JP2000077324A - 処理液供給システム、これを用いた処理装置、これに用いられる中間貯留機構、および処理液供給方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 吐出される処理液に脈動が生じることなく、
さらに、吐出される処理液にＮ_２ガス等の圧送ガスが混
入することなく、現像液等の処理液を供給することがで
きる処理液供給システムを提供すること。 【解決手段】 処理液供給源から供給された処理液を一
旦貯留し、所定の圧力で再び吐出する中間貯溜機構５
１、５２と、この中間貯溜機構５１、５２に貯留された
処理液に圧力を作用させるための流体を前記中間貯溜機
構５１、５２に供給するための流体供給機構７５、７
６、７７とを有し、前記中間貯留機構５１、５２は、処
理液の導入口５９と吐出口６０とを有し導入口５９を通
って導入された処理液を貯溜し、かつこれを吐出するこ
とが可能な容器５３と、この容器５３内に設けられ、前
記流体供給機構７５、７６、７７から供給された流体と
処理液との間に介在し、この流体の圧力を処理液に作用
させる加圧体６３とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体デバ
イスやＬＣＤ等の製造プロセスにおいて、現像液等の処
理液を供給する処理液供給システム、これを用いた処理
装置、これに用いられる中間貯留機構、および処理液供
給方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造プロセス
中のフォトリソグラフィー工程においては、ウエハにレ
ジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、その後、この
レジスト膜上に所定のパターンを露光し、さらに現像処
理を施こすことでウエハ上に所定のパターンの回路を形
成している。

【０００３】このような一連の処理は、塗布・現像処理
システムによって行われる。この塗布・現像処理システ
ムにおいては、現像液やシンナー等の処理液を、このシ
ステムに設けられた各処理ユニット、すなわち、アドヒ
ージョン処理ユニット、レジスト塗布ユニット、現像ユ
ニット等に供給する必要がある。この場合、処理液は、
工場配管に備えられたＮ_２ガス圧送設備により中間タン
クに圧送され一旦貯留された後、この中間タンクから各
処理ユニットに供給されるようになっている。中間タン
クからの供給手段としては、ポンプまたはＮ_２ガス圧送
設備が用いられている。

【０００４】ところで、中間タンクの処理液を、ポンプ
を用いて各処理ユニットに圧送する場合には、処理液が
繰り返し加圧されるため、処理ユニットに到達した処理
液に脈動が生じている可能性がある。そのため、中間タ
ンクから各処理ユニットへの圧送手段としては、Ｎ_２ガ
ス圧送設備を用いることが多くなっている。Ｎ_２ガス圧
送設備を用いる場合には、中間タンクに貯留された処理
液に高圧のＮ_２ガスを直接吹き付け、これにより加圧さ
れた処理液を中間タンクから各処理ユニットに圧送する
ようにしている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ｎ_２ガ
ス圧送設備を用いると、処理液に高圧のＮ_２ガスが直接
吹き付けられることから、処理液にＮ_２ガスが混入し、
処理液が各処理ユニットに到達して圧力が下がった時、
Ｎ_２ガスが処理液内で発泡するして気泡化するという不
都合が生じる場合がある。その結果、例えば、現像処理
ユニットでは、現像液中にＮ_２ガスの気泡が混入し、こ
れにより現像ムラが生じる等、プロセスに悪影響を及ぼ
す可能性がある。

【０００６】また、塗布・現像システムに用いられる電
子式流量計の中にはマスフローメーターのように気泡の
存在により流量が正確に測定することができないものが
あるため、正確な量の処理液を供給することができない
可能性もある。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、吐出される処理液に脈動が生じること
なく、さらに、吐出される処理液にＮ_２ガス等の圧送ガ
スが混入することなく、現像液等の処理液を供給するこ
とができる処理液供給システムおよび処理液供給方法を
提供することを目的とする。

【０００８】また、本発明の他の目的は、処理液を常に
一定の圧力で安定して吐出することができ、かつ、処理
液を切れ目なく連続的に吐出することができる処理液供
給システムを提供することにある。

【０００９】本発明のさらに他の目的は、処理液中にＮ
_２ガス等の圧送ガスが混入している場合でも、これを有
効に脱気することができる処理液供給システムを提供す
ることにある。

【００１０】本発明のさらに他の目的は、このような処
理液供給システムに用いられる中間貯留機構、およびこ
のような処理液供給システムを用いる処理装置を提供す
ることにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の観点によ
れば、処理液を供給する処理液供給システムであって、
処理液を供給する処理液供給源と、処理液供給源から供
給された処理液を一旦貯留し、所定の圧力で再び吐出す
る中間貯溜機構と、この中間貯溜機構に貯留された処理
液に圧力を作用させるための流体を、前記中間貯溜機構
に供給するための流体供給機構とを具備し、前記中間貯
留機構は、処理液の導入口と吐出口とを有し、導入口を
通って導入された処理液を貯溜し、かつこれを吐出する
ことが可能な容器と、この容器内に設けられ、前記流体
供給機構から供給された流体と処理液との間に介在し、
この流体の圧力を処理液に作用させる加圧体とを有する
ことを特徴とする処理液供給システムが提供される。

【００１２】このような構成によれば、処理液を中間貯
留機構の容器に一旦貯留し、流体の圧力を加圧体を介し
て処理液に作用させて処理液を吐出させるので、従来の
ポンプによる圧送のように脈動が生じることなく、ま
た、処理液が圧力媒体であるＮ _２ガス等の圧送ガスに直
接接触することがないので処理液へのガスの混入が生じ
ず、プロセスに悪影響を与えずに処理液を供給すること
ができる。

【００１３】ここで、この処理液供給システムは、前記
中間貯溜機構を２以上有し、これらの中間貯溜機構を選
択的に切換えて処理液の吐出を連続的に行わせる切換弁
を有することが好ましい。これにより、処理液を常に一
定の圧力で安定して吐出することができ、かつ、処理液
を切れ目なく連続的に吐出することができる。

【００１４】さらに、前記容器には、前記処理液中の気
泡をこの容器外へ排出するための泡抜き口を有すること
が好ましく、この場合、前記処理液の導入口に、導入さ
れる処理液の圧力を低下させることでこの処理液に溶存
する気体を発泡させ気泡を生成する流路を設けることが
望ましい。これにより、処理液中にＮ_２ガス等の圧送ガ
スが混入している場合でも、これを有効に脱気すること
ができる。

【００１５】また、本発明の第２の観点によれば、処理
液供給源から供給された処理液を一旦貯留し、所定の圧
力で再び吐出する処理液の中間貯溜機構であって、処理
液の導入口と吐出口とを有し、導入口を通って導入され
た処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能な容
器と、この容器内に設けられ、前記流体供給機構から供
給された流体と処理液との間に介在し、この流体の圧力
を処理液に作用させる加圧体と、前記容器に設けられ、
処理液中の気泡を容器外へ排出するための泡抜き流路と
を具備することを特徴とする中間貯溜機構が提供され
る。

【００１６】また、本発明の第３の観点によれば、処理
液を供給する処理液供給源と、処理液供給源から供給さ
れた処理液を一旦貯留し、所定の圧力で再び吐出する中
間貯溜機構と、この中間貯溜機構を作動させるための流
体を、前記中間貯溜機構に供給するか、または前記中間
貯留機構から除去するための流体供給機構と、前記中間
貯溜機構から吐出された処理液を用いて被処理体に所定
の処理を施す処理部とを具備し、前記中間貯溜機構は、
処理液の導入口と吐出口とを有し、導入口を通って導入
された処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能
な容器と、この容器内に設けられ、前記流体供給機構か
ら供給された流体と処理液との間に介在し、この流体の
圧力を処理液に作用させる加圧体とを有することを特徴
とする処理装置が提供される。

【００１７】また、本発明の第４の観点によれば、処理
液供給源から供給された処理液を複数の中間貯留機構に
一旦貯留してから吐出する処理液供給方法であって、１
の中間貯留機構に貯留された処理液を吐出する工程と、
この１の中間貯留機構から処理液が吐出されている間
に、他の１の中間貯留機構に処理液供給源から処理液を
補給する工程と、１の中間貯留機構からの処理液の吐出
が終了したことに基づいて、他の１の中間貯留機構から
の処理液の吐出を開始する工程とを具備することを特徴
とする処理液供給方法が提供される。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施形態について説明する。 （第１の実施形態）まず、この発明の処理液供給システ
ムが採用された塗布現像処理システムを図１〜図３に基
づいて説明した後、図４以下に基づいて該処理液供給シ
ステムの実施形態について説明する。

【００１９】図１〜図３は、塗布現像処理システム１の
全体構成図であって、図１は平面、図２は正面、図３は
背面をそれぞれ示している。

【００２０】このレジスト塗布現像処理システム１は、
搬送ステーションであるカセットステーション１０と、
複数の処理ユニットを有する処理ステーション１１と、
処理ステーション１１と隣接して設けられる露光装置
（図示せず）との間でウエハＷを受け渡すためのインタ
ーフェイス部１２とを具備している。

【００２１】上記カセットステーション１０は、被処理
体としての半導体ウエハＷ（以下、単にウエハと記す）
を複数枚例えば２５枚単位でウエハカセットＣＲに搭載
された状態で他のシステムからこのシステムへ搬入また
はこのシステムから他のシステムへ搬出したり、ウエハ
カセットＣＲと処理ステーション１１との間でウエハＷ
の搬送を行うためのものである。

【００２２】このカセットステーション１０において
は、図１に示すように、カセット載置台２上に図中Ｘ方
向に沿って複数（図では４個）の位置決め突起２０ａが
形成されており、この突起２０ａの位置にウエハカセッ
トＣＲがそれぞれのウエハ出入口を処理ステーション１
１側に向けて一列に載置可能となっている。ウエハカセ
ットＣＲにおいてはウエハＷが垂直方向（Ｚ方向）に配
列されている。また、カセットステーション１０は、ウ
エハカセット載置台２０と処理ステーション１１との間
に位置するウエハ搬送機構２１を有している。このウエ
ハ搬送機構２１は、カセット配列方向（Ｘ方向）および
その中のウエハＷのウエハ配列方向（Ｚ方向）に移動可
能なウエハ搬送用アーム２１ａを有しており、この搬送
アーム２１ａによりいずれかのウエハカセットＣＲに対
して選択的にアクセス可能となっている。また、ウエハ
搬送用アーム２１ａは、θ方向に回転可能に構成されて
おり、後述する処理ステーション１１側の第３の処理部
Ｇ_３に属するアライメントユニット（ＡＬＩＭ）および
エクステンションユニット（ＥＸＴ）にもアクセスでき
るようになっている。

【００２３】上記処理ステーション１１は、半導体ウエ
ハＷへ対して塗布・現象を行う際の一連の工程を実施す
るための複数の処理ユニットを備え、これらが所定位置
に多段に配置されており、これらにより半導体ウエハＷ
が一枚ずつ処理される。この処理ステーション１１は、
図１に示すように、中心部に搬送路２２ａを有し、この
中に主ウエハ搬送機構２２が設けられ、ウエハ搬送路２
２ａの周りに全ての処理ユニットが配置されている。こ
れら複数の処理ユニットは、複数の処理部に分かれてお
り、各処理部は複数の処理ユニットが鉛直方向に沿って
多段に配置されている。

【００２４】主ウエハ搬送機構２２は、図３に示すよう
に、筒状支持体４９の内側に、ウエハ搬送装置４６を上
下方向（Ｚ方向）に昇降自在に装備している。筒状支持
体４９はモータ（図示せず）の回転駆動力によって回転
可能となっており、それにともなってウエハ搬送装置４
６も一体的に回転可能となっている。

【００２５】ウエハ搬送装置４６は、搬送基台４７の前
後方向に移動自在な複数本の保持部材４８を備え、これ
らの保持部材４８によって各処理ユニット間でのウエハ
Ｗの受け渡しを実現している。

【００２６】また、図１に示すように、この実施の形態
においては、４個の処理部Ｇ_１，Ｇ _２，Ｇ_３，Ｇ_４がウ
エハ搬送路２２ａの周囲に実際に配置されており、処理
部Ｇ _５は必要に応じて配置可能となっている。

【００２７】これらのうち、第１および第２の処理部Ｇ
_１，Ｇ_２はシステム正面（図１において手前）側に並列
に配置され、第３の処理部Ｇ_３はカセットステーション
１０に隣接して配置され、第４の処理部Ｇ_４はインター
フェイス部１２に隣接して配置されている。また、第５
の処理部Ｇ_５は背面部に配置可能となっている。

【００２８】この場合、図２に示すように、第１の処理
部Ｇ_１では、カップＣＰ内でウエハＷをスピンチャック
（図示せず）に載置して所定の処理を行う２台のスピナ
型処理ユニットが上下２段に配置されており、この実施
形態においては、ウエハＷにレジストを塗布するレジス
ト塗布ユニット（ＣＯＴ）およびレジストのパターンを
現像する現像ユニット（ＤＥＶ）が下から順に２段に重
ねられている。第２の処理部Ｇ_２も同様に、２台のスピ
ナ型処理ユニットとしてレジスト塗布ユニット（ＣＯ
Ｔ）および現像ユニット（ＤＥＶ）が下から順に２段に
重ねられている。

【００２９】このようにレジスト塗布ユニット（ＣＯ
Ｔ）等を下段側に配置する理由は、レジスト液の廃液が
機構的にもメンテナンスの上でも現像液の廃液よりも本
質的に複雑であり、このように塗布ユニット（ＣＯＴ）
等を下段に配置することによりその複雑さが緩和される
からである。しかし、必要に応じてレジスト塗布ユニッ
ト（ＣＯＴ）等を上段に配置することも可能である。

【００３０】第３の処理部Ｇ_３においては、図３に示す
ように、ウエハＷを載置台ＳＰに載せて所定の処理を行
うオーブン型の処理ユニットが多段に重ねられている。
すなわち冷却処理を行うクーリングユニット（ＣＯ
Ｌ）、レジストの定着性を高めるためのいわゆる疎水化
処理を行うアドヒージョンユニット（ＡＤ）、位置合わ
せを行うアライメントユニット（ＡＬＩＭ）、ウエハＷ
の搬入出を行うエクステンションユニット（ＥＸＴ）、
露光処理前や露光処理後、さらには現像処理後にウエハ
Ｗに対して加熱処理を行う４つの加熱処理ユニット（Ｈ
Ｐ）が下から順に８段に重ねられている。なお、アライ
メントユニット（ＡＬＩＭ）の代わりにクーリングユニ
ット（ＣＯＬ）を設け、クーリングユニット（ＣＯＬ）
にアライメント機能を持たせてもよい。

【００３１】第４の処理部Ｇ_４も、オーブン型の処理ユ
ニットが多段に重ねられている。すなわち、クーリング
ユニット（ＣＯＬ）、クーリングプレートを備えたウエ
ハ搬入出部であるエクステンション・クーリングユニッ
ト（ＥＸＴＣＯＬ）、エクステンションユニット（ＥＸ
Ｔ）、クーリングユニット（ＣＯＬ）、および４つの加
熱処理ユニット（ＨＰ）が下から順に８段に重ねられて
いる。

