JP2018128570A - 光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】結像品質に優れた光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法を提供する。【解決手段】可視光が透過可能な複数の光透過部２，２と、隣り合う光透過部２，２の間に形成された反射層３とを備えた光制御パネル１。反射層３の両面は、それぞれ隣り合う光透過部２，２の一方および他方に直接接して光透過部２を通る可視光を反射する光反射面である。光透過部２は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなる。【選択図】図１

Description

本発明は、光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法に関する。

従来、内部に複数の帯状の光反射部を有する２つの光制御パネルを、光反射部が直交するように向かい合わせて配置した光学結像装置がある。
光学結像装置では、一方側から入射した光は光反射部で反射しつつ光制御パネルを通過し、他方側の空間に収束して立体像を映し出すことができる（例えば、特許文献１を参照）。また、前記光学結像装置では、アルミニウムや銀を成膜することで反射機能を付与したプラスチック基材が用いられていることもある（例えば、特許文献２を参照）。そのため、光学結像装置は立体表示機器、ゲーム機、遊戯機器、広告塔等に応用されている。

特許第５４３７４３６号公報 国際公開第２０１６／０８８５８０号

従来の光制御パネルでは、光反射部が結像品質に悪影響を与えることがあった。
本発明の一態様は、結像品質に優れた光制御パネルおよび光学結像装置ならびに光制御パネルの製造方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様は以下の［１］〜［７］に関する。
［１］可視光が透過可能な複数の光透過部と、隣り合う前記光透過部の間に形成された反射層とを備え、前記反射層の両面は、それぞれ前記隣り合う光透過部の一方および他方に直接接して前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面であり、前記光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなる光制御パネル。
［２］前記アリルエステル樹脂組成物が、一般式（２）

（式中、Ｒ^３はアリル基またはメタリル基を表し、Ａ^２はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する１種以上の有機残基を表す。）で示される基を末端基として有し、かつ一般式（３）

（式中、Ａ^３はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する一種以上の有機残基を表し、Ｘは多価アルコールから誘導された一種以上の有機残基を表す。ただし、Ｘはエステル結合によって、さらに前記一般式（２）を末端基とし、前記一般式（３）を構成単位とする分岐構造を有することができる。）で示される構造を構成単位として有するアリルエステルオリゴマーを含むものである前項１に記載の光制御パネル。
［３］前記反射層は、アルミニウム、銀及びクロムから選択される金属からなる金属膜を有する前項１または２に記載の光制御パネル。
［４］前項１〜３のうちいずれかに記載の光制御パネルを少なくとも一対有し、前記一対の光制御パネルは、厚さ方向から見て少なくとも一部が重なり、重なり領域において前記反射層が交差するように配置されている光学結像装置。
［５］少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなり、可視光が透過可能な第１の透明基材の両面に反射層を形成して第１積層体とする工程と、前記第１積層体の一方の面に、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物からなる半硬化の樹脂組成物層を形成して第２積層体とする工程と、複数の前記第２積層体を、前記半硬化の樹脂組成物層が形成された面と前記半硬化の樹脂組成物層が形成されていない面とが当接するように積層させて複層積層体とする工程と、前記半硬化の樹脂組成物層を硬化させて第２の透明基材を得る工程と、前記複層積層体を、前記第１および第２の透明基材に対して交差する面に沿って切断することにより、前記第１の透明基材から切り出された光透過部と前記第２の透明基材から切り出された光透過部との間に前記反射層が形成され、前記反射層の両面がそれぞれ前記光透過部に接して前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面であり、前記光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなる光制御パネルを得る工程と、を有する光制御パネルの製造方法。
［６］前記半硬化の樹脂組成物層のゲル分率が２０〜９０％である前項５に記載の光制御パネルの製造方法。
［７］前記第１積層体の第１の透明基材に用いるアリルエステル樹脂組成物と、前記第２積層体の半硬化の樹脂組成物層に用いるアリルエステル樹脂組成物とが同一である前項５または６に記載の光制御パネルの製造方法。

本発明の一態様によれば、反射層の両面がそれぞれ光透過部に接しているため、反射層の両面をいずれも光反射面として機能させることができる。そのため、反射層を薄く形成して光の損失を最小化し、結像品質を高めることができる。また、反射層の両面をいずれも光反射面として機能させることができるため、光制御パネルの構造を簡略にでき、材料コスト削減が可能となる。
また、反射層の両面をいずれも光反射面として機能させるため、反射層を薄くできる。よって、光透過部を厚く形成し、光線透過率を高めることができる。そのため、明るい立体像が得られる。さらに、反射層を薄くできるため、光透過部の多層化による立体像の高精細化が可能である。

本発明の一態様によれば、光透過部が、可視光の光線透過率が高いアリルエステル樹脂組成物の硬化物で形成されているため、全光線透過率などの光学特性が良好となる。よって、結像品質の点で優れた光学結像装置が得られる。また、アリルエステル樹脂は耐光性に優れているため、光学結像装置の耐久性を高めることができる。

