TW200937410A - Disc-shaped high-density recording mediums - Google Patents

Description

200937410 六 發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係_碟狀高密度記錄媒介，其 =記錄各種資訊信號如適合於近場光學讀取頭的

10 ❹ 15 【先前技術】 記錄與再製資訊信號之已知記錄媒介， 頻之已知記錄媒介，包含了磾狀 $戈視 性記_>。 了碟狀錄媒介及碟狀磁 己錄媒介中有：光碟，資訊信號例如藉由凹 ^及溝槽而被寫為顯微不規職案；相變化光碟；磁光 利用記錄膜層之光磁效應；及磁性方式寫入之信號 用的硬碟。 ^此些記錄媒介中’為了在光學記錄媒介上形成具 有與貝訊信號如資料信號或軌道舰信號相關之顯微不 規則圖案如相凹坑(phase _或預先溝槽(pre_gr〇〇ve)的 。己錄層，常使用塑膠材料之基板的射出成形⑽ molding)。尤其，利用射出成形裝置、金屬模具及壓模 (stamper)形成碟狀基板，且此時自壓模印製資訊信號。 為了讀出資訊及記錄資訊至此類光碟，通常經由特 定數值孔# NA之簡單物鏡聚焦具有波長λ之雷射光 4 20 200937410 5 ❹ 10 15 ❹ 20 束’使光束通過厚度ά»λ之光傳輸層而聚焦至記錄層 上，且物鏡與光傳輸層表面之間的工作距離WD»X。聚 焦雷射光束的光點直徑D為特定而藉以使ϋ=λ/ΝΑ。市 面上販售之光碟（CD，λ=780 nm，NA=0.45，d=l .2 mm)、 數位多功能光碟（DVD，λ=650 nm，NA=0.60，d=0.6 mm)、高解析度數位多功能光碟（HD-DVD，λ=450 nm， ΝΑ=0.65, d=0.6 mm)或藍光光碟（BD，λ=405 nm， ΝΑ=0.85, d=0.1 mm)使用此遠場光學（Far Field Optics)原 理。藉由降低λ及增加ΝΑ，可降低光點直徑D，因此可 增加數據密度。 然而在此類遠場光學中（d及WD»X)，物鏡的NA 被限制在小於1.0的值。為了更進一步地增加數據密度， ΝΑ必須要變得大於1 .〇，而此可藉由近場光學（NRF)所 實現。NRF可藉著使用所謂的固態浸沒透鏡（SIL)而達 成（見例如 S. M. Mansfield, W.R. Studenmund，G.S. Kino 及 K. Osato，“High-numerical-aperture lens system for an optical storage head，” Opt. Lett. 18, 305 ff(1993)，將其所 有内容包含於此作為參考）。例如，在由NA< 1.0之遠場 透鏡及具有折射係數nSILi材料所構成之半球形透鏡所 構成之透鏡系統中，有效之數值孔徑NAeff係由NA· nSIL 所給定，若〜江夠大則其會超過1.0。另一完成方式可藉 由直徑DAp<<X之小孔，其可利用具有極窄末端開孔的光 纖所達成（見例如 H. Briickl, Physik in unserer Zeit, 28, Jahrgang 1997 Nr.2, p 67 ff，將其所有内容包含於此作為 5 200937410 參考）或利用光學上非線性響應之薄遮罩層（所謂之超解 析度增強近場結構，見例如Tominaga等人，Applied Physics Letters，Vol 73(15) 1998 ρρ· 2078-2080，將其戶斤 有内容包含於此作為參考）所達成。 5 NFR使用在透鏡系統或孔徑之表面與光碟或記錄層 之表面之間WD«X處之電磁場。例如，在K. Saito等人， Technical Digest ISOM 2001, p 244 ff 中顯示了在工作距 ❹ 離WD<<405 nm處，SIL之漸逝波的足夠光可被耦合至 光碟，以致於該SIL的NAeff可被增加至遠場限度1.0以 10 上。又，顯示了 WD的精準度必須要被控制至數nm的 水準以獲得穩定的再現性信號。此可被瞭解為，漸逝波 的強度隨著與透鏡表面的距離作指數性衰退。為了建立 此類控制機制，T. Ishimoto 等人，Technical Digest ISOM/ODS 2002, WC3, p 287 ff 建議且導入了一 種活化 15 反饋伺服迴圈，將其所有内容包含於此作為參考。此伺 Q 服迴圈亦能夠補償來自旋轉碟之模態振盪（modal oscillation)所產生的 WD 變動（J.I. Lee 等人，Technical Digest ODS 2006 MC4, p 43 ff，將其所有内容包含於此 作為參考）。然而，由於伺服迴圈之帶寬限制，此類補償 20 僅在較低碟旋轉速度下及模態頻率<800 Hz之低頻率模 態振盪下充分作用。因此，由於例如直徑120 mm之1.1 mm厚的大聚碳酸酯碟的高頻模態振盪振幅而存在著數 據傳輸速度的限制。其中所揭露的基板並未達到本發明 的基板需求。為了改善在高碟旋轉速度下之間隙伺服控 6 ❹ 10 15 ❹ 200937410 制操作，尤其必須要改善碟的高頻模態振堡行為。 模態振盪的特徵在於其模態頻率 比於⑽)。·5而與碟的幾何條件及揚氏模:數心:二 P的比值相關（亦見式υ。品質因子 f、質里在度 ㈣-而與―相關。就其而言，二式用:)=據 舻而山// 不向阻尼’因為⑽高。 -般而吕，五與β顯示出對頻率，的明顯相依性。 "二6,908,655 Β2(所有内容包含於此作為參考)著重 广办響低頻率（第-）模態振盈，其在典型直徑12〇咖 1·1 ΠΠΠ厚之大聚碳酸酯碟上發生在約14〇犯且 場光學讀取頭相關。 亦與退 WO _48172(所有㈣包含於 =-模態頻率—)行為，且-般認為第= 頻率應較佳地落在碟的旋轉操作範n 的行為，此文獻並未揭露心 Γ L 驗部分中基於w〇 00/48172的實例 比較實例3顯示，達到低頻率需求的 决方案並無法滿足本發明的高頻需求。 醉 簡細3舰3池（所有内容包含於此作為 露了特殊的共聚碳酸醋卩達到碟的較 = =的化學結構，或敛述了&尼之低(第一)模態；= ^旦未敘述本發明所需之高頻需求，此文獻與本發明係 不相同。 7 20 200937410 5 ❹ 10 15 ❹ 20 US6,391，418B1、EP1158024A1 及 US2004/0265605 A1 (所有内容包含於此作為參考）中揭露了在低頻率（1 Hz-16 Hz)下達到較佳阻尼的更進一步解決方案，但其對 於本發明之高頻率模態振盪需求卻不足。US 6,391，418 B1揭露了由聚碳酸酯組成物所構成之資訊記錄媒介的 基板，其包含在聯苯、三聯苯化合物或其組合上之黏均 分子量介於10.000至40.000之聚碳酸酯。EP1158024A1 揭露了 一種阻尼減振（vibration-damping)熱塑性樹脂組 成物，包含：a)50-90重量％之非晶熱塑性樹脂，具有0.01 至0.04之損耗tanS及在負載情況下（under load)不低於 120 °C的變形溫度；及b)50至10重量％的甲基丙烯酸 曱酯樹脂，其中自其所模造之物件具有特定的物理特 性。US 2004/0265605 A1敘述了一種包含基板之資料的 振動阻尼儲存媒介，其物理部包含基板上之至少一聚醯 亞胺及至少一資料層。其係關於第一模態（低頻）振盪。 NFR的另一重要特徵為，自漸逝場使光經過WD«X 而粞合至記錄媒介之表面的能力，以完全利用SIL之 NAeff而將D降低至λ/NAeff。為此，記錄媒介之最上層 光傳輸層的折射係數的實部η必須要大於NAeff。此類膜 層可藉由高折射係數層（HRI塗膜）所實現，根據本發明其 可形成記錄媒介之最上層並允許漸逝場中的光耦合至記 錄媒介中。HRI塗膜亦可被用作為兩或更多再製層或記 錄層間的間隔件層。相較於最佳各別遠場光學 (NA<1.0)，為了將儲存密度至少增加兩倍，NAeff應該至 8 200937410 少>1.41，且因此HRI層之折射係數的實部n至少應 >1，41。著眼於遠場光學的先前技術並未對此說明。 US 6,875,489 Β2 或 ΕΡ 1，518,880 Α(所有内容包含於 此作為參考）著重在具有厚度d>3从瓜之光傳輸層且此 5 些實施例係關於遠場光碟如BD。利用NFR，有效的NA ff 係大於1.0，雖然將光傳輸層度d限制在較小值（例如， :=3 μιη)是困難的，但補償例如像差卻是較容易的 ❹ 等人，Proc. Of SPIE Vol. 5380, p 209 ff.)。 除了 HRI層的上述光學特性外，由於NFR光學讀取 1〇頭的極小WD，在讀取頭偶然撞擊的情況下，此類HRI 層亦應具有f堵存在記錄料中之資訊與{學讀取頭的保 護層的功能。因此當WD落在僅數1〇 nm的範圍中時， HRI層應具有高抗刮性及低表面粗糙性Ra 〇又，HRI層 ，吸收或折射係數的虛部k應低，以使得來自複數疊層 J :己：：的？射夠尚且達成高讀出穩定性，其中複數疊層 η己1 j文到可由HRI層所構成的間隔件層所分離。 先刖技術並未說明碟結構的此類複雜特性概況。 【發明内容】 20 本發明的不同實施例提供一種間隙伺服控制NFR碟 :光學記錄媒介，其，至少一記錄層與光傳輸層係依序 V 於基板上，且其中自該光傳輸層側照光以記錄及/ ^ 為汛彳°號，且該基板在2000 Hz之高頻率下滿足 9 5 ❹ 10 15 ❹ 200937410 了？氏模數與阻尼⑴因子)之特殊要求。又，本發明之不 同貫施例提供-種上述之光學記錄 射係數、抗到性及表面粗糙性的光傳輸層：折 本發明係’碟狀高密度記錄媒介，里 =記錄各種資訊信號如適合於近場光學讀ς頭的“ 透鏡服控制近場記錄與近場讀出中，必須要將 面之間的工作距離WD大幅降低至低於雷射 ’且必須要將其控制在極窄的限度内。因此， 之高頻模態振盪行為的嚴格要求以及對光傳 剧曰之；度、光學與機械特性的嚴 了碟結構的特殊選擇，1係 ：：料明顯不 決前述的問題。適g的材料所達成以解 基板ίΓϋ—實施例包含—種光學記錄媒介，其包含 i板勺二二置於基板上的記錄層與光傳輸層；其中該 由射出成形部件、具有模造表面層與模造 及其組合所構成之族群的一或多個部件； ΗΛ折旦板具有根據術以E 756·05在乃與〇 H下所里測之至少2.15 GPa之媪芘挺机^ 的（3因子。 之杨氏模數E及低於160 【實施方式】 20 200937410 本文中所用之單數扭「一 s^ 與「一或多」及該」為同義詞且可 或隨附申請專利範圍中之:一指= 5 :旨或-種以上之樹脂。因此，除非特地指： 數值應被瞭解為，可以「約」字加以修飾。 有 影響高頻下之碟模態振盪可包含 ❹ ，’其將模態振堡推移至較高頻率:藉== :特疋阻尼下的振幅；或降低其品㈣子Q(增加其阻 10 以降，振隸幅。為了克服前述問題，可將剛性或阻尼 作為單一參數或兩參數來加以改善。 15 本發明之各種實施例包含··包含了至少一記錄層及 光傳輸層的光學記錄媒介。該記錄層及該光傳輸層係 依序地形成於一基板上且光係自該光傳輸層侧照射以記 錄及/或再製資訊#號。該基板可由一射出成形部件所構 成、或具有一具有模造表面層（表面層）與模造核心層的 射出成形夾層結構、或由利用uv方式接合之兩射出成 形部件所構成。該基板具有根據ASTM E 756_〇5在25 °C 與2000 Hz下所量測之至少2.15 GPa之楊氏模數E及低 於160的Q因子。 20 該光傳輸層的較佳厚度係自1 nm至少於3000 nm， 更較佳地自200 nm至少於2000 nm，尤其自500 nm至 少於 1500 nm。 11 200937410 基板MM : 只要能滿足揚氏模數五及Q因子的要求，形成該美 板之適合基板材料的實例包含聚合物、 $ 5

