200849329 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光阻組成物。特別是本發明係有關於適 於藉由狹縫塗布所塗布之光阻組成物。 【先前技術】 習知之用於形成液晶顯示器用的驅動電路形成圖案的 光阻，一般爲將感光性樹脂組成物卸於玻璃中央部分並旋 轉迴轉塗布後，藉由預烘烤乾燥所製造。然而，隨著基板 的大型化、光阻量的少量化，塗布方法也隨之改變，變成 在狹縫塗布後，亦使用旋轉迴轉、再預烘烤乾燥的方法。 然後，隨著基板之更大型化的要求，而使旋轉迴轉變得困 難，已不能利用在狹縫塗布後進行減壓乾燥、再預烘烤乾 燥的製造方法。 在狹縫塗布後所進行的旋轉迴轉，係以蒸發包含於塗 膜中之一部分溶劑，同時將塗膜均一化爲目的。因而，在 狹縫塗布後進行旋轉迴轉的方法中，係藉由旋轉迴轉保持 塗布均一性。但是，在狹縫塗布後減壓乾燥的方法中，由 於不可能藉由旋轉迴轉將塗膜均一化，故狹縫塗布後之塗 膜必須爲均一的。然而，根據本發明者等之硏究，直接使 用習知所用之感光性樹脂組成物，難以使狹縫塗布之後的 塗膜變得充分均一。再者，在之後所進行的減壓乾燥中， 亦變得容易引起所謂用於固定塗布後之基板之夾盤或針等 痕跡殘留於膜面的問題。 又，雖然狹縫塗布後所進行之減壓乾燥的條件爲各式 200849329 各樣，但基本上大多利用在室溫條件下、從大氣壓約1 0 1 k P a 至約2 0 P a、約3 0秒左右之激烈減壓的方法。爲了適用如此 之較爲嚴格的減壓乾燥條件，必須調節塗布膜的乾燥程 度。塗膜之乾燥程度不適當時則對於圖案形狀或塗布性產 生大問題，成爲引起各式各樣問題的要因。 用於此等之感光性樹脂組成物的溶劑方面，由於一般 所使用之丙二醇單甲基醚乙酸酯（以下稱爲PGMEA)之蒸氣 壓係在20°C /1氣壓下爲約5 00Pa，在減壓乾燥時非常容易 蒸發。結果PGM E A迅速從塗布後之塗膜表面蒸發，在表面 附近形成乾燥被覆膜，妨害塗膜內部之P G Μ E A的蒸發。使 用如此之光阻膜以形成圖案時，由於光阻膜的表面附近不 易顯像’內部變得容易顯像，故圖案形狀變成倒錐形的形 狀（亦稱爲了_頂），在後烘烤時殘留圖案之邊角部分，而成 爲剝離不良的原因，又由於光阻圖案內部的乾燥變得不 足’故耐蝕刻性亦變得不足，亦成爲利用該光阻圖案所形 成之金屬配線等變得不均一的原因。 又’在使用正型光阻之圖案形成中，在顯像已曝光之 光阻膜時，一般已知當未曝光部分接觸顯像液時，由於感 光劑與樹脂形成偶氮鍵，使得鹼顯像液的溶解性降低，而 可形成曝光部分與未曝光部分的對比。使用習知之感光性 組成物’在狹縫塗布後進行減壓乾燥的方法中，由於塗膜 表面的乾燥，未曝光部分表面相較於內部，相對地較難溶 解於鹼顯像液，故有表觀上對比變得過強的傾向。爲了解 200849329 決此等問題’例如不添加與稱爲對比加強劑之感光劑爲高 反應性之分子量樹脂成分，或減少感光劑的量。然而，在 此等的方法中，關於圖案形狀，雖然認爲有一定之改良效 果，但同時由於感光劑的量不足而使圖案寬度不均一，以 及由於無對比加強劑而實際之對比變低等的問題。 另外，爲了抑制塗布感光性樹脂組成物形成光阻膜時 的塗布不均，正硏究混合複數種溶劑。