TW200813133A - Transparent antireflection plate - Google Patents
Transparent antireflection plate Download PDFInfo
- Publication number
- TW200813133A TW200813133A TW096123351A TW96123351A TW200813133A TW 200813133 A TW200813133 A TW 200813133A TW 096123351 A TW096123351 A TW 096123351A TW 96123351 A TW96123351 A TW 96123351A TW 200813133 A TW200813133 A TW 200813133A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- allyl
- allyl ester
- acid
- transparent
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
200813133 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種透明性、耐熱性、密著性及耐傷性 優異之防反射板。 【先前技術】 以往,使用於平面液晶顯示器等之透明電極基板、保 護板、偏向板等之透明性基材係以防止光之反射爲目的, 於基材之表面上設置防反射層。該防反射層係於基材表面 上形成約光之波長的厚度之薄膜,經由光之干涉效果,降 低反射率。 該等之防反射層係具有將低折射率之材料使用於單層 之單層構造與高折射率與低折射率之膜交互地組合的多層 構造。爲多層構造,則可防止廣泛的波長領域之反射,而 層越多,則透明性降低。 因此,作爲實施防反射層之防反射板的基材係可使用 聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯樹脂、聚甲基丙烯酸甲 酯等之透明性高的樹脂。 又,使用作爲該等之防反射板之基板的樹脂,除透明 性以外,可要求與防反射膜之密著性、耐傷性等,作爲此 等之具體値係期望玻璃轉移溫度爲200 °C以上,鉛筆硬度 爲3 Η以上。 作爲可要求於基材之耐熱性的理由係可舉例如防反射 層之形成時加熱,再者,於搭載汽車之液晶顯示器等如此 -5- 200813133 般於高溫環境下使用時。 然而,使用作爲以往基材之樹脂中,聚對苯二甲酸乙 二醇酯之玻璃轉移溫度係70 °C、聚甲基丙烯酸甲酯之玻璃 轉移溫度約100°c,耐熱性不一定充分。 另一方面,聚碳酸酯樹脂之玻璃轉移溫度係約1 40 °c ,相較於聚對苯二甲酸乙二醇酯與聚甲基丙烯酸甲酯,則 耐熱性比較優異。又,聚碳酸酯樹脂之表面硬度低,防反 射膜形成時容易刮傷,故更需要硬敷處理。 又,聚碳酸酯樹脂與聚對苯二甲酸乙二醇酯係與防反 射膜之密著性不能說是充分,依據情況,必須於基材與防 反射膜之間設置黏著層,該點亦爲生產步驟上之問題。 欲解決上述之此等的問題點,特開平9 — 1 200 02號公 報(專利文獻1)係揭示使用降冰片烯系樹脂之基材。降冰 片烯系樹脂係耐熱性及與防反射膜與之密著性優異,不進 行硬敷處理,可作爲防反射板。 又,降冰片烯系樹脂本身之鉛筆硬度係Η,不一定說 是具有充分的表面硬度。又,玻璃轉移溫度係1 60 °C ’耐 熱性亦不一定說是充分。 [專利文獻1]特開平9 一 120002號公報 【發明內容】 本發明係解決上述之此等的問題,以提供透明性、耐 熱性、密著性及耐傷性優異之防反射板爲目的。 本發明者們欲解決該課題而專心硏究之結果,經由使 -6 - 200813133 用作爲基材之烯丙酯樹脂,不僅比以往使用防反射板用樹 脂組成物時耐熱性更高,發現給與防反射膜之密著性、透 明性及耐傷性之優異特性,以完成本發明。 本發明係由以下[1]〜[9]之事項組成。 [1 ] 一種透明防反射板,其特徵爲於將烯丙酯樹脂組 成物硬化製得之烯丙酯樹脂板上,形成防反射層。 [2] 如該1之透明防反射板,其中烯丙酯樹脂組成物爲 以烯丙基及/或是甲代烯丙基作爲末端基、具有多元醇與 二羧酸所形成之酯構造的烯丙酯化合物。 [3] 如該2之透明防反射板,其中烯丙酯樹脂組成物尙 含有選自一般式(1) 【化1】 0
0 R2 (1) (式中,R1及R2係表示各自獨立之烯丙基或是甲代烯丙基 中任一種之基,A1係表示具有來自二羧酸之脂環式構造及 /或是芳香環構造之有機殘基)所表示之化合物中至少1種 以上之化合物。 [4]如該2之透明防反射板,其中烯丙酯化合物之至少 一種爲具有將一般式(2) 200813133 【化2】 R3、cAv〇\ ⑵ II \ 0 (式中,R3係表示烯丙基或是甲代烯丙基,A2係表示具有 來自二羧酸之脂環式構造及/或是芳香環構造之有機殘基) 所表不之基作爲末端基,且具有將一般式(3) 【化3】 Ο
