TW200819632A - Drug liquid supply device - Google Patents
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Description
200819632 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種將光阻液等藥液定量排出的毕液供 • 給裝置。 市/ /、 . 【先前技術】 - 在半導體晶圓或玻祝基板專的表面上,利用光微影過 程及蝕刻過程而作成微細的電路圖案。在光微影過程 * 了在晶圓或玻璃基板的表面上塗敷光阻液等使用 "_供給裝置,其㈣納在容㈣的_利岐部而被吸 起,並通過所設置的過濾器等而從噴嘴塗敷在晶圓等被塗 敷物上。如在所塗敷的藥液中混入有塵土等粒子亦即微ς (particle),則微粒會附著在被塗敷物上而引起圖案缺 陷二使製品的成品率下降。如容器内的藥液殘留在栗内,、 =液料生變質,有時變質的藥液會形成微粒,所以要 求排出樂液的泵部不能有殘留的藥液。 C的Ρ ί ^出)*液㈣部,是使用—種藉由彈性自如變形 、'ά^㈤咖聊)或管子(⑴⑹等分隔膜,而將藥液 舰縮,泵室進行分隔之泵部。在泵室中填充 -壓,1藉由分隔膜而對藥液進行加 :所記述那樣的風勺加M方式,包括如專利文獻1 那样…式㈤llows),和如專利文獻2所記述 -那W利騎塞的針筒式(syringe)。 利文獻1〕日本專利特開平1〇_6丨558號公報 利文獻2〕美國專利第5167837號公報 8 200819632 口=非壓縮性媒體而使隔膜或管子產生彈性變妒 毯H 作’則可防止栗部的膨脹收縮室内的筚、、夜歹〔 ===;!而姆粒,但另=; .,/Λ 詹了决疋泵部性能的重要作用。亦即,如办 動傳達至隔膜或管子==忠κ地將風箱或活塞的移 藥液的排出量 ^風相或活基的移動種ί程(stroke)和 下,也同樣會使^等在非壓、缩性媒齡漏的情況 應,無法高料轉;㈣㈣排出量不對 塞的:周面相’通常是在針筒中設置與活
C 室内和活塞基端面側二卜部==頂端面側的驅動 封材料為界而在且右非没^之間進仃岔封,且活塞是以密 往返動作。因&,、右日媒體的部分和外部之間進行 周面上的狀態下而^壓縮性媒體會在附著於活塞的外 形成薄膜狀而進入;周。由於附著的非壓縮性媒體 封材料和活塞外周面的直 用,但另-方面,露出 ^ :揮作為潤滑劑的作 媒性的量減少。絲㈣失,使桃缩性 則在活塞外周φ上在 J卜相非_性媒體揮發, 會消失而形成油膜斷開:離,所非壓縮性媒體 外周面接觸,而加快密封材料的磨^封材料直接與活塞 9 Ο ί 200819632 液吸入到2 的系室膨服以將容器内的藥 負塵狀能= 基後退移動時,非塵縮性媒體成為 缸的内二=:侧空氣會從活塞外周面和氣 活塞的非壓縮性媒體的内部。該現象在與 性下降時變得滑=觸的密封材料產生磨耗而使密封 的負,二::活塞而對働性媒體施加大 的’上述的風箱式縣部不使用與滑動面接觸 動i的以存在著填充有非麼縮性媒體的粟室或驅 非屍间的優點。但是’風箱式與針筒式相比,在 而使号=情況下,因過濾器的流通阻力增大, 力掸古至、ί力增鬲。當驅動風箱時,非壓縮性媒體的壓 縮,目Γη〜而有日守風箱只是略微地膨服收縮,若進行膨脹收 【發明的】移動衝程和藥液的排出量不能高精度地對應。 藥液ί ί H目的是提供—種能夠以高精度排出藥液的 、、舌窝日月的另—目的是提供—種不使非壓縮性媒體從 / 土和乳缸之間漏出的藥液供給裝置。 之間ΐ發Γ的又—另外目的是提供—種在將活塞和氣缸 可#封用的密封㈣中’介人以非壓縮媒體的膜, 铪1材料的潤滑性提高之藥液供給裝置。 本發明的藥液供給裝置的特徵在於,包括:泵部,其 10 200819632 設置有彈性自如地蠻 、— 流出口連通的泵室和二膜二二來f與液體流入口及 自如地組裝有活塞, "、,丁刀隔,氣紅,其往返動作 性媒體;驅鮮t,#於對料轉室供給或贼非壓縮 作,並藉由前述非壓線方向進行往返動 以及可彈性自如地 ^而使w躲室膨脹或收縮; Ο 氣紅之間,並愈前述—’其设置在现述活塞和前述 滑動部相連ml基的外周面和前述氣叙的内周面之 本發明的藥液供』性媒體的密封空間。 