JP7220580B2 - チューブ体及びポンプ装置 - Google Patents

チューブ体及びポンプ装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7220580B2
JP7220580B2 JP2019021420A JP2019021420A JP7220580B2 JP 7220580 B2 JP7220580 B2 JP 7220580B2 JP 2019021420 A JP2019021420 A JP 2019021420A JP 2019021420 A JP2019021420 A JP 2019021420A JP 7220580 B2 JP7220580 B2 JP 7220580B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tube body
portions
long side
liquid
body according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019021420A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020128723A (ja
Inventor
大輔 石丸
克也 橋本
康弘 高木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2019021420A priority Critical patent/JP7220580B2/ja
Priority to KR1020200004037A priority patent/KR20200097639A/ko
Priority to US16/775,468 priority patent/US11333142B2/en
Priority to TW109102944A priority patent/TWI844617B/zh
Priority to CN202020152621.2U priority patent/CN211900947U/zh
Priority to CN202010080475.1A priority patent/CN111550396B/zh
Publication of JP2020128723A publication Critical patent/JP2020128723A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7220580B2 publication Critical patent/JP7220580B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B43/00Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members
    • F04B43/0009Special features
    • F04B43/0054Special features particularities of the flexible members
    • F04B43/0072Special features particularities of the flexible members of tubular flexible members
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B43/00Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members
    • F04B43/08Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having tubular flexible members
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B43/00Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members
    • F04B43/08Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having tubular flexible members
    • F04B43/084Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having tubular flexible members the tubular member being deformed by stretching or distortion
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B43/00Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members
    • F04B43/08Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having tubular flexible members
    • F04B43/10Pumps having fluid drive
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B43/00Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members
    • F04B43/08Machines, pumps, or pumping installations having flexible working members having tubular flexible members
    • F04B43/10Pumps having fluid drive
    • F04B43/113Pumps having fluid drive the actuating fluid being controlled by at least one valve
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05BINDEXING SCHEME RELATING TO WIND, SPRING, WEIGHT, INERTIA OR LIKE MOTORS, TO MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS COVERED BY SUBCLASSES F03B, F03D AND F03G
    • F05B2210/00Working fluid
    • F05B2210/10Kind or type
    • F05B2210/11Kind or type liquid, i.e. incompressible

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Reciprocating Pumps (AREA)

Description

本開示は、チューブ体及びポンプ装置に関する。
特許文献1には、弾性材料により形成されて径方向に弾性膨張収縮自在の可撓性チューブと、前記可撓性チューブの一端部と薬液収容部との間に接続され、供給側開閉弁が設けられた供給側流路と、前記可撓性チューブの他端部と薬液吐出部との間に接続され、吐出側開閉弁が設けられた吐出側流路と、それぞれ弾性部材により形成された小型ベローズ部と、この小型ベローズ部よりも軸方向の単位変位量当たりの容積変化が大きい大型ベローズ部とを有するとともに、前記可撓性チューブの外側に配置されて軸方向に弾性変形自在のベローズと、前記可撓性チューブと前記ベローズとの間に封入された非圧縮性媒体と、前記ベローズを軸方向に弾性変形して前記小型ベローズ部を収縮させるとともに前記大型ベローズ部を膨張させる一方、前記小型ベローズ部を膨張させるとともに前記大型ベローズ部を収縮させて前記可撓性チューブを径方向に弾性変形する駆動手段とを有することを特徴とする薬液供給装置が開示されている。
特開平10-61558号公報
本開示にかかる技術は、チューブ体の寿命を向上させる。
本開示の一態様は、送液部材に使用され、加圧によって変形可能な中空のチューブ体であって、前記チューブ体の軸方向断面は、各々対向する2つの長辺部と2つの短辺部を有し、前記各長辺部と前記各短辺部が成す、4つのコーナー部分は外側に凸に湾曲した形状を有し、前記各長辺部は、前記コーナー部分から続く、内側に凹んだ凹部を有し、前記各短辺部における前記コーナー部分以外の部分は、平坦形状である、送液部材用チューブ体である。
本開示によれば、チューブ体の寿命を向上させることができる。
実施形態にかかるチューブ体を採用し、処理液供給系に組み込んだレジスト塗布装置の構成の概略を模式的に示す縦断面図である。 図1のレジスト塗布装置に適用されたレジスト液供給装置の系統の概略を示す説明である。 図2のレジスト液供給装置に使用されたポンプ装置の側面図である。 図3のポンプ装置における外側チューブ体の斜視図である。 図4の外側チューブ体の側面断面図である。 図5のa-a線断面図である。 実施形態にかかるチューブ体のサイズを示す説明図である。 実施形態にかかるチューブ体のサイズを示す説明図である。 実施形態にかかるチューブ体のサイズを示す説明図である。 他の形態にかかるチューブ体の説明図である。 他の形態にかかるチューブ体の説明図である。 他の形態にかかるチューブ体の説明図である。 他の形態にかかるチューブ体の説明図である。 他の形態にかかるチューブ体の説明図である。 他の形態にかかるチューブ体の説明図である。
半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、半導体ウェハ
(以下、「ウェハ」という)等の被処理体上に反射防止膜やレジスト膜などの塗布膜を形成したり、露光後のレジスト膜を現像したりするために、レジスト液や現像液等の処理液が用いられる。
この処理液は、処理に必要な定量を、たとえば供給ノズルにその都度送液される。送液にあたっては、従来から可撓性を有するチューブ体の内側に処理液薬液を案内するようにした所謂チューブフラムポンプが多く用いられている。
しかしながら、送液時に加圧流体であるたとえばエアによって前記チューブ体を加圧した際、チューブ体は当該加圧時の圧力によって押し潰れるが、そのときの潰れ状況によって、チューブ体の特定の部位に応力が集中することがある。この種のダイアフラムポンプは繰り返し使用されるので、前記した応力が集中する箇所は破損しやすい。そのため寿命の向上が課題となっている。
そこで、本開示にかかる技術は、前記したような応力の集中を抑えてチューブ体の寿命を向上させる。
以下、本実施形態にかかるチューブ体について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
<レジスト塗布装置>
図1は、本実施形態にかかるチューブ体を採用し、処理液供給系に組み込んだレジスト塗布装置10の構成の概略を示す縦断面図である。
レジスト塗布装置10は、内部を閉鎖可能な処理容器11を有している。処理容器11の側面には、ウェハWの搬入出口(図示せず)が形成されている。処理容器11内の中央部には、ウェハWを保持して回転させるスピンチャック12が設けられている。スピンチャック12は水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハWを吸引する吸引口(図示せず)が設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハWをスピンチャック12上に吸着保持できる。
スピンチャック12は、例えばモータなどを備えたチャック駆動機構13を有し、チャック駆動機構13により所定の速度に回転できる。またチャック駆動機構13には、シリンダなどの昇降駆動源が設けられており、スピンチャック12は上下動可能である。
スピンチャック12の周囲には、ウェハWから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するカップ14が設けられている。カップ14の下面には、回収した液体を排出する排出管15と、カップ14内の雰囲気を排気する排気管16が接続されている。
スピンチャック12上のウェハW上にレジスト液を吐出する塗布ノズル21は、処理容器11内を所定方向に移動自在なアーム22に支持されている。そして塗布ノズル21は、図2にも示したように、レジスト液を供給するレジスト液供給装置30に接続されている。
<レジスト液供給装置>
次に、処理液吐出部としての塗布ノズル21に対しレジスト液を供給するレジスト液供給装置30の構成について説明する。図2は、レジスト液供給装置30の構成の概略を示す説明図である。レジスト液供給装置30は、例えばケミカル室(図示せず)内に設けられている。なおケミカル室とは、各種処理液を液処理装置に供給するためのものである。
レジスト液供給装置30は、内部にレジスト液を貯留するレジスト液供給源であるレジスト液貯留タンク31と、このレジスト液貯留タンク31から移送されたレジスト液を一時的に貯留するバッファタンク32と、を備えている。
レジスト液貯留タンク31は交換可能であり、このレジスト液貯留タンク31の上部には、バッファタンク32へレジスト液を移送する第1の処理液供給管33が設けられている。第1の処理液供給管33にはバルブV1、流量計34が設けられている。
また、第1の処理液供給管33におけるバルブV1の下流側には、バッファタンク32内を加圧してバッファタンク32内のレジスト液を排出するための加圧源(例えば窒素ガス供給源)35に通ずる流路36が接続されている。流路36には、バルブV2、V3が設けられている。また流路36には、バルブV4を介して、並行して洗浄液供給源37にも通じている。これらバルブV1~V4の開閉操作により、レジスト液貯留タンク31からバッファタンク32へのレジスト液の供給、バッファタンク32からのレジスト液の排出、洗浄液のバッファタンク32への供給等が行なわれる。
バッファタンク32は、レジスト液貯留タンク31から移送されたレジスト液を一時的に貯留すると共に、貯留しているレジスト液を圧送する圧送機能を有している。このバッファタンク32は、例えばチューブフラムポンプから構成され、可撓性を有するダイヤフラム32aを含み、該ダイヤフラム32aによって、レジスト液を一時的に貯留する貯留室32bが形成されている。この貯留室32b内の容量はダイヤフラム32aが変形することにより可変である。したがって、レジスト液貯留タンク31の取り換え時においても貯留室32b内でのレジスト液とガスとの接触を最小化することができる。
バッファタンク32の上部には、バッファタンク32内のレジスト液を排出する際に用いられるドレイン管38が設けられている。ドレイン管38には排出弁として機能するバルブV5が設けられている。なお第1の処理液供給管33にもバルブV6を有するドレイン管39が接続されている。
バッファタンク32には、ダイヤフラム32aを変形させるための電空レギュレータ41が給排気管42を介して接続されている。給排気管42には、流量計43が設けられている。電空レギュレータ41には、図示しない加圧源、減圧源に接続されている。これら加圧源、減圧源との切換動作によって、ダイヤフラム32aを変形させることができる。
バッファタンク32の下部には、第2の処理液供給管51が設けられている。第2の処理液供給管51は、フィルタ52を有する清浄化流路53と、後述のポンプ装置100に通ずる流路54とに分岐している。フィルタ52は、レジスト液中の微小な気泡を除去するためのものである。除去した気泡はドレイン管55から系外に排出される。なお第2の処理液供給管51には、バルブV11が設けられ、清浄化流路53にはバルブV12、気泡検出部56が設けられている。
流路54には、実施の形態にかかるチューブ体を有するポンプ装置100が設けられている。ポンプ装置100は、チューブフラム構成を有している。このポンプ装置100には、給排気管60が接続されている。給排気管60には、流量計61及び電空レギュレータ62が設けられている。この電空レギュレータ62によってポンプ装置100に対する加圧、減圧が制御される。流路54におけるポンプ装置100の前後には、バルブV14、V15、圧力計63が設けられている。
そして清浄化流路53と流路54とは、圧力計63の下流側にて再び合流し、以後第3の処理液供給管71を構成し、塗布ノズル21に通じている。第3の処理液供給管71には、流量計72、バルブV21が設けられている。
<ポンプ装置>
ポンプ装置100の構成を、図3~図6に基づいて詳述する。図3は、ポンプ装置100の側面を示している。ポンプ装置100は、その両端部に、流路54に接続されるための接続部101、102を有している。そしてポンプ装置100は、図4、図5、図6に示したように、外側チューブ体110と、当該外側チューブ体110内に収容されたチューブ体120を有している。
外側チューブ体110と、チューブ体120はいずれも中空形状を有し、可撓性を有する合成樹脂からなっている。外側チューブ体110とチューブ体120は各両端部で相互に溶着等によって固着され、外側チューブ体110とチューブ体120の間には、空間Sが形成されている。外側チューブ体110には、空間Sに通ずる孔103が形成されており、既述した給排気管60は、この孔103に接続される。
図6は、図5におけるa-a線断面、すなわち軸方向断面を示している。この図6に示されるように、外側チューブ110体の軸方向断面は、両側に円弧部を有する長円形状を有している。この外側チューブ110体の内側に収容されるチューブ体120の軸方向断面は、対向する長辺部121、122と、短辺部123、124を有している。そして前記各長辺部121、122と前記各短辺部123、124とが成す4つのコーナー部分131、132、133、134は、外側に凸に湾曲した形状を有している。
長辺部121、122は、各々内側に凹んだ凹部121a、122aを有している。本実施の形態では、長辺部121、122の凹部121a、122aは平坦形状を有し、この平坦形状の部分が平坦部となる。また各短辺部123、124におけるコーナー部分131、132、133、134以外の部分は、平坦形状である。
次に実施の形態におけるサイズの比率について図7~図9に基づいて説明する。まず、長辺部121、122における凹部121a、122aの直線長は、長辺部121、122の長さの20~60%に設定されている。これを図7に即していえば、図中のA/Bは、20~60%に設定されている。好ましくは、30~50%であり、40%程度が最も好ましい。
また長辺部121、122の凹部121a、122aの直線長は、短辺部123、124における平坦形状の部分123aの長さの100~140%に設定されている。これを図8に即していえば、図中のA/Cは、100~140%に設定されている。好ましくは、110~130%であり、120%程度が最も好ましい。
さらに長辺部121、122の長さ、すなわち短辺部123、124相互間の距離は、長辺部121、122の凹部121a、122a相互間の距離の150~190%に設定されている。これを図9に即していえば、図中のB/Dは、150~190%に設定されている。好ましくは、160~180%であり、170%程度が最も好ましい。
上記したサイズの比率は、発明者らが実験、シミュレーションを行なって知見したものである。これらの比率は、たとえば、チューブ体120の材質、その厚さ、チューブ体120によって送液される処理液の粘度等によって、上記範囲で適切なものを選択することで、良好な結果、すなわちチューブ体120の寿命の向上が得られる。
<作用>
実施の形態にかかるポンプ装置100は、以上の構成を有しており、バッファタンク32からの処理液、例えばレジスト液がポンプ装置100のチューブ体120内に所定量供給されると、バルブV14が閉鎖、バルブV15、バルブV21が開放される。この状態で電空レギュレータ62を介して、所定圧の流体、例えばエアが、給排気管60から外側チューブ体110とチューブ体120との間の空間Sに供給されると、チューブ体120の長辺部121、122に対しては、図6に示したように、内側に向けて圧力が加えられる。
このとき、長辺部121、122は、短辺部123、124よりも長く、しかも凹部121a、122aを有しているので、前記圧力によって押しつぶされやすくなっている。一方、チューブ体120の短辺部123、124は、長辺部121、122よりも短く、またコーナー部分131~134を除いた部分は、平坦形状であるから、加圧によって変形しづらくなっている。
これによって、チューブ体120内のレジスト液は、適切にチューブ体120内から押し出され、第3の処理液供給管71を通じて塗布ノズル21に送液される。
かかる場合、前記したようにチューブ体120の軸方向断面は、全体として角部が丸い長方形、すなわち、長辺部121、122と短辺部123、124の間の4つのコーナー部分131、132、133、134が外側に凸に湾曲した形状を有し、しかも長辺部121、122には、凹部121a、122aが設けられているので、凹部121a、122aから潰れやすい。一方で短辺部123、124は長辺部121、122より短く、しかもコーナー部分131~134を除いた部分が平坦形状であるから、加圧によって変形しづらくなっている。そしてコーナー部分131、132、133、134は、外側に凸に湾曲した形状を有しているので、全体として応力が集中する部分が抑えられている。
したがって繰り返し使用しても、応力の集中に起因する特定の部位が劣化して破損することを抑えることができ、チューブ体120の寿命を向上させることが可能である。また前記した形状を採用することで、加圧時のチューブ体120の潰れ方を容易に予測することが可能である。これによって、チューブ体120の材質、その厚さ、チューブ体120によって送液される処理液の粘度等に応じて前記したようなサイズ比率を適宜変更することで、加圧時のチューブ体の潰れ方(変形)を適切に制御することも可能である。
また前記したように、短辺部123、124は、コーナー部分131~134を除いた部分が平坦形状であり、加圧送液時に変形しづらくなっているから、加圧送液時に短辺部123、124が外側に膨出する度合いが小さく、外側チューブ体110との接触を防止することができる。この点からもチューブ体120の寿命を向上させることが可能になっている。
<他の形態>
本開示にかかる技術は、前記した形状に限られるものではない。図10~図15に示した形状のチューブ体は、いずれも応力の集中を抑えつつ、さらに他の作用効果も奏することが可能になっている。
図10に示したチューブ体120では、短辺部123、124において、内側に凸の湾曲部123b、124bが設けられている。これによって、加圧送液時において、短辺部123、124が外側に膨出して、外側チューブ体110と接触することをさらに防止することができる。また併せて、外側チューブ体110との間の空間Sの容積を増大させて、粘度の高い処理液を好適に送液することが可能になっている。
図11に示したチューブ体120は、長辺部121、122の凹部121b、122bが、内側に凸に湾曲した形状を有している。これによって、チューブ体120と外側チューブ体110との間の空間Sの容積を増大させて、粘度の高い処理液を好適に送液することが可能になっている。
図12に示したチューブ体120は、長辺部121、122の凹部121a、122a、及び短辺部123、124の平坦部分が、チューブ体120の他の部分よりも肉厚の材質で構成されている。これにより、当該肉厚の部分は加圧によって変形しづらくなっている。かかる構成によって、当該肉厚部分では、加圧送液時に変位が少なく、その結果、コーナー部分131~134に応力がより集中するが、当該コーナー部分131~134は外側に凸に湾曲した形状であるから、特定部位に応力が集中することはない。
図13に示したチューブ体120は、図7~図9に示したチューブ体120よりも、長辺部121、122の凹部121a、122aの平坦部分、及び短辺部123、124の平坦部分が長く設定されたものである。かかる構成の図12のチューブ体120によれば、コーナー部分131~134に対して、より応力が集中する傾向があるが、全体として強固なチューブ体となっている。
図14に示したチューブ体120は、図7~図9に示したチューブ体120よりも、長辺部121、122の凹部121a、122aが短く設定されたものである。それに伴って、コーナー部分131~134は、長辺部121、122側により膨出した形状となっている。かかる形状のチューブ体120によれば、チューブ体120と外側チューブ体110との間の空間Sの容積を増大させて、粘度の高い処理液を好適に送液することが可能になっている。
図15に示したチューブ体120は、図7~図9に示したチューブ体120よりもチューブ体120を構成する合成樹脂の肉厚を厚くしたものであり、これによって、万が一特定部位に応力が集中することがあっても、当該特定部位が破損することを抑制することができ、寿命をさらに向上させることが可能である。
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
(1)送液部材に使用され、加圧によって変形可能な中空のチューブ体であって、
前記チューブ体の軸方向断面は、各々対向する2つの長辺部と2つの短辺部を有し、
前記各長辺部と前記各短辺部が成す、4つのコーナー部分は外側に凸に湾曲した形状を有し、
前記各長辺部は、前記コーナー部分から続く、内側に凹んだ凹部を有し、
前記各短辺部における前記コーナー部分以外の部分は、平坦形状である、送液部材用チューブ体。
ここでいう平坦形状とは、軸方向断面の形状が直線の場合のみならず、たとえば±110mm程度の湾曲した形状も含まれる。ただしこのときでも、長辺方向の幅、すなわち図7や図9で示したBの長さの20%以下が望ましい。
(2)前記長辺部の凹部は、平坦部を有する、(1)に記載のチューブ体。
(3)前記長辺部の凹部は、内側に凸の湾曲形状部を有する、(1)に記載のチューブ体。
(4)前記長辺部の凹部における少なくとも中央は、前記チューブ体の他の部分よりも肉厚である、(1)~(3)のいずれかに記載のチューブ体。
(5)前記長辺部の凹部の直線長は、前記長辺部の長さの20~60%である、(1)~(4)のいずれかに記載のチューブ体。
(6)前記前記長辺部の凹部の直線長は、前記各短辺部における平坦形状の部分の長さの100~140%である、(1)~(5)のいずれか一項に記載のチューブ体。
(7)前記長辺部の長さは、前記各長辺部の各凹部相互間の距離の150~190%である、(1)~(6)のいずれかに記載のチューブ体。
(8)上記(1)~(7)のいずれかのチューブ体の外側に、空間を隔てて外側チューブ体を有し、前記空間内に気体を供給することで、前記チューブ体内の液体を送液し、前記空間内の雰囲気を吸引することで、前記チューブ体内に、送液対象の液体を補充するようにしたポンプ装置。
10 レジスト塗布装置
11 処理容器
21 塗布ノズル
30 レジスト液供給装置
31 レジスト液貯留タンク
32 バッファタンク
33 第1の処理液供給管
51 第2の処理液供給管
54 流路
60 給排気管
62 電空レギュレータ
101、102 接続部
103 孔
110 外側チューブ体
120 チューブ体
121、122 長辺部
121a、122a 凹部
123、124 短辺部
131、132、133、134 コーナー部分
W ウェハ

Claims (8)

  1. 送液部材に使用され、加圧によって変形可能な中空のチューブ体であって、
    前記チューブ体の軸方向断面は、各々対向する2つの長辺部と2つの短辺部を有し、
    前記各長辺部と前記各短辺部が成す、4つのコーナー部分は外側に凸に湾曲した形状を有し、
    前記各長辺部は、前記コーナー部分から続く、内側に凹んだ凹部を有し、
    前記各短辺部における前記コーナー部分以外の部分は、平坦形状である、送液部材用チューブ体。
  2. 前記長辺部の凹部は、平坦部を有する、請求項1に記載のチューブ体。
  3. 前記長辺部の凹部は、内側に凸の湾曲形状部を有する、請求項1に記載のチューブ体。
  4. 前記長辺部の凹部における少なくとも中央は、前記チューブ体の他の部分よりも肉厚である請求項1~3のいずれか一項に記載のチューブ体。
  5. 前記長辺部の凹部の直線長は、前記長辺部の長さの20~60%である、請求項1~4のいずれか一項に記載のチューブ体。
  6. 前記長辺部の凹部の直線長は、前記各短辺部における平坦形状の部分の長さの100~140%である、請求項1~5のいずれか一項に記載のチューブ体。
  7. 前記長辺部の長さは、前記各長辺部の各凹部相互間の距離の150~190%である、請求項1~6のいずれか一項に記載のチューブ体。
  8. 請求項1~7のいずれか一項に記載のチューブ体の外側に、空間を隔てて外側チューブ体を有し、
    前記空間内に気体を供給することで、前記チューブ体内の液体を送液し、
    前記空間内の雰囲気を吸引することで、前記チューブ体内に、送液対象の液体を補充するようにしたポンプ装置。



JP2019021420A 2019-02-08 2019-02-08 チューブ体及びポンプ装置 Active JP7220580B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019021420A JP7220580B2 (ja) 2019-02-08 2019-02-08 チューブ体及びポンプ装置
KR1020200004037A KR20200097639A (ko) 2019-02-08 2020-01-13 튜브체 및 펌프 장치
US16/775,468 US11333142B2 (en) 2019-02-08 2020-01-29 Tube body and pumping device
TW109102944A TWI844617B (zh) 2019-02-08 2020-01-31 液體輸送構件用管狀體及泵裝置
CN202020152621.2U CN211900947U (zh) 2019-02-08 2020-02-05 管体和泵装置
CN202010080475.1A CN111550396B (zh) 2019-02-08 2020-02-05 管体和泵装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019021420A JP7220580B2 (ja) 2019-02-08 2019-02-08 チューブ体及びポンプ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020128723A JP2020128723A (ja) 2020-08-27
JP7220580B2 true JP7220580B2 (ja) 2023-02-10

Family

ID=71945996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019021420A Active JP7220580B2 (ja) 2019-02-08 2019-02-08 チューブ体及びポンプ装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11333142B2 (ja)
JP (1) JP7220580B2 (ja)
KR (1) KR20200097639A (ja)
CN (2) CN111550396B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7220580B2 (ja) * 2019-02-08 2023-02-10 東京エレクトロン株式会社 チューブ体及びポンプ装置
KR20230051888A (ko) 2021-10-12 2023-04-19 삼성전자주식회사 감광액 공급 시스템 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법
JP7489445B2 (ja) 2021-12-02 2024-05-23 セメス カンパニー,リミテッド 加圧装置及び減光液供給システム

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006266250A (ja) 2005-02-28 2006-10-05 Saginomiya Seisakusho Inc 定量送液ポンプ
JP2013529158A (ja) 2010-04-28 2013-07-18 ザ コカ・コーラ カンパニー 炭酸飲料を含むボトルのための押しボタン式ディスペンサー
JP2014518525A (ja) 2011-04-21 2014-07-31 シス−テル エス.ピー.エー. 体外循環回路のための管状挿入体
JP2018091288A (ja) 2016-12-06 2018-06-14 学校法人 中央大学 筒ユニット及び搬送装置
JP6570778B1 (ja) 2019-02-28 2019-09-04 株式会社イワキ チューブフラムポンプ

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5654478B2 (ja) * 1973-08-04 1981-12-25
JPS5113406A (ja) * 1974-07-23 1976-02-02 Shin Meiwa Ind Co Ltd Sukuizushikihonpuyohonpinguchuubu
SE7607787L (sv) * 1975-07-08 1977-01-09 Rhone Poulenc Ind Peristaltisk pump
EP0675310B1 (en) * 1994-03-31 1998-12-02 Hewlett-Packard Company Custom profiled flexible conduit system
JP3559605B2 (ja) * 1995-02-21 2004-09-02 日機装株式会社 チューブダイヤフラムポンプ
JP3554115B2 (ja) * 1996-08-26 2004-08-18 株式会社コガネイ 薬液供給装置
JPH11257249A (ja) * 1998-03-11 1999-09-21 Aqua Tec:Kk チューブポンプ
SE516129C2 (sv) * 1999-06-29 2001-11-19 Aba Sweden Ab Mediumupptagande slang och förfarande för tillverkning av densamma
US6733252B2 (en) * 2002-05-10 2004-05-11 Fqubed Fluid-handling systems and components comprising a bladder pump, a methods therefor
FR2841632B1 (fr) * 2002-07-01 2004-09-17 Bouygues Offshore "dispositif d'isolation thermique d'au moins une conduite sous-marine comprenant un materiau isolant a changement de phase confine dans des poches"
US9052054B2 (en) * 2005-07-06 2015-06-09 Philippe Constant Nobileau Foldable composite tubular structure
US7677271B2 (en) * 2005-09-08 2010-03-16 Cleveland Tubing Inc. Portable flexible and extendable drain pipe
GB0609079D0 (en) * 2006-05-08 2006-06-21 Bhp Billiton Petroleum Pty Ltd Improvements relating to hose
TWM309635U (en) * 2006-09-21 2007-04-11 B H Show Co Ltd Flat pipe with increased water/air flow by high pressure
JP4942449B2 (ja) * 2006-10-18 2012-05-30 株式会社コガネイ 薬液供給装置
JP2016084719A (ja) * 2014-10-23 2016-05-19 東京エレクトロン株式会社 送液方法、送液システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP7220580B2 (ja) * 2019-02-08 2023-02-10 東京エレクトロン株式会社 チューブ体及びポンプ装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006266250A (ja) 2005-02-28 2006-10-05 Saginomiya Seisakusho Inc 定量送液ポンプ
JP2013529158A (ja) 2010-04-28 2013-07-18 ザ コカ・コーラ カンパニー 炭酸飲料を含むボトルのための押しボタン式ディスペンサー
JP2014518525A (ja) 2011-04-21 2014-07-31 シス−テル エス.ピー.エー. 体外循環回路のための管状挿入体
JP2018091288A (ja) 2016-12-06 2018-06-14 学校法人 中央大学 筒ユニット及び搬送装置
JP6570778B1 (ja) 2019-02-28 2019-09-04 株式会社イワキ チューブフラムポンプ