II / 0 A、c/0\ ⑶ II \ 0 (式中,A3係表示具有來自二羧酸之脂環式構造及/或是芳 香環構造之有機殘基,X係表示多元醇衍生之有機殘基。 但是,X係經由酯鍵結,又可具有以該一般式(2)作爲末 端基、以該一般式(3)作爲構成單元之分鏈構造)所表示之 β構造作爲構成單元。 [5] 如該4之透明防反射板,其中該一般式(1)、(2)及 - (3)中二羧酸爲選自對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲 - 酸及1,4 一環己烷二羧酸所成群中之至少一種。 [6] 如該1〜5中任一項之透明防反射板,其中烯丙基 酯樹脂組成物尙含有反應性單體。 [7] 如該1〜6中任一項之透明防反射板,其中防反射 層之至少一種爲Si02或是Zr02所組成。 [8] —種液晶顯示裝置,其特徵爲使用如該1〜7中任 -8- 200813133 一項之透明防反射板。 [9]一種窗板,其特徵爲使用如該1〜7中任一項之透 明防反射板。 經由使用本發明之烯丙酯樹脂硬化物作爲基材’可提 供耐熱性、透明性優異之透明防反射板。又’密著性、耐 傷性亦優異,故於防反射層形成時,不設置硬敷層與黏著 層,可製造防反射板,亦提昇生產性。 [欲實施本發明之最佳形態] 以下,對於本發明之透明防反射板更詳細地說明。 [烯丙酯樹脂] 本發明之烯丙酯樹脂爲熱硬化性樹脂的一種。 一般而言,所謂「烯丙酯樹脂」係指硬化前之中間體 (含有低聚物與添加劑、單體)與表示該硬化物時之二種時 • ,而本發明說明書中「烯丙酯樹脂」係表示硬化物,「烯 丙酯樹脂組成物」係表示硬化前之中間體。 [烯丙酯樹脂組成物] 使用於本發明之防反射板的烯丙基酯樹脂組成物係含 有將烯丙基或是甲代烯丙基(以下,組合該兩者,稱爲( 甲基)烯丙基。)與具有酯構造之化合物作爲主要的硬化 成份之組成物。 具有(甲基)烯丙基與酯構造之化合物係經由 200813133 (1) 含有(甲基)烯丙基及羥基之化合物(於此,總稱爲 烯丙基醇)與含有羧基之化合物與之酯化反應、 (2) 含有(甲基)烯丙基及羧基之化合物與含有羥基之化 合物與之酯化反應或是 (3) 烯丙基醇與二羧酸所組成之酯化合物與多元醇與 之酯交換反應可製得。 (1)及(2)中之「含有羧基之化合物」爲二羧酸與二醇 與之聚酯低聚物時,僅末端亦可作爲烯丙基醇與之酯。 又,作爲(3)中「烯丙基醇與二羧酸組成之酯化合物 」之具體例係可舉例如選自下述一般式(1 ) 1 II R1、/C. ^0 【化4】 Ο 、C II 〇 R2 ⑴ 響 (式中’ R1及R2係表不各自獨立之燒丙基或是甲代燃丙基 中任一種之基,A1係表示具有來自二羧酸之脂環式構造及 /或是芳香環構造之有機殘基)所表示之化合物中至少1種 以上之化合物。該化合物係後述之烯丙酯低聚物的原料外 ,作爲反應性稀釋劑(反應性單體)係可被包含於本發明的 烯丙酯樹脂組成物。一般式(1)中A 1係與後述之一般式(2 ) 及(3)中之A2、與A3相同者爲佳。 本發明之烯丙酯樹脂組成物之主要的硬化成份之(甲 基)細丙基與具有醋構is之化合物係以嫌丙基及/或是甲代 -10- 200813133 烯丙基作爲末端基、具有多元醇與二羧酸所形成之酯構造 的烯丙酯化合物(以下,將此等記載爲「烯丙酯低聚物」 者)爲佳。 又,作爲該其他成份係可含有後述之硬化劑、反應性 單體、添加劑、其他之自由基反應性之樹脂成份等。 [烯丙酯低聚物] p 作爲本發明之烯丙酯低聚物係具有將下述一般式(2) 【化5】 Ο
. II R \ /C、2 ° AV°\ ⑵ II \ 0 (式中,R3係表示烯丙基或是甲代烯丙基,A2係表示具有 來自二羧酸之脂環式構造及/或是芳香環構造之有機殘基) • 所表示之基作爲末端基’且具有將下述一般式(3) 【化6】
〇 (式中,Α3係表示具有來自二羧酸之脂環式構造及/或是芳 香環構造之有機殘基’ X係表示多元醇衍生之有機殘基。 但是,X係經由酯鍵結’又可具有以該一般式(2)作爲末 -11 - 200813133 端基、以該一般式(3)作爲構成單元之分鏈構造)所表示之 構造作爲構成單元之化合物爲佳。 本發明之烯丙酯低聚物中前述一般式(2)所表示之末 端基數係至少2個以上,而前述一般式(3)中X具有分鏈構 造時爲3個以上。此時,各個末端基之R3亦存在複數個, 但是此等之各個R3係可不一定同種類,即使,某末端係 烯丙基、其他之末端係甲代烯丙基也沒關係。 p 又,全部之R3並非一定爲烯丙基或是甲代烯丙基, 於不損害硬化性之範圍下,其中一部份係可爲甲基或是乙 基等之非聚合性基。 A2表不之構造係可相同或是各個末端相異。例如,某 末端之A2係可稱爲苯環、其他係可稱爲環己環之構造。 一般式(2)中A2係來自二羧酸之脂環式構造及/或是芳 香環構造之有機殘基。來自二羧酸之部份係以連接於A2 之類基構造所表示。因此,A 2之部份係表示苯骨架與環己 φ 烷骨架。 