TW200831622A - Coating material for forming transparent coating film - Google Patents

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200831622 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關新穎透明覆膜形成用塗 覆膜形成用塗料而形成之附有透明覆膜之基材該透明 【先前技術】 之反Π 由破璃、塑膠布、塑膠透鏡等基材表面 *、蒸鑛法二4表=:反射防止膜，例如用塗布 脂、氟化鎂等的低折射率:;=„形成氟樹 粒子等的柄心“ 覆膜’或將含有氧化石夕微 .成反射防止心==的塗布液塗布於基材表面，而形 7'133105 止覆膜之下層’ 防止性能’也已知可在反射防 膜。3有騎射率的微粒子等之高折射率 更有在前述顯示裝置等中， 反炫性樹i glare)，而在表成了 I、防炫性(有時稱為 ^ ^ ^ 2〇〇2.719；4^!°(#2002- f卢公壯 虓厶報’考寸開2001-281411 諕A報，特開200K34350號公報） 81411 但是，用以往形成多層膜 + 科分別實施塗料之塗布、乾燥雇^兩要對每一種塗 有各膜間的密著性 ’、亚應兩要實施硬化步驟， 將含有平均粒徑不同，師=2/叫2965公報中提案， 低折射率微粒子 微粒子與粒徑大的 匕铽粒子的塗布液，以一次塗布 319741 6 200831622 形成反射防止性能優良的導電性覆膜。但θ、 、 況，加上因沒有防炫性能，明暗對比度低，用=層：情 時，顯示性能不足。 於嘁不裝置 [專利文獻〗]特開平7-133105號公報 [專利文獻2]特開2002-169001號公報 [專利文獻3]特開2002-71904號公報 _ [專利文獻4]特開2001-281411號公報 [專利文獻5]特開2001-34350號公報 • [專利文獻6]特開2003-12965號公報 【發明内容】 [發明要解決之課題] 在上述的情況下，則期待提供能將透 料造杆一々涂右 L〇 设膜瓜成用塗 狀订-人塗布、乾燥，就可以形成與 - 度等都優良，並反射除u α Ώ {•^*者1'生強 性及經濟性上都優良的透 二良且在生產 附有透明覆膜之基材。㈣翻覆膜形成用塗料及 [解決課題之手段] 本發明人等，有參 、士 果，㈣脾入山松的問靖而專心進行檢討之結 涧X 絲』 成 親和性不同，且平均粒 二不同的兩種粒子的塗料，將其塗布 ， 在霜膜Φ ΠΓ八雜 年L·知B守，兩種粒子 .# 刀，亦即，經表面雇理過的微細粒子合偏 在於透明覆膜之下部，的比較大的粒子會偏 ㈢在後膜表面形成凹凸，而完成 319741 200831622 本發明。 本發明包括下列π項： [1] 一種透明覆膜形成用塗料，係由與基 力互不相同的低折射率微粒子盥高 聿=刀之親口 劣士八取人，、门折射率微粒子、基體形 成成刀、♦合起始劑及溶媒所構成，其特徵為： ，折射率微粒子及高折射率微粒子均^㈣合劑做 表面處理過，、絲面處理過的低折射率微粒子⑷的折射率 ㈤在1.20至1.45之範圍，平均粒徑在5至· _之範 圍，表面電荷（QA)在5至8〇/zeq/gi範圍， • f表面處理過的高折射率微粒子(B)的折射率（nB)比 • (nA)高，平均粒徑在〇.5至5#m之範圍，表面電荷量（⑹ 在25至1〇0 eeq/g之範圍，低折射率微粒子的濃度在 固形物成分之0.1至10重量％之範圍，高折射率微粒子（B) 之/辰度在固形物成分之0.1至1〇重量％之範圍，基體形成 成分的固形物成分之濃度在〗至30重量％之範圍。 [2]如前述[1]之透明覆膜形成用塗料，其中，前述低折射率 微粒子（A)的表面電荷量（(^)與前述高折射率微粒子（B)表 面電荷量（Qb)之差（Qb)~(Qa)在20至95/zeq/g之範圍。 [3]如前述[1]或[2]之透明覆膜形成用塗料，其中，前述基 體形成成分是由親水性基體形成成分及疏水性基體形成成 分所構成，親水性基體形成成分之固形物成分的濃度（Cma) 與疏水性基體形成成分之固形物成分之濃度（cMB)的濃度 比（cMA)/(cMB)在0.01至1之範圍。 [4]如前述[3]之透明覆膜形成用塗料，其中，前述親水性基 8 319741 200831622 體形成成分是由下列式（1)表 物、水解聚縮合物及/或具有 基）丙炸酸醋樹脂， 不的有機矽化合物或其水解 親水性功能基的多功能基（f ⑴ 氫 )(上式中X為碳數〗至4之氧烷基、矽烷醇基、.素、 性基體形成成分為下列式⑺所代 矽化合物或其水解物、水解* 虿钺 we 物及/或具有疏水^ 此基的夕功能基（▼基）丙烯酸酯樹脂， 、 Rn-SiX4_n ⑺ 且可1上^中R為碳數1至1G之未取代或經取代之烴基， 乂其為相同或不相同者，X為碳數1至4之氧燒基、石夕 、元，土、鹵素、或氫，ϋ為1至3之整數） 述[3]或 p ]之透萌覆膜ihth 水性功能基為由經基、胺基、缓基、石黃酸基、縮水甘油基 所成之群巾所選之—_上的功能基，前述疏水性功能ς 為由（甲基）丙蝉酿基、焼基、苯基、脲烧基、 群中功能基。 "成之 [6]如$述[1]至[5]中任何一項之透明覆膜形成用塗料，其 中’。别述溶媒為沸點在50至lOOt：間之溶媒（A)與彿點在 00 C至200 C誌之溶媒（B)的混合溶媒，而該混合溶媒中 之/合in (A)的比率在5〇至9〇重量％之範圍，溶媒(β)之比 率在1 〇至5 〇重量％之範圍^ [7]—種附有透明覆膜之基材，係在基材上附有表面形成凹 9 319741 200831622 膜的附有透明覆膜之基材，其特徵為，該透明 過的=折Γ ί面處理過的低折射率微粒子（α )、經表面處理 過的L 粒子⑻及基體成分所構成，而經表面處理 、斤射率微粒子（Α)偏在於透明覆膜之上 面處理㈣高折料微好（刚偏在於透明覆膜 之下广，透日:覆膜之平均膜厚為…。㈣之範圍， 、透明覆膜之凸部的平均高度（Τ凸）與凹部的平均高度（τ 凹之t(Ta)—(丁凹）在3〇至1500 nm的範圍。 如前述[7]之附有透明覆膜之基材，在該透明覆膜中，經 =處f過的低折射率微粒子⑷的折射率㈤在至 理、尚，平均粒捏在5至2〇〇Ilm之範圍’而經表面處 々二^斤射率微粒子⑻的折射率⑹比㈤高，平均粒 _众m之範圍，經表面處理過的低折射率微粒 面卢理令5有里在固形成分的1至3〇重量％之範圍，經表 二理過的高折射率微粒子⑻的含有量在固形成分的5 至70重量％之範圍。 =如'前述之附有透明覆膜之基材，其中，前述基 為親水性基體成分及疏水性基體成分所構成，親水 '、土體成分之ϋ形物成分之含有量（Wma)與疏水性基體成 =固㈣成分之含有量（Wmb)之濃度比（w ( 0.01至I之範圍。 [low前述m至[9]中任-項之附有透明覆膜之基材，1 中，前述親水性基體成分為下列式(3)所表示时财化合 物之水解聚縮合物及/或具有親水性功能基的多功能基 319741 10 200831622 (甲基）丙稀酸酯樹脂， ’ SiX4 (3) (上式中X為碳數1至4之氧烧基、石夕烧醇基、鹵素、 或氫）， · V ” 箣述疏水性基體成分為下列式（4)所表示的有機石夕化 5物之水解聚縮合物及/或具有疏水性功能基的多功能美 (曱基）丙稀酸酯樹脂， ^ Rn-SiX4-G (4) (上式中R為碳數1至ίο之未取代或經取代之烴基， 且可互為相同或不相同者，X為碳數丨至4之氧烷基、矽 烷醇基、鹵素、或氫，η為i至3之整數） [11]如W述[7]至[10]中任一項之附有透明覆膜之基材，其 t ’前述親水性功能基為由羥基、胺基、羧基、磺酸基/、、 縮水甘油基所成之群中所選之一種以上的功能基疏 水性功能基為由（甲基）丙烯醯基、烷基、苯基、护 ❿％基所成之群中所選的一種以上之功能基。.凡基、 [發明之效果] 依本發明即可提供一種透明覆膜形成用塗料 ，明覆膜形成用塗料進行—次塗布、乾燥而可得與其^ 性、強度都優良，並反射防止性能及防炫性能優良， 明费：：：，性上優良的透明覆膜，並提供使用該透 古:膜形成用塗料所形成之附有透明覆膜基材。所得 k明覆膜之基材很適用於LCD顯示器、電漿 影顯示器、EL顯示器、⑽顯示器等之顯投 319741

II 200831622 【實施方式】 以下具體說明本發明之透明覆膜形成用塗料。 [透明覆膜形成用塗料] 本發明之透明覆膜形成用塗料，係由與基體形成成分 之親合性互不相同之低折射率微粒子與高折射率微粒子、 基體形成成分、聚合起始劑與溶媒所構成者。 [低折射率微粒子] 本發明中使用經矽烷耦合劑做表面處理過的低折射率 微粒子（A)。 低折射率微粒子可使用根據本專利申請人所提申請之 特開2001-233611號公報、特開2003-192994號公報所得 的内部有空洞的氧化矽系微粒子，其折射率低，是膠體領 域的微粒子，因分散性良好而適用。 低折射率微粒子的平均粒徑為5至200 nm，在10至 100 nm間者較理想，折射率在1·15至1.40之範圍為理想。 低折射率微粒子是經矽烷耦合劑做表面處理。矽烷耦 / * 合劑可使用甲三甲氧梦烧(methyltrimethoxysilane)，二甲二 曱氧梦烧（出11]^1;1171^11^1;11〇\}^1&1^)，苯三甲氧石夕烧 (phenyltrimethoxysilane)，二苯二甲氧珍烧 (diphenyldimetlioxysilane)，甲三乙氧石夕炫 (methyltriethoxysilane) ’ 二甲二乙氧石夕烧 (dimethyldiethoxysilane) ’ 笨三乙氧梦燒 (phenyltriethoxysilane)，二苯二乙氧石夕烧 (diphenyldiethoxysilane)，異丁 三甲氧石夕烧 12 319741 200831622 (isobutyltrimethoxysilane)，乙烯三甲氧珍烧 (vinyltrimethoxysilane)，乙烯三乙梦烧 (vinyltriethoxysilane)，乙烯三（/5 -甲氧乙氧）石夕烧 (vinyltris( /3 -methoxyethoxy)silane)，3,3,3-三氟丙三甲氧石夕 烧(3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane)，甲基-3,3,3-三氟丙 二甲氧砍烧（methyl-3,353-trifluoropropyldimethoxysilane)， β -(3,4-環氧環己基）乙三甲氧石夕烧（/5 -(3,4-epoxycycloliexyl)

ethyltrimethoxysilane)，7"-環氧丙氧基甲三甲氧石夕烧 (7 -glycidoxymethyltrimethoxysilane)，7 -環氧丙氧基甲三乙 氧石夕烧（7 -glycidoxymethyltriethoxysilane)，7 -環氧丙氧基 乙三曱氧梦烧-glycidoxyethyltrimethoxysilane)，7"-環氧 丙氧基乙三乙氧石夕烧（7 _glycidoxyethyltriethoxysilane)，7 -環氧丙氧基丙三曱氧矽烷 (7 -glycidoxypropyltrimethoxysilane)，γ ·環氧丙氧基丙三甲 氧石夕烧（7 glycidoxypropyltrimethoxysilane)，7 -環氧丙氧基 ❿丙三乙氧砍烧-glycidoxypropyltriethoxysilane)，7，（ /5 · 環氧丙氧乙氧基）丙三甲氧石夕烧（7 -(/5 -glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane)，γ (甲基）丙烯醯氧甲三甲氧石夕烧 (7 -(meth)acryloxymethyltrimethoxysilane)，7 (曱基）丙烯蕴 氧甲三乙氧石夕烧（T -(meth)acryloxymethyltrietlioxysilane)， 7 -(甲基）丙稀醯氧乙三甲氧石夕烧（7 -(meth) acTyloxyethyltrimethoxysilane)，7 -(甲基）丙稀醯氧乙三乙氧 石夕烧（7 -(metl^acryloxyel^yltriethoxysilane)，7 -(甲基）丙浠 醯氧丙三曱氧矽烷，曱基）丙烯醯氧丙三乙氧矽烷，丁三 13 319741 200831622 甲氧石夕烧(butyltrimethoxysilane)，異丁三甲氧石夕烧 (isobutyltrimethoxysilane)，己三甲氧珍燒 (hexyltrimethoxysilane)，辛三甲氧石夕烧 (octyltrimethoxysilane)，癸三甲氧石夕烧 (decyltrimethyoxysilane)，丁三乙氧梦烧 (butyltriethoxysilane)，異丁 三乙氧石夕烧

