201107903 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種曝光印刷基板等的工件兩面的兩面 曝光裝置。 【先前技術】 在印刷基板等中，有在工件兩面製作電路等的圖案的 Φ 情形。爲此的曝光裝置眾知爲「兩面曝光裝置」。作爲其 一例子，有記載於專利文獻1的兩面投影曝光裝置。 被記載於同一專利文獻的兩面投影曝光裝置是具備： 光照射部’曝光平台，第1及第2屏蔽，及保持此些兩枚 的屏蔽的屏蔽平台，投影透鏡，反轉工件的反轉平台部 等。 該曝光裝置’是使用第1屏蔽進行曝光工件的第1面 (表面）之後’以反轉平台進行反轉工件，使用第2屏蔽進 Φ 行曝光第2面（背面）。藉此’在工件的表面曝光有被形成 於第1屏蔽的圖案’而在背面曝光有形成於第2屏蔽的圖 案。 專利文獻1 :日本特許第4158514號公報 【發明內容】 在專利文獻1所述的兩面投影曝光裝置中，工件的曝 光處理是所謂爲「先入先出」，從先搬入至裝置的工件依 次地曝光表面與背面之後從裝置被搬出。所以，被使用於 -5- 201107903 表面的曝光的第1屏蔽，及被使用於背面的曝光的第2屏 蔽，是處理每一枚工件地轉換（更換）。 在同文獻的第2圖，第3圖所述的實施例的裝置中， 屏蔽平台是可裝載兩枚表面用的第1屏蔽與背面用的第2 屏蔽，而屏蔽的更換是滑動移動屏蔽平台所進行。所以， 屏蔽的更換時間是短至約兩秒鐘。 表面曝光用的屏蔽與背面曝光用的屏蔽的更換時間， 爲如上述地短時間時，即使處理每一枚工件地實施屏蔽的 更換，也不會降低生產量，亦即，工件的曝光處理的全體 時間是不會增加。因爲，屏蔽的更換，爲曝光裝置進行其 他動作之期間可進行。 但是，在專利文獻1所述的曝光裝置中，滑動移動屏 蔽而予以更換之故，因而使用多數屏蔽，無法一面更換屏 蔽一面曝光每一工件地不相同的多數圖案。 —方面’如第9圖所示地，藉由曝光裝置，可對應於 多數圖案的曝光的方式，有將多k屏蔽保管在屏蔽庫（以 下稱爲庫）’利用被稱爲處理器的屏蔽搬運機構，從庫取 出必需的屏蔽’而轉換裝載於屏蔽平台的方式所構成者。 在第9圖中’ 1是光照射部，例如由燈丨a與反射鏡 1 b所構成’從光照射部1所放射的光，是經由被載置於屏 蔽平台2上的屏蔽，投影透鏡3，被照射在工件平台4的 工件W。 在屏蔽庫6收納著複數屏蔽Ml，M2，M3，…，更換 屏蔽平台2上的屏蔽Μ時，屏蔽搬運機構5利用工件把柄 -6- 201107903 等來保持屏蔽平台2上的屏蔽Μ，沿著軌5a移動，俾將 屏蔽Μ收納於屏蔽庫6的所定位置。又，屏蔽搬運機構5 是從屏蔽庫6取出下一次所使用的屏蔽，而沿著軌5a被 載置於屏蔽平台2。 採用表示於第9圖的屏蔽的庫與搬運機構的曝光裝置 時’屏蔽的更換是從屏蔽平台拆下更換的屏蔽而搬運回收 至庫，俾將新屏蔽搬運機構於屏蔽平台的作業之故，因而 φ 對於一次屏蔽費大約3 0秒鐘至3 0秒鐘以上的時間。 當屏蔽的更換時間成爲大約3 0秒鐘，則在上述專利 文獻1所述的曝光裝置中，其時間是無法被吸收在曝光裝 置所進行的其他動作的時間，而成爲等待完成屏蔽更換的 等待時間。結果，處理一枚工件的時間會變久，而降低生 產量。 如上所述地，在轉換專利文獻1所述的屏蔽而進行更 換的構造中，迅速地可進行屏蔽更換，惟使用多數枚屏蔽 φ 無法進行曝光，又，如第9圖所示地，在具有屏蔽的庫 者，可進行多數枚屏蔽的更換。惟在屏蔽更換費時，而有 降低生產量的缺點問題。 