯、內酯單體(7-丁內酯、ε-己內酯、7-戊內酯 及具有2個以上活性氫原子之化合物中附加環氧化物所得 之構造物。 環氧樹脂可使用雙酚Α型、雙酚F型、氫化雙酚Α型、 雙酚AF型、苯酚酚醛清漆型之各種液狀環氧樹脂及其衍 生物、由多價醇與表氯醇衍生所得之液狀環氧樹脂及其衍 生物、縮水甘油基胺型、海因型、胺基苯酚型、苯胺型、 甲苯胺型等之各種縮水甘油基型液狀環氧樹脂及其衍生物 等。 聚乙烯醇系樹脂可使用,藉由將乙酸乙烯等之乙烯酯 系單體自由基聚合所得之聚乙稀酯系聚合物鹼化所得之物 。前述聚乙烯酯系聚合物之例示如下所述。此等可單獨或 2種以上混合使用。 聚乙烯酯系聚合物:甲酸乙烯、乙酸乙烯、丙酸乙烯 、戊酸乙烯、月桂酸乙烯、硬脂酸乙烯、苯甲酸乙烯、三 甲基乙酸乙稀及支鏈脂肪酸乙稀等之乙稀醋系單體之聚合 物等。
S -22- 201226325 聚乙燦醋系聚合物可爲,共聚合可 體類共聚合之共聚用單體之共聚物。前 乙嫌、丙烯、1-丁烯、異丁烯等之烯烴 、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸η, 酯、丙烯酸η-丁酯、丙烯酸丨_ 丁酯、丙 酸2 -乙基己酯 '丙烯酸十二烷酯、丙烯 烯酸酯類、甲基丙烯酸及其鹽、甲基丙 烯酸乙酯、甲基丙烯酸η-丙酯、甲基丙 丙烯酸η-丁酯、甲基丙烯酸i-丁酯、甲 甲基丙烯酸2-乙基己基、甲基丙烯酸十 酸十八烷酯等之甲基丙烯酸酯類;丙烯 烯醯胺、N-甲基丙烯醯胺、N-乙基丙烯 丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺、丙烯醯胺 丙烯醯胺丙基二甲基胺及其鹽或其4級 醯胺及其衍生物等之丙烯醯胺衍生物、 甲基甲基丙烯醯胺、N-乙基甲基丙烯醯 丙烷磺酸及其鹽、甲基丙烯醯胺丙基二 4級鹽、N-羥甲基甲基丙烯醯胺及其衍 醯胺衍生物;甲基乙烯醚、乙基乙烯醚 i-丙基乙烯醚、η-丁基乙烯醚、i-丁基乙 醚、十二烷基乙烯醚、硬脂醯乙烯醚等 腈、甲基丙烯腈等之腈類、氯乙烯、偏 偏氟乙烯等之鹵乙烯、乙酸烯丙酯、氯 合物、馬來酸及其鹽或其酯、乙烯基三 與上述乙烯酯系單 述共聚用單體如, 類;丙烯酸及其鹽 -丙酯、丙烯酸i-丙 烯酸t-丁酯、丙烯 酸十八烷酯等之丙 烯酸甲酯、甲基丙 烯酸i-丙酯、甲基 基丙烯酸t-丁酯、 二烷酯、甲基丙烯 醯胺、羥基烷基丙 醯胺、N,N-二甲基 丙烷磺酸及其鹽、 鹽、N-羥甲基丙烯 甲基丙烯醯胺、N-胺、甲基丙烯醯胺 甲基胺及其鹽或其 生物等之甲基丙烯 、η-丙基乙烯醚、 *烯醚、t-丁基乙烯 之乙烯醚類、丙烯 氯乙烯、氟乙烯、 丙烯等之烯丙基化 甲氧基矽烷等之乙 -23- 201226325 烯基矽烷基化合物、乙酸異丙烯酯等。 三聚氰胺樹脂如,甲基化三聚氰胺樹脂、丁基化三聚 氰胺樹脂或甲基丁基混合型三聚氰胺樹脂等。 明膠及明膠衍生物如,丁基化明膠、琥珀化明膠、偏 苯三酸明膠、均苯四酸明膠、酯化明膠、醯胺化明膠或甲 醯化明膠等。 纖維素及纖維素衍生物如,二乙醯纖維素、三乙醯纖 維素、羥基丙基纖維素、三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、 乙醯纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯 、纖維素乙酸酯酞酸酯、纖維素乙酸酯偏苯三酸酯或硝酸 纖維素等。 有機矽化合物如,含有下述C成分及/或D成分之矽 化合物。 C成分:一般式(I)所表示之有機矽化合物或其加水 分解縮合物。 (Rl) , (R3) bS i (〇R2) 4.(atb) (I) (式中,R1、R3各自爲碳原子數1至2〇之烷基、鏈烯基、 芳基、醯基、鹵基、環氧丙氧基、環氧基、胺基、苯基、 毓基、甲基丙烯氧基及氰基所成群中所選出之有機基,R2 爲碳原子數1至8之烷基、烷氧基、醯基及苯基所成群中所 選出之有機基,a及b爲〇或1之整數)。 .D成分:一般式(π )所表示之有機矽化合物或其加 水分解縮合物。 {(OX) 3-.S i (R”} 2Y ( I I ) δ -24- 201226325 (式中,R4爲碳原子數1至5之有機基,X爲碳原子數1至4 之烷基或碳原子數1至4之醯基,Y爲碳原子數2至20之有 機基,a爲0或1之整數)。 前述一般式(I)所表示之有機矽化合物或其加水分 解縮合物之具體例如下所述。甲基矽酸酯、乙基矽酸酯、 η-丙基矽酸酯、異丙基矽酸酯、η-丁基矽酸酯、四乙醯氧 基矽烷 '甲基三甲氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三 乙醯氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、 甲基三戊氧基矽烷、甲基三苯氧基矽烷、甲基三苄氧基矽 烷、甲基三苯乙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基三甲氧基矽烷 、環氧丙氧基甲基三甲氧基矽烷、α-環氧丙氧基乙基三 甲氧基矽烷、α -環氧丙氧基乙基三乙氧基矽烷、yS-環氧 丙氧基乙基三甲氧基矽烷、/3-環氧丙氧基乙基三乙氧基 砂垸、(Ϊ-環氧丙氧基丙基三甲氧基砂院、環氧丙氧基 丙基三乙氧基矽烷、環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、 /3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基三 甲氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、環氧 丙氧基丙基三丙氧基矽烷、環氧丙氧基丙基三丁氧基 矽烷、r-環氧丙氧基丙基三苯氧基矽烷、環氧丙氧基 丁基三甲氧基砂烷、環氧丙氧基丁基三乙氧基砂烷、 冷-環氧丙氧基丁基三乙氧基矽烷、r -環氧丙氧基丁基三 甲氧基矽院、γ-環氧丙氧基丁基三乙氧基矽院、<5-環氧 丙氧基丁基三甲氧基矽院、5 _環氧丙氧基丁基二乙氧基 矽烷、(3,4-環氧環己基)甲基三甲氧基矽烷、(3,4·環 -25- 201226325 氧環己基)甲基三乙氧基矽烷、召-(3,4-環氧環己基)乙 基三甲氧基矽烷、y3 - (3,4-環氧環己基)乙基三乙氧基矽 烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三丙氧基矽烷、沒-( 3,4-環氧基環己基)乙基三丁氧基矽烷、/5 - (3,4-環氧環 己基)乙基三苯氧基矽烷、r-( 3,4-環氧環己基)丙基三 甲氧基矽烷、r-(3,4-環氧環己基)丙基三乙氧基矽烷、 5-(3,4-環氧環己基)丁基三甲氧基矽烷、(5-(3,4-環 氧環己基)丁基三乙氧基矽烷、環氧丙氧基甲基甲基二甲 氧基矽烷、環氧丙氧基甲基甲基二乙氧基矽烷、α-環氧 丙氧基乙基甲基二甲氧基矽烷、α-環氧丙氧基乙基甲基 二乙氧基矽烷、/S-環氧丙氧基乙基甲基二甲氧基矽烷、 /3-環氧丙氧基乙基乙基二甲氧基矽烷、α-環氧丙氧基丙 基甲基二甲氧基矽烷、α-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基 矽烷、/3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、/3-環氧丙 氧基丙基乙基二乙氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基甲基二 甲氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、7·-環氧丙氧基丙基甲基二丙氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基 甲基二丁氧基矽烷、7-環氧丙氧基丙基甲基二苯氧基矽 烷、r-環氧丙氧基丙基乙基二甲氧基矽烷、r-環氧丙氧 基丙基乙基二乙氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基乙烯基甲 氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙基乙烯基乙氧基矽烷、r-環 氧丙氧基丙基乙烯基苯基甲氧基矽烷、r-環氧丙氧基丙 基乙烯基苯基乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙 氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷 -26- 201226325 、乙烯基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧 基矽烷、苯基三乙醯氧基矽烷、r-氯丙基三甲氧基矽烷 、r-氯丙基三乙氧基矽烷、τ-氯丙基三乙醯氧基矽烷、 3,3,3-三溴丙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯氧基丙基三甲 氧基矽烷、r-毓基丙基三甲氧基矽烷、r-锍基丙基三乙 氧基矽烷、氰基乙基三乙氧基矽烷、氯甲基三甲氧基 矽烷、氯甲基三乙氧基矽烷、N-(yS-胺基乙基)胺基 丙基三甲氧基矽烷、N-ce-胺基乙基)r-胺基丙基甲基 二甲氧基矽烷、r-胺基丙基甲基三甲氧基矽烷、ν-(^-胺基乙基)胺基丙基三乙氧基矽烷、Ν- (/5-胺基乙基 )r-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷 、苯基甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、苯基甲 基二乙氧基矽烷、r-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、r-氯苯 基甲基二乙氧基矽烷、二甲基二乙醯氧基矽烷、r-甲基 丙烯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、r-甲基丙烯氧基丙基 甲基二乙氧基矽烷、r-锍基丙基甲基二甲氧基矽烷、r-锍基甲基二乙氧基矽烷、甲基乙烯基二甲氧基矽烷、甲基 乙烯基二乙氧基矽烷等’及此等之加水分解縮合物。 前述一般式(π)所表示之有機矽化合物或其加水分 解縮合物之具體例如下所述。伸甲基雙(甲基二甲氧基矽 烷)、伸乙基雙(乙基二甲氧基矽烷)、伸丙基雙(乙基 二乙氧基矽烷)、伸丁基雙(乙基二乙氧基矽烷)等,及 此等之加水分解縮合物。 c成分及D成分之有機矽化合物或其加水分解縮合物 -27- 201226325 可爲,各自單獨使用c成分或D成分,或C成分及D成分混 合使用。又,可使用2種以上C成分,及使用2種以上D成 分。 C成分及/或D成分之有機矽化合物之加水分解縮合 反應可藉由,將相對於有機矽化合物爲0.1至10質量%之 觸媒用之鹽酸水溶液 '硫酸水溶液、乙酸水溶液等之酸成 分加入c成分及/或D成分之有機矽化合物中攪拌進行。 有機矽化合物除了上述(C)成分及(D)成分列舉 之矽化合物外可使用聚矽氧漆、聚矽氧醇酸漆、聚矽氧環 氧漆、聚矽氧丙烯酸漆或聚矽氧聚酯漆等之改質聚矽氧漆 。此等可單獨或2種以上混合使用。 二烯丙基酞酸酯樹脂可使用例如,二烯丙基酞酸酯、 二烯丙基間苯二酸酯或二烯丙基對苯二酸酯。 丁醛樹脂如,聚乙烯基丁醛等。 本發明含有,含有經烷基胺及具有酸基之表面活性劑 修飾的具有5至500nm之一次粒徑之無水銻酸鋅錠粒子的 疏水性有機溶劑分散液與黏合劑成分之包覆組成物中,前 述疏水性有機溶劑分散液所含之無水銻酸鋅錠粒子與黏合 劑成分之混合比中固體成分比爲99: 1至1: 99。以該包覆 組成物爲被膜時爲了得到密合性、硬度、經濟性、安定之 防靜電能,該固體成分比較佳爲95 : 5至5 0 : 5 0。 本發明之包覆組成物中,爲了提升分散性及保存安定 性可添加酸、鹼。 可添加之酸如,鹽酸、硝酸、正磷酸等之無機酸、草
S -28- 201226325 酸、丙二酸、琥珀酸等之二羧酸、乳酸、酒石 、檸檬酸、乙醇酸、氫化丙烯酸、α-氧基丁 、羥基丙二酸等之脂肪族含氧酸、苯基膦酸、 基-1,1-二膦酸等之膦酸。 可添加之鹼如,氨、鹼金屬氫氧化物、乙 基胺' η-丙基胺、異丙基胺、二異丙基胺、二 丁基胺、異丁基胺、二異丁基胺、三乙基胺、 基胺、十二烷基胺、硬脂醯胺等之烷基胺、單 乙醇胺等之烷醇胺、脈氫氧化物、四甲基銨氫 乙基銨氫氧化物等之4級銨氫氧化物或碳酸氨 之碳酸鹽之有機鹼。 [構件] 本發明之構件爲,基材之表面具有由前述 所形成之被膜之物。具體上可藉由,將前述包 佈於基材上,經硬化處理形成被膜,得本發明 本發明之構件所使用之基材爲塑料、橡膠 屬、陶瓷或紙等。 將前述包覆組成物塗佈於構件上之方法可 何方法’例如棒塗法、逆輥塗法、照相凹版法 版法、浸漬法、旋塗法、噴霧法等。 又硬化處理可藉由熱風乾燥或照射活性能 使用熱風乾燥時,較佳於70至200 °C之熱風中 活性能量線可使用紫外線、紅外線、遠紅外線 酸、蘋果酸 酸、甘油酸 1-羥基亞乙 基胺、二乙 丙基胺、n-〒基胺、辛 乙醇胺、三 氧化物、四 、碳酸脈等 包覆組成物 覆組成物塗 之構件。 、玻璃、金 爲已知之任 、微照相凹 量線進行。 進行。又, 、電子線等 -29 - 201226325 形成於本發明之構件上之被膜的厚度無特別限定,較 佳爲〇 · 1至1 〇 // m。 形成於本發明之構件上之被膜的表面電阻値可使用表 面電阻率測定裝置(例如海雷斯UP (三菱化學(股)製 )、洛雷斯IP (三菱化學(股)製))測定。前述被膜所 具有之表面電阻値爲105至1012 Ω /□,即防靜電性能良好 〇 前述被膜之折射率會依前述含有無水銻酸鋅錠粒子之 疏水性有機溶劑分散液與黏合劑成分之混合比例及黏合劑 成分之種類而異,但幾乎爲1.55至1.80。 本發明之構件之被膜上可另設置防反射膜而賦予防反 射機能。 防反射膜可藉由,於本發明所得之構件之被膜上方, 設置折射率低於該被膜之被膜而得。此時該低折射率被膜 與高折射率被膜之間之折射率差較佳爲0.05以上。低折射 率被膜與高折射率被膜之間之折射率差未達0.05時將無法 得到此等防反射被膜之相乘效果,相反地會降低防反射效 果。因此低折射率被膜與高折射率被膜之間之折射率差又 以0.1至〇·5之値爲佳,更佳爲0.1 5至0.5之値。低折射率被 膜之厚度無特別限制,較佳如50至3 OOnm。低折射率被膜 之厚度又以50nm至300nm爲佳。低折射率被膜之厚度未達 50nm時,會降低相對於底層用之高折射率被膜之密合性 ,又,厚度超過300nm時會發生光干擾而降低防反射效果