(isobutyltriethoxysilane)，己三乙氧石夕烧 (hexyltriethoxysilane)，辛三乙氧石夕烧（octyltriethoxysilane)， 癸三乙氧石夕烧（(16(711；1^1;11〇\3^1&116)，3-脲異丙基丙三乙氧石夕 烧(3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane)，全敗辛乙三甲氧 石夕烧(perfluorooctyletliyltrimethoxysilane)，全氟辛乙三乙氧 石夕烧（？61*1111〇]：〇〇(^;^161:11}4廿161;11〇\)^11&1^)，全氟辛乙三異丙氧 梦烧(perfluorooctyletliyltriisopropoxysilane)，三氟丙三曱氧 石夕烧（trifluoropropyltrimethoxysilane)，N- β _(胺乙基)，γ -胺 丙甲二甲氧石夕烧(Ν- /5 -(aminoethyl) 7 - • aminopropylmethyldimethoxysilane)，N-石·(胺乙基）-γ 胺丙 三甲氧石夕烧(Ν- /3 (aminoethyl) 7 - aminoprojpyltrimethoxysilane)，N-苯基-r -胺丙三甲氧石夕烧 (N-phenyl- γ -aminopropyltrimethoxysilane) 5 7 -魏丙三甲氧 石夕烧（7 -mercaptopropyltrimetlioxysilane)，三甲石夕烧醇 (trimethylsilanol)，曱三氯矽烷(methyltrichlorosilane)等。 表面處理是，例如在氧化矽系微粒子之乙醇分散液中 加入前述之矽烷耦合劑之所定量，對此加水，應需要加入 酸或驗做為石夕1完搞合劑之水解用觸媒而使其水解。繼之以 14 319741 200831622 、^溶媒置換’而可得經表面處理過的低折射率微粒子(A) 之有機溶媒分散液。有機溶媒以使用後述的溶媒為理相。 此時低折射率微粒子與石夕燒輕合劑的用量 = β劑的固形物成分之重量/低折射率微粒子 斤射率微粒子的平均粒徑而有不同，但 j，而以0.U0.5之間為更理想。上述重量比了在 洛媒中的分散性、安定性低，塗料之安定性合不 ::中會產生低折射率微粒子的凝集，或形成；時，膜ί: ^基材之您者性、覆膜之硬度不足等情況 置比大…也會隨所用基體形成成分 有巧 其疏水性會變得過高（表面電荷量會變成但 在塗料中經表面處理過的低折射率微粒子⑷會有隹X :不=膜上形成均勻的層的情況，還有所形成： 二;的硬度不足等的情況。又，折射率高的表= 理劑比低折射率微教子多，因此麫 、 1 微粒子⑷的折射率變高，而會有所得之 上升，其反射防止性能、對比等沒有提升等的情況。、卞 -: = ==率微之， 在10至100nm之範圍為更理想。. 經表面處理過的低㈣率餘子⑷的I 5mn時，要得平均粒徑未達5nm 相k未達 難，即使得到，其低折射率微粒子的折射^：=立子有困 嫩’雖將其做表面處理，要得到折射率==40 粒子有困難。 在1.45以下的 319741 15 200831622 、 經表面處理過的低折射率微粒子（A)的平均粒徑超過 \ 200nm時，會在透明覆膜表面形成不需要的凹凸的情況， 而透明覆膜的模糊度（haze va!ue)有升高的情況。 經表面處理過的低折射率微粒子（A)的折射率（nA)在 於1‘20至1.45範圍為理想，更理想的是在12〇至之 範圍。又，要得到折射率（nA)超出此範圍的下限而更低者 很困難。超過此範圍之大折射率（nA)者，也視基材或下層 膜的折射率如何，而會有反射防止性能不足的情況，或因 透明覆膜的反射率高而明暗對比有不足的情況。 經表面處理過的低折射率微粒子（A)之表面電荷量（Qd 在5至80#eq/g為理想，更理想的是在7至7〇〆叫 之範圍。表面電荷量（Qa)小者，或許因疏水性過高，而在 塗料中經表面處理過的低折射率微粒子有時會產生凝 ^而在膜上層不能形成均勻層的情況。表面電荷量（Qa) 過高，則經表面處理過的低折射率微粒子（A)不會偏在於上 參層，而有分散於膜中之傾向。 經表面處理過的低折射率微粒子（八）之表面電荷量之 測定方法，是用表面電位測定裝置以扯以公司ped_〇3)， 將微粒子的分散液以〇.〇〇1N的聚氯化二丙烯二甲銨 (P〇lyChlor〇diallyldimetliyiammonium)滴定，以粒子每克所 有的表面電荷（仏eq/g)求之。 透明覆膜形成用塗料中經表面處理過的低折射率微粒 子（A)之濃度，宜為固形物成分之〇1至重量％，而以 0.2至5重置％為理想’尤其是在〇·5至3 〇重量％之範圍 16 319741 200831622 :更為理想。 經表面處理過的低折射率谇士 得到折射耗料明錢，㈣透能 防止反射性能不足或明處對比不足的 …文间 的低折射率微粒子（A)之灌戶 广°、·生表面處理過 ;ί “ ’塗布性降低而不容易形成㈣㈣明覆膜， 或表面沒有光滑性，或透明覆膜内部有空隙 号、 的散射，或透明覆膜之模糊度 " 已一 •不足的情況。 叫“，更有耐擦傷性 [高折射率微粒子] 粒子本發明使用經石夕燒輕合劑做表面處理過的高折射率微 做為高折射率微粒子可料射率至少為 =子，通常可適用折射率在165以上子舉= 如〜叫，㈣，响，A1203，sn02，响L例 銻摻雜氧化錫（antimo d 0 2 雜氧化錫（m>)等之微粒子!）跡—化銦、碟摻 、錫掺雜氧化錮、磷掺雜氧化錫 ，所以可得同時具有帶電防止性

Sb2〇5、銻摻雜氧化錫 荨之微粒子因具有導電性 能的透明覆膜。 高折射率微粒子之平均粒徑在G,u 5㈣，在^至 3 // m之範圍更理想。 兩折射率微粒子是經矽烷耦合劑做表面處理石 燒輕合劑可用前述低折射率微粒子中所用的同樣的石夕㈣ 319741 17 200831622 /合劑。高折射率微粒子⑻之表面處理，例如在氧化鈦望的 微粒子的醇類分散液中添加定和 …ί 水，視需要力•戈驗做她二::元對此再加 ~ ’ >兀祸合劑之水解用觸， 石夕炫轉合劑加以水解。繼而以有機溶媒置換瘦⑭ 理過的高折射率微粒子（B)之有機溶媒分散液。有機 用後述之溶媒為理想。”岭媒使 此時高折射率微粒子與矽烷耦合劑之用量 合劑之固形成分之重量/高折射率微粒子之重量）隨2 射率微粒子之平均粒徑而有不同，但在請5至^ 想，而在（^丨至匕〗之範圍為更理想。 .為理 前述重量比未達Ο·時，與㈣中之㈣的親 低，塗料之安定性變成不足，在” 子凝隹，式力本品丁处 土科中^有回折射率微粒 子I 4在表面不能形成有規則性的凹凸的情況。 比超過以時，視利基體形成 而會有不同，但會有高折射率微粒子的折射率降低，2 水性過高（表面電荷量降到25/zeq/g 纟或& =在於透明覆膜之下部的情況，在表面 = 則性的凹凸的情況。 取百規 又’高折射率微粒子之矽、广紅今 率微粒子之石夕烧輕合劑處理劑處理’是與低折射 擇石夕院搞合劑之種類、量要適宜選 :電荷量陳差偏會在所定範圍内，折== 後述之範圍内。 1耵卞冒在 319741 18 200831622 v至料高折射轉子(B)之平均粒徑宜在Ο.5 5#m，在】至3#m之範圍更為理想。 ，表面處理過的高折射率粒子⑻之平均 :'，=覆膜凸部之高度(τ〇與凹部高度叫:差(; 广凹曰有小於3Gnm的情況，而得不到足约的防炫性能。 ^表面處理過的高折射率微粒子⑻之 ㈣時，透明覆膜凸部之.高度(τ&)與凹部高度 凸HT凹）會有大於！ 5"m的時候得' 防炫性能m 了也有佧不到足夠的 :表：處理過的高折射率微粒子⑻之 =於:、=處理過的低折射率微粒子之折: == 又有特別的限制’但(nBMnA)在〇 2以上為理I .3至1.6之範圍為更理想。折射率差時 之效果不足，折射率差超過叫= 政射而會有透明性降低，或模糊度提高的情況。 n處理過的高折射率微粒子（聯表面電荷量㈣ L/ :::q/g較理想’在3。至1〇。一之範圍 =明電荷量㈤小時，因疏水性過高而會有不偏 復、、之下部的情況，透明覆膜表面不能形成規則 成：八的T況。又’表面電荷量(Qb)過高時，則與基體形 ^之树脂，親和性低而產生凝集’又在形成膜時，經 理過的兩折射率微粒子⑻不會偏在於下層，因此而 ⑽有在透明覆膜表面不能形成凹凸的情況。 經表面處理過的低折射率微粒子(A)的表面電荷量(qa) 319741 19 200831622 與經表面處理過的古4 之差_在二折^ /g之範圍更理想。電荷量之：；里;;’在25至85 "eq 樹脂而有不同，，絲表卢t視基體形成成分之 口外町手微粒子（B)的表面 ，开^^生之差小，這些微粒子的二便： :::透;，之反^ 合凝隹，^’經表面處理過的低折料微粒子⑷ :旋：严、絲面處理過的高折射率微粒子⑻也會凝 :。’所仔膜會白化，或與基材的密著性及強度有不足的情 、、―經表面處理過的高折射率微粒子（Β)之表面電荷量的 测=方法’與經表面處理過的低折射率微粒子⑷同樣的方 法實施。 透明覆膜形成用塗料中之經表面處理過的高折射率微 籲粒子（Β)以固形成分之濃度在Q1 i 1()重量％為理想，在 〇.2+至5重量％之範圍更理想。高折射率微粒子（b)之濃度 低$，在透明覆膜下層不能形成折射率高的微粒子層，因 而會有提高反射防止性能之效果不足，明處對比的提高效 果不足的情況。高折射率微粒子（B)之濃度高時，在透明覆 膜下層形成折射率高的微粒子層積層不均勻，透明覆膜的 膜厚不均勻，或在透明覆膜表面不能形成規則性凹凸，因 而有防炫性能不能充分發揮的情況，又，透明覆膜之耐擦 傷性有不足的情況。 319741 20 200831622 ▲[基體形成成分] 基體形成成分可使用梦烧系基體形成成分’有機樹脂 糸基體形成成分等。 矽烷系基體形成成分可適用下式（5)表示的有機矽化 合物及/或其水解物，水解聚縮合物。

