JP2006107599A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

【課題】 ４０５ｎｍ程度の短波長の光による情報の記録及び再生の効率が高く、長期にわたって使用した際にも低複屈折でありかつ反りが発生しにくく、表面耐擦傷性にも優れた光ディスクを提供する。
【解決手段】 ポリカーボネート樹脂からなる支持基盤、前記支持基盤の一方の面に積層された記録層、及び、前記記録層の支持基盤とは反対側の面に積層された光透過層を有する光ディスクであって、前記光透過層は、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を３０〜７０モル％、下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位を７０〜３０モル％含有し、数平均分子量が１０００〜５０万であるマレイミド−オレフィン共重合体を含有する光ディスク。
【化１】

式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
式（ＩＩ）中、Ｒ^２、Ｒ^３は、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【選択図】 なし

Description

本発明は、４０５ｎｍ程度の短波長の光による情報の記録及び再生の効率が高く、長期にわたって使用した際にも低複屈折でありかつ反りが発生しにくく、表面耐擦傷性にも優れた光ディスクに関する。

コンパクトディスク（ＣＤ：Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｋ）、ＤＶＤ(Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖ
ｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｋ)、光磁気記録ディスク等の光ディスクは、透明なプラスチ
ックからなる支持基盤上に、微細な凹凸を有するビット列や溝からなる信号情報を記録した記録層が形成されたものであり、記録層に対向する側からレーザー光等の光を照射したときに記録層上の信号情報に応じて反射光量が変化することを利用して情報の記録及び再生を行うシステムである。

図１に、光ディスクの一例の断面を示す模式図を示した。図１に示した光ディスク１は、支持基盤２と、支持基盤２上に積層された記録層４と、記録層４上に積層された光透過層３との３層構造からなる。光透過層３は、「ダミー」とも呼ばれ、記録層３の表面を保護すると同時に光ディスク全体の強度を向上させる役割をも有する。光ディスクにおいては、光透過層３側からレーザー等の光を照射して記録層上に情報を記録したり、記録された情報を読み取ったりする。支持基盤２や光透過層３としては、強度特性と光学特性とに優れたポリカーボネート樹脂が主に用いられている。

近年、より多くの映像情報や動画情報等を記録、再生するために、記録容量を大幅に大容量化した光ディスクが求められている。このような次世代光ディスクと呼ばれる大容量光ディスクのなかには、記録容量が２０ＧＢを超えるものも登場しはじめている。このような大きな記録容量を実現するためには、記録層のトラックピッチを狭小化したりビット長を縮小化したりすることが必要とされる。これに対応して、情報の記録及び再生を行う光も、より短波長のものが求められており、波長４０５ｎｍ程度の短波長青色レーザーを用いることが検討されている。

波長４０５ｎｍ程度の短波長青色レーザーを用いて、効率よく情報の記録及び再生を行うためには、光透過層の短波長青色レーザーの透過性と複屈折とが重要である。即ち、短波長の青色レーザーの透過を妨げず、かつ、正確に透過することが重要である。
従来から用いられているポリカーボネート樹脂は、波長４０５ｎｍ程度の短波長青色レーザーの透過性も高く、複屈折も低いことから、次世代光ディスクにおいても採用が検討されている。しかしながら、汎用の光ディスクにおいては、ディスクの表面に傷が付いたりして情報の記録及び再生に支障が出るのを防止する目的で、光透過層の表面にハードコート層を設けて耐擦傷性を向上させる必要があるところ、このようなハードコート層を設けた場合には光透過層にはハードコート層の収縮応力がかかることになる。ポリカーボネート樹脂からなる光透過層は、初期の複屈折こそ小さいものの、光弾性係数が大きいことから、長期間にわたって収縮応力がかかった場合には低複屈折を維持することができなくなる。従来の比較的低容量の光ディスクではある程度複屈折が変化しても問題はなかったが、次世代光ディスクにおいては、このような複屈折の変化も問題となる。また、ポリカーボネート樹脂自体は、表面硬度が低く、ハードコート層を設けても、最終的に到達できる表面硬度に限界があった。以上のことから、ポリカーボネート樹脂以外の樹脂からなる光透過層が検討されていた(例えば、特許文献１〜３）。