10

二人充熱塑性樹脂組成物然而，咖 聚口樹脂並不限於下列實例。 ^右熱塑性樹脂本身無法滿足整體射出成形部件中之 :氏模數Ε與Q因子的要求，則可使用該熱塑性樹脂的 混合或填充組成物、或夾層結構或接合結構之熱塑性樹 脂基板的組合。 t除了揚氏模數E及Q因子的要求外，該熱塑性樹 脂、混合物或複合物應具有低吸水性、高熱阻性且應可 以普通方法如射出成形、射出壓縮成形等被製造為碟。 此類熱塑性樹脂可包含聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹 脂、聚苯乙烯樹脂及非晶聚環烯烴及氫化之聚苯乙烯。 該熱塑性樹脂亦可為由不同熱塑性樹脂所構成之混合物 及具有填充物及/或添加物之熱塑性樹脂的複合物。 聚碳酸酷樹賠： 聚碳酸酯樹脂通常係藉著芳香環二羥基化合物及碳 20 酸醋前驅物之聚合反應或熔融聚合反應所獲得。若可滿 足上述條件，可接受任何芳香環二羥基化合物。 較佳的芳香環二羥基化合物包含化學式（1)之化合 12 200937410 物： ho-z-oh ⑴ 其中z代表化學式（la)的自由基

5

10 〇 15 其中R與R2彼此獨立地代表H或Ci_C8_烷基，較 =，代表Η或C^-C4-烧基，尤其代表氫或烧基；而χ代 單=、cvcv伸烷基、c^C5·亞烷基或為Ci_C6_烷基取 ^ 乂佳地為甲基或乙基取代之C5_c6環亞烷基；若χ 代表3,3,5-三甲基環亞己基時R1與R2代表氫。 最佳的X代表單鍵、亞甲基、異亞丙基或環亞己基 亞己基’尤其x代表異亞丙基邮 的方二H經基化合物通常為已知或可根據通常已知 化合物的實例包含··對苯二齡、間苯 袈re , , ^ (羥本基）丁烷、U-雙（4-羥苯基）-i_ 本炫、1，1-雙（4-經苯基）淨p 0 0 At /A 燒、κ β ，雙（4^苯基）戍 (子本一異亞丙基）聯苯酚、9,9-雙（4-羥苯基） 13 20 200937410 5 ❹ 10

15 Q 苐1 ’I-雙（4_窥本基）-4-異丙基環己烧、2,2-雙（3 -甲基_4_ 羥苯基）丙烷、込^雙^-羥苯基）環己烷、込^雙^•羥苯 基），-3,3,5-三甲基環己烷、9,9-雙（3_甲基_4_羥苯基）苐及 α’α -雙(4-羥苯基）間_二異丙苯。較佳的二羥基化合物為 2,2-雙（4-羥苯基）丙烷（雙酚Α)、4,4_(間苯二異亞丙基）二 酚及U-雙（4-羥苯基）_3,3,5_三甲基環己烷。 聚碳酸酯樹脂可為藉由均聚合上述芳香環二羥基化 合物所獲得之均聚碳酸酯樹脂或可為藉由共聚合兩或更 夕種芳香環二羥基化合物所獲得之共聚碳酸酯。又，其 可為藉由聚合上述芳香環二羥基化合物與一或多種其他 二經基化合物所獲得的共聚碳酸酯。 藉由溶液方法之反應通常為二羥酚與光氣間的反 應，且通常在酸偶合劑及有機溶劑的存在下進行。使用 驗金屬虱氧化物如氫氧化納或氫氧化卸或胺類化合物如 °比°定來作為酸偶合劑。使用齒化碳氫化合物如二氣曱烧 或氯苯來作為有機溶劑。為了加速反應，亦可分別使用 二級胺、四級銨化合物或四級鱗化合物來作為催化劑， 其實例為三乙胺、Ν-乙基-哌啶、四正丁基銨溴化物或四 正丁基鱗溴化物。較佳地，反應溫度通常介於〇至40。〇 , 反應時間為10分鐘至5小時，在反應期間的ρΗ不低於 9 ° 在聚合反應中’通常會使用封端劑。此些被使用的 封化劑可為單功能基之紛類。此些單功能基之紛類通常 20 200937410 5

15 ❹ 20 =用！!為調整分子量之封端劑。所獲得之聚碳酸酯的終 端為單功旎基酚系基團所封閉，因此其熱穩定性會比未 以上述方式所獲得的聚碳酸酯來得優異。單功能基之酚 ，通常為酚類或較低烷基取代之酚類如酚、對-第三丁基 =酚、對-枯基笨酚、異辛基苯酚或長鏈烷基酚類如癸基 本酚、十二烷基苯酚、十六烷基苯酚、十八烷基苯酚、 一十烷基苯酚、二十二烷基苯酚及三十烷基苯酚。 以月b夠達到適當分子量的量來導入封端劑。封端劑 可單獨使用或一起使用。 聚碳酸酯或共聚碳酸酯的平均分子量的特徵在於， J用Ubbelhode毛細管黏度計毛細管型號所得到之二 氯甲烷中之聚合物溶液的相對溶液黏度。聚合物濃 ，4測係於25 〇c的溫度下完成。相對溶液黏度係 / h15至UO的範圍内，較佳地在1.18至1 25的# 圍内，尤其較佳地在！.19至1>23之間。·25的犯 藉由溶融方法之反應冑常為二經紛與石炭酸醋間的酯 =、反應’且可藉由下列方法所進行：在惰性氣體的存 丄且加熱情況下混合二羥酚與碳酸酯，並蒸餾出產生的 醇或酚。雖然反應溫度係與例如產生之醇或酚的沸點 :將2通常、12〇”5〇°C。在反應的後半部期間， 會將反應糸統的壓力降低至約丨33以〇3至13.3ρ&，以 進產生之醇或酚的蒸餾。反應時間通常為1至4小時。 在碳酸酉旨中，存在著例如^至Ci。芳基或芳燒基或 15 200937410 雔爾可被取代的@旨類，尤其是二苯基碳酸醋、 二氣二求基:碳酸醋、二萘基碳酸輯、雙(二苯基)碳酸醋、 二5曰、碳酸二乙酯及碳酸二丁酯。當然，二苯基 石反酸酯為最佳者。 不| 5 a禮為了加速聚合，亦可使用聚合催化劑。對於此些聚 :化劑而言，酯化或酯交換反應所常用的催化劑例如 可使用驗金屬化合物如氫氧化納、氣氧化卸或二幾紛之 ® 鈉或卸鹽、驗土金屬化合物如氫氧 氧化鎂、含氮之驗性化合物如四甲基氫氧化u 10氫氧化銨、三甲基胺或三乙基胺、鹼金屬或鹼土金屬之 烷氧化物、含磷之鹼性化合物如四苯鱗酚鹽或鹼金屬或 鹼土金屬之有機酸鹽、鋅化合物、硼化合物、鋁化合物、 石夕化合物、鍺化合物、有機錫化合物、錯化合物、餓化 σ物、銻化合物、錳化合物、鈦化合物或錯化合物。此 15些催化劑可單獨使用或一起使用。此些催化劑的使用量 ❹ 相對於一莫耳之作為起始材料之二煙酚，較佳地為 1x10至1χ1〇3當量’更較佳地為至5χΐ〇-4當量。 如聚合反應中異構化反應之結果，芳香環聚碳酸酯 樹脂可在聚合物中包含三或更多官能芳香環化合物或包 20 含支鏈化合物。三或更多官能芳香環化合物的實例較佳 地包含·二赵基苯酴（phlorogrucin)、五經基苯紛 (phlorogrucide)、三酚如 4,6-二甲基-2,4,6-三（4-羥基苯基） 庚烯-2、2,4,6-三甲基-2,4,6-三（4-羥基苯基）庚烷、i，3,5- 200937410 三（4-羥基苯基）苯、三（4-羥基苯基）乙烷、三 (3,5-二甲基_4_羥基苯基）乙烷、2,6-雙（2-羥基-5-甲基苯 曱基）-4-甲基酚及雙（4-羥基苯基）乙基] 苯）-α，α•二曱基苯甲基酚、四（4-羥基苯基）甲烷、雙（2,4-二經基苯基）酮、1,4-雙（4,4-二羥基三苯基曱基）苯、偏苯 酸、均苯四甲酸、二苯基酮四羧酸及其氯酸鹽。其中， 込1，1-三（4-羥基苯基）乙烷及1，1，1-三（3,5-二甲基-4-羥基 本基）乙烧較佳。 10 15 20 镇系的熱穩定劑可被添加至熱塑性樹脂中。例如， 適當的磷系熱穩定劑為亞磷酸、磷酸、亞膦酸、膦酸及 其Sa類。尤其，可指示的為亞構酸酯化合物如亞構酸三 笨酯、亞麟酸三壬基苯基酯、亞鱗酸三（2，心二_第三丁基 笨基）酯、亞磷酸三癸酯、亞磷酸三辛酯、亞磷酸三（十 八烷）酯、亞磷酸單苯二癸酯、亞磷酸單苯二辛酯、亞磷 酸單苯二異丙酯、亞磷酸聯苯單丁酯、亞磷酸聯苯單癸 酯、亞磷酸聯苯單辛酯、雙（2,6_二-第三丁基曱基苯基、) 季戊四醇二亞磷酸酯、2,2_亞甲基雙（4_6_二_第三^美土苯 基）亞磷酸辛醋、雙（壬基苯基）季戊四醇二亞磷酸醋^雙 =4-二-第三丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯及磷酸酯ς 合物如三丁基鱗酸醋、三甲㈣酸、磷酸三甲_旨、 4酸三苯醋、輕三氯苯醋、三乙㈣酸醋、鱗 甲酚醋、聯苯磷酸鄰苯酯、三丁氧基磷酸乙酯、二 磷酸酯及二異丙基磷酸酯。例如， 土 為例如四(2,二-第三丁基苯基)_4,4，·二亞苯：膦=劑 17 200937410 5 ❹ 10 15 ❹ 20 四（2/41二-第三丁基苯基）-3,3，-二亞苯二膦酸酯及雙（2,4_ 二-第三丁基苯基）-4-二亞苯膦酸酯。當然，較佳的為三 壬基苯基膦酸酯、二硬脂基季戊四醇二亞磷酸酯、雙（2,心 二-第二丁基苯基）季戊四醇二亞填酸酯、三（2,4-二-第三 丁基苯基）亞磷酸酯、磷酸三苯酯、三甲基磷酸酯、四（2,4_ 二-第二丁基苯基）_4,4，_二亞苯二膦酸酯及雙（2,4_二·第 二丁基苯基）-4-二亞苯膦酸醋。熱穩定劑可單獨使用或以 混合物胃方式使用。此些熱穩定劑的量較佳地為〇 〇〇〇1至 0.5重里份、更較佳地為〇 〇〇〇5至〇 2重量份而最佳地為 0.002至0.2重量份，相較於熱塑性樹脂組成物的1〇〇 量份。 可將習知的抗氧化劑添加至本發明之熱塑性樹脂以 避免，化。抗氧化劑的實例為酚系的抗氧化劑。抗氧化 劑的量較佳地為基於熱塑性樹脂的〇〇〇〇1至〇〇5 〇/〇。 . 可將單羥醇或多羥醇的較高脂肪酸酯添加至本發明 的熱塑性樹脂中。藉著混合單羥醇或多羥醇的較高脂肪 酸醋’在模造熱塑性樹脂時自模具的脫膜能力會改善且 在模造碟狀基板時的脫模負載會變小，藉此能夠避 狀基板變形及脫模失敗所產生的凹坑錯位。亦改盖 性樹脂的熔融流動性。 i 醇與較高脂肪酸之酯的量為基於熱塑性樹脂之001 至2重量％，較佳為〇.〇15至〇 5重量％，最佳為〇 〇2至 18 200937410 0.2重量％。 其他熱塑性樹脂、光學穩定劑、著色劑、抗靜電劑 及潤滑劑等添加劑可被有限度地添加至本發明之光碟狀 基板樹脂，以避免損害轉錄性（transcribility)以及模造碟 之水氣吸收及水氣脫附步驟中的經曲降低功效。 Ο 10 15 20 在備製本發明之樹脂組成物時應理解，聚碳酸酯樹 脂的混合及/或聚碳酸酯樹脂與其他樹脂的混合係於聚 合物溶液或模造物如顆粒或丸粒的階段進行。其不受特 疋限制。至於混合的裝置，在聚合物溶液的階段，主要 使用設有攪拌件的容器，而在模造物如顆粒或丸粒的階 段，可使用滚動機、雙滾筒混合裝置、Nauter混合裝置、 班伯里混合裝置、輥筒捏和機或擠出機。在任一情況下， 可使用任何技術而不受特定限制。 在上述的樹脂組成物中，可添加各種填充物來作為 改善剛性及振盪阻尼特性的額外成分。例如填充物可為 玻璃纖維、玻璃薄片、碳纖維、碾磨纖維、矽灰石纖維、 碳黑、奈米碳管、二氧化矽粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁 粒子、滑石、雲母及其他無機材料。亦可使用耐埶之 機填充物如芳綸纖維、聚芳醋纖維、聚苯並噻唑纖維及 芳綸粉末。使用此類成分的情況下，較佳的為滑石填 ，及石墨填充物m的添加量較佳地絲樹脂板 物之重量的1至30重量❶。 ’取 機、V· 熱塑性樹脂組成物可藉由以捏合裝置如滾動 19 200937410 混合裝置、螺旋混合裝置、班伯里混合裝置、輥筒捏和 機或擠出機混合熱塑性樹脂組成物的各個成分所備製。 更較佳地，以擠出機尤其是雙螺旋擠出機熔融各個成分 並使其揉捏在一起。 5 否烯酸谢腊： 適合的丙烯酸樹脂包含聚甲基丙烯酸曱酯或聚曱基 丙烯酸甲酯與一或多種其他共聚單體的共聚物。此類共 聚單體的實例為丙烯酸烷酯如丙烯酸曱酯、丙烯酸乙 酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸丁酯、丙稀酸 10 戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、 丙婦酸環己酯、丙烯酸十二酯、丙烯酸十八酯、丙晞酸 苯酯及丙烯酸苄酯、曱基丙烯酸烷酯如曱基丙烯酸乙 酯、甲基丙浠酸丙酯、曱基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸 丁酯、曱基丙烯酸戊酯、曱基丙烯酸己酯、曱基丙烯酸 15 辛酯、曱基丙烯酸2-乙基己酯、曱基丙烯酸環己酯、甲 ❹ 基丙烯酸十二酯、曱基丙烯酸十八酯、甲基丙烯酸苯酯 及曱基丙烯酸苄酯及其共聚物。亦可使用丙婦酸樹脂的 混合物。聚曱基丙烯酸甲酯為最佳的丙烯酸樹脂。 丙烯酸樹脂以光散射所量測的分子量Mw係較佳地 2〇 介於50,000至2,000,000克/莫耳，更較佳地係介於60,000 至1，000,000克/莫耳，最佳係介於70,0〇0至500,000克/ 莫耳，尤其是80,000至300,000克/莫耳。 此些丙烯酸樹脂亦可用來與上述聚碳酸酯混合。在 20 200937410 此情況下，基於總組成物之丙烯酸樹脂量係較佳地低於 50重量％。更較佳地係低於2〇重量％，尤其較佳地係低 於10重量％。 在與聚碳酸酯之混合物中，丙烯酸樹脂可為丙烯酸 5 彈性材料。在此情況下’其係由下列者所構成：丙烯酸 酯橡膠成分作為主要成分，若有必要時可與其共聚之曱 基丙稀酸甲酯、具有〇1至Cs烷基之丙烯酸烷酯、乙烯 © 基單體作為共聚物成分。在此類丙烯酸彈性材料中，曱 基丙烯酸甲酯的量為100重量％之彈性材料中的15至65 ίο 重量％。 丙烯酸酯橡膠包含：丙烯酸C2至Cl()烷酯，若有必 要，可與其共聚之成分如苯乙烯、甲基丙烯酸甲醋或丁 二烯。 對於丙烯酸C2至c10烧酯而言，較佳的為丙烯酸 g 乙，己酯及丙烯酸正丁酯。此丙烯酸烷酯係較佳地以5〇 重量％的量被包含於100重量％的丙烯酸酯橡膠。又較佳 地，丙烯酸酯橡膠至少為部分交聯的。可用於交聯的交 聯劑例如為··乙二醇二丙烯酸酯、丁二醇二丙烯酸酯、 乙二醇二曱基丙烯酸酯、曱基丙烯酸烯丙酯及聚丙二醇 20二丙烯酸酯。較佳地，在丙烯酸酯橡膠中使用〇·01至3 重量％之此些交聯劑。 ^作為丙烯酸彈性材料的較佳形式，其可較佳地為藉 著1合丙烯酸酯橡膠成分、甲基丙埽酸甲酯、具有Ci至 21 200937410 c8烷基基團之丙烯酸烷酯與可與其聚合之苯乙烯及乙烯 基單體的核層結構及複數層結構，若有必須可為複數膜 層的形式。此丙烯酸彈性材料可藉由任何已知的方法備 製，例如嵌段聚合、懸浮聚合、嵌段-懸浮聚合、溶液聚 5 合或乳液聚合。複數層結構亦可包含未以多階段接枝 (graft)聚合至接枝基材上的成分。 當用於與上述聚碳酸酯之混合物時，所用之此些彈 ❾ 性丙烯酸樹脂較佳地佔總成分的10重量％以下。更較佳 地，其含量為低於5重量％。 10 聚笨乙烯： 適合於本發明之不同實施例的苯乙烯樹脂包含苯乙 烯之均聚物、苯乙烯共聚物或苯乙烯熱塑性彈性體或混 合物，例如聚苯乙烯與聚苯醚之混合物。此些材料以數 種形式呈現但大多數包含：包含苯乙烯、異戊二烯及丁 15 二烯之共聚物。該共聚物包含：三嵌段如S-B-S、S-I-S、 ® S-EB-S及S-EP-S;交替嵌段共聚物如（S-Ι);分支嵌段共 聚物如（S-B)與（S-I);及三嵌段/二嵌段混合物（例如， S-B-S/S-B)。 此些苯乙烯樹脂可根據已知的聚合規則及已知的程 20 序來備製。例如，苯乙烯聚合物可藉由下列文獻中的方 法備製：Houben Weyl，Methods of Organic Chemistry，4th Edition, Vol. XIV/1, pp. 761-841, Georg Thieme-Verlag (1961)。其在市場上亦以適合的形式被販售。較佳的為 22 200937410 自由基程序，但亦可使用離子聚合程序。根據本發明所 用之聚合物的分子量Mw通常高於2000，較佳地落在 } 5000至5,000,000的範圍，尤其較佳地落在20,000至 200,000道爾頓。（以光散射所測定；cf. Ullmann’s 5 Encyclopedia of Industrial Chemistry, 4 Edition, Vol. 15, pp. 285-387, Verlag Chemie 1978) 均聚物及共聚物亦可藉由已知的程序備製（Cf. H. 0 Tauch-Puntigam, Th. Volker, Acrylic and Methacrylic