S -30- •201226325 。爲了進一步提高防反射而設置複數低折射率被膜時,其 合計厚度可爲50至300nm。 構成低折射率被膜之材料無特別限定,例如前述一般 式(I)或(II)所表示之有機矽化合物或其加水分解縮 合物、氟烯烴系聚合物、含氟丙烯酸基系聚合物等之氟系 樹脂,或具有低折射率之微粒子之膠質二氧化矽、氟化鎂 、氟化鋰、氟化鈉鎂或具有空隙之微粒子與有機或無機黏 合劑混合所得之低折射率包覆組成物。氟化鎂及二氧化矽 等之無機化合物可以真空蒸鍍或濺鍍法等之方法成膜爲低 折射率被膜。 又交互層合高折射率層與低折射率層設置防反射膜用 之多層防反射膜也可賦予防反射機能。此時之高折射率層 爲鈦、鉬、锆、鈮或釔所成群中所選出之至少1種之氧化 物層,低折射率層爲二氧化矽、氧化鋁、氟化鎂、氟化鋰 、氟化鈉鎂所成群中所選出之至少1種之層。此等高折射 率層及低折射率層可以真空蒸鍍或濺鍍法、離子鍍金法等 之乾式電鍍法成膜。 【實施方式】 實施例 [製造例1] 將三氧化銻(三國精練(股)製)1 300g分散於水 5587g中,加入35%過氧化氫水S)53.7g後,加熱至90至100 °C下反應2小時’得五氧化銻溶膠。所得溶膠爲比重1 .1 98 -31 - 201226325 、卩111.80、黏度19.5111?3.3、31)2〇5濃度18.4質量%,使用 透過型電子顯微鏡觀察之一次粒徑20至3 Onm,利用BET法 之比表面積55.0m2/g。 室溫下攪拌所得之五氧化銻溶膠的同時加入鹼性碳酸 鋅(堺化學工業(股)製’ 3ZnC03-4Zn(0H)2,ZnO換算 下含有70質量% ) 276g,混合後再攪拌5小時得漿液。使 用噴霧乾燥器乾燥該漿液,得黃白色粉末。使用流動焙燒 爐以5 50°C焙燒所得之粉末5小時,得藍綠色粉末。該粉末 之X線衍射測定結果與無水銻酸鋅(ZnSb206 )之峰値一 致。又,以l〇〇kg/cm2將該粉末加壓成型所得之物具有比 電阻値80 Ω cm之導電性。 使用束磨機將該粉末粉碎後,將前述粉末Hkg及水 320kg加入容量20L之濕式粉碎裝置(艾西札(股)製 LMK-20型粉碎機)中,以玻璃珠(0.5mm φ )進行濕式粉 碎,得水性溶膠。該水性溶膠之pH爲6.86。 以通液速度SV=1 2使該水性溶膠通過塡充陽離子交換 樹脂(安巴來(登記商標)IR-12 0B (有機(股)製)) 5 0L之管柱進行陽離子交換。其次以通液速度SV=1 2通過 塡充陰離子交換樹脂(安巴來IRA-410J (有機(股)製) )50L之管柱進行陰離子交換。 由此而得之酸性無水銻酸鋅錠粒子之水性溶膠爲 pH3.2、電導度 164//S/cm、ZnSb206 濃度 17.6 質量 %。該 溶膠之.乾燥物之比表面積以BET法測定爲47m2/g,藉由比 表面積算出之換算一次粒徑爲20nin。 -32- 201226325 [實施例1] 將二-η-丁基胺〇.63g加入製造例1所得之酸性無水銻酸 鈴旋粒子之水性溶膠6 8 2 g中,攪拌1小時。所得之水性溶 膠爲p Η 9.4,使用動性光散射法粒度分布測定裝置(傑達 賽NanoZS,MALVERN公司製)測得之光強度平均粒徑爲 1 0 1 n m。 使用旋轉蒸發器加入甲醇的同時,以甲醇取代該水性 溶膠之水,得無水銻酸鋅錠粒子之甲醇分散液3 00g。所得 之甲醇分散液爲,固體成分濃度4〇.5質量%,將以甲醇分 散液:水=1 : 1之質量比例混合之稀釋液稀釋1小時後使用 pH計器測定之pH (以下記爲PH(1 + 1))爲9.3,光強度 平均粒徑爲96nm。 將具有酸基之表面活性劑Disperbyk (登記商標)-1 1 1 (巨化學日本(股)製)3.6g加入所得之甲醇分散液 中,攪拌1小時後,使用旋轉蒸發器加入甲基乙基酮的同 時,以甲基乙基酮取代甲醇,得無水銻酸鋅錠粒子之甲基 乙基酮分散液3 00g。所得之甲基乙基酮分散液爲,固體成 分濃度40.5質量%,將以該分散液:甲醇:水=1: 1: 1之 質量比例混合之稀釋液稀釋1小時後使用PH計器測定之pH (以下記爲pH ( 1 + 1 + 1 ))爲4.6,光強度平均粒徑爲 90nm、黏度l.lmPa.s。