Rn_SiX4_n (5) (上式中，R為碳數1至10的非置換或置換烴基，互相可 以是相同也可以不同。X :碳數1至4妁烷氧基、矽烷醇 •基、鹵素、氫。η : 0至3之整數） 以此式（5)表示的有機矽化合物可舉四甲氧矽烷 (tetramethoxysilane)，四乙氧石夕烧（tetraethoxysilane)，四丙 氧石夕烧(tetrapropoxysilane)，）四丁氧石夕烧(tetrabutoxysilane)， 甲三甲氧梦烧（methyltrimethoxysilane)，二甲二甲氧砍烧 (dimethyldimethoxysilane)，苯三甲氧石夕烧 (phenyltrimethoxysilane)，二苯二甲氧石夕烧 φ (diphenyldimethoxysilane)，甲三乙氧石夕烧 (metliyltriethoxysilane)，二甲二乙氧石夕烧 (dimethyldiethoxysilane)，苯三乙氧石夕烧 (phenyltriethoxysilane)，二苯二乙氧石夕烧 (diphenyldiethoxysilane)，異丁 三甲氧石夕烧 (isobutyltrimethoxysilane)，乙烯三甲氧石夕烧 (vinyltrimetlioxysilane)，乙浠三乙氧梦烧 (vinyltrietlioxysilane)，乙稀三（/3 -甲氧乙氧）石夕烧（vinyltris (β -metlioxyetlioxy)silane)，3,3,3-三貌丙三甲氧石夕烧（3、3 v3- 21 319741 200831622 trifluoropropyltriinethoxysilane)，甲基，3,3,3·三氟丙二曱氧 w 石夕烧（methyl_3,3,3-trifIuoropropyldimetlioxysilane)，/3 -(3，4·環氧環己基）乙三甲氧石夕烧（β _(3,4_epoxy cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane)，9"-環氧丙氧基曱三甲氧石夕烧（7 -glycidoxymethyltrimethoxysilane)，7 -環氧丙氧基甲三乙氧 石夕烧（7 •glycidoxymethyltriethoxysilane)，7 -環氧丙氧基乙 三甲氧石夕烧（7 -glycidoxyethyltrimethoxysilane)，7 -環氧丙 氧基乙三乙氧石夕烧（T -glycidoxyethyltriethoxysilane)，7 -*環氧丙氧基丙三曱氧石夕烧（r · glycidoxypropyltrimethoxysilane)，7 -環氧丙氧基丙三乙氧 石夕烧(T -glycidoxypropyltriethoxysilane)，7 -環氧丙氧基丙 三乙氧石夕烧（T -glycidoxypropyltriethoxysilane)，τ -(/3 •環氧 丙氧基乙氧基）丙三曱氧石夕烧（7 -(石-glycidoxyethoxy) propyltrimetliaxysilane)，7 -(曱基)丙稀醯氧曱三甲氧石夕烧 (7 -(meth)acryloxymethyltrimethoxysilane)，7 -(甲基)丙烯酸 φ 氧曱三乙氧石夕烧（7 -(meth)acryloxymethyltriethoxysilane)， T -(曱基）丙稀—醯氧乙三曱氧石夕烧(7 -(meth) acryloxyethyltrimethoxysilane)，γ -(甲基）丙烯醯氧乙三乙 氧石夕烧（7 -(meth) acryloxyethyltriethoxysilane)，7 -(曱基) 丙稀醯氧丙三甲氧石夕烧（7 -(meth) acryloxypropyltrimethoxysilane) 5 7 -(甲基)丙烯酿氧丙三 甲氧石夕烧（7 (metli)acryloxyprojpyltrimethoxysilane)，γ -(曱基）丙烯醯氧丙三乙氧石夕烧（7 -(meth) acryloxypropyltriethoxysilane)，7 -(甲基）丙稀醯氧丙三乙 22 319741 200831622

氧石夕烧（T -(meth)acryloxypropyltriethoxysilane)，丁三曱氧 梦烧（131^)^1111^1；110乂3^1&11€)，異丁三甲氧砍烧 (isobutyltrimethoxysilane)，己三乙氧梦烧 (hexyltriethoxysilane)，辛三乙氧石夕烧 (octyltriethoxysilane)，癸三甲氧石夕烧 (decyltrimethoxysilane)，丁 三乙氧石夕烧 (butyltriethoxysilane)，異丁 三乙氧石夕烧 (isobutyltriethoxysilane)，己三乙氧石夕烧 (hexyltriethoxysilane)，辛三乙氧石夕烧（〇以}^161;11〇又)^1131^)， 癸三乙氧石夕烧（(16〇}^11；1^1;11〇\}^1&116)，3-脲異丙基丙三乙氧 石夕烧（3-!^61<1〇15〇卩1*〇卩34卩1^〇卩3^11；1461;11〇\}^11&1^)，全說辛乙三 曱氧石夕烧(perfluorooctylethyltrimethoxysilane)，全氟辛乙 三乙氧石夕烧（perfluorooctylethyltriethoxysilane)，全氟辛乙 三異丙氧碎烧（perfluorooctylethyltriisopropoxysilane)，全 氟丙三曱氧石夕烧（trifluoropropyltrimethoxysilane)，N- /3 -(胺乙基）-7 -胺丙甲二甲氧石夕烧（N- yS -(aminoethyl)- 7 - aminopropylmethyldimethoxysilane)，N-石-(胺乙基)-7 -胺 丙三甲氧梦烧（N- -(amynoehtyl) 7 - amynopropyltrimethoxysilane)，N-苯基-7 -胺丙三甲氧石夕烧 (N-phenyl- γ -aminopropyltrimethoxysilane) ? 7 -魏丙三甲 氧石夕烧（7 -mercaptopropyltrimethoxysilane)，三曱石夕醇 (trimethylsilanol)，甲三氯石夕醇(methyltrichlorosilane)等。 又，有機樹脂系基體形成成分而言，可舉眾知之塗料 用樹脂之熱硬化性樹脂、熱塑性樹脂、電子束硬化樹脂等。 23 319741 200831622 此等樹脂，可舉出以往常用的聚酯樹脂（polyester resin)、聚碳酸酯樹脂（polycarbonate)、聚醯胺樹脂 (polyamide)、聚苯醚樹脂（polyphenylene oxide)、熱塑性丙 烯酸樹脂（thermoplastic acrylate resin)、氯化乙烯樹脂 (polyvinyl chloride)、氟樹脂、醋酸乙烯樹脂（polyvinyl acetate)、矽橡膠（silicone rubber)等的熱塑性樹脂，脲烷樹 脂（urethane resin)、三聚氰胺樹脂（melamine resin)、石夕酮 類樹脂（silicone resin)、丁酸樹脂（butyral)、反應性石夕酮類 树脂、紛樹脂（phenolic resin)、環氧樹脂（epoxy resin)、不 飽和聚醋樹脂（unsaturated polyester resin)、熱硬化性丙稀 酸樹脂（thermosetting acrylate resin)、紫外線硬化型丙婦酸 樹脂（ultraviolet-setting acrylate resin)等的熱硬化性樹 脂、紫外線硬化型丙烯酸樹脂等。又，兩種以上的這些樹 脂的共聚合體或變性體也可以。 這些樹脂，也可以是乳液狀（emulsion)樹脂，水溶性樹 _脂，親水性樹脂。在熱硬化性樹脂時，也可以是紫外線硬 化型，或是電子束硬化型，在熱硬化性樹脂的時候，也可 含有硬化觸媒。 在本發明所用的基體形成成分是由親水性基體形成成 分與疏水性基體形成成分所構成者為理想。 親水性的矽膠系（溶膠-凝膠系）基體形成成分，有下列 式（1)表示的有機矽化合物或其水解物、水解聚縮合物可使 用。

SiX4 (1) 24 319741 200831622 ‘（上式中，X為碳數1至4之烷氧基、矽烷醇基、鹵素、或 、氳） 具體而言，有四曱氧矽烷、四乙氧矽烷、四丙氧矽烷、 四丁氧矽烷、曱三曱氧矽烷及其水解物、水解聚縮合物等 可以適用。 疏水性的矽膠（石夕酮膠，silicone)系（溶膠-凝膠系）基體 形成成分，有下列式（2)表示的有機矽化合物或其水解物、 水解聚縮合物可使用。 * Rn-SiX“ (2) (上式中R為碳數1至10之未取代或經取代之烴基，可互 為相同或不相同者。X為碳數1至4之氧烷基、矽烷醇基、 鹵素、或氫，η為1至3之整數） 其中，尤其是3,3,3-三氟丙三甲氧矽烷，甲基-3,3,3-三氟丙二甲氧矽烷及其水解物、水解聚縮合物之使用报合 • 又，親水性的有機樹脂系基體形成成分而言，可舉具 有羥基(ΟΗ基）、胺基、羧基、磺酸基等親水性功能基的多 功能基（甲基)丙烯酸酯樹脂，具體而言，有羥基（ΟΗ基）、 胺基、羧基、磺酸基等的親水性功能基的三丙烯酸異戊四 醇醋（pentaerythritol triacrylate)、三（甲基）丙嫦酸三甲醇丙 烧酯（triiiietliylolpropane tri(meth)acrylate)、四丙烯酸異戊 四醇醋（pentaerythritoltetraacrylate)、四（曱基）丙稀酸二-三 甲醇丙烧酯（ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate)、六 丙烯酸二異戊四醇 S旨（dipentaerythritol hexaacrylate)等之 25 319741 200831622 ‘外，還可舉曱基丙烯酸二乙胺甲酯 v (diethylaminomethylmethacrylate)、曱基丙稀酸二甲胺甲酉旨 (dimethylaminomethylmethacrylate)、丙烯酸 2-經基-3-丙稀 酸氧丙酯（2-hydroxy-3-acryloyloxypropylacrylate)、二曱基 丙烯酸甲氧三乙二醇酯 (methoxytriethyleneglycoldimethacTylate)、曱基丙烯酸丁氧 二乙二醇酯（butoxydiethyleneglycolmethacrylate)等及其混 合物。 ® 疏水性的有機樹脂系基體形成成分而言，可舉具有乙 烯基、脲烧基（urethane group)、環氧基、（甲基）丙烯酸基 ((meth)acryloyl group)、CF2基等的疏水性功能基的多功能 基（甲基）丙烯酸酯樹脂，具體而言有三丙烯酸異戊四醇酯 (pentaerythritoltriacrylate)、四丙烯酸異戊四醇酉旨 (pentaerythritoltetraacrylate)、三（曱基）丙浠酸三曱醇丙燒 酯（trimethylolpropane tri(meth)acrylate)、四丙烯酸異戊四 φ 醇醋（pentaerythritoltetraacrylate)、四（曱基）丙烯酸二-三曱 醇丙烧酯（ditrimetiiylolpropanetetra(meth)acrylate)、六丙婦 酸二異戊四醇酯（dipentaerythritol hexaacrylate)、甲基丙稀 酸曱酯(methyl methacrylate)、曱基丙烯酸乙醋（ethyl methacrylate)、甲基丙烯酸丁 酯（butyl methacrylate)、曱基 丙烯酸異丁酯（isobutyl methacrylate)、甲基丙烯酸2-乙己 il (2 - et hy Ih exy 1m et h ary late)、曱基丙烯酸異癸酯 (isodecylmethacrylate)、丙烯酸月桂酉旨（n-lauryl acrylate)、 丙烯酸正硬脂酯（η·stearyl acrylate)、二曱基丙烯酸1,6 -己 26 319741 200831622 二醇醋（l，5-hexanedioldimethacrylate)、甲基丙烯酸全氟辛 U 乙酉旨（perfluorooctyletliylniethacrylate)、曱基丙婦酸三氟乙 S旨（trifluoroethyl mathacrylate)、丙烯酸脲烧酉旨（urethane acrylate)等及其混合物。 將前述親水性基體形成成分與疏水性基體形成成分混 合使用，則經表面處理過的低折射率微粒子（A)易向上層， 經表面處理過的高折射率微粒子（B)易向下層各自分離，容 易得到分離為二層的膜。 親水性基體形成成分之固形物成分之濃度（CMA)與疏 水性基體形成成分之固形物成分之濃度（Cmb)的濃度比 (CMA)/(CMB)$ 〇·〇ι至1〇較理想，在0 05至〇·5之範圍 更理想。 前述濃度比（Cma)/(Cmb)未達〇 j時，親水性基體形 成成分少’實質上只接近疏水性基體形成成分時的情況， 經表面處理過的低折射率微粒子（A)與經表面處理過的高 _折射率微粒子（B)分離為上下層的效果會不足。 月1述濃度比（Cma)/(Cmb)超過1時，親水性基體形成 成分多’表面電荷量高的經表面處理過的高折射率微粒子 不會以费著於基材的狀態只偏在於下層的情況。 覆篇形成用塗料中的基體形成成分之以固形物成 分濃度以在1至30重量％為理想，在2至20重量％之範 圍為更理想。 基體形成成分之濃度以固形物成分不到1重量％時， 會產生對基體而言微粒子過多的情況，會有粒子積層不均 27 319741 200831622 <勻，所得透明膜的膜厚不均勻，或透明覆膜表面不能形成 w 規則性的凹凸，因此防炫性能不足，或透明覆膜的耐擦傷 性不足的情況。 基體形成成分之固形物成分濃度超過30重量％時，對 基體而言會產生微粒子過少的情況，會有反射防止性能及 防炫性能不足，或明暗對比提高效果不足的情況。 [溶媒] 本發明所用的溶媒，要能將基體形成成分、聚合起始 肇劑溶解或分散，並能將經表面處理過的低折射率微粒子（A) 及經表面處理過的高折射率微粒子（B)分散均勻就可以，此 外沒有特別的限制，可以使用以往公知的溶媒。 具體而言，可舉水、甲醇、乙醇、丙醇、2-丙醇（IPA)、 丁醇、二丙酮醇（diacetone alcohol)、吱喃甲醇（furfuryl alcohol)、四氫咬喃曱醇（tetrahydrofurfuryl alcohol)、乙二 醇（ethylene glycol)、己二醇（hexylene glycol)、異丙二醇 φ (isopropyl glycol)等的醇類；酷酸曱酯、醋酸乙酯、酷酸 丁酯等的酯類·，二乙醚（diethyl ether)、乙二醇單曱醚 (ethylene glycol monomethyl ether)、乙二醇單乙鍵 (ethylene glycol monoethyl ether)、乙二醇單丁醚（ethylene glycol monobutyl ether)、二乙二醇單甲醚（diethylene glycol monomethyl ether)、二乙二醇單乙醚（diethylene glycol monoethyl ether)、丙二醇單曱醚（propylene glycol monomethyl ether)等的醚類；丙酮（acetone)、曱乙酮 (methylethyl ketone)、甲異丁酮(methylisobutyl ketone)、 28 319741 200831622 乙酸丙酮（acetylacetone)、乙醯醋酸酉旨（acetoacetic ester)等 / 的酮類；乙二醇單甲醚（methyl cellosolve)、乙二醇單乙醚 (ethyl cellosolve)、乙二醇單丁醚（butyl cellosolve)、甲苯、 環己酮、異佛爾酮（Isophorone)等。 尤其是具有羰基的溶媒可適用。 含具有羰基的溶媒時，經表面處理過的低折射率微粒 子（A)與經表面處理過的高折射率微粒子（B)會均勻分散， 並塗料的安定性好，其均勻性、對基材之密著性、強度等 鲁均理想，而能以良好的再現性形成具有凹凸之透明覆膜。 這些溶媒可以單獨使用，也可以兩種以上混合使用， 但在本發明中使用兩種以上沸點不同的溶媒混合使用為理 在本發明中’使用前述溶媒沸點在50至100°C之溶媒 (A)與/弗點在100至200 C之溶媒（B)的混合溶媒，混合溶 媒中之溶媒(A)的比率在50至90重量％之範圍，溶媒（B) _之比率在10至50重量％之範圍為理想。 溶媒（A)可舉甲醇、乙醇、丙醇、2-丙醇（IpA)等的醇 類，酷酸甲酯、醋酸乙酯、酷酸丁酯等的g旨類；丙酮、甲 乙酮等的酮類’甲笨等為例。這些溶媒可單獨使用，也可 以兩種以上混合使用。 溶媒（B)可舉丁醇、二丙酮醇、吱喃甲醇、四氫吱〇南甲 醇、乙二醇、己二醇、異丙二醇等的醇類；二乙醚、乙二 醇單曱醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲 4 一」一醇單乙_、丙一醇單甲醚（propylene glycol 319741 29 200831622 :monomethyl ether)等的醚類；甲異丁酮、乙醯丙酮、乙醯 醋酸Sa專的酮類，乙—醇單曱醚、乙二醇單乙醚、乙二醇 單丁醚、甲苯、環己燒、異佛爾酮等。這些溶媒可單獨使 用’也可以兩種以上混合使用。 複合溶媒中之溶媒（A)的比率超過9〇重量％時，塗膜 的乾燥過快，透明覆膜會有不密實（不均勻）的情況，會有 硬度及耐擦傷性不足的情況。 複合溶媒中溶媒（A)的比率未達5 0重量％時，即另一 ⑩溶媒（B)超過50重量％，塗膜的乾燥延遲，塗膜表面的平 坦化進行，因此透明覆膜之凸部高度（τ 與凹部高度（τ凹） 之差（Τ凸）-(Τ ®)會有未達3〇nm的情況，會有不能得到防炫 性充足的情況。 透明覆膜形成用塗料中的溶媒之比率大約為5〇至9〇 重量％，而以在70至90重量％之範圍為理想。 聚合起始劑 _ 本發明之透明覆膜形成用塗料中，含有聚合起始劑。 聚合起始劑而言’只要能使前述基體形成成分聚合、 硬化外，並無特別限制，可視樹脂種類而適宜選擇，可使 用以往公知的聚合起始劑ΰ 例如氧化酿膦類（acylphospMneoxide)、乙醯苯類 (acetophenone)、丙醯苯類（propioplienone)、苯偶醯類 (benzil)、安息香類（benzoin)、二苯基酮類（benzophenone)、 硫雜蒽酮類（thioxanthone)等的聚合起始劑，以及其他陽離 子系光聚合起始劑等。 30 319741 200831622 ^ 透明覆膜形成用塗料中之聚合起始劑的濃度，會視基 ‘體形成成分之種類而有不同，但將基體形成成分及聚合起 始劑做為固形物成分時，在基體形成成分之0.1至20重量 %為理想，而在0 · 5至10重量％之範圍為更理想。 ，聚合起始劑的固形物成分之含有量未達基體形成成分 之0 · 1重量％，則會有塗膜硬化不足的情況。 聚合起始劑的固形物成分之含有量超過基體形成成分 之20重量％，則會有塗料安^定性不足，或所得透明覆膜的 ⑩硬度不足的情況。 在使用本發明的透明覆膜形成用塗料而形成透明覆膜 時，可採用以往公知的方法。 ， 具體而言，將透明覆膜形成用塗料以浸潰法 (dipping)、喷漆法（spraying)、旋轉機法（spinner method)、 輥塗法（roll coating)、條覆蓋法（bar coating)、細缝覆蓋印 刷法（slit coater printing)、照相凹板印刷法（gravure ⑩printing)等的眾知之方法在基材上塗布、乾燥，以紫外線 照射、加熱處理等的常法使其硬化而可形成透明覆膜，但 在本發明中，推薦輥塗法、細縫覆蓋印刷法、照相凹板印 刷法、微照相凹板印刷法（microgravure printing)等方法。 [附有透明覆膜之基材] 本發明之附有透明覆膜的基材，是在基材上形成了附 有表面凹凸的透明覆膜W基材，其特徵為：透明覆膜是由 經表面處理過的低折射率微粒子（A)與經表面處理過的高 折射率微粒子（B)及基體成分所構成，經表面處理過的低折 31 319741 200831622 射率微粒子（A)形成層狀而偏在於透明覆膜上部，經表面處 v理過的高折射率微粒子（B)偏在於透明覆膜的下部，透明覆 膜的平均厚度在1至1 〇 # m之範圍，透明覆膜之凸部的高 度（T凸）與凹部的高度（丁凹)之差（τ凸HT凹）在30至1500nm 之範圍。 本發明之附有透明覆膜的基材是在基材上以前述透明 覆膜形成用塗料形成透明覆膜的基材為理想。 [附有透明覆膜的基材] _ 在第1圖、第2圖、第3圖呈示本發明之附有透明覆 膜之基材的不意圖。 上部的白圓圈為低折射率微粒子，下部的黑圓圈為高 折射率微粒子’其他的空白地方為基體成分，在透明覆膜 上部形成凹凸。 基材 就基材而言，可舉三乙醯基纖維素膜（triacetyl ⑩ cellulose film)、二乙醯基纖維素膜（diacetyl cellulose film)、乙酸丁酸酉旨纖維素膜（acetate butyrate cellulose film) 等的纖維素系基材，聚對苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate)、聚萘二甲酸 L 二 g旨（polyethylene naphthalate) 等的聚酯系基材，聚乙浠膜(polyethylene film)、聚丙烯膜 (polypropylene film)、環狀聚烯烴膜（cyclopolyolefin film) 等的聚烯烴系基材，尼龍-6、尼龍-66等的聚醯胺（polyamide) 系基材等之外，可舉聚丙烯酸酯系膜（polyacrylate film)、 聚脲烧系膜（polyurethane film)、聚碳酸酯膜（polycarbonate 32 319741 200831622 fllm)、聚_ 膜（polyether film)、聚醚礙膜（polyethersulfone film)、聚笨乙浠膜（p〇iyStyrene film)、聚甲基戊烯膜 (polymethylpentene film)、聚醚酮膜（polyetherketone film)、丙稀腈膜（acrylonitrile film)等的基材。又，在這樣 的基材上，也可以用附有形成硬質塗布膜（hardcoat film) 的覆膜基材。 [透明覆膜] 透明覆膜是由經表面處理過的低折射率微粒子（A)、高 m 折射率微粒子(B)及基體成分所構成。經表面處理過的低折 射率微粒子（A)可用前述同樣的粒子。 透明覆膜中的經表面處理過的低折射率微粒子（A)之 含有量是以固形物成分在1至30重量％為理想，而在2 至25重量％之範圍為更理想。低折射率微粒子之含量 少時，因透明覆膜上部的折射率不夠低，透明覆膜的反射 率變高，而有反射防止性能不足，或明處對比不足的情況。 _低折射率微粒子（A)之含量多時，低折射率微粒子（A)過多 而與經表面處理過的高折射率微粒子（B)之分離不足，而要 形成具有後述範圍之凹凸的透明覆膜有困難，有防炫性能 不足的情況。 經表面處理過的尚折射率微粒子（B)可使用前述同樣 的粒子。透明覆膜中的經表面處理過的高折射率微粒子（B) 是以固形物成分之含有量在5至7 0重量％為理想，而在 10至50重量％之範圍為更理想。高折射率微粒子（b)之含 量少時’透明覆膜表面的凹凸不足，而有防炫性能不足的 319741 33 200831622 j情況。高折射率微粒子（B)之含量多時，會有透明覆膜之尸 <膜不均勻或耐擦傷性不足的情況。、子 [基體成分] 基體成分可舉石夕酮系（溶膠凝膠系）基體成分、有 脂系基體成分等。石夕酮系基體成分而言，與前述式⑺_ 的有機矽化合物之水解聚縮合物可合適使用。又，有機^ 脂系基體成分而言，可舉公知的熱硬化性樹脂、熱塑性^ ⑩脂、電子束硬化樹脂等作為塗料用樹脂。 ▲這種樹脂可舉例如以往所使用的聚醋樹脂、聚碳酸醋 樹脂、聚醯胺樹脂、聚苯驗樹脂、熱塑性丙婦酸樹脂、氯 化乙稀樹脂、氟樹脂、乙酸乙烯樹月旨、石夕橡膠等的熱塑性 ?旨’胺甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、矽類樹脂、丁醛樹 脂、反應性矽酮類樹脂、酚樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯 樹月旨、熱硬化性丙烯酸樹脂、紫外線硬化型丙婦酸樹月旨等 的熱硬化性樹脂、紫外線硬化型丙婦酸樹月旨等。又，兩種 _以上的這些樹脂的共聚合體或變性體也可以。 b廷些樹脂，也可以是乳液狀（emulsion)樹脂，水溶性樹 月曰I親水性樹脂。在熱硬化性樹脂時，也可以是紫外線硬 化型，或疋電子束硬化型，在熱硬化性樹脂的時候，也可 含有硬化觸媒。 在本發明所用的基體形成成分是由親水性基體形成成 分與疏水性基邀形成成分所構成為理想。 、 親水性的矽酮系（溶膠-凝膠系）基體形成成分而言，可 使用有下列式（3)表示的有機矽化合物之水解聚縮合物。 34 319741 200831622 — SiX4 (3) v (上式中，X為碳數1至4之烷氧基、矽烷醇基、鹵素、或 氳） 具體而言，有四甲氧矽烷、四乙氧矽烷、四丙氧矽烷、 四丁氧矽烷、甲三甲氧矽烷之水解聚縮合物等可以適用。 疏水性的矽酮系（溶膠-凝膠系）基體形成成分而言，可 使用有下列式（4)表示的有機矽化合物之水解聚縮合物。