特許文献３には、表面硬度が高いアクリル樹脂フィルムからなる光透過層が開示されてい
る。従来のアクリル樹脂フィルムは、極めて透明性に優れており、４０５ｎｍ程度の短波長青色レーザーの透過性にも優れる。しかしながら、アクリル樹脂フィルムを光透過層として用いた光ディスクでは、使用時に光ディスク自体に反りが生じてしまい、反射光の方向に大きなずれが生じ、記録層の信号情報を正確に読み取ることが困難となることがあるという問題があった。このような反りを低減させる方法として特許文献３には、アクリル樹脂フィルムの貯蔵弾性率を増加させる方法が試みられているが、貯蔵弾性率を増加させたアクリル樹脂フィルムは表面の硬度が低下して傷がつき易くなり、ハードコート層を設けても光ディスク全体としては充分な耐擦傷性を得ることができないという問題があった。

特開２０００―６７４６８号公報 特開２００１―２４３６５９号公報 特開２００４−２１３８６６号公報

本発明は、上記現状に鑑み、４０５ｎｍ程度の短波長の光による情報の記録及び再生の効率が高く、長期にわたって使用した際にも低複屈折でありかつ反りが発生しにくく、表面耐擦傷性にも優れた光ディスクを提供することを目的とする。

本発明は、ポリカーボネート樹脂からなる支持基盤、前記支持基盤の一方の面に積層された記録層、及び、前記記録層の支持基盤とは反対側の面に積層された光透過層を有する光ディスクであって、前記光透過層は、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を３０〜７０モル％、下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位を７０〜３０モル％含有し、数平均分子量が１０００〜５０万であるマレイミド−オレフィン共重合体を含有する光ディスクである。

式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
式（ＩＩ）中、Ｒ^２、Ｒ^３は、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
以下に本発明を詳述する。

材料の異なる支持基盤と光透過層とを積層した光ディスクにおいて反りが発生する原因は
、両層の吸水性や熱膨張性の差により使用環境中における両層の体積変動量が異なるためであると考えられる。本発明者らは、特定の構造を有するマレイミド−オレフィン共重合体からなるフィルムは、極めて高い貯蔵弾性率を発揮し、異なる樹脂からなる支持基盤と積層しても、ほとんど反りの発生がないことを見出した。更に、マレイミド−オレフィン共重合体からなるフィルムは、４０５ｎｍ程度の短波長の光の透過率にも優れ、低複屈折であり、かつ、光弾性係数が大きいことからハードコート層を積層した場合でも長期間にわたって低複屈折を維持することができることから、光ディスクの光透過層に最適であることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の光ディスクは、支持基盤、記録層、及び、光透過層を有する積層構造体である。上記支持基盤は、本発明の光ディスクの強度等を確保するための部材であり、ポリカーボネート樹脂からなる。現在、世界標準の光ディスクのほとんどは、ポリカーボネート樹脂からなるものであり、全世界でポリカーボネート樹脂を用いた光ディスクの製造プラントが稼働している。本発明の光ディスクも、支持基盤としてポリカーボネート樹脂からなるものを用いることにより、極めて高い生産性で製造することができる。

上記支持基盤の厚さとしては特に限定されないが、現在のＣＤやＤＶＤの主な規格から、好ましい下限は０．４mm、好ましい上限は１．２mmである。

上記記録層は、微細な凹凸を有するビット列や溝からなる信号情報により映像情報等を記録する役割を有する。上記記録層は、従来公知の無機材料又は有機材料からなるものを用いることができ、必要に応じて接着剤等を用いて上記光透過層に積層される。
上記記録層及び必要により用いられる接着剤層の厚さとしては特に限定されないが、現在のＣＤやＤＶＤの主な規格から、好ましい下限は１５μm、好ましい上限は２５０μmである。