所得之甲基乙基酮分散液於密閉環 境下,保管於室溫24小時或50°C 24小時後,光強度平均 粒徑及黏度均保持爲保管前之物性値’具有優良保存安定 -33- 201226325 性。 [實施例2] 將三-η-丁基胺0.82g加入製造例1所得之酸性無水銻酸 鋅錠粒子之水性溶膠682g中,攪拌1小時。所得之水性溶 膠爲pH9.6,光強度平均粒徑爲ΙΟΙηπ^ 使用旋轉蒸發器加入甲醇的同時,以甲醇取代該水性 溶膠之水,得無水銻酸鋅甲醇分散液300g。所得之甲醇分 散液爲,固體成分濃度40_5質量%、pH (1 + 1) 9.5、光強 度平均粒徑96nm » 將具有磷酸基之表面活性劑Disperbyk -1 1 1 (巨化學 日本(股)製)3.6g加入所得之甲醇分散液中,攪拌1小 時後,使用旋轉蒸發器加入甲基乙基酮的同時,以甲基乙 基酮取代甲醇,得無水銻酸鋅錠粒子之甲基乙基酮分散液 300g。所得之甲基乙基酮分散液爲,固體成分濃度40.5質 量%、pH ( 1 + 1 + 1 ) 4_9、光強度平均粒徑91nm、黏度 1.0mPa«s。所得之甲基乙基酮分散液於密閉環境下,保管 於室溫24小時或50°C 24小時後,光強度平均粒徑及黏度 均保持爲保管前之物性値,具有優良保存安定性。 [實施例3] 將三-η-丁基胺0.82g加入製造例1所得之酸性無水銻酸 鋅錠粒子之水性溶膠682g中,攪拌1小時。所得之水性溶 膠爲pH9.6,光強度平均粒徑爲lOlnm。
S -34- 201226325 使用旋轉蒸發器加入甲醇的同時,以甲醇取代該水性 溶膠之水’得無水銻酸鋅甲醇分散液3 00g。所得之甲醇分 散液爲’固體成分濃度40.5質量%、pH (1 + 1) 95、光強 度平均粒徑96nm。 將具有磷酸基之表面活性劑Disperbyk -1 1 1 (巨化學 日本(股)製)3_6g加入所得之甲醇分散液中,攪拌1小 時後使用旋轉蒸發器’加入乙酸乙酯的同時以乙酸乙醋取 代甲醇’得無水銻酸鋅錠粒子之乙酸乙酯分散液3〇〇g。所 得之乙酸乙酯分散液爲,固體成分濃度40.5質量%、pH ( 1 + 1 + 1) 5.1、光強度平均粒徑i〇〇nm、黏度l 5mPa.s。所 得之乙酸乙酯分散液於密閉環境下,保管於室溫24小時或 5 0°C 24小時後’光強度平粒徑及黏度均保持爲保管前之 物性値,具有優良保存安定性。 [實施例4] 將三-η-丁基胺0.82g加入製造例1所得之酸性無水銻酸 鋅錠粒子之水性溶膠6 8 2 g中,攪拌1小時。所得之水性溶 膠爲ρΗ9·6、光強度平均粒徑lOlnm。 使用旋轉蒸發器加入甲醇的同時,以甲醇取代該水性 溶膠之水,得無水銻酸鋅甲醇分散液3 00g。所得之甲醇分 散液爲,固體成分濃度40.5質量%、pH (1 + 1) 9.5、光強 度平均粒徑96nm。 將具有磷酸基之表面活性劑Disperbyk-1 1 1 (巨化學 日本(股)製)3 · 6g加入所得之甲醇分散液中,攪拌1小 -35- 201226325 時後使用旋轉蒸發器,加入丙二醇單甲基醚的同時以丙二 醇單甲基醚取代甲醇,得無水銻酸鋅錠粒子之丙二醇單甲 基醚分散液3 00g。所得之丙二醇甲基醚分散液爲,固體成 分濃度40.5質量%、pH ( l + 1 + ι) 49、光強度平均粒徑 llOnm、黏度3.3mPa,s。所得之丙二醇單甲基醚分散液於 密閉環境下’保管於室溫2 4小時或5 〇 t 2 4小時後,光強 度平均粒徑及黏度均保持爲保管前之物性値,具有優良保 存安定性。 [實施例5] 將混合二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD (登記商 標)DPHA (日本化藥(股)製))〇9g、光引發劑伊爾 凱(登記商標)184 (吉巴凱公司製(現爲BASF日本(股 )))〇_lg、甲基乙基酮2.1g所得之紫外線硬化性樹脂組 成物加入實施例1所得之無水銻酸鋅錠粒子之甲基乙基酮 分散液5g中’得含有無水銻酸鋅錠粒子之樹脂組成物。所 得之樹脂組成物之分散狀態良好。 使用No · 6之金屬絲棒將所得之樹脂組成物塗佈於p ET 薄膜(厚1 2 5 # m )之上面’使用紫外線照射機照射紫外 線後,得具有導電性被膜之PET薄膜。 使用分光濁度計器TC-H3DPK-MKII (東京電色(有 )製)測定所得之附導電性被膜之P E T薄膜的濁度,結果 全光透過率(Tt)爲96.5% ’濁度値爲〇.1。該薄膜使用表 面電阻率測定裝置海雷斯UP (三菱化學(股)製)測得
S -36- 201226325 之表面電阻値爲7χ107Ω/|Ζ1。 [實施例6] 將混合二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD (登記商 標)DPHA (日本化藥(股)製)〇.9g、光引發劑伊爾凱 (登記商標)184 (吉巴凱公司製(現爲BASF日本(股) ))〇.lg、甲基乙基酮2.1 g所得之紫外線硬化性樹脂組成 物加入實施例2所得之無水銻酸鋅錠粒子之甲基乙基酮分 散液5 g中’得含有無水銻酸鋅錠粒子之樹脂組成物。所得 之樹脂組成物之分散狀態良好。 使用N 〇 . 6之金屬絲棒將所得之樹脂組成物塗佈於p E τ 薄膜(厚1 2 5 // m )之上面,使用紫外線照射機照射紫外 線後,得具有導電性被膜之P E T薄膜。 使用分光濁度計器TC-H3DPK-MKII (東京電色(有 )製)測定所得之附導電性被膜之PET薄膜的濁度,結果 全光透過率(Tt)爲96.6%,濁度値爲〇.1。該薄膜使用表 面電阻率測定裝置海雷斯UP (三菱化學(股)製)測得 之表面電阻値爲8χ107Ω /□。 [實施例7] 將混合二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD (登記商 標)DPHA (日本化藥(股)製)〇.9g、光引發劑伊爾凱 (登記商標)184(吉巴凱公司製(現爲BASF日本(股) ))O.lg、甲基乙基酮2.1g所得之紫外線硬化性樹脂組成 -37- 201226325 物加入實施例3所得之無水銻酸鋅錠粒子之乙酸乙酯分散 液5g中,得含有無水銻酸鋅錠粒子之樹脂組成物。所得之 樹脂組成物之分散狀態良好。 使用No.6之金屬絲棒將所得之樹脂組成物塗佈於PET 薄膜(厚1 2 5 v m )之上面’使用紫外線照射機照射紫外 線,得具有導電性被膜之PET薄膜。 使用分光濁度計器TC-H3DPK-MKII (東京電色(有 )製)測定所得之附導電性被膜之P E T薄膜的濁度,結果 全光透過率(Tt)爲97.0%,濁度値爲〇.2。該薄膜使用表 面電阻率測定裝置海雷斯UP (三菱化學(股)製)測得 之表面電阻値爲8χ107Ω/〇。 [實施例8] 將混合二季戊四醇六丙烯酸酯(KAYARAD (登記商 標)DPHA (日本化藥(股)製)〇.9g、光引發劑伊爾凯 (登記商標)184(吉巴凱公司製(現爲BASF日本(股) ))〇. 1 g、甲基乙基酮2.1 g所得之紫外線硬化性樹脂組成 物加入實施例4所得之無水銻酸鋅錠粒子之丙二醇單甲基 醚分散液5g中,得含有無水銻酸鋅錠粒子之樹脂組成物。 所得之樹脂組成物之分散狀態良好。 使用N 〇 . 6之金屬絲棒將所得之樹脂組成物塗佈於p ET 薄膜(厚1 2 5 // m )之上面’使用紫外線照射機照射紫外 線後,得具有導電性被膜之PET薄膜。 使用分光濁度計器TC-H3DPK-MKII (東京電色(有
S -38- .201226325 )製)測定所得之附導電性被膜之PET薄膜的濁度,結果 全光透過率(Tt)爲95.0%,濁度値爲0.3。該薄膜使用表 面電阻率測定裝置海雷斯UP (三菱化學(股)製)測得 之表面電阻値爲6χ 1 〇7 Ω /□。 [比較例1 ] 使用旋轉蒸發器加入甲醇的同時,以甲醇取代製造例 1所得之酸性無水銻酸鋅錠粒子之水性溶膠682g之水,但 取代中會凝膠化,無法得到安定之溶膠。 [比較例2] 將三-η-丁基胺0.8 2g加入製造例1所得之酸性無水銻酸 鋅錠粒子之水性溶膠6 8 2g中,攪拌1小時。所得之水性溶 膠爲PH9.6、光強度平均粒徑i〇inm。 使用旋轉蒸發器加入甲醇的同時,以甲醇取代該水性 溶膠之水,得無水銻酸鋅錠粒子之甲醇分散液3 OOg。所得 之甲醇分散液爲,固體成分濃度40.5質量%、pH ( 1 + 1 ) 9.5、光強度平均粒徑96nm。 使用旋轉蒸發器加入ME K的同時,以甲基乙基酮取代 所得之甲醇分散液之甲醇,但取代中會凝膠化,無法得到 安定之溶膠。 [比較例3] 將三-η-丁基胺0.3 4g加入製造例1所得之酸性無水銻酸 -39- 201226325 辞錠粒子之水性溶膠682g中,攪拌1小時。所得之水性溶 膠爲pH 5.1、光強度平均粒徑101 nm。 使用旋轉蒸發器加入甲醇的同時,以甲醇取代該水性 溶膠之水,得無水銻酸鋅錠粒子之甲醇分散液3 00g。所得 之甲醇分散液爲,固體成分濃度40.5質量%、pH ( 1 + 1) 5.8、光強度平均粒徑96nm。 將具有磷酸基之表面活性劑Disperbyk-1 1 1 (巨化學 曰本(股)製)3.6g加入所得之甲醇分散液中,攪拌1小 時後,使用旋轉蒸發器加入甲基乙基酮的同時,以甲基乙 基酮取代甲醇,得無水銻酸鋅錠粒子之甲基乙基酮分散液 3 〇〇g。所得之甲基乙基酮分散液爲,固體成分濃度40.5質 量%、pH ( 1 + 1 + 1 ) 3.5、光強度平均粒徑93nm、黏度 1.2mPa*s。所得之甲基乙基酮分散液密閉環境下,保管於 室溫24小時或50 °C 24小時後,會凝聚而凝膠化,故保存 安定性差。 產業上利用可能性 本發明之混合含有無水銻酸鋅錠粒子之疏水性有機溶 劑分散液與黏合劑所得之包覆組成物,可藉由塗佈於基材 上形成高透明性之導電性被膜。基材爲透明性基材時,無 損該基材之透明性下可製作具有導電性或防靜電性之被膜 之構件。 δ -40 -