本發明是鑑於上述事情所創作者，本發明的目的是在 於在一種具備保管多數屏蔽而可更換的屏蔽庫的兩面曝光 裝置中，提供一種可縮短工件的曝光處理所需要的時間， 防止降低生產量的兩面曝光裝置。 在本發明中，爲了解決上述課題之故，因而在曝光裝 置設計屏蔽庫與屏風搬運機構，而在屏蔽庫收藏複數枚屏 201107903 蔽》又，設置保管完成第1面（表面）的曝光的工件的工件 保管部，而且在載置工件而進行曝光的工件平台，及工件 保管部之間，設置進行工件的反轉的反轉平台部，在工件 平台與反轉平台部，反轉平台部與工件保管部之間，設置 搬運工件的工件搬運機構。 於是，如下地進行曝光處理。 (1) 在屏蔽y台載置表面曝光面的第1屏蔽。工件以表 面作爲上面而被搬入至工件平台，進行曝光工件之表面。 當完成表面的曝光，則工件是從工件平台搬運至反轉 平台部而反轉平台部是進行反轉工件。 (2) 反轉的工件是被搬運至工件保管部。工件保管部是 依次保管反轉的工件。將此針對於1批量的所有工件（1批 量是藉由20枚〜50枚的工件所構成）來進行。亦即，針對 於全工件僅先曝光表面’經反轉而以第2面（背面）朝上面 的狀態下進行暫時保管。 (3) 然後，將屏蔽平台的屏蔽更換成背面曝光用的第2 屏蔽’之後’從工件保管部取出背面成爲上面的工件，搬 運至工件平台’進行背面的曝光。完成背面的曝光的工 件，是被搬出至裝置之外面》進行一直到被保管在工件保 管的所有工件沒有爲止。亦即，背面的曝光是與曝光表面 的順序（保管於工件保管部的順序）相反順序地處理。 又’在曝光表面或背面的途中，例如A— Be C…的方 式更換屏蔽’在1批量的工件表面（或是背面）如A的圖 案，B的圖案’ C的圖案，…的方式曝光不相同的圖案也 -8 - 201107903 可以。 又’將完成表面的曝光的工件，未進行反轉而被保管 在工件保管部，爲了曝光背面’在從工件保管部移動至工 件平台之際，在反轉平台部進行反轉也可以。 亦即’在本發明’作成如以下來解決上述課題。 (1) 一種兩面曝光裝置，具備：照射曝光光的光照射 部；及保持圖案所形成的屏蔽的屏蔽平台；及載置工件的 φ 曝光平台；及在工件的第1面（表面）曝光圖案所用的第1 屏蔽，與在第2面（背面）曝光圖案所用的第2屏蔽；及保 管上述第1屏蔽與第2屏蔽的屏蔽庫；及在上述屏蔽庫與 上述屏蔽平台之間來搬運屏蔽的屏蔽搬運機構；及將形成 於第1與第2屏蔽的屏蔽圖案，投影在被載置於上述曝光 平台的工件面上的投影透鏡；及將第1面所曝光的工件予 以反轉的反轉平台部；及控制來自上述光照射部的曝光光 的照射’與利用上述屏蔽搬運機構的第1屏蔽及第2屏蔽 φ 的更換’與利用上述反轉平台部的工件的反轉，與上述工 件的搬運的控制部，其特徵爲：具備保管複數第1面所曝 光的工件的工件保管部，上述控制部是針對於複數工件所 成的1批量的工件的所有工件，首先曝光第1面而保管在 上述工件保管部，針對於1批量工件的所有工件完成第1 面的曝光之後，將第1屏蔽更換成第2屏蔽，進行曝光第 2面。 (2) 在上述（1)中，由複數屏蔽群構成工件的第1面（表 面）曝光用屏蔽，上述控制部是在上述1批量的工件的第1 -9 - 201107903 面的曝光途中，更換第1屏蔽’而在上述1批量的工件的 第1面，進行曝光不相同的屏蔽圖案。 (3) 在上述（1)中，由複數屏蔽群構成工件的第2面（背 面）曝光用屏蔽，上述控制部是在上述1批量的工件的第2 面的曝光途中，更換第2屏蔽，而在上述1批量的工件的 第2面，進行曝光不相同的屏蔽圖案》 (4) 在上述（1)，（2)，（3)中，上述控制部是同時地進行 曝光的工件利用上述反轉平台部的反轉，及上述第1屏蔽 與第2屏蔽的更換。 在本發明中，可得到以下的效果。 (1) 首先，針對於1批量的所有工件進行表面的曝光， 然後進行背面的曝光之故，因而更換屏蔽是在1批量的曝 光處理中進行1次就可以。因此，即使屏蔽的更換時間變 久一些，也不會極端地增加工件的曝光處理的整體時間。 所以可防止降低生產量。 (2) 具備保管多數屏蔽的屏蔽庫之故，因而在工件的第 1面（表面）或第2面的曝光途中進行更換屏蔽，而在1批 量的工件表面（或背面可進行不相同的圖案曝光）。 此時，在第1面（表面）或第2面（背面）的曝光中進行 更換屏蔽之故’因而其分量，會增加處理時間，惟同時地 進行利用工件的反轉平台部的反轉，與屏蔽的更換，僅稍 些增加處理時間。 (3) 同時地進行利用曝光的工件的反轉平台部的反轉， 及第1屏蔽及第2屏蔽的更換，可縮短處理時間。 -10- 201107903 【實施方式】 第1圖是表示本發明的實施例的兩面曝光裝置的槪略 構成的圖式。 本實施例的兩面曝光裝置是大致被分成曝光機本體 10’及工件搬入搬出部20，反轉平台部30，工件保管部 40 〇 φ 又’曝光機本體1 〇是具備：出射曝光光的光照射部 1 ’載置形成於工件的電路等的圖案（屏蔽圖案）所形成的屏 蔽Μ的屏蔽平台2，載置曝光的工件W的工件平台4，在 工件平台4上的工件W投影屏蔽平台的投影透鏡3，保管 複數屏蔽的屏蔽庫6等。 又’曝光機本體10是具備：屏蔽平台2的移動機 構，工件平台4的移動機構，用以進行屏蔽μ與工件W 的對位的對準顯微鏡在屏蔽庫6與屏蔽平台2之間進行搬 # 運屏蔽的屏蔽搬運機構5，在工件搬入搬出部20與工件平 台4之間’或工件平台4與反轉平台部3〇之間，反轉平 台部3 0與工件保管部40之間進行搬運工件的工件搬運機 構等，惟在第1圖中僅表示屏蔽搬運機構5的位置，其他 是被省略。 又’曝光裝置是具備：控制來自光照射部1的曝光光 的照射’利用屏蔽搬運機構5的屏蔽更換，利用反轉平台 部30的工件反轉’在工件搬入搬出部20與工件平台4間 的工件W的搬運’在工件平台4與反轉平台部30間的工 -11 - 201107903 件W的搬運，在反轉平台部30與反轉平台部40間的工 件W的搬運等的控制部60。 又，曝光機本體10的光照射部1是具備··放射包括 曝光光的光源的燈’反射從燈所放射的光的反射鏡，控制 來自光照射部的光的出射的光閥等。這些也省略圖示。 工件搬入搬出部20是將複數枚（2 0枚至50枚）的工件 作爲1批量，進行兩面曝光處理的工件，爲利用工廠的搬 運機構（未圖示）所搬運來所放置的部分。被放置在工件搬 入搬出部20的工件，是藉由工件搬運機構（未圖示）一枚— 枚地被搬運至曝光機本體10的工件平台4而被曝光。 又，完成兩面的曝光的工件也爲藉由工件搬運機構從工件 平台4被搬出的場所。 被載置於工件平台4的工件，是利用真空吸附等被保 持在工件平台4。從光照射部1所照射的曝光光，是被照 射在保持於屏蔽平台2的屏蔽Μ»在工件Μ形成有電路等 的圖案，而此圖案是藉由投影透鏡3被投影在保持於工件 平台4的工件W而被曝光。 反轉平台部30是在曝光機本體10完成表面曝光，而 反轉藉由工件搬運機構所搬運來的工件的部分。反轉平台 部30是具備裝載工件而反轉180°的平台。針對於詳細的 構造在以下說明。 