Compounds, Springer-Verlag 1967)。雖然原則上能夠藉 i〇 由陰離子聚合或基團轉移聚合來備製（亦見O. W. Webster 等人，J. Am. Chem. Soc.，105, 5706 (1983))，但 備製的較佳形式為自由基聚合。 苯乙烯熱塑性彈性體的以光散射所測定的分子量 Mw(重量平均）通常高於2000，通常落在10,000至 15 2,000,000的範圍内，較佳地落在20,000至200,000道爾 ❹ 頓的範圍内。 又，亦可使用選自非晶聚烯烴族群的聚合物。此類 聚合物係產生自環烯烴的聚合、自環烯烴的開環聚合及 自氫化之聚烯烴如氫化之聚苯乙烯系聚合物的開環聚 20 合0 聚瑗烯烴榭胳： 適合之環烯烴聚合物例如為烯烴與降冰片烯 (norbornene)結構如降冰片稀本身、四環十二烯、乙烯基 23 200937410 或降冰片二烯的聚合產物。適合的聚環烯烴樹 月:亦包含此類歸烴與降冰片烯與烯烴的共聚物，例如乙 與降冰>1烯與乙烯與四環十二烯的共聚物。例如，此 類產物係敘述於日本專利申請公開案（特開）n〇 5 292,6〇1/86、日本專利申請公開案（特開）No. 26,024/85、 本專利申叫公開案（特開）N〇i9,801/87與19,8 02/87及 EP-A 317 262與EP-A 532 337中，將上述者之所有内容 0 包含於此作為參考。 氫化之聚苯乙嬌谢跬： 10 適合之氫化的聚苯乙烯系聚合物可為線性或類星形 的分支結構。例如線性類型係敘述於JP_B 7_114〇3〇中， 例如類星形的分支結構係敘述於WO 0148031中。 亦可使用上述聚合物的混合物來作為基板樹脂。適 合的添加物如熱穩定劑、脫模劑等及填充物亦可添加至 15 丙稀酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚環烯烴樹脂及氫化之聚 ❹苯乙烯樹脂。 接合劑材料匕 接合劑材料通常為UV可固化且可旋塗樹脂，其可 由黏結劑及反應性稀釋劑及添加劑如UV引發劑或溶劑 20 所構成。典型的光引發劑（uv引發劑）為α_羥基酮 (Irgacure 184®，Ciba)，（Darocur 1173®，Ciba)或醯基膦 (Daropur TPO®，Ciba)。 24 200937410 例如，黏結劑可選自下列者之族群：氨基甲酸酯丙 烯酸酿如 Desmolux® XP 2513、Desmolux® U 100、 Desmolux® U 200、Desmolux® XP 2614 或 Desmolux® VP LS 2220, Bayer MaterialScience AG 或胺改質之聚酸丙烯 5 酸酉旨如 Desmolux® VP LS 2299, Bayer MaterialScience AG或彈性聚酯丙烯酸酯如Desmolux® LP WDJ 1602, Bayer MaterialScience AG ° 〇 氨基甲酸酯丙烯酸酯可自包含（曱基）丙烯醯基基團 之醇類與雙或聚異氰酸酯合成。合成氨基甲酸酯丙烯酸 10 酯的處理係為已知且例如敘述於DE-A-1 644 798、DE-A 2 115 373或DE-A-2 737 406中。包含（曱基）丙烯醯基基 團之醇類可為丙烯酸或甲基丙烯酸與包含一自由的羥基 基團之雙官能基之醇類的酯類，例如2-羥乙基-、2-或3-羥丙基-或2-、3-、4·羥丁基-(曱基）丙烯酸酯及其混合物。 15 且，可使用包含單一官能（曱基）丙烯醯基基團的醇類， q 或主要由此類醇所構成的產物，其係藉由η官能基之醇 類與（曱基）丙烯酸之酯化所獲得，其中該醇類可使用不 同醇之混合物因此η為大於2至4較佳為大於3之整數 或平均值，其中上述醇類的每莫耳會較佳地搭配（η-1)莫 20 耳（曱基）丙烯酸使用。 可使用包含單一官能（曱基）丙烯醯基基團之此些醇 類與ε -己内醋（epsilon-caprolactone)的更進一步產物。較 佳的為自羥（曱基）丙烯酸烷酯與ε-己内酯的產物。 25 200937410 5 Ο 10 15 ❹ 20 原則上’所有（環）脂族、脂肪族及芳香族結構皆適 合作為雙-或聚異氰酸酯，較佳的（環）脂族結構如六亞曱 基-二異氰酸酯或異佛爾酮二異氰酸酯、三甲基六亞曱基 二異氰酸酯、二-(異氰酸環己基）曱烷或其與氨基曱酸醋 _、異氰酸酯-、脲基甲酸酯_、縮二脲_、脲二酮（uretdi〇n)_ 結構的衍生物及其混合物。 原則上’胺改質之聚醚丙烯酸酯為已知，且可藉著 甲基丙烯酸與三官能基之醇類與其混合物的酯化並接著 與一級胺反應所備製。此些醇類或其混合物屬於例如甘 油或三羥曱基丙烷之烷氧基化的低分子量產物例如環 氧乙烷與具有550 mg KOH/g之OH數的三羥甲基丙烷之 反應產物。對於每莫耳的醇’較佳地使用〇 7至0.9莫耳 之甲基丙烯酸。至於與一級胺的接續反應，適合的為單 烷基胺及羥烷基胺例如羥乙基胺。所用之單烷基胺的量 等於使單烧基胺與（甲基）丙稀酸雙鍵的莫耳數比落在 〇.005:1 至 ，較佳地落在 0.01:1 至 0.3:1。 適合的聚酯丙烯酸酯為根據共沸酯化之理論已知處 理所合成的低黏度產物。尤其適合的是由α，β乙烯性未 飽合碳酸、烷氧基化之聚醚三元醇所構成尤其是丙氧化 之三元醇與丙烯酸所構成的聚酯丙烯酸酯，其中0Η基 團與羧基基團的較佳比為自12至1.6。 :乙氧基化之烷基 丙稀酸醋（Sartomer 反應性稀釋劑可選自於下列族群 丙烯酸酯如2-(2-乙氧基乙氧基）乙基 26 200937410 SR 256®，Sartomer)、及丙烯酸之單官能基酯如乙氧基化 之苯基丙烯酸酯如乙氧基化之（3)酚單丙烯酸酯 (Photomer 4039®，Cognis)、烧基丙浠酸醋如月桂基-或硬 酯基-丙烯酸酯、環脂丙烯酸酯如丙烯酸異冰片酯及雜環 5 丙烯酸S旨如丙烯酸四氫吱喃S旨。 光傳輸層： 通常光傳輸層為UV可硬化且可旋塗樹脂，其具有 ❹ 在405 nm下量測出之至少1.41的折射係數之實部。樹 脂可由黏結劑及反應性稀釋劑分子及添加劑如UV引發 1〇 劑或溶劑所構成。通常光引發劑（UV引發劑）為α-羥基酮 如1-經基-環己基-苯基-酮（Irgacure® 184，Ciba)或如2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮（Darocur 1173®，Ciba)或單醯 膦如2,4,6-三曱基苯曱醯基-二苯-氧化膦（Darocur® TPO, Ciba)。黏結劑分子可選自例如聚氨酯丙烯酸酯或聚酯丙 15 烯酸酯。反應性稀釋劑可選自下列族群：乙氧化之烷基 〇 丙烯酸酯、乙氧化之苯基丙烯酸酯、環脂族丙烯酸酯及 雜環丙稀酸S旨。 光僂輪層作為高折射係數層塗膜A(HRI): 高折射係數光傳輸層（塗膜A)可自澆鑄溶液A*所獲 2〇 得，將淹鑄溶液A*施加至基板（S)或資訊與記錄層（B)並 交聯。 成分A*(洗鑄溶液） 27 200937410 根據本發明之一實施例的澆鑄溶液A*包含下列成 分： A1 :包含奈米粒子及水與至少一有機溶劑之混合物 的懸浮液， 5 A2 :黏結劑， 及選擇性的 q A3 :更進一步的添加劑。 此處所用之奈米粒子應被瞭解為，具有平均粒子尺 寸（d5〇)小於1〇〇 nm，較佳地自0.5至50 nm，尤其較佳 ίο 地自1至40 nm，極尤其較佳地自5至30 nm。此外，較 佳的奈米粒子具有d9〇值小於200 nm，尤其小於100 nm， 尤其較佳地小於40 nm，極尤其較佳地小於30 nm。奈米 粒子在懸浮液中較佳地為單分散形式。50重量％之粒子 的直徑大於平均粒子尺寸d5Q且50重量％之粒子的直徑 0 小於此值。90重量％之粒子的直徑小於d9〇值。雷射光散 射或較佳地使用分析用超離心機（AUC)適合用以測定粒 子尺寸並顯示單分散性。AUC為熟知此項技藝者所熟 知，且載於例如「Particle Characterization」，Part. Part. Syst. Charact., 1995, 12, 148-157 〇 20 對於成分A1的備製而言（包含奈米粒子及水與至少 一有機溶劑之混合物的懸浮液），適合的為Al2〇3、Zr02、 ZnO、Y*2〇3、Sn〇2、Si〇2、Ce〇2、Ta2〇5、Si〗N4、Nb2〇5、 28 200937410 5 Ο 10 15 〇 20

Nb〇2、Hf〇2或Ti02奈米粒子的水性懸浮液，尤其適合 的是Ce〇2奈米粒子的水性懸浮液。尤其較佳地，奈米粒 子的水性懸浮液包含一或多種酸，較佳的為缓酸 RC(0)0H，其中R為Η、CV至C18-烷基（其可選擇性地 被鹵素原子較佳地為氯及/或溴所取代）、或Cs-至C6-環 烷基、C6-至C2〇-芳基或C7-至C12-芳烷基（其每一者可選 擇性地被Ci-至C4-烷基及/或鹵素原子較佳地為氯及/或 溴所取代）。R較佳地為甲基、乙基、丙基或苯基，尤其 較佳地為乙基。奈米粒子之懸浮液亦可包含礦物酸作為 酸如硝酸、氫氣酸或硫酸。奈米粒子的水性懸浮液較佳 地包含：基於酸與水之重量總份量，自0.5至10重量份 的酸，尤其較佳地自1至5重量份。例如，適合的是自 Nyacol Nano Techn., Inc.，USA所販售之奈米粒子懸浮液 NanoCeria®Ce02-ACT(利用醋酸穩定之Ce02奈米粒子 的水性懸浮液，pH值為3.0)及Ce02-NIT(利用硝酸穩定 之Ce02奈米粒子的水性懸浮液，pH值為1.5)。 來自此些水性懸浮液的部分水可被至少一有機溶劑 所取代。此部分溶劑交換係藉由蒸餾或藉由薄膜過濾、 較佳地藉由超過濾例如根據「橫流（cross-flow)」處理所 達成。橫流超過濾為一種工業級的超過濾形式（M. Mulder: Basic Principles of Membrane Technology, Kluwer Acad. Publ.，1996, 1st Edition)，其中欲過滤之溶 液（餵料溶液）以切線方式流過薄膜。用於此溶劑交換之 較佳之至少一種溶劑係選自於由下列者所構成的族群： 29 200937410 5 Ο 10 15 ❹ 20 醇類、酮類、二酮類、環醚、乙二醇、乙二醇醚、乙二 醇醋、Ν-曱基吼洛烷酮、二甲基甲酿胺、二甲基亞硬、 一甲基乙醯胺及碳酸丙烯酯。較佳係使用選自上列族群 之至少兩溶劑的溶劑混合物，尤其較佳地使用丨曱氧基 -2-丙醇及二丙酮醇的溶液混合物。尤其較佳地係使用 甲氧基-2_丙醇（MOP)及二丙酮醇（DAA)的溶液混合物， 較佳的比例係自95:5至30:70,尤其較佳地係自9〇:1〇 至50:50。水可存在於所使用的溶液中，較佳地以上至 2〇重量％的量’更較佳地以5至μ重量％的量。 、在本發明的其他實施例中，奈米粒子的懸浮液可在 亡述有機溶劑之至少一種中以溶劑交換方式所備製，接 著添加另一溶劑，此另一溶劑係選自於由下列者所構成 的族群：醇類、酮類、二酮類、環醚如四氫呋喃或二噁 烷、乙二醇、乙二醇醚、乙二醇酯、N—曱基吡咯烷酮、 二甲基甲酿胺、二甲基亞職、二甲基乙醯胺、甘油醇縮 丙酮、碳酸丙烯酯及乙酸酯如乙酸丁酯。在此實施例中， 水亦可存在於所用的溶劑中，較佳地以上至重量％的 量’更較佳地以5至15重量％的量。 較佳地使用由聚醚砜所製成的超過濾薄膜，其較佳 地具有小於2〇〇,〇〇〇 D之截止值（cut_〇ff)，較佳地小於 150,〇〇〇 D，尤其較佳地小於10〇,〇〇〇 D。薄膜的截止值 (⑶t-off)被定義為：被保留之分子的對應尺寸（例如， 200,000 D及更大），但較小尺寸之分子與粒子能夠通過 30 200937410 (“Β_ Principles of Membrane Techn〇1〇gy，，，μn

