TW200931575A - Clean conveyance system - Google Patents

Clean conveyance system Download PDF

Info

Publication number
TW200931575A
TW200931575A TW97133742A TW97133742A TW200931575A TW 200931575 A TW200931575 A TW 200931575A TW 97133742 A TW97133742 A TW 97133742A TW 97133742 A TW97133742 A TW 97133742A TW 200931575 A TW200931575 A TW 200931575A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
air
opening
floating
closed
clean
Prior art date
Application number
TW97133742A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI379375B (zh
Inventor
Kensuke Hirata
Yoshiyuki Wada
Kai Tanaka
Susumu Murayama
Original Assignee
Ihi Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ihi Corp filed Critical Ihi Corp
Publication of TW200931575A publication Critical patent/TW200931575A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI379375B publication Critical patent/TWI379375B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/6776Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Description

200931575 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於最適合顯示裝置製造等需要潔淨環境作 業的搬運系統。 【先前技術】 液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP )、電致發 〇 光顯示器(eld)等顯示裝置的製造,是需要避免微細麈 埃或水分的附著’因此需要潔淨環境。潔淨環境並不只針 對各作業’對於連結各作業間的搬運裝置也是相同期望能 夠達到潔淨環境。 通常,爲了達到上述潔淨環境,利用無塵室。典型的 無塵室’具備:具有腔室可使空氣流動在內部的天花板; 具有和天花板相同腔室的地板;及可連通兩腔室使空氣回 流的風管。再加上,無塵室又具有利用特別濾器從空氣去 ® 除微細塵埃及其他污染物質的送風裝置,典型的例如該送 風裝置是設置在天花板。淨化後的空氣是利用送風裝置從 .天花板流下,藉此使內部達到潔淨環境。爲了維持高標準 . 淨化程度,及爲了防止濾器變差,潔淨空氣並未流出外部 而是聚集在地板的腔室,通過上述風管回流至天花板的腔 室,重覆通過送風裝置的濾器。 無塵室,具有上述特別的構造,因此無法容易構築。 此外,爲了天花板及地板的腔室,需要不能設有裝置的龐 大閒置空間。如顯示裝置製造等龐大作業的裝置及該作業 -5- 200931575 間的搬運裝置全部若都要容納在無塵室,同時又要兼顧閒 置空間,則無塵室勢必成爲極大規模。 於是就提案有可使搬運裝置個別達到潔淨環境的技 術。該相關技術是揭示在日本專利特開2006-24841號公 報。 【發明內容】 〇 根據上述的相關技術,通過濾器的空氣是可提昇裝置 周圍的潔淨度,但空氣會流往外部不回流,因此所獲得的 潔淨度有限,同時不可忽視濾器會變差。若欲附加設置可 使空氣回流的裝置,則裝置全體勢必變複雜,此外恐怕會 造成其規模過大。 本發明是有鑑於上述課題所硏創的發明,其目的是提 供一種直接設置在地板面就能夠簡易構築,能夠回流潔淨 空氣的無塵搬運系統。 ® 根據本發明之—形態’搬運系統是設置在地板面上搬 運對象物。上述搬運系統’具備:具有可操作成封閉的第 1開口及可操作成封閉的第2開口,設置在上述地板面 上,構成爲當上述第1開口和上述第2開口封閉時就可在 內部圍成密閉空間的外殼;設置在上述外殼內,構成爲從 上述第1開口朝第2開口搬運上述對象物的搬運裝置;及 設置在上述外殻內,可淨化上述密閉空間內的空氣,供應 潔淨空氣的送風裝置。 其中’以上述送風裝置可從上述搬運裝置下側朝上側 -6- 200931575 吹出上述潔淨空氣爲佳。此外,又以上述搬運系統又具備 有構成爲可讓流體朝上方噴出使上述對象物上浮的浮上裝 置爲佳。另外,又以上述送風裝置可從上述浮上裝置下側 朝上側吹出上述潔淨空氣爲更佳。再加上,最好是上述浮 上裝置其噴出的上述流體爲上述送風裝置所供應的上述潔 淨空氣。 © 【實施方式】 [發明之最佳實施形態] 接著’參照圖面對本發明的實施形態進行說明。本說 明書是透過申請專利範圍及圖面,將前方、後方、左方及 右方分別定義成圖面中所標記的FF、FR、L及R的方 向。上述定義是爲了方便說明本發明,因此本發明並不限 於此。以下’搬運的對象物是以顯示裝置的素材即玻璃基 板爲例子進行說明,但本發明的實施並不限於此。此外, ® 密閉空間的內部也可以不是充滿空氣,而是充滿其他氣體 例如氮氣。 本發明實施形態的無塵搬運系統1,如第1圖至第3 圖所示’以設置在地板上使用。地板面,爲了防止塵埃產 生例如最好是在砂漿上塗抹有聚氨酯樹脂等形成的塗料, 但並不限於此。 無塵搬運系統1,具備有包圍著其內部的腔室3。腔 室3具有前面板5、後面板7、左面板9及右面板11,形 成爲可從前後左右遮蔽其內部。各面板5、7、9、11是彼 200931575 此氣密連結著,再加上,各面板5、7、9、11的上端氣密 覆蓋著天花面板13。此外,各面板5、7、9、11的下 端,構成爲對地板面接觸成氣密。或者,腔室3的地板面 側也可不開放,由地板面板封閉著。各面板彼此的連結也 可不需要爲永久性,而是能夠拆卸。特別是,天花面板 1 3是以可拆卸爲佳。 後面板7和前面板5,分別具有玻璃基板W搬入和搬 © 出用的開口 15、21。腔室3,又具備有開口 15、21分別 封閉用的後遮板17和前遮板23,該後遮板17和前遮板 23是分別利用缸筒19、25的上下驅動成爲可開閉操作。 此外,遮板17、23,也可以具有左右方向活動性來取代 上下方向活動性。遮板17、23位於封閉位置時,構成爲 可封閉開口 15、21成氣密。 即,腔室3是設置在地板面上當各開口 15、21由遮 板1 7、2 3封閉時在其內部圍成密閉空間。另,如以上所 V 述,當設有地板面板時,僅由面板圍成密閉空間,地板面 也可以不參與成爲密閉空間包圍要素。 上述腔室3內,設有從搬入用開口 15延伸至搬出用 開口 21的支撐框架27。支撐框架27上,設有沿著其形 成排列,包含複數浮上裝置47的搬運裝置29。複數浮上 裝置47是排列形成在前後方向及左右方向的雙方。 搬運裝置29是在支撐框架27上的左端及右端附近, 具有分別排列形成在玻璃基板W搬運方向的複數滾輪 3 1。各滾輪3 1是分別透過旋轉軸使其和蝸輪3 5成一體連 -8- 200931575 結著,各滾輪31是由托座33支撐成旋轉自如。一對驅動 軸37是配備成貫通在支撐框架27的前後方向,各驅動軸 37具備有可和各蝸輪35咬合成驅動的蝸桿39。各驅動軸 的前端,透過聯結器等連結有可驅動的馬達41輸出軸。 如此一來,各滾輪31,就會承接馬達41的驅動力,以相 同的旋轉速度進行旋轉。如第1圖所示,上述各滾輪31 的上端部,比上述浮上裝置47的上面還要稍微突出上 © 方,配置成一致位於單一的面上。玻璃基板W,即使是於 浮上裝置47使其上浮的狀態,如第1圖所示,還是能夠 接觸於承接有驅動力的滾輪31。 馬達41可以不需設置成一對,兩驅動軸37也可透過 鏈條等適宜的結合手段連結於單一馬達。此外,也可取代 滾輪,將可驅動的箝位器或輸送帶等搬運手段應用在搬運 裝置29。 於支撐框架27上在左右端附近的滾輪31之間,設有 ® 具複數貫通孔45的鋼板43。各浮上裝置47是分別對應 貫通孔45設置在鋼板43上,各貫通孔45是分別連通於 . 浮上裝置47的內部。浮上裝置47分別具備有貫通在上面 的噴出孔49。即,從貫通孔45流入的空氣是經由浮上裝 置47的內部從噴出孔49噴出。 貫通孔49,最好是形成如第2圖所示從上方看時成 矩形的環狀,但並不限於此。橢圓形的環狀,或環的一部 份爲封閉的形狀等其他各種的形狀都可應用在該貫通孔 49。爲了讓噴出孔的寬度形成爲相同,噴出孔內也可設有 -9- 200931575 構件或突起。 上面附近,具 鋼板43 送風裝置5 1 微細塵埃及其 風機。複數送 浮上裝置4 7 ( 〇 定在支撐框架 入外殼3所包 朝上方即朝搬 47是透過貫3 朝上方噴出 送風裝置 器55是透過f 定在濾器55 ]
爲了增強 在送風裝置5 壓手段。此外 1也可追加設 制手段。 無塵搬運 干增壓的增壓 若能夠適當管 此外,噴出孔49,至少是於浮上裝置47 有朝內方成例如4 5 °的傾斜。 的下方,配備有朝上方供應潔淨空氣的複 '各個送風裝置51,具備有:可從空氣去 他污染物質的濾器;及可吹出潔淨空氣的 風裝置51是彼此隔著間隔或是成鄰接沿 即沿著搬運裝置29 )排列,透過托座53 27。利用上述的構造,可使送風裝置51 圍的密閉空間內部的空氣,經由濾器淨化 運裝置29及浮上裝置47供應。浮上裝 I孔45取入該潔淨空氣,然後從噴出孔 ,也可以是如第4圖所示的變形例。即, Ε座57固定在支撐框架27。鼓風機59是 τ方,吸取密閉空間內部的空氣朝濾器5 5 浮上裝置47賦予玻璃基板W的浮力,也 I和浮上裝置47之間設有追加送風裝置等 ,爲了浮力的控制等的目的,無塵搬運系 有能夠靜態以至動態控制送風裝置能力的 系統1,也可具備有能夠使內部密閉空間 手段。透過增壓能夠防止外部的塵埃侵入 理塵埃的侵入,則降低外殼3的氣密程度 的 數 除 鼓 著 固 吸 後 置 4 9 濾 固 送 可 增 統 控 若 〇 亦 -10- 200931575 無妨。 本實施形態的無塵搬運系統1,其動作如以下m 。 首先,是由遮板17、23封閉搬入和搬出用的開口 15、21。接著’啓動送風裝置51,吸取外殼3所包圍的 密閉空間內的空氣,將空氣淨化後供應至上方。潔胃@ m 是通過浮上裝置47供應至密閉空間內。密閉空間內的潔 淨空氣回流進入送風裝置51,更加以淨化,因此密閉空 〇 間內的空氣潔淨度會逐漸提昇。最好是能夠讓潔淨度充分 上昇’此外可能的話’最好是搬運系統連絡用的前後裝g 的內部潔淨度也可與此相同。 當潔淨度已充分上昇時》就由缸筒19驅動後遮丰反 17,開啓搬入用的開口 15。搬運流程中是從上游側的裝 置,將玻璃基板W搬入至無塵搬運系統1內,使其位於 搬運裝置29上的區域A。由於空氣是從浮上裝置47噴 出,因此玻璃基板就成爲上浮狀態。若有需要則盡可能短 ^ 時間驅動前遮板17封閉開口 15。 接著,驅動馬達41使驅動軸37同步旋轉。透過蝸輪 35和蝸桿39的咬合,驅動軸37的旋轉會傳至各滾輪 31。玻璃基板W,是透過接觸於旋轉的滾輪31,使其以 上浮狀態朝搬出用的開口 21搬運。 當玻璃基板W接近搬出用的開口 21時,就由缸筒25 驅動前遮板23,開啓搬出用的開口 21。然後玻璃基板W 就會被搬出在無塵搬運系統1外,若有需要則盡可能短時 間驅動後遮板23封閉開口 2 1。 -11 - 200931575 根據本實施形態時,即使房間不具有無塵室的特別構 造即天花板及地板具備有腔室,還是能夠簡單實現局限於 無塵搬運系統內的潔淨環境。由於能夠節省腔室造成的閒 置空間,因此對於裝置的平面配置就能夠提供較大的自由 度。由於潔淨空氣不流出至外部,因此能夠追求高潔淨度 空氣的同時,有利於省能效率。由於不需要附加設有空氣 回流用的裝置,因此能夠使裝置全體規模變小。此外,運 Ο 轉中幾乎全部的期間都會回流有潔淨度高的空氣,因此能 夠抑制濾器變差。 本發明是參照最佳實施形態進行了說明,但本發明並 不限於上述實施形態。根據上述揭示內容,具有本技術領 域之通常技術的人員,都可透過實施形態的修正或變形來 實施本發明。 [產業上之可利用性] © 提供一種直接設置在地板面就能夠簡易構築,能夠回 流潔淨空氣的無塵搬運系統。 【圖式簡單說明】 第1圖爲本發明一實施形態無塵搬運系統的橫剖面 圖。 第2圖爲上述無塵搬運系統的平面剖面圖。 第3圖爲上述無塵搬運系統的縱剖面圖,圖中I-Ι剖 線爲表示第1圖的剖線,Π-Π爲第2圖的剖線。 -12- 200931575 第4圖爲無塵搬運系統變形例剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 :無塵搬運系統 3 :外殼 5 :前面板 7 :後面板 Ο 9 :左面板 1 1 :右面板 13 :天花面板 1 5 :搬入用的開口 1 7 :後遮板 19 :缸筒 21 :搬出用的開口 2 3 :前遮板 ❹ 25 :缸筒 27 :支撐框架 29 :搬運裝置 31 :滾輪 33 :托座 35 :蝸輪 3 7 :驅動軸 3 9 :蝸桿 4 1 :馬達 -13- 200931575 ❹ :鋼板 :貫通孔 :浮上裝置 :噴出孔 :送風裝置 :托座 :濾器 :托座 :鼓風機 區域 :前方 :後方 左方 右方 玻璃基板 -14-

Claims (1)

  1. 200931575 十、申請專利範圍 1· 一種搬蓮系統,是設置在地板面上搬運對象物用 的搬運系統,其特徵爲,具備: 具有可操作成封閉的第1開口及可操作成封閉的第2 開口’設置在上述地板面上,構成爲當上述第1開口和上 述第2開口封閉時就可在內部圍成密閉空間的外殼; 設置在上述外殼內,構成爲從上述第1開口朝第2開 © 口搬運上述對象物的搬運裝置;及 設置在上述外殼內,可淨化上述密閉空間內的空氣, 供應潔淨化空氣的送風裝置。 2.如申請專利範圍第1項所記載的搬運系統,其 中,上述送風裝置是可從上述搬運裝置下側朝上側吹出上 述潔淨化空氣。 3-如申請專利範圍第1項所記載的搬運系統,其 中,又具備有構成爲可讓流體朝上方噴出使上述對象物上 ® 浮的浮上裝置。 4. 如申請專利範圍第3項所記載的搬運系統,其 .中,上述送風裝置是可從上述浮上裝置下側朝上側吹出上 述潔淨化空氣。 5. 如申請專利範圍第3項所記載的搬運系統,其 中,上述浮上裝置’其噴出的上述流體爲上述送風裝置所 供應的上述潔淨化空氣°
TW97133742A 2007-09-05 2008-09-03 Clean conveyance system TW200931575A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007230382A JP5233212B2 (ja) 2007-09-05 2007-09-05 クリーン搬送システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200931575A true TW200931575A (en) 2009-07-16
TWI379375B TWI379375B (zh) 2012-12-11

Family

ID=40428736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW97133742A TW200931575A (en) 2007-09-05 2008-09-03 Clean conveyance system

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5233212B2 (zh)
KR (1) KR101130154B1 (zh)
CN (2) CN103247561A (zh)
TW (1) TW200931575A (zh)
WO (1) WO2009031416A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI465381B (zh) * 2010-04-15 2014-12-21 Daifuku Kk 板狀體搬送裝置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5446403B2 (ja) * 2009-04-07 2014-03-19 株式会社Ihi 搬送方向転換装置及び浮上搬送システム
CN112079049B (zh) * 2020-09-03 2022-07-12 广州小鹏汽车科技有限公司 一种运输方法和装置、介质
CN114671217A (zh) * 2020-12-24 2022-06-28 志圣工业股份有限公司 自体清洁的输送装置及包含输送装置的加热设备

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06298360A (ja) * 1993-04-12 1994-10-25 Hitachi Ltd 気流式搬送装置
JP2001315960A (ja) * 2000-05-09 2001-11-13 Meidensha Corp 基板搬送装置
TWI327985B (en) * 2003-04-14 2010-08-01 Daifuku Kk Apparatus for transporting plate-shaped work piece
JP4214468B2 (ja) * 2003-07-03 2009-01-28 株式会社ダイフク 搬送装置
TWI295659B (en) * 2003-08-29 2008-04-11 Daifuku Kk Transporting apparatus
JP2005167083A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Daifuku Co Ltd ガラス基板用の搬送設備

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI465381B (zh) * 2010-04-15 2014-12-21 Daifuku Kk 板狀體搬送裝置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI379375B (zh) 2012-12-11
JP2009064900A (ja) 2009-03-26
KR20100053674A (ko) 2010-05-20
CN101796625A (zh) 2010-08-04
KR101130154B1 (ko) 2012-03-28
WO2009031416A1 (ja) 2009-03-12
JP5233212B2 (ja) 2013-07-10
CN103247561A (zh) 2013-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI382883B (zh) Dust removal device
TWI399329B (zh) 收納基板用之收納容器
JP2019220472A (ja) ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
TW200931575A (en) Clean conveyance system
CN102054664B (zh) 基板处理装置
CN102810461A (zh) 基板处理设备和基板处理方法
CN1576201A (zh) 板状体搬运装置
CN109132548B (zh) 玻璃基板翻转上片装置和玻璃基板加工系统
JP2003007813A (ja) 半導体ウエハの保管ボックス、運搬装置、運搬方法及び保管倉庫
JP4217963B2 (ja) 板状体搬送装置
TW402529B (en) Carrying and dust-removal device for substrates
TW200925089A (en) Floating device and floating carrier
KR20110131433A (ko) 필름 세정용 대기압 플라즈마 세정시스템
TW200918427A (en) Levitation device and levitation transportation device
JP2003332401A (ja) 基板用搬送除塵装置
JP4251279B2 (ja) 板状体搬送装置
JP2005029360A (ja) 板状体搬送装置
JP4186129B2 (ja) 板状体搬送装置
TW200413112A (en) Substrate cleaning device and substrate processing facility
KR100580379B1 (ko) 판유리 이송장치
JP2010225687A (ja) 基板の処理装置
JP2000084510A (ja) 基板用搬送除塵装置
TWI355364B (zh)
JP2003267548A (ja) 非接触縦型焼成(乾燥)炉
JP4320936B2 (ja) 搬送車

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees