CN105545713B - 泵、泵装置和供液系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供抑制液体的滞留的泵(100)，其包括：具有弹性的、用于流通输送对象的液体的管(102)；管用壳体(104)，覆盖管(102)的外侧，在该管用壳体与管(102)的外表面之间的内部空间(V)中保持气体；和进行向内部空间(V)供给气体和从所述内部空间(V)排出气体的动作的电动气动调节器(RE)。

Description

泵、泵装置和供液系统

技术领域

本发明涉及泵、泵装置和供液系统。

背景技术

在专利文献1、2中公开了，在每次进行基板(例如半导体基板)的微细加工等时，使用供液系统，从喷嘴向基板的表面供给液体的内容。在专利文献1中记载的供液系统中，为了液体输送而使用波纹管泵。在专利文献2记载的供液系统中，为了液体输送而使用隔膜泵。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008－305980号公报

专利文献2：日本特开2012－151197号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

波纹管泵为了抽吸和排出液体而具有波纹状的波纹管。在波纹管泵动作时，波纹管的波纹部中，构成波纹管的薄膜部件被折叠，因此在波纹部附近产生狭窄的空间。隔膜泵为了抽吸和排出液体而将具有可挠性的薄膜安装于主体。薄膜在隔膜泵动作时接近主体。因此，在薄膜和主体连接的部件的附近产生狭窄的空间。由此在这些狭窄的空间中容易留存液体。

在液体中本来就会包含颗粒(微小颗粒)等异物。因此，当在上述狭窄空间中留存液体时，液体中的颗粒浓度变高。颗粒浓度变高后的液体从喷嘴向基板排出时，大量的颗粒会附着于基板，因此在处理后的基板上产生缺陷。

于是，本发明说明能够抑制液体留存的泵、泵装置和供液系统。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的一个方面的泵包括：具有弹性的、供作为输送对象的液体流通的管；管用壳体，覆盖管的外侧，在该管用壳体与管的外表面之间的内部空间中保持气体；和向内部空间供给气体和从内部空间排出气体的供给排出部。

本发明的一个方面的泵中，供给排出部对内部空间进行气体的供给和排出，由此管周围被加压或减压。因此，在管周围被加压时，管被挤扁，管内的液体被挤出到管外。另一方面，在管周围被减压时，管膨胀，管内被填充涂敷液。与波纹管泵、隔膜泵相比较，在管中容易滞留液体的狭窄的空间变少。因此，能够抑制液体的滞留。从而，液体中的颗粒浓度不易变高。而且，在本发明的一个方面的泵中，为了移送液体而对管作用气压。因此，与对管作用液压的情况相比较，能够简化结构。

管可以具有沿其中心轴延伸且向中心轴侧凹陷的凹槽。此时，凹槽的附近容易变形，因此，管周围被加压或减压时，凹槽的附近比其它部分先在管的径向上被挤扁或扩展。因此，在具有凹槽的管中，在凹槽的附近管容易根据其周围的气压连续变形，能够抑制管突然变形。

管可以贯通管用壳体地延伸，并且管中具有凹槽的部分位于管用壳体内。在管不贯通管用壳体时，在管用壳体的出入口需要连接用于连接管和其它液体输送管线的连接部件，因此，担心在连接部件中产生狭窄空间。而在管贯通管用壳体地延伸时，不需要连接部件，不易产生这样的狭窄空间。由此能够进一步抑制液体的滞留。

管可以具有3个凹槽，3个凹槽分别在管的周向上以成为大致相同间隔的方式配置。此时，在管的周向上，凹部和凸部一个一个地以大致相同间隔排列。因此，当管周围被加压时，在管的周向上管大致均匀地被挤压。由此，管不易局部大幅变形，而在管产生过多的应力。此外，管具有3个凹槽，因此能够在确保管的变形量的同时达到管的小型化。而且，管具有3个凹槽，因此管容易根据管周围的气压连续变形，管不易突然产生大幅变形。由此能够稳定控制管的状态。

本发明的另一方面的泵装置包括：上述泵；和外壳，其具有主部和厚度比主部薄且从主部向外侧延伸的细长部，主部收纳供给排出部，细长部收纳管和管用壳体。

本发明的另一方面的泵装置能够达到与上述泵同样的作用效果。但是，在使用2个泵装置时，可以将它们组合而构成为一组泵装置组合。此时，根据2个泵装置的组合方式，存在一组泵装置组合体积增大的情况。但是，本发明的另一观点的泵装置中，在外壳的细长部收纳管和管用壳体。因此，在主部彼此不重合的状态下，将虽然尺寸较长但厚度较薄的细长部彼此重合，由此能够在抑制一组泵装置组合的厚度的同时达到整体的小型化。