【００３２】このように処理温度の低いクーリングユニ
ット（ＣＯＬ）、エクステンション・クーリングユニッ
ト（ＥＸＴＣＯＬ）を下段に配置し、処理温度の高い加
熱処理ユニット（ＨＰ）を上段に配置することで、ユニ
ット間の熱的な相互干渉を少なくすることができる。も
ちろん、ランダムな多段配置としてもよい。

【００３３】上述したように、主ウエハ搬送機構２２の
背部側に第５の処理部Ｇ_５を設けることができるが、第
５の処理部Ｇ_５を設ける場合には、案内レール２５に沿
って主ウエハ搬送機構２１から見て側方へ移動できるよ
うになっている。したがって、第５の処理部Ｇ_５を設け
た場合でも、これを案内レール２５に沿ってスライドす
ることにより空間部が確保されるので、主ウエハ搬送機
構２１に対して背後からメンテナンス作業を容易に行う
ことができる。この場合に、このような直線状の移動に
限らず、回動させるようにしても同様にスペースの確保
を図ることができる。なお、この第５の処理部Ｇ_５とし
ては、基本的に第３および第４の処理部Ｇ_３，Ｇ_４と同
様、オープン型の処理ユニットが多段に積層された構造
を有しているものを用いることができる。

【００３４】上記インターフェイス部１２は、奥行方向
（Ｘ方向）については、処理ステーション１１と同じ長
さを有している。図１、図２に示すように、このインタ
ーフェイス部１２の正面部には、可搬性のピックアップ
カセットＣＲと定置型のバッファカセットＢＲが２段に
配置され、背面部には周辺露光装置２３が配設され、中
央部には、ウエハ搬送体２４が配設されている。このウ
エハ搬送体２４は、Ｘ方向、Ｚ方向に移動して両カセッ
トＣＲ，ＢＲおよび周辺露光装置２３にアクセス可能と
なっている。また、このウエハ搬送体２４は、θ方向に
回転可能であり、処理ステーション１１の第４の処理部
Ｇ_４に属するエクステンションユニット（ＥＸＴ）や、
さらには隣接する露光装置側のウエハ受け渡し台（図示
せず）にもアクセス可能となっている。

【００３５】このようなレジスト塗布現像処理システム
においては、まず、カセットステーション１０におい
て、ウエハ搬送機構２１のウエハ搬送用アーム２１ａが
カセット載置台２０上の未処理のウエハＷを収容してい
るウエハカセットＣＲにアクセスして、そのカセットＣ
Ｒから一枚のウエハＷを取り出し、第３の処理部Ｇ３の
エクステンションユニット（ＥＸＴ）に搬送する。

【００３６】ウエハＷは、このエクステンションユニッ
ト（ＥＸＴ）から、主ウエハ搬送機構２２のウエハ搬送
装置４６により、処理ステーション１１に搬入される。
そして、第３の処理部Ｇ_３のアライメントユニット（Ａ
ＬＩＭ）によりアライメントされた後、アドヒージョン
処理ユニット（ＡＤ）に搬送され、そこでレジストの定
着性を高めるための疎水化処理（ＨＭＤＳ処理）が施さ
れる。この処理は加熱を伴うため、その後ウエハＷは、
ウエハ搬送装置４６により、クーリングユニット（ＣＯ
Ｌ）に搬送されて冷却される。

【００３７】アドヒージョン処理が終了し、クーリング
ユニット（ＣＯＬ）で冷却さたウエハＷは、引き続き、
ウエハ搬送装置４６によりレジスト塗布ユニット（ＣＯ
Ｔ）に搬送され、そこで塗布膜が形成される。塗布処理
終了後、ウエハＷは処理部Ｇ _３，Ｇ_４のいずれかの加熱
処理ユニット（ＨＰ）内でプリベーク処理され、その後
いずれかのクーリングユニット（ＣＯＬ）にて冷却され
る。

【００３８】冷却されたウエハＷは、第３の処理部Ｇ_３
のアライメントユニット（ＡＬＩＭ）に搬送され、そこ
でアライメントされた後、第４の処理部群Ｇ_４のエクス
テンションユニット（ＥＸＴ）を介してインターフェイ
ス部１２に搬送される。

【００３９】インターフェイス部１２では、周辺露光装
置２３により周辺露光されて余分なレジストが除去され
た後、インターフェイス部１２に隣接して設けられた露
光装置（図示せず）により所定のパターンに従ってウエ
ハＷのレジスト膜に露光処理が施される。

【００４０】露光後のウエハＷは、再びインターフェイ
ス部１２に戻され、ウエハ搬送体２４により、第４の処
理部Ｇ_４に属するエクステンションユニット（ＥＸＴ）
に搬送される。そして、ウエハＷは、ウエハ搬送装置４
６により、いずれかの加熱処理ユニット（ＨＰ）に搬送
されてポストエクスポージャーベーク処理が施され、次
いで、クーリングユニット（ＣＯＬ）により冷却され
る。

【００４１】その後、ウエハＷは現像ユニット（ＤＥ
Ｖ）に搬送され、そこで露光パターンの現像が行われ
る。現像終了後、ウエハＷはいずれかの加熱処理ユニッ
ト（ＨＰ）に搬送されてポストベーク処理が施され、次
いで、クーリングユニット（ＣＯＬ）により冷却され
る。このような一連の処理が終了した後、第３処理ユニ
ット群Ｇ_３のエクステンションユニット（ＥＸＴ）を介
してカセットステーション１０に戻され、いずれかのウ
エハカセットＣＲに収容される。

【００４２】このような塗布現像システムによれば、各
処理ユニットが上下方向に積層されて構成されているか
ら装置の設置面積を著しく減少させることができる。

【００４３】次に、図４ないし図６を参照して、この発
明の特徴を含む処理液供給システムについて説明する。
この処理液供給システムは、前記塗布現像システムに組
み込まれ、例えば、処理液としての現像液を前記現像処
理ユニット（ＤＥＶ）に供給するものである。

【００４４】図４は、本実施形態に係る処理液供給シス
テムの配管構成図である。この処理液供給システムは、
工場配管等の供給源からＮ_２ガス圧送またはポンプ圧送
された現像液等の処理液を一旦受け取って貯留し、現像
処理ユニット（ＤＥＶ）等の処理ユニットに圧送する役
割を果たすものである。

【００４５】そして、この処理液供給システムは、中間
貯留機構としてシリンジポンプ５１，５２を用いること
で、加圧用のＮ_２ガスが直接処理液に触れることがな
く、かつ処理液を常に一定の圧力で安定して吐出できる
ように構成している。

【００４６】さらに、この処理液供給システムは、２つ
のシリンジポンプ５１，５２を使用することで、一方の
シリンジポンプ５１からの処理液供給が終了した場合に
でも、他のシリンジポンプ５２を使用することで処理液
を切れ目無く継続的に供給できるように構成している。
以下、これら２つのシリンジポンプを、それぞれ第１の
シリンジポンプ５１、第２のシリンジポンプ５２と称し
て説明を行う。

【００４７】この処理液供給システムの配管構成の詳細
を説明する前に、図５の（ａ）を参照して、第１および
第２のシリンジポンプ５１，５２の構成を説明する。な
お、これら第１および第２のシリンジポンプ５１，５２
は全く同一の構成を有するものであるから、第１のシリ
ンジポンプ５１の構成のみを説明し、第２のシリンジポ
ンプ５２の説明は省略する。

【００４８】図５の（ａ）に示すように、第１のシリン
ジポンプ５１は、横置きされたシリンダ５３と、このシ
リンダ５３内を水平方向に摺動自在に移動するピストン
６３とを有する。このピストン６３は、シリンダ５３内
を左側の処理液室ＳＬと右側の駆動用ガス室ＧＬに区画
されている。そして、このピストン６３は、前記駆動用
ガス室ＧＬに例えばＮ_２ガスが導入されることで左側
（ＳＬ方向）方向に駆動され、処理液室ＳＬ内の処理液
を加圧するようになっている。

【００４９】上記シリンダ５３は、両端が開放した金属
製の円筒本体５４ａと、この円筒本体５４ａの内周面に
装着された耐処理液性を有する樹脂製のライナー５４ｂ
と、前記円筒本体５４ａの右側開放端を閉塞するカバー
５５と、右側開放端を閉塞するヘッド５８とを有する。

【００５０】上記カバー５５には、Ｎ_２ガス供給配管７
５（後述）の接続口５６と、リークセンサ５７とが設け
られている。また、前記ヘッド５８には、処理液の吐出
口６０と、処理液の導入口５９と、Ｎ_２ガスの気泡除去
のための泡抜き口６１とが、下側から上側へとこの順で
設けられている。

【００５１】さらに、このヘッド５８の内側には、樹脂
製のライナー６２が装着されている。このライナー６２
の前記導入口５９、吐出口６０、泡抜き口６１に対応す
る部分には連通孔６２ａ〜６２ｃが設けられており、こ
のうち、前記導入口５９に対応する連通孔６２ａには、
図５の（ｂ）、（ｃ）に拡大して示すように、複数のオ
リフィス孔６２ｄが形成されている。このオリフィス孔
６２ｄは、例えば、前記導入口５９の直径が数ｍｍの場
合、直径がその１／１０程度の細孔であり、数個設けら
れる。このような構成によれば、このオリフィス孔６２
ｄを通過する処理液は、オリフィス効果により圧力が低
下する。このことにより、仮に処理液中にＮ_２ガスなど
の気体が溶存していた場合であっても、その気体が発砲
し気泡化することになる。したがって、前記泡抜き口６
１を通じてその気泡を排出（泡抜き）することができる
といった効果を得ることができる。

【００５２】一方、図５の（ａ）に示すように、前記ピ
ストン６３は、処理液に接する側に設けられた樹脂（例
えばフッ素樹脂：商品名テフロン）製の表面部材６４
と、この表面部材６４を支持する金属製のピストンベー
ス６５とから構成されている。表面部材６４の外周面に
は、前記処理液室と駆動用ガス室とを機密かつ液密に仕
切るための樹脂製のシールリング６６が嵌挿されてい
る。また、ピストンベース６５の外周面には、位置検出
用のマグネット６７が嵌合されている。

【００５３】このような構成によれば、前記接続口５６
を通して駆動ガス室ＧＬ内が減圧され、前記ピストン６
３が右方向（ＧＬ方向）に駆動されると、前記導入口５
９を通じて処理液が処理液室ＳＬ内に導入される。そし
て、前記接続口５６を通って駆動ガス室ＧＬ内にＮ_２ガ
スが導入され、上記ピストン６３が左側に駆動される
と、処理液室ＳＬ内の処理液が前記吐出口６０を通して
このシリンジポンプ５１から吐出される。また、この吐
出直後に、前記泡抜き口６１を通って処理液中の気泡が
排出されるようになっている。

【００５４】また、シリンダ５３の外側には、ピストン
６３が左端に移動して処理液が完全にエンプティになっ
た状態を検出するためのエンプティセンサ７１と、ピス
トン６３が右端に移動して処理液が完全に充填されてフ
ルになった状態を検出するためのフルセンサ７３とが設
けられている。そして、前記各センサ７１、７３の内側
には、処理液が完全にエンプティになる直前を検出する
ための直前エンプティセンサ７２と、処理液が完全にフ
ルになる直前を検出するための直前フルセンサ７４とが
設けられている。

【００５５】これらのセンサ７１〜７４は、ピストンベ
ース６５に外嵌されたマグネット６７の磁界を検出する
ことにより、ピストン６３の位置を検知することができ
るようになっている。

【００５６】次に、図４を参照して、これら第１および
第２のシリンジポンプ５１，５２を使用した処理液供給
機構の配管構成について具体的に説明する。

【００５７】まず、シリンジポンプ駆動用のＮ_２ガスの
供給系統について説明する。前述したように、第１およ
び第２のシリンジポンプ５１，５２の駆動源としては、
Ｎ_２ガスが用いられている。したがって、工場配管から
供給されるＮ_２ガスを導くＮ_２ガス供給配管７５が第
１、第２のシリンジポンプ５１，５２の前記接続口５６
に接続されている。

【００５８】このＮ_２ガス供給配管７５には、工場配管
から供給されたＮ_２ガスの圧力を調整するためのレギュ
レータ７６（圧力調整弁）が設けられており、その下流
側には、第１および第２シリンジポンプ５１，５２への
Ｎ_２ガスの供給を切り換える２つの第１および第２のＮ
_２ガス供給用三方弁７７，７８が設けられている。これ
らの第１および第２の三方弁７７，７８がレギュレータ
７６側に切り換えられることで、レギュレータ７６によ
って略一定圧に調整されたＮ_２ガスが第１および第２の
シリンジポンプ５１，５２に供給されるようになってい
る。

【００５９】また、これらの第１および第２の三方弁７
７，７８は、前記第１および第２のシリンジポンプ５
１、５２につながる流路を大気圧側（又は負圧側）に切
り換えることができるように構成されている。そして、
流路を大気圧側（又は負圧側）に切り換えることで、圧
力差によって前記シリンジポンプ５１、５２のピストン
６３が右側方向（図５の（ａ）参照）に移動し、処理液
室ＳＬ内への処理液の導入がなされるようになってい
る。

【００６０】また、配管７５の第１および第２シリンジ
ポンプ５１，５２から三方弁７７，７８に至る部分に
は、リークセンサ７９が設けられている。

【００６１】次に、処理液の供給系統について説明す
る。図中８０は、工場配管からの処理液が導入される処
理液配管である。この処理液配管８０には、前述のオリ
フィス孔６２ｄを設けない場合には前述のオリフィス工
場配管から圧送された処理液内のＮ_２ガスの気泡を除去
するための脱気部材８１を設けることもできる。そし
て、処理液配管８０の下流側には前記第１および第２の
シリンジポンプ５１，５２が、この処理液配管８０に対
して並列に接続されている。

【００６２】すなわち、この配管８０は下流側で二股に
分岐され、それぞれ、第１および第２の導入側開閉弁８
２，８３を介して前記第１および第２のシリンジポンプ
５１、５２の導入口５９に接続されている。また、第１
および第２のシリンジポンプ５１、５２の吐出口６０
は、それぞれ、第１および第２の吐出側開閉弁８５、８
６を経た後、一本の下流側配管８４に纏められている。

【００６３】この下流側配管８４には、流量計８７と、
パーティクルを除去するためのフィルター８８と、流量
調整機能を備えた開閉弁８９，８９とが設けられ、最終
的に処理ユニット、例えば現像処理ユニット（ＤＥＶ）
に接続されている。

【００６４】さらに、第１および第２シリンジポンプ５
１，５２の泡抜き口６１，６１には、ドレイン配管９１
が接続されている。このドレイン配管９１には、このド
レイン配管９１を開閉する２つの第１および第２の泡抜
き用開閉弁９２，９３が設けられている。さらに、フィ
ルター８８からドレイン配管９１への分岐管には、第３
の泡抜き用開閉弁９４が設けられている。

【００６５】このような構成によれば、これらの開閉弁
８２、８３、８５、８６、９２、９３、９４、ならびに
前述した第１および第２の三方弁７７、７８を所定のタ
イミングで選択的に作動させることで、前記第１、第２
のシリンジポンプ５１、５２のうちの一方を選択し、か
つ、選択したシリンジポンプ５１，５２を用いた処理液
の供給を行うことができる。なお、図中参照符号９６で
示すのは、各弁を制御する制御装置である。

【００６６】次に、この制御装置９６による前記開閉弁
の開閉タイミングを図６を参照して説明する。

【００６７】この図では、上側の部分に第１のシリンジ
ポンプ５１のタイミングチャートが描かれ、下側の部分
に第２のシリンジポンプ５２のタイミングチャートが描
かれている。以下、説明の便宜上、両者の制御タイミン
グを分けて説明する。

【００６８】まず、タイミングＴ_１で、第１の吐出側開
閉弁８５が開かれ、第１のシリンジポンプ５１による処
理液の吐出が開始される。そして、前記直前エンプティ
センサ７２で処理液室ＳＬ内が空になったことが検知さ
れたならば、上記第１の吐出側開閉弁８５が閉じられ、
処理液の吐出が停止される（タイミングＴ_２）。吐出に
要する時間は、ポンプの容量や処理液の使用量に左右さ
れる。

【００６９】また、処理液の供給停止（タイミング
Ｔ_２）と同時に、第１の三方弁７７が大気圧もまたは負
圧側に切換えられるとともに、導入側開閉弁８２が開か
れる。これにより、図５の（ａ）に示すピストン６３が
処理液の圧力に押されて右側に移動し、シリンダ５３の
処理液室ＳＬ内に処理液が補給される。

【００７０】なお、この時、処理液は上記導入口５９か
ら、前記オリフィス孔６２ｄを通じてシリンダ５３内に
導入される。これにより、処理液の圧力が一時的に低下
するから、処理液中に溶存する例えばＮ_２等のガス成分
が気泡化する。

【００７１】次いで、前記直前フルセンサ７４によって
処理液が処理液室（ＳＬ）内に充填されたことが検出さ
れたならば、導入側開閉弁８２が閉じられ、処理液の補
給が終了する（タイミングＴ_３）。また、処理液の補給
が終了したならば、略同じタイミングＴ_３で第１の泡抜
き用開閉弁９２が開かれる。これにより、ヘッド５８に
設けられた泡抜き口６１から、処理液中で気泡化したＮ
_２ガスが排出される。この泡抜き口６１はシリンダ５３
の上端側に設けられているから、泡抜きを効果的に行う
ことができる。

【００７２】また、泡抜きが開始されるのと同じタイミ
ング（Ｔ_３）で、第１の三方弁７７がレギュレータ７６
側に切り換えられる。これにより、シリンダ５３の駆動
ガス室ＧＬ内にＮ_２ガスが導入され、このＮ_２ガスの圧
力で前記ピストン６３が左側に付勢され、前記処理液室
ＳＬ内の処理液の加圧が開始され、かつ処理液中の気泡
が泡抜き口６１側から有効に排出される。この泡抜きが
終了したならば、第１の泡抜き用開閉弁が閉じられる
（タイミングＴ_４）。

【００７３】この第１のシリンジポンプ５１は、以上の
Ｔ_１〜Ｔ_４の動作を繰り返すことで処理液の吐出および
補給を繰り返す。

【００７４】一方、第２のシリンジポンプ５２は、図６
に示すように、この第１のシリンジポンプ５１と同様の
動作（処理液の吐出）を、第１のシリンジポンプ５１の
処理液吐出終了タイミングＴ_２にあわせて開始する（タ
イミングＴ_１’）。さらに、第１のシリンジポンプ５１
は、処理液の補給（Ｔ_２〜Ｔ_３）を第２のシリンジポン
プ５２による処理液供給中（Ｔ_１’〜Ｔ_２’）に行い、
第２のシリンジポンプ５２による処理液吐出終了タイミ
ングＴ_２’にあわせて再び処理液の吐出を開始する。

【００７５】このような構成によれば、第１および第２
のシリンジポンプを交互に使用することで処理液の供給
が切れ目なく行われることができる。

【００７６】なお、前記タイミングＴ_３およびＴ_４にお
ける前記Ｎ_２ガス供給用三方弁７７、泡抜き用開閉弁９
２及び導入側開閉弁８２の制御は、図７に示すタイミン
グで行うこともできる。

【００７７】すなわち、まず、タイミングＴ_２におい
て、Ｎ_２ガス供給用三方弁７７が大気圧側に切換えられ
る。このことで、Ｎ_２ガス室ＧＬ内の圧力が低下する。
そして、圧力が十分に低下して安定したところで、前記
導入側開閉弁８２を開く。これにより、処理液室ＳＬ内
に処理液の導入が開始される。直前フルセンサ７４によ
って処理液の充填が検出されると、タイミングＴ_３でこ
の導入側開閉弁８２は閉じられる。そして、この状態
で、シリンダ５３内の処理液が安定するまで放置され
る。この後、三方弁７７が加圧側に切り換えられ、前記
ガス室ＧＬ内に駆動用のＮ_２ガスが導入され、処理液室
ＳＬ内に補充された処理液の加圧が開始される。そし
て、ガス室ＧＬ内の圧力が安定したところで、泡抜き用
開閉弁９２が開かれ泡抜きが行われる。この泡抜き時間
は、数秒間だけ泡抜き用開閉弁９２を開くことで実行さ
れる。このように制御することにより、吐出される処理
液を、脈動を生じさせることなくさらに良好かつ安定的
に供給できる。

【００７８】以上説明した構成によれば、以下の効果を
得ることができる。まず、本実施形態では、シリンジポ
ンプ５１，５２を用いて処理液を圧送しているため、Ｎ
_２ガスが処理液に直接触れることがない。このため、こ
の処理液にＮ_２ガスが混入することを防止できる。ま
た、処理液を繰り返し加圧して送り出すのではなく、常
に一定の圧力で一方向に加圧して吐出するようにしてい
るから、吐出される処理液に脈動が生じることがない。

【００７９】また、工場配管から導入された処理液にＮ
_２ガスが混入していた場合でも、処理液配管８０に設け
る脱気部材８１、若しくは導入口５９に連通するオリフ
ィス孔６２ｄおよび泡抜き口６１の作用によって良好な
脱気が行えることになる。

【００８０】さらに、上記構成によれば、２つのシリン
ジポンプ５１，５２を切り換えて、処理液を交互に加圧
して各処理ユニットに圧送しているので、処理液を切れ
目なく連続的に吐出することができ、しかも常時略一定
圧力で加圧して圧送することができる。

【００８１】さらにまた、この実施形態のように、第１
および第２シリンジポンプ５１，５２を、ピストン６
３，６３か略水平に移動するように配置する場合には、
いわゆる縦置きの場合のように処理液の水頭の影響を受
けることがなく、精密な圧力制御を行うことができる。

【００８２】さらにまた、ピストン位置センサ７１〜７
４により、ピストン６３、６３の位置を正確検出してい
るため、この検出信号に基づいて、開閉弁８２，８３、
８５，８６を正確に制御することができる。

【００８３】なお、この実施形態では、シリンジポンプ
５１，５２の接続口５６を工場配管からのＮ_２ガス（レ
ギュレータ７６）と大気圧とに選択的に接続できるよう
に構成しているが、処理液の供給圧が低い場合には、大
気圧でなく負圧に接続することにより、強制的な給液が
可能となる。図８は、負圧に接続できる構成を示すもの
である。ただし、図８は、第１および第２のシリンジポ
ンプ５１、５２を含むＮ_２ガス供給系統のみを示したも
のである。また、図４に示す配管構成と同一の構成要素
には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。

【００８４】この配管においては、前記第１、第２の三
方弁７７、７８の代りにそれぞれ２つの開閉弁７７ａ、
７７ｂ、７８ａ、７８ｂを用いている。すなわち、シリ
ンジポンプの接続口５６に接続された配管の上流側は、
２股に分岐され、一方は、Ｎ _２ガス供給用開閉弁７７
ａ、７８ａを介してＮ_２ガス供給配管７５に接続されて
いる。そして、他方の配管は、減圧用開閉弁７７ｂ、７
８ｂを介して負圧発生用のエジェクタ９７に接続されて
いる。

【００８５】ここでエジェクタ９７は、空気圧により作
動し、負圧を発生させるものであり、駆動用の空気配管
１０１に接続されている。この空気配管１０１の上流側
には、駆動用空気圧を制御するレギュレータ９８が配置
され、このレギュレータ９８とエジェクタ９７との間に
はエジェクタ用開閉弁９９が設けられている。

【００８６】したがって、前記エジェクタ用開閉弁９９
および前記減圧用開閉弁７７ｂ（７８ｂ）が開かれるこ
とで、前記第１、第２のシリンジポンプ５１、５２のガ
ス室ＧＬがエジェクタ９７によって負圧に引かれること
になる。

【００８７】なお、この図において、符号１０２で示す
のは液漏れを検出するためのリークセンサであり、前述
のリークセンサ７９か、どちらか一方を設置する。ま
た、１０３で示すのは負圧度を監視するためのバキュー
ムゲージである。

【００８８】このような構成によれば、供給液の補給を
高速で行えるとともに、給液時に液圧を大気圧以下に下
げることができるから脱気を効果的に行うことができ
る。

【００８９】（第２の実施形態）次に、この発明の第２
の実施形態について説明する。この実施形態は、前記第
１および第２のシリンジポンプの代わりに第１および第
２のベローズポンプ５１’、５２’を使用するものであ
る。ベローズポンプの構成を図９に示す。なお、第１お
よび第２のベローズポンプ５１’，５２’は全く同一の
構成を有するものであるから、図９では第１のベローズ
ポンプ５１’の構成のみを示す。また、図９において、
前記第１の実施形態のシリンジポンプ５１、５２と同様
の構成要素には同一符号を付してその詳しい説明は省略
する。

【００９０】まず、このベローズポンプ５１’は、前記
シリンジポンプ５１と同様に構成されたシリンダ５３、
カバー５５、およびヘッド５８を有する。ただし、シリ
ンダ５３内には、樹脂製のベローズ１００が伸縮自在に
設けられ、このベローズ１００の基部１０５が金属また
は樹脂製のピストンベース６５に取り付けられている。
これにより、ベローズ１００内に処理液を充填すること
ができ、ピストンベース６５がＮ_２ガスによって略一定
圧力により上方向に押圧されると、ベローズ１００内の
処理液が略一定圧力で加圧して吐出されるようになって
いる。

【００９１】このベローズポンプ５１’は、第１の実施
形態と異なり、ピストン６３の動作方向を略垂直にし、
かつ前記ヘッド５８を上側にした縦置き状態で用いられ
る。これは、横置きで使用すると、ベローズ１００の
「ひだ」部分に発泡した気泡が溜まり除去しにくくなる
可能性があるからである。また、縦型で使用することに
より、気泡の収集が容易になり泡抜き口６１からの泡抜
きが容易になる効果もある。

【００９２】また、吐出口６０には、ベローズ１００内
を下方向に所定の寸法で伸びるポンプ内吐出管１０６が
接続されている。このことによりヘッド５８の下面と処
理液の吐出部分（ポンプ内吐出管１０６の下端）に上下
方向のオフセットを設けることができるから、導入口６
２ａのオリフィス孔６２ｄで発生した気泡が、前記吐出
口６０を通って吐出されてしまうことを有効に防止でき
る。

【００９３】このようなベローズポンプ５１’の場合に
は、ピストン６３のような摺動部分がないため、塵埃等
の発生の虞れがないといった利点がある。さらに、ベロ
ーズ式の場合には、駆動用のＮ_２ガスが処理液室ＳＬ内
にリークするおそれがない。このため、ポンプにリーク
センサを設ける必要がない。もちろん、ベローズポンプ
においてもベローズ破損時に接続口５６から流れ出た処
理液を検出できるよう、その近くの配管に処理液検出セ
ンサを設けることが望ましい。

【００９４】図１０は、２つのベローズポンプ５１’、
５２’を用いた配管構成の例である。この図では、前記
第１の実施形態（図４）と同様の構成には同一符号を付
している。また、供給液の補給を行う手段としては、図
８に示した負圧を用いた構成を採用している。図に示さ
れた配管構成は、全てすでに説明した構成であるので、
再度の説明は省略する。

【００９５】また、図１１は、この実施形態のシステム
の動作を示すタイミングチャートである。このタイミン
グチャートは、基本的には、第１の実施形態のもの（図
６および図７）と同じであるが、図６のタイミングチャ
ートに、Ｎ_２ガス供給用開閉弁７７ａ、７８ａ、減圧用
開閉弁７７ｂ、７８ｂ及びエジェクタ用開閉弁９９の駆
動タイミングを追加した点が異なる。

【００９６】なお、Ｎ_２ガス供給用開閉弁７７ａ（７８
ａ）、減圧用開閉弁７７ｂ（７８ｂ）は、排他制御さ
れ、前記図６に示す三方弁７７と同じタイミングで作動
する。また、エジェクタ用開閉弁９９の駆動タイミング
は、減圧用開閉弁７７ｂ、７８ｂの「開」タイミングに
一致する。

【００９７】（第３の実施形態）次に、この発明の第３
の実施形態について説明する。この実施形態は、前記第
１、第２のシリンジポンプ５１、５２の代わりに図１２
示すダイアフラムポンプ５１''、５２''を使用するもの
である。このダイヤフラムポンプ５１''、５２''は第１
の実施形態と同様に、横置きで使用される。なお、ダイ
アフラムポンプ５１''および５２''は全く同一の構成を
有するから、図１２ではダイアフラムポンプ５１''のみ
を示す。

【００９８】このダイアフラムポンプ５１''は、ダイヤ
フラム面を垂直方向にして配置されたダイヤフラム１１
３と、このダイヤフラムの周縁部を挟んで保持する左側
および右側のケーシング１１１ａ、１１１ｂを有する。
このケーシング１１１ａ、１１１ｂの内部は、このダイ
ヤフラム１１３によって紙面右側の処理液室ＳＬと、左
側のＮ_２ガス室ＧＬとに仕切られている。

【００９９】右側ケーシング１１１ｂには、処理液を吐
出する吐出口１１５と、処理液を処理液室内に導入する
導入口１１４と、Ｎ_２ガスの気泡除去を行うための泡抜
き口１１６とが、下からこの順で設けられている。ま
た、左側ケーシング１１１ａには、ダイアフラム１１３
に圧力を付与する圧力流体としてのガスを導入するガス
導入口１１７が設けられている。

【０１００】次に、このダイヤフラムポンプ５１''、５
２''におけるエンプティおよびフルセンサの設置例につ
いて説明する。

【０１０１】まず、ダイアフラム１１３には、その中央
部分にシャフト１１８が固定されており、このシャフト
１１８は、左側ケーシング１１１ａを貫通すると共に水
平方向に摺動自在に保持されている。したがって、この
シャフト１１８は、前記ダイヤフラム１１３の動作にし
たがって、その変位量に応じた量だけ水平方向に移動す
ることになる。

【０１０２】また、シャフト１１８の突端部には、この
シャフト１１８に沿って所定距離離間して設けられたフ
ルセンサ１１９およびエンプティセンサ１２０が配置さ
れている。これらのセンサ１１９、１２０は、何れも透
過型センサであり、センサ１１９を例にとると、図１３
に示すように、発光素子１１９ａと受光素子１１９ｂを
有している。

【０１０３】そして、前記シャフト１１８にはフラグ１
１８ａが取付けられており、このフラグ１１８ａがエン
プティセンサ１１９に対向することによって処理液のエ
ンプティが検出され、フルセンサ１２０に対向すること
によってフル状態が検出される。

【０１０４】また、このような透過型センサの代わり
に、図１４に示すような磁気センサ一により液量を検出
するようにしてもよい。この磁気センサは、ダイアフラ
ム１１３の中央部分に取り付けられたマグネットまたは
磁性体１２１と、左側ケーシング１１１ａ内に設けられ
前記磁性体１２１と対向する第１の磁気近接スイッチ１
２２と、右側ケーシング１１１ｂ内に前記第１の磁気近
接スイッチ１２２と同じ高さで設けられた第２の磁気近
接スイッチ１２３とを有している。

【０１０５】このような構成によれば、磁性体１２１を
第２の磁気近接スイッチ１２３で検出したことに基づい
て処理液室ＳＬのエンプティを検知でき、第２の磁気近
接スイッチ１２２で検出したことに基づいてフルを検知
できる。

【０１０６】このようなダイアフラムポンプの場合に
も、ピストンのような摺動部分がないため、塵埃等の発
生の虞れがないといった利点がある。

【０１０７】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ることなく、発明の要旨を変更しない範囲で種々変形が
可能である。例えば、供給する処理液は、現像液に限定
されるものではなく、シンナーその他のものであっても
よい。

【０１０８】また、上記処理装置においては、被処理基
板として半導体ウエハＷを処理しているが、これに限ら
ず、例えばＬＣＤ用ガラス基板であってもよい。また、
加圧手段も上記実施の形態のものに限らない。

【０１０９】さらに、上記第１の実施形態のタイミング
チャート（図６）においては、泡抜き用開閉弁９２の開
閉を処理液補給（タイミングＴ_３）後に行ったが、図１
５のタイミングチャートに示されるように、処理液の吐
出直後（タイミングＴ_２）に行うようにしても良い。こ
のような構成によれば、処理液吐出後に残った気泡を、
残留する処理液と一緒に前記泡抜き口６１から排出する
ことができる。

【０１１０】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る処理液
供給システムによれば、処理液を中間貯留機構の容器に
一旦貯留し、流体の圧力を加圧体を介して処理液に作用
させて処理液を吐出させるので、従来のポンプによる圧
送のように脈動が生じることなく、また、処理液が圧力
媒体であるＮ_２ガス等の圧送ガスに直接接触することが
ないので処理液へのガスの混入が生じず、プロセスに悪
影響を与えずに処理液を供給することができる。

【０１１１】また、中間貯溜機構を２以上有し、これら
の中間貯溜機構を選択的に切換えて処理液の吐出を連続
的に行わせる切換弁を有することにより、処理液を常に
一定の圧力で安定して吐出することができ、かつ、処理
液を切れ目なく連続的に吐出することができる。

【０１１２】さらに、中間貯留機構の容器に、処理液中
の気泡をこの容器外へ排出するための泡抜き口を設ける
ことにより、またさらに、処理液の導入口に、導入され
る処理液の圧力を低下させることでこの処理液に溶存す
る気体を発泡させ気泡を生成する流路を設けることによ
り、処理液中にＮ_２ガス等の圧送ガスが混入している場
合でも、これを有効に脱気することができる。

【０１１３】さらにまた、このような処理液供給システ
ムに用いられる中間貯留機構、およびこのような処理液
供給システムを用いる処理装置、さらには上記効果を有
する処理液供給方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である半導体ウエハの塗
布現像処理システムの全体構成の平面図。

【図２】図１に示す塗布現像処理システムの正面図。

【図３】図１に示す塗布現像処理システムの背面図。

【図４】本発明の一実施形態に係る処理液供給システム
の配管構成図。

【図５】図４に示した処理液供給システムに用いるシリ
ンジポンプを示す縦断面図、シリンジポンプの処理液導
入口部分を拡大して示す縦断面図。

【図６】処理液供給システムの処理液供給動作を示すタ
イミングチャート。

【図７】図６の一部をさらに詳しく説明するためのタイ
ミングチャート。

【図８】配管構成の他の例を示す図。

【図９】この発明の第２の実施形態で用いるベローズポ
ンプを示す縦断面図。

【図１０】第２の実施形態における配管構成図。

【図１１】同実施形態における動作を示すタイミングチ
ャート。

【図１２】この発明の第３の実施形態で用いるダイヤフ
ラムポンプを示す縦断面図。

【図１３】図１２のダイアフラムポンプの液量検出に用
いられる透過型センサを示す模式図。

【図１４】液量検出センサとして磁気センサを用いたダ
イアフラムホンプの例を示す断面図。

【図１５】脱気タイミングに関する別の例を示すタイミ
ングチャート。

【符号の説明】

１…塗布現像処理システム ５１，５２…シリンジポンプ（中間貯留機構） ５１’，５２’…ベローズポンプ（中間貯留機構） ５１''，５２''…ダイアフラムポンプ（中間貯留機構） ５３…シリンダ ６１…泡抜き口 ６３…ピストン ７１〜７２…センサ ７５…ガス供給配管 ７６…レギュレータ ７７，７８…ガス供給用三方弁 ７９…リークセンサ ８０…処理液配管 ９６…制御装置 １００…ベローズ １１３…ダイアフラム ＤＥＶ…現像ユニット Ｗ…半導体ウエハ

Claims (30)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理液を供給する処理液供給システムで
   あって、 処理液を供給する処理液供給源と、 処理液供給源から供給された処理液を一旦貯留し、所定
   の圧力で再び吐出する中間貯溜機構と、 この中間貯溜機構に貯留された処理液に圧力を作用させ
   るための流体を、前記中間貯溜機構に供給するための流
   体供給機構とを具備し、 前記中間貯留機構は、 処理液の導入口と吐出口とを有し、導入口を通って導入
   された処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能
   な容器と、 この容器内に設けられ、前記流体供給機構から供給され
   た流体と処理液との間に介在し、この流体の圧力を処理
   液に作用させる加圧体とを有することを特徴とする処理
   液供給システム。
2. 【請求項２】 ２以上の中間貯溜機構を具備し、 これら中間貯溜機構を選択的に切換えて処理液の吐出を
   連続的に行わせる切換弁をさらに具備することを特徴と
   する請求項２に記載の処理液供給システム。
3. 【請求項３】 前記切換弁は、 任意の中間貯溜機構へ処理液を導入させる導入側切換弁
   と、 任意の中間貯溜機構から処理液を吐出させる吐出側切換
   弁とを有することを特徴とする請求項２に記載の処理液
   供給システム。
4. 【請求項４】 前記導入側切換弁と吐出側切換弁を制御
   し、１の中間貯溜機構からの処理液の吐出を行っている
   最中に、他の中間貯溜機構への処理液の補給を行う切換
   弁制御装置をさらに具備することを特徴とする請求項３
   に記載の処理液供給システム。
5. 【請求項５】 前記中間貯溜機構の容器には、処理液中
   の気体を脱気するための脱気機構が設けられていること
   を特徴とする請求項２ないし請求項４のいずれか１項に
   記載の処理液供給システム。
6. 【請求項６】 前記脱気機構は、前記容器に設けられ、
   前記処理液中の気泡をこの容器外へ排出するための泡抜
   き口を有することを特徴とする請求項５に記載の処理液
   供給システム。
7. 【請求項７】 前記泡抜き口は、容器の上端部分に設け
   られており、容器の上端部分に溜まった気泡を除去する
   ことを特徴とする請求項６に記載の処理液供給システ
   ム。
8. 【請求項８】 前記脱気機構は、前記処理液の導入口に
   設けられ、導入される処理液の圧力を低下させることで
   この処理液に溶存する気体を発泡させ、気泡を生成する
   流路を有することを特徴とする請求項７に記載の処理液
   供給システム。
9. 【請求項９】 前記流体の圧力を略一定に調整する圧力
   調整弁をさらに具備することを特徴とする請求項１ない
   し請求項８のいずれか１項に記載の処理液供給システ
   ム。
10. 【請求項１０】 前記流体供給機構は、Ｎ_２ガスを前記
    加圧体に作用させて加圧体を移動させ、吐出を行わせる
    Ｎ_２ガス供給機構を有することを特徴とする請求項１な
    いし請求項９のいずれか１項に記載の処理液供給システ
    ム。
11. 【請求項１１】 前記流体供給機構は、前記容器内から
    流体を除去することで加圧体を移動させ、処理液の補充
    を行わせる減圧機構を有することを特徴とする請求項１
    ないし請求項１０のいずれか１項に記載の処理液供給シ
    ステム。
12. 【請求項１２】 前記中間貯溜機構は、容器としてのシ
    リンダと加圧体としてのピストンとを有するシリンジポ
    ンプであることを特徴とする請求項１ないし請求項１１
    のいずれか１項に記載の処理液供給システム。
13. 【請求項１３】 前記中間貯溜機構は、容器内に設けら
    れ処理液を保持する伸縮自在のベローズを有するベロー
    ズポンプであることを特徴とする請求項１ないし請求項
    １１のいずれか１項に記載の処理液供給システム。
14. 【請求項１４】 前記中間貯溜機構は、加圧体としての
    ダイヤフラムを有するダイヤフラムポンプであることを
    特徴とする請求項１ないし請求項１１のいずれか１項に
    記載の処理液供給システム。
15. 【請求項１５】 処理液供給源から供給された処理液を
    一旦貯留し、所定の圧力で再び吐出する処理液の中間貯
    溜機構であって、 処理液の導入口と吐出口とを有し、導入口を通って導入
    された処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能
    な容器と、 この容器内に設けられ、前記流体供給機構から供給され
    た流体と処理液との間に介在し、この流体の圧力を処理
    液に作用させる加圧体と、 前記容器に設けられ、処理液中の気泡を容器外へ排出す
    るための泡抜き流路とを具備することを特徴とする中間
    貯溜機構。
16. 【請求項１６】 前記容器の導入口には、この導入口を
    通って導入される処理液の圧力を低下させることで脱気
    を行わせる圧力低下機構が設けられていることを特徴と
    する請求項１５に記載の中間貯溜機構。
17. 【請求項１７】 前記圧力低下機構はオリフィス効果に
    よって処理液の圧力を低下させる細孔を有する部材を有
    することを特徴とする請求項１６に記載の中間貯溜機
    構。
18. 【請求項１８】 容器としてのシリンダと加圧体として
    のピストンとを有するシリンジポンプで構成されている
    ことを特徴とする請求項１５ないし請求項１７のいずれ
    か１項に記載の中間貯溜機構。
19. 【請求項１９】 容器内に設けられ処理液を保持する伸
    縮自在のベローズを有するベローズポンプで構成されて
    いることを特徴とする請求項１５ないし請求項１７のい
    ずれか１項に記載の中間貯溜機構。
20. 【請求項２０】 加圧体としてのダイヤフラムを有する
    ダイヤフラムポンプで構成されていることを特徴とする
    請求項１５ないし請求項１７のいずれか１項に記載の中
    間貯溜機構。
21. 【請求項２１】 処理液を供給する処理液供給源と、 処理液供給源から供給された処理液を一旦貯留し、所定
    の圧力で再び吐出する中間貯溜機構と、 この中間貯溜機構を作動させるための流体を、前記中間
    貯溜機構に供給するか、または前記中間貯留機構から除
    去するための流体供給機構と、 前記中間貯溜機構から吐出された処理液を用いて被処理
    体に所定の処理を施す処理部とを具備し、 前記中間貯溜機構は、 処理液の導入口と吐出口とを有し、導入口を通って導入
    された処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能
    な容器と、 この容器内に設けられ、前記流体供給機構から供給され
    た流体と処理液との間に介在し、この流体の圧力を処理
    液に作用させる加圧体とを有することを特徴とする処理
    装置。
22. 【請求項２２】 ２以上の中間貯溜機構を具備し、 さらにこの中間貯溜機構を選択的に切換えて処理液の吐
    出を連続的に行わせる切換弁を具備することを特徴とす
    る請求項２１に記載の処理装置。
23. 【請求項２３】 前記切換弁は、 任意の中間貯溜機構へ処理液を導入させる導入側切換弁
    と、 任意の中間貯溜機構から処理液を吐出させる吐出側切換
    弁とを有することを特徴とする請求項２２に記載の処理
    装置。
24. 【請求項２４】 前記導入側切換弁と吐出側切換弁を制
    御し、１の中間貯溜機構からの処理液の吐出を行ってい
    る最中に、他の中間貯溜機構への処理液の補給を行う切
    換弁制御装置を有することを特徴とする請求項２３に記
    載の処理装置。
25. 【請求項２５】 前記中間貯溜機構の容器には、処理液
    中の気体を脱気するための脱気機構が設けられているこ
    とを特徴とする請求項２２ないし請求項２４のいずれか
    １項に記載の処理装置。
26. 【請求項２６】 前記脱気機構は、前記容器に設けら
    れ、前記処理液中の気泡をこの容器外へ排出するための
    泡抜き口を有することを特徴とする請求項２５に記載の
    処理装置。
27. 【請求項２７】 前記脱気機構は、前記処理液の導入口
    に設けられ、導入される処理液の圧力を低下させること
    でこの処理液に溶存する気体を発泡させ、気泡を生成す
    る流路を有することを特徴とする請求項２６に記載の処
    理装置。
28. 【請求項２８】 処理液供給源から供給された処理液を
    複数の中間貯留機構に一旦貯留してから吐出する処理液
    供給方法であって、 １の中間貯留機構に貯留された処理液を吐出する工程
    と、 この１の中間貯留機構から処理液が吐出されている間
    に、他の１の中間貯留機構に処理液供給源から処理液を
    補給する工程と、 １の中間貯留機構からの処理液の吐出が終了したことに
    基づいて、他の１の中間貯留機構からの処理液の吐出を
    開始する工程とを具備することを特徴とする処理液供給
    方法。
29. 【請求項２９】 前記中間貯溜機構は、 処理液の導入口と吐出口とを有し、導入口を通って導入
    された処理液を貯溜し、かつこれを吐出することが可能
    な容器と、 この容器内に設けられ、前記流体供給機構から供給され
    た流体と処理液との間に介在し、この流体の圧力を処理
    液に作用させる加圧体とを有することを特徴とする処理
    液供給方法。
30. 【請求項３０】 さらに、中間貯留機構への処理液の補
    給後に処理液中の気泡を排気する泡抜き工程を有するこ
    とを特徴とする請求項２８または請求項２９に記載の処
    理液供給方法。