Rn_SiX4_n (4) ⑩（上式中R為碳數1至10之未取代或經取代之烴基，可互 為相同或不相同者。X為碳數1至4之氧烷基、矽烷醇基、 鹵素、或氩，η為1至3之整數） 其中，尤其是3,3,3-三氟丙三甲氧矽烷，曱-3,3.，3-三 氟丙二曱氧石夕烷之水解聚縮合物可以使用。 又，親水性的有機樹脂系基體形成成分而言，可舉具 有羥基（ΟΗ基）、胺基、羧基、磺酸基等親水性功能基的多 _功能基（甲基）丙烯酸酯樹脂，具體而言，有經基（〇Η基）、 胺基、羧基、磺酸基等親水性功能基的三丙烯酸異戊四醇 醋（pentaerythritoltriacrylate)、三（甲基）丙稀酸三甲醇丙烧 酉旨（trimethylolpropane tri(metli)acrylate)、西丙烯酸異戊四 醇酯（pentaerythritoltetraacrylate)、四（曱基）丙稀酸二-三曱 醇丙烧酯（di-trimethylolpropane tetra(meth)acrylate)、六丙 烯酸二異戊四醇酯（dipentaerythritol hexaacrylate)等之 外，還可舉甲基丙烯酸二乙胺甲酯 (diethylaminometliylmethacrylate)、甲基丙烯酸二甲胺甲醋 35 319741 200831622 (dimethylaminomethylmethacrylate)、丙烯酸 2·經基 _3_ 丙烯 、 醯氧丙酉旨（2-hydroxy-3-acryloyloxypropylacrylate)、二甲基 丙烯酸甲氧三乙二醇酯 (methoxytriethyleneglycoldimethacrylate)、曱基丙烯酸丁氧 二乙二醇酯（butoxydiethyleneglycolmethacrylate)等及其混 合物。 疏水性的有機樹脂系基體形成成分而言，可舉具有乙 烯基、脲烷基（urethane group)、環氧基、（甲基）丙烯醯基 m 零（(meth)acryloyl group)、CF2基等的疏水性功能基的多功能 基（甲基）丙烯酸酯樹脂，具體而言有三丙烯酸異戊四醇酯 (pentaerytliritoltriacrylate)、四丙烯酸異戊四醇酯 (pentaerythritoltetraacrylate)、三（甲基）丙烯酸三曱醇丙烧 酯（trimethylolpropane tri(meth)acrylate)、四丙烯酸異戊四 醇酉旨（pentaerythritoltetraacrylate)、四（甲基）丙烯酸二-三甲 醇丙院醋（di-trimethylolpropanetetTa(metli)acrylate)、六丙 φ 烯酸二異戊四醇酯（dipentaerythritol hexaacrylate)、甲基丙 烯酸甲酯（methyl methacrylate)、甲基丙烯酸乙酯（ethyl methacrylate)、曱基丙嫦酸丁酯（butyl methacrylate)、曱基 丙烯酸異丁酯（isobutyl methacrylate)、曱基丙烯酸2-乙己 酯（2-ethylliexylmethacrylate)、曱基丙烯酸異癸酯 (isodecylmethacrylate)、丙烯酸月桂酉旨（n.lauryl acrylate)、 丙烯酸正硬脂S旨（n-stearyl acrylate)、二甲基丙烯酸1，6-己 二醇醋（l，6-hexanedioldimetliacrylate)、甲基丙稀酸全氟辛 乙酉旨（perfluorooctylethylinethacrylate)、曱基丙烯酸三氟乙 36 319741 200831622 "酉旨 Ctrifluoroetliyl mathacrylate)、丙烯酸脲烧酯（1^61;11&1^ w acrylate)等及其混合物。 親水性基體形成成分以固形物成分而言之含有量 (Wma)與疏水性基體形成成分以固形物成分而言之含有量 (WMB)的含有量之比（WMA)/(WMB)在0.01至1.0較理想， 在0.05至0.5之範圍更理想。 (WMA)/(WMB)較小時，親水性基體形成成分少，實質 上只接近於疏水性基體形成成分時的情況，會有不能得到 ®經表面處理過的低折射率微粒子（A)(上部）與經表面處理 過的高折射率微粒子（B)(下部）分離的透明覆膜的情況。 (WMA)/(WMB)較大時，親_性基體形成成分多，表面 電荷量高的經表面處理過的高折射率微粒子會有以不密著 於基材的狀態而只偏在於下層的情況。 透明覆膜之基體成分之含有量（WMA)在25至94重量 %為理想，在30至90重量％之範圍更理想。 φ 透明覆膜之基體成分之含有量（WMA)較少時，膜中的 粒子之比率過高，不能得到經表面處理過的低折射率微粒 子（A)與經表面處理過的高折射率微粒子（B)分離的透明覆 膜，因而會有反射防止性能、防炫性能不足，或透明覆膜 之強度、耐擦傷性不足的情況。透明覆膜之基體成分之含 有量（WMA)多時，粒子之量少而本發明之效果，即反射防 止性能、防炫性能，有時還會有帶電防止性能不足的情況。 本發明所提的透明覆膜之膜厚，其透明覆膜的平均膜 厚在1至10 // m為理想，在2至8 μ m之範圍更理想。這 37 319741 200831622 •…裏所說的平均膜厚，是指透明覆膜之占部 古" 與凹部的平均高度σ凹）之平均值而言。 ^度（τ凸〕 透明覆膜之平均膜厚未達1 声並且右德、十、夕m几一要形成分離為兩 均膜厚料御瓜時，會在透明覆膜產生龜裂， 塑膠等日τ會有產生捲曲（curling)的情況。 一土 ’、、、 又’透明覆膜凸部之平均高度（τ〇與凹部之平均 (τ凹）的差（τ &Ητ凹）在30至1500nm為理想，在:: lOOOnm之範圍更理想。 (T凸）_(τ凹）較小時， 況0 (τ &)_(τ凹）過大時， 乳白的情況。 會有不能得到足夠的防炫性的情 則因光的表面散射大而會有顯得 又，偏在於透明覆膜之上部的經表面處理過的低折射 率微粒子（A)之層厚，在大約10至5〇〇nm為理想，在2〇 至3〇0nm更理想，尤其在5〇至2〇〇11111之範圍為更理想。 • 低折射率微粒子（A)之層厚度較小時，會有反射防止性 月b不足的h ;兄。低折射率微粒子（a)之層厚過厚時，會有變 成不符菲涅耳之原理（Fresnel，s law)的厚度的情況，反射防 止性能不足’或明處對比降低，因此晝面會有顯得乳白的 情況。 [實施例] 以下以實施例說明本發明，但本發明並不受這些實施 例之限制。 [實施例1] 319741 38 200831622 < [透明覆膜形成用塗料（入-1)之調製] ， 低折射率成分係使用氧化矽系中空微粒子分散溶膠 (觸媒化成工業公司製：through rear 1420，平均粒徑 60nm，濃度20.5重量％，分散媒：異丙醇，粒子折射率 1.30)。在這溶膠100g中加入全氟辛乙三乙氧矽烷i〇g (perfluorooctylethyltriethoxysilane，東麗 Dow CoTning 公 司製：AY43-158E，Si02成分26.6重量％)而混合，加入超 純水10 g ’在4 0 C下攪;摔5小時’得到經表面處理過的氧 馨化矽系中空微粒子分散溶膠（固形物成分19.3重量％)。測 定此經表面處理過的氧化石夕系中空微粒子分散溶膠之表面 電荷量，得到8.3 // eq/ g。高折射率成分是使用氧化鈦粒 子（觸媒化成工業公司製：titania microbead，平均粒徑3 // m，粒子折射率2·40)。在乙醇79.5g中加入這個氧化鈦 粒子20.5g，混合τ -丙稀醯氧丙三曱氧發燒（7 -acryloxypropyltrimethoxysilane)2.52g(信越化學公司製: φ KBM-5103，Si02 成分 81.2%)加入超純水 l〇g，在 5(TC 下 攪拌5小時而得到經表面處理過的氧化鈦粒子分散液（固 形成分20、0%)。測定此經表面處理過的氧化鈦粒子分散液 之表面電荷量，得到30.0 /z eq/ g。將經表面處理過的氧化 矽系中空微粒子分散液7.7g，與經表面處理過的氧化鈦粒 子分散液30g，疏水性基體之五丙烯酸六丁四醇酯 (hexaerythritolpentacrylate ^ 日本化藥公司：KAYARAD DPHA)24.3g與親水性基體之曱基丙烯酸2-羥基-3-丙烯醯 氧丙酯（2-liydroxy-3-acryloyloxypropylmethacrylate，共榮 39 319741 200831622 今社化學公司製：lightesterG-201P)2.7g，光起始劑（Cib、a ' Specialty Chemicals，IRGACURE 184，以 IPA 溶解，固形 物成分濃度l〇%)〇.35g並與溶劑之異丙醇13.2g，甲異丁 酮8.0g，丙二醇單曱醚6.0g充分混合而調製透明覆膜形成 用塗料（A-l)〇 [附有透明覆膜之基材（1)之調製] 將透明覆膜形成用塗布液(A-1)在PET膜(厚度100# m，折射率1.65，基材透過率88.0%，模糊度1.0%，反射 ®率5.1%)上以條塗布機塗布，在70°C下乾燥1分鐘後，以 高壓水銀燈（80W/cm)照射1分鐘使其硬化，製成附有透明 覆膜之基材（1)。透明覆膜的一部分向縱方向垂直切斷，斷 面用穿透性電子顯微鏡觀察，發現在上部有氧化矽系中空 微粒子形成厚度約l〇〇nm之層，而在下部確認有氧化鈦粒 子的存在。測定所得附有透明覆膜之基材（1)的全光透過 率、模糊度、波長550nm光線之反射率，其結果示於表中。 _ 全光線透光率及模糊度用模糊度計（日本電色（股） 製：NDH2000)，反射率用分光光度計（日本分光社製： Ubest_5.5)分別測定之。 又，防炫性、密著性、鉛筆硬度是用下述方法及評估 基準評估，結果示於表中。 [防炫性] 附有硬質覆膜功能(hard coat function)的附有反射防 止膜之基材（1)之防炫性，是將基材背面用黑色喷漆均勻塗 布’離3 0W榮光燈2 m處以目視確認螢光燈的映像而評估 40 319741 200831622 之。結果不於表中。