実施形態の光学結像装置を模式的に示す分解斜視図である。 図１の光学結像装置を模式的に示す斜視図である。 光制御パネルを示す斜視図である。 図３の光制御パネルを拡大して示す斜視図である。 図３の光制御パネルの製造工程を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。 光制御パネルの製造工程の比較例を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。 前図に続く製造工程を示す説明図である。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
＜光学結像装置＞
図１は、実施形態の光学結像装置を模式的に示す分解斜視図である。図２は、光学結像装置１０を模式的に示す斜視図である。
図１および図２に示すように、光学結像装置１０は、向かい合う一対の光制御パネル１，１と、光制御パネル１，１の外面側にそれぞれ設けられた透明保護層６，６とを備えている。以下、２つの光制御パネル１，１をそれぞれ第１の光制御パネル１Ａ、第２の光制御パネル１Ｂという。
光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）は、接着層７を介して固定されている。光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）と透明保護層６，６とは、接着層８，８を介して固定されている。

［光制御パネル］
図３および図４に示すように、光制御パネル１は、複数の光透過部２と、複数の反射層３とを備えている。
以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を採用することがある。Ｘ方向は複数の光透過部２の並び方向である。Ｙ方向は光制御パネル１の第１主面１ａに沿う面内においてＸ方向と直交する方向である。Ｚ方向は、Ｘ方向およびＹ方向に直交する方向であり、光制御パネル１の厚み方向である。平面視とは、光制御パネル１の厚み方向（Ｚ方向）から見ることをいう。
複数の光透過部２と、複数の反射層３とは、Ｘ方向に交互に配置されている。

［光透過部］
光透過部２は、ＸＺ断面が矩形であってＹ方向に延在する形状とされている。複数の光透過部２は、長さ方向を揃えて幅方向（Ｘ方向）に並べられている。光透過部２は、可視光が透過可能とされた透明層である。光透過部２は、可視光が全波長範囲において透過可能であることが好ましい。

光透過部２の第１主面２ａおよびその反対面である第２主面２ｂはＸＹ平面に沿う面である。第１主面２ａは光制御パネル１の第１主面１ａに含まれる面である。第２主面２ｂは、光制御パネル１の第１主面１ａの反対面である第２主面１ｂに含まれる面である。光透過部２の側面２ｃは、隣り合う光透過部２に対向する面であり、ＹＺ平面に沿う面である。

光制御パネル１の反射層３の間隔は、ほぼ光透過部２の並び方向（Ｘ方向）の寸法に相当し、その寸法（例えば図４における光透過部２の幅Ｗ１）は０．２〜０．５ｍｍが好ましい。複数の光透過部２の幅Ｗ１は、互いに等しいことが好ましい。

光透過部２の表面硬度は鉛筆硬度で２Ｈ以上が好ましい。表面硬度が鉛筆硬度で２Ｈ以上であると、作業工程上で傷がつくなどの不具合が生じにくくなる。
また、光透過部２には前述の鉛筆硬度の他にも、全光線透過率が高いこと、ヘイズ値（曇価）が低いことが望まれる。それにより光制御パネルに用いた際に、高精細な反射像が得られる。全光線透過率は好ましくは９０％以上であり、さらに好ましく９１％以上である。ヘイズ値は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。

高精細な画像を得る点では「アッベ数」および「平滑性」も重要な特性となる。アッベ数は屈折率の波長依存性を示す数値であり、光透過部２のアッベ数が低すぎると像が不鮮明になる可能性がある。光透過部２のアッベ数は好ましくは４０以上であり、さらに好ましくは５０以上である。

平滑性は特に金属膜４を製膜した面（図４における側面２ｃ）で重要であり、平滑性が低すぎると像がぼやけたように見え、質感を損なう可能性がある。平滑性は算術平均粗さ「Ｒａ」で表した場合に、好ましくは１０ｎｍ未満、さらに好ましくは５ｎｍ未満、特に好ましいのは２ｎｍ未満である。
さらに、ハンドリング性の点で、光透過部２の比重は低い方が好ましい。

［アリルエステル樹脂］
光透過部２は、アリルエステル樹脂組成物の硬化物で形成されている。アリルエステル樹脂は熱硬化性樹脂の１種である。アリルエステル樹脂組成物の硬化物で形成された光透過部２は、透明性に優れ、表面硬度および強度も高い。
一般的に、「アリルエステル樹脂」というと硬化する前のプレポリマー（オリゴマーや添加剤、モノマーを含む）を指す場合とその硬化物を示す場合の二通りの場合があるが、本明細書中では「アリルエステル樹脂」は硬化物を示し、「アリルエステル樹脂組成物」は硬化前のプレポリマーを示すものとする。

［アリルエステル樹脂組成物］
アリルエステル樹脂組成物は、アリル基またはメタリル基（以降、あわせて（メタ）アリル基と言う場合がある。）とエステル構造を有する化合物を主な硬化成分として含有する組成物である。

（メタ）アリル基とエステル構造を有する化合物は、［１］（メタ）アリル基及び水酸基を含む化合物（ここではアリルアルコールと総称する）とカルボキシル基を含む化合物とのエステル化反応、［２］（メタ）アリル基及びカルボキシル基を含む化合物と水酸基を含む化合物とのエステル化反応、または［３］アリルアルコールとジカルボン酸からなるエステル化合物と多価アルコールとのエステル交換反応により得ることができる。カルボキシル基を含む化合物がジカルボン酸とジオールとのポリエステルオリゴマーである場合には、末端のみアリルアルコールとのエステルとすることもできる。

（メタ）アリルアルコールとジカルボン酸からなるエステル化合物の具体例としては、下記一般式（１）

（Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立してアリル基またはメタリル基のいずれかの基を表し、Ａ^１はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する１種以上の有機残基を表す。）
で表される化合物の中から選ばれる少なくとも１種以上の化合物が挙げられる。この化合物は後述のアリルエステルオリゴマーの原料となるほか、反応性希釈剤（反応性モノマー）としてアリルエステル樹脂組成物に含まれてもよい。一般式（１）中のＡ^１は後述の一般式（２）、一般式（３）におけるＡ^２、Ａ^３と同様のものが好ましい。