收縮室用的媒體供給排:::f在於’其具有形成膨脹 間相連通,並追隨前迷:往;亥:,縮,前述密封空 容積變化’而使非壓縮性;體;;=⑽密封空間的 本發明的藥液供給 泵部的栗箱和前述氣於’在具有構成前述 隔膜進行分隔件巾,職有前述分 連通的連通孔。 至和則述活基側驅動室相 本發明的藥液供給梦菩ώ/^士 央部安裝在前述活塞的^白4在於,將前述隔膜的中 安裝在前述氣缸上,且在亚將雨述隔膜的外周部 述密封空間。 ι |的突出部的外側形成前 本發明的藥液供給梦署 子。 衣置的特徵在於,前述分隔膜, 本發明的藥液供給裝署沾 衣置的特徵在於,前述分隔膜為民 200819632 1々— 在前述氣&上所安— 女衣在别述氣缸上, 二 ',相,將珂逑隔膜 驅動室進行分隔。利用别述隔膜,將前述粟室和前述 利用活塞來進行:脹使填非,縮性媒體的驅動室 Ο f麟,所以與利用風箱對=二宿:媒體使粟室膨 相ί,可對加塵的情況 泵至的膨脹收縮時對 、土 精此,即使在 利用在活塞=:::!= 且力’也可供給藥液。 的外周面和氣叙的内周面之滑二=成與活塞 —封空間中封入非塵縮性媒體。像這間,並在 的隔膜不具有滑動部,所以即使因利用、、=a、封空間用 f,而使内部的非軸生媒體從活塞和“之 = 動室加 出,該虔縮性媒體也會流入到密封空間内^滑動部漏 性媒體漏出到裝置的外部。 τ防止非壓縮 這樣,由於活塞外周面和氣紅内周面之 密封空間相連,所以是以活塞和氣缸之間進動部與 封材料為界,而使非壓縮性媒體附著且留存在的密 側,非壓縮性媒體是在密封材料上呈薄膜狀而附車:向: 密封材料的潤滑性提高,可防止密封材料的磨:考者’使 藉由沿著使驅動室膨脹的方向來對活塞進行 使因驅動室的壓力較外部的壓力低,而 壓縮性媒體進入到驅動室内’也不會在密; 氣等的壓縮性的流體,所以能夠使活塞的移動衝浐矛泵= 12 200819632
厶J厶厶1 jJH =形量·度地對f躲部轉出量達成高 的密封空ί : 成^由滑動部而與驅動室相連 材料即使因經年變化t故的滑動部上所設置的密封 Ο 得較長,且可的更換期間或維護的期間設定 【實施方式Γ 裝置的耐久性提高。 以下根據圖示,料 — 明。在各個圖示中,對施形態詳細地進行說 號。 、"有八同機忐的構件付以相同的符 圖1所示為本發明的—實施 的剖面圖,圖2 AIH 1从Λ …,口衣置10a 置10a呈右料,為線剖面圖。該藥液供給裝 罝10a具有使泵箱u的邱 ^ 合體構件Π,_ ll DH ^分^一體之 的圓筒形狀的空間14内,作千:丁。在泵箱11 Η甘料賴件一裝有可撓性管子 ㈣彡錢可沿餘方向而自如地進行膨脹 ]4m托ρ 相11和可撓性管子15構成。空間 官? 15而被分隔為可撓性管子15内側的泵 二16和外侧的泵側驅動室17,且可撓性管子15構成分隔 月杲0 在可心!生g子15的兩末端安裝有配接器㈣叩㈣部 8、„在其中的—配接器部18上形成與泵室16相連 通的液體流人口 2i且連接著供給侧流路23,在另一配接 200819632 器部19上形成與泵室16相連 排出側流路24。供給側流路幻,夜肢&出口 22且連接著 液容器_k)25連接,排出側流敗、收納光阻液等藥液的藥 塗敷喷嘴27連接。 ”L 4經由過濾器26而與 可撓性官子15是由作為氟桂 ^ 乙烯基醚共聚物(PFA)所 曰的四鼠乙烯2全氟烷基 樣由PFA所形成。士 2成,且配接器部18、19也同 發生反声。_ β # g # Α所形成的這些構件不與光阻液 乂玍汉應但疋,根據藥液的種_ 從 要是彈性變形的频,也可_=1 於PFA,只 人^ 利用其他的樹脂材料或橡膠材 抖寺可撓性材料,作為可撓性管 的原料。 十15及配接器部!8、19 在供給侧流路23上設置有狀兮^ η ㈣该流路進行開關用的供 、'、5側開關閥28,在«侧舰24上設 開關用的排出侧開關閥29。作寻以肌路進仃 ^ ^ ^ ^ ^合個開關閥28、29,可# 用根據u氣信號來動作的電磁閥或根據 作闊。另/卜,也可使用單向閥,亦即止回_=1= 在乳紅12巾所形成的帶底的氣虹孔3〇上,组况 軸方向自如地往返動作的活塞31,且在活塞Μ _端^ 和氣缸孔30的底面32之間,形成有活塞侧驅動室%,而 且,利用在合體構件Π上所形成的連通孔%,使活夷側 驅動室33與泵侧,_室17連通。在泵侧驅動室17和、、舌塞 側驅動室33中封人有液體以作為非壓縮性媒體%,且^ 側驅動室17及活塞側驅動室33内的非壓縮性媒體%,細 由連通孔34而連通。