Also Published As

Publication number Publication date
CN211900947U (zh) 2020-11-10
CN111550396B (zh) 2023-08-29
TW202040003A (zh) 2020-11-01
US20200256330A1 (en) 2020-08-13
US11333142B2 (en) 2022-05-17
CN111550396A (zh) 2020-08-18
JP2020128723A (ja) 2020-08-27
KR20200097639A (ko) 2020-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7220580B2 (ja) チューブ体及びポンプ装置
JP5038378B2 (ja) 薬液供給装置および薬液供給方法
US10036379B2 (en) Processing liquid supplying apparatus, processing liquid supplying method and storage medium
JP3554115B2 (ja) 薬液供給装置
US20050238504A1 (en) Flexible tank and a chemical liquid supply apparatus using the same
CN107924812B (zh) 直列式分配容器系统
JP3205909B2 (ja) 脈動低減装置付きポンプ
WO2012042955A1 (ja) 薬液供給装置
JP5114527B2 (ja) 液体供給装置
TW202108886A (zh) 管式隔膜泵
TW201632266A (zh) 泵浦、泵浦裝置及液體供給系統
JP6685759B2 (ja) 基板処理装置
TWI844617B (zh) 液體輸送構件用管狀體及泵裝置
KR20190024669A (ko) 펌프 장치, 처리액 공급 장치 및 기판 처리 장치
CN105545713B (zh) 泵、泵装置和供液系统
KR20090068123A (ko) 도장장치
JP6956601B2 (ja) ポンプ及び塗布装置
KR101837001B1 (ko) 개선된 약액 펌핑용 가압 장치 및 방법, 및 이를 구비한 약액 공급 장치 및 방법
KR101147167B1 (ko) 개선된 약액 펌핑 장치 및 방법, 및 이를 구비한 약액 공급 장치
KR101746830B1 (ko) 개선된 약액 가압 장치, 및 이를 구비한 약액 공급 장치
KR20210105524A (ko) 약액 가압 장치, 및 이를 구비한 약액 공급 장치
KR101723907B1 (ko) 항온기능이 구비된 액정기판의 약액 공급용 펌프
JP3102575U (ja) ポンプ用フォロープレート
JP6396274B2 (ja) 液体供給装置および液体供給方法
TW201609231A (zh) 氣泡分離機構與氣泡分離方法、及其應用於含有藥液供給之製程機台

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211110

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220929

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221011

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230104

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230131

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7220580

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150