工件保管部40是保管在反轉平台部30被反轉的工件 的部分。工件保管部40是具備依次堆積利用工件搬運機 構所搬運的工件予以保管的棚架》針對於詳細的構造在以 -12- 201107903 下說明。 第2圖是表示，本實施例的兩面曝光裝置的具體性構 成例的圖式，從工件保管部側觀看內部的立體圖。又，在 同圖中，表示於第1圖的工件搬入搬出部2 0，光照射部 1’屏蔽平台2’屏蔽庫6等被省略。 在同圖中，由同圖左邊爲：將工件從工件搬入搬出部 20搬運至工件平台4的第1工件搬運機構5 0a，工件平台 φ 4’將工件從工件平台4搬運至反轉平台部3〇的第2工件 搬運機構50b，包括從反轉平台部30搬運工件的第3工件 搬運機構46的工件保管部40。 在工件平台4的上側，設有使用於屏蔽μ與工件W 的對位的對準顯微鏡7，及投影透鏡3。又，在工件平台4 的正前側（正交於搬運方向的方向）設有預對準平台4a，在 其上面’設有吸附工件而從第1工件搬運機構50a搬運至 預對準平台4a’或是從預對準平台4a搬運至第2工件搬 φ 運機構50b的一對工件把柄8a，8b。 控制部6 0是除了如上述地控制光照射部1，利用屏蔽 搬運機構5的屏蔽更換等以外，還控制利用上述第丨工件 搬運機構50a ’第2工件搬運機構50b的工件搬運，利用 反轉平台部30的工件反轉，利用工件保管部40的工件的 保管動作等。 利用第1工件搬運機構50a，從工件搬入搬出部1〇所 搬運的工件，是在同圖以虛線所表示的工件把柄8a被把 持而載置於工件平台4的正前側的預對準平台4a上被預 -13- 201107903 對準，之後利用未圖示的搬運手段，被搬運至工件平台 4 〇 被搬運至工件平台4上的工件W是使用對準顯微鏡7 被對位，而在工件上經由屏蔽照射著從未圖示的光照射部 通過投影透鏡3的曝光光，進行著工件圖案的曝光處理。 被曝光處理的工件W是利用未圖示的搬運手段被搬 運至預對準平台4a，而利用工件把柄8b被搬運至第2工 件搬運機構5 〇b。又，與此同時地，利用第1工件搬運機 構50a，從工件搬入搬出部1〇所搬運的下一工件是利用工 件把柄8a被吸附而被載置於預對準平台4a上。 完成曝光處理的工件W是利用第2工件搬運機構50b 被搬運至反轉平台部30而被反轉（翻轉），又利用第3工件 搬運機構46被搬運至工件保管部40被保管。 以下，針對於表示於第2圖的工件搬運機構5 0a， 50b’反轉平台部30，工件保管部40的構成例進行說明。 在第3圖表示工件搬運機構50的槪略構成。 如同圖所示地，工件搬運機構50是具有被安裝於旋 轉軸52的柔軟樹脂製的軋輥51所構成的軋輥旋轉機構 55’此機構被安裝於複數保持框53。在旋轉軸52被裝於 電動機54，電動機54是同步而旋轉驅動旋轉軸52。 藉此，軋輥5 1被旋轉，當將工件（印刷基板）放置於軋 輥5 1上，則工件是朝軋輥51的旋轉方向搬運。 在第4圖，表示反轉平台部30的槪略構成。 反轉平台部3 0也與工件搬運機構5 0同樣地，將安裝 -14 - 201107903 複數軋輥31的軋輥旋轉機構35具備於安裝電動機34的 旋轉軸32’該軋輥旋轉機構35成爲上下兩列而被安裝於 保持框3 3。 在保持框33’安裝有藉由反轉電動機37所驅動的旋 轉軸36’當反轉電動機37進行旋轉，則保持框33全體也 旋轉。 在排列成上下兩列的軋輥旋轉機構3 5之間放進工 φ 件’而在該狀態下藉由反轉電動機37旋轉180°保持框 3 3，則反轉工件。 在第5圖，表示工件保管部40的槪略構成。 工件保管部40也具有與工件搬運機構50同樣的安裝 有複數軋輥41的旋轉軸42，具備該旋轉軸42被安裝於保 持框43的複數軋輥旋轉機構45，及驅動旋轉軸42的電動 機44所構成的第3工件搬運機構46。 又，從下面一枚一枚地支撐工件W的複數列叉47安 φ 裝於叉支撐板4 8。 在叉支持板48安裝有叉支持驅動機構49，朝圖式上 下方向移動叉支持板48(軋輥旋轉機構45是不會上下地移 動）。藉此，叉47爲上下地移動軋輥旋轉機構45之間。 在第6圖，表示反轉平台部30的動作。同圖是左側 爲第2工件搬運機構50b，中央爲反轉平台部30，而右側 爲工件保管部40的第3工件搬運機構46。 如第6(a)圖所示地，曝光表面的工件W被搬到第2工 件搬運機構50b。 -15- 201107903 如第6(b)圖所示地，第2工件搬運機構50b的軋輥 與反轉平台部3 0昀軋輥3 1進行旋轉，工件W被搬運 配置於反轉平台部30的上下兩列地配置的軋輥旋轉機 3 5之間。工件W是藉由上下的軋輥旋轉機構3 5被夾持 如第6(c)圖所示地，被安裝於表示於第4圖的反轉平台 30的保持框33的反轉電動機37被驅動，利用軋輥旋轉 構35夾住工件W的狀態下，保持框33全體進行旋轉。 如第6(d)圖所示地，反轉平台部30旋轉180°。工 W是被反轉，第2面（背面）成爲上面。 如第6(e)圖所示地，反轉平台部30的軋輥31與第 工件搬運機構47的軋輥41進行旋轉，而工件W在反 的狀態下被搬運至工件保管棚架40。 在第7圖，第8圖，表示工件保管棚架40的動作 同圖是左邊爲反轉平台部30，而右邊爲工件保管棚 40 » 如第7(a)圖所示地，反轉平台部30的軋輥31與工 保管棚架40的工件搬運機構47的軋輥41進行旋轉， 被反轉的第1工件W1被搬運至工件保管棚架40。 叉支持驅動機構4 9進行動作，則叉支持板4 8會 昇。藉此，如第7(b)圖所示地，第1叉47a上昇在軋輥 之間，撈取抬高第1工件W1而停止上昇。在反轉平台 30，第2工件W2被反轉。 如第7(c)圖所示地，第2工件W2爲從反轉平台部 被搬運至工件保管棚架40。 5 1 在 構 〇 部 機 件 3 轉 架 件 而 上 4 1 部 30 -16- 201107903 叉支持板驅動機構49進行動作，則叉支持板48會上 昇。藉此，如第7(d)圖所示地，第2叉47b上昇在軋輥41 之間，撈取抬高第2工件W2而停止上昇。在反轉平台部 30，第3工件W3被反轉。 一直到完成1批量（20枚至50枚）的所有工件表面的 曝光爲止重複上述動作，而將1批量分量的工件保管在保 管棚架40。 φ 以下，針對於上述的本實施例的兩面曝光裝置的動作 加以說明。 在此，主要以使用上述第1圖進行說明。又，以下所 說明的各動作中可同時進行實施者是可同時進行。此爲可 縮短處理時間。 工件W被搬運至工件搬入搬出部20。此工件W的搬 運是利用設置曝光裝置的工廠方面的搬運機構（未圖示）被 搬運。 # 也有1批量的工件（20枚至50枚的工件所構成）被放 進盒體而匯集被搬運的情形，惟也有在與曝光裝置的工件 搬入搬出部20不相同處放置著放進1批量的工件的盒 體’而由該處1枚1枚地搬運至工件搬入搬出部20的情 形。 曝光裝置的控制部60是驅動第1工件搬運機構50a， 而將被搬運至工件搬入搬出部20的工件W，搬運至曝光 機本體的工件平台4。