因此,當使活塞31朝著底面32而 200819632 進f動時’活塞侧驅動室33 _,使該驅動室33 塵縮性媒體35流人到㈣驅動室17内 15的内側的栗室叫另-方面,當使活塞二ΐ 退方向而移動時,活塞側驅動室33膨服,使录側驅 縮性媒體35流入到活塞侧驅動室鄉 Ο 内的;。,在氣㈣ 33内的非_性媒體35的移兩個驅動室Π、 縮,並與泵室16的膨脹或收縮栗至16進行膨腸或收 28和吐出側開關閥29進行開 ,而使供給側開關閥 内的藥液供給到塗敷噴嘴27。構作,從而使藥液容器25 氣缸12形成—體並與氣缸12 泵广2〇的泵箱11是與 是形成在使泵箱Π和氣缸12开,而設置著,而連通孔34 所以可達成藥液供給裝置的小體,合體構件13上, 和氣缸12由不同的構件來形成。但是,也可將泵箱u (hose)或導管(pipe)將它們進疒彳有連通孔的軟管 圖2為圖1的A —A線剖面订連广。 管子15除了與配接器部18、19 ^作為系構件的可撓性 為橢圓形’並具有平坦部和圓=的4分以外,横斷面 當活塞31大致成為位於前進限度二^圖1所示那樣, 如圖2中以實線所示的那樣 立置日寸,可、撓性管子15 進行收縮變形。另一方面,當活_”垣部相互接近的形態而 置時,可撓性管子15如"中| 31成為位於後退限度位 又44線所示的那樣,膨 200819632 :=平坦部相互平行的橢圓形。但是,可撓性管子15 ===圓形,也可為其他的形狀。 -端安裝有支持板4卜丁於動作’在氣缸12上’於 安裝有驅動盒40,其中,經由隔離墊⑽叫43而 在支持板41的内侧利用 Ο 珠螺桿軸46被連社柃自地又到支持,且滾 上,並利用電動機、19而”為f動裝置的電動機49的主軸 旋轉驅動,其中,作為^反方向使滾珠螺桿軸46受到 48而固定在支持板ϋ 的電動機49是通過隔離墊 51 51 5 成—體的圓筒部,且八蜾52的端壁部和與此端壁部形 滾珠螺桿轴46呈同^、,52擰人而結合在活塞31上。 驅動套筒5J的開口 、、且入在驅動套筒51的内部,且在 著在滚珠螺桿轴46 =用螺母㈣)支持器54而固定 具有在螺母支持哭5仃擰入而結合的螺母53。螺母53 利用凸、緣55而被固定,擰入而固定的凸緣55,且螺母53 奶使滚珠螺桿輪在,母支持器54上。當利用電動機 螺母53而产Α 進仃旋轉驅動時,該驅動春钤y ζ一 46的扩 在軸方向上進行直绫咎、及#从 、、坐由 接=驅動時,為了^ Λ 在滾珠螺捍轴 46的頂端部螺桿轴46傾斜,而在滚 ,、生由無動相 ^有料〶5 6。當_電 束驅動活塞31時,為了綱驅動 16 200819632 軌57而滑動的滑動塊58,其中,f。。Μ上設置沿著導 40内。 ^ 57被安裝在驅動盒 為了對活塞31和氣红12之間谁一 + ^成環狀溝,並在該環狀溝中進=、封,而在氣幻2 觸。在虱虹12中,于氣缸孔3〇 才枓59進行滑動接 且為了覆蓋該凹部6〇,而在氣^2= 一側形成有凹部60, =設置彈性自如地變形的隔膜61,的突出端之 ’而:成封入有非壓縮性媒體35的宓::缸12和隔膜 隔膜61包括環狀部64,其被固定::二間62。 f t ;^/65^ 的突出部和驅動套筒51之間;彈持在活塞 環狀部64和環狀部65之間。隔膜6ι是由橡 其處於 材料或金屬材料等的進行彈性變形的構件而开= 才料、樹脂 由於該藥液供給裝置10a是利用活塞31來對, ,33進行加壓’使非義性媒體35從活塞_< = ί、給到泵側驅動t 17,所以可提高粟側驅動冑! 3 雖然活塞卿動室33 _非壓祕舰35是二。 料59來密封,但當利用活塞31來對活J ^才 加壓時,在活塞31的外周面上所附著的非壓縮性媒邮$ 有可能因活塞側,_室33的壓力而直接通衫封二5 59,而漏出到較氣缸12的開口端更外方處。但是二:枓 漏出到外部的非壓縮性媒體35會被取入到密封处門^亚 200819632 的非壓縮性媒體35中,而不會漏出到裝置的夕 膜61不具有滑動部,所以可防止從氣缸孔3〇 縮性媒體35從密封空間62向外部飛散。 &出9非壓 在活塞31進行後退移動而增纽塞側轉室 積時,即使活塞側驅動室33及泵側驅動室17 性媒體35形成狀態,因活塞31的突出末端是由^: 61從外部而遮蔽著,封人到密封空間62内的非壓縮= 體35即便倒流進入到活塞側驅動室33内,外部的* $ 不會混入到活塞側驅動室33内。 、二氣也 而且,由於活塞31和氣缸12之間的滑 的密封^間62相連,所以能夠使通過密封材料 表面之間的微細間隙而漏出到外部、或從外部進/ 土 之非壓縮性媒體35的量減少。與氣體相比 = 媒體35由於分子量大,所+ 宝本a Ρ…難通過该密封材料5 9和活 基表面之間的嘁細間隙。因此,在活塞31進行 情況下,非壓縮性媒體35從密封空間62向 33和泵側驅動室17進 至 卜^,可在長時間内維持著排出精 封材二為由界於31和氣缸12之間進行密封的密 、” '' 在,、軸方向兩側附著且殘留著非壓缩性 媒體35,所以在密封材料59上是呈薄膜狀_心'^ ‘性媒體35,使密封材料%的潤滑性提高 二 材料59的磨耗,從而使密封材料59的耐久性提高,= 18 200819632 延長裝置的壽命。 而且,即使密封材料59因經年變化而產生磨耗使密 封性下降,也可防止空氣混入到活塞侧驅動室33内,能夠 使活基31的往返動作衝程和可撓性管子Μ内所排出的藥 液的吐出量高精度地對應。因此,在對半導體晶圓塗敷光 阻液的情況下,能夠以高精度從塗敷喷嘴27排出一定量的 光阻液。 Γ
圖3所示為本發明的另一實施形態之藥液供給裝置的 剖面圖。在該藥液供給裝置1%中,於氣虹12的侧面上米 成有凹部67,且該凹部67利用連通孔68,而盘隔膜^ 和活塞31之間的密封空間62相連通,且凹部67經由穷 空間62及連通孔68而與活塞31的外周面相連通。在二 6 7上安裝有由橡膠等構成的彈性自如地變形的隔膜& 利用凹部67和隔膜71來形成容積可變的膨脹收縮室I 且在膨脹收縮室72 _部封人有非壓祕雜%,而且, 在氣缸12中’形成有凹部67的部分成為媒體供給排放部 二與隔膜61同樣是由橡膠材料等形成,i二 膚形’並在蓋構件74上形成換氣孔;r:; 脹:=r收縮的容積變化即可,= 在圖3所示的藥液供給裝置中, 動作,則密封細的容積根據該往4=::; 19 200819632 脹收縮室72内的容積追隨該容積變化而進行變化。亦即, 當活塞31移動至較圖3所示的位置更位於圖中的下方時, 由於密封空間62的容積增大,則追隨該容積增大量,非壓 縮性媒體35將從膨脹收縮室72流入到密封空間62内以進 行補充。藉此使膨脹收縮室72收縮。另一方面,當活塞 31沿相反方向進行移動而使密封空間62的容積縮小時, 密封空間62内的非壓縮性媒體35被排出到膨脹收縮室72 内,而使膨脹收縮室72膨脹。另外,也可將媒體供給排放 部73設置成由氣缸12分離,在這種情況下,是利用具有 連通孔68的軟管等,將氣缸12的部分和媒體供給排放部 73的部分進行連結。 圖4所示為本發明的另一實施形態之藥液供給裝置的 剖面圖。在該藥液供給裝置10c中,於氣缸12的端面上安 裝有泵箱81。泵箱81是由PFA形成,並一體設置有供給 側流路23和排出側流路24。但是,也可使供給侧流路23 和排出侧流路24設置成與泵箱81另成一體,而分別安裝 在泵箱81上。 在泵箱81和氣缸12之間,作為泵構件,安裝有由PTFE 等彈性材料所形成的隔膜82,並利用泵箱81和隔膜82而 構成泵部20。利用該隔膜82,而使泵箱81和氣缸12之間 的空間被分隔為泵室16和驅動室83,且隔膜82構成分隔 膜。 在圖4所示的藥液供給裝置10c中,利用隔膜82而被 分隔的驅動室83具有上述實施形態的泵側驅動室17和活 20 200819632 至33的機能,且藥液供給裝置1Ge可較上述的藥 液仏、、、a衣置l〇a、l〇b小型化。 個藥液供給裝置1%、1Ge中,也與藥液供給装置 5 ,地’可提南泵側驅動室17的壓力’且即使提高壓 壓&性媒體35也不會漏出到裝置的外部。而且,由 二不具有滑動部’所以可防止從氣缸孔30所漏出 的非以性媒體35由密封空間62向外部飛散。 Ο — 在使活基31進行後退移動而增大活塞侧驅動 、谷和日守,即使活基侧驅動室33及泵側驅動室17 内的非壓祕賴35形成貞壓絲,外部㈣氣也不會混 入到,驅動室33内。由於活塞31和氣缸。之間的滑 的㈣空間62相連’所以能夠使通過密封材 蚪和活基表面之間的微細間隙而漏出到外部、或從 進入到内部之非壓縮性媒體35的量減少。 ° 由於是以活塞31和氣缸12之間進行密封用的密封材 料59為界,而在其軸方向兩側上附著且殘留非壓 35’所以在密封材料59上是呈薄膜狀附著著非 ^ 35,使密封材料59的潤滑性提高,以防止密封材料59 :; 磨耗,從而使密封材料59的耐久性提高,能夠延長事置的 壽命。即使密封_洲辭變化敲練而使^性下 降,也可防止空氣混入到活塞側驅動室33内。 而且,能夠使活塞31的往返動作衝程和系室b 出的藥液量高精度地對應。因此’在對半導體晶圓塗敷光 阻液的情況下,能夠以高精度從塗敷嘴嘴27排出—定量的 200819632 光阻液。 在圖4所示的藥液供給裝置10c中也可設置膨脹收縮 室72,其藉由圖3所示的隔膜71而使容積變化。 一 在圖3、圖4所示的藥液供給裝置10b、10c中,省略 : 了藥液容器25及塗敷喷嘴27等,但各個藥液供給裝置可 . 將藥液塗敷在半導體晶圓等被塗敷物上。 本發明並不限定於前述實施形態,在不脫離其要旨的 範圍内可進行各種各樣的變更。例如,活塞31是利用電動 機49來驅動,但作為驅動裝置並不限定於電動機49,也 可使用空氣氣缸等其他的驅動裝置。 【圖式簡單說明】 圖1所示為本發明的一實施形態之藥液供給裝置的剖 面圖。 圖2為沿著圖1中的A — A線的剖面圖。 圖3所示為本發明的另一實施形態之藥液供給裝置的 剖面圖。 I 圖4所示為本發明的另一實施形態之藥液供給裝置的 剖面圖。 【主要元件符號說明】 • 10a、10b、10c :藥液供給裝置 : 11 :泵箱 12 :氣缸 13 :合成構件 14 :空間 22 200819632 15 : 可撓性管子 16 : 泵室 17 : 泵侧驅動室 18、 19 :連接器部 20 :泵部 21、22 :液體流入口 23 :供給側流路 24 :排出側流路 25 ··藥液容器 26 :過濾器 27 :塗敷喷嘴 28 :供給側開關閥 29 :排出側開關閥 30 :氣缸孔 31 :活塞 32 :底面 33 :活塞側驅動室 34 :連通孔 35 :非壓縮性媒體 40 :驅動盒 41 :支持板 42 :引導板 43 :隔離墊 44 :軸承支持器 23 200819632 厶j厶厶丨μ u 45 :軸承 46 :滾珠螺桿軸 48 :隔離墊 ^ 49 :電動機(驅動裝置) - 51 :驅動套筒 _ 52 :公螺絲部 53 :螺母 54 :螺母支持器 1 55 :凸緣 56 :引導環 57 :導執 58 :滑動塊 59 :密封材料 60 :凹部 61 :隔膜 62 :密封空間 63 :環狀溝 64、65 :環狀部 66 :彈性變形部 ^ 67 :凹部 ; 68 :連通孔 71 :隔膜 72 :膨脹收縮室 73 :媒體供給排放部 24 200819632 74 75 81 82 83 蓋構件 換氣孔 泵箱 隔膜 驅動室
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Claims (1)
- ‘喝 19632 十、申請專利範圍: 液供給裝置,其特徵在於: 流二流形的分隔膜,將與液體 ,,其往返動作自如 動至供給或排放非壓縮性媒體; 土 於對Ml述驅 驅動裝置,甘付;#、丨、、、_ f) Ο 並藉由前述非壓縮: ,彈性自如地變====、, 牙論之間,並與前述 面:别述活基和前述 滑動部相連,且形_^外周面和耵述氣缸的内周面之 如申請專; 中,具有形成膨脹收縮室的1、=的樂液供給裝置,其 室與前述密封空間相連甘二厂排放部’該膨脹收縮 前述3密封空間的容積=,而的 士 3.如申請專利範圍帛】項或第 ^^且排出。 I置’其t,在具有構成前栗部、=樂液供給 體構件中,形成有利用二、+,、 ^的泵相和珂述氣缸之合 ^條中所形成的分==驅動室, 動室和前述活塞侧驅動室相連通的連通孔使㈣系側驅 4 ·如申請專利範圍第丨項或 裝置,其中,前述隔膜的中央部安、斤处的藥液供給 上,且前述隔膜的外周部安裝在:心活基的突出部 塞的突出部的外側形成前述密封空^上’並在前述活 26 200819632 ^ ^ l 卜/ΙΑ 5 ·如申請專利範圍第1項所述的藥液供給裝置,其 中,前述分隔膜為管子。 6 ·如申請專利範圍第1項所述的藥液供給裝置,其 中,前述分隔膜為隔膜。 : 7 ·如申請專利範圍第6項所述的藥液供給裝置,其 . 中,利用前述氣缸上所安裝的泵箱,將前述隔膜安裝在前 述氣缸上5並利用别述隔版’將别述栗室和别述驅動室進 行分隔。 ί 27
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006283555A JP4942449B2 (ja) | 2006-10-18 | 2006-10-18 | 薬液供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200819632A true TW200819632A (en) | 2008-05-01 |
TWI378180B TWI378180B (en) | 2012-12-01 |
Family
ID=39334170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW096129956A TWI378180B (en) | 2006-10-18 | 2007-08-14 | Drug liquid supply device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8047814B2 (zh) |
JP (1) | JP4942449B2 (zh) |
KR (1) | KR100910703B1 (zh) |
CN (1) | CN101165348B (zh) |
TW (1) | TWI378180B (zh) |
Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
TWI660123B (zh) * | 2013-11-20 | 2019-05-21 | 日本皮拉工業股份有限公司 | Diaphragm pump |
TWI760354B (zh) * | 2016-08-11 | 2022-04-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 高純度分配單元 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4942449B2 (ja) * | 2006-10-18 | 2012-05-30 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
JP4792488B2 (ja) | 2008-08-04 | 2011-10-12 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
JP5419008B2 (ja) | 2009-04-28 | 2014-02-19 | Smc株式会社 | ポンプ装置 |
JP5114527B2 (ja) * | 2010-04-20 | 2013-01-09 | 株式会社コガネイ | 液体供給装置 |
CH703028B1 (de) * | 2010-04-28 | 2014-05-30 | Coca Cola Co | Druckknopf-Dispenser für Flaschen mit karbonisierten Getränken. |
CA2813673A1 (en) | 2010-10-07 | 2012-04-12 | Takazono Technology Incorporated | Liquid medication dispensing machine |
FR2966525B1 (fr) * | 2010-10-22 | 2012-11-16 | Milton Roy Europe | Pompe a membrane a forte capacite d'aspiration |
JP5475700B2 (ja) | 2011-02-03 | 2014-04-16 | 株式会社コガネイ | 液体供給方法および装置 |
JP5720888B2 (ja) | 2011-03-30 | 2015-05-20 | 株式会社イワキ | ベローズポンプ |
KR102122226B1 (ko) * | 2013-08-26 | 2020-06-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 약액 공급 장치 및 이를 포함하는 슬릿 코터 |
TW201505722A (zh) * | 2014-06-13 | 2015-02-16 | Creating Nano Technologies Inc | 吐出裝置及塗佈系統 |