アリルエステル樹脂組成物の主な硬化成分である（メタ）アリル基とエステル構造を有する化合物としては、アリル基及びメタリル基の少なくともいずれか一方を末端基とし、多価アルコールとジカルボン酸とから形成されたエステル構造を有するアリルエステル化合物（以下、これを「アリルエステルオリゴマー」と記載することがある。）であることが好ましい。
また、その他の成分として、後述する硬化剤、反応性モノマー、添加剤、その他ラジカル反応性の樹脂成分等を含有してもよい。

［アリルエステルオリゴマー］
アリルエステルオリゴマーとしては、下記一般式（２）で表される基を末端基として有し、かつ下記一般式（３）で表される構造を構成単位として有する化合物が好ましい。

（式中、Ｒ^３はアリル基またはメタリル基を表し、Ａ^２はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する１種以上の有機残基を表す。）

（式中、Ａ^３はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する１種以上の有機残基を表し、Ｘは多価アルコールから誘導された１種以上の有機残基を表す。ただし、Ｘはエステル結合によって、さらに前記一般式（２）を末端基とし、前記一般式（３）を構成単位とする分岐構造を有することができる。）

アリルエステルオリゴマーにおいて、前記一般式（２）で示される末端基の数は少なくとも２個以上であるが、前記一般式（３）のＸが分岐構造を有する場合には３個以上となる。この場合、各末端基のＲ^３も複数個存在することになるが、これらの各Ｒ^３は必ずしも同じ種類でなくてもよく、ある末端はアリル基、他の末端はメタリル基という構造であっても構わない。

また、全てのＲ^３がアリル基またはメタリル基でなければならないということはなく、硬化性を損なわない範囲で、その一部がメチル基またはエチル基等の非重合性基であってもよい。

Ａ^２で示される構造についても同様に、各末端基で異なっていてもよい。例えば、ある末端のＡ^２はベンゼン環、他方はシクロヘキサン環という構造であってもよい。
一般式（２）におけるＡ^２はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する１種以上の有機残基である。ジカルボン酸に由来する部分はＡ^２に隣接するカルボニル構造で示されている。従って、Ａ^２の部分はベンゼン骨格やシクロヘキサン骨格を示す。

Ａ^２構造を誘導するジカルボン酸としては特に制限はないが、原料の入手しやすさの点からは、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニル−ｍ，ｍ’−ジカルボン酸、ジフェニル−ｐ，ｐ’−ジカルボン酸、ベンゾフェノン−４，４’−ジカルボン酸、ｐ−フェニレンジ酢酸、ｐ−カルボキシフェニル酢酸、メチルテレフタル酸、テトラクロルフタル酸が好ましく、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸が特に好ましい。

また、本発明の効果を損なわない範囲であれば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、無水エンディック酸、無水クロレンド酸等の（反応時において）非環状のジカルボン酸を使用してもよい。

一般式（３）で示される構造単位は、アリルエステルオリゴマー中に少なくとも１つは必要であるが、この構造が繰り返されることによりアリルエステルオリゴマー全体の分子量がある程度大きくなった方が適切な粘度が得られるので作業性が向上し、硬化物の靭性も向上するので好ましい。しかし、分子量が大きくなりすぎると架橋点間分子量が大きくなりすぎるため、Ｔｇが低下し、耐熱性が低下するおそれもある。用途に応じて適切な分子量に調整することが大切である。

アリルエステルオリゴマーの重量平均分子量は５００〜２００，０００が好ましく、１，０００〜１００，０００がさらに好ましい。
また、一般式（３）におけるＡ^３はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する１種以上の有機残基であり、その定義及び好ましい化合物の例は一般式（２）におけるＡ^２と同様である。

一般式（３）中のＸは、多価アルコールから誘導された１種以上の有機残基を表す。
多価アルコールとは２個以上の水酸基を有する化合物であり、Ｘ自体は、多価アルコールの水酸基以外の骨格部分を示す。
また、多価アルコール中の水酸基は少なくとも２個が結合していればよいため、原料となる多価アルコールが３価以上、すなわち、水酸基が３個以上のときは、未反応の水酸基が残っていてもよい。

多価アルコールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、イソシアヌル酸のエチレンオキシド３モル付加体、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメタノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのエチレンオキシド３モル付加体、Ｄ−ソルビトール及び水素化ビスフェノールＡ等が挙げられる。これらの化合物の製造方法としては特に制限はないが、例えば特公平６−７４２３９号公報に挙げられる方法で製造することができる。

アリルエステルオリゴマー中の一般式（３）で示される構造単位としては、同一の構造単位が繰り返されていてもよいが、異なる構造単位が含まれていてもよい。つまり、アリルエステルオリゴマーは共重合タイプであってもよい。この場合、１つのアリルエステルオリゴマーには数種類のＸが存在することになる。例えば、Ｘの１つがプロピレングリコール由来の残基、もう１つのＸがトリメチロールプロパン由来の残基であるというような構造でもよい。この場合、アリルエステルオリゴマーはトリメチロールプロパン残基の部分で枝分かれすることになる。Ａ^３も同様にいくつかの種類が存在してもよい。以下にＲ^３がアリル基、Ａ^２，Ａ^３がイソフタル酸由来の残基、Ｘがプロピレングリコールとトリメチロールプロパンの場合の構造式を示す。

［硬化剤］
アリルエステル樹脂組成物には硬化剤を使用してもよい。使用できる硬化剤としては特に制限はなく、一般に重合性樹脂の硬化剤として用いられているものを用いることができる。中でも、アリル基の重合開始の点からラジカル重合開始剤を添加することが望ましい。ラジカル重合開始剤としては、有機過酸化物、光重合開始剤、アゾ化合物等が挙げられる。

有機過酸化物としては、ジアルキルパーオキサイド、アシルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ケトンパーオキサイド、パーオキシエステル等の公知のものが使用可能であり、その具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（４，４−ジブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサネート、２，５−ジメチル２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ｐ−メチルハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート及び２，５−ジメチル−２，５−ジブチルパーオキシヘキシン−３等が挙げられる。

また、上記の光重合開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン及び２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
これらのラジカル重合開始剤は１種を単独で、または２種以上を混合または組み合わせて用いてもよい。

これらの硬化剤の配合量には特に制限はないが、アリルエステル樹脂組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部配合することが好ましく、０．５〜５質量部配合することがより好ましい。硬化剤の配合量が０．１質量部より少ないと充分な硬化速度が得ることが困難であり、また配合量が１０質量部を超えると、最終的な硬化物がもろくなり、機械強度が低下する場合がある。

［反応性モノマー］
アリルエステル樹脂組成物には、硬化反応速度のコントロール、粘度調整（作業性の改善）、架橋密度の向上、機能付加等を目的として、反応性モノマー（反応性希釈剤）を加えることもできる。
これらの反応性モノマーとしては特に制限はなく、種々のものが使用できるが、アリルエステルオリゴマーと反応させるためにはビニル基、アリル基等のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を有するモノマーが好ましい。例えば、不飽和脂肪酸エステル、芳香族ビニル化合物、飽和脂肪酸または芳香族カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体、架橋性多官能モノマー等が挙げられる。中でも、架橋性多官能性モノマーを使用すれば、硬化物の架橋密度を制御することもできる。これら反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示す。

不飽和脂肪酸エステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート及びメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、フルオロフェニル（メタ）アクリレート、クロロフェニル（メタ）アクリレート、シアノフェニル（メタ）アクリレート、メトキシフェニル（メタ）アクリレート及びビフェニル（メタ）アクリレート等のアクリル酸芳香族エステル；
フルオロメチル（メタ）アクリレート及びクロロメチル（メタ）アクリレート等のハロアルキル（メタ）アクリレート；
さらに、グリシジル（メタ）アクリレート、アルキルアミノ（メタ）アクリレート、及びα−シアノアクリル酸エステル等が挙げられる。

芳香族ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、スチレンスルホン酸、４−ヒドロキシスチレン及びビニルトルエン等を挙げることができる。
飽和脂肪酸または芳香族カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及び安息香酸ビニル等を挙げることができる。

架橋性多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、オリゴエステルジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−ω−（メタ）アクリロイロキシピリエトキシ）フェニル）プロパン等のジ（メタ）アクリレート；
フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジメタリル、テレフタル酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、２，６−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、１，５−ナフタレンジカルボン酸ジアリル、１，４−キシレンジカルボン酸アリル及び４，４’−ジフェニルジカルボン酸ジアリル等の芳香族カルボン酸ジアリル類；１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル及びジビニルベンゼン等の二官能の架橋性モノマー；トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストーリルトリ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アリルイソシアヌレート、トリ（メタ）アリルシアヌレート、トリアリルトリメリテート及びジアリルクロレンデート等の三官能の架橋性モノマー；
さらにペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート等の四官能以上の架橋性基を有するモノマーが挙げられる。

上記の反応性モノマーは、１種単独で、または２種以上を混合または組み合わせて用いることができる。これらの反応性モノマーの樹脂成分の使用量には特に制限はないが、アリルエステルオリゴマー１００質量部に対して、１〜１０００質量部であることが好ましく、２〜５００質量部であることがより好ましく、５〜１００質量部であることが特に好ましい。反応性モノマーの使用量が１質量部未満であると、粘度低下効果が小さく、作業性が悪化したり、また、反応性モノマーとして単官能性モノマーを使用した場合には、架橋密度が低くなり硬度が不十分になることがあるため好ましくない。また、使用量が１０００質量部を超えるとアリルエステル樹脂自体の優れた透明性や機械強度が低下する場合があり好ましくない。

［ラジカル反応性の樹脂組成物］
アリルエステル樹脂組成物は、諸物性を改良する目的でラジカル反応性の樹脂成分を含んでいてもよい。これら樹脂成分としては不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂等が挙げられる。

不飽和ポリエステル樹脂は、多価アルコールと不飽和多塩基酸（及び必要に応じて飽和多塩基酸）とのエステル化反応による縮合生成物を、必要に応じてスチレン等の重合性不飽和化合物に溶解したもので、例えば「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社，１９８８年発行，第１６頁〜第１８頁及び第２９頁〜第３７頁などに記載されている樹脂を挙げることができる。この不飽和ポリエステル樹脂は、公知の方法で製造することができる。