例如，在專利文獻 1中揭示使用二乙二醇二烷基醚、3 -乙氧基丙酸乙酯、乙酸 烷基酯、及乳酸烷基酯作爲溶劑的感光性樹脂組成物。記 載於該引用文獻1的感光性樹脂組成物，係以改善在狹縫 塗布中之橫線不均、縱線不均、及在基板全面上之無定型 不均等爲目的者。然後，此等之溶劑組合雖考慮到蒸發速 度，但該蒸發速度爲塗布時的蒸發速度，而並非考慮到在 減壓乾燥等的蒸發速度。因此，在本發明者等所知之限度 下，在解決如前述之減壓乾燥時的問題點中仍有改善的空 間。 又，在引用文獻2中，記載著包含苄醇之感光性樹脂 組成物。其中所用之苄醇係爲了改良塗布不均而混合於丙 二醇單甲基醚乙酸酯等之主溶劑中使用。然而，在該引用 文獻中記載著專門使用旋轉塗布法作爲塗布方法的方法， 針對在伴隨著如上述之減壓乾燥之狹縫塗布中的問題則無 任何記載。 【專利文獻1】特開2006- 1 7 1 670號公報 200849329 【專利文獻2】國際專利公開2004/095 1 42號小冊 【發明內容】 如前述，根據本發明者等之硏究，感光性樹脂組成物 使用包含一般作爲溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯者時，對 於塗布時之塗布不均或塗布均一性有改良的空間，又，由 於塗膜表面比內部容易乾燥，故圖案形狀成爲倒錐形狀， 成爲剝離不良或過度對比。因此，正尋求解決彼等問題的 手段。 / " 本發明中之圖案形成方法，其特徵爲包含下列步驟： 藉由狹縫塗布法塗布包含鹼可溶性樹脂、感光劑、及 混合溶劑所構成的感光性樹脂組成物於基板上而形成塗 膜，前述混合溶劑係包含丙二醇單甲基醚乙酸酯與在1大 氣壓20°C下之蒸氣壓爲150Pa以下之共溶劑； 減壓乾燥所形成的塗膜； 接著進行加熱乾燥，並蒸發除去至少一部份溶劑； (： 進行圖案曝光成爲所希望之圖案； 進行顯像以形成圖案； 進行加熱以硬化顯像後之圖案。 又，本發明中之狹縫塗布用感光性樹脂組成物，係以 包含鹼可溶性樹脂、感光劑、及混合溶劑所構成、前述混 合溶劑包含丙二醇三甲基醚乙酸酯與在1大氣壓20 °C下之 蒸氣壓爲150Pa以下之共溶劑所構成爲特徴者。 根據本發明，改良塗布時之塗布不均或塗布之不均一 200849329 性，再者由於使所形成之圖案形狀爲較佳之錐狀’可改良 剝離不良或線寬的不均一性。在改良圖案形狀中，亦無伴 隨如以往所進行之感光劑量或對比加強劑降低等方法之圖 案寬度不均等的問題。 【實施方式】 本發明中之用於圖案形成方法的感光性樹脂組成物， 必要成分係包含鹼可溶性樹脂、感光劑、及混合溶劑。本 發明中之用於圖案形成方法的感光性樹脂組成物，係針對 所形成之圖案用途等來調整感光性組成物的成分，亦可爲 正型或負型中任一種。 其中，混合溶劑係由丙二醇單甲基醚乙酸酯與共溶劑 所構成。其中，共溶劑方面，則使用在1大氣壓20 °C下所 測定之蒸氣壓爲150Pa以下、較佳爲lOOPa以下者。又， 共溶劑之蒸氣壓的下限雖無特別限制，但在1大氣壓2(TC 下所測定的蒸氣壓一般爲5 P a以上、較佳爲1 0 P a以上、更 佳爲1 5Pa以上。在共溶劑之蒸氣壓較此等範圍低的情況 下，一方面減壓乾燥中之乾燥條件的調整變困難，一方面 減壓乾燥及接著進行之預烘烤則不能充份乾燥，因殘留溶 劑於光阻膜中而必須注意。共溶劑可從滿足此等條件者， 針對包含於感光性樹脂組成物中之其他固體成分的種類、 感光性樹脂組成物的用途、塗布或乾燥的條件等來適切地 選擇。 作爲此等共溶劑之較佳者方面，舉出有醇類、酯類、 200849329 醚類、二醇醚類等。較佳之共溶劑的具體範例方面 有苄醇、乙二醇丁基醚乙酸酯，較具體有乙二醇卫 第二_/第三丁基醚乙酸酯、丙二醇、丙二醇二乙酸 二醇單烷基醚（烷基之碳數爲4〜5)、二丙二醇二烷3 基之碳數爲1〜5)、二丙二醇單院基醚（院基之碳數爲 二乙二醇二烷基醚（烷甚之碳數爲2〜5)、二乙二醇單 (院基之碳數爲1〜5)、3-乙氧基丙酸乙酯、乙酸-3-甲： 甲基丁酯、3 -甲氧基-3 -甲基丁醇、乳酸丁酯及彼等 物所構成之群組者。 還有，苄醇雖爲作爲共溶劑之較佳者之一，亦 步與其他共溶劑組合，藉由形成3成分之混合溶劑 塗布性變成較優異。此等較佳之3成分的混合溶劑 舉例有PGMEA與苄醇與乙二醇-正丁基醚乙酸酯的 劑。PGMEA與苄醇之2成分的混合溶劑與上述3成 溶劑比較，有稍許塗布性差的傾向。 在本發明中，混合此等之共溶劑與PGMEA而成 溶劑。混合溶劑的混合比例雖無特別限制，但共溶 量以混合溶劑之全體重量爲基準則爲5〜70重量％ ， 5〜60重量％ 。此時，在使用揮發性高、即蒸氣壓高 劑的情況下，較佳爲相對上共溶劑的含量多。殘餘 然較佳爲僅有PGMEA，但在無損於本發明之效果 內’亦可包含其他溶劑，例如在1大氣壓20°C下所 蒸氣壓超過1 5 0 P a的溶劑。還有，在本發明中，混 ，舉出 i -丨異-丨 酯、丙 S醚（烷 1 〜5)、 烷基醚 g 基-3-之混合 可進一 而可使 方面， 混合溶 分混合 爲混合 劑的含 較佳爲 之共溶 部分雖 的範圍 測定之 合溶劑 -10- 200849329 不一定需要使用混合狀態之PGMEA與共溶劑，亦可在調製 感光性樹脂組成物時，個別添加PGMEA與共溶劑，在組成 物中混合。 還有，在使用組合在1氣壓20 °C下之條件中的蒸氣壓 超過1 5 0 P a的共溶劑與P G Μ E A之混合溶劑的情況下，雖有 發現感光性樹脂組成物之塗布特性提升的情況，但在減壓 乾燥時難以充分抑制膜表面的乾燥。再者由於膜表面乾 燥，顯像時則難以引起膜磨損而殘膜率變得接近於1 〇〇% ， 圖案形狀容易變成倒錐狀。相對於此，作爲共溶劑之蒸氣 壓爲150Pa以下的溶劑，即使藉由預烘烤亦不易乾燥。因 此在習知之旋轉塗布法中，雖發現由於其添加而使殘膜率 降低，但在該情況亦組合減壓乾燥的情況下，即使在激烈 的減壓下亦可抑制膜表面的乾燥，而且可保持殘膜率。 可用於本發明中之圖案形成方法的鹼可溶性樹脂方 面，可使用習知之任意者。具體而言，例如有酚醛清漆樹 脂、具有矽氮烷構造之聚合物、丙烯酸聚合物、矽醇聚矽 氧、聚亞醯胺等。彼等之中，較佳爲酚樹脂、特別是甲酚 醛清漆樹脂、二甲酚醛清漆樹脂等之酚性酚醛清漆樹脂。 其中所謂酚性酚醛清漆樹脂，係藉由至少1種酚類與 福馬林等之醛類縮合聚合所得之酚醛清漆型的酚樹脂。 用於製造此等酚性酚醛清漆樹脂所用的酚類方面，可 舉例有鄰甲酚、對甲酚及間甲酚等之甲酚類；3,5 -二甲酚、 2，5-二甲酚、2,3-二甲酚、3，4-二甲酚等之二甲酚類；2,3，4- -11 - 200849329 三甲酚、2,3,5-三甲酚、2,4,5-三甲酚、3,4,5-三甲酚等之三 甲酚類；2-第三丁酚、3-第三丁酚、4-第三丁酚等之第三丁 類；2 -甲氧酣、3 -甲氧酣、4 -甲氧酣、2,3 -二甲氧酣、2,5-二甲氧酚、3，5-二甲氧酚等之甲氧酚類；2-乙酚、3-乙酚、 4- 乙酚、2,3-二乙酚、3,5-二乙酚、2,3,5-三乙酚、3,4,5-三 乙酚等之乙酚類；鄰氯酚、間氯酚、對氯酚、2,3_二氯酚等 之氯酚類；間苯二酚、2-甲基間苯二酚、4-甲基間苯二酚、 5- 甲基間苯二酚等之間苯二酚類；5-甲基兒茶酚等之兒茶 酣類；5 -甲基五倍子酹等之五倍子酣類；雙酣a、B、C、D、 E、F等之雙酚類；2,6 -二羥甲基對甲酚等之羥甲基化甲酚 類；α -萘酚、Θ -萘酚等之萘酚類等。彼等係可單獨或以 複數種之混合物來使用。 又’醛類方面，除了福馬林之外，舉出有鄰羥苯甲醛、 三聚甲醛、乙醛、苯甲醛、羥基苯甲醛、氯乙醛等，彼等 係以單獨或以複數種之混合物來使用。 雖然鹼可溶性樹脂之含量並無特別限制，一般以感光 性樹脂組成物之總重量爲基準爲5〜25重量％，較佳爲7〜20 重量％ 。較該範圍低時，由於最終之光阻膜爲得到一定的 膜厚而必須塗布厚的組成物，容易引起塗膜內部的流動， 而發生塗布不均。另外，樹脂含量較該範圍高時’則必須 塗布薄的組成物，膜厚均一性變得不足。因而’在樹脂含 量在前述範圍外的情況下則必需注意。 又，用於本發明中之圖案形成方法的感光劑方面’雖· -12- 200849329 可任意選擇一般所用者，但舉出包含醌二醯胺基之感光劑 爲較佳。此等之感光劑方面，舉出有萘醌二醯胺磺酸氯化 物或苯醌二醯胺磺酸氯化物等、及藉由與具有可與彼等酸 氯化物縮合反應之官能基的低分子量化合物或高分子量化 合物反應所得的化合物。其中可與酸氯化物縮合的官能基 方面，舉出有羥基、胺基等，特別以羥基爲適。包含羥基 之可與酸氯化物縮合的化合物方面，可舉例有氫醌、間苯 二酚、2，4-二羥基二苯基酮、2,3,4-三羥基二苯基酮、2，4,6-三羥基二苯基酮、2,4,4’ -三羥基二苯基酮、2,3,4,4’ -四 羥基二苯基酮、2,2’ ，4,4’ -四羥基二苯基酮、 2,2’ ，3,4,6’ -五羥基二苯基酮等之羥基二苯基酮類；雙 (2,4-二羥苯基）甲烷、雙（2,3,4-三羥苯基）甲烷、雙（2,4-二羥 苯基）丙烷等之羥苯基烷類；4,4’ ，3” ，4” -四羥基 -3,5,3’ ，5’ -四甲基三苯基甲烷、4,4’ ，2” ，3” ，4” -五羥 基-3,5,3’ ，5’ -四甲基三苯基甲烷等之羥基三苯基甲烷類 等。彼等係以單獨或組合2種以上來使用均可。 又，萘醌二醯胺磺酸氯化物或苯醌二醯胺磺酸氯化物 等之酸氯化物方面，舉例有1,2-萘醌二醯胺-5-磺醯基氯化 物、1，2-萘醌二醯胺-4-磺醯基氯化物等爲較佳者。包含醌 二醯胺基之感光劑的配合量，平均1 〇 〇重量份鹼可溶性樹 脂，通常爲5〜50重量份，較佳爲10〜40重量份。較其少時’ 不能得到作爲感光性樹脂組成物之足夠感度’又較其多時 必須注意引起成分之析出問題。 -13- 200849329 用於本發明之圖案形成方法的感光性樹脂組成物，雖 包含前述混合溶劑、鹼可溶性樹脂、感光劑作爲必要成分， 但可進一步包含界面活性劑。界面活性劑係以感光性樹脂 組成物之均一性的維持、塗布性的改良等爲目的。特別是 在塗布感光性樹脂組成物於基材時，在表面上產生魚鱗狀 的模樣（以下，稱爲「魚鱗狀不均」），藉由在本發明中之 感光性樹脂組成物中使用界面活性劑，抑制該魚鱗狀不 均。在本發明的感光性樹脂組成物中，特別以使用非離子 系界面活性劑爲佳。非離子系界面活性劑方面有氟系界面 活性劑、矽系界面活性劑、烴系界面活性劑等，特別以使 用氟系界面活性劑爲佳。彼等界面活性劑的配合量係相對 於鹼可溶性樹脂與感光劑之合計量1重量份，通常添加 200〜l〇〇〇〇ppm。界面活性劑的含量過多時，由於引起顯像 不良等問題而必須注意。 用於本發明中之圖案形成方法的感光性樹脂組成物， 進一步於必要時亦可包含添加劑，例如對比加強劑、環氧 化合物或含矽之化合物等的黏著助劑。此等之添加劑係從 習知已知之任意者中，在無損於本發明之效果的範圍中選 擇。 用於本發明中之圖案形成方法之的感光性樹脂組成 物’雖然亦可藉由旋轉塗布法、浸漬塗布法、狹縫塗布法（亦 稱爲狹孔塗布法或無旋轉塗布法）進行塗布，但在使用於狹 縫塗布法、特別是組合狹縫塗布法與減壓乾燥之圖案形成 -14- 200849329 方法時，發現本發明之強效果。在藉由該狹縫塗布法塗布 光阻組成物於基板上的情況，光阻組成物一般貯藏於供給 容器中，從該處經由配管及塗布裝置的噴嘴等塗布於基板 上。本發明中之感光性樹脂組成物藉由該狹縫塗布法，可 以高速塗布無塗膜剝離或塗布不均之優異的塗布膜。 使用本發明中之感光性樹脂組成物並藉由狹縫塗布形 成光阻膜的基板，之後可藉由與習知同一方法進行處理。 一般而言，在減壓或真空條件下除去至少一部份溶劑，進 一步於必要時藉由烘烤以除去溶劑，圖案曝光、顯像成爲 所希望的圖案，進一步藉由加熱使光阻膜硬化。還有，在 除去溶劑的步驟中，不一定必須從塗布膜中完全除去溶 劑，亦可在之後步驟中除去至不會妨害的程度。彼等處理 係針對所製造之光阻圖案的用途、感光性樹脂組成物的種 類等來任意地選擇。 藉由此等之方法所製造的光阻圖案係可用於各種電子 零件的製造。在光阻膜中，由於膜面之均一性特別重要， 故本發明之圖案形成方法係有利於製造性能優異之電子零 件、例如半導體構件。又，藉由狹縫塗布等，可特佳地利 用於要求在較大基板上形成光阻膜之領域、例如液晶顯示 器的製造。 [實例] 以下藉由實例來說明本發明。 [實例1] -15- 200849329 相對於以聚苯乙烯換算之重量平均分子量8,000的酚 醛清漆樹脂100重量份，添加25重量份2,3,4,4’ -四羥基 二苯基酮與1,2-萘醌二醯胺-5-磺醯基氯化物的酯化物作爲 感光劑、相對於全部固體成份添加lOOOppm氟系界面活性 劑、美加伐克R-08(大日本油墨化學工業股份有限公司製非 離子性界面活性劑），加入丙二醇單甲基醚乙酸酯與乙二醇 正丁基醚乙酸酯（在1大氣壓、20°C條件下的蒸氣壓爲20Pa) 的混合溶劑（混合重量比爲70 : 3 0)並攪拌後’以〇· 2// m的 過濾器進行過濾以調製本發明的感光性組成物。 [實例2] 除了變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基醚乙酸酯與丙 二醇二乙酸酯（在1大氣壓20。(：條件下的蒸氣壓爲6〇pa)的 混合溶劑（混合重量比爲60 : 40)以外，與實例1同樣地進 行而得到實例2的感光性組成物。 [實例3]
變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基釀乙酸醋與丙酸 -3-乙氧基乙酯（在1大氣壓20°c條件下的蒸虱壓爲93Pa)的 混合溶劑（混合重量比爲40 : 60)以外，與貫例1同彳永地進 行而得到實例3的感光性組成物。 [實例4] ^咖丨戌沃ί 一畔留S棊醚乙酸酯與卞醇 變更所溶解之溶劑爲丙一醇單中 ^ κ ® 1 3 P a)的混合溶劑（混合 (在1大氣壓20 C條件下的蒸热壓爲13 宵仿丨丨1 Μ緣地進丫了而得到貫例4 重量比爲90 : 10)以外，與貫例1冋标 -16 - 200849329 的感光性組成物。 [實例5] 變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基醚乙酸酯與卞醇 (在1大氣壓2 0 °C條件下的蒸氣壓爲1 3 p a)的混合溶劑（混合 重量比爲95 : 5)以外，與實例1同樣地進行而得到實例5 的感光性組成物。 [實例6] 變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基醚乙酸酯與乙一醇 正丁基醚乙酸酯（在1大氣壓、20 °c條件下的蒸氣壓爲2〇Pa) 與苄醇（在1大氣壓20°C條件下的蒸氣壓爲1 3Pa)的混合溶 劑（混合重量比爲8 0 : 1 5 : 5)以外，與實例1同樣地進行而 得到實例6的感光性組成物。 [比較例1 ] 僅變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基醚乙酸酯以外， 與實例1同樣地進行而得到比較例1的感光性組成物。 [比較例2] 變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基釀乙酸醋與乙酸正 丁酯（在1大氣壓2CTC條件下的蒸氣壓爲l〇〇〇Pa)的混合浴 劑(混合重量比爲40 : 60)以外，與貫例"同’永地進行而得 到比較例2的感光性組成物。 [比較例3 ] 變更所溶解之溶齊丨〗爲丙^單甲基醚乙酸醋與乳酸乙 醋（在}大氣壓、2CTC條件下的蒸氣壓爲279Pa)的混合溶劑 -Γ7 一 200849329 (混合重量比爲40 : 60)以外，與實例1同樣 比較例3的感光性組成物。 [比較例4 ] 變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基_乙 乙基醚乙酸酯（在1大氣壓2 0 °C條件下的寒 的混合溶劑（混合重量比爲60 : 40)以外’與 進行而得到比較例4的感光性組成物。 [比較例5 ] 變更所溶解之溶劑爲丙二醇單甲基醚乙 乙基醚乙酸酯（在1大氣壓20 °C條件下的蒸 的混合溶劑（混合重量比爲40 : 60)以外’與 進行而得到比較例5的感光性組成物。 [塗布不均與塗布均一性的確認] 以使用120mmx200mm之鍍鉻玻璃基板 嘴（寬度100mm)，與鍍鉻玻璃基板之距離間R 態進行狹縫塗布。塗布速度係設定爲1秒鐘 後置入真空烤箱進行40秒真空乾燥。在室公 後的真空壓爲約80Pa。之後以加熱板l〇〇°C 4 到2.0 // m的光阻膜。在N a燈下觀察所得之 或線紋不均之有無，以評估塗布不均。塗布 米規格M6500型光干涉膜厚測定器（奈米· 公司製）進行膜厚測定來評估。彼等係以差考 爲2、優異者爲3來以進行3段階評估。 地進行而得到 酸酯與乙二醇 氣壓爲160Pa) 實例1同樣地 酸酯與乙二醇 氣壓爲160Pa) 實例1同樣地 的小型狹縫噴 S 0.05mm 的狀 1 0 0 m m，塗布 落下調整40秒 共烤90秒後得 光阻膜魚鱗狀 均一性係以奈 曰本股份有限 f爲1、稍差者 -18- 200849329 [真空乾燥時之不均的確認] 與上述塗布不均與塗布均一性的確認同樣地在使用狹 縫噴嘴塗布後，豎立針於真空乾燥烤箱並在其上放置鍍鉻 玻璃基板並進行乾燥。真空乾燥後以加熱板在1 〇 〇 °c下乾燥 90秒而在Na燈下評估在真空乾燥烤箱之針痕跡的強弱。 以眼見針痕跡者爲1、勉強辨識針痕跡者爲2、不能辨識針 痕跡之優異者爲3以進行3段階評估。 [圖案形狀的測定] 在4吋晶圓上少量滴下後以8 0 0迴轉，迴轉2秒而得 到類似狹縫膜。之後，置入真空烤箱進行40秒真空乾燥。 在室溫下調整40秒後之真空壓爲約80Pa。之後以加熱板 100°C烘烤90秒後得到2.0 // m的光阻膜。以日光製g + h 射線分檔曝光器（FX-604F)曝光該光阻膜，並以2.38重量％ 氫氧化四甲銨水溶液進行23 °C、60秒顯像。以SEM進行 觀察4·0//ιη遮罩尺寸的曝光部份、未曝光的比例爲i:i 之曝光位置。第1圖係該模式截面圖。針對該形狀則以接 近倒錐狀之第1(a)圖者爲1，形狀稍微接近第1(b)圖者爲 2，形狀爲錐狀之優異者、接近第、l(c)圖者爲3來進行3段 階評估。 所得結果如表1所示。 -19- 200849329
L，、 * J 表1A :塗布性及圖案形狀的評估結果 PGMEA 之 共溶劑 塗布不均 塗佈均一性 真空乾燥時 圖案形狀 含有率(％ ) 種類* 含有率(％) 之不均 實例1 70 EBA 30 3 3 3 3 實例2 60 PGDA 40 3 2 2 2 實例3 40 EEP 60 3 3 3 2 實例4 90 BnA 10 2 3 3 3 實例5 95 BnA 5 2 3 2 2 實例6 80 EBA/BnA 15/5 3 3 3 3 比較例1 100 _ • 1 1 1 1 比較例2 40 n-BA 60 1 1 3 1 比較例3 40 EL 60 2 2 2 1 比較例4 60 ECA 40 2 1 2 1 比較例5 40 ECA 60 3 2 2 11 表1B :溶劑的蒸氣壓
在1大氣壓20°C的蒸氣壓（Pa) EBA 乙二醇正丁基醚乙酸酯 20 PGDA 丙二醇二乙酸酯 60 EEP 丙酸-3-乙氧基乙酯 93 BnA 苄醇 13 n-BA 乙酸正丁酯 1000 EL 乳酸乙酯 279 ECA 乙二醇乙基醚乙酸酯 160 - 20- 200849329 【圖式簡單說明】 第1圖係顯像後之光阻圖案的截面模式圖。 【主要元件符號說明】 1 基板 2 顯像後的光阻圖案 f
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