Khmer Academic Publishers，p Editi〇n)。此類超過遽薄 膜保留甚至高流速下的奈綠子但使溶_過。根 發明’溶劑交換係藉由持續過遽所進行，通過的水會被 等量的溶劑或溶劑混合物所取代。聚合物薄膜的另一種 選擇為，亦可在溶劑交換的處理步驟中使用陶㈣膜。 Ο 10 15 ❹ 根據本發明此類實施例的處理的特徵在於，以上 有機溶劑或溶劑混合物取代水的量不會低於所得之夺 2子懸浮液（成分A1)之5重量％的限度值。較佳地，以 有機溶劑或溶航合物取代水俾使所 „具有自5至50重量%之水含量’較佳地； 重1¾，尤其較佳地自1〇至2〇重量％。所得之夺米 ^懸舌浮液較佳地包含自U5G重量％，更較佳地自5 =重1。/。，尤其較佳地自15至35重量％的奈求粒子（下 文中被稱為奈米粒子固體分量）。 、容液ΐ ί f Γ槽(_brane ,處之奈米粒子懸浮液的 換較久，則低於5重量％的水含量會導致粒子發 生的塗膜無法滿足單分散性及高透明度 旦 右百機糸奈米粒子懸浮液中的水含 :盈、二二重人里在接續步驟令將使用的黏結劑可能 _液中而得到澄清溶液，因此在上 ^二斯月況下（即’奈米粒子結塊的情況下，或黏結劑盔 谷解而得到澄清溶液的情況下），所得的塗膜皆無法滿 20 200937410 足高折射係數η及高透明度的雙重要求。 作為黏結劑（成分Α2)，可使用非反應性熱力乾燥熱 塑性塑膠如聚曱基丙烯酸曱酯（Elvacite®, Tennants)或聚 乙稀醋酸S旨（Mowilith 3 0®，Synthomer)，及在塗佈後可藉 5 由化學反應或藉由光化學反應而得到高度交聯之聚合物 基質的反應性單體成分。例如，交聯係由UV照射所達 成。藉由UV照射所達成之交聯尤其能較佳地增加抗刮 j 性。此些反應成分較佳地為可以UV交聯的丙烯酸酯系 統，如例如在 P.G. Garratt in “Strahlenhartung” 1996，C. i〇 Vincentz Vlg., Hannover中所述者。黏結劑（成分A2)較佳 地選自由聚乙烯醋酸酯、聚曱基丙烯酸曱酯、聚氨基曱 酸酯及丙烯酸酯所構成之族群的至少一者。黏結劑（成分 A2)尤其較佳地選自由下列者所構成之族群的至少一 者：己二醇二丙烯酸酯（HDD A)、三丙二醇二丙烯酸酯、 15 二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯 》 （DPHA)、雙三羥曱基丙烷四丙烯酸酯（DTMPTTA)、三-(2-羥乙基）-異氰酸酯三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、 三-(2-羥乙基）-異氰酸酯三丙烯酸酯及己二醇二丙烯酸 酉旨（HDDA)。 20 在洗鑄溶液中被用作為更進一步之添加劑的成分 (成分A3)較佳地為選自由光引發劑及熱引發劑所構成之 族群的至少一者。基於洗鑄溶液之複數成分重量的總份 數，使用上至3重量份數的添加物（成分A3)，較佳地自 32 200937410 0·05至1重里知數’尤其較佳地自至〇 $重量份數。 常用的光引發劑（UV%發劑）為經基酮（Irgacure⑧184· 早醯基膦（Dar〇c_ Tp〇, Ciba)。引發uv聚合反 應所萬的能量的量（UV照射的能量）係落在塗膜表面之 5約自〇'至4 J/Cm2的範圍内’尤其較佳地落在自2.0至 ^田0 "cm的範圍内。亦適合作為更進—步之添加劑之所 «月的塗佈添加劑，例如係由Byk/A^na(46483 Wesel， ❹ Germany)#商標名Βγκ所供應者如Βγκ 344⑧。 根據本發明此實施例之高折射係數塗膜所用的澆鑄 溶液Α*可以下列方式備製：將至少—黏結劑（成分α2) 與選擇性的更進一步添加劑（成分A”溶解至可包含水之 1機^或溶劑混合物中；所得的溶液（下文中被稱為黏 二，/合液）係與成分A1混合且選擇性地過濾及除氣。在 '佳實加例中，成分A丨與黏結劑溶液包含相同的有 15 機溶液或溶劑混合物。 ❹ 澆鑄溶液A*較佳地具有下列成分： 、自12至30重量份數，較佳自13至25重量份數， 尤其較佳地自14至19重量份數之奈米粒子固體分量； 自2至8重量份數，較佳地自2 5至5重量份數之 2〇 黏結劑； 自〇至3重量份數，較佳自〇 〇5至i重量份數，尤 其車父佳地自0.1至5重量份數之更進一步添加物（成分 33 200937410 其較佳地自2 ο至^ 6\數t m1=2 7重量份數，尤 自32至79重量份數， 尤其較佳地自50至63重量 較佳自42至70重量份數 份數之有機溶液， 5 Ο 10 15 複數成分之重量份數總和被標準化為1〇〇份。 洗鑄:容液Α*通常具有自1〇至5〇重量％，較佳自Μ ^ 28重篁％的固體含量。澆鑄溶液Α*的固體含量為成 /刀A2、A3及奈米粒子固體分量的總和。在賴溶液中 黏結劑（成分A2)對奈米粒子分量的比值係較佳地介於 40:60至7:93，比值尤其較佳地介於26:74至以⑽。 塗膜A的膜層厚度通常可自lnm至3〇〇〇nm，較佳 地自200 nm至2000 nm，尤其較佳地自5〇〇11111至15〇〇 nm。膜層厚度可藉由澆鑄溶液中的固體含量來加以調 整’尤其是在旋塗處理的情況下。#期望獲得高膜層厚 度的塗膜，澆鑄溶液使用較高固體含量；若期望獲得較 薄的塗膜，澆鑄溶液使用低固體含量。 塗佈產物之塗膜A的特性係藉由下列方式所測定： 在自400至410 nm的波長下（即藍光雷射的波長範圍）量 測複數折射係數的實部η及虛部k。表面粗糙度係藉由 AFM(原子力顯微鏡）量測出Ra值。為了測定抗刮性，利 用尖端半徑50 μιη的鑽石針在塗膜上方以4〇 §的重量及 1.5 cm/s的前進速度移動，量測所得的刮痕深度。各個 量測方法的細節係於塗佈產物之製造與測試的章節中提 34 20 200937410 供0 基板s : 基板（8)包3自上述聚合物並以上述之處理所製造 藉著依序地施加至少一記錄層及一光傳輸 層至該基板，形成光學記錄媒介。 基板的芻诰虚T9 · ❹ 為了自上述樹脂製造光學記錄媒介之基板，可使用 具有麼模之射出成形設備（包含射出壓製成形設備），藉 由射出成形方式形成光學碟狀基板，其中壓模具有心 10光學記錄媒介所需規格與表面精確度的凹坑及溝槽。碟 狀基板之厚度可為0.3至2 0醜。此射出成形設備可為 k用，備但較佳地為自一材料所製成的設備，此材料 之滾筒及螺旋對樹脂具有低附著性、抗腐蝕性及抗磨耗 性以抑制碳化物生成並改善碟狀基板的可靠度。根據本 Q 發明的目的，模造步驟的環境較佳地應儘可能地潔淨。 亦重要的是，欲模造之材料應完全乾燥以去除水份，且 應避免可能會造成熔融樹脂分解的場所。 本發明之光學碟狀基板所用的樹脂較佳地具有充分 的高流動性，其在射出成形或射出壓製成形期間有利於 20 轉錄。 、 光學記錄媒介可藉著將至少一反射膜層形成於本發 明之基板的至少一侧上而製造。反射膜層的材料為元素 35 200937410 5 ❹ 10 15 ❹ 金屬或複合金屬。單獨使用A1或Au ’或較佳地包含0 5 至10重置〇/❶較佳地以3.0至1〇重量％之Ti的A1合金， 或匕各至重量％之Cr的A1合金。反射膜層可藉 由物理氣相沈積、離子束濺鍍、DC濺鍍或RF濺鍍所形 成對於本發明之預先錄製（prerec〇rded)光學記錄媒介而 吕，僅此金屬薄膜（反射膜層）便已足夠，但除了反射膜 層外可形成記錄層（在可重覆寫入或可重覆記錄及可重 覆記錄之光學記錄媒介甲為相變膜層及染料，在磁光_ 光學記錄媒介中為磁光記錄膜）及光傳輸層以獲得本發 明之可重覆寫入或可重覆記錄之光學記錄媒介。 相變膜層記錄材料層係由單一硫屬材料或硫屬材料 複合物所製成。尤其，可使用Te、Se或硫屬化合物系材 料如 Ge-Sb-Te、Ge-Te、In-Sb-Te、In-Se-Te-Ag、In-Se、 In-Se-Tl-Co、In-Sb-Se、Bi2Te3、BiSe、Sb2Se3 或 Sb2Te3。 使用具有包含Kerr效應與法拉第效應之磁光特性的 垂直式磁化膜如Tb-Fe-Co之非晶相合金薄膜，作為磁光 記錄膜層。 光傳輸層係形成於記錄層上。光傳輸層之形成材料 會傳輸雷射光，其係更詳細更具體地說明於光傳輸層之 一般敘述及將光傳輸層作為高折射係數層（HRI)的一般 敘述章節中。 形成光傳輸層的處理係更具體地敘述於光傳輸層的 製造處理及將光傳輸層作為高折射係數層的製造處理章 36 20 200937410 節中。又，光傳輸層的厚度被限制在1 ηιη至3000 nm， 較佳地自200 nm至2000 nm，尤其較佳地自500 nm至 1500 nm，以抑制球面及色彩相差。 5 Ο 10 15 Ο 上列已敘述了本發明之光學記錄媒介的基板結構。 介電層可被添加至上述結構中以控制光學記錄媒介的光 學特性及熱力學特性。在此情況下，可依序將光反射層、 第一介電層、記錄層、第二介電層及光傳輸層形成於基 板上。又，本發明上述之光學記錄媒介並不僅限於在基 板上由上述不同膜層所構成的單一膜層疊層。其亦可具 有，每一膜層皆由亦可用於光傳輪層之材料所製成之間 隔層所分離的複數層疊層。 單一成分射出成形處理（1-κ模造）： 在下文中，將敘述適合用於本發明一實施例之光學 記錄媒介之標準1-K模造基板的製造，此方法係用於實 驗部分，只要基板能滿足揚氏模數五及2因子的要求， 此方法並不限制本發明之範疇。利用配有模具AWM23 13 及DVD-ROM壓模之Arburg Alldisc自每一丸粒射出成 形直徑120 mm且厚度1.2 mm的碟狀基板。或者，使用 配有夾板、Philips CD-模具及DVD-ROM壓模之Arburg 370 U 700 30/30 2-K射出成形設備。為此，模具使用改 造過之滑道以適應夾板。對於1-Κ模造基板而言，將相 同樹脂的丸粒饋送至設備中。 為了形成對應的光學記錄媒介’藉由物理氣相沈積 37 20 200937410 (Leybold A1100)或 DC 濺鍍（Reuter LP 800)將反射層（100 nm Ag)形成於該1-K模造基板上。根據上述處理將HRI 型的光傳輸層形成於該反射層上。 為了形成根據ASTM E 756-05之揚氏模數e及品質 5 因子Q之量測用的測試桁樑（test beam)，可自光學記錄 媒介之各個基板、或被記錄層疊層所覆蓋的該基板、或 被記錄層疊層與光傳輸層所覆蓋的該基板切除桁樑，或 ❹ 自本發明之該基板所用的各別樹脂直接射出成形測 試街標。 10 15 ❹ 兩成分夾板射出Μ形處理<2-Κ埴；. 在下文中，將敘述適用於根據本發明實施例之光學 記錄媒介中之標準2-Κ夾置式模造基板的製造方法，此 方法係用於實驗部分，只要基板能滿足揚氏模數五及g 因子的要求，此方法並不限制本發明之範疇。使用配有 夾板、Philips CD_模具及 DVD-R〇M 壓模之 Arburg 37〇 口 700 30/30 2-K射出成形設備，自每一丸粒射出成形直徑 120 mm且厚度h2 mm的碟狀基板。為此，模且使用改 造過之滑道以適應夾板。對於2_κ模造基板而古，將不 同樹赌的丸粒料至設財，此些不__應形成核 二：係由-種樹脂所構成而兩表皮層係由另一種樹脂所 心基板。核心層厚度與表皮層厚度的比例 要係由劑里材料的相對量所控制。在第一射出 層樹脂被射人模具的腔室中，在第二射㈣核心層被射 38 20 200937410 入模具的腔室中，而在第三射出時洗鑄口被表皮層材料 再次密封。為了達到均勻的核心層厚度，較佳地選擇樹 脂與處理溫度，俾使表皮係由具有較高流動性的樹脂所 形成。 5 為了形成各個光學記錄媒介並切除楊氏模數五及品 質因子Q之量測用的測試桁樑，除了測試桁樑的直接1-K 射出成形外，使用單一成分射出成形處理（1-K模造）中所 0 述之相同程序。 UV-接合處理（UV接合）： 10 在下文中，將敘述適用於根據本發明實施例之光學 記錄媒介中之標準UV接合基板的製造方法，此方法係 用於實驗部分，只要基板能滿足揚氏模數五及β因子的 要求，此方法並不限制本發明之範疇。使用配有來自 Axxicon模具之ST-模具及DVD+R或DVD-R壓模之連 15 接至 Singulus Streamline II DVD-R 的 Singulus E Mould © DVD-R設備，自每一丸粒射出成形直徑120 mm且厚度 1.2 mm的碟狀基板。UV接合基板係使用上述Singulus Streamline II DVD-R之下游處理，在關閉染料分散與金 屬化功能但啟動UV接合功能時，自兩0.6mm厚的碟所 20 製成。為此，UV接合材料被饋送至Singulus Streamline II DVD-R接合劑槽。利用下列設定而完成旋轉臺上的 UV接合劑分散及UV硬化，以達到指定的接合層厚度： 39 200937410

接合層厚度： 〜90 μιη 〜40μιη 旋轉速度1 : 1800 RPM 4500 RPM 旋轉速度2 : 2600 RPM 6500 RPM 接合劑之劑量： 1.2 gr 0.6 gr 照射時間： 1.5秒 0.9秒 基底功率： 1.8 kW 1.8 kW 最大功率： 4.0 kW 4.0 kW 槽溫度： 34 °C 34 °C 針溫度： 34 °C 34 °C ίο 或者，可利用實驗室旋塗設備（Karl Suss CT 62)，在 設備上夾持一 0.6 mm之碟，在200 RPM之低轉速下以 注射器在被夾持之碟的内圓周處分散UV接合材料，以 自兩0.6 mm厚之碟製造UV接合基板。第二0.6 mm厚 之碟被放置於該第一被夾持之碟的上部上，接著在1500 15 RPM下旋轉該旋塗設備8秒以將UV接合材料分散於兩 0 碟之間。 為了形成各個光學記錄媒介並切除楊氏模數五及品 質因子Q之量測用之測試桁樑，除了測試桁樑的直接1-K 射出成形外，使用單一成分射出成形處理（1-K模造）中所 20 述之相同程序。 光僂輪層的製造處理： 可藉由旋塗將樹脂施加至基板表面或施加至資訊與 記錄層的表面。接著在UV曝光設備上進行樹脂交聯， 40 200937410 例如：為達此目的，將已塗佈過之基板放置於傳送帶上， 而傳送帶以約1米/分的速度通過UV光源（水銀燈，80 w)。亦可重覆此處理以影響每cm2的輻射能量。較佳地 為至少1 J/ cm2的輻射劑量，更較佳地自2至1〇 j/ cm2。 5接著，已塗佈過的基板會較佳地受到熱空氣之熱後處 理’例如於60。(：至12〇 〇c下自5至3〇分鐘。 之光傳輸層的智诰盧採： ❹ 以下列方式備製塗膜（Α): 1)以至少一有機溶劑取代水性奈米粒子懸浮液中所 1〇 包含的一些水，俾使所得之奈米且子懸浮液（成分 Α1)具有自5至50重量％之水含量， π)將至J 一黏結劑（成分Α2)添加至奈米粒子懸浮液 (成分Α1)中以得到澆鑄溶液（Α*)， iii)將該澆鑄溶液（Α*)施加至一基板（s)或施加至一資 15 訊與記錄層（B)，及 ❹ iv) #由熱或光化學方法來交聯該洗鑄溶液(八巧。 較佳地，在步驟U1)後，自被澆鑄溶液（A*)所覆蓋之 =板（s)完全或部分移除剩餘溶劑及/或對步驟iv)後所獲 得之塗膜施行熱後處理。 20 &選擇性地利用超音波處理洗鎊溶液A*上至5分鐘， 車乂佳地自10至60秒及/或經由較佳地具有〇 2 薄膜 =如’ RC帛膜’ Samrius)之過濾、裝置過錢禱溶液 。施加超音波處理可破壞可能存在的奈米粒子結塊。 41 200937410 澆鑄溶液被施加至基板表面或資訊與記錄層的表 面。在較佳地藉由旋轉移除多餘的澆鑄溶液後，澆鑄溶 液會殘留，基板上’殘留部分的厚度絲決於洗鎮溶液 5 ❹ 10 15 ❹ 20 的固體3量’而在旋塗的情況下會取決於旋轉條件。可 選擇性地，較佳地藉由熱處理而移除包含在澆鑄溶液中 ，部分或全部溶劑。接下來利用熱處理（例如，使用熱空 氣）或光化學方法（例如，uv光）來進行澆鑄溶液或殘留 之澆鑄溶液的交聯。為了達到此目的，將已塗佈過之基 板放置於傳送帶上，而傳送帶以約1米/分的速度通過 UV光源（水銀燈，8〇w)。亦可重覆此處理以影響每cm2 的輻射能量。較佳地為至少i " cm2的輻射劑量，更較 ，地自2至1〇 J/cm2。接著，已塗佈過的基板會較佳地 又到熱空氣之熱後處理，例如於60。(：至120 0C下自5 至3 0分鐘。 根據本發明更進一步地提供光傳輸層的製造處理， 其包含下列步驟： 0 備製至少一有機溶劑中的單分散奈米粒子懸浮 液 /、自水性奈米粒子懸浮液開始，移除水性奈 米粒子懸浮液中的水並同時以至少一有機溶液來 取代水’俾使奈米粒子懸浮液具有自5至50重量 %之水含量， i)將至夕一黏結劑（成分A2)與選擇性的更進一步添 加劑（成分A3)添加至奈米粒子懸浮液（成分A1)中 以得到澆鍀溶液（A*)， 42 200937410 5 ❹ 10 15❹ 20 1U)將自ii)所獲得的澆鑄溶液施加至一基板或資訊與 s己錄層（B)， lv)較佳地藉由熱處理而選擇性地移除澆鑄溶液中所 包含的部分或全部溶劑，以得到基板上的殘留層， v) 藉由熱處理或光化學方法而使澆鑄溶液或殘留層 交聯，及 V1) 較佳地在自60至120 °C下選擇性地對塗膜進行 熱處理。 測試程序之說明： 1 ‘楊氏模數五與品質因子2的測定 為了測定材料在自約10 Hz至10 KHz之頻率範圍内 的楊氏模數五與阻尼相關因子以品質因子），使用與 ASTM E 756-05(圖1)中所述者類似的設置。此量測原理 係基於待測材料之振盪桁樑之響應頻率丸的值。為了激 發響應頻率，桁樑被夾持於壓電振動儀的一侧，壓電振 動儀係受到範圍自1 miIz至1〇 KHz之類比白噪音訊號 所驅動。記錄利用雷射-都普勒-振動計在未被壓電振動 儀所夾持之桁樑尖端處所量測到之桁樑對於該激發的反 應（例如，速度對頻率此反應係被標準化至例如被夾 持至壓電振動儀之松樑末端處的激發速度對頻率。 方程式1 43 200937410

Q Μ其中： 方程式2 、Pa為單位之桁樑材料的揚氏模數 以Hz為單位之握f △/«mz & ^ (m〇de n)的共振頻率 c , 之模式n的半功率全頻寬（FWHM) 〇 ίο Γ5 未夾持（均句）柯樑之模式η的係數 以m為單位之桁樑長度 «=模式數、2、3.... 2=桁樑材料的品質因子，無單位 /7以kg/m3為單位之桁樑的質量密度 或可二可自根據上述程序所製造*之碟切除桁樑， ^可射出成形形成衔樑。此敘述不應限制製造街襟之方 法，讀樑厚度之方向所視之膜層結構至少為相同的。 桁樑之寬度W被選擇為0.013 m及長度/，俾使丑振 率以符合於被測頻率範圍10 Hz至10kHZ的方式=以 選擇。在被測Λ低於2000 Hz與被測Λ+/高於2〇〇〇 Hz 之間，利用自方程式1與方程式2所擷取出之各個值， 藉由線性内插計算出2〇〇〇 Hz下的五與β值。 2.利用AFM量測之凹坑高度 凹坑南度係利用原子力顯微鏡於輕敲接觸模式 (tapping mode)下所測定0 20 200937410 3.利用AFM之表面粗糙度 表面粗糙度被指定為Ra，係根據ASTM E-42.14 STM/AFM利用原子力顯微鏡於輕敲接觸模式（tapping mode)下所測定。 5 4.質量密度 質量密度P係利用Mettler密度儀Mettler AT 250 H66765於室溫下以乙醇作為浸泡液體，在碟所切除的樣 ® 品上測定。或者，自碟切除已知寬度不、已知高度开與 已知長度/之碟的矩形方塊。碟之矩形方塊的質量w係 ίο 藉由天科(例如，Mettler AT 250)稱重測定，而ρ係藉由 p =m/(/.丑· 〇所計算出。 5. 接合劑厚度之測定 以Schenk Prometheus 140離線掃描儀在DVD基板 模式下量測兩半碟的厚度A與4。以Schenk Prometheus 你 140離線掃描儀在CD基板模式下量測已接合之碟的總 厚度 <。接合劑的厚度心係自該些厚度並藉由下列所計 算出。 db= d【八di+d2) 方程式3 6. 測量核心層厚度4與表皮層厚度與心2 20 兩表皮層厚度與^s2及核心層厚度4係藉由立體 顯微鏡於碟之橫剖面的薄切片上所測定。 45 200937410 7. 傾斜測量 利用SCheiikPrometheus 140離線掃描儀來測量碟傾 斜。 、 8. 複數折射率之測量 5 塗膜之複數折射率的實部《及複數折射率的虛部 无(下文令亦被稱為吸收常數幻係自其穿透與反射光譜所 $ 獲得。為了獲得此些光譜，以旋塗方式自稀釋溶液將約 100-300 nm厚之塗膜施加至石英玻璃載具上。自STEAG ETA-Optik、CD-量測系統ETA_RT之光譜儀量測此膜層 10結構之穿透及反射光譜，接著將塗膜厚度及/2與々的光 譜相依性回歸為量測出的穿透與反射光譜。此回歸係利 用光譜儀的内部軟體所完成，其需要石英玻璃基板之乃 與无的光譜相依性，而此相依性係由先前於空白量測中 所測疋。A：係以下式而與光強度的衰減常數^相關： k5 ^ ,_λ·α 方程式4 其中λ為光之波長。 9.抗刮性之量測 為了判定碟狀基板上之塗膜的抗刮性，利用尖端半 20 徑50#m的鑽石針施加40g重量並以1.5 cm/s的速度前 進，由内至外’在已塗佈基板的徑向方向上產生刮痕。 使用自Tencor所販售之Alpha Step 500段差輪廓儀來量 46 200937410 測刮痕深度。此刮痕深度被取作為抗到性的量測值。小 刮痕深度值意味著對應塗膜的高抗刮性。 10. 塗佈溶液之水含量的量測 θ塗佈溶液的水含量係以卡爾費雪（Karl Fischer)法測 5 量〇 11. 光傳輸層之厚度量測 Ο 對於厚度範圍1 nm至1500 nm而言，以應用至本發 明之光學錄媒介之基板的相同處理將光傳輸層施加至利 用工白壓模（無凹坑與溝槽存在）所模造出的透明ΒρΑ聚 1〇碳酸酯CD基板。自STEAG ETA-Optik、CD-量測系統 E+TA-RT之光譜儀量測此膜層結構之穿透及反射光譜接 著將塗膜厚度回歸為量測出的穿透與反射光譜。此回歸 係利用光譜儀的内部軟體所完成，其需要聚碳酸酯基板 之《與A的光譜相依性，而此相依性係光傳輸層的”與 ^ 是及由先前於空白量測中所測定，而光傳輸層的η與无 係根據複數折射係數01+认之測量敘述所測定。對於 ，度範圍150〇11111至15〇〇〇〇nm而言，以具有模型（m〇dui) 「藍光/數位視頻記錄（DVE)光碟之ETA_DVR量測系統」 之CD-畺測系統ETA-RT測量被施加至光學記錄媒介之 2〇基板的光傳輸層。對此，需要光傳輸層之複數折射係數 的實部π ’其係根據複數折射係數w*=w+iA：之測量敘述所 測定。 現將參考下列非限制性實例而更進一步詳細地說明 47 200937410 本發明。 [實例] 若施加反射層，以DC濺鍍（Reuter LP 800)將100 nm 5 之反射層（b)Ag形成於基板（S)上。 若施加光傳輸層，基板（S)上之反射層上部上之光傳 u 輸層係以下列成分與程序所獲得： 成分A.0 :