上記光透過層は、上記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、上記一般式（ＩＩ）で表される構成単位とを含有するマレイミド−オレフィン共重合体からなる。このようなマレイミド−オレフィン共重合体からなるフィルムは、極めて高い貯蔵弾性率を発揮することから、異種樹脂からなる支持基盤と積層した場合にも反りの発生がほとんどない。また、このようなマレイミド−オレフィン共重合体からなるフィルムは、４０５ｎｍ程度の短波長の光の透過率にも優れ、低複屈折であり、かつ、光弾性係数が小さいことからハードコート層を積層した場合でも長期間にわたって低複屈折を維持することができる。更に、ハードコート層と併用することにより、光ディスク全体として極めて高い耐擦傷性を発揮することができる。
このようなマレイミド−オレフィン共重合体を含有する光ディスクの光透過層もまた、本発明の１つである。

上記マレイミド−オレフィン共重合体における、上記一般式（Ｉ）で表される構成単位の含有量の下限は３０モル％、上限は７０モル％である。３０モル％未満であると、得られる光透過層が充分な耐熱性や透明性を発揮できず、７０モル％を超えると、成形加工性が悪く、工業レベルで光透過層を製造することが困難である。好ましい下限は４０モル％、好ましい上限は６０モル％である。

上記マレイミド−オレフィン共重合体の数平均分子量の下限は１０００、上限は５０万である。１０００未満であると、充分な強度を有する光透過層を形成することができず、５０万を超えると溶融粘度が高くなりすぎて成形性が極端に低くなる。好ましい下限は１万、好ましい上限は２０万である。

上記マレイミド−オレフィン共重合体は、上記一般式（Ｉ）で表される構成単位の由来と
なるマレイミド系重合性モノマーと、上記一般式（ＩＩ）で表される構成単位の由来となるオレフィン系重合性モノマーとを、従来公知の方法により共重合することにより製造することができる。

上記マレイミド系重合性モノマーとしては特に限定されず、例えば、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−ｉ−プロピルマレイミド、Ｎ−ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｉ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｓ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｔ−ブチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ペンチルマレイミド、Ｎ−ｎ−ヘキシルマレイミド、等のＮ−置換マレイミド類が挙げられる。なかでも、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド又はＮ−シクロヘキシルマレイミドが好適である。これらのマレイミド系重合性モノマーは単独で用いられてもよく、２種以上を併用してもよい。

上記オレフィン系重合性モノマーとしては特に限定されず、例えば、イソブテン、２−メチル−１−ブテン、２−メチル−１−ペンテン、２−メチル−１−ヘキセン、１−メチル−１−ヘプテン、１−イソオクテン、２−メチル−１−オクテン、２−エチル−１−ペンテン等が挙げられる。これらのオレフィン系重合性モノマーは単独で用いられてもよく、２種以上を併用してもよい。

上記光透過層は、上記マレイミド−オレフィン共重合体の他に、アクリロニトリル−スチレン共重合体を含有することが好ましい。上記マレイミド−オレフィン共重合体とアクリロニトリル−スチレン共重合体とを混合した混合樹脂からなるフィルムは、上記マレイミド−オレフィン共重合体単独からなるフィルムよりも更に複屈折が小さく、かつ、光弾性係数が小さいものとなるので好ましい。これは、正の複屈折を有するマレイミド−オレフィン共重合体と、負の複屈折を有するアクリロニトリル−スチレン共重合体とを混合して用いることで、これらが相溶したときに互いの複屈折を打ち消し合うためと考えられる。

上記アクリロニトリル−スチレン共重合体は、アクリロニトリル単位の含有量の好ましい下限は２１重量％、好ましい上限は４５重量％である。この範囲外であると、上記マレイミド−オレフィン共重合体とアクリロニトリル−スチレン共重合体との相溶性が低下して、得られるフィルムの透明性が低下したり、耐熱性が低下したりする。

上記混合樹脂におけるマレイミド−オレフィン共重合体の含有量の好ましい下限は１重量％、好ましい上限は９９重量％である。１重量％未満であると、光透過層の反りの発生を充分に抑制できなかったり、充分な低複屈折を実現できないことがあり、９９重量％を超えると、加工温度が高くなり加工時にアクリロニトリル−スチレン共重合体が劣化してしまったり、充分な低複屈折を実現できなかったりすることがある。より好ましい下限は５０重量％、より好ましい上限は９０重量％である。

上記混合樹脂は、マレイミド系樹脂の欠点である可とう性の不足を改善する目的で、屈折率が上記マレイミド−オレフィン共重合体と略同一であるゴム粒子、熱可塑性エラストマー等を含有してもよい。

上記光透過層は、本発明の目的に反しない範囲で、その他の樹脂や、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、可塑剤、加工助剤、難燃剤、帯電防止剤等の従来公知の添加剤を含有してもよい。ただし、紫外線吸収剤を用いる場合には、後述する波長４０５ｎｍにおける光透過率を実現できる程度にすることが重要である。

上記光透過層上に後述するハードコート層を積層する場合には、上記光透過層の表面にコロナ放電処理や紫外線照射処理等の親水化処理を施してもよい。

上記光透過層は、ＪＩＳ Ｋ ７１２７に準ずる方法により測定される引張弾性率が２５００ＭＰａ以上、かつ、引張破壊強度が６０ＭＰａ以上であることが好ましい。引張弾性率が２５００ＭＰａ未満であるか、又は、引張破壊強度が６０ＭＰａ未満であると、上記支持基盤と積層したときに反りの発生を抑制できないことがある。

上記光透過層は、波長４０５ｎｍにおける光透過率の好ましい下限が８７％である。８７％未満であると、記録層からの反射光が光透過層を通過する際に吸収されてしまい、信号強度が低下してしまうことがある。より好ましい下限は９０％である。

上記光透過層は、波長４０５ｎｍにおける複屈折とフィルム厚みの積で定義されるレターデーションの好ましい上限が２０ｎｍである。２０ｎｍを超えると、光ディスクに書き込む際及び読み出す際の信号精度が低下することがある。より好ましい上限は１０ｎｍ、更に好ましい上限は５ｎｍ、特に好ましい上限は２ｎｍである。複屈折が２ｎｍ以下である場合には、特に容量が２０ＧＢを超えるような大容量の次世代ディスクとして有用である。

上記光透過層を構成する樹脂の光弾性係数は２．０×１０^−１１Ｐａ^−１以下であることが好ましい。ここで光弾性係数とは、下記式（４）により算出されるものであり、外力に対する複屈折の変化を示す値である。
光弾性係数（ｃ） ＝ 複屈折（Δｎ）／応力（σ）

即ち、光弾性係数が小さいほど、外力による複屈折の変化量が小さなものとなる。光弾性係数が２．０×１０^−１１Ｐａ^−１を超えると、外力による変形により光学性能が大きく変化するため、光ディスクの用途に用いることが困難となる。より好ましくは１．０×１０^−１１Ｐａ^−１以下である。

上記光透過層は、ヘイズ値の好ましい上限が１％である。１％を超えると、効率よく情報の記録及び再生ができないことがある。より好ましい上限は０．５％である。

上記光透過層は、厚さの好ましい下限が１５μｍ、好ましい上限が２５０μｍである。１５μｍ未満であると、強度が不足して、成膜等も困難であり、２５０μｍを超えると、厚さの精度を制御することが困難となる。より好ましい下限は２５μｍ、より好ましい上限は１５０μｍである。
上記光透過層は、膜の厚さの精度が±２．０μｍ以内であることが好ましい。±２．０μｍを超えると、正確な情報の記録及び再生ができないことがある。より好ましくは±１．５μｍ以内である。

上記光透過層を形成する方法としては特に限定されず、例えば、上記マレイミド−オレフィン共重合体又は混合樹脂を溶媒に溶解し、ポリエチレンテレフタレートフィルム等上に塗布、乾燥する方法；上記マレイミド−オレフィン共重合体又は混合樹脂を加熱溶融し、射出成形して作製する方法；上記マレイミド−オレフィン共重合体又は混合樹脂を加熱溶融し、押出し成形する方法；上記マレイミド−オレフィン共重合体又は混合樹脂を加熱溶融して圧縮成形する方法；上記マレイミド−オレフィン共重合体又は混合樹脂をスチールベルト、金属箔等状に塗布、乾燥する方法等が挙げられる。