本发明的另一方面的液体供给系统包括：上述泵；连接泵和液体源的第一液体输送管线；连接泵和排出液体的喷嘴的第二液体输送管线；和在泵内延伸的第三液体输送管线，第三液体输送管线的至少一部分由管构成。

在本发明的另一方面的液体供给系统中能够达到与上述泵同样的作用效果。

本发明的另一方面的液体供给系统可以还具有：配置在第一液体输送管线上的过滤器；和配置在第一液体输送管线上且配置在过滤器与液体源之间的辅助泵。在过滤器配置在第一液体输送管线上时，过滤器存在于泵的上游侧。在过滤器的前后产生压力损失，因此根据液体的粘度，可能泵的抽吸力不足而泵的排出量下降，导致液体发泡。但是，在第一液体输送管线上且在过滤器与液体源之间配置辅助泵，因此能够将由辅助泵加压后的液体送至下游侧的过滤器和泵。因此，在辅助泵的下游侧，液体容易成为正压。由此，在由于压力损失在过滤器的下游侧液体的压力下降的情况下，在过滤器的下游侧液体也容易成为正压。结果，在液体为中粘度或高粘度的情况下，也能够由过滤器除去液体中的异物等，抑制泵的排出量的下降和液体的发泡。

辅助泵中的液体的流入口与液体源中的液体的排出口可以一体化。当辅助泵动作时，在辅助泵的上游侧压力下降，产生负压而导致液体发泡。但是，此时，辅助泵的流入口与液体源的排出口一体化而两者极为接近，因此几乎不存在产生负压的区域。由此能够尽可能抑制液体发泡。

发明效果

根据本发明的泵、泵装置和液体供给系统，能够抑制液体的滞留。

附图说明

图1是表示基板处理系统的立体图。

图2是图1的II-II截面图。

图3是图2的III-III截面图。

图4是表示涂敷单元的示意图。

图5是表示供液系统的图。

图6是概要表示泵的截面的图。

图7(a)是表示管的侧面图，图7(b)是图7(a)的B-B截面图。

图8是表示泵装置的立体图。

图9是用于说明液体输送时的供液系统的动作的图。

图10是表示管压扁的状态的截面图。

图11是表示一组泵装置的立体图。

图12是表示另一例的供液系统的图。

图13是用于说明泵和辅助泵的动作的时序图。

图14是以另一例的辅助泵为主进行表示的截面图。

附图标记说明

1……基板处理系统；2……涂敷显影装置；40……液体供给系统；60……液体输送系统；100……泵；102……管；102a……厚壁部；102b……薄壁部；102c……凹槽；104……管用壳体；200……泵装置；202……外壳；202a……主部；202b……细长部；300……辅助泵；C……控制部；D1～D7……配管(液体输送管线)；PS1、PS2……压力传感器(压力测定部)；RE……电动气动调节器(供给排出部)；U1……涂敷单元；V……内部空间。

具体实施方式

参照附图说明本发明的实施方式，但以下的本实施方式是用于说明本发明的一个例子，本发明并不限定于以下内容。在说明中，对相同部件或具有相同功能的部件使用相同附图标记，省略重复说明。

[基本处理系统的结构]

基板处理系统1具有涂敷显影装置2和曝光装置。曝光装置3进行抗蚀剂膜的曝光处理。具体地说，通过液浸曝光等方法对抗蚀剂膜(感光性覆膜)的曝光对象部分照射能量线。作为能量线，例如能够举出ArF受激准分子激光、KrF受激准分子激光、g线、i线或极紫外线(EUV：Extreme Ultraviolet)。

涂敷显影装置2在由曝光装置3进行的曝光处理之前，进行在晶片W(基板)的表面形成抗蚀剂膜的处理，在曝光处理后进行抗蚀剂膜的显影处理。在本实施方式中，晶片W呈圆板状，但也可以使用圆形的一部分被切开或呈多边形等圆形以外的形状的晶片。晶片W例如可以是半导体基板、玻璃基板、掩模基板、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)基板等其它各种基板。

如图1～图3所示，涂敷显影装置2具有承载区块4、处理区块5和接口区块6。承载区块4、处理区块5和接口区块6在水平方向上排列。

承载区块4具有承载台12和搬入搬出部13。承载台12支承多个载体11。载体11例如以密封状态收纳多个晶片W，在侧面11a侧具有用于使晶片W出入的开闭门(未图示)。载体11以侧面11a面向搬入搬出部13侧的方式，装卸自由地设置在承载台12上。