作爲衍生A2構造之二羧酸係並不特別限制,對苯二 甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、1,4一環己烷二羧酸、 1,4 一萘二羧酸、1,5 -萘二羧酸、2,7 —萘二羧酸、二苯基 一 m,m’一二羧酸、二苯基—p,p’ 一二羧酸、二苯甲酮一 4,4’一二羧酸、p—苯撐二乙酸、p -羧基苯基乙酸、甲基 對苯二甲酸、四氮化鄰苯二甲酸爲佳,其中,對苯二甲酸 、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、1,4 —環己烷二羧酸爲特別 佳。 -12- 200813133 又,若不損害本發明之效果,則可使用馬來酸、富馬 酸、衣康酸、檸康酸、納迪克酸酐、氯菌酸酐等之非環狀 之二羧酸。 前述一般式(3)所表示之構成單元係必須爲烯丙酯低 聚物中至少1種,將該構造反覆,烯丙酯低聚物全體之分 子量大到某個程度,可得到適切的黏度,故作業性提昇, 且硬化物之韌性亦提昇爲佳。又,分子量過大,則交聯點 g 間分子量過大,故玻璃轉移溫度(T g)降低,耐熱性恐有降 低之虞。依據用途,調整適切的分子量爲重要。 烯丙酯低聚物之重量平均分子量係500〜200,000爲佳 ,1,0 0 0 〜1 0 0,0 0 0 爲更佳。 又,一般式(3)中 A3係表示具有來自二羧酸之脂環式 構造及/或是芳香環構造之有機殘基,該定義及最佳之化 合物的例係與一般式(2)中A2相同。 一般式(3)中X係表示由多元醇衍生之有機殘基。 φ 多元醇係具有2個以上之羥基的化合物,最佳爲具有2 個之羥基的化合物。X本身係表示多元醇之羥基以外之骨 架部份。 又,多元醇中之羥基係至少2個鍵結即可,故原料組 成之多元醇爲3價以上,即羥基爲3個以上時係可殘留未反 應之羥基。 作爲多元醇之具體例係可舉例如乙二醇、丙二醇、 1,3 —丙二醇、1,4 — 丁 二醇、1,3 一丁 二醇、1,5 —戊二醇 、新戊二醇、1,6—己二醇、1,4 一環己烷二甲醇、二乙二 -13- 200813133 醇、異氰酸之環氧乙烷加成物、異戊四醇、三環癸二甲醇 、甘油、三羥甲基丙烷、異戊四醇之環氧乙烷加成物、D -山梨糖醇及氫化雙酚A等。 作爲烯丙酯低聚物中一般式(3)所表示之構造單元係 同一之構成單元可反覆,或是可含有相異之構成單元。總 之,烯丙酯低聚物係可爲共聚合型。此時,一種之烯丙酯 低聚物係存在數種類之X。例如,X之一種係可來自丙二 醇之殘基,另一種之X係可來自三羥甲基丙烷之殘基“之 此等構造。此時,烯丙酯低聚物之三羥甲基丙烷殘基之部 份支化。Α3亦可存在相同地幾個種類。以下,R3表示爲烯 丙基,Α2,Α3表示爲來自間苯二甲酸之殘基,X表示爲丙 二醇與三羥甲基丙烷時之構造式之一例。
[硬化劑] 本發明之烯丙酯樹脂成勿係可使用硬化劑。作爲可使 用之硬化劑並不特別限制,一般可使用作爲聚合性樹脂之 硬化劑使用者。其中,由烯丙基之聚合開始的點,可期望 添加自由基聚合起始劑。作爲自由基聚合起始劑係可舉例 -14- 200813133 如有機過氧化物、光聚合起始劑、偶氮化合物等。其中, 由使本發明之烯丙酯樹脂組成物熱硬化之點看來,有機過 氧化物爲特別佳。 作爲有機過氧化物係可使用二烷基過氧化物、醯基過 氧化物、氫化過氧化物、酮過氧化物、過酸酯等之公知者 ,作爲具體例係可舉例如過氧化苯甲醯、1,1 一雙(t -丁基 過氧化)環己烷、2,2-雙(4,4 一二丁基過氧化環己基)丙烷 、t — 丁基過氧化一2 —乙基乙酸酯、2,5 —二甲基一2,5 — 二(t 一丁基過氧化)己烷、2,5 —二甲基一 2,5 —二(過氧化 苯甲醯)己烷、t一丁基過氧化安息香酸酯、t 一丁基肉桂基 過氧化物、P -甲基氫化過氧化物、t 一丁基氫化過氧化物 、異丙苯氫化過氧化物、二肉桂基過氧化物、二一 t 一丁 基過氧化物及2,5 -二甲基一 2,5 -二丁基過氧化己烷一 3 等。 又,作爲上述之光聚合起始劑係可舉例如2,2 -甲氧 基一 1,2 —二苯基乙烷一 1 一酮、1 一羥基環己基苯基酮、 二苯甲酮、2—甲基一 1 一(4 -甲硫基苯基)一 2—嗎啉基丙 烷一 1、2-苄基—2 —二甲基胺—1— (4 一嗎啉基苯基)一 丁酮—1、2 -羥基一 2 —甲基一 1 一苯基丙烷一1 一酮及 2,4,6—三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦等。 此等之自由基聚合起始劑係可使用1種或是混合2種以 上乃至組合。 此等之硬化物的添加量並不特別限制’;嫌丙酯樹脂組 成物100質量份中,添加〇·1〜1〇質量份爲佳’添加〇·5〜5 -15- 200813133 質量份爲較佳。硬化劑之添加量比〇. 1質量少’則不易製 得充分的硬化速度,而添加量超過10質量份,則最後的硬 化物易壞,機械強度降低。 [反應性單體] 本發明之烯丙酯樹脂組成物係以硬化速度之控制、黏 度調整(作業性之改善)、交聯密度之提昇、機能附加等爲 B 目的,亦可添加反應性單體(反應性烯釋劑)。 此等之反應性單體並不特別限制,可使用各種者,但 是欲與烯丙酯低聚物反應,具有乙烯基、烯丙基等之自由 基聚合性之碳-碳雙鍵結之單體爲佳。例如不飽和脂肪酸 酯、芳香族乙烯基化合物、飽和脂肪酸或是芳香族羧酸之 乙烯基酯及該衍生物、交聯性多官能單體等。其中,使用 交聯性多官能單體,則可控制硬化物之交聯密度。此等反 應性單體之最佳具體例,如以下所表示。 • 作爲不飽和脂肪酸酯係可舉例如甲基(甲基)丙烯酸酯 、乙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、2—乙基己 基(甲基)丙烯酸酯、辛基(甲基)丙烯酸酯、十二烷基(甲基 )丙烯酸酯、十八烷基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙嫌 酸酯及甲基環己基(甲基)丙烯酸酯等之烷基(甲基)丙嫌酸 酯; 苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、1一萘基 (甲基)丙烯酸酯、氟苯基(甲基)丙烯酸酯、氯代苯基(甲基 )丙烯酸酯、氰基苯基(甲基)丙烯酸酯、甲氧苯基(甲基)丙 -16- 200813133 烯酸酯及雙苯基(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸芳香族 酯; 氟甲基(甲基)丙烯酸酯及氯甲基(甲基)丙烯酸酯等之 全烷基(甲基)丙烯酸酯; 又,縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、烷基胺(甲基)丙烯 酸酯及^ -氰基丙烯酸酯等。 作爲芳香族乙烯基化合物係可舉例如苯乙烯、α -甲 基苯乙烯、氯代苯乙烯、苯乙烯膦酸、4-羥基苯乙烯及 乙烯基甲苯等。 作爲飽和脂肪酸或是芳香族羧酸之乙烯基酯及該衍生 物係可舉例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯及安息香酸乙烯酯 交聯性多官能單體係可舉例如乙二醇二(甲基)丙烯酸 酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯 酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙 烯酸酯、1,3— 丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4 一丁二醇二( 甲基)丙烯酸酯、1,5 —戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6 —己 二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、低 聚酯二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯二(甲基)丙烯酸酯、2,2 —雙(4 一(甲基)丙烯醯氧基苯基)丙烷及2,2 —雙(4 一(ω —( 甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基)丙烷等之二(甲基)丙烯酸 酯; 鄰苯二甲酸二烯丙酯、間苯二甲酸二烯丙酯、間苯二 甲酸二甲基烯丙酯、對苯二甲酸二烯丙酯、三偏苯三酸三 -17- 200813133 烯丙酯、2,6 —萘二羧酸二烯丙酯、1,5一萘二羧酸二烯丙 酯、1,4 一二甲苯二羧酸烯丙酯及4,4’ 一二苯基二羧酸二 烯丙酯等之芳香族羧酸二烯丙酯類; 環己烷二羧酸二烯丙酯及二乙烯基苯等之二官能之交 聯性單體; 三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三( 甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)烯 B 丙基三聚異氰酸酯、三(甲基)烯丙基三聚氰酸酯、三烯丙 基三苯六甲酸酯及二烯丙基氯菌酸酯等之三官能之交聯性 單體等; 尙有季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等之四官能之交聯性 單體等。 上述反應性單體係可使用單獨1種或是混合2種以上或 是組合。 此等之反應性單體的使用量並不特別限制,但是對於 Φ 烯丙酯低聚物1〇〇重量份而言,1〜1 000質量份爲佳,2〜 5 00質量份爲較佳,5質量份〜100質量份爲特別佳。反應 性單體之使用量未達1質量份,則黏度降低效果小、作業 性不佳,而反應性單體大量使用單官能單體時,交聯密度 降低,耐熱性不充分爲不佳。又,使用量超過1000質量份 ,則無法發現烯丙酯樹脂本身之優異的透明性或是來自烯 丙酯之機械強度降低爲不佳。 [自由基反應性之樹脂成份] -18- 200813133 本發明之烯丙酯樹脂組成物係可含有以改良各個物性 爲目的之自由基反應性之樹脂成份。作爲此等之樹脂成份 係可舉例如不飽和聚酯樹脂、乙烯酯樹脂等。 不飽和聚酯樹脂係將多元醇與不飽和多元酸(依據必 要爲飽和多元酸)與之酯化反應的縮合產產生物,依據必 要溶解於苯乙烯等之聚合不飽和化合物者,例如,可舉例 「聚酯樹脂手冊」日刊工業新聞社( 1 98 8年發行)第16〜18 p 頁及29〜3 7頁等之樹脂。該不飽和聚酯樹脂係可使用公知 之方法製造。 乙烯酯樹脂係指稱爲環氧化物(甲基)丙烯酸酯,具有 一般環氧樹脂代表之環氧基的化合物與具有(甲基)丙烯酸 等之聚合性不飽和基之羧基化合物之羧基與之開環反應產 生之具有聚合性不飽和基之樹脂或是具有羧基之化合物與 縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯等之分子內具有環氧基之聚合 性不飽和化合物之環氧基與之開環反應產生之具有聚合性 φ 不飽和基之樹脂。詳細而言之,記載於「聚酯樹脂手冊」 日刊工業新聞社( 1 988年發行)第3 3 6〜第3 5 7頁等。該乙烯 酯樹脂係可依據公知之方法製造。 作爲乙烯酯樹脂之原料組成的環氧樹脂係可舉例如雙 酚A二縮水甘油基醚及該高分子量同系物、雙酚A烷撐 氧化物加成物之縮水甘油基醚、雙酚F二縮水甘油基醚及 該高分子量同系物、雙酚F烷撐氧化物加成物之縮水甘油 基醚、鄰甲酚型聚甘油縮水甘油基醚類等。 該自由基反應性之樹脂組成物係可係可使用單獨1種 -19- 200813133 或是混合2種以上或是組合。 此等之自由基反應性之樹脂成份的使用量並不特別限 制,但是對於烯丙酯低聚物10 0質量份而言,1〜1 000質量 份爲佳,2〜5 00質量份爲較佳,5〜100質量份爲特別佳。 自由基反應性之樹脂成份的使用量未達1質量份,則 來自自由基反應性之樹脂成份的機械強度提昇等之效果小 、作業性不佳或是成形性不佳爲不佳。又,使用量超過 1 〇〇〇質量份,則無法展現烯丙酯樹脂本身之耐熱性爲不佳 [添加劑] 本發明之防反射板用烯丙酯樹脂組成物係以改良硬度 、強度、成形性、耐久性、耐水性爲目的,可依據必要添 加紫外線吸收劑、氧化防止劑、消泡劑、平滑平坦劑、離 型劑、滑劑、撥水劑、難燃劑、低收縮劑、交聯助劑等之 添加劑。 作爲氧化防止劑並不特別限制,係可使用一般使用者 。其中’自由基連鏈禁止劑之酚系氧化防止劑與胺系氧化 防止劑爲{ϋ,酣系羁化防止劑爲特別佳。作爲酣系氧化防 止劑係可舉例如2,6 — t - 丁基一 P 一甲酌、2,6一 t 一丁基_ 4 一乙基酚、2,2’ 一甲撐雙(4 一甲基一 6 — t一丁基酚)及 —三(2—甲基—4_羥基一 5—t — 丁基苯基)丁烷等。 作爲滑劑係並不特別限制,係可使用一般使用者。其 中’金屬石鹼系滑劑、脂肪酸酯系滑劑、脂肪族烴系滑劑 -20 - 200813133 等爲佳、金屬石鹼系滑劑爲特別佳。作爲金屬石鹼系滑劑 系可舉例如硬脂酸鋇、硬脂酸鈣、硬脂酸鋅、硬脂酸鎂及 硬脂酸鋁等。此等係可使用作爲複合體。 作爲紫外線吸收劑係並不特別限制,係可使用一般使 用者。其中,二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外 線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑爲佳,特別是二 苯甲酮系紫外線吸收劑爲佳。二苯甲酮系紫外線吸收劑係 瞻可舉例如2 -(2’―羥基—5,一甲基苯基)苯并三唑、2 -(2, 一羥基一 5’一丁基苯基)苯并三唑及2 -(2 -羥基一 3’一 tert -丁基苯基)苯并三唑等。 又,此等之添加劑並不限制於上述之具體例,於不阻 礙本發明之目的或是效果之範圍下,可以添加所有者。 [溶劑] 又,本發明之防反射板用烯丙酯樹脂組成物硬化時, • 經由硬化之方法必須使黏度降低,即使不使用溶劑也沒關 係。但是,之後,必須除去溶劑,故黏度係使用前述之反 應性單體調整爲佳。 作爲可使用於黏度調整之溶劑係可舉例如甲苯、二甲 苯等之芳香族烴類、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙 酸丁酯等之乙酸酯類、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮 等之酮類、四氫呋喃、1,4 一二噁烷等之醚類、乙醇、(異) 丙醇、丁醇等之醇類等。 -21 - 200813133 [烯丙酯樹脂組成物之黏度] 該硬化性樹脂之黏度之測定方法係可使用依據JIS K6901之方法測定。 本發明之防反射板用烯丙酯樹脂組成物之黏度並不特 別限制,適用於成形時之方法的黏度爲佳。 例如,注膜成形時,25 °C時之黏度爲0.01〜1,〇〇〇 Pa · s之範圍爲佳。黏度比0 · 0 1 Pa · s低或是比1,0 〇 〇 pa · s高 p ,則作業性不佳。 又,例如遞模成形時,80 °C時之黏度爲0.01〜1,〇〇〇 Pa*s之範圍爲佳。80°C時之黏度比0·01 Pa*s低或是比 1,000 Pa*s高,則成形不佳之可能性高爲不佳。 [烯丙酯樹脂硬化物] 烯丙酯樹脂組成物係將前述之烯丙酯低聚物、反應性 單體、硬化劑、各種添加劑,使用公知之方法,經由混合 • 可製得。該組成物係使用熱與紫外線、電子線,經由滾軸 、旋轉塗佈機等之塗佈機、注膜成形法、光學成形法等之 硬化方法,可使其硬化。 又,烯丙酯樹脂硬化物之形狀係經由該成形方法,製 得薄膜狀或是片狀。厚度並不特別限制,一般爲〇 〇〇1〜 10 mm,最佳爲 0.005 〜3 mm。 本發明脂烯丙酯樹脂組成物成形時之硬化溫度,約3 〇 〜150°C,最佳爲40〜130°C。