Ceria Ce02-ACT® : Ce02之水性懸浮液：20重量％ 1〇 Ce02奈米粒子，於77重量％水及3重量％醋酸中，懸 浮液pH值：3.0，懸浮Ce02奈米粒子之粒徑：10-20 nm， 比重：1.22 g/ml ’ 黏度：10 mPa*s，製造商：Nyacol Inc.， Ashland，MA，USA。 成分A.2-1 :

Q 15 黏結劑：雙季戊四醇五-/六-丙烯酸酯（DPHA，

Aldrich) 〇 成分Α·2_2 . 黏結劑：己二醇二丙稀酸S旨（HDDA, Aldrich)。 成分A.3 : 2〇 UV光引發劑：Irgacure® 184(1-羥基-環己基-苯基 綱)，Ciba Specialty Chemicals Inc.，Basel，Switzerland 〇 48 200937410 下列成分在實例中係被用作為有機溶劑： 1-曱氧基-2-丙醇（MOP)，製造商：Aldrich 二丙酮醇（DAA)，製造商：Aldrich。 水性Ce02奈米粒子懸浮液（成分A.0)係藉由下述之 5 橫流超過濾而轉變為包含水與MOP(成分A.1)之奈米懸 浮液：

> 橫流超過濾（UF)使用具有UF薄膜卡盒（PES，MW 100,000)之自 PALL(Centramate OS070C12)所販售之薄膜 模組。渗透作用發生於壓力2.5 bar，含水的滲透物被移 10 除且持續減少的留存物被醇類溶劑1-甲氧基-2-丙醇 (MOP)所取代。使用了 6.5升之成分A.0。如下表中所示， 在不同長度的三個循環後終結過濾，因此獲得有機溶劑 MOP與水之混合物（成分A. 1)中的奈米粒子懸浮液。 表1 :成分A. 1之組成與特性 成分 滲透時間 [小時:分鐘] 滲透量 [升] 留存物的水含量υ [重量％] 固體含量 [重量％] A.1 15:45 13.2 12.3 30.4 15 1 )由卡爾費雪滴定所測定 2)包含3重量％醋酸 藉著混合溶液A與溶液B獲得了具有10重量％水含 量的澆鑄溶液（成分A*): 溶液A :利用攪拌，在108克溶劑DAA中溶解25 49 200937410 克成分A.2-1與6.2克成分A.2-2。接著添加2.35克的成 分A.3以形成澄清溶液。 溶液B :在玻璃燒杯中，將54克的溶劑DAA添加 至435克的成分A. 1並攪拌此混合物，藉此形成透明的 5 淡黃色懸浮液，其以超音波處理30秒且於此期間添加 3 2.5克的水。 混合溶液A與B，接著再次以超音波處理30秒並以 ❹ 0_2//m的過濾器（MinisartRC薄膜）過濾。被計算出之澆 鑄溶液（成分A*)的組成係如下所示： 10 表2 :逢鑄溶液成分A*之組成與特性 成分之重量％ 成分 A.2-1 DPHA 3.77 成分 A.2-2 HDDA 0.94 成分A.3 、 0.35 CeO?) 19.94 MOP 20.27 DAA 44.70 水 10.02 固體含量[重量％]1 2 25.0 50 1 自成分A.1所得到之奈米粒子固體（此處為Ce02)分量 2 每一澆鑄溶液之所示固體含量為成分A.2-1+成分 A.2-2+成分A.3 +奈米粒子固體分量（Ce〇2)的總和 200937410 在405 nm下複數折射係數之實部《被測定為1.84 ’ 而在405 nm下複數折射係數之虛部无被測定為0.004。 為了將塗佈溶液（成分A*)施加至碟狀基板（s)上的 反射層（B)上’以下列方式旋塗成分A* :在240 RPM之 5 低轉速下在2.1秒的期間内以注射器在被夾持之碟的内 圓周處計量供給成分A*，在750 RPM下在3.5秒的期間 内將成分A*分散至碟的總面積上’在1〇 RPM下在40 ❹ 秒的期間内調整已被分散的成分A*，旋轉至3000 RPM 的高轉速在40秒的期間内移除過多的成分A*。利用水 1〇 銀燈在5.5 J/cm2下交聯該塗膜。光傳輸層的剩餘厚度為 730 nm ° 比較實例1 根據單成分射出成形處理Ο-κ模造）中所述之程 <5 序，即本發明之光學記錄媒介之標準1-K模造基板的製 造方法’自雙酚A聚碳酸酯（BPA-PC，相對溶液黏度1.202) Makrolon OD 2015®於設有模具 A WM2313 與 DVD-ROM 壓模之Argurg All disc射出成形設備上’模造出具有120 mm直徑之1.2 mm庠的碟。為了形成用以量測根據ASTM 20 E 756-05之楊氏模數五與品質因子2的測試桁樑，自各 個碟切除長度/= 114 mm，厚度//= 1.2 mm且寬度12.7 mm 之桁樑。利用 Mettler 密度儀 Mettler AT 250 H66765 測定出質量密度為1.190 g/cm3。在2000 Hz下測定之楊 51 200937410 氏模數五與品質因子2為五=2.53 GPa而0=167 ° 比較實例2 根據單成分射出成形處理（1-K模造）中所述之程 5 序，即本發明之光學記錄媒介之標準1-K模造基板的製 造方法，自聚苯乙烯（CAS-no. 298-07-7，分孑量I40000 道爾頓，Aldrich/Germany)於Argurg 370射出成形設備 〇 上，直接射出成形模造出具有13.1 mm寬W且81 mm 長/之1.64 mm厚的測試桁樑。利用Mettler密度儀 ίο Mettler AT 250 H66765 測定出質量密度為 1.014 g/cm3 ° 在2000 Hz下根據ASTM E 756_05所測定之楊氏模數五 與品質因子0為五=3.28 GPa而0=175。 比較實例3