搬入搬出部13位于承载台12与处理区块5之间。搬入搬出部13具有与承载台12上的多个载体11分别对应的多个开闭门13a。通过同时开放侧面11a的开闭门和开闭门13a，载体11内和搬入搬出部13内连通。搬入搬出部13内置有交接臂A1。交接臂A1从载体11取出晶片W交接至处理区块5，从处理区块5接受晶片W回到载体11内。

处理区块5具有BCT模块14、COT模块15、TCT模块16和DEV模块17。BCT模块14是下层膜形成模块。COT模块15是抗蚀剂膜形成模块。TCT模块16是上层膜形成模块。DEV模块17是显影处理模块。这些模块从地面侧起按照DEV模块17、BCT模块14、COT模块15、TCT模块16的顺序排列。

BCT模块14在晶片W的表面上形成下层膜。BCT模块14内置有多个涂敷单元(未图示)、多个热处理单元(未图示)、将晶片W搬送到这些单元中的搬送臂A2。涂敷单元将用于形成下层膜的涂敷液涂敷于晶片W的表面。热处理单元例如利用热板加热晶片W，例如利用冷却板对加热后的晶片W进行冷却来进行热处理。作为在BCT模块14中进行的热处理的具体例子，能够举出使涂敷液固化而形成下层膜的加热处理。

COT模块15在下层膜上形成热固化性且感光性的抗蚀剂膜。COT模块15内置有多个涂敷单元U1、多个热处理单元U2、将晶片W搬送到这些单元中的搬送臂A3(参照图2和图3)。涂敷单元U1将用于形成抗蚀剂膜的处理液(抗蚀剂)涂敷在下层膜上。热处理单元U2例如利用热板加热晶片W，例如利用冷却板对加热后的晶片W进行冷却来进行热处理。作为在COT模块15中进行的热处理的具体例子，能够举出使涂敷液固化而形成抗蚀剂膜的加热处理(PAB：Pre Applied Bake，预烘焙)。

TCT模块16在抗蚀剂膜上形成上层膜。TCT模块16内置有多个涂敷单元(未图示)、多个热处理单元(未图示)、将晶片W搬送到这些单元中的搬送臂A4。涂敷单元将用于形成上层膜的涂敷液涂敷在晶片W的表面。热处理单元例如利用热板加热晶片W，例如利用冷却板对加热后的晶片W进行冷却来进行热处理。作为在TCT模块16中进行的热处理的具体例子，能够举出使涂敷液固化而形成上层膜的加热处理。

DEV模块17进行曝光后的抗蚀剂膜的显影处理。DEV模块17内置有多个显影单元(未图示)、多个热处理单元(未图示)、将晶片W搬送到这些单元中的搬送臂A5、不经由这些单元地搬送晶片W的直接搬送臂A6。显影单元部分除去抗蚀剂膜而形成抗蚀剂图案。热处理单元例如利用热板加热晶片W，例如利用冷却板对加热后的晶片W进行冷却来进行热处理。作为在DEV模块17中进行的热处理的具体例子，能够举出显影处理前的加热处理(PEB：PostExposure Bake，曝光后烘焙)、显影处理后的加热处理(PB：Post Bake，后烘焙)等。

在处理块5内的载置器块4侧设置有架单元U10(参照图2和图3)。架单元U10从地板设置到TCT模块16，被划分为上下方向排列的多个单元格。在架单元U10的附近设置有升降臂A7。升降臂A7在架单元U10的单元格彼此之间使晶片W升降。

在处理区块5内的载体区块4侧设置有搁架单元U11(参照图2和图3)。搁架单元U11从地面设置到DEV模块17的上部，划分为在上下方向上排列的多个单元格。

接口区块6内置有交接臂A8，与曝光装置3连接。交接臂A8取出搁架单元U11的晶片W交接至曝光装置3，从曝光装置3接受晶片W回到搁架单元U11。

[涂敷单元的结构]

接着，参照图4对涂敷单元(涂敷装置)U1进一步详细地进行说明。如图4所示，涂敷单元U1包括旋转保持部20、驱动部30、泵装置200和控制部50。

旋转保持部20具有旋转部21和保持部23。旋转部21具有向上方突出的轴22。旋转部21例如将电动机等作为动力源而使轴22旋转。保持部23设置在轴22的前端部。在保持部23上配置晶片W。保持部23例如通过吸附等大致水平地保持晶片W。即，旋转保持部20在晶片W的姿势为大致水平的状态下，围绕与晶片W的表面垂直的轴(旋转轴)使晶片W旋转。在本实施方式中，旋转轴通过呈圆形的晶片W的中心，因此也是中心轴。在本实施方式中，如图4所示，旋转保持部20在从上方看时为顺时针的方式使晶片W旋转。

驱动部30驱动喷嘴N。驱动部30具有导轨31、滑块32、臂33。滑块31在旋转保持部20(晶片W)的上方沿水平方向延伸。滑块32以能够沿导轨31在水平方向上移动的方式与导轨31连接。臂33以能够在上下方向上移动的方式与滑块32连接。在臂33的下端连接有喷嘴N。

驱动部30例如由电动机等动力源(未图示)使滑块32和臂33移动，随之使喷嘴N移动。在俯视时，喷嘴N在喷出涂敷液时，在与晶片W的旋转轴正交的直线上沿晶片W的径向移动。

泵装置200接收来自控制部50的控制信号，从液体源(例如后述的液体瓶B或液体罐T1)将涂敷液输送至喷嘴N，从喷嘴N排出至晶片W的表面Wa。详细地说，泵装置200、喷嘴N和液体源是用于将涂敷液供给至目标物(在本实施方式中是晶片W)的液体系统40中的一部分。

喷嘴N向晶片W的表面Wa在下方开口。涂敷液是用于在晶片W的表面Wa形成涂敷膜R(参照图、用4)的液体。作为涂敷液例如能够举出用于形成抗蚀剂图案的抗蚀剂液于形成防反射膜(例如下层防反射涂层(BARC)膜、含硅防反射涂层(SiARC)膜)的液体等。排出至晶片W的表面Wa的处理液干燥时，如图4所示，在晶片W的表面Wa形成涂敷膜R。

控制部50由一个或多个控制用计算机构成，控制涂敷单元U1。控制部50具有显示控制条件的设定画面的显示部(未图示)、输入控制条件的输入部(未图示)、从计算机可读记录介质读取程序的读取部(未图示)。记录介质记录用于在涂敷单元U1执行涂敷处理的程序。该程序由控制部50的读取部读取。作为记录介质例如可以为半导体存储器、光记录盘、磁记录盘、光磁记录盘。控制部50根据输入至输入部的控制条件和由读取部读取到的程序控制涂敷单元U1，在涂敷单元U1执行涂敷处理。

[液体供给系统的结构]

参照图5说明液体供给系统40的结构。如图5所示，液体供给系统40具有液体瓶B、液体罐T1、T2、泵100、过滤装置F、配管(液体输送管线)D1～D6、阀V1～V7、压力传感器(压力测定部)PS1、PS2、喷嘴N和控制部C。

配管D1的上游端与N₂气体源连接。配管D1的下游端以位于液体瓶B的上盖附近的方式与液体瓶B的上盖部分连接。液体瓶B作为用于将涂敷液供给至喷嘴N的供给源(液体源)起作用。在配管D1上设置有阀V1。阀V1是利用空气使阀开闭(ON/OFF)的气动阀。

配管D2的上游端以位于液体瓶B的下底附近的方式与液体瓶B的上盖部分连接。配管D2的下游端以位于靠液体罐T1的上盖附近的方式与液体罐T1的上盖部分连接。液体罐T1作为暂时蓄存从液体瓶B排出的涂敷液的蓄存部起作用，并且也作为用于将涂敷液供给至喷嘴N的供给源(液体源)起作用。

配管D3的上游端与液体罐T1的下底部分连接。配管D3的下游端与喷嘴N连接。在配管D3上，从上游侧开始依次设置有阀V2、过滤装置F、液体罐T2、阀V3、泵100、压力传感器PS1、阀V4和阀V5。

阀V2～V5是与阀V1同样的气动阀。阀V5可以具有将从喷嘴N排出的涂敷液的流量控制为规定的大小的功能(流量控制功能)。阀V5可以具有在从喷嘴N的涂敷液的排出停止时，抽吸喷嘴N内的涂敷液使得涂敷液不会滞留在喷嘴N中的功能(回吸功能)。

过滤装置F是在外壳内设置有将包含于涂敷液的颗粒等异物除去的过滤器的结构。液体罐T2将在从过滤装置F的出口排出的涂敷液内残存的气泡除去。泵100抽吸液体罐T2内的涂敷液将其向喷嘴N送出，详情在后面叙述。压力传感器PS1测定在泵100(后述的管102)中流通的涂敷液的压力(液压)。压力传感器PS1将表示测定出的液压的值的信号向控制部C发送。

配管D4的上游端与过滤装置F的排气口连接。配管D4的下游端与系统外部(out ofsystem)连通。因此，在涂敷液通过过滤装置F时从处理液分离出的气体，通过配管D4向系统外部排出。在配管D4上设置有阀V6。阀V6与阀V1同样为气动阀。

配管D5的上游端与液体罐T2的排气口连接。配管D5的下游端在阀V6的下游侧与配管D4连接。因此，在液体罐T2中从涂敷液分离出的气体通过配管D5向系统外部排出。在配管D5上设置有阀V7。阀V7与阀V1同样是气动阀。

配管D6的一端与泵100(后述的管用壳体104)连接。配管D6的另一端与电动气动调节器(供给排出部)RE连接。电动气动调节器RE具有基于来自控制部C的控制信号进行开闭动作的电磁阀。电动气动调节器RE根据电磁阀的开度，从空气源吸入空气或向外部排出空气。由此，电动气动调节器RE调节泵100内(后述的内部空间V内)的空气的压力(气压)。在配管D6上设置有压力传感器PS2。压力传感器PS2测定泵100内(后述的内部空间V内)的空气的压力(气压)。压力传感器PS2将表示测定出的气压的值的信号向控制部C发送。

控制部C由一个或多个控制用计算机构成，控制电动气动调节器RE。控制部C具有显示控制条件的设定画面的显示部(未图示)、输入控制条件的输入部(未图示)、从计算机可读记录介质读取程序的读取部(未图示)。记录介质记录用于执行泵100的液体输送处理的程序。该程序由控制部C的读取部读取。作为记录介质例如可以为半导体存储器、光记录盘、磁记录盘、光磁记录盘。控制部C根据输入至输入部的控制条件和由读取部读取到的程序控制电动气动调节器RE，在泵100执行液体输送处理。

[泵的结构]

接着，参照图6和图7说明泵100的结构。如图6所示，泵100具有管102、管用壳体104、上述电动气动调节器RE。

管102具有可挠性和弹性。即，管102具有当从内侧或外侧被施加外力时，要回到原来的形状的性质。管102例如可以由氟树脂构成。管102的一端与阀V3连接(参照图5)。管102的另一端与压力传感器PS1连接(参照图5)。即，管102构成配管D3的一部分。如图6和图7所示，管102包括厚壁部102a和薄壁部102b。

厚壁部102a呈圆筒状，厚壁部102a的外径例如可以为12.7mm左右。厚壁部102a的内径例如可以为9.5mm左右。厚壁部102a的壁厚例如可以为1.6mm左右。

薄壁部102b在一对厚壁部102a间延伸。即，在薄壁部102b的两端部分别连接厚壁部102a。薄壁部102b的壁厚例如可以为0.2mm左右。

如图7所示，薄壁部102b具有凹槽102c。凹槽102c沿管102的中心轴(管102的延伸方向)延伸。凹槽102c向管102的中心轴侧(管102的内侧)凹陷。薄壁部102b(管102)可以具有多个凹槽102c。在本实施方式中，薄壁部102b(管102)具有三个凹槽102c。该三个凹槽102c，如图7(b)所示，在管102的周向上以隔开大致相同间隔的方式配置。即，本实施方式的薄壁部102b，在其周向上，凹部和凸部形成为一个一个地以大致相同间隔排列的形状。

回到图6，管用壳体104呈圆筒状，管用壳体104以覆盖管102的外侧的方式收纳管102的一部分。管用壳体104沿管102的中心轴(管102的延伸方向)与管102同轴状地延伸。换言之，管102贯通管用壳体104地延伸。管102的薄壁部102b位于管用壳体104内。在管102的外表面与管用壳体104之间，构成保持气体(空气)的内部空间V。在管用壳体104连接有配管D6的一端。由此，向内部空间V的气体的供给和从内部空间V的气体的排出由电动气动调节器RE进行。

[泵装置]

在本实施方式中，构成以上说明的液体供给系统40的一部分要素，如图5所示，构成液体输送系统60。作为构成液体输送系统60的部件，例如包括泵100、过滤装置F、控制部C、压力传感器PS1、PS2、液体罐T2、电动气动调节器RE、阀V2～V4、V6、V7、配管D3的一部分和配管D4、D5。泵装置200具有图8所示的外壳202和构成液体输送系统60的各部件。

如图8所示，外壳202具有主部202a和细长部202b。主部202a和细长部202b一体构成。主部202a呈长方体形状。主部202a包括面积比其它面大的一对主面S1、一对侧面S2、一对端面S3。主部202a收纳泵部件中的至少过滤装置F、控制部C、压力传感器PS1、PS2、液体罐T2和电动气动调节器RE。

细长部202b从主部202a的侧面S2向外侧直线状延伸。细长部202b的延伸方向，在本实施方式中沿着一对侧面S2的相对方向。但是，细长部202b的延伸方向并不限定于此，也可以沿着与一对主面S1的相对方向交叉或正交的方向。主面S1的相对方向上的细长部202b的厚度比该相对方向上的主部202a的厚度小。细长部202b收纳泵部件中的至少泵100。泵100以沿着细长部202b的延伸方向延伸的方式配置在细长部202b内。

在主部202a的端面S3设置有连接部204a～204e。连接部204a在泵装置200外部与位于泵装置200的上游侧的配管(配管D1、D2和配管D3中的位于泵装置200的上游侧的部分)连接。配置于上游侧的该配管构成将液体瓶B和泵装置200连接的上游侧的液体输送管线(第一液体输送管线)。因此，来自液体罐T1的涂敷液经由连接部204a被导入泵装置200内。

连接部204b在泵装置200的外部与位于泵装置200的下游侧的配管(配管D3中位于泵装置200的下游侧的部分)连接。位于下游侧的该配管构成将泵装置200和喷嘴N连接的下游侧的液体输送管线(第二液体输送管线)。

泵装置200中在连接部204a与连接部204b之间延伸的配管(配管D3的一部分)构成在泵装置200内延伸的液体输送管线(第三液体输送管线)。即，连接部204a和连接部204b在泵装置200的内部与在泵装置200内延伸的该液体输送管线连接。该液体输送管线的一部分由管102构成。因此，从泵100向下游侧(喷嘴N侧)排出的涂敷液经由连接部204b向泵装置200外排出。

连接部204c在泵装置200的外部经由未图示的配管与系统外部连接。连接部204c在泵装置200的内部与配管D4的下游端连接。因此，过滤装置F内的气体、液体罐T2内的气体经由配管D4、D5和连接部204c向泵装置200外排出。

连接部204d在泵装置200的外部经由未图示的配管与空气源连接。连接部204e在泵装置200的外部经由未图示的配管与系统外部连接。连接部204d、204e分别在泵装置200的内部经由未图示的配管与电动气动调节器RE连接。因此，来自空气源的空气经由连接部204d被导入电动气动调节器RE。电动气动调节器RE内的空气经由连接部204e向电动气动调节器RE外(泵装置200外)排出。

[液体供给系统的动作]

接着，参照图9和图10说明液体供给系统40的动作(将涂敷液从喷嘴N排出的排出动作)。在管102内填充有涂敷液的状态下，控制部C关闭阀V1～V3、V6、V7，开放阀V4、V5，并且由电动气动调节器RE向内部空间V内供给空气。由此，内部空间V内的压力变高，位于内部空间V内的管102中特别是薄壁部102b被气压压扁。当管102(薄壁部102b)被压扁时，如图10所示，管102(薄壁部102b)的凹槽102c彼此接近或抵接。这样的话，管102(薄壁部102b)内的体积变小，因此管102内的涂敷液被挤出到开放的阀V4、V5侧。结果，当喷嘴N位于晶片W上时，涂敷液从喷嘴N向晶片W的表面Wa排出。

[作用]

在以上的本实施方式中，电动气动调节器RE对内部空间V供给气体或排出气体，由此对管102周围加压或减压。因此，在管102周围被加压时，管102被挤扁，管102内的涂敷液(液体)被挤出到管102外。另一方面，在管102周围被减压时，管102膨胀，管102内填充涂敷液。与波纹管泵、隔膜泵相比较，在管102中容易滞留涂敷液的狭窄的空间变少。因此，能够抑制涂敷液的滞留。从而，涂敷液中的颗粒浓度不易变高。而且，在本实施方式中，为了移送涂敷液而对管102作用气压。因此，与对管102作用液压的情况相比较，能够简化结构。

在本实施方式中，管102具有沿其中心轴延伸且向中心轴侧凹陷的凹槽102c。因此，由于存在凹槽102c，管102中的凹槽102c的附近容易变形。由此，管102周围被加压或减压时，凹槽102c的附近比其它部分先在管102的径向上被挤扁或扩展。这样，在具有凹槽102c的管102中，在凹槽102c的附近管102容易根据其周围的气压连续变形，能够抑制管102突然变形。

在管102不贯通管用壳体104时，在管用壳体104的出入口需要连接用于连接管102和其它液体输送管线的连接部件。因此，担心在连接部件中产生狭窄空间。由此，在本实施方式中，管102贯通管用壳体104地延伸，并且管102的薄壁部102b位于管用壳体104内。因此，不需要上述连接部件，在管用壳体104的内外边界不会产生与管102的接缝等，因此在管102和管102至少构成一部分的液体输送管线中不易产生狭窄空间。由此能够进一步抑制涂敷液的滞留。

在本实施方式中，管102具有三个凹槽102c，三个凹槽102c分别在管102的周向上以成为大致相同间隔的方式配置。因此，当管102周围被加压时，在管102的周向上管102大致均匀地被挤压。由此，管102不易局部大幅变形，而在管102产生过多的应力。此外，管102三个凹槽102c，因此能够在确保管102的变形量的同时达到管102的小型化。另外，当管102的凹槽102c为2个以下时，在管102周围被加压时，管102的壁彼此会整体抵接，存在液体输送流量的控制变得困难的倾向。当管102的凹槽102c为4个以上时，管102不容易变形，因此为了解决该问题而存在管102大型化的倾向。

在本实施方式中，在覆盖管102的外侧的管用壳体104与管102的外表面之间的内部空间V填充有空气(气体)。即，作为用于使管102动作的动作流体使用空气。因此，只要有向内部空间V供给空气并从内部空间V排出空气的机构，则也可以不使用活塞或电机等比较复杂的驱动机构。由此能够以简单的结构进行涂敷液的液体输送。

[其它实施方式]

以上详细说明了本发明的实施方式，但也可以在本发明的主旨范围内将各种变形施加于上述实施方式。例如，也可以组合2个泵装置200，将其作为一组泵装置组合使用。此时，根据2个泵装置的组合方式，存在一组泵装置组合体积增大的情况。于是，如图11所示，在2个泵装置200的主部202a彼此不重合的状态下，重合一个泵装置200的细长部202b和另一个泵装置的细长部202b，而构成一组泵装置组合。此时，虽然尺寸会变长，但厚度较薄的细长部202b彼此重合。因此，能够抑制一组泵装置组合的厚度的同时达到整体的小型化。

在本实施方式中，由电动气动调节器RE向内部空间V内供给空气，但只要是气体，也可以使用空气以外(例如化学反应性低的不活泼气体、氮)的气体。

在本实施方式中，在具有COT模块15的涂敷单元U1中应用本发明，但也可以在涂敷单元U1以上的部分应用本发明。

控制部50可以兼用作控制部C，控制部C可以兼用作控制部50。

可以在配管D3上，且在液体源(液体瓶B或液体罐T1)与过滤装置F之间配置辅助泵300。在图12所示的液体供给系统40中，具有位于液体瓶B的下游侧的液体罐T1，因此辅助泵300位于液体罐T1的下游侧，但在液体供给系统40不具有液体罐T1的情况下，辅助泵300也可以位于液体瓶B的下游侧。

辅助泵300具有泵部302和阀部304。泵部302例如可以如图12所示使用隔膜泵，也可以使用本实施方式中的泵100，也可以使用其它种类的泵。泵部302为隔膜泵时，空气从空气源导入，由此隔膜DP向泵室302a内的侧壁被挤压，泵室的容积变小，泵室302a内的液体向外部排出。另一方面，真空源抽吸空气，由此隔膜DP从泵室302a内的侧壁离开，泵室的容积变大，液体被抽吸到泵室302a内。阀部304与阀V1同样为气动阀。

接着，参照图13说明泵100和辅助泵300的动作时序。首先，在时刻TI1，在阀V3关闭的状态下(参照图13(b))，内部空间V内设定为正压(参照图13(a))。由此，在时刻TI1与时刻TI2之间，利用电动气动调节器RE向内部空间V内供给空气，从泵100排出涂敷液。此时，在辅助泵300中，阀部304处于开放状态(参照图13(d))，泵部302(泵室302a内)的压力设定为负压(参照图13(c))，对泵部302内填充涂敷液。

当从泵100的涂敷液的排出结束时，接着，当成为时刻TI2时，在阀V3开放的状态下(参照图13(b))，内部空间V内设定为负压(参照图13(a))。由此，在时刻TI2到时刻TI3之间，利用电动气动调节器RE从内部空间V排出空气，进行泵100的涂敷液的抽吸。此时，在辅助泵300中，阀部304处于关闭的状态(参照图13(d))，泵部302(泵室302a内)的压力设定为正压(参照图13(c))，从泵部302排出涂敷液。

在图12所示的例子中，过滤装置F存在于泵100的上游侧。在过滤装置F的前后(一次侧和二次侧)产生压力损失，因此根据涂敷液(液体)的粘度，可能泵100的抽吸力不足而从泵100的排出量下降，导致涂敷液发泡。但是，在图12所示的例子中，在配管D3上且在液体罐T1与过滤装置F之间配置辅助泵300，因此能够将由辅助泵300加压后的涂敷液送至下游侧的过滤装置F和泵100。因此，在辅助泵300的下游侧，涂敷液容易成为正压。由此，在由于压力损失在过滤装置F的下游侧涂敷液的压力下降的情况下，在过滤装置F的下游侧涂敷液也容易成为正压。结果，在液体为中粘度(例如100cp以上)、高粘度(例如300cp以上)的情况下，也能够由过滤装置F除去涂敷液中的异物等，抑制自泵100的排出量的下降和涂敷液的发泡。结果，能够极高精度地控制从泵100(喷嘴N)排出的涂敷液的量，因此在处理要求涂敷膜的膜厚精度的涂敷液(用于形成抗蚀剂图案的抗蚀剂液等)时特别有用。

另外，在使用辅助泵300时，在辅助泵300的下游侧涂敷液的发泡得到抑制，因此液体供给系统40(液体输送系统60)也可以不具有液体罐T2。

辅助泵300可以位于比过滤装置F靠液体源的位置。具体地说，液体源与辅助泵300之间的管路长度(涂敷液的移动距离)可以比辅助泵300与过滤装置F之间的管路长度(涂敷液的移动距离)短。如图14所示，辅助泵300中的涂敷液的流入口300a与液体源(液体瓶B或液体罐T1)中涂敷液的排出口400可以一体化。在液体供给系统40具有液体罐T1时，位于紧挨着辅助泵300的上游侧的位置的液体罐T1成为辅助泵300的液体源，因此辅助泵300与液体罐T1可以一体化。例如，辅助泵300和液体罐T1的外壁面彼此可以直接接触。液体供给系统40不具有液体罐T1时，位于紧接着辅助泵300的上游侧的位置的液体瓶B成为辅助泵300的液体源，因此辅助泵300和液体瓶B可以一体化。例如，辅助泵300与液体瓶B的外壁面彼此可以直接接触。在图14所示的例子中辅助泵300与液体源直接接触，但也可以在辅助泵300与液体源之间设置有其它部件而整体形成为一体。

Claims (8)

1.一种泵，其特征在于，包括：

具有弹性的、供作为输送对象的液体流通的管；

管用壳体，覆盖所述管的外侧，在该管用壳体与所述管的外表面之间的内部空间中保持气体；和

向所述内部空间供给气体和从所述内部空间排出气体的供给排出部，

所述供给排出部对所述内部空间进行所述气体的供给或排出，由此，所述管周围被加压或减压，在所述管周围被加压时，所述管被挤扁，所述管内的所述液体被挤出到所述管外，另一方面，在所述管周围被减压时，所述管膨胀，所述管内被填充所述液体，

所述管贯通所述管用壳体地延伸，以使得在所述管用壳体的出入口不形成用于连接所述管与其他的液体输送管线的连接部分。

2.如权利要求1所述的泵，其特征在于：

所述管具有沿其中心轴延伸且向所述中心轴侧凹陷的凹槽。

3.如权利要求2所述的泵，其特征在于：

所述管中具有所述凹槽的部分位于所述管用壳体内。

4.如权利要求2或3所述的泵，其特征在于：

所述管具有3个所述凹槽，

3个所述凹槽分别在所述管的周向上以隔开大致相同间隔的方式配置。

5.一种泵装置，其特征在于，包括：

权利要求1～4中任一项所述的泵；和

外壳，其包括：主部；和厚度比所述主部薄且从所述主部向外侧延伸的细长部，

所述主部收纳所述供给排出部，

所述细长部收纳所述管和所述管用壳体。

6.一种液体供给系统，其特征在于，包括：

权利要求1～4中任一项所述的泵；

连接所述泵和液体源的第一液体输送管线；

连接所述泵与排出液体的喷嘴的第二液体输送管线；和

在所述泵内延伸的第三液体输送管线，

所述第三液体输送管线的至少一部分由所述管构成。

7.如权利要求6所述的液体供给系统，其特征在于，还包括：

配置在所述第一液体输送管线上的过滤器；和

配置在所述第一液体输送管线上且配置在所述过滤器与所述液体源之间的辅助泵。

8.如权利要求7所述的液体供给系统，其特征在于：

所述辅助泵中的液体的流入口与所述液体源中的液体的排出口一体化。