之後，利用屏蔽搬運機構（未圖 示）’從屏蔽庫6取出工件W的第1面（表面）曝光用的第1 -17- 201107903 屏蔽Ml，而設定在屏蔽平台2。 進行屏蔽Μ與工件W的對位之後，從光照射部1 射曝光光。曝光光是經由屏蔽Μ與投影透鏡3，被照射 工件平台4上的工件W。形成於第1屏蔽Ml的圖案被 光於工件W的表面。 完成表面的曝光的工件W是利用第2工件搬運機 5 0b被搬運反轉平台部30。 控制部60是驅動反轉平台部30，藉由在第6圖所 示的順序，進行反轉工件W。又，將下一工件W從工 搬入搬出部20搬運至工件平台4。 在反轉平台部30所反轉的工件w是被搬運至工件 管部40’而藉由在第7圖，第8圖所表示的順序，被保 在工件保管部40 * 一直到完成1批量分量的所有工件的表面的曝光 止，重複此順序。 當完成所有工件W的表面的曝光，則控制部60是 用屏蔽搬運機構5，從工件平台2拆下表面曝光用的第 屏蔽Ml’而回收至屏蔽庫6。又這次，從屏蔽庫6取出 件W的第2面（背面）曝光用的第2屏蔽M2，而被設定 工件平台2。 最後，進行表面曝光的工件W在反轉平台部30被 轉，則該工件W是未朝工件保管部4 0，而回到第2工 搬運機構50b。 工件W是被反轉之故，因而第2面（背面）朝向上面 出 在 曝 構 表 件 保 管 爲 利 1 工 在 反 件 -18- 201107903 最後，同時地進行著進行兩面曝光的工件反轉與屏蔽的更 換。 控制部60是利用第2工件搬運機構50b，將背面成爲 上面的工件W搬運至工件平台4。 又，如上述地，進行屏蔽Μ與工件W的對位之後， 從光照射部1出射曝光光。曝光光是經由屏蔽Μ與投影透 鏡3’被照射在工件平台4上的工件W。形成於第2屏蔽 φ M2的圖案曝光於工件W的背面。 完成背面的曝光的工件W是利用第1工件搬運機構 5〇b，被搬運至工件搬入搬出部20。 —方面’從工件保管棚架40，由最後第2個進行表面 曝光的工件（工件保管棚架下方的工件）依序地朝著第3工 件搬運機構47—反轉平台部30(但是在此未進行反轉動作） —第2工件搬運機構50be工件平台4被搬運而被背面曝 光’完成曝光之工件是依次被搬運至工件搬入搬出部20。 φ 被搬運至工件搬入搬出部20的工件W，是一枚一枚地， 或是匯集1批量放進盒體，而從曝光裝置被搬出。 又’在本實施例中，工件保管部40是作成保管被反 轉的工件.。但是，將完成表面曝光的工件，未反轉而保管 在工件保管部40，而爲了曝光背面從工件保管部4〇移動 至工件平台4之際’在反轉平台部30作成進行反轉也可 以。 在上述中’針對於在1批量的所有工件的第1面（表 面）曝第1屏蔽Ml的圖案，而在第2面（背面）曝光第2屏 •19- 201107903 蔽M2的圖案的情形加以說明，惟在上述1批量的工件的 第1面或第2面的曝光途中，更換第1屏蔽或第2屏蔽， 而在上述1批量的工件第1面或第2面，作成曝光不相同 的工件平台也可以。 以下’針對於在第1面及第2面的曝光途中，進行更 換屏蔽的情形的動作簡單地說明。 當工件W被搬運至工件搬入搬出部20，則控制部60 是驅動第1工件搬運機構5 0a，而將被搬運至工件搬入搬 出部20的工件W，搬運至曝光機本體的工件平台4。之 後’利用屏蔽搬運機構（未圖示），從屏蔽庫6取出工件W 的第1面（表面）曝光用的第1屏蔽Mil，而設定在屏蔽平 台2。 又’工件 W的對位之後，從光照射部1出射曝光 光’將形成於第1屏蔽Ml的圖案曝光於工件W的表面。 