考慮到硬化時之收縮與變形 ’則緩緩昇溫硬化之方法爲佳。 -22- 200813133 硬化所需之時間,一般花費〇·5〜100小時,最佳花費 2〜30小時硬化爲佳。 [防反射板] 本發明之反射板係於前述烯丙酯樹脂硬化物組成之基 板上,形成防反射層。 防反射層係亦將防反射膜以單層成形時,一般而言, p 由欲製得目的之防反射特性之特定的光學膜厚nd(折射率 nx形狀膜厚d)之層構成,將高折射率層與低折射率層可 使用交互地多數層合。 該防反射層之厚度係發現防反射性能,則不特別限制 ,最佳爲〇、〇〇5〜5 μηι。皮膜之厚度未達0.005 μπι時’使 基材完全密著不易,產生均勻性之問題。又,厚度超過5 μιη,則膜過厚透明性降低。 作爲防反射膜係應盡量使用公知之膜,作爲可構成之 φ 成份係可使用例如氧化鈦、氧化鉻、氧化鈮、氧化金合、 氧化鈽、氧化矽、氟化鎂、氧化鋁等。 此等之中,因爲烯丙酯樹脂組成物與之密著性優異的 點,氧化矽(Si02)、氧化鉻(Zr02)之防反射膜較佳。 作爲形成防反射膜之方法係可舉例如陰極噴鍍法、離 子披覆法、真空蒸鍍法等。又,成膜時之基材加熱溫度係 於基材之熱變形溫度以下進行爲佳。 陰極噴鍍法係可使用氧化物靶之一般的陰極噴鍍法或 是使用金屬靶之反應性陰極噴鍍法等。此時,作爲反應性 -23- 200813133 玻璃係可導入氧、氮等或是合倂使用添加臭氧、離子輔助 等之方法。又,以不損害本發明之目的之範圍下,可於基 材上外加直流、交流、高頻等之乖離率(BIAS)。 本發明之防反射板係可使用作爲液晶顯示等各種顯示 元件薄膜、保護板、偏光板、防眩薄膜、相位差薄膜、透 明導電性板與汽車之儀表的保護玻璃板替代板等。 【實施方式】 實施例 以下,舉出實施例及比較例,更進一步說明本發明, 但本發明經由此等之記載並不特別限定。 又,本實施例及比較例記載之測量値係使用以下之方 法測定。 [玻璃轉移溫度之測定] 玻璃轉移溫度(Tg)之測定係使用伺服分析器TMA -50(島津製作所(股份有限公司)製作),於TMA法(熱機械 分析法)之壓縮模式下進行測量。試驗片之規格係使用3x8 x8(mm),於氮之環境下(流量50 mL/分),以昇溫速度5t: / 分至260 °C爲止提昇溫度後,冷卻至30 °C爲止,再度以昇 溫速度5 °C /分至3 0〜3 0 0 °C之間,測定線膨脹係數,經由求 得該不連續點決定。 [膠帶剝離試驗] -24- 200813133 於防反射板之‘表面上,使用切割刀製作之 大小的網格100格,依據 JIS — D — 0202,進行將膠帶與基 材表面密著後剝離之膠帶剝離實驗。判定係1 00格內,以 不剝離之網格數表示,防反射膜不剝離時表示爲100/100 ,完全剝離時表示爲0/100。 「鉛筆硬度」 防反射板之鉛筆硬度,依據ns— K6 894評價。 [全光線透過率] 將防反射板(3 0 m m X 3 0 m m X 3 m m)之試驗片,使用日本 電色工業(股份有限公司)製作之濁度計NDH200,依據JIS K73 6 1 — 1進行測定° [合成例1] 於設置有蒸餾裝置之容量2毫升的三口燒瓶中,加入 二烯丙基對苯二甲酸酯1 625g、丙二醇167g、二丁基氧化 錫0.8 1 3 g,於氮氣流下,加熱爲1 8 (TC,餾去產生之烯丙 醇使其反應。餾去之醇約爲170g時,將反應系內花4小時 減壓至6.6kpa,使醇之餾出速度加速。餾出液幾乎不餾出 時,將反應系內減壓爲0.5kPa,再使其反應1小時後,冷 卻反應物。將該反應式表示如下述。 -25- 200813133 【化8】 Ο
以下,經由此等製得之反應物作爲「低聚物(1)」。 [合成例2] 於裝置有蒸餾裝置之容量2毫升的三口燒瓶中,加入 1,4 —環己烷二羧酸二烯丙基1400g、三羥甲基丙烷165.4g 、二丁基氧化錫1.40 g,於氮氣流下,加熱爲180 °C,餾 去產生之烯丙醇使其反應。餾去之醇約爲150g時,將反 應系內花費4小時減壓至6.6 kpa,使醇之餾出速度加速。 餾出液幾乎不餾出時,將反應系內減壓爲0.5 kPa,再使 其反應1小時後,冷卻反應物。以下,經由此等製得之反 應物作爲「低聚物(2)」。 [實施例1] 對於合成例1製作之低聚物(1)1 00質量份而言’加入 PERHEXA TMH(商品名:日本油脂股份有限公司製作)3質 量份,充分攪拌,於2片之玻璃板間,夾入3 mm之矽橡膠 間隔物流入鑄型,於大氣環境下之開放中,於8 〇 °C下保持 2小時,花8小時由80°C至l〇〇°C爲止昇溫,於l〇〇°C下保持 -26- 200813133 2小時,花費4小時由100°C至120°C爲止昇溫,於120°(:下 保持2小時之昇溫條件下使其硬化,製作樹脂板。測定該 硬化物之Tg時,爲273 °C。 將該樹脂板,設置於真空蒸鍍器內,經由真空蒸鍍法 形成防反射膜2層。第一層係Zr02(膜厚120 nm)、第二層 係 Si02(膜厚 85 nm)。 又,各層之蒸鍍材料的加熱·蒸發係使用電子束進行 ,真空槽內部經常以真空度1 X 1 (Γ3 P a之方法與真空計連 動,控制電磁閥,調整導入氧量。 製得之防反射板之膠帶剝離試驗係1 00/1 00,密著性 爲佳。又,鉛筆硬度係4H,全光線透過率係95.7%。 [實施例2] 取代低聚物(1),使用以合成例2製作之低聚物(2)以外 ,使用與實施例1相同之方法製作樹脂板。測定該硬化物 之Tg時,爲3 13°C。 又,使用與實施例1相同之方法,於該樹脂板層合2層 之防反射板。第一層係Zr〇2層(膜厚90 nm)、第二層係 Si02層(膜厚 85 nm)。 製得之防反射板的膠帶剝離試驗係1 0 0/ 1 0 0,密著性 爲佳。又,鉛筆硬度係4H,全光線透過率係97.7%。 [比較例1] 於市售之聚碳酸酯製作樹脂板(Tg: 145 °C )上,使用與 -27· 200813133 實施例1相同之方法層合2層之防反射板。第一層係 膜厚75 nm)、第二層係Si〇2(膜厚83 nm)。 製得之防反射板之膠帶剝離試驗係0 /1 0 0,密 佳。又,鉛筆硬度係HB,全光線透過率係93.8%。 產業上之可利用性 本發明之防反射板係可使用作爲液晶顯示等各 元件薄膜、保護板、偏光板、防眩薄膜、相位差薄 明導電性板與汽車之儀表的保護玻璃板替代板等。 Z r 0 2 ( 著性爲 種顯示 膜、透
-28-
Claims (1)
- 200813133 十、申請專利範圍 1 ·一種透明防反射板,其特徵爲於將烯丙酯樹脂組成 物硬化製得之烯丙酯樹脂板上,形成防反射層。 2·如申請專利範圍第1項之透明防反射板,其中烯丙 酯樹脂組成物爲以烯丙基及/或是甲代烯丙基作爲末端基 、具有多元醇與二羧酸所形成之酯構造的烯丙酯化合物。 3·如申請專利範圍第2項之透明防反射板,其中烯丙 酯樹脂組成物尙含有選自一般式(1 ) 【化1】 0 1 HRVa 、C II 〇 〆〇、 R2 ⑴ (式中,R1及R2係表示各自獨立之烯丙基或是甲代烯丙基 中任一種之基,A1係表示具有來自二竣酸之脂環式構造及 # /或是芳香環構造之有機殘基)所表示之化合物中至少1種 以上之化合物。 4.如申請專利範圍第2項之透明防反射板,其中烯丙 酯化合物之至少一種爲具有將一般式(2) 【化2】 R \〇〜γΟ (2) II \ 0 -29- 200813133 (式中,R3係表示烯丙基或是甲代烯丙基,A2係表示具有 來自二羧酸之脂環式構造及/或是芳香環構造之有機殘基) 所表示之基作爲末端基, 且具有將一般式(3) 【化3】 Ο /、0/C、a3、c/0 ⑶ • 0 (式中’ A3係表示具有來自二羧酸之脂環式構造及/或是芳 香環構造之有機殘基,X係表示多元醇衍生之有機殘基。 但是’ X係經由酯鍵結,又可具有以該一般式(2)作爲末 端基、以該一般式(3)作爲構成單元之分鏈構造)所表示之 構造作爲構成單元。 5 ·如申請專利範圍第4項之透明防反射板,其中該一 ® 般式U)、(2)及(3)中二羧酸爲選自對苯二甲酸、間苯二甲 酸、鄰苯二甲酸及1,4 一環己烷二甲酸所成群中之至少一 ‘種。 6·如申請專利範圍第i項〜第5項中任一項之透明防反 射板,其中烯丙基酯樹脂組成物尙含有反應性單體。 7 ·如申請專利範圍第1項〜第5項中任一項之透明防反 射板,其中防反射層之至少一種爲Si02或是Zr02所組成 〇 8 · —種液晶顯示裝置,其特徵爲使用如申請專利範圍 -30- 200813133 第1項〜第5項中任一項之透明防反射板。 9.一種窗板,其特徵爲使用如申請專利範圍第1項〜 第5項中任一項之透明防反射板。-31 - 200813133 明 說 單 無簡 &U :# 為符 圖件 表元 代之 定圖 :指表 圖案代 表本本 無 代 /"N 定一二 指c C 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式: 0 1 II (1) R \人1 〇 A1、/0、 ◦ \r2 II n 〇 -4-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006195720 | 2006-07-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200813133A true TW200813133A (en) | 2008-03-16 |
Family
ID=38749819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW096123351A TW200813133A (en) | 2006-07-18 | 2007-06-27 | Transparent antireflection plate |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW200813133A (zh) |
WO (1) | WO2008010588A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5189379B2 (ja) | 2008-02-20 | 2013-04-24 | リンテック株式会社 | 樹脂組成物及びこれを用いたフィルム、ならびにフィルムの製造方法 |
DE102009055059B4 (de) | 2009-12-21 | 2023-02-02 | Robert Bosch Gmbh | Reduzieren des Lenkmoments bei Bremsmanövern |
WO2014133052A1 (ja) | 2013-02-28 | 2014-09-04 | 昭和電工株式会社 | 硬化性組成物、透明耐熱材料及びその用途 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09120002A (ja) * | 1995-10-24 | 1997-05-06 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 反射防止フィルム |
US6224976B1 (en) * | 1996-08-14 | 2001-05-01 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Adhesive transparent resin and a composite including the same |
JP4220232B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2009-02-04 | Hoya株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
-
2007
- 2007-06-27 TW TW096123351A patent/TW200813133A/zh unknown
- 2007-07-17 WO PCT/JP2007/064394 patent/WO2008010588A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008010588A1 (en) | 2008-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109791224B (zh) | 光学用聚酯膜和透明导电性膜 | |
TW201033240A (en) | Curable resin composition, coating, and plastic molded object | |
TWI589439B (zh) | Laminated film and molded body | |
CN109641436B (zh) | 二阶段固化性叠层板 | |
TWI576374B (zh) | And a method for producing a hardened resin molded article | |
JP6755184B2 (ja) | 光制御パネル及び光結像装置 | |
JP2018128570A (ja) | 光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法 | |
TW200813133A (en) | Transparent antireflection plate | |
JP5090040B2 (ja) | 透明導電性基板 | |
JP5895005B2 (ja) | 積層体 | |
JP2021067875A (ja) | 光制御パネルの製造方法及び光学結像装置の製造方法 | |
JP6832199B2 (ja) | 光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法 | |
JP5186144B2 (ja) | 透明反射防止板 | |
TW201731887A (zh) | 金剛烷系聚合物、樹脂組成物、及硬塗薄膜 | |
TWI412576B (zh) | Transparent conductive substrate | |
JP7265960B2 (ja) | 透明樹脂積層体並びにそれを用いた透明基板材料及び透明保護材料 | |
JP6524999B2 (ja) | 樹脂フィルム又はシート形成用光硬化型組成物 | |
JP2018072644A (ja) | 光学結像装置およびその製造方法 | |
JP6175338B2 (ja) | 光学積層体シートの製造方法 | |
JP2017024227A (ja) | 成形物の製造方法、並びにそれに用いるプラスチックシート及びプラスチックシートロールの製造方法 | |
JP3799990B2 (ja) | 破損しにくいプラスチックシート及びそれを用いた積層体 | |
US20230241874A1 (en) | Resin sheet for molding and molded article using same | |
JP2016128231A (ja) | 金属膜を有する樹脂シートの製造方法 |