Claims (1)

  1. 201226325 七、申請專利範圍: 1. 一種疏水性有機溶劑分散液,其爲含有經烷基胺 及具有酸基之表面活性劑修飾表面的具有5至500nm之 —次粒徑之無水銻酸鋅錠粒子。 2-如申請專利範圍第1項之疏水性有機溶劑分散液, 其中前述烷基胺爲碳原子數4至18之烷基胺。 3 ·如申請專利範圍第1項之疏水性有機溶劑分散液, 其中前述具有酸基之表面活性劑之酸基爲羧酸基、磺酸基 或磷酸基。 4 ·如申請專利範圍第1至3項中任何一項之疏水性有 機溶劑分散液,其中前述疏水性有機溶劑爲甲基溶纖劑、 乙基溶纖劑、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酸異丁酯、 乙酸異丙酯、乙酸異戊酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙 酯、乙酸戊酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯 、二甲苯、甲苯及苯所成群中所選出之至少i種。 5· —種包覆組成物,其爲含有如申請專利範圍第1至 4項中任何一項之疏水性有機溶劑分散液與黏合劑成分。 6. 如申請專利範圍第5項之包覆組成物,其中前述黏 合劑成分爲丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、環 氧樹脂、聚乙烯醇樹脂、三聚氰胺樹脂、明膠及明膠衍生 物、纖維素及纖維素衍生物、聚醯亞胺樹脂、苯酚樹脂、 有機矽化合物、脲醛樹脂、二烯丙基酞酸酯樹脂及丁醛樹 脂所成群中所選出之至少1種。 7. —種構件,其爲基材表面具有由如申請專利範圍 -41 - 201226325 第5或6項之包覆組成物所形成之被膜。 8. 如申請專利範圍第7項之構件,其中前述構件爲塑 料、橡膠、玻璃、金屬、陶瓷或紙。 9. 如申請專利範圍第7或8項之構件,其中前述被膜 具有1012Ω/□以下之表面電阻値。 1 0. —種附反射膜之構件,其爲如申請專利範圍第7 至9項中任何一項之構件之被膜上另具有防反射膜。 -42- 201226325 四 指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明:無 201226325 五 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:無 S -4-
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130130508A1 (en) * 2011-09-02 2013-05-23 Air Products And Chemicals, Inc. Compositions and Methods for Texturing of Silicon Wafers
JP6440544B2 (ja) * 2014-05-27 2018-12-19 キヤノン株式会社 コーティング剤、導電性樹脂膜、電子写真用部材及び電子写真用部材の製造方法
JP6662601B2 (ja) * 2015-10-09 2020-03-11 セコ コーポレイション リミテッド 防曇剤
KR102456605B1 (ko) * 2020-10-22 2022-10-21 주식회사 케이씨텍 디스플레이용 금속 산화물 분산액 조성물, 그의 제조방법 및 디스플레이용 광학 부재

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE792125A (fr) 1971-12-27 1973-03-16 Petrow Henry G Sol colloidal d'oxyde d'antimoine, son procede de preparation et son utilisation
ZA764022B (en) 1975-08-07 1977-06-29 American Cyanamid Co Colloidal antimony ocide
US4110247A (en) 1977-04-07 1978-08-29 The Harshaw Chemical Company Method of preparing colloidal sol of antimony oxide
JPS5918116A (ja) 1982-07-20 1984-01-30 Nippon Seikou Kk 微粒三酸化アンチモンの製造方法および製造装置
JPS6041536A (ja) 1983-08-16 1985-03-05 Nissan Chem Ind Ltd 五酸化アンチモンゾルの製造法
JPS62125849A (ja) 1985-11-26 1987-06-08 Japan Exlan Co Ltd 十三酸化六アンチモン水性ゾル
JPH0696451B2 (ja) 1986-02-06 1994-11-30 日産化学工業株式会社 五酸化アンチモンゾルの製造方法
JP3221132B2 (ja) * 1993-01-29 2001-10-22 日産化学工業株式会社 導電性粒子及びその製造法
JP3352772B2 (ja) * 1993-07-30 2002-12-03 出光興産株式会社 透明導電膜およびその製造方法
US5580819A (en) * 1995-03-22 1996-12-03 Ppg Industries, Inc. Coating composition, process for producing antireflective coatings, and coated articles
JPH09208840A (ja) * 1996-01-30 1997-08-12 Kureha Chem Ind Co Ltd 可視域外光線吸収体
US6093749A (en) * 1997-10-16 2000-07-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Anhydrous zinc antimonate sol and method for producing the same
JPH11314918A (ja) * 1997-10-16 1999-11-16 Nissan Chem Ind Ltd 無水アンチモン酸亜鉛ゾル及びその製造方法
JP4019480B2 (ja) * 1997-12-26 2007-12-12 日産化学工業株式会社 無水アンチモン酸亜鉛の製造方法
US7718708B2 (en) * 2004-04-21 2010-05-18 Nissan Chemical Industries, Ltd. Anhydrous zinc antimonate sol and process for producing same
JP4605375B2 (ja) * 2004-04-21 2011-01-05 日産化学工業株式会社 無水アンチモン酸亜鉛ゾル及びその製造方法
US20070065602A1 (en) * 2005-09-21 2007-03-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical film, polarizing plate and image display device
CN100480306C (zh) * 2006-12-08 2009-04-22 江苏晨光涂料有限公司 透明隔热树脂板材
JP5060781B2 (ja) * 2006-12-26 2012-10-31 三菱マテリアル電子化成株式会社 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ
CN101302358B (zh) * 2007-05-09 2011-12-14 北京有色金属研究总院 一种无水纳米锑酸锌溶胶及其制备方法
CN101339258A (zh) * 2007-07-03 2009-01-07 达信科技股份有限公司 抗反射膜及其制作方法
US8697757B2 (en) * 2008-07-17 2014-04-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Hydrophobic organic solvent-dispersed sol of anhydrous zinc antimonate colloidal particles and method for producing the same

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