完成表面的曝光的工件W是利用第2工件搬運機構 5 0b被搬運至反轉平台部30而被反轉，並被搬運被保管至 工件保管部40。 以下同樣地’將屏蔽Mil的屏蔽平台曝光於1批量的 工件內’所定枚數的第1面之後，從屏蔽庫6取出工件W 的第1面（表面）曝光用的第2屏蔽M12，而設定在屏蔽平 台2。 又’與反轉平台部30的已曝光的工件的反轉作業同 時地進行此屏蔽的更換作業，就可縮短處理時間。 又，工件W的對位之後，從光照射部1出射曝光 -20- 201107903 光，將形成於第2屏蔽M12圖案曝光於工件W的表面。 完成表面的曝光的工件W是利用第2工件搬運機構 5 0b被搬運至反轉平台部30而被反轉，並被搬運被保管至 工件保管部40。 如上所述地，在曝光1批量的工件的第1面（表面）之 途中，將屏蔽更換成例如 Mil，M12，M13，…，Min， 又將如屏蔽Mil的圖案，M12的圖案，M13的圖案…， Min的圖案的不相同圖案曝光於1批量的工件的第1面 (表面）。 當完成所有工件W的表面曝光，則從屏蔽平台2拆 下表面曝光用的第1面曝光用的最後屏蔽Min，被回收至 屏蔽庫6。又此時，從屏蔽庫6取出工件W的第2面（背 面）曝光用的第2屏蔽M21，而設定在屏蔽平台2。 又，如上述地曝光工件的第2面（背面），惟與第1面 的曝光同樣，在曝光1批量的工件的第2面（背面）之途 中，將屏蔽更換成例如M21，M22，M23，…，M2n，又 將如屏蔽M21的圖案，M22的圖案，M23的圖案…，的 不相同圖案曝光於1批量的工件的第2面（背面）。 完成背面的曝光的工件W，是藉由第1工件搬運機構 5 0b，被搬運至工件搬入搬出部20。 又，在上述中，針對於在工件的第1面的曝光途中， 及在第2面的曝光途中，分別更換屏蔽的情形加以說明， 惟僅在第1面或第2面的曝光中作成更換屏蔽也可以。 -21 - 201107903 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明的實施例的兩面曝光裝置的槪略 構成的圖式。 第2圖是表示本實施例的兩面曝光裝置的具體性構成 例的圖式。 第3圖是表示工件搬運機構的槪略構成的圖式。 第4圖是表示反轉平台部的槪略構成的圖式。 第5圖是表示工件保管部的槪略構成的圖式。 φ 第6(a)圖至第6(e)圖是說明反轉平台部的動作的圖 式。 第7(a)圖至第7(b)圖是說明工件保管棚架的動作的圖 式⑴。 第8(c)圖至第8(d)圖是說明工件保管棚架的動作的圖 式（2)。 第9圖是表示具備屏蔽庫的曝光裝置的構成例的圖 式。 · 【主要元件符號說明】 1 :光照射部 2 :屏蔽平台 3 :投影透鏡 4 :工件平台 5 :屏蔽搬運機構 6 :屏蔽庫 -22- 201107903 7 :對準顯微鏡 8 a，8 b :工件把柄 1 〇 :曝光機本體 20 :工件搬入搬出部 3 0 :反轉平台部 3 1 :軋輥 3 2 :旋轉軸 φ 3 3 :保持框 3 4 :電動機 3 5 :軋輥旋轉機構 3 6 :旋轉軸 3 7 :反轉電動機 40 :工件保管部 4 1 :軋輥 42 :旋轉軸 φ 43 :保持框 44 :電動機 45 :軋輥旋轉機構 46 :第3工件搬運機構 47 :叉 48 :叉支持板 49 :叉支持板移動機構 50a :第1工件搬運機構 50b :第2工件搬運機構 201107903 5 1 :軋輥 5 2 :旋轉軸 53 :保持框 54 :電動機 5 5 :軋輥旋轉機構 60 :控制部
-24-