CN104121171B (zh) * | 2014-07-13 | 2016-03-02 | 扬州大学 | 差压式隔膜加药装置 |
KR200483917Y1 (ko) | 2015-09-09 | 2017-07-11 | 주식회사 디엠에스 | 약액토출장치 |
KR101746830B1 (ko) | 2016-03-11 | 2017-06-15 | 주식회사 나래나노텍 | 개선된 약액 가압 장치, 및 이를 구비한 약액 공급 장치 |
JP6941570B2 (ja) * | 2018-01-19 | 2021-09-29 | 日本ピラー工業株式会社 | ローリングダイアフラムポンプ |
JP7220580B2 (ja) * | 2019-02-08 | 2023-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | チューブ体及びポンプ装置 |
JP6570778B1 (ja) * | 2019-02-28 | 2019-09-04 | 株式会社イワキ | チューブフラムポンプ |
JP7183088B2 (ja) | 2019-03-20 | 2022-12-05 | 株式会社東芝 | ポンプ |
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JP3723084B2 (ja) | 2001-03-05 | 2005-12-07 | 株式会社イワキ | チューブフラムポンプ |
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JP4942449B2 (ja) * | 2006-10-18 | 2012-05-30 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
-
2006
- 2006-10-18 JP JP2006283555A patent/JP4942449B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-08-14 TW TW096129956A patent/TWI378180B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-09-05 CN CN2007101463301A patent/CN101165348B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-05 KR KR1020070089833A patent/KR100910703B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-09-14 US US11/855,200 patent/US8047814B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-09-06 US US13/225,927 patent/US8398379B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100910703B1 (ko) | 2009-08-04 |
US8047814B2 (en) | 2011-11-01 |
US8398379B2 (en) | 2013-03-19 |
JP4942449B2 (ja) | 2012-05-30 |
KR20080035450A (ko) | 2008-04-23 |
JP2008101510A (ja) | 2008-05-01 |
US20080260549A1 (en) | 2008-10-23 |
CN101165348A (zh) | 2008-04-23 |
TWI378180B (en) | 2012-12-01 |
US20110318206A1 (en) | 2011-12-29 |
CN101165348B (zh) | 2010-06-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |