CN101828227A

CN101828227A - 圆片形高密度记录介质

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Publication number: CN101828227A
Application number: CN200880112612A
Authority: CN
Inventors: F·布鲁德; W·黑斯; R·奥泽; J·韦卡德; W·费希尔; R·普罗特; J·韦尔; K·希尔登布兰德
Original assignee: Bayer MaterialScience AG
Current assignee: Covestro Deutschland AG; Bayer Intellectual Property GmbH
Priority date: 2007-10-19
Filing date: 2008-10-07
Publication date: 2010-09-08
Anticipated expiration: 2028-10-07
Also published as: WO2009049797A1; EP2203918A1; US7993721B2; ES2388642T3; US20090104395A1; TW200937410A; JP2011501336A; RU2010119632A; BRPI0818576A2; CN101828227B; EP2051251A1; MX2010003704A; EP2203918B1; PL2203918T3

Abstract

本发明涉及包含基片和顺序布置在基片上的记录层和透光层的光记录介质；其中基片包含一个或多个选自注入成型部分、具有模制表面层和模制芯层的注入成型夹层结构或两个经UV-粘合的注入成型部分，及其组合的部分；且其中基片在25℃、2000Hz下，按照ASTME 756-05测定时，具有至少2.15GPa的杨氏模数E和低于160的品质因数。

Description

圆片形高密度记录介质

发明背景

用于记录和复制信息信号，例如用于记录声音或图像的已知的记录介质包括圆片形光记录介质和圆片形磁记录介质。

在这些记录介质中，有光盘(例如通过刻凹纹和凹槽，在其上刻写有作为微小-不规则纹路(irregularities)的信息信号)、相变光盘、永磁(magneto)-光盘、采用光磁效应的记录胶片，和用于磁写信号的硬盘。

为了在光记录介质上形成记录层，在这些具有与信息信号，例如数据信息或跟踪伺服信号有关的微小-不规则纹路，例如相凹纹或预-凹槽(pre-grooves)的记录介质中，通常使用塑料材料的基片的注入成型。特别是，使用注入成型装置，金属模型和母盘压模(stamper)形成圆片形基片，而信息信号此时由母盘压模描述。

为读出和记录信息至这样的光盘上，通常将具有波长λ的激光束通过给定的数值孔径NA的单一物镜通过厚度d＞＞λ的透光层并以物镜和透光层的表面之间的工作距离WD＞＞λ聚焦到记录层上。因此聚焦激光束的光点直径D被给定为D＝λ/NA。市售可获得的盘如激光压缩磁盘(CD，λ.＝780nm，NA＝0.45，d＝1.2mm)、数字通用光盘(DVD，λ＝650nm，NA＝0.60，d＝0.6mm)、高清晰度数字通用光盘(HD-DVD，λ＝405nm，NA＝0.65，d＝0.6mm)或蓝光光盘(Blu-raydiscs)(BD，λ＝405nm，NA＝0.85，d＝0.1mm)正采用这种远磁场光学原理。通过减少λ和增加NA，可减少光点直径D，由此可增加数据密度。

然而在这样的光学远磁场(d和WD＞＞λ)下，物镜的NA被限制于＜1.0的值。为进一步增加数据密度，NA必须变得大于1.0，其可通过近场光学(NFR)实现。一种NFR仪器可通过使用所谓的固体油浸物镜(SIL)(见，例如S.M.Mansfield，W.R.Studenmund，G.S.Kino，和K.Osato，″用于光存储磁头的高级数字快门透镜系统(High-numerical-aperture lens system for an optical storage head)，″Opt.Lett.18，305ff(1993)，这些文献的全部内容通过参考结合到本文中)进行。例如，在由NA＜1.0的远磁场透镜和用具有折射率n_SIL的材料制得的半球形透镜组成的透镜系统中，有效的数值孔径NA_eff由NA.n_SIL给出，如果n_SIL足够大，该值将超过1.0。另一个仪器可通过直径D_Ap＜＜λ的小孔进行，其可或者通过具有非常窄的端孔的纤维光学(见，如H.Brückl，Physik in unserer Zeit，28，Jahrgang 1997Nr.2，p 67ff，这些文献的全部内容通过参考结合到本文中)或者通过光学上的非线性响应薄屏蔽层(所谓的超分辨率强化近场结构(Super ResolutionEnhanced Near Field Structure)，见，如J.Tominaga，et al.，AppliedPhysics Letters，Vol 73(15)1998pp.2078-2080，这些文献的全部内容通过参考结合到本文中)实现。

NFR利用透镜系统或孔的表面和盘或记录层的表面之间的WD＜＜λ的电磁场。例如，在K.Saito et al.，Technical Digest ISOM 2001，p244ff，已显示工作距离WD＜＜405nm，SIL的渐消失波的足够的光可结合到盘中，以便SIL的NA_eff可增加至远磁场限度1.0以上。还显示出WD的准确度必须被控制至数nm的水平，以得到稳定的再现信号(reproducing signal)。这可理解为渐消失波的强度与离开透镜表面的距离呈指数衰减。为建立这样的控制机理，有效的反馈伺服循环由T.Ishimoto et al.，Technical Digest ISOM/ODS 2002，WC3，p 287ff提出并引入，这些文献的全部内容通过参考结合到本文中。这种伺服循环也能够补偿来自转盘的模态振荡(modal oscillations)的WD的波动(J.I.Lee et al.，Technical Digest ODS 2006MC4，p 43ff，该文献的全部内容通过参考结合到本文中)。然而由于伺服循环的带宽限制，这样的补偿仅在较低的光盘转速时和在具有众数频率＜800Hz的低频模态振荡下起作用。因此，由于例如直径120mm、厚度1.1mm的整块(massive)聚碳酸酯盘的高频模态振荡的振幅，存在数据传送速率的限制。其中公开的基片不能满足本发明的基片的要求，为改善盘在高速旋转时的间歇(gap)伺服控制操作，尤其必须改进盘的高频模态振荡行为。

模态振荡的特征在于其众数频率f_n，根据f_n与(E/p)^0.5的比例(也见方程式1)，f_n与盘的几何形状和杨氏模数E(Young′s modulus E)和质量密度p的定量(ration)有关。品质因数Q(见方程式2)通过Q＝3/tanδ(损耗角正切值)而与tanδ有关。在该意义上，Q可被用作阻尼如tanδ的量度。低Q意指高阻尼，因为tanδ是高的。一般来说，E和Q显示出对频率f的明显的依赖性。

US 6,908,655B2，该文献的全部内容通过参考结合到本文中，集中讨论了约140Hz的低频(最初)模态振荡(其典型地发生在直径120mm，厚度1.1mm的整块聚碳酸酯盘)的影响并且还与远场光拾音头有关。

WO 00/48172，该文献的全部内容通过参考结合到本文中，集中讨论了盘的最初众数频率(＜300Hz)行为，据说最初众数频率应优选处于该盘的旋转工作范围之外。就高频模态振荡(＞＝2000Hz)的行为而言，没有公开其解决方案。比较实施例3(其在本申请的实验部分提出，以WO 00/48172的实施例2为基础)显示实施关于阻尼的低频要求的解决方案不能满足本发明的高频要求。

WO 2003/005354A1，该文献的全部内容通过参考结合到本文中，描述了特殊的共聚碳酸酯(copolycarbonates)以获得该盘的改进的阻尼，该公开在关于聚合物的化学结构上不同于本发明，或者描述了涉及阻尼的低(最初)众数频率的要求，但未描述本发明的高频要求。

其它解决方案获得低频(1Hz-16Hz)的改进的阻尼，然而其对在US 6,391,418Bl、EP 1158024A1和US 2004/0265605Al中公布的本发明的高频模态振荡要求是不充分的，这些文献的全部内容通过参考各自结合到本文中。US 6,391,418Bl描述了由聚碳酸酯组合物制得的用于信息记录介质的基片，所述组合物包含粘均分子量10.000-40.000的聚碳酸酯和联苯、三苯化合物或其混合物。EP 1158024A1描述了振动-阻尼热塑性树脂组合物，其包含a)50-90wt.％的具有0,01-0,04的tanδ损耗和加载偏斜温度不低于120℃的无定形热塑性树脂和b)50-10wt.％的甲基异丁烯酸酯树脂，其中从中模制的产品具有某些物理特性。US 2004/0265605Al描述了用于数据的包含基片的振动阻尼存储介质，其在基片的物理部分包含至少一个聚酰亚胺层和至少一个数据层。这与最初模态(低频)震荡有关。

NFR的另一个重要的特征是来自渐逝场的耦合光(couple light)通过WD＜＜λ进入记录介质的表面以完全利用SIL的NA_eff的能力，以用于将D减少至λ/NA_eff。为此，记录介质的最高透光层(uppermostlight transmitting layer)的折射率的实数部分n必须大于NA_eff。这样的层可通过高折射率层(HRI涂层)获得，其根据本发明可形成记录介质的表层并使得渐逝场的光耦合进入记录介质。HRI涂层也可用作两个或多个复制层(reproducing layer)或记录层之间的分割层。为增加存储密度至少为与各远磁场光学(NA＜1.0)比较的2倍，NA_eff应为至少＞1.41，且因此HRI层的折射率的实数部分n应为至少＞1.41。致力于研究远磁场光学的现有技术不能对此作出解释。

US 6,875,489B2或EP 1,518,880A，这些文献的全部内容通过参考文献1各自结合到本文中，集中讨论了具有厚度d＞3μm的透光层，因为这些实施方案与远磁场光盘如BD有关。如同NFR的情况，有效的NA_eff大于1.0，至关重要的是限制透光层厚度d至较小的值(例如＜＝3μm)，因为补偿例如光行差(aberrations)是较容易的(Zijp et al.，Proc.ofSPIE Vol.5380，p 209ff)。

除了HRI层和NFR光拾音头(Optical Pick Up Heads)的极小WD所致的上述光特性外，这样的HRI层也应用作存储于记录介质中的信息和在偶然磁头碰撞的情况下的光拾音头的保护层。因此HRI层应具有高度的耐擦伤性和低的表面粗糙度R_a，因为WD在只有几个10nm的范围内。而且HRI层的吸收或折射率的虚数部分k应该是低的，以便能从被分割层分离的多栈记录层获得足够高的反射光，所述分割层可包含HRI层并实现高的读出稳定性。另外，现有技术没有解释盘结构的这样的复合特性模式(complex property profile)。