◎ 〇 △ X 完全看不到螢光燈 短強可見螢光燈 可見螢光燈但輪廓模糊 清楚可見螢光燈 [密著性] 附硬貝覆膜功能的附有反射防止膜之基材⑴之表 2以小刀刻有間隔lmm的平行傷痕線縱橫各η條，做 兔0们j方格’在其上面密貼膠帶，然後將膠帶剝離後 殘留之方格數，以下列四級W其料性。結= 於表中。 殘留之方格數1〇〇個 ·· ◎ 殘留之方格數90至99個 ：〇 殘留之方格數85至89個 ··△

殘留之方格數84個以下 ·· X •[鉛筆硬度] 遵照JIS-K_5400而用鉛筆硬度試驗器測定之。 附有透明覆膜之基材⑴之膜剥下其一部分，以雷射顯 微鏡（Keyence America公司製，νΕ·3000)測定凸部高度（丁ο 與凹部咼度（Τ2)之差，結果示於表中。 [實施例」] Γ透明覆膜形成用塗料（Α-2)之調製] 在實施例1中，除了使用經表面處理過的氧化矽系中 空微粒子分散液7.7g，及經表面處理過的氧化鈦粒_子分散 319741 41 200831622 液45g以外，其餘均 (A-2) 〇 以同樣方法調製透明覆膜形成用塗料 [附有透明覆膜之基材（2)之調製] 外，ΠΓ例1巾，改用透明覆膜形成用塗布液(Α-2)以 /、餘均以同樣方法調製附有 覆膜之斷面用穿透型· W 基材⑺。透明 功“ 顯微鏡觀察，發現在上部有氧化

系中空微粒子形成厚度約100η之 鈦粒子之存在。 之層1^確5忍.有减 敎所得附有透明覆膜之基材⑺的全光線透過率、模 韻、波長550·光線之反射率，其結果示於表中。又評 话透明覆膜之平均厚度、凸部高度⑺)與凹部高度⑹之 差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 [實施例3] [透明覆膜形成用塗料（A-3)之調製] 在霄施例1中，除了使用經表面處理過的氧化矽系中 鲁空微粒子分散液改用77g，及氧化鈦粒子分散⑯％以 外’其餘均以同樣方法調製透明覆膜形成用塗料（A_3)。 [附有透明覆膜之基材（3)之調製] 在實施例1中，改用透明覆膜形成用塗料（八_3)以外， 其餘均以同樣方法調製附有透明覆膜之基材（3)。透明覆膜 之斷面用穿透型電子顯微鏡觀察，發現在上部有氧化矽系 中空微粒子形成厚度約1 〇〇nm之層，下部確認有氧化欽粒 子之存在。 測定所得附有透明覆膜之基材（3)的全光線透過率、模 319741 42 200831622 、波長550nm光線之反射率’其結果示於表 估透明覆叙平料度、凸部高度⑹與㈣評 防炫性、密著性、錯筆硬度，結果示於表中Γ 2) [實施例4] * [透明覆膜形成用塗料之調製] 在實施例…高折射率成分係使用氧化⑽子笨 mi業公司製：Titania micr〇bead ’平均粒徑 “ 粒子折射率2.40)以外，JL餘灼以闩择士 ^ m 成用塗料（A-4)。 復胰形 [附有透明覆膜之基材（4)之調製] 在實施例1中’改用透明覆膜形成用塗料认—句以 其餘均以同樣方法調製附有透明覆膜之基材⑺。透明费腔 之斷面用穿透型電子顯微鏡觀察，發現在上部有氧化ς、 中空微粒子形成厚度約100nm之層，下部確認有氧化ς 子之存在。 • 測定所得附有透明覆膜之基材（4)的全光線透過率、模 糊度、波長550nm光線之反射率，其結果示於表中。又評 估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（Τι)與凹部高度（Τ2)1 差、防炫性、密著性、錯筆硬度，結果示於表中。 [實施例5] [透明覆膜形成用塗料（Α-5)之調製] 在實施例1中，高折射率成分係使用氧化鈦粒子（觸媒 化成工業公司製：Titania microbead，平均粒徑1 # m，粒 子折射率2.40)以外，其餘均以同樣方法調製透明覆膜形成 319741 43 200831622 用塗料（A-5)。 [附有透明覆膜之基材（5)之調製] 在實施例1中，改用透明覆臈形 其餘均以同樣方法調製附有透明覆膜之基M外 之斷面用穿透型電子顯微鏡觀察 2 t明覆灌 子中罐厚度一之層，下部確認有氧化鈦: 測有透明覆膜之基材(5)的全光線 =、波長^光線之反射率，其結果示 羊= 估透明覆膜之平均厚度、凸部高度⑹與凹部 : 防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。2 [貫施例6] [透明覆膜形成用㈣(Α-β)之調製] /2在3 %例1中，使用經表面處理過的氧化料中*代 :子分散液叫，及氧化鈦粒子分散液3〇g::: 句以同樣方法難透明覆膜形成用 ” [附有透μ膜之基材⑹之㈣] ^實施例】中’改用透明覆膜形成用塗料（Μ)以外， /、f均以同樣方法調製附有透明覆膜之基材⑹。透明覆膜 Ϊ = 電子顯微鏡觀察，發現在上部有氧切系 子：二。„度㊣2〇〇nm之層’下部確認有氧化鈦粒 率、模糊；^^所传附有透明覆膜之基材⑹的全光線透過 > 、、又/長550nm光線之反射率，其結果示於表中。 又^透明覆膜之平均厚度、凸部高度⑺)與凹部高度(η) 319741 44 200831622 、之差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 < [實施例7] [透明覆膜形成用塗料（A-7)之調製] 在實施例1中，使用經表面處理過的氧化矽系中空微 粒子分散液5g，及氧化鈦粒子分散液3〇g以外，其餘均以 同樣方法調製透明覆膜形成用塗料。 [附有透明覆膜之基材（7)之調製] 在實施例1中，改用透明覆膜形成用塗料液（A_7)以 外，其餘均以同樣方法調製附有透明覆膜之基讨（7)。透明 覆膜之斷面用穿透型電子顯微鏡觀察，發現在上部有氧化 石夕系中空微粒子形成厚度約7〇nm之層，下部嫁認有氧化 鈦粒子之存在。 測定所得附有透明覆膜之基材（7)的全光線透過率、模 糊度、波長550nm光線之反射率，其結果示於表中。又評 估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（Τι)與凹部高度（T2)之 ⑩差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 [實施例8] [透明覆膜形成用塗料（Α·8)之調製] 低折射率成分係使用氧化石夕系中空微粒子分散溶膠 (觸媒化成工業公司製：through rear 1420，平均粒徑 60mn，濃度20·5重量％，分散媒：異丙醇，粒子折射率 1 ·30)。對這溶膠100g加入十三院曱基丙浠酸酉旨 (tridecylmethacrylate)5.12g(共榮社化學製 lightesterTD)而 混合，在50°C下攪拌24小時，得到經表面處理過的氧化 45 319741 200831622 '矽系中空徵粒子分散溶膠（固形物成分24:.4重量％)。測定 '此經表面處理過的氧化矽中空微粒子分散溶膠之表面電荷 量，得到 6.0 // eq/g。 高折射率成分是使用氧化鈦粒子（觸媒化成工業公司 製：titania microbead，平均粒徑3 //，粒子折射率2.40)。 在乙醇79.5g中加入這個氧化鈦粒子20.5g，混合7 -甲基 丙烯酿氧丙三曱氧石夕烧（T- methacryloxypropyltrimethoxysilane) 2.52g(信越化學公司 響製：KBM-503，Si02成分81.9重量％)加入超純水10g，在 50°C下攪拌5小時而得到經表面處理過的氧化鈦粒子分散 液（固形成分20.0重量％)。測定此經表面處理過的氧化鈦 粒子分散液之表面電荷量，得到39.2 // eq/.g。將經表面處 理過的氧化矽系中空微粒子分散液7.7g，與經表面處理過 的氧化鈦粒子分散液30g，作為疏水性基體之五丙烯酸六 丁 四醇酯（hexaerythritolpentacrylate，日本化藥公司： _ KAYARAD DPHA)24.3g與作為親水性基體之甲基丙烯酸 2-經基-3-丙烯酿氧丙酯（2-hydroxy-3-aeryloyloxypropylmethacrylate，共榮社化學公司製： lightester G-201P)2.7g，光起始劑（Ciba Specialty Chemicals， IRGACURE 184，以IPA溶解，固形物成分10重量％ )GL35g 並與溶劑之異丙醇20.9.5g，甲異丁酮8.0g，丙二醇單甲醚 6.0g充分混合而調製透明覆膜形成用塗料（A-8)。 [附有透明覆膜之基材（8)之調製] 在實施例1中，除使用透明覆膜形成用塗布液(A-8) 46 319741 200831622 以外，其餘均以同樣方法調製附有透明覆膜之基材（8)。將 透明覆膜之斷面用穿透性電子顯微鏡觀察，發現在上部有 氧化系中空微粒子形成厚度約1 〇〇ηπι之層，而在下部則確 認有氧化欽粒子的存在。 測定所得附有透明覆膜之基材（8)的全光線透過率、模 糊度、波長55〇nm光線之反射率，其結果示於表中。又評 估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（Tl)與凹部高度（丁2)之 差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 •[實施例9] [透明覆膜形成用塗料（Α-9)之調製] 低折射率成分係使用氧化矽系中空微粒子分散溶膠（觸 媒化成工業公司製：through rear 1420，平均粒徑120nm， 濃度20·5重量％，分散媒：異丙醇，粒子折射率1.20)。對 這溶膠100g加入全氟辛乙三乙氧梦烧 (perfluorooctylethyltriethoxysilane，東麗 Dow Corning 公司 _製：AY43-158E 100%)10g而混合，添加超純水i〇g，在40 °C下攪拌5小時，得到經表面處理過的氧化矽系中空微粒子 /· 分散溶膠（固形物成分19.3重量％)。測定此經表面處理過的 氧化矽中空微粒子分散溶膠之表面電荷量，得到7.7/zeq/ g。高折射率成分是使用氧化鈦粒子（觸媒化成工業公司製： titania microbead，平均粒徑3 // m，粒子折射率2.40)。在 乙醇79.5g中加入這個氧化鈦粒子20·5g，混合7 -丙稀酸氧 丙三曱氧石夕燒（7 -acryloxypropyltrimethoxysilane)2.52g(信 越化學公司製：：KBM-5103，Si02成分81.2%)加入超純水 47 319741 200831622 ’ 10g，在50°C下攪拌5小時而得到經表面處理過的氧化鈦 < 粒子分散液（固形成分20.0重量％ )。測定此經表面處理過 的氧化鈦粒子分散液之表面電荷量，得到30.0// eq/g。將 經表面處理過的氧化矽系中空微粒子分散液7.7g，與經表 面處理過的氧化鈦粒子分散液3 0g，作為疏水性基體之五 丙烯酸六丁四醇酯（hexaerythritolpentacrylate，日本化藥公 司：KAYARAD DPHA)24.3g與作為親水性基體之曱基丙烯 酸2-經基-3-丙稀醯氧丙酯（2-hydroxyv3-acryloyloxypropylmethacrylate，共榮社化學公司製： lightester G-201P)2.7g，光起始劑（Ciba Specialty Chemicals， IRGACURE 184,以IPA溶解，固形物成分1〇重量％)〇j5g 並與溶劑之異丙醇20.95g，甲異丁酮8.0g，丙二醇單甲ϋ ，6.0g充分混合而調製透明覆膜形成用塗料（Α-9)。 [附有透明覆膜之基材（9)之調製] 在實施例1中，除使用透明履膜形成用塗布液（A-9) •以外，其餘均以同樣方法調製附有透明覆膜之基材（9)。將 透明覆膜之斷面用穿透性電子顯微鏡觀察，發現在上部有 氧化系中空微粒子形成厚度約130ηιη之層，而在下部則有 氧化鈦粒子的存在。 測定所得附有透明覆膜之基材（9)的全光線透過率、模 糊度、波長550nm光線之反射率，其結果示於表中。又評 估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（T〗）與凹部高度（T2)之 差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 [實施例10] 48 319741 200831622 ' 低折射率成分係使用氧化矽系中空微粒子分散溶膠 (觸媒化成工業公司製·· through rear 1420，平均粒徑 60nm，濃度20.5重量％，分散媒：異丙醇，粒子折射率 1.30)。對這溶膠'100g加入全氟辛乙三乙氧矽烷 (perfluorooctylethyltriethoxysilane，東麗 Dow Corning 公 司製：AY43-158E 100%)10g而混合’添加超純水i〇g，在 40°C下攪拌5小時，得到經表面處理過的氧化矽系中空微 粒子分散溶膠（固形物成分19·3重量％ )。測定此經表面處 ®理過的氧化矽系中空微粒子分散溶膠之表面電荷量，得到 8.3// eq/g。高折射率成分是使用氧化矽-氧化錘粒子（觸媒 化成工業公司製：silica microbead P-500K1.52C，平均粒 徑3 // m，粒子折射率1.52)。在乙醇79.5g中加入這個氧 化矽氧化錘粒子20.5g，混合r -甲基丙烯醯氧丙三甲氧矽 烧（7" -acryloxypropyltrimethoxysilane)2.52g(信越化學公司 製：KBM-5103 ’ Si〇2成分81 ·2重量％ )加入超純水1 〇g， •在50°C下攪拌5小時而得到經表面處理過的氧化矽氧化銼 粒子分散液（固形成分20.0重量％)。測定此經表面處理過 的氧化石夕氧化結粒子分散、液之表面電荷量，得到41.3 // eq /g。將經表面處理過的氧化矽系中空微粒子分散液 15.5g，與經表面處理過的氧化矽氧化锆粒子分散液30g， 作為疏水性基體之五丙烯酸六丁四醇酯 (hexaerythritolpentacrylate，曰本化藥公司：KAYARAD DPHA)24.3g與作為親水性基體之曱基丙烯酸2-羥基-3-丙 烯酿氧丙醋（2，hydroxy-3-acryloyloxypropylmethacrylate， 49 319741 200831622 共榮社化學公司製：iightester Gao 1 P)2·7g，光起始劑（Ciba < Specialty Chemicals，IRGACURE ® 】84，以 IpA 溶解，固形 物成分濃度10重量％)〇j5g並與溶劑之異丙醇2〇95g，甲 兴丁酮8.0g，丙二醇單甲醚6/〇g充分混合而調製透明覆膜 形成用塗料（A-10)。 [附有透明覆膜之基材（10)之調製] 在實施例1中，除使用透明覆膜形成用塗布液（A_l〇) ⑩以外，其餘均以同樣方法調製附有透明覆膜之基材（1〇)。 將透明覆膜之斷面用穿透性電子顯微鏡觀察，發現在上部 有氧化系中空微粒子形成厚度約1〇〇nm之層，而在下部則 確認有氧化矽氧化錘粒子的存在。 ^測定所得附有透明覆膜之基材（10)的全光線透過率、 模糊度、波長55〇nm光線之反射率，其結果示於表中。又 評估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（Τι)與凹部高度⑸ 之差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 • I實施例11] [附有透明覆膜之基材（11)之調製] 與實施例1同樣調製的透明覆膜形成用塗料⑹）在 γ膜（厚度80/zm，折射率148,基材透光率n 模糊度G.1% ’反射率4·8%)上以條塗布機塗布，在呢 下乾燥1分鐘後，.以高屢水銀燈（8〇w/cm)照射^分鐘使並 成时f明覆膜之基材⑼。將相覆膜的斷面 牙，生電子顯微鏡觀察，發現在上部有氧化 子形成厚度約__之層’而在下部則確認有氧2 319741 50 200831622 的存在。 < 測定所得附有透明覆膜之基材（11)的全光線透過率、 模糊度、波長5 5 Onm光線之反射率，其結果示於表中。又 評估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（TD與凹部高度（T2) 之差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 [比較例1 ] [反射防止層形成用塗布液（AR1)之調製] 低折射率成分係使用氧化矽系中空微粒子分散溶膠 馨（觸媒化成工業公司製：through rear 1420，平均粒徑 60nm，濃度20.5重量％，分散媒：異丙醇，粒子折射率 1·30) 〇對這溶膠l〇〇g加入全氟辛乙三乙氧石夕烷 (perfluorooctylethyltriethoxysilane，東麗 Dow Corning 公 司製：AY43-158E 100重量％)10g而混合，添加超純水 10g，在40QC下攪拌5小時，得到經表面處理過的氧化矽 系中空微粒子分散溶膠（固形物成分19.3重量％)。測定此 _經表面處理過的氧化石夕中空微粒子分散溶膠之表面電荷 量，得到 8.3// eq/g。 經表面處理過的氧化矽系中空微粒子分散液7.7g與 作為疏水性基體之五丙烯酸六丁四醇酯 (hexaerythritolpentacrylate，曰本化藥公司：KAYARAD DPHA)24.3g 與光起始劑（Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE 184，以IPA溶解，固形物成分1 〇重量％ )〇.35g 並與溶劑之異丙醇419g，甲異丁酮160g，丙二醇單曱醚 120g充分混合而調製反射防止層形成用塗布液（AR1)。 51 319741 200831622 > ·. · [高折射率層形成用塗布液(AG 1)之調製] ^ 高折射率成分是使用氧化鈦粒子(觸媒化成工業公司 製：titania microbead，平均粒徑3// m，粒子折射率2.40)。 在乙醇79.5g中加入這個氧化鈦粒子20.5g，混合r -丙烯醯 氧丙三甲氧矽烷（7 -acryloxypropyltrimethoxysilane)2.52g (信越化學公司製：KBM-5103，Si02成分81.2重量％)加 入超純水10g，在50°C下攪拌5小時而得到經表面處理過 的氧化欽粒子分散液（固形成分20 · 0重量％ )。測定此經表 ®面處理過的氧化鈦粒子分散液之表面電荷量，得到30.0 // eq/g。將經表面處理過的氧化鈦粒子分散液30g，作為疏 水性基體之五丙烯酸六丁四醇酯 (hexaerythritolpentacrylate，曰本化藥公司·· KAYARAD DPHA)24.3g與作為親水性基體之曱基丙烯酸2-羥基-3-丙 烯醯氧丙酯（2-hydraxy-3-acryloyloxypropylmethacrylate， 共榮社化學公司製:lightester G-201P)2.7g，光起始劑（Ciba φ Specialty Chemicals，IRGACURE ® 184，以 IPA 溶解，固形 物成分10重量％ )〇.35g並與溶劑之異丙醇13.2g，甲異丁 酮8.0g，丙二醇單甲醚6.0g充分混合而調製高折射率層形 成用塗布液(AG1)。 [附有透明覆膜之基材（R1)之調製] 將高折射率層形成用塗布液(AG1)在PET膜(厚度1〇〇 // m，折射率1.65，基材透過率88.0%，模糊度1.〇%，反 射率5.1%)上以條塗布機塗布，在70aC下乾燥1分鐘後， 以高壓水銀燈（80W/cm)照射1分鐘使其硬化，形成高折射 319741 52 200831622 ^率層。高折射率層之平均膜厚為4.5# m，凸部高度（1^)與 ^ 凹部高度（T2)之差為20/z m。 接著，在高折射率層上以條塗布機塗布反射防止形成 用塗布液（RR1)，在70°C下乾燥1分鐘後，以高壓水銀燈 (80W/cm)照射1分鐘使其硬化，形成反射防止層而調製附 有透明覆膜之基材（R1)。 測定所得之附有透明覆膜之基材（R1)的全光線透過 率、模糊度、波長550nm光線之反射率，其結果示於表中。 胃又評估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（T!)與凹部高度(T2) 之差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 [比較例2] [透明覆膜形成用塗料（R2)之調製] 低折射率成分係使用氧化矽系中空微粒子分散溶膠 (觸媒化成工業公司製·· through rear 1420，平均粒徑 60nm，濃度20.5重量％，分散媒：異丙醇，粒子折射率 ⑩ 1.30)。對這溶膠lOOg加入乙烯石夕烧(vinylsilane)5g(信越化 學公司製KBE-1003，Si02成分62·7重量％)而混合，添加 超純水10g，在40°c下攪拌5小時而得到經表面處理過的 氧化矽系中空微粒子分散溶膠（固形物成分20.6重量％)。 測定這個經表面處理過的氧化矽系中空微粒子的表面電荷 量，得到3·3/ζ eq/g。高折射率粒子是使用氧化鈦粒子（觸 媒化成工業公司製：titania microbead，平均粒徑3 // m， 粒子折射率2.40)。在異丙醇79.5g中放入這個氧化鈦粒子 20.5g，加入乙烯矽烷2.52g(信越化學公司製：KBM-1003 53 319741 200831622 'Si02成分62.7%)而混合，添加超鈍水l〇g，在40°C下攪拌 '5小時而得到經表面處理過的氧化鈦粒子分散液（固形物成 分20.0重量％)。測定這個經表面處理過的氧化鈦分散液 之表面電荷量，得到4.0/zeq/g。經表面處理過的氧化石夕 系中空微粒子分散溶膠l〇.54g與經表面處理過的氧化鈦 粒子分散液30g，異戊四醇三醋酸酉旨 (pentaerythritoltriacetate，共榮社化學公司製：PE-3 A)24g， 甲基丙烯酸二乙胺乙酯（diethylaminoethylmethacrylate，共 肇榮社化學公司製：light ester DE)3g，光起始劑（Ciba