本発明の光ディスクは、光透過層側の表面にハードコート層を有することが好ましい。上記ハードコート層は、光透過層の表面の耐擦傷性を向上させる役割を有する。
上記ハードコート層は、１Ｈ以上の鉛筆硬度を有するものであれば特に限定されず、例えば、クリアハードコート、防眩性を有するハードコート、反射防止性を有するハードコー
ト、帯電防止性を有するハードコート等のいずれでもよく、２層以上から構成されていてもよい、ハードコート層以外に上記光透過層との間に帯電防止層や下塗り層（プライマー層）が構成されていてもよい。

上記ハードコート層を構成する材料としては、少なくとも有機材料が含まれているものであって、有機材料単独でも、防眩性を付与する等の目的で無機超微粒子等の無機材料が配合されたハイブリッド材料であってもよい。
上記ハードコート層に用いられる有機材料としては特に限定されず、例えば、光カチオン系、無機微粒子分散アクリルラジカル系、アクリルラジカル系等電離放射線硬化型樹脂；メラミン系、フェノール系、ウレタン系、アルキド系、尿素系、オルガノシラン系等の熱硬化型樹脂；熱可塑性樹脂等が挙げられる。
上記ハードコート層は、更に、紫外線吸収剤や酸化防止剤等の安定剤を含有してもよい。

上記ハードコート層は、厚さの好ましい下限が３μｍ、好ましい上限が２０μｍである。３μｍ未満であると、充分な鉛筆硬度を得ることができないことがあり、２０μｍを超えると、フィルムが脆くなって搬送中に破断が起きたり、カールが大きくなってハンドリング性が低下したりする等の問題が発生することがある。

上記ハードコート層上には、更に低屈折率層や高屈折率層をドライプロセス又はウェットプロセスでコーティングし、反射防止機能を付与させてもよい。その他、帯電防止機能層や防汚機能層を積層してもよい。

本発明の光ディスクを製造する方法としては特に限定されず、上記支持基盤状に形成した記録層、光透過層を接着剤や粘着シートを介して積層する方法や、熱融着させる方法等が挙げられる。

本発明によれば、４０５ｎｍ程度の短波長の光による情報の記録及び再生の効率が高く、長期にわたって使用した際にも低複屈折でありかつ反りが発生しにくく、表面耐擦傷性にも優れた光ディスクを提供することができる。

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。

（実施例１）
（１）光透過層の調製
マレイミド系共重合体樹脂（東ソー社製、ＯＰＰ：マレイミド成分含有量５０モル％、イソブテン成分含有量５０モル％）と、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ダイセル化学社製、ＳＦ０８０：アクリロニトリル含量２５モル％、スチレン含量７５モル％）とを８０：２０の重量比で２軸溶融押出機に供給して２７０℃で溶融混合しペレタイズした後、１１０℃で３時間予備乾燥して混合樹脂を得た。
得られた混合樹脂を用い、押出成形法により平均厚さ７５μｍの光透過層用フィルムを得た。

（２）光ディスクの製造
直径１２ｃｍ、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート製の支持基盤上に、記録層を介してアクリル系粘着フィルムを厚さ２０μｍでラミネートし、この粘着フィルム上に、得られた光透過層用フィルムをラミネートした。
更に、形成された光透過層にコロナ処理を施した。コロナ処理後の光透過層表面の水によ
る接触角は４９°であった。

コロナ処理面にＵＶ硬化型シリコーンハードコート剤（商品名：ＵＶＨＣ−１１０５ ＧＥ東芝シリコーン社製）をイソプロピルアルコールで固形分が５０％になるよう希釈したものを、ワイヤーバーで塗布した。８０℃で５分間乾燥させ溶剤を除去した後、高圧水銀灯で空気下、１．０Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。得られたハードコート層の厚さは５μｍであった。
以上の操作により、支持基盤、記録層、光透過層及びハードコート層からなる光ディスクを得た。

（比較例１）
芳香族ポリカーボネート樹脂ペレット（帝人化成社製、商品名「パンライト（登録商標：グレードＣ−１４００ＱＪ）」）：粘度平均分子量３８，０００）を乾燥した後、塩化メチレン溶媒に溶解させ、コートハンガーダイに導入し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に乾燥後の厚さが７５μｍとなるように流延し、乾燥することによりポリカーボネートフィルムを得た。
得られたポリカーボネートフィルムを光透過層用フィルムとした以外は実施例１と同様にして光ディスクを製造した。

（評価）
実施例１及び比較例１で得られた光透過層用フィルム及び光ディスクについて、以下の方法により評価を行った。
結果を表１に示した。

（１）光透過層用フィルムの引張弾性率及び引張破壊伸びの測定
ＪＩＳ Ｋ ７１２７に準じて、ＴＥＮＳＩＬＯＮ（オリエンテック社製）を用いて、下記の条件にて測定を行った。
チャック間距離 １５０ｍｍ
フィルム幅 ２０ｍｍ
引張速度 ２０ｍｍ／分

（２）光透過層用フィルムの光透過性の評価
ヘイズメーター（東京電色社製、ＴＣ−ＨＩＩＩＤＫＰ）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準じて波長４０５ｎｍの光の光透過性を測定した。

（３）光透過層用フィルムの複屈折の評価
自動複屈折計（王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、測定波長４０５ｎｍにおける複屈折を測定した。

（４）光透過層用フィルムの光弾性係数の評価
フィルム幅１０ｍｍ×１０ｍｍに切り出し、長辺方向に０、５００、１０００、１５００ｇの荷重をかけた状態で、王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて測定波長５５０ｎｍで位相差を測定した。荷重に対して位相差をプロットしたときの近似直線の傾きから、光弾性係数を求めた。

（５）光ディスクの耐擦傷性の評価
光透過層側の面について、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４に記載された鉛筆引っ掻き値の試験方法に準じて鉛筆硬度を測定した。

（６）光ディスクの反りの評価
光ディスクを８０℃、湿度９０％の条件下で１０日間放置した後、反り量を実体顕微鏡を用いて観察することにより測定した。得られたデータのうちの最大値をカール高さとした。

本発明によれば、４０５ｎｍ程度の短波長の光による情報の記録及び再生の効率が高く、長期にわたって使用した際にも低複屈折でありかつ反りが発生しにくく、表面耐擦傷性にも優れた光ディスクを提供することができる。

光ディスクの断面の一例を示す模式図である。

符号の説明

１ 光ディスク
２ 支持基盤
３ 光透過層
４ 記録層

Claims (5)

1. ポリカーボネート樹脂からなる支持基盤、前記支持基盤の一方の面に積層された記録層、及び、前記記録層の支持基盤とは反対側の面に積層された光透過層を有する光ディスクであって、
   前記光透過層は、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を３０〜７０モル％、下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位を７０〜３０モル％含有し、数平均分子量が１０００〜５０万であるマレイミド−オレフィン共重合体を含有する
   ことを特徴とする光ディスク。
   

   

   式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   式（ＩＩ）中、Ｒ^２、Ｒ^３は、水素又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
2. 光透過層は、アクリロニトリル単位を２１〜４５重量％含有するアクリロニトリル−スチレン共重合体を含有することを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
3. 光透過層側の表面にハードコート層を有することを特徴とする請求項１又は２記載の光ディスク。
4. 下記一般式（Ｉ）で表される構成単位を３０〜７０モル％、下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位を７０〜３０モル％含有し、数平均分子量が１０００〜５０万であるマレイミド−オレフィン共重合体を含有することを特徴とする光ディスクの光透過層。
5. アクリロニトリル単位を２１〜４５重量％含有するアクリロニトリル−スチレン共重合体を含有することを特徴とする請求項４記載の光ディスクの光透過層。

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