发明简述

本发明的各种实施方案提供间歇伺服控制的NFR盘的光记录介质，其中至少记录层和透光层顺序地形成在基片上，且其中用于记录和/或复制信息信号的透光层面发出光，而所述基片达到在2000Hz的高频下对杨氏模数和阻尼(Q-因子)的特殊要求。而且，本发明的各种实施方案提供如上所述的光记录介质，其具有满足对折射率、耐擦伤性和表面粗糙度的特殊要求的透光层。

本发明涉及具有用于记录各种信息信号。如适合近场光拾音头的数字数据的特殊结构的圆片形高密度记录介质。

在间歇伺服控制的近场记录和近场读出中，透镜和光盘表面之间的工作距离WD必须减少至远低于激光的波长λ且必须被控制在严密的范围内。因此存在对与光盘高频模态振荡行为和光盘厚度、透光层的光和机械特性有关的严格要求。本发明显示用合适的材料实现对盘结构的特别选择，以解决上述问题。

本发明的一个实施方案包括包含基片和顺序布置在基片上的记录层和透光层的光记录介质；其中基片包含一个或多个选自注入成型部分(parts)、具有模制表面层和模制芯层的注入成型夹层结构或两个经UV--粘合的注入成型部分，及其组合的部分；且其中基片在25℃、2000Hz下，按照ASTM E 756-05测定时，具有至少2.15GPa的杨氏模数E和低于160的品质因数。

附图的几个视图的简述

在结合附图进行描述时，可更好地理解本发明的上文的简述，以及下文的详细描述。为了帮助解释本发明，附图显示了代表性的实施方案，这些实施方案被认为是示例性的。然而，应该理解本发明并不以任何方式受限于所示的精细安排和媒介(instrumentalities)。

在图中：

图1为按照类似于ASTM E 756-05中所述设置的激光多普勒振动计(Laser-Doppler-Vibrometer)(LDV)的图解表示，其可用于测量用于本发明的各种实施方案的基片的杨氏模数E和品质因数。

发明详述

如本文所用的，单数术语″一个″和″该″是同义的并可与″一个或多个″和″至少一个″互换使用，除非语言和/或上下文另外明确地指出。因此，例如，在此或在所附的权利要求中提及″树脂″时，可指单一的一种树脂或一种以上的树脂。另外，所有的数值，除非另外特别指明，应理解为被单词″约″修饰。

以高频影响光盘的模态振荡可包括：增加其杨氏模数E(刚度)，其将模态振荡移动至较高的频率，由此以给定的阻尼减少其振幅；或者降低其品质因数Q(增加其阻尼)以减小振荡幅度。为克服前文描述的问题，刚度或阻尼可作为一个单一的参数或者两个参数来改进。

本发明的各种实施方案包括光记录介质，其至少包括记录层和透光层。记录层和透光层顺序地形成在基片上，且光从透光层侧照射，以便记录和/或复制信息信号。基片可包含注入成型部分或具有带有模制表面层(皮层)和模制芯层的注入成型夹层结构或可包含两个经UV-粘合的注入成型部分。基片在25℃、2000Hz下，按照ASTM E 756-05测定时，具有至少2.15GPa的杨氏模数E和低于160的品质因数。

透光层的厚度优选从1nm至少于3000nm，更优选从200nm至少于2000nm且尤其是从500nm至少于1500nm。

基片材料：

用于形成基片的合适基片材料的实例包括聚合物、混合物和化合物(填充的热塑性树脂组合物)，以及基片满足杨氏模数E和品质因数的要求。然而，本发明的用于所述基片的聚合物树脂并不限于以下实施例。

在热塑性树脂本身不满足整块注入成型部分关于杨氏模数E和品质因数的要求的情况下，可使用热塑性树脂或在夹层结构或在粘合的结构中的热塑性树脂基片材料的组合的混合物或填充的组合物。

除了关于杨氏模数E和品质因数的要求外，热塑性树脂、混合物或化合物应该具有低的水吸收作用，高的耐热性且应该是可用常用方法如注入成型、注入压缩成型等对光盘进行加工的。

这样的热塑性树脂可包括聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂和无定形的聚环烯烃(polycyclic olefins)以及氢化聚苯乙烯。热塑性树脂也可为由不同热塑性树脂组成的混合物，以及为热塑性树脂(s)化合物与填充剂和/或添加剂的混合物。

聚碳酸酯树脂：

聚碳酸酯树脂一般通过芳族二羟基化合物和碳酸酯前体的溶液聚合或熔体聚合而获得。任何芳族二羟基化合物为可接受的，如果它满足上述条件的话。

优选的芳族二羟基化合物包括式(1)化合物：

HO-Z-OH (1)，

其中Z表示式(1a)的基团

其中R¹和R²彼此独立地表示Hor C₁-C₈-烷基，优选H或C₁-C₄-烷基，特别是氢或甲基和X表示单键、C₁-C₆-烷撑基、C₂-C₅-烷叉基或C₅-C₆-亚环烷基，其可被C₁-C₆-烷基，优选甲基或乙基取代，前提是如果X表示3，3，5三甲基亚环己基，R¹和R²表示氢。

更优选X表示单键、亚甲基、异亚丙基或亚环己基或3，3，5三甲基亚环己基，特别是X表示异亚丙基或3，3，5三甲基亚环己基。

芳族二羟基化合物通常为已知的或可根据通常已知的方法制备。

芳族二羟基化合物的实例包括氢醌、间苯二酚、4，4′-联苯酚(biphenol)、1，1-双(4-羟基苯基)乙烷、2，2-双(4-羟基苯基)丙烷、2，2-双(4-羟基苯基)丁烷、1，1-双(4-羟基苯基)-1-苯基乙烷、1，1-双(4-羟基苯基)环己烷、2，2-双(4-羟基苯基)戊烷、4，4′-(对-亚苯基二异亚丙基)二酚(diphenol)、9，9-双(4-羟基苯基)芴、1，1-双(4-羟基苯基)-4-异丙基环己烷、2，2-双(3-甲基-4-羟基苯基)丙烷，1，1-双(4-羟基苯基)环己烷、1，1-双(4-羟基苯基)-3，3，5-三甲基环己烷、9，9-双(3-甲基-4-羟基苯基)芴和α，α′-双(4-羟基苯基)间-二异丙基苯。优选的二羟基化合物为2，2-双(4-羟基苯基)丙烷(双酚A)、4，4′-(间-亚苯基二异亚丙基)二酚和1，1-双(4-羟基苯基)-3，3，5-三甲基环己烷。

聚碳酸酯树脂可以是通过上述芳族二羟基化合物的均聚反应获得的均聚碳酸酯或通过两个或多个芳族二羟基化合物的异分子聚合反应获得的共聚碳酸酯。此外，可以是通过上述芳族二羟基化合物与一个或多个其它二羟基化合物的聚合而获得的共聚碳酸酯。

通过溶液方法的反应通常为二羟酚和光气之间的反应，且通常在酸偶合剂和有机溶剂的存在下进行。作为酸偶合剂，使用碱金属氢氧化物，例如氢氧化钠或氢氧化钾，或胺化合物，例如吡啶。作为有机溶剂，使用卤代烃，例如二氯甲烷或氯苯。为加速反应，也可使用催化剂如叔胺、季铵化合物或季鏻化合物，其分别通过三乙胺、N-乙基-哌啶、四-正-丁基溴化铵，或四-正-丁基溴化鏻举例说明。优选地，反应温度为大约0-40℃，反应时间为10分钟-5小时，且反应期间的pH不低于9。

在聚合反应中，通常使用封端剂。所用的这些封端剂可以是单官能团酚类。这些单官能团酚类通常用作调节分子量的封端剂。所获得的聚碳酸酯树脂具有其被基于单官能团酚的基团封端的末端，以使其在末端稳定性方面优于不是如上所述获得的聚碳酸酯树脂。单官能团酚类通常为苯酚类或低级烷基取代的酚类如苯酚、对-叔丁基苯酚、对-枯基苯酚、异辛基苯酚或长链烷基酚类如癸基苯酚、十二烷基苯酚、十六烷基苯酚、十八烷基苯酚、二十烷基苯酚、二十二烷基苯酚和三十烷基苯酚。

封端剂以获得适宜分子量的量引入。封端剂可单独或组合使用。

聚碳酸酯或共聚碳酸酯的平均分子量的特征在于聚合物溶液在二氯乙烷中的相对溶液粘度(用Ubbelhode毛细管粘度计测量，毛细管类型0C)。聚合物浓度为5g/l，测量在25℃的温度下进行。相对溶液粘度在1.15-1.30范围内，优选在1.18-1.25范围内，尤其优选在1.19-1.23范围内。

通过熔化方法进行的反应通常为二羟酚和碳酸酯之间的酯交换反应，并可通过包括在惰性气体的存在下，在加热下使二羟酚和碳酸酯混合，并馏出生成的醇或酚的方法进行。虽然反应温度与例如生成的醇或酚的熔点不同，但通常为120-350℃。在反应期间的后半段，反应系统减压至大约1.33x10³至13.3Pa的压力，以促使生成的醇或酚的蒸馏。反应时间通常为1-4小时。

在碳酸酯中，有诸如C₆-C₁₀芳基或芳烷基或C₁-C₄烷基酯的酯，其有时候可被取代，特别是，碳酸二苯酯、双(氯代苯基)碳酸酯、碳酸二萘基(dinaphtyl)酯、双(二苯基)碳酸酯、碳酸二甲酯、碳酸二乙酯和碳酸二丁酯。在这些酯中，最优选碳酸二苯酯。

为加速聚合，也可使用聚合催化剂。因而可使用这些聚合催化剂，常规用于酯化或酯交换反应的那些催化剂，例如碱金属化合物，如氢氧化钠、氢氧化钾或二羟酚的钠盐或钾盐、碱土金属化合物，例如氢氧化钙、氢氧化钡或氢氧化镁、含氮碱性化合物，例如四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基胺或三乙胺、碱金属或碱土金属的醇盐、含磷碱性化合物如四苯基鏻苯酚盐(phenolat)或碱金属或碱土金属的有机酸盐、锌化合物、硼化合物、铝化合物、硅化合物、锗化合物、有机锡化合物、铅化合物、锇化合物、锑化合物、锰化合物、钛化合物或锆化合物。这些催化剂可单独或组合使用。这些催化剂优选以相对于作为起始原料的1摩尔二羟酚的1x10^-8至1x10^-3当量，更优选1x10^-7至5x10^-4当量的量使用。

由于在聚合中的异构化反应，芳族聚碳酸酯树脂可含有三-或更多个官能团的芳族化合物或在该聚合物中含有支链配合剂(components)。三-或更多个官能团的芳族化合物的实例优选包括间苯三酚(phlorogrucin)、五羟基苯酚(phlorogrucide)、三酚类，例如4，6-二甲基-2，4，6-三(4-羟基苯基)庚烯-2，2，4，6-三甲基-2，4，6-三(4-羟基苯基)庚烷、1，3，5-三(4-羟基苯基)苯、1，1，1-三(4-羟基苯基)乙烷、1，1，1-三(3，5-二甲基-4-羟基苯基)乙烷、2，6-双(2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯酚和4-(4-[1，1-双(4-羟基苯基)乙基]苯)-α，α-二甲基n苄基苯酚、四(4-羟基苯基)甲烷、双(2，4-二羟基苯基)酮、1，4-双(4，4-二羟基三苯基甲基)苯、偏苯三酸、苯均四酸、二苯甲酮四羧酸及其亚氯酸(acid chlorites)。在这些化合物中，优选1，1，1-三(4-羟基苯基)乙烷和1，1，1-三(3，5-二甲基-4-羟基苯基)乙烷。

磷基热稳定剂可加入到热塑性树脂中。合适的磷基热稳定剂为例如，亚磷酸、磷酸、亚膦酸、膦酸及其酯。特别是，可指定亚磷酸酯化合物，例如亚磷酸三苯酯、亚磷酸三壬基苯酯、亚磷酸三(2，4-二-叔丁基苯基)酯、亚磷酸三癸酯、亚磷酸三辛酯、亚磷酸三(十八烷基)酯(trioctadecyl phosphite)、亚磷酸二癸酯单苯酯、亚磷酸二辛酯单苯酯、亚磷酸二异丙酯单苯酯、亚磷酸一丁酯二苯酯、亚磷酸一癸酯二苯酯、亚磷酸一辛酯二苯酯、双(2，6-二-叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、2，2-亚甲基双(4，6-二-叔丁基苯基)辛基亚磷酸酯、双(壬基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯和双(2，4-二-叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯和磷酸酯化合物，例如磷酸三丁酯、磷酸三甲酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三苯酯、磷酸三氯代苯酯、磷酸三乙酯、磷酸二苯酯甲苯酯、磷酸二苯酯一邻联苯基酯(diphenyl monoorthoxenyl phosphate)、三丁氧基乙基磷酸酯、二丁基磷酸酯和二异丙基磷酸酯。另外的磷基热稳定剂为例如四(2，4-二-叔丁基苯基)-4，4′-联亚苯基二次膦酸酯(diphosphonite)、二次膦酸四(2，4-二-叔丁基苯基)-3，3′-联亚苯基酯和次膦酸双(2，4-二-叔丁基苯基)-4-联亚苯基酯。在这些化合物中，优选三壬基苯基次膦酸酯、二硬脂酰季戊四醇二亚磷酸酯、双(2，4-二-叔丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯、三(2，4-二-叔丁基苯基)亚磷酸酯、磷酸三苯酯、磷酸三甲酯、四(2，4-二-叔丁基苯基)-4，4′-联亚苯基二次膦酸酯和双(2，4-二-叔丁基苯基)-4-联亚苯基次膦酸酯。这些热稳定剂可单独使用或作为混合物使用。这些热稳定剂的量优选为相对于100重量份热塑性树脂组合物的0.0001-0.5重量份，更优选0.0005-0.2重量份和最优选0.002-0.2重量份。

通常已知的抗氧化剂可加入到本发明的热塑性树脂中以预防氧化。抗氧化剂的实例为酚-基抗氧化剂。抗氧化剂的量优选为基于热塑性树脂的0.0001-0.05wt％。

一元醇或多元醇的高级脂肪酸酯可任选加入到本发明的热塑性树脂中。通过混合一元醇或多元醇的高级脂肪酸酯，改善在热塑性树脂成型时从模具中的脱出性(releasability)，并使在光盘基片成型时的脱开力(release load)变小，由此使防止光盘基片的变形和因脱模失败所致的凹陷断层(pit dislocation)成为可能。热塑性树脂的熔化流动性也得到改善。

醇和高级脂肪酸的酯的量基于热塑性树脂计为0.01-2wt％，优选0.015-0.5wt％，更优选0.02-0.2wt％。

添加剂如其它热塑性树脂、光稳定剂、着色剂、抗静电剂和润滑剂可加入到用于本发明的光盘基片的树脂中，加入的量在不削弱模制盘的湿气吸收和湿度解吸收步骤中的减少翘曲的可转录性(transcribility)和作用的范围内。

在本发明的树脂组合物的制备中，可以理解，各种聚碳酸酯树脂的混合和/或聚碳酸酯树脂与其它树脂的混合在聚合物溶液或模制品如颗粒或粒料(pellet)的阶段进行。这不受特别的限制。作为混合的手段，在聚合物溶液的阶段，主要使用装配有搅拌器的容器，而在模制品如颗粒或粒料的阶段中，可使用滚筒式、双筒混合器(twin-cylindermixer)、Nauter混合器、班拍里(Banbury)混合器、挤压辊(kneading roll)或挤压机。无论在那种情况下，可使用任何技术且没有特别的限制。

在上述树脂组合物中，各种填充剂可作为额外的成分加入，以改善刚度和振荡阻尼特性。可列举的填充剂有玻璃纤维、玻璃薄片、碳化纤维、研磨纤维、针状单晶硅灰石、碳黑、碳纳米管(nanotubes)、硅石微粒、氧化钛颗粒、氧化铝颗粒、滑石粉、云母和其它无机材料。也可使用耐热性有机填充剂，例如芳族聚酰胺纤维、多芳基化合物纤维、聚苯并噻唑纤维和芳族聚酰胺(aramide)粉末。在使用这样的成分的情况时，优选滑石粉填充剂和石墨填充剂。这种成分加入的量优选为基于树脂组合物重量计的1-30wt％。

热塑性树脂组合物可通过捏和机，例如滚筒式、V-混合器、诺塔混合器、班拍里混炼机、挤压辊或挤压机将热塑性树脂组合物的各种成分混合来制备。更有效地，通过挤压机，特别是双筒-螺旋挤压机，将各成分熔化和捏和在一起。

丙烯酸树脂：

合适的丙烯酸树脂包括聚甲基异丁烯酸酯或甲基异丁烯酸酯和一种或多种其它成分的共聚物。这样的成分的实例为丙烯酸烷基酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸辛酯、2-乙基己基丙烯酸酯、丙烯酸环己基酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸苯酯和丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸烷基酯，例如甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸辛酯、2-乙基己基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸环己基酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸十八烷基酯、甲基丙烯酸苯酯和甲基丙烯酸苄酯，及其共聚物。也可使用丙烯酸树脂的混合物。聚甲基异丁烯酸酯为最优选的丙烯酸树脂。

丙烯酸树脂的分子量Mw(重均分子量)经光散射测定，优选为50,000-2,000,000g/mol，更优选60,000-1,000,000gt/mol，最优选70,000-500,000g/mol且特别是80,000-300,000g/mol。

这些丙烯酸树脂也可以与上述聚碳酸酯的混合物形式使用。在这种情况下丙烯酸树脂的量基于总组合物计，优选少于50wt％，更优选少于20wt％，特别优选少于10wt％。

在与聚碳酸酯的混合物中，丙烯酸树脂也可以是丙烯酸弹性材料。在这种情况下，其包含作为基本成分的丙烯酸酯橡胶成分，在必要时包含可与其共聚的甲基异丁烯酸酯、带有C₁-C₈烷基的丙烯酸烷基酯和乙烯基单体作为共聚物成分。在这样的丙烯酸弹性材料中，甲基异丁烯酸酯的量在100wt％弹性材料中占15-65wt％。

丙烯酸酯橡胶含有C₂-C₁₀烷基丙烯酸酯以及必要时作为可与其共聚的成分的苯乙烯、甲基异丁烯酸酯或丁二烯。

在C₂-C₁₀烷基丙烯酸酯的情况下，优选2-乙基己基丙烯酸酯和丙烯酸正丁酯。这种丙烯酸烷基酯优选以50wt％的量包含在100wt％的丙烯酸酯橡胶中。还优选地，丙烯酸酯橡胶为至少部分交联的。用于交联的交联剂的实例可以为例如，二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丁二醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、甲基丙烯酸烯丙酯和二丙烯酸聚丙二醇酯。优选地，0.01-3wt％的这些交联剂用于丙烯酸酯橡胶中。

作为丙烯酸弹性材料的优选形式，其可优选为丙烯酸酯橡胶成分，与必要时在多层中可与其共聚的甲基异丁烯酸酯、带有C₁-C₈烷基的丙烯酸烷基酯、苯乙烯和乙烯基单体在聚合时获得的芯壳结构和多层结构。这种丙烯酸弹性材料可通过任何已知的方法制备，例如嵌段聚合、悬浮聚合、嵌段-悬浮聚合、溶液聚合或乳液聚合。多层结构也可含有在多级聚合(multi-stage polymerization)中在接枝扩散基极(graft base)上不接枝的成分。

这些有弹性的丙烯酸树脂在以与上述聚碳酸酯的混合物形式使用时，优选以少于10wt％的总组合物的量使用。更优选其含量少于5wt％。

聚苯乙烯树脂：

适合于本发明的各种实施方案的苯乙烯(Styrenic)树脂包括苯乙烯的均聚物、苯乙烯共聚物或苯乙烯热塑性高弹体或混合物，例如聚苯乙烯和聚苯醚的混合物。这些材料以几种形式采用，但最大的部分包括包含苯乙烯、异戊二烯和丁二烯的共聚物。共聚物包括三嵌段共聚物如S-B-S、S-I-S、S-EB-S和S-EP-S；交互的嵌段共聚物如(S-I)；接枝的嵌段共聚物如(S-B)和(S-I)和三嵌段共聚物/二嵌段共聚物的混合物(例如S-B-S/S-B)。

这些苯乙烯树脂可根据已知的聚合规则和通过已知的程序制备。苯乙烯聚合物，例如可通过Houben Weyl的方法、有机化学的方法，第4版，Vol.XIV/1，pp.761-841，Georg Thieme-Verlag(1961)制备。它们也可以合适的形式从市场购得。优选游离基程序，但也可使用离子聚合程序。根据本发明使用的聚合物的分子量Mw通常为约2000，优选在5000-5,000,000范围内，且特别优选在20,000-200,000道尔顿范围内。(经光散射测定；cf.Ullmann′s Encyclopedia of Industrial Chemistry，第4版，Vol.15，pp.285-387，Verlag Chemie 1978)。

均聚物和共聚物也可通过已知的程序制备。(Cf.H.Rauch-Puntigam，Th.Volker，丙烯酸和甲基丙烯酸化合物，Springer-Verlag 1967)。即使有可能在原则上通过阴离子聚合或基团转移聚合制备它们(也见O.W.Webster et al.，J.Am.Chem.Soc，105，5706(1983))，然而，优选的制备形式为游离基聚合。

苯乙烯热塑性的高弹体的分子量Mw(重均分子量)经光散射测定，一般高于2000，通常在10,000-2,000,000，优选20,000-200,000道尔顿范围内。

而且，也可使用来自一组无定形聚烯烃的聚合物。这样的聚合物得自环烯烃的聚合，得自环烯烃的开环聚合以及特殊氢化的聚烯烃如氢化聚苯乙烯-基聚合物。

聚环烯烃树脂：

环烯烃的合适的聚合物包括，例如，烯烃和降冰片烯(norbonene)结构如降冰片烯自身、四环十二烯(tetracyclododecene)、乙烯基降冰片烯或降冰片二烯的聚合产物。合适的聚环烯烃树脂也包括此类烯烃与带有烯烃的降冰片烯结构的共聚物，例如，乙烯和降冰片烯以及乙烯和四环十二烯的共聚物。这样的产物例如描述于日本专利申请Kokai(Laid-Open)No.292,601/86、日本专利申请Kokai(Laid-Open)No.26,024/85、日本专利申请Kokai(Laid-Open)Nos.19,801/87和19,802/87以及EP-A 317262和EP-A 532337中，这些文献的全部内容通过参考各自结合到本文中。

氢化聚苯乙烯树脂：

合适的氢化聚苯乙烯-基聚合物可具有线性或星形支链结构。线性形式例如描述于JP-B7-114030中，具有星形支链结构的聚合物描述于例如WO 0148031中。

对于基片树脂，也可使用上述聚合物的混合物。合适的添加剂如热稳定剂、脱模剂等以及填充剂也可加入到丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、聚环烯烃树脂和氢化聚苯乙烯树脂中。

粘结剂材料：

粘结剂材料通常为UV-可固化的和自旋可涂布的(coatable)树脂，其可包含粘合剂和活性稀释剂和添加剂例如UV引发剂或溶剂。典型的光引发剂(UV引发剂)为α-羟基酮(Irgacure

Ciba)、(Darocur

Ciba)或酰基膦(acylphosphines)(Darocur

Ciba)。

粘合剂可选自以下类型例如：聚氨酯丙烯酸酯例如

XP2513、

U 100、

U 200、

XP 2614或

VP LS 2220、Bayer MaterialScience AG或胺修饰的聚醚丙烯酸酯例如VP LS 2299、Bayer MaterialScience AG或弹性聚酯丙烯酸酯例如

LP WDJ 1602，Bayer MaterialScienceAG。

聚氨酯丙烯酸酯可由含有(甲基)丙烯酰基(acrylolyl)的醇和二-或多异氰酸酯合成。合成聚氨酯丙烯酸酯的方法为已知的并描述于例如DE-A-1644798、DE-A 2115373或DE-A-2737406中。含有(甲基)丙烯酰基的醇可以是丙烯酸或甲基丙烯酸与二-官能团醇(包括一个游离羟基)所成的酯例如2-羟基乙基-、2或3-羟基丙基或2-，3-，4-羟基丁基-(甲基)丙烯酸酯及其混合物。也可使用含有单-官能团(甲基)-丙烯酰基的醇或可使用主要由此类醇组成的产物，所述醇通过使n-官能团醇与(甲基)丙烯酸的酯化而获得，由此也可使用不同的醇的混合物作为醇，只要n是大于2至4，优选3的整数或均值(平均值)即可，且由此最优选按每摩尔上述醇使用(n-1)摩尔(甲基)丙烯酸。

此外，可使用含有单-官能团(甲基)丙烯酰基的这些醇与ε(epsilon)-己内酯所成的产物。由羟基烷基(甲基)丙烯酸与ε(epsilon)-己内酯所成的产物是优选的。

对于二-或多异氰酸酯，原则上所有的(环)脂族、脂族和芳族结构都是合适的，优选的(环)脂族结构例如六-亚甲基-二-异氰酸酯或异佛尔酮二-异氰酸酯、三-甲基六-亚甲基二-异氰酸酯、二-(异氰酸基(isocyanato)环己基)甲烷或它们与聚氨酯-异氰脲酸酯-、脲基甲酸酯-、缩二脲-、uretdion-结构所成的衍生物，及其混合物。

合适的胺修饰的聚醚丙烯酸酯在原则上是已知的并可通过甲基丙烯酸与3个官能团醇及其混合物的酯化及随后与伯胺的反应来制备。属于些醇或其混合物的有例如烷氧基化o甘油或三羟甲基(trimethylol)丙烷的低分子量产物，例如环氧乙烷和三羟甲基丙烷的反应产物(含有550mg KOH/g的OH-数)。每摩尔醇优选使用0.7-0.9mol(甲基丙烯酸)酸。对于随后与伯胺的反应，单-烷基胺和羟基烷基胺是合适的，例如羟基乙基胺。所用的单-烷基胺的量相当于单-烷基胺和(甲基)丙烯酸双键的摩尔比0.005∶1至0.4∶1，优选0.01∶1至0.3∶1。

合适的聚酯丙烯酸酯是低粘性产物，其原则上根据已知的共沸酯化方法合成。特别合适的是聚酯丙烯酸酯，其由α、β-乙烯的(ethylenic)不饱和碳酸、烷氧基化聚醚三醇，尤其是丙氧基化三醇和丙烯酸组成，由此优选OH-基团与羧基的比率为1,2至1,6。

活性稀释剂可选自以下种类：乙氧基化烷基丙烯酸酯如2-(2-乙氧基乙氧基)乙基丙烯酸酯(Sartomer SR

Sartomer)和t丙烯酸单-官能团酯如乙氧基化苯基丙烯酸酯如乙氧基化(3)苯酚单丙烯酸酯(Photomer 4039

Cognis)、烷基丙烯酸酯如月桂基-或硬脂酰丙烯酸酯、环脂族丙烯酸酯如异冰片基丙烯酸酯和杂环丙烯酸酯如四氢化糠基丙烯酸酯。

透光层：

透光层通常为UV-可固化的和自旋可涂布的树脂，其具有在405nm处测量的至少1.41的折射率的实数部分。树脂可包含粘合剂和活性稀释剂分子和另外的添加剂例如UV引发剂或溶剂。典型的光引发剂(UV引发剂)为α-羟基酮如1-羟基-环己基-苯基-酮(

184，Ciba)或如2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(Darocur

Ciba)，或单酰基膦如2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基-膦氧化物(phosphineoxide)(

TPO，Ciba)。粘合剂分子可选自例如聚氨酯丙烯酸酯或聚醚丙烯酸酯类。活性稀释剂可选自乙氧基化烷基丙烯酸酯、乙氧基化苯基丙烯酸酯、环脂族丙烯酸酯和杂环丙烯酸酯。

作为高折射率层涂层A(HRI)的透光层：

高折射率透光层(涂层A)可从浇铸溶液A^*获得，将浇铸溶液A^*施加于基片(S)或施加于信息和记录层(B)上并交联。

成分A^*(浇铸溶液)

根据本发明的实施方案的浇铸溶液A^*包括以下成分：

A1：含有纳米微粒和水与至少一种有机溶剂的混合物的悬浮液，

A2：粘合剂

和任选

A3：其它添加剂。

如本文所用的，纳米微粒应理解为具有平均粒度(d₅₀)少于100nm，优选0.5-50nm，特别优选1-40nm，更特别优选5-30nm的颗粒。优选的纳米微粒另外具有少于200nm，特别是少于100nm，特别优选少于40nm，更特别优选少于30nm的d₉₀值。纳米微粒优选以单分散(monodisperse)形式存在于悬浮液中。平均粒度d₅₀为在各种情况下50wt.％的颗粒粒度在该直径上下范围内。D₉₀值为90wt.％的颗粒粒度低于该直径。激光散射或优选地，使用分析超速离心法(AUC)对测定粒度和证实单分散性将是合适的。AUC是本领域技术人员已知的，如在″Particle Characterization″，Part.Part.Syst.Charact.，1995，12，148-157中所述。

为制备成分A1(含有纳米微粒和水与至少一种有机溶剂的混合物的悬浮液)，A1₂O₃、ZrO₂、ZnO、Y₂O₃、SnO₂、SiO₂、CeO₂、Ta₂O₅、Si₃N₄、Nb₂O₅、NbO₂、HfO₂或TiO₂的纳米微粒的含水悬浮液是合适的，CeO₂纳米微粒的含水悬浮液是特别合适的。特别优选地，纳米微粒的含水悬浮液包含一种或多种酸，优选羧酸RC(O)OH，其中R＝H；C₁至C₁₈-烷基，其可任选被卤素，优选被氯和/或溴取代；或C₅-至C₆-环烷基、C₆-至C₂₀-芳基或C₇-至C₁₂-芳烷基，其各自可任选被C₁至C₄-烷基和/或卤素(优选氯、溴)取代。R优选甲基、乙基、丙基或苯基且特别优选乙基。纳米粒子悬浮液也可含有作为酸的无机酸，例如硝酸、盐酸或硫酸。纳米微粒的含水悬浮液优选含有基于酸和水的总重量份计的0.5-10重量份，特别优选1-5重量份的酸。例如，得自NyacolNanoTechn.，Inc.，USA的纳米粒子悬浮液

CeO₂-ACT(用乙酸制得的CeO₂纳米微粒的含水悬浮液，pH值＝3.0)和CeO₂-NIT(用硝酸制得的CeO₂纳米微粒的含水悬浮液，pH值＝1.5)是合适的。

用至少一种有机溶剂替代来自这些含水悬浮液中的部分水。这种部分溶剂的交换通过蒸馏或通过膜渗滤作用进行，优选通过超滤，例如根据″交叉-流动″方法进行。交叉-流动超滤是一种工业规模的超滤形式(M.Mulder：Basic Principles of Membrane Technology，KluwerAcad.Publ.，1996，第1版)，其中待过滤的溶液(进料溶液)穿过膜成切线方向流动。这种溶剂交换优选使用至少一种选自醇、酮、二酮、环醚、二醇、乙二醇醚、乙二醇酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲亚砜、二甲基乙酰胺和丙烯碳酸酯的溶剂。给定的优先选择是使用选自上述溶剂类的至少两种溶剂的溶剂混合物，特别优选使用1-甲氧基-2-丙醇和双丙酮醇的溶剂混合物。给定的特别的优选是使用1-甲氧基-2-丙醇(MOP)和双丙酮醇(DAA)的溶剂混合物，优选比例为95∶5-30∶70，特别优选为90∶10-50∶50。水可存在于溶剂中，优选的用量是至多20wt.％，更优选的量为5-15wt.％。

在本发明的进一步的实施方案中，纳米微粒的悬浮液可通过在至少一种上述有机溶剂中进行溶剂交换，然后加入额外的溶剂来制备，这种额外的溶剂选自醇、酮、二酮、环醚，例如四氢呋喃或二氧六环、二醇、乙二醇醚、乙二醇酯、N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲亚砜、二甲基乙酰胺、solketal、丙烯碳酸酯和烷基乙酸酯，例如乙酸丁基酯，在该实施方案中，水可存在于溶剂中，优选的用量是至多20wt.％，更优选的量为5-15wt.％。

给定的优选选择是使用由聚醚聚砜制备的超滤膜，其优选具有少于200,000D，优选少于150,000D，特别优选少于100,000D的截止值(cut-off)。膜的截止值定义如下：保留相应的大小的分子(例如200,000D和更大)，而分子和较小尺寸的颗粒能够通过(″BasicPrinciples of Membrane Technology″，M.Mulder，Kluwer AcademicPublishers，1996，第1版)。这样的超滤膜即使在溶剂高流速穿过时也保留纳米微粒。根据本发明，溶剂交换通过连续的过滤产生，通过的水被相应量的溶剂或溶剂混合物替换。作为聚合物膜的一种选择，也可在溶剂交换过程的步骤中使用陶瓷膜。

根据本发明的这种实施方案的方法的特征在于，水被一种上述有机溶剂或溶剂混合物的替换在生成的纳米粒子悬浮液(成分A1)中不会降至低于5wt.％的极限值。优选地，水被有机溶剂或溶剂混合物的替换应如此进行，以使生成的纳米粒子悬浮液(成分A1)具有5-50wt.％，优选7-30wt.％，特别优选10-20wt.％的含水量。生成的纳米粒子悬浮液优选含有1-50wt.％，更优选5-40wt.％，特别优选15-35wt.％的纳米微粒(下文称为纳米粒子固体部分)。

如果纳米粒子悬浮液在膜单元(mumbrane cell)上的溶剂交换进行较长时间，如此导致水含量少于5wt.％，发生颗粒聚集，这样生成的涂层不能满足单分散性和高透明度的条件。在另一方面，如果在基于有机的纳米粒子悬浮液中的含水量大于50wt.％，待用于后续步骤的粘合剂可不再溶于含水的悬浮液以得到澄清溶液，这样在这两种情况下，即是说，聚集的纳米微粒或粘合剂不能溶解而得到澄清溶液，生成的涂层不能同时满足对高折射率n和高透明度的要求。

作为粘合剂(成分A2)，可使用非活性热干燥热塑性塑料，例如聚甲基异丁烯酸酯(

Tennants)或聚乙酸乙烯酯(Mowilith

Synthomer)，以及活性单体成分两者，后者在涂层后可通过化学反应或通过光化学反应得到高度交联的聚合物基体。例如，交联通过UV辐射进行。鉴于增大的耐擦伤性，通过UV辐射的交联是特别优选的。活性成分优选如上所述的UV-可交联的丙烯酸酯系统，例如如P.G.Garratt在″

″1996，C.Vincentz VIg.，Hannover中所述。粘合剂(成分A2)优选选自聚乙酸乙烯酯、聚甲基异丁烯酸酯、聚聚氨酯和丙烯酸酯中的至少一种。粘合剂(成分A2)特别优选选自二丙烯酸己二醇酯(HDDA)、二丙烯酸三丙二醇酯、一缩二季戊四醇五丙烯酸酯、一缩二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、二(三羟甲基丙烷)(ditrimethylolpropane)四丙烯酸酯(DTMPTTA)、三-(2-羟基乙基)-异氰脲酸酯三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三-(2-羟基乙基)-异氰脲酸酯三丙烯酸酯和二丙烯酸己二醇酯(HDDA)中的至少一种。

在浇铸溶液中用作额外的添加剂(成分A3)的成分优选至少一种选自光引发剂和热引发剂(thermoinitiators)的添加剂。基于浇铸溶液的各成分的总重量份计，使用至多3重量份的添加剂(成分A3)，优选0.05-1重量份，特别优选0.1-0.5重量份。典型的光引发剂(UV引发剂)为α-羟基酮(

184，Ciba)或单酰基膦(

TPO，Ciba)。引发UV聚合所需的能量(UV辐射的能量)的量在约0.5-4J/cm²，特别优选在2.0-3.0J/cm²涂布表面的范围内。作为额外的添加剂，由例如Byk/Altana(46483Wesel，德国)以商品名BYK，例如BYR

供应的所谓涂层添加剂，也是合适的。

用于根据本发明的实施方案的高折射率涂层的浇铸溶液A^*可通过将至少一种粘合剂(成分A2)和任选的额外添加剂(成分A3)溶解于可含有水的有机溶剂或溶剂混合物中制备。使生成的溶液(下文称为粘合剂溶液)与成分A1混合并任选过滤和脱气。在优选的实施方案中，成分A1含有相同的有机溶剂或溶剂混合物作为粘合剂溶液。

浇铸溶液A^*优选具有以下组成：

12-30重量份，优选13-25重量份，特别优选14-19重量份的纳米粒子固体部分，

2-8重量份，优选2.5-5重量份的粘合剂

0-3重量份，优选0.05-1重量份，特别优选0.1-5重量份的额外添加剂(成分A3)，

7-28重量份，优选15-27重量份，特别优选20-26重量份的水和

32-79重量份，优选42-70重量份，特别优选50-63重量份的有机溶剂，

各成分的重量份的总和归一化至100。

浇铸溶液A^*通常具有10-50wt.％，优选14-28wt.％的固体含量。浇铸溶液A^*的固体含量为成分A2、A3和纳米粒子固体部分的总和。粘合剂(成分A2)与纳米粒子固体部分在浇铸溶液中的比例优选为40∶60至7∶93，特别优选为26∶74至12∶88。

涂层A的层厚度通常可为1nm-3000nm，优选200nm-2000nm，特别优选500nm-1500nm。层厚度可通过浇铸溶液中的固体含量来调节，特别是在自旋涂层方法的情况下。如果涂层的高层厚度是需要的，使用高固体含量的浇铸溶液；如果需要较稀的涂层，使用低固体含量的浇铸溶液。

已涂布产品的涂层A的特性测定如下：复数折射率的实数部分n和虚数部分k在400-410nm(即在蓝光(blue laser)的波长范围)波长下测定。表面粗糙度经AFM(原子力显微镜检查法)测定为R_a值。为测定耐擦伤性，使具有尖部半径50μm的金刚石针在施加40g的重力下，以1.5cm/s的推进速度在该涂层上移动，并测定产生的擦痕深度。各种测定方法的细节在有关已涂布产品的生产和测试的章节中给出。

基片S：

基片(S)包括从上述聚合物树脂并通过下述的方法制备的盘形物品。通过将至少一个记录层和一个透光层顺序施加于基片上，形成光记录介质。

生产用于光记录介质的基片的方法：

为从上述树脂生产用于光记录介质的基片，可使用注入成型机(包括注入压缩成型机)通过注入成型形成光盘基片，该成型机装配有具有满足光记录介质和精确表面所需技术条件的凹纹和凹槽的母盘压模。光盘基片的厚度可以是0.3-2.0mm。这种注入成型机可以是通常使用的机器，但优选由具有低粘附于树脂的、耐腐蚀性和耐磨性材料的圆筒和螺丝制得的机器，以抑制碳化物的产生和改进光盘基片的可靠性。鉴于本发明的目的，模压成型步骤的环境优选尽可能的洁净。重要的是，待模制的材料应该完全干燥以除去水且应该避免可引起熔化的树脂分解的水分滞留。

用于本发明的光盘基片的树脂优选具有足够高的流动性，其在注入成型或注入压缩成型期间对可转录性(transcribility)有利。

通过在本发明的基片的至少一侧形成至少一种反射薄膜可生产光记录介质。反射薄膜的材料为元素金属或复合金属。Al或Au可单独使用，或者优选使用含有0.5-10wt％，优选3.0-10wt％的量的Ti的Al合金或含有0.5-10wt％的量的Cr的Al合金。反射薄膜可通过物理蒸汽沉积、离子束溅射、DC溅射或RF溅射(高频溅射)形成。只有这种金属薄膜(反射层)足以用于预先录制的本发明的光记录介质，但除反射层外，可形成记录层(例如相变薄膜和在可重写的(rewriteable)或可记录的和可记录的光记录介质的情况下的染料，和在永磁-光记录介质的情况下的磁-光记录胶片)和透光层，以获得可重写的或可记录的本发明的光记录介质。

相变薄膜记录材料层由硫属元素单独或硫属化合物制得。特别是，可使用Te、Se或硫属化合物-基材料如Ge-Sb-Te、Ge-Te、In-Sb-Te、In-Se-Te-Ag、In-Se、In-Se-Tl-Co、In-Sb-Se、Bi₂Te₃、BiSe、Sb₂Se₃或Sb₂Te₃。

具有永磁-光学特性，包括刻尔效应或法拉第效应的纵向磁化薄膜，例如Tb-Fe-Co的无定形合金薄膜，被用作永磁-光记录胶片层。

透光层在记录层上形成。透光层由透过激光的材料制得并在透光层的一般说明的章节和浇注(cating)作为高折射率层(HRI)的透光层的一般说明的章节中有更具体的描述。

形成透光层的方法在生产透光层的方法和生产作为高折射率层的透光层的方法的章节中有更具体的描述。而且，透光层的厚度限制在1nm-3000nm，优选200nm-2000nm，特别优选500nm-1500nm之间，以消除球面像差和色像差。

本发明的光记录介质的基本组成已在上文描述。可将电介质层加入到上面的组成中，以控制光记录介质的光特性和热性质，在这种情况下，光反射层、第一电介质层、记录层、第二电介质层和透光层，可以以上述次序形成在基片上。此外，本发明的上述光记录介质并不限制在基片上的唯一一个叠加层，其可包括上述的不同的层。其也应具有多个叠加层，各自通过由也可用于透光层的材料制成的间隔层隔开。

单一成分注入成型方法(1-K模制成型)：

在下文中，描述适用于根据本发明实施方案的光记录介质的标准1-K模制基片的制备，所述方法用于实验部分且不限制本发明的范围，只要基片满足杨氏模数E和品质因数的要求。具有直径120mm和厚度1.2mm的光盘基片使用装配有模型AWM2313和DVD-ROM母盘压模的Arburg Alldisc，由各粒料经注入成型制备。或者使用装配有夹层平板、Philips CD-Mould和DVD-ROM母盘压模的Arburg 370U 70030/302-K注入成型机。为此，对模子采用修饰的方式，以使其适合于夹层平板。对1-K模制基片，用同样的树脂的粒料供给该机器。

为形成各光记录介质，反射层(100nm Ag)通过物理蒸汽沉积(Leybold Al 100)或通过DC溅射(Reuter LP 800)在1-K模制基片上形成。根据上述方法，在其上形成HRI型的反射层和透光层。

为形成用于根据ASTM E 756-05测量杨氏模数E和品质因数Q的试验臂，臂可被剪裁成光记录介质的各基片或用记录叠加层覆盖的基片或用记录覆盖层和透光层覆盖的基片，或将来自用于本发明基片的相应树脂的试验臂经直接1-K注入成型。

两种成分夹层注入成型方法(2-K模制成型)：

在下文中，描述适用于根据本发明实施方案的光记录介质的标准2-K夹层模制基片的制备，所述方法用于实验部分且不限制本发明的范围，如果基片满足杨氏模数E和品质因数的要求。具有直径120mm和厚度1.2mm的光盘基片使用装配有夹层平板、Philips CD-Mould和DVD-ROM母盘压模的Arburg 370U 70030/302-K注入成型机由各粒料注入成型。为此，对模子采用修饰的方式，以使其适合于夹层平板。对2-K夹层模制基片，用不同树脂的粒料供应机器，这些粒料将形成三层夹层基片，即由一种树脂制成的芯层和由其它树脂制成的两个皮层。芯层厚度和皮层厚度的比例主要受配给原料的相对量的控制。在第一次喷丸(shot)时，皮层树脂被注入模具的空腔，在第二次喷丸时，芯层被注入模具的空腔，和在第三次喷丸时，浇口再用皮层材料密封。为获得均匀的芯层厚度，优选以具有较高流动性的树脂形成皮层的这种方式选择树脂和处理温度。

为形成相应的光记录介质并剪裁出(cut out)用于杨氏模数E和品质因数Q测量的试验臂，采用如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中描述的相同方法，除了试验臂的直接1-K注入成型外。

UV-粘合方法(UV粘合)：

在下文中，描述根据本发明实施方案的适用于光记录介质的标准UV-粘合基片的制备，所述方法用于实验部分且不限制本发明的范围，如果基片满足杨氏模数E和品质因数的要求。具有直径120mm和厚度0.6mm的盘使用附接有Singulus的流水生产线(Streamline)IIDVD-R的Singulus E Mould DVD-R机(装配有来自Axxicon模具的ST-模具和DVD+R或DVD-R母盘压模)由各粒料注入成型。通过使用失活的染料分散体和失活的金属化的上述Singulus的流水生产线IIDVD-R的下游方法，但激活UV-粘合，由两个0.6mm厚的光盘生产UV-粘合的基片。为此，将UV-粘合材料进料给Singulus的流水生产线II DVD-R粘结剂罐。将UV粘结剂分布在旋转台(spin stand)上，而UV固化通过使用以下设定进行，以达到指定的粘合层厚度：

·粘合层厚度：约90μm 约40μm

·转速1： 1800RPM 4500RPM

·转速2： 2600RPM 6500RPM

·粘结剂的量：1.2gr 0.6gr

·照射时间：1.5sec 0.9sec

·基础功率：1.8kW 1.8kW

·最大功率：4.0kW 4.0kW

·罐温度： 34℃ 34℃

·针温度： 34℃ 34℃

或者，UV-粘合的基片可通过使用实验室自旋涂布机(Karl SussCT62)，由两个0.6mm厚的盘生产，一个0.6mm的盘被夹紧在涂布机上，通过已经夹紧的光盘的内圆周，以200RPM的低转速涂布UV粘合材料。第二个0.6mm的盘被放置在第一个已夹紧的盘上，再将UV粘合材料通过以1500RPM旋转自旋涂布机8秒钟，在两个光盘之间铺开。

为形成相应的光记录介质并剪裁成(cut out)用于杨氏模数E和品质因数Q测量的试验臂，采用如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中描述的相同方法，除了试验臂的直接1-K注入成型外。

用于生产透光层的方法：

通过自旋涂层，可将树脂施加于基片的表面或信息和记录层的表面。树脂的随后的交联可在UV暴露装置上进行，例如：为此，将已涂布的基片放置在传送带上，使其以大约1m/分钟的速度移动通过UV光源(Hg灯，80W)。该方法也可重复进行以影响每m²的辐射能量。至少1J/cm²，优选2-10J/cm²的辐射剂量是优选的。然后可使已涂层的基片经历热的后处理，优选于60℃-120℃的温度下，用热空气处理例如5-30分钟。

用于生产作为高折射率层(HRI)的透光层的方法：

涂层(A)可如下制备：

i)用至少一种有机溶剂替换含水纳米粒子悬浮液中所含的部分水，以便生成的纳米粒子悬浮液(成分A1)具有5-50wt.％的含水量，

ii)加入至少一种粘合剂(成分A2)至纳米粒子悬浮液(成分A1)中，得到浇铸溶液(A^*)，

iii)将浇铸溶液(A^*)施加于基片(S)或信息和记录层(B)上，和

iv)通过热或光化学方法交联浇铸溶液(A^*)。

优选地，在步骤iii)之后，从用浇铸溶液(A^*)覆盖的基片(S)完全或部分除去残留的溶剂和/或在步骤iv)后获得的涂层上施加热后处理(thermal post treatment)。

浇铸溶液A^*任选用超声处理至多5分钟，优选10-60秒钟，和/或通过滤器过滤，优选用0.2μm膜(如RC膜，Sartorius)过滤。可施加超声处理以破坏纳米粒子附聚物(如果存在的话)。

可将浇铸溶液施加于基片表面或信息和记录层的表面。在优选通过自旋除去过量的浇铸溶液后，浇铸溶液的残留物保留在基片上，残留物的厚度取决于浇铸溶液的固体含量，而在自旋涂层的情况下，则取决于自旋条件。可任选除去浇铸溶液中所含的部分或全部溶剂，优选通过热处理。浇铸溶液或残留物的随后的交联通过热方法(例如使用热空气)或光化学方法(例如UV光)进行。光化学交联可在UV暴露装置上进行，例如：为此，将已涂布的基片放置在传送带上，使其以大约1m/分钟的速度移动通过UV光源(Hg灯，80W)。该方法也可重复进行以影响每m²的辐射能量。至少1J/cm²，优选2-10J/cm²的辐射剂量是优选的。然后可使已涂层的基片经历热的后处理，于60℃-120℃的温度下，优选用热空气处理例如5-30分钟。

因此本发明还提供生产透光层的方法，且包括以下步骤：

i)制备单分散纳米粒子在至少一种有机溶剂中的悬浮液，从含水纳米粒子悬浮液开始，除去存在于含水纳米粒子悬浮液中的水并同时用至少一种有机溶剂替换，以使纳米粒子悬浮液具有5-50wt.％的含水量，

ii)加入至少一种粘合剂(成分A2)和任选的额外添加剂(成分A3)至该纳米粒子悬浮液(成分A1)中，得到浇铸溶液(A^*)，

iii)将得自ii)的浇铸溶液施加于基片或信息和记录层(B)上，

iv)任选除去浇铸溶液中所含的部分或全部溶剂，优选通过热处理，得到基片上的残留物，

v)通过热或光化学方法，使该浇铸溶液或残留物交联，和

vi)任选对涂层进行热处理，优选在60-120℃进行。

试验程序的描述：

1.杨氏模数E和品质因数Q的测定

为测定所述材料在约10Hz-10KHz频率范围内的杨氏模数E和阻尼相关的因数Q(品质因数)，采用类似于ASTM E 756-05(图1)中所述的设置。这种测量原理基于所涉及材料的摇臂(oscillating beam)的共振频率f_n的评价。为激发共振频率，将该臂固定在压电振荡器(Piezo-shaker)的一侧，其由从1mHz延伸至10KHz范围的模拟白噪声信号驱动。记录所述臂对激发(exciation)例如速度相对于用激光多普勒振动计(Laser-Doppler-Vibrometer)(LDV)在未固定于压电振荡器的臂尖端测量的频率的响应对例如速度相对于固定在压电振荡器的臂尖端激发的频率的标准化(normalized)。从这个反应曲线，如下计算E和Q：

E = \frac{12 ρ l^{4} f_{n}^{2}}{H^{2} C_{n}^{2}}

方程式1

Q = \frac{2 f_{n}}{Δ f_{n}}

方程式2

其中

E＝臂材料的杨氏模数(Pa)，

f_n＝对模数n的共振频率(Hz)，

Δf_n＝在模数n的半幂(half-power)时的全带宽(FWHM)Hz，

C_n＝对夹紧-可自由振动的(clamped-free)(均匀的)臂的模数n的系数，

H＝臂在震荡方向的厚度(米)，

l＝臂的长度(米)，

n＝模数：1，2，3，

Q＝臂材料的品质因数，无量钢的(dimensionless)，

ρ＝臂的质量密度(kg/m³)

例如，所述臂可剪裁成盘，这可根据上述程序制造或可被注入成型。这种描述应不限制如何制备臂的方法，至少层结构在臂厚度方向上看来是相同的。选择臂宽度W为0.013m和选择长度l，以使共振频率很好地适合测定的频率范围10Hz-10kHz。在测量的f_n低于2000Hz和测量的f_n+1高于2000Hz处，采用从方程式1和方程式2开方得到的各个值，通过线性内插法计算E和Q在2000Hz的值。

2.使用AFM测量纹孔(Pit)高度

纹孔高度通过原子力显微镜检查法，以tapping模式测定。

3.经AFM测定的表面粗糙度

表面粗糙度给定为R_a，根据ASTM E-42.14STM/AFM，通过原子力显微镜检查法，以Tapping模式(Tapping Mode)测得。

4.质量密度

采用Mettler密度套件(Mettler density kit)Mettler AT 250 H66765于室温下，使用乙醇作为浸液，对剪裁成盘状的样品测量质量密度p，或者将盘剪裁成已知宽度W、已知高度H和已知长度1的矩形盘片。矩形盘片的质量m通过用天平(例如Mettler AT 250)称重来确定和ρ通过ρ＝m/(l·H·W)来计算。

5.粘结剂厚度的测量

盘的两半的厚度d₁和d₂用Schenk Prometheus 140脱机扫描仪在DVD基片模型中测定。粘合的盘的总厚度d_t用Schenk Prometheus 140脱机扫描仪在CD基片模型中测定。粘结剂厚度d_B从这些厚度通过下式计算：

d_B＝d_t-(d₁+d₂) 方程式3

6.芯层厚度d_C和皮层厚度d_S1和d_S2的测定：

两个皮层的厚度d_S1和d_S2和芯层的厚度dc通过体视显微镜在盘的横截面的超薄切片上测定。

7.倾角测量(Tilt measurement)

用Schenk Prometheus 140脱机扫描仪测量盘的倾角(tilt)。

8.复数折射率的测量n^*＝n+ik

涂层的复数折射率n^*的实数部分n和复数折射率的虚数部分k(下文也称为吸收常数k)从其发射光谱和反射光谱获得。为获得这些光谱，约100-300nm厚的涂层膜经自旋涂层由稀释溶液施用于石英玻璃载体上。这种层结构的发射光谱和反射光谱通过来自STEAGETA-Optik，CD-测定系统(Measurement System)ETA-RT的分光计测定，然后涂层的层厚和n和k的光谱依存性适于测定发射光谱和反射光谱。使用分光计的内部软件进行拟合，该光谱计需要石英玻璃基片的n和k的光谱依存性，这种依存性已在先前的空白测量中确定，k与光强度的衰减常数α的关系如下：

k = \frac{λ \cdot α}{4 π}

方程式4

λ为光的波长。

9.耐擦伤性的测定

为测定盘基片上的涂层的耐擦伤性，使用具有尖部半径50μm的金刚石针，以1.5cm/s的推进速度和施加40g的重力，在已涂层的基片上沿径向从内向外造成擦痕。擦痕深度使用来自Tencor的AlphaStep 500步长断面仪(profiler)测量。这种擦痕深度被作为耐擦伤性的量度。擦痕深度值小意味着相应涂层的高耐擦伤性。

10.涂层溶液的含水量的测定

涂层溶液的含水量通过Karl Fischer方法测定。

11.透光层厚度的测定

对于1nm-1500nm的厚度范围，采用如将透光层施用于本发明的光记录介质的基片的相同方法，将透光层施用于透明的BPA-聚碳酸酯CD-基片，用空白母盘压模(不存在凹纹和凹槽)模制所述基片。该层结构的发射光谱和反射光谱通过来自STEAG ETA-Optik，CD-测定系统(Measurement System)ETA-RT的分光计测定，该涂层的层厚适于测定的发射光谱和反射光谱。使用分光计的内部软件进行拟合，该分光计需要聚碳酸酯基片的n和k的光谱依存性，这种依存性已在先前的空白测量中确定，而透光层的n和k根据复数折射率n^*＝n+ik的测定中的描述测定。对于1500nm-150000nm的厚度范围，已施用于光记录介质的基片的透光层的厚度通过带有模″用于蓝光/数字视频记录(DVR)光盘的ETA-DVR测量系统″的CD-测量系统ETA-RT测量。为此，透光层的复数折射率的实数部分n是必需的，其根据复数折射率n^*＝n+ik的测量中的描述测定。

现在将参照以下非限制性实施例更详细地描述本发明。

实施例

100nm Ag的反射层(B)(如果施用)通过DC溅射(Reuter LP 800)在基片(S)上形成。

透光层，如果施用于基片(S)上的反射层上，由以下成分和程序获得：

成分A.0

二氧化铈CeO₂-

CeO₂的含水悬浮液：20wt.％CeO₂纳米微粒在77wt.％水和3wt.％乙酸中，悬浮液的pH值：3.0，悬浮的CeO₂纳米微粒的粒度：10-20nm，比重(spec，weight)：1.22g/ml，粘度：10mPa·s，生产商：Nyacol Inc.，Ashland，MA，USA.

成分A.2-1

粘合剂：一缩二季戊四醇五-/六-丙烯酸酯(DPHA，Aldrich)。

成分A.2-2

粘合剂：二丙烯酸己二醇酯(HDDA，Aldrich)。

成分A.3

UV光引发剂：

184(1-羟基-环己基苯基酮)，CibaSpecialty Chemicals Inc.，Basel，瑞士。

以下成分用作实施例中的有机溶剂：

1-甲氧基-2-丙醇(MOP)，生产商：Aldrich

双丙酮醇(DAA)，生产商：Aldrich。

通过如下所述的交叉流动超滤，将CeO₂纳米粒子的含水悬浮液(成分A.0)转变为含有水和MOP的纳米粒子的悬浮液(成分A.1)。

来自PALL(Centramate OS070C12)的带有UF膜盒(membranecassette)(PES，MW 100,000)的膜组件被用于交叉流动超滤(UF)。在2.5巴的压力下进行渗透，弃去含水的渗透物并用醇溶剂1-甲氧基-2-丙醇(MOP)替换减少的渗余物。使用6.5升的成分A.0。如在下表中所示，在不同时长的3次循环后终止过滤，且如此获得纳米粒子在有机溶剂MOP和水的混合物中的悬浮液(成分A.1)。

表1：成分A.1的组成和特性

成分	渗透时间[h:min]	渗透物量[升]	渗余物的含水量¹⁾[wt.％]	固体含量[wt.％]
成分	渗透时间[h:min]	渗透物量[升]	渗余物的含水量¹⁾[wt.％]	固体含量[wt.％]	A.1	15:45	13.2	12.3	30.4

1)通过卡尔·费歇尔滴定法测定

2)含有3wt.％乙酸

具有含水量10wt.％的浇铸溶液(成分A^*)通过混合溶液A和溶液B获得：

溶液A：在搅拌下，将25g的成分A.2-1和6.2g的成分A.2-2溶解于108g溶剂DAA中。然后加入2.35g的成分A.3，于是形成澄清溶液。

溶液B：在玻璃烧瓶中，将54g溶剂DAA加入到435g的成分A.1中并搅拌混合物，此时获得透明的、黄色悬浮液，将其经超声处理30秒钟。在此期间加入32.5g水。

合并溶液A和B，然后再用超声处理30秒钟并经0.2μm滤膜(Minisart RC膜)过滤。如下计算浇铸溶液(成分A^*)的组分：

表2：浇铸溶液成分A^*的组成和特性

	组成wt.％
	组成wt.％	成分A.2-1DPHA	3.77
成分A.2-2HDDA	0.94	成分A.2-1DPHA	3.77
成分A.2-2HDDA	0.94	成分A.3	0.35
CeO₂ ¹⁾	19.94	成分A.3	0.35
CeO₂ ¹⁾	19.94	MOP	20.27
DAA	44.70	MOP	20.27
DAA	44.70	水	10.02
固体含量[wt.％]²⁾	25.0	水	10.02

1)由成分A.1产生的纳米粒子固体部分(这里为CeO₂)

2)各浇铸溶液的标明的固体含量为成分A.2-1+成分A.2-2+成分A.3+纳米粒子固体部分(CeO₂)的总和。

复数折射率的实数部分n经在405nm处测定为1.84和复数折射率的虚数部分k经在405nm处测定为0.004。

为将涂层溶液(成分A^*)施用于圆盘形基片(S)上的反射层(B)上，将成分A^*通过自旋涂布，将成分A^*从sringe以低转速240RPM，经2.1秒钟的时间涂布到已夹紧基片的内径上，将成分A^*以750RPM，经3.5秒钟的时间分布在盘的总面积上，以10RPM，经40秒钟的时间，调整已分布的成分A^*，通过以3000RPM的高旋转速度自旋40秒钟除去过量的成分A^*。用汞灯以5.5J/cm²使涂层交联。透光层的残留物层厚度为730nm。

比较实施例1

根据在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)，本发明的光记录介质的标准1-K模制基片的制备中描述的方法，具有120mm直径、1.2mm厚度的盘由双酚A聚碳酸酯(BPA-PC，相对溶液粘度1.202)Makrolon OD

在装配有模型AWM2313和DVD-ROM母盘压模的Arburg Alldisc注入成型机模制而成。为形成用于依照ASTM E756-05测定杨氏模数E和品质因数Q的试验臂(test beam)，将臂剪裁成具有长度l＝114mm，厚度H＝1.2mm和宽度W＝12.7mm的各个盘。质量密度经Mettler密度套件Mettler AT 250H66765测定为1.190g/cm³。随即杨氏模数E和品质因数Q在2000Hz处测定为E＝2.53GPa和Q＝167。

比较实施例2

根据在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)，本发明的光记录介质的标准1-K模制基片的制备中描述的方法，具有13.1mm宽度W和81mm长度l的1.64mm厚的试验臂由聚苯乙烯(CAS-no.298-07-7，分子量140000道尔顿，Aldrich/德国)在Arburg 370注入成型机上直接注入成型。质量密度经Mettler密度套件Mettler AT 250 H66765测定为1.014g/cm³。随即杨氏模数E和品质因数Q在2000Hz处按照ASTME 756-05测定为E＝3.28GPa和Q＝175。

比较实施例3

根据在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)，本发明的光记录介质的标准1-K模制基片的制备中描述的方法，具有13.1mm宽度W和81mm长度l的1.64mm厚的试验臂由具有溶液粘度1,202和20重量-％碳纤维(碳纤维Tenax-U Type 234，Toho Tenax Europe GmbHWuppertal德国)的双酚A制得的聚碳酸酯化合物(化合物4)在Arburg370注入成型机上直接注入成型。质量密度经Mettler密度套件MettlerAT 250 H66765测定为1.206g/cm³。随即杨氏模数E和品质因数Q在2000Hz处按照ASTM E 756-05测定为E＝6.18GPa和Q＝170。

实施例1(基片)

化合物(化合物1)由具有溶液粘度1.202的79,95wt.％BPA-聚碳酸酯(Makrolon OD

Bayer MaterialScience)、5wt.％聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA

Degussa)、15wt.％滑石粉(Finntalc

Mondo Minerals，Helsinki/芬兰)和0,05wt.％甘油单硬脂酸酯(Dimodan，Danisco/德国)制备，方法是通过在ZSK 25/4挤压机(Coperion HoldingGmbH，Stuttgart/德国)上混合各成分并将熔融的挤压条(strands)在水浴中冷却后造粒。这些粒料在1-K注入成型过程中，以单一成分注入成型方法(1-K模制成型)，使用装配有夹层板，Philips CD-Mould和DVD-ROM母盘压模的Arburg 370U 70030/302-K注入成型机模制成如上所述的120mm直径和1.2mm厚度的盘。如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表3中。

实施例2(光记录介质)

将如上所述的反射层和透光层施用于实施例1的盘基片上。擦痕深度被测定为0.638μm和表面粗糙度被测定为R_a＝9.99nm，如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表3中。

实施例3(基片)

化合物(化合物2)由59.90wt.％BPA-聚碳酸酯(Makrolon OD

Bayer MaterialScience)、10wt.％聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA

Degussa)、30wt.％滑石粉(Finntalc

Mondo Minerals，Helsinki/芬兰)、0.05wt.％双(2-乙基己基)磷酸酯(CAS-no.298-07-7，Alfa Aesar GmbH&Co KG，Karlsruhe/德国)和0.05wt.％甘油单硬脂酸酯(Dimodan，Danisco/德国)通过在ZSK 25/4挤压机(Coperion HoldingGmbH，Stuttgart/德国)混合各成分并将熔融的挤压条(strands)在水浴中冷却后造粒来制备。这些粒料在1-K注入成型过程中，以单一成分注入成型方法(1-K模制成型)，使用装配有夹层板，Philips CD-Mould和DVD-ROM母盘压模的Arburg 370U 70030/302-K注入成型机模制成如上所述的120mm直径和1.2mm厚度的盘。如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表3中。

实施例4(光记录介质)

将如上所述的反射层和透光层施用于实施例3的盘基片上。擦痕深度被测定为0.706μm和表面粗糙度被测定为R_a＝8.06nm。如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表3中。

实施例5(基片)

化合物(化合物3)由77.95wt.％BPA-聚碳酸酯(Makrolon OD

Bayer MaterialScience)、10wt.％聚甲基甲基丙烯酸酯(PMMA

Degussa)、12wt.％石墨Cond 5/99(Graphit Kropfmühl AG，Hauzenberg/德国)和0.05wt.％甘油单硬脂酸酯(Dimodan，Danisco/德国)通过在ZSK 25/4挤压机(Coperion Holding GmbH，Stuttgart/德国)混合各成分并将熔融的挤压条(strands)在水浴中冷却后造粒来制备。这些粒料在1-K注入成型过程中，以单一成分注入成型方法(1-K模制成型)，使用装配有夹层板，Philips CD-Mould和DVD-ROM母盘压模的Arburg 370U 70030/302-K注入成型机模制成如上所述的120mm直径和1.2mm厚度的盘。如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表3中。

实施例6(光记录介质)

将如上所述的反射层和透光层施用于实施例3的盘基片。擦痕深度被测定为0.690μm和表面粗糙度被测定为R_a＝3.7nm。如在单一成分注入成型方法(1-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表3中。

表3：1-K模制成型

	树脂/化合物	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q
	树脂/化合物	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q	实施例1	化合物1	1.297	4.46	103
实施例2	化合物1	1.298	4.56	107	实施例1	化合物1	1.297	4.46	103
实施例2	化合物1	1.298	4.56	107	实施例3	化合物2	1.431	7.67	82.8
实施例4	化合物2	1.427	7.46	93.1	实施例3	化合物2	1.431	7.67	82.8
实施例4	化合物2	1.427	7.46	93.1	实施例5	化合物3	1.245	4.91	69.0
实施例6	化合物3	1.259	5.10	77.2	实施例5	化合物3	1.245	4.91	69.0
实施例6	化合物3	1.259	5.10	77.2	比较实施例1	BPA-聚碳酸酯	1.190	2.53	167
比较实施例2	聚苯乙烯	1.014	3.28	175	比较实施例1	BPA-聚碳酸酯	1.190	2.53	167

	树脂/化合物	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q
	树脂/化合物	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q	比较实施例3	化合物4	1.206	6.18	170

实施例7

120mm直径和1.2mm厚度的2-K夹层注入成型模制盘如在上文两种成分的夹层注入成型方法(2-K模制成型)中所述，使用装配有夹层板、Philips CD-Mould和DVD-ROM母盘压模的Arburg 370U 70030/302-K注入成型机，由在实施例3中描述的作为芯树脂的化合物2的粒料和作为作为表皮树脂的BPA-聚碳酸酯的粒料(Makrolon OD

Bayer MaterialScience)制成。机器设置被设定在第一次喷丸时的50％配料体积的表皮材料在和在第二次喷丸时的50％配料体积的芯材料。在第三次喷丸时用表皮材料密封注入口。在该盘上测定的平均芯层厚度d_C为57％的总厚度和两个平均表皮层厚度d_S1和d_S2分别为21.5％的总厚度。如在两种成分的夹层注入成型方法(2-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表4中。

实施例8

将如上所述的反射层和透光层施用于实施例7的盘基片上。擦痕深度被测定为0.665μm和表面粗糙度被测定为R_a＝7.91nm。如在两种成分的夹层注入成型方法(2-K模制成型)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表4中。

表4：2-K夹层模制成型

	皮层	芯	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q
	皮层	芯	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q	实施例7	BPA-聚碳酸酯	化合物2	1.328	3.44	122
实施例8	BPA-聚碳酸酯	化合物2	1.324	3.51	136	实施例7	BPA-聚碳酸酯	化合物2	1.328	3.44	122

实施例9

120mm直径和1.2mm厚度的UV粘合的盘如在上文的UV-粘合方法(UV粘合)中所述，采用上述Singulus的流水生产线II DVD-R的配置，由BPA-聚碳酸酯(Makrolon ODBayer MaterialScience)粒料模制的0.6mm厚的两个半盘制备。UV粘结剂由67.9wt.％Desmolux XP

Bayer MaterialScience，29.1wt.％Sartomer SR

Sartomer和2.9wt.％(Darocur

Ciba)的混合物组成。这些成分的混合使用SpeedMixer^TM根据本领域技术人员已知的技术状况进行。UV粘结剂的分布在自旋台上进行和UV固化也如上所述通过使用达到～90μm粘合层厚度的设置进行。在该盘上测量的平均粘合剂层厚度d_B为89μm。如在UV-粘合方法(UV粘合)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表5中。

实施例10

将如上所述的反射层和透光层施用于实施例9的盘基片上。擦痕深度被测定为0.523μm和表面粗糙度被测定为R_a＝3.6nm。如在UV-粘合方法(UV粘合)中所述，从该盘基片制备试验臂。测量的杨氏模数E和品质因数Q描述于表5中。

表5：UV粘合

	基片	粘结剂	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q
	基片	粘结剂	密度(g/cm³)	在2kHz的E(GPa)	在2kHz的Q	实施例9	BPA-聚碳酸酯	粘结剂1	1.187	2.19	14.0
实施例10	BPA-聚碳酸酯	粘结剂1	1.186	2.33	15.3	实施例9	BPA-聚碳酸酯	粘结剂1	1.187	2.19	14.0

本领域技术人员应该理解，可对上述实施方案进行各种修改而不背离其广泛发明概念。因此，应该理解，本发明不限于公开的具体实施方案，而是意欲覆盖由所附权利要求书限定的、在本发明的精神和范围内的各种修饰。

Claims

1.一种光记录介质，其包含基片和顺序布置在基片上的记录层和透光层；其中基片包含一个或多个选自注入成型部分、具有模制表面层和模制芯层的注入成型夹层结构或两个经UV-粘合的注入成型部分，及其组合的部分；且其中基片在25℃、2000Hz下，按照ASTME 756-05测定时，具有至少2.15GPa的杨氏模数E和低于160的品质因数。

2.依据权利要求1的光记录介质，其中基片在25℃、2000Hz下，按照ASTM E 756-05测定时，具有至少2.15GPa的杨氏模数E和低于100的品质因数。

3.依据权利要求1的光记录介质，其中基片在25℃、2000Hz下，按照ASTM E 756-05测定时，具有至少2.93GPa的杨氏模数E和低于160的品质因数。

4.依据权利要求1的光记录介质，其中透光层包含UV可固化和自旋-可涂布的树脂，所述树脂具有的折射率为实数部分n为至少1.41的折射率。

5.依据权利要求1的光记录介质，其中透光层包含UV可固化和自旋-可涂布的树脂，其具有：(i)折射率的实数部分n为至少1.70和虚数部分k为最多0.016的复数折射率；(ii)低于20nm的表面粗糙度R_a；和(iii)不大于0.75μm擦痕深度的耐擦伤性；其中复数折射率的实数部分n和虚数部分k以400-410nm的波长测定；其中表面粗糙度R_a通过原子力显微镜检查法测定；且其中擦痕深度通过在施用40g的重力下，将具有50μm尖部半径的金刚石针在透光层上以1.5cm/s的推进速度移动来测定。

6.依据权利要求1的光记录介质，其中透光层包含UV可固化和自旋-可涂布树脂，其包含具有平均粒度(d₅₀)少于100nm的纳米微粒。

7.依据权利要求1的光记录介质，其中透光层具有1nm-少于3000nm厚度。

8.依据权利要求1的光记录介质，其中透光层具有200nm-少于2000nm的厚度。

9.依据权利要求1的光记录介质，其中透光层具有500nm-少于1500nm的厚度。

10.依据权利要求1的光记录介质，其中基片包含通过1-K注入成型方法制备的部分。

11.依据权利要求1的光记录介质，其中基片包含通过2-K夹层注入成型方法制备的部分。

12.依据权利要求1的光记录介质，其中基片包含通过UV-粘合方法粘结的两个注入成型基片。

13.依据权利要求1的光记录介质，其中基片包含选自聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、聚环烯烃树脂、氢化聚苯乙烯树脂，及其组合的树脂。

14.依据权利要求1的光记录介质，其中基片包含用通式(1)的芳族二羟基单体化合物制备的聚碳酸酯树脂：

HO-Z-OH(1)

其中Z表示通式(Ia)的基团：

其中各R¹和R²独立地表示H或C₁-C₈-烷基；且X表示单键、C₁-C₆-烷撑基、C₂-C₅-烷叉基或任选的C₁-C₆-烷基-取代的C₅-C₆-亚环烷基；前提是当X表示3，3，5三甲基亚环己基时，R¹和R²各自表示氢。

15.依据权利要求2的光记录介质，其中基片包含选自聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、聚环烯烃树脂、氢化聚苯乙烯树脂，及其组合的树脂。