Specialty Chemicals，IRGACURE 184，以 IPA 溶解，固开； 物成分10重量％)〇.42g及異丙醇與甲異丁酮重量比） 混合溶液62.04g充分混合而調製透明覆膜形成用塗料 (R2)。 ~ [附有透明覆膜之基材（R2)之調製] 將透明覆膜形成用塗布液（R2)在PET膜（厚度1〇〇以 _ m，折射率1.65，基材透過率88·〇%，模糊度1〇%，反射 率5.1%)上以條塗布機塗布，在70°c下乾燥1分鐘後，以 高壓水銀燈（80W/cm)照射〗分鐘使其硬化，製成附有透明 覆膜之基材（1)。透明覆膜的一部分向縱方向垂直切斷，斷 面用透過性電子顯微鏡觀察，發現在氧化矽系中空微粒子 與氧化鈦粒子在膜中混合存在成單分散的狀態。 測定所得附有透明覆膜之基材（|12)的全光線透過率、 模糊度、波長55〇nm光線之反射率，其結果示於表中。又 評估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（Τι)與凹部高度 319741 54 200831622 1 之差、防炫性、密著性、鉛筆硬度，結果示於表中。 ^ [.比較例3] [透明覆膜形成用塗料（R3)之調製] 低折射率成分係使用氧化石夕系中空微粒子分散溶膠 (觸媒化成工業公司製：through rear 1420，平均粒徑 60nm，表面電荷量30 // eq/g，濃度20.5重量％，分散媒： 異丙醇，粒子折射率1.30)7.7g，與高折射率粒子是使用氧 化鈦粒子（觸媒化成工業公司製·· titania tnicrobead，平均 零粒徑3// m，粒子折射率2·40，表面電荷量105// eq/g)之 曱醇分散液（固形物濃度20重量％)30g，作為疏水性基體 之五丙烯酸六丁四醇酯（hexaerythritolpentacrylate，曰本化 藥公司：KAYARADDPHA)24.3g與親水性基體之甲基丙 烯酸2·經基-3-丙烯酸氧丙酯（2-hydroxy-3-acryloyloxypropylmethacrylate，共榮社化學公司製： lightesterG-201P)2.7g，光起始劑（Ciba Specialty Chemicals, _ IRGACURE ® 184，以1?入溶解，固形物成分10%)0.35§ 並與溶劑之異丙醇20.95g，曱異丁酮8.0g，丙二醇單甲醚 6.0g充分混合而調製透明覆膜用塗料（R3)。 [附有透明覆膜之基材（R3)之調製] 在實施例1中，除使用透明覆膜形成用塗布液(R3)以 外，其餘均以同樣的方法調製附有透明覆膜之基材（R3)。 將透明覆膜之斷面以透過型電子顯微鏡觀察，發現氧化矽 系中空微粒子與氧化鈦粒子成凝集狀態而存在。 測定所得附有透/明覆膜之基材（R3)的全光線透過率、 55 319741 200831622 '模糊度、波長550nm光線之反射率，其結果示於表中。又 ' 評估透明覆膜之平均厚度、凸部高度（Τι)與凹部高度（T2) 之差、防炫性、密著性、錯筆硬度，結果示於表中。

56 319741 200831622 【表1】

性能評估 鉛筆 硬度 δ i i i i i i I 5 ID 密性著 & & 珍 © ◎ €> ❺ 0 θ Φ 〇 ο X 防炫 性 Ο o ο ο 0 ο o O ο Ο O < X X 反射 率 % 二 CD 2 2 二 fl〇 to tv xc 3 〇 Τ" X 棋糊 度 % S 〇 ? 1 § s 供· K s S %ί> ΙΟ 咖赛if? y m «> α> *-> m !2 m 3 m ▼ 〇& 00 : DO S m CD » I S to (Ta) -(T 1 § I δ 1 s — I i i o % 〇 2丨 ο Ο 琏 S3 £ 5t m 09 3 2 » 〇» m ο m i «〇 JLi 0» «1 W 客价磁牵 厚度 nm o g S Ο 1 g O δ e 8 8 δ 09 m 厚度 fjf m ii> 3 60 3 ♦ to 3 5 ΙΟ €3» β» 1¾ ω 1 I e H· 运 卜 Ιϋ H Sf 〇 i Η- Η- f 卜 r 含有董 100至 ζοστ 溶射 間之 yft% i 5 i i 5 5 窑 含有量 50至 !0<rc 溶射 間之 wt% 2 ta 0» si -» βί Ol 〇> of » β> S s I » UQ S 〇> 裝 蝴 t基體 成份 含有t wi* n 21.12 30.30 § P3 s O PX % v> c> W η t m t 疏水七 形成 功能基 ΌΡΗΑ 1 ΟΡΗΛ DPHA DPHA 1 1 DPHA DPHA DPHA DPHA ' DPHA DPHA 基逋 份 含有量 WW s 2 S 3 1 •ί 2 親水性 形成/5 功能基 0-201P Q-201P 0-201Ρ Q-201P o-aoip CH20IP CH201P 0-201P o-aoip Q-20IP Q-201P ί G-201P Q-201P 表面 電荷 董差 il«q/8 f-* l 1 5 1 卜 如 % g § .¾ s o P q -o 〇 S S [ 表面 電荷 董 UWt 1 i 1 1 I I I 2 m i I I 5 g 折率射 a 3 3 兔 K δ s Pi 3 5 3 3 rq 1 m-£ 茶锄_ 〇，(NM 0.091 0.081 0.0»! a〇9i 0L08I a〇9t a〇9i a〇9i a〇9i 0.091 α〇9ΐ a 158 ! i 1 s f!1 i 表面處j 種類 KBhH5D13 KBM-5013 ΚΒΜ-5013 KBM-5013 KBM-5013 KBM-5013 KBM-5Q13 KBM-503 ΙΈΜ-9013 KBM^〇13 KBM-4013 KBM-5013 乙烯矽烷 | » m 1 1 1 1 i 粒子 折射 ’率 9 «4 1 3 s § «4 3 ¢4 3 5 丨1 Ο e 上 It奉概 平均 粒徑 /fm ΙΟ - o Ck 〇 p s § ~ 3 ~ 兩ΦΝ 種類 f 1 ? o d 9 d Si〇2 *T»〇2 1 P < ? 頦 含有董 wtS A m 5 $ I 5 5 9 -ati 表面 電祷《 P^/8 r> 2 2 00 〇 T^l s S s S o U 折率射 5 § r» R 2 S s f? 3 S ΓΓ 理劑 處理f 重贵昧 at is a“5 aits 0.11S 0.Π5 am 0.115 ύ,Μδ 0J15 _ 0.115 0.119 o.iw 1 表面處 種類 全氟辛 6三乙 氧矽烷 全氟辛 6三6 氧矽烷 全氟辛 乙三乙 氧矽烷 全氟辛 乙三乙 氧矽烷 全氟辛 氧矽烷 全氣辛 乙三6 It矽烷 全氟辛 乙三乙 氧矽烷 十三扰基T 基丙烯酸酯 全氟辛 6三ε> 氧矽烷 全氟辛 乙三乙 氧矽烷 全氟辛 乙三乙 氧矽烷 全氟辛 乙三乙 氧矽燒 乙烯矽烷 I 'Τ' 粒子 折射 率 Ο η 5 B ? 1 ? § § B § § T 时率微 平均 粗徑 nm g ο ο s s ο s i ο δ s s Ο s s 低折J 種類 d ϋ> S «5 d* a> <5* s v> s | w s ν> 〇~ φ 6 .¾ ο «0 ο ί» "i7 55 1 丧一 埃(Ν» 遥CO 鸯呀 fe冢 -雀eo 鸯卜 fe军 嫁〇〇 赛〇5 比故 例1 比較 例2 比較 例3 57 319741 200831622 '【圖式簡單說明】 " 第1圖係本發明之附有透明覆膜基材的一個狀態之示 意圖。 第2圖係本發明之附有透明覆膜基材的另一個狀態之 示意圖。 第3圖係本發明之附有透明覆膜基材的再另一個狀態 之示意圖。

58 319741

Claims (1)

1. 200831622 '十、申請專利範園： ^1.=種透明覆膜形成用塗料，係由與基體（細此)形成成 分之親和性互不相同的低折射率微粒子與高折射率微 粒子、基體形成成分、聚合起始劑及溶媒所， 徵為： ，、夺寸 其低折射率微粒子及高折射率微粒子均經矽烷耦 合劑（silane coupling agent)做表面處理過，經表面處理 過的低折射率微粒子(A)的折射率（nA)在12〇至1 #範圍，平均粒徑在5至200 之範圍，表面電荷量（:) 在5至80 peq/g之範圍， 經表面處理過的高折射率微粒子（的的折射率（Μ) 比（nA)高’平均粒徑在〇·5至5 // m之範圍，表面電荷量 (QB)在25至lOOeeq/g之範圍，低折射率微粒子^ 的濃度在固形物成分之0.1至10重量％之範圍，高折 射率微粒子（B)之濃度在固形物成分之〇1至1〇重量％ φ 之範圍’基體形成成分的固形物成分之濃度在1至3 〇 重量％之範圍。 2·如申請專利範圍第1項之透明覆膜形成用塗料，其中， 岫述低折射率徵粒子（A)的表面電荷量（qa)與前述高折 射率微粒子（B)表面電荷量(Qb)之差（qb)—(qa)在2〇至 95 // eq/g之範圍。 3·如申請專利範圍第1項或第2項之透明覆膜形成用塗 料’其中，前述基體形成成分係由親水性基體形成成分 及疏水性基體形成成分所構成，而親水性基體形成成分 319741 59 200831622 之固形物成分的濃度（cMA)與疏水性基體形成成分之固 形物成分之濃度（cMB)的濃度比（Cma)/ (Cmb)係在〇 〇工 至1之範圍。 4.如申請專利範圍第3項之透明覆膜形成用塗料，其中， 鈾述親水性基體形成成分係由下列式（丨）表示的有機矽 化合物或其水解物、水解聚縮合物及/或具有親水性功 能基的多功能基（甲基)丙烯酸酯樹脂（(meth)acrylate ester resin)， Six4 ⑴ (上式中X為碳數！至4之氧烧基、矽烷醇基（siian〇i group)、鹵素、氳）， 丽述疏水性基體形成成分為下列式（2)所代表之有 機矽化合物或其水解物、水解聚縮合物及/或具有疏水 性功能基的多功能基（甲基）丙烯酸酯樹脂， " Rn-SiX4.n (2) (上式中R為碳數1至1〇之未取代或經取代之烴 基，且可互為相同或不相同者；χ為碳數】至4之氧烷 基、石夕燒醇基、鹵素、或氫；n為1至3之整數）。 5.如申請專利範圍第3項或第4項之透明覆膜形成用塗 料’其中，前述親水性功能基為由羥基、胺基、羧基、 石黃酸基(sulfo group)、縮水甘油基（g〗ycidyl)中所成^群 中所選之一種以上的功能基，前述疏水性功能基為由 (甲基）丙稀醯基（(meth)acryl〇yl)、烷基、苯基、脲烷基 (urethane group)、eh基所成之群中所選的一種以上之 319741 60 200831622 功能基。 6.=申請.專利範㈣〗至5射任項之透明覆膜形成 塗料，其中，前述溶媒為彿點在5 0 S i L㈣⑷ 與沸點在1〇代至2〇代間之溶媒⑻的混合溶媒，而該 混合溶媒中之溶媒⑷的比率在5〇至9〇重量％之^ 圍，溶媒（B)之比率在10至5〇重量％之範圍。 巳

   -種附有制覆膜之基材，係在基材上时表面形成凹 凸之透明覆膜者，其特徵為：該透明覆膜係由經表面處 理過的低折射率微粒子（A)、經表面處理過的高折射率 微粒子（B)及基體成分所構成，而經表面處理過的低折 射率微粒子（A)偏在於透明覆膜之上部形成層狀，經表 面處理過的高折射率微粒子（B)則偏在於透明覆膜之下 部’透明覆膜之平均膜厚為】至心茁之範圍， 透明覆膜之凸部的平均高度（T a)與凹部的平均高 度（T凹）之差（T&)—(T凹）在3〇至15〇〇nm的範圍。 籲8.如申請專利範圍第7項之附有透明覆膜之基材，在該透 明覆膜中，經表面處理過的低折射率微粒子(A)的折射 率（nA)在1.20至1.45之範圍，平均粒徑在5至2〇〇nm 之範圍，而經表面處理過的高折射率微粒子（B)的折射 率（nB)比（nA)高，平均粒徑在〇5至5#m之範圍，經表 面處理過的低折射率微粒子（A)的含有量在固形成分之 1至3 0里里％之範圍，經表面處理過的高折射率微粒子 (B)的含有量在固形成分之5至7〇重量％之範圍。 9.如申请專利範圍第7或8項之附有透明覆膜之基材，其 319741 61 200831622 J中’前述基體成分為親水性基體成分及疏水性基體成分 所構成，親水性基體成分之固形物成分之有 與疏水性基體成分之因帮舲士、八4人 匈里（wma) 比rw V成刀之口开/物成刀之含有量(WMB)之濃度 (WMA)/(WMB)在 〇·〇ι 至 1 之範圍。 17至9項中任—項之附有透明覆膜之 ί機;^人Γ述親水性基體成分為下列式（3)所表示的 =耗合物之水解聚縮合物及/或具有親水性功能 基的多功能基（甲基）丙烯酸酯樹脂， SiX4 (3) 素Λ上ί中x為碳數1至4之氧烷基、矽烷醇基、齒 前述疏錢㈣成分訂所表㈣有機石夕 化百物之水解聚縮合物及/或具有疏水性功能 功能基（甲基）丙稀酸酯樹脂， 土夕 (4) Rn~ Six, 其（上式中R為碳數1至10之未取代或經取代之烴 二，且可互為㈣或不相同者；χ騎數1 ”基、我醇基、衫、錢，4 1至3之整數 11·如申請專利範圍第7至1() 之其β甘Λ - 、τ任項之附有透明覆膜 m’謂親水性:力能基為 基、續酸基、縮水甘油基所成之群中基破 功能基，前述疏水性功能基為 ⑸—種以上的 本基、脲烷基、cf2基所成 L 土 能基。 . 所k的—種以上之功 319741 62