Qs 根據單成分射出成形處理（1-K模造）中所述之程 序，即本發明之光學記錄媒介之標準1-K模造基板的製 造方法，自具有溶液黏度1.202及20重量％之碳纖維（碳 纖維 Tenax-U 型 234, Toho Tenax Europe GmbH Wuppertal Germany)的雙酴A製得之聚碳酸酯組合物（組合物4)， 20 於Argurg 370射出成形設備上，直接射出成形模造出具 有13.1 mm寬W且81 mm長/之1.64 mm厚的測試桁樑。 利用Mettler密度儀Mettler AT 250 H66765測定出質量 52 200937410 密度為 1.206 g/cm3。在 2000 Hz 下根據 ASTM E 756-05 所測定之揚氏模數五與品質因子2為£=6.18 GPa而 0=170。 5 e 10 15 實例1(基板） 組合物（組合物1)藉由下列方式由79_95重量％之具 有溶液黏度為 1.202之BPA-聚碳酸酯（Makrolon OD 2015®，Bayer Materialscience)、5 重量 ％之聚曱基丙婦酸 曱酯（PMMA 6N®，Degussa)、15 重量％之滑石（Finntalc M05SL®, Mondo Minerals，Helsinki/Finland)及 0.05 重量 %之單十八酸丙三醇醋（Dimodan，Danisco/Germany)所構 成：在 ZSK 25/4 擠出機（Coperion Holding GmbH, Stuttgart/Germany)上混合上述各成分，且在水浴中冷卻 後將熔融物製成丸粒。利用設有夾板、Philips CD-模具 及 DVD-ROM 壓模之 Arburg 370 U 700 30/30 2-K 射出成 形設備，在卜K射出成形處理中將此些丸粒模造成為如 上述單一成分射出成形處理（1-K模造）中的120 mm直徑 與1.2 mm厚的碟。藉此’備製如上述單一成分射出成形 處理（1-K模造）中的碟基板測試街樑。測出的楊氏模數五 與品質因子2係顯示於表3中。 實例2(光學記錄媒介） 53 20 200937410 將如上述的反射層與光傳輸層施加至實例1碟狀基 板上。測定出的刮痕深度為0.638 // m且測定出的表面 粗糙度為Ra=9.99 nm。由此，碟狀基板測試桁樑係以單 一成分射出成形處理（1-K模造）中所述的方式備製。測出 5 的楊氏模數五與品質因子β係顯示於表3中。 實例3(基板） ® 組合物（組合物2)藉由下列方式由59.90重量％之 ΒΡΑ-聚碳酸酷（Makrolon OD 2015®，Bayer Material ίο Science)、10重量％之聚曱基丙烯酸甲酯（PMMA 6N®， Degussa)、30 重量 ％之滑石（Finntalc M05SL®, Mondo Minerals，Helsinki/Finland)、0.05 重量 ％之雙（2-乙基己基） 磷酸酯（CAS no. 298-07-7，Alfa Aesar GmbH&Co KG， Karlsruhe/Germany)及0.05重量。/〇之單十八酸丙三醇酯 15 (Dimodan，Danisco/Germany)所構成：在 ZSK 25/4 擠出 © 機（Coperion Holding GmbH, Stuttgart/Germany)上混合上 述各成分，且在水浴中冷卻後將熔融物製成丸粒。利用 設有夾板、Philips CD-模具及DVD-ROM壓模之Arburg 370 U 700 30/30 2-K射出成形設備，在1-K射出成形處 20 理中將此些丸粒模造成為如上述單一成分射出成形處理 (1-Κ模造）中的120 mm直徑與1.2 mm厚的碟。藉此， 備製如上述單一成分射出成形處理（1-K模造）中的碟基 板測試桁樑。測出的揚氏模數五與品質因子2係顯示於 54 200937410 表3中。 實例4(光學記錄媒介） 將如上述的反射層與光傳輸層施加至實例3碟狀基 5 板上。測定出的刮痕深度為0.706 β m且測定出的表面 粗縫度為Ra=8.〇6 nm。由此，碟狀基板測試衔樑係以單 一成分射出成形處理（1-K模造）中所述的方式備製。測出 ® 的楊氏模數五與品質因子0係顯示於表3中。 10 實例5(基板） 組合物（組合物3)藉由下列方式由77.95重量％之 ΒΡΑ-聚碳酸酉旨（Makrolon OD 2015®，Bayer Material Science)、10重量％之聚曱基丙烯酸甲酯（PMMA 6N®， Degussa)、12 重量 ％之石墨 Cond 5/99(Graphit Kropfmtihl & AG，Hauzenberg/Germany)及0.05重量％之單十八酸丙三 醇酉旨（Dimodan，Danisco/Germany)所構成：在 ZSK 25/4 擠出機（Coperion Holding GmbH，Stuttgart/Germany)上混 合上述各成分’且在水浴中冷卻後將熔融物製成丸粒。 利用設有夾板、Philips 模具及DVD_ROM壓模之 2〇 Arburg 370 U 700 30/30 2-K射出成形設備’在1-K射出 成形處理中將此些丸粒模造成為如上述單一成分射出成 形處理（1-K模造）中的120 mm直徑與I2 mm厚的碟° 55 200937410 藉此，備製如上述單一成分射出成形 的 顯 碟基板測試桁樑。測出的揚氏模數五與品( 示於表3中。 貝口子2係 實例6(光學記錄媒介） ❹ 10 板上將反射層與光傳輸層施加至實例5碟狀基 产:: 深度為〇·690…測定出的表面 成乂二i nm。由此，碟狀基板測試桁樑係以單一 成形處理（1_κ模造）中所述的方式備製。測出的 杨氏模數以品質因子2係顯示於表3中。 Ο 表3

56 200937410 實例7 利用設有夾板、Philips CD-模具及DVD-ROM壓模 之入比111^ 370 1； 700 30/30 2-]^射出成形設備，自實例3 中所述之組合物2丸粒（作為核心樹脂）及BpA聚碳酸酯 (Makrohm OD 2015®，Bayer MatedalScience)(作為表皮 樹月曰），在兩成分夾置射出成形處理（2_κ模造）中備製如

G 10 15 ❹ 20 上述之120 mm直徑與1.2 mm厚的2_κ夾置射出成形模 造碟。設備的設定值被設定至：在第—射出時表皮材料 的50〇/。劑量體積，在第二射出時核心材料的5〇%劑量體 積。在第三射出時’洗鑄口會被表皮材料所封閉。在 ^所測出的平均核心層厚度“為總厚度的57%，而兩 =均表皮層厚度dsl與ds2係分別為總厚度的21 5% ft兩成分夾置射出成形製程(2《模造)中所述之方； 備製碟狀基板測試桁摔。測屮 式 ㈣顯示於表4中4出的％氏模數五與品質因子 實例8 板上：’丨的反射層與光傳輸層施加至實例7磾狀其 板上。測定出的刮痕深度為 =基 成分央置射出成二基板測試椅樑係以兩 出的揚氏模數f因子=)中所述的方式備製。測 "扣質因子2係顯示於表4中。 57 200937410 表4 : 2-Κ夾置模造 表皮 核心 密度 (g/cm3) 2 kH下之 E (GPa) 2 kZ下之 Q 實例7 BPA-聚碳酸酯 成分2 1.328 3.44 122 實例8 BPA-聚碳酸酯 成分2 1.324 3.51 136 實例9 ❿ 5 10 〇 15 利用上述的 Singulus Streamline II DVD-R 設備，自 由 BPA-聚石炭酸酯（Makrolon OD 2015®, Bayer MaterialScience)丸粒所模造出的兩0.6 mm厚的半碟，以 上述的UV接合製程（UV接合）備製120 mm直徑與1.2 mm厚的UV黏結碟。UV接合劑係為下列者之混合物所 構成：67.9 重量 ％之 Desmolux XP 2513®，Bayer MaterialScience ; 29.1 重量 ％之 Sartomer SR 256®, Sartomer ;及 2.9 重量 ％之 Darocur 1173®，Ciba。各個成 分之混合係利用SpeedMixerTM，根據此領域中人所熟知 的方法所完成。將UV接合劑分散於旋塗臺上及UV硬 化亦利用達到上述之〜90 μ m接合層厚度的設定而施 行。在碟上所測量到的平均接合層厚度dB為89 // m。藉 此，以上述UV接合製程（UV接合）中的方式備製碟狀基 板測試桁樑。測出的揚氏模數五與品質因子2係顯示於 表5中。 58 200937410 實例ίο 此μ將如上述的反射層與光傳輸層施加至實例9碟狀基 _ =出的到痕深度為〇.523…測定出的表面 5 入、，3.6 nm。藉此，以上述UV接合製程（UV接 :口趙二方式備製碟狀基板測試桁樑。測出的揚氏模數五 與口π夤因子0係顯示於表5中。

10

15 表5 : UV接合 基板 接合劑 密度 2kH下之 2 kZ下之 1 -實例9 ------ ΒΡΑ-聚碳酸g旨 ----- 接合劑1 」g/cm3) 1.187 E (GPa) 2.19 14.0 實例10 BPA-聚碳酸酯 接合劑1 -*---- 1.186 2.33 15.3 充、去此項技藝者應注意，在不脫離本發明之廣義發 明概=下’可對上述實施例進行修改。因此應瞭解，本 發明並不限於本文中所揭露之特定實施例’意在包含隨 附之U W Ιϋ圍所疋義之本發明精神與範_内的所有 修改。 【圖式簡單說明】 當結合附圖一起閱讀時，當可更加瞭解本發明之上 列總結及下列詳細敘述。為了助於解釋本發明，附圖中 顯示了應被視為說明性之代表性實施例。然而當瞭解， 59 200937410 不應以任何方式將本發日jg咖 .^ 月限制為文中Μ 手段。 Τ所示之被上 ;切結構與 在圖式中： 圖1為雷射都卜勒振動 ASTA/f Ρ Ί < nc α, ( ) 以類似於在 '中所述者的方式設置，其可用來量測本 明不同貫施例中所用之基板的揚氏模數Ε及Q因子。 ❹ 【主要元件符號說明】 無。 10

60

Claims (1)

1. 200937410 七、申請專利範圍： -種光學記錄媒介，包含：基板及依序設置於該 上的記錄層與光傳輸層；其中該基板包含選自由ς出反 成形。卩件、具有模造表面層與模造核 炎層結構或利用UV方式接合之兩射出成形部=

   其組口所構成之族群中的一或多個部件；且其中嗜美 板具有根據 ASTM Ε 756_05 在 25與 2〇〇〇 Ηζ ^ ς 量測之至少2·15 GPa之楊氏模數五及低於16 因子。 Η 2. 如申請專利範圍第i項之光學記錄媒介’其中該基板 具有根據ASTM E 756-05在25 °C與2000 Hz下所量 測之至少2.15 GPa之揚氏模數五及低於1〇〇的^因 子。 3. 如申請專利範圍第1項之光學記錄媒介，其中該基板 具有根據ASTM E 756-05在25 °C與2000 Hz下所量 測之至少2.93 GPa之揚氏模數五及低於16〇的g因 子。 4. 如申請專利範圍第1項之光學記錄媒介，其中該光傳 輸層包含一 UV可硬化且可旋塗之樹脂，此樹脂所具 有之折射係數具有至少為1.41之折射係數的實部n。 5. 如申請專利範圍第1項之光學記錄媒介，其中該光傳 200937410 輸層包含一 uv可硬化且可旋塗之樹脂，此樹脂具 有.（1)複數之折射係數，此複數折射係數的實部n至 少為1.70且虛部k至多為〇 〇16;(ii)低於2〇nm的表 面粗糙度Ra，及（m)不大於〇 75以m刮痕深度的抗刮 性；其中此複數折射係數的實部n及虛部1係於波長 4〇〇至410 nm下所量測；其中表面粗糙度心係藉由 原子力顯微鏡所量測；其中刮痕深度係利用尖端半徑 〇 5〇Vm的鑽石針施加4〇g重量並以1.5cm/s的速度在 該光傳輸層上前進所測得。 6.如申請專利範圍第1項之光學記錄媒介，盆中該光傳 輸層包含- UV可硬化且可旋塗之肖脂，&㈣所包 含之奈米粒子具有小於1〇〇nm之平均粒子尺寸（<15〇)。 7·如申請專利範圍第1項之光學記錄媒介，其中該光傳 輸層具有1 nm至小於3000 nm之厚度。 ❹8.如申請專利範圍第1項之光學記錄媒介，其中該光傳 輸層具有200 nm至小於2000 nm之厚度。 9. 如申請專利範圍第i項之光學記錄媒介，其中該光傳 輸層具有500 nm至小於1500 nm之厚度。、 10. 如申請專利範圍第i項之光學記錄媒介，其中該基板 包含由1-K射出成形製程所備製的一部件二 11. 如申請專利範圍第1項之光學記錄媒介，其中該基板 62 200937410 包含由2-K夾置射出成形製程所備製的一部件。 12. 13. _ 14. 如申請專利範圍第i項之光學記錄媒介，其中該基板 包含由UV接合製程所接合的兩射出成形基板。 如申請專利範圍第i項之光學記錄媒介，其中該基板 包含-樹脂其選自由下列者所構成之族群：聚碳酸酿 樹脂、丙烯酸樹脂、聚苯乙婦樹脂、聚環烯烴樹脂、 氫化之聚苯乙烯樹脂及其組合。 :::專利範圍第！項之光學記錄媒介，其中該基板 通式⑴之芳香環二煙單體化合物所備製的 聚碳酸酯： ΗΟ-Ζ-ΟΗ (1) 其中Ζ代表化學式（la)的自由基：

   ^中R1與R2獨立地代表^ Ci_c8_燒基；χ代表單 基取代之CVCV環亞烧基；當\代 亞己基時R1與R2各代表氫。 一甲基環 如申請專利範圍第2項之光學記錄媒介，其中 包含一樹脂其選自由下列者所構成之族群：聚碳^酯 63 15. 200937410 樹脂、丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚環烯烴樹脂、 氫化之聚苯乙烯樹脂及其組合。

   64