ビニルエステル樹脂はエポキシ（メタ）アクリレートとも呼ばれ、一般にエポキシ樹脂に代表されるエポキシ基を有する化合物と（メタ）アクリル酸などの重合性不飽和基を有するカルボキシル化合物のカルボキシル基との開環反応により生成する重合性不飽和基を有する樹脂、またはカルボキシル基を有する化合物とグリシジル（メタ）アクリレート等の分子内にエポキシ基を持つ重合性不飽和化合物のエポキシ基との開環反応により生成する重合性不飽和基を有する樹脂を指す。詳しくは「ポリエステル樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社，１９８８年発行，第３３６頁〜第３５７頁などに記載されており、その製造は、公知の方法により行うことができる。

ビニルエステル樹脂の原料となるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル及びその高分子量同族体、ビスフェノールＡアルキレンオキサイド付加物のグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル及びその高分子量同族体、ビスフェノールＦアルキレンオキサイド付加物のグリシジルエーテル、ノボラック型ポリグリシジルエーテル類等が挙げられる。
上記のラジカル反応性の樹脂成分は、１種単独で、または２種以上を混合または組み合わせて用いることができる。

これらのラジカル反応性の樹脂成分の使用量には特に制限はないが、アリルエステルオリゴマー１００質量部に対して、１〜１０００質量部であることが好ましく、２〜５００質量部であることがより好ましく、５〜１００質量部であることが特に好ましい。
反応性モノマーの使用量が１質量部未満であると、ラジカル反応性の樹脂成分由来の機械強度向上などの効果が小さく、作業性が悪化したり、成形性が悪化したりするため好ましくない。また、使用量が１０００質量部を超えるとアリルエステル樹脂自体の耐熱性が現れない場合があり好ましくない。

［添加剤］
アリルエステル樹脂組成物には、硬度、強度、成形性、耐久性、耐水性を改良する目的で、紫外線吸収剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤、離型剤、滑剤、撥水剤、難燃剤、低収縮剤、架橋助剤などの添加剤を必要に応じて添加することができる。
酸化防止剤としては、特に制限はなく、一般に用いられているものを用いることができる。中でも、ラジカル連鎖禁止剤であるフェノール系酸化防止剤やアミン系酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤が特に好ましい。フェノール系酸化防止剤としては２，６−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２‘−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）及び１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン等が挙げられる。

滑剤としては、特に制限はなく、一般に用いられているものを用いることができる。中でも、金属石鹸系滑剤、脂肪酸エステル系滑剤、脂肪族炭化水素系滑剤などが好ましく、金属石鹸系滑剤が特に好ましい。金属石鹸系滑剤としては、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム及びステアリン酸アルミニウム等が挙げられる。これらは複合体として用いられても良い。

紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、一般に用いられているものを用いることができる。中でも、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤が好ましく、特に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましい。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール及び２−（２−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。

しかし、これらの添加剤は上述した具体例に制限されるものではなく、本発明の目的、または効果を阻害しない範囲であらゆるものを添加することができる。

［アリルエステル樹脂組成物の硬化物］
アリルエステル樹脂組成物を、例えば光照射及び加熱の少なくともいずれか一方により硬化させることによって、透明性、耐熱性に優れたフィルムあるいはシートを得ることができる。
なお、フィルムは、通常、膜厚が２５０μｍ未満のものを指し、シートは厚みが２５０μｍ以上のものを指す。

樹脂組成物からフィルムあるいはシートを作製するにあたっては、一定の表面硬度が得られれば、どのような硬化方法を選択してもよい。一定以上の表面硬度を得るには、樹脂組成物をフィルム形状に塗工した後、光硬化及び熱硬化手法、もしくは熱硬化手法のみをとるのが好ましい。

樹脂組成物を硬化させる際の条件等には特に制限はないが、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムやＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）フィルムなどの透明プラスチックフィルム、金属シート、もしくはガラス板上に塗工し流延させた後、光硬化及び熱硬化、もしくは熱硬化を実施するのが好適である。

光硬化の場合、紫外線照射法が一般的であり、例えば紫外線ランプを使用して紫外線を発生させて照射することができる。紫外線ランプには、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、パルス型キセノンランプ、キセノン／水銀混合ランプ、低圧殺菌ランプ、無電極ランプ、ＬＥＤランプ等があり、いずれも使用することができる。これらの紫外線ランプの中でも、メタルハライドランプもしくは高圧水銀ランプが好ましい。照射条件はそれぞれのランプ条件によって異なるが、照射露光量が２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましい。また、紫外線ランプには楕円型、放物線型、拡散型等の反射板を取り付け、冷却対策として熱線カットフィルター等を装着するのが好ましい。また、硬化促進のために、予め３０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。

熱硬化の場合、加熱方法は特に限定されないが、熱風オーブン、遠赤外線オーブン等の均一性に優れた加熱方法がよい。硬化温度は約１００〜２００℃、好ましくは１２０〜１８０℃である。硬化時間は、硬化方法により異なるが、熱風オーブンであれば０．５分〜５時間、遠赤外線オーブンであれば０．５〜６０分間が好ましい。

また、光重合開始剤を用いた紫外線硬化や、有機過酸化物やアゾ化合物を用いた熱硬化は、ラジカル反応であるため酸素による反応阻害を受けやすい。硬化反応時の酸素阻害を防止するため、硬化性組成物は、透明プラスチックフィルム、金属シート、もしくはガラス板等のベースシート、ベースフィルム上へ塗工、流延後、光硬化を実施する前に、硬化性組成物上へ透明カバーフィルムを施し、流延された硬化性組成物表面の酸素濃度を１％以下にすることが好ましい。透明カバーフィルムは、表面に空孔がなく、酸素透過率の小さいもので、かつ紫外線硬化や熱硬化時に発生する熱に耐えられるものを使用する必要がある。例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＰ（ポリプロピレン）、アセテート樹脂、アクリル樹脂、フッ化ビニル、ポリアミド、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、シクロオレフィンポリマー（ノルボルネン樹脂）等のフィルムであり、これらを単独で、あるいは２種類以上を組み合わせて使用できる。

ただし、硬化後の硬化物との剥離が可能でなければならないため、これらのベースシート、ベースフィルム、透明カバーフィルムの表面にシリコーン樹脂塗布、フッ素樹脂塗布等の易剥離処理が施されていてもよい。

アリルエステル樹脂組成物は液状であることから、公知の塗布装置を用いて所定の形状や形態となるように塗布、塗工等を行うことができる。塗布方式としては、グラビアコート、ロールコート、リバースコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ワイヤーバーコート、カーテンコート、スピナーコート等が挙げられる。なお、塗布、塗工、成形時のアリルエステル樹脂組成物の好ましい粘度範囲としては常温で１００〜１００，０００ｍＰａ・ｓの範囲である。

［反射層］
反射層３は、例えば金属膜４からなる。金属膜４を構成する金属の種類に特に限定はないが、可視光の反射率が高いものが望ましい。
反射像の元映像の色調を正確に反映するためには、金属膜４を構成する金属は、無彩色（例えば銀色）の金属であることが望ましい。使用できる金属としては、アルミニウム、銀、金、チタン、ニッケル、銅，錫、インジウム、クロム、これらの合金が挙げられる。これらの中でもアルミニウム、銀、クロムが好ましい。

金属膜４は、隣り合う光透過部２，２の間に、光透過部２の側面２ｃに沿って光透過部２の長さ方向に延在する帯状に形成されている。例えば、金属膜４Ａは、第１の光透過部２Ａと第２の光透過部２Ｂとの間に形成されている。
金属膜４は、光透過部２の側面２ｃの全体を覆う形状であることが好ましい。金属膜４は、例えば光透過部２の主面２ａ，２ｂに対して垂直に形成されている。
反射層３（金属膜４）の両面は、光透過部２を通る可視光が反射する光反射面４ａ，４ａである。光反射面４ａ，４ａは、それぞれ隣り合う光透過部２，２の一方および他方の側面２ｃ，２ｃに接している。

光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）は、平面視において少なくとも一部が重なり、重なり領域において反射層３，３（３Ａ，３Ｂ）が交差するように配置される。図１に示す光制御パネル１Ａ，１Ｂは、平面視において全域が重なるように配置され、反射層３Ａ，３Ｂは直交している。

光制御パネル１の厚さは、そのサイズ（例えばＸ方向およびＹ方向の寸法）に応じて適宜調整すればよいが、例えば、０．５〜１０ｍｍが好ましい。

［透明保護層］
透明保護層６，６は、フィルム状またはシート状に形成され、可視光（例えば波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍ）が透過可能とされている。透明保護層６は、可視光が全波長範囲において透過可能であることが好ましい。図１および図２では、透明保護層６，６は、それぞれ第１の光制御パネル１Ａの上面側および第２の光制御パネル１Ｂの下面側に設けられている。第１の光制御パネル１Ａの上面側の透明保護層６を第１の透明保護層６Ａといい、第２の光制御パネル１Ｂの下面側の透明保護層６を第２の透明保護層６Ｂという。透明保護層は、透明保護部ともいう。

透明保護層６は、例えばアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなる。透明保護層６の構成材料はガラスなどでもよい。
透明保護層６の厚さは、０．０５〜１ｍｍ（好ましくは０．１〜０．５ｍｍ）が好適である。透明保護層６の厚さを０．０５ｍｍ以上とすることによって、透明保護層６の強度を高めることができる。透明保護層６の厚さを１ｍｍ以下とすることによって、透明保護層６の透明度を高めることができる。

透明保護層６（透明保護部）の表面硬度は鉛筆硬度で２Ｈ以上が好ましい。表面硬度が鉛筆硬度で２Ｈ以上であると、光学結合装置表面に傷がつくなどの不具合が生じにくくなる。
また、透明保護層６には前述の鉛筆硬度の他にも、全光線透過率が高いこと、ヘイズ値（曇価）が低いことが望まれる。それにより光制御パネル表面に用いる際に、高精細な反射像が得られる。全光線透過率は好ましくは９０％以上であり、さらに好ましく９１％以上である。ヘイズ値は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。

高精細な画像を得る点では「アッベ数」および「平滑性」も重要な特性となる。アッベ数は屈折率の波長依存性を示す数値であり、透明保護層６のアッベ数が低すぎると像が不鮮明になる可能性がある。透明保護層６のアッベ数は好ましくは４０以上であり、さらに好ましくは５０以上である。

平滑性も重要である。平滑性が低すぎると像がぼやけたように見え、質感を損なう可能性がある。平滑性は算術平均粗さ「Ｒａ」で表した場合に、好ましくは１０ｎｍ未満、さらに好ましくは５ｎｍ未満、特に好ましいのは２ｎｍ未満である。

接着層７，８は、例えば透明な粘着剤、接着剤等からなる。粘着剤としてはゴム系、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系等が挙げられる。接着剤としてはフェノール樹脂、酢酸ビニル系、クロロプレンゴム系等の溶剤系、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、シリコーンゴム系等の硬化反応タイプ、スチレンブタジエンゴム系等の熱溶融タイプが挙げられる。
接着層７，８は、光硬化性（例えば紫外線硬化性）の樹脂からなる接着剤であることが好ましい。

図２に示すように、光学結像装置１０では、光学結像装置１０の一方側（図２における下方側）からの光Ｌ１，Ｌ２は、第２の透明保護層６Ｂを透過して第２の光制御パネル１Ｂに入射し、反射層３Ｂの光反射面４ａで反射する。反射層３Ｂの光反射面４ａからの反射光ＲＢ１，ＲＢ２は第１の光制御パネル１Ａに入射し、反射層３Ａの光反射面４ａで反射する。反射層３Ａの光反射面４ａからの反射光ＲＡ１，ＲＡ２は、第１の透明保護層６Ａを透過し、光学結像装置１０の他方側（図２における上方側）に、立体像２０を表示する。

＜光学結像装置の製造方法＞
次に、光学結像装置１０を製造する方法の一例を説明する。
［透明基材の作製］
図５に示すように、アリルエステル樹脂組成物を、例えば光照射、加熱等により硬化させることによって、アリルエステル樹脂からなるシート状の透明基材１２（第１の透明基材）を作製する。

［第１積層体の作製］
図６に示すように、透明基材１２の両面に、それぞれ金属膜１４を形成する。透明基材１２の両面にそれぞれ金属膜１４を形成した積層体を第１積層体１６という。金属膜１４の構成材料としては、前述の金属膜４を構成する金属が用いられる。
透明基材１２の表面に金属膜１４を形成する方法は特に限定されないが、転写法、ドライコーティング法、ウェットコーティング法が挙げられる。転写法としては金属箔を接着剤により透明基材１２に貼り付ける方法がある。ドライコーティング法としては真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法等が挙げられる。ウェットコーティング法としては湿式めっき法等が挙げられる。透明基材１２の表面に均一に薄く金属膜１４を形成するには真空蒸着法やスパッタリング法などの乾式の方法が好ましい。金属膜１４は、透明基材１２の一方の面に形成した後、他方の面に形成してもよいし、透明基材１２の両面に同時に形成してもよい。

［第２積層体の作製］
第１積層体１６の一方の表面に、アリルエステル樹脂組成物を塗布することにより接着層１５（樹脂組成物層）を形成する。第１積層体１６の一方の面に接着層１５を形成した積層体を第２積層体１７という。
接着層１５は、加熱あるいは、紫外線等の光を照射することによって「半硬化」の状態とする。本実施形態において「半硬化」の状態とは、樹脂組成物に含まれるモノマーあるいはアリルエステルオリゴマーの一部が架橋反応することで三次元網目構造が形成され、該網目構造の中に未反応の反応成分が保持され、かつ塑性変形が可能な状態を言う。半硬化の程度としては、例えば、ゲル分率が、通常２０〜９０％の範囲にあり、好ましくは３０〜８５％であり、さらに好ましくは４０〜８０％である。ゲル分率が上記範囲内にあれば、フィルムまたはシートの形状を保持できるので、積層の際にも良好な厚み精度を維持することができる。アリルエステル樹脂組成物が光重合開始剤を含有する場合、ゲル分率は、紫外線などの活性エネルギー線の照射量を変えることにより調整することができる。
ゲル分率は、次に示すように、樹脂組成物を溶媒に溶かしたときに不溶解成分として残る成分の質量分率で表される。

ゲル分率（％）＝１００×｛（不溶解成分質量）／（当初の樹脂組成物質量）｝

溶媒としては樹脂組成物の各成分（無機物は除く）を溶解する溶媒を用いる。具体的にはアセトン、トルエン、キシレンなどが溶媒として好ましい。不溶解成分の質量は、ソックスレー抽出法により測定することができる。不溶解成分の質量は、ろ過法、金網袋、ティーバッグを用いた方法など測定することができる。

第２積層体１７の接着層１５の構成材料として用いられるアリルエステル樹脂組成物は、第１積層体１６の透明基材１２の構成材料として用いられるアリルエステル樹脂組成物と同一であることが好ましい。接着層１５の構成材料としてのアリルエステル樹脂組成物と、透明基材１２の構成材料としてのアリルエステル樹脂組成物とが同一であるとは、例えば、これら２つのアリルエステル樹脂組成物の組成が同じであることをいう。
これによって、図４に示すように、複数の光透過部２のうち第１の光透過部２Ａと第２の光透過部２Ｂとを均質化できる。よって、光制御パネル１の光学特性が良好となる。

［複層積層体の作製］
図７に示すように、複数の第２積層体１７を、接着層１５が形成された面と、接着層１５が形成されていない面とが当接するように積層させる。例えば、図７に示す第２積層体１７は、いずれも下面側に接着層１５が位置している。そのため、第２積層体１７の接着層１５は、下方側に隣り合う第２積層体１７の金属膜１４に当接するように重ねられる。複数の第２積層体１７を有する積層体を複層積層体１８という。なお、最下段については第１積層体１６を用いている。複層積層体１８を作製する際には、プレス機等により第２積層体１７を加圧、加熱してもよい。
複数の第２積層体１７を積層するにあたっては、接着層１５の厚さを透明基材１２の厚さと同じにするのが好ましい。例えば、第２積層体１７の一部に、スペーサなどの構造を設けることによって、隣り合う第２積層体１７，１７の透明基材１２，１２間の距離を規定することができる。

［接着層の本硬化］
接着層１５は、例えば加熱、光硬化等により本硬化させる。接着層１５は、複数の第２積層体１７を積層させる際に加熱により本硬化させるのが好ましい。本実施形態において「本硬化」の状態とは、ゲル分率が９０％を超える状態をいう。接着層１５は、本硬化により第２の透明基材となる。

［光制御パネルの作製］
図８および図９に示すように、複層積層体１８を、切断箇所１９において、透明基材１２に対して交差する面（例えば透明基材１２に対して垂直な面）に沿って切断し、一部を板状に切り出すことによって、図３に示す光制御パネル１を得る。複層積層体１８の透明基材１２は、光制御パネル１の光透過部２（例えば第１の光透過部２Ａ）となる。接着層１５は光透過部２（例えば第２の光透過部２Ｂ）となる。
金属膜１４は金属膜４（反射層３）となる。
切断加工には鋸盤法、マルチワイヤーソー法、コンターマシン法、シャーリング法、旋盤法、ルータ加工、ガス切断法、レーザー切断法、プラズマ切断法、ウォータージェット切断法等の加工方法を採用することができる。

［光制御パネルの設置］
図１および図２に示すように、光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）は、平面視において少なくとも一部が重なり、重なり領域において反射層３，３（３Ａ，３Ｂ）が交差するように向い合せて配置される。図１および図２に示す光制御パネル１Ａ，１Ｂは、平面視において全域が重なるように配置され、反射層３Ａ，３Ｂは直交している。
光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）のうち一方の表面に、接着剤等を塗布することにより接着層７を形成する。接着層７によって光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）を接着させる。

［透明保護層の設置］
光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）の外面、または透明保護層６の表面に、接着剤等を塗布することにより接着層８，８を形成する。接着層８，８によって光制御パネル１，１（１Ａ，１Ｂ）と透明保護層６（６Ａ，６Ｂ）とを接着する。
以上の工程により、図１および図２に示す光学結像装置１０を得る。

光制御パネル１は、反射層３（金属膜４）の両面がそれぞれ光透過部２に接しているため、反射層３の両面をいずれも光反射面４ａとして機能させることができる。そのため、反射層３を薄く形成して光の損失を抑制し、結像品質を高めることができる。
光制御パネル１は、反射層３の両面をいずれも光反射面４ａとして機能させることができるため、光制御パネル１の構造を簡略にでき、材料コスト削減が可能となる。これに対し、第１積層体１６を、光透過部として使用できない薄い接着剤層によって接着した複層積層体を用いて得た光制御パネルは、隣り合う光透過部の間に２つの金属膜が形成されるため構造が複雑であり、材料コストの点で不利となる。
また、光制御パネル１は、反射層３の両面をいずれも光反射面４ａとして機能させるため、反射層３を薄く形成できる。よって、光透過部２を厚く形成し、光線透過率を高めることができる。そのため、明るい立体像２０が得られる。さらに、反射層３を薄くできるため、光透過部２の多層化による立体像２０の高精細化が可能である。

光制御パネル１は、光透過部２が、可視光の光線透過率が高いアリルエステル樹脂組成物の硬化物で形成されているため、全光線透過率などの光学特性が良好となる。よって、結像品質の点で優れた光学結像装置１０が得られる。また、アリルエステル樹脂は耐光性に優れているため、光学結像装置１０の耐久性を高めることができる。また、複層積層体１８の切断の際に切断工具への樹脂付着が起こりにくいため、製造が容易となる。

光学結像装置１０では、光透過部２を構成するアリルエステル樹脂は耐熱性に優れているため、透明保護層６と光制御パネル２との接着に熱溶融タイプまたは熱硬化タイプの接着剤を用いる場合でも、加熱により光透過部２が劣化するのを防ぐことができる。
また、光透過部２がアリルエステル樹脂組成物の硬化物で形成されているため、透明保護層６にアリルエステル樹脂組成物の硬化物を用いる場合、光透過部２と透明保護層６との屈折率差を小さくできる。そのため、全光線透過率などの光学特性が良好となる。よって、結像品質の点で優れた光学結像装置１０が得られる。

前述の製造方法によれば、アリルエステル樹脂組成物からなる未硬化の接着層１５を用いて第２積層体１７どうしを接着し、接着層１５によって光透過部２を形成すため、反射層３の両面が光透過部２に接した構造を容易に実現できる。よって、結像品質に優れた光制御パネル１を容易に作製できる。
また、接着層１５の硬化は、複数の第２積層体１７を積層させる際に行うことができるため、製造工程が簡単となり、製造を容易にできる。

比較のため、図１０〜図１４に、特許文献２に記載の光制御パネル３０の製造工程を示す。
図１０に示すように、アリルエステル樹脂からなるシート状の透明基材１２を作製する。
図１１に示すように、透明基材１２の両面に、それぞれ金属膜１４を形成する。金属膜１４を形成した透明基材１２の一方の表面に接着層２５を形成する。
図１２に示すように、金属膜１４を有する複数の透明基材１２を接着層２５によって接着することによって、透明基材１２と反射層２３とが交互に積層されたブロック状の積層体２１を得る。反射層２３は、金属膜１４，１４と、金属膜１４，１４の間に設けられた接着層２５とを有する。
図１３および図１４に示すように、積層体２１を、切断箇所２２において、透明基材１２に対して交差する面（例えば透明基材１２に対して垂直な面）に沿って切断し、一部を板状に切り出すことによって、光制御パネル３０を得る。積層体２１の透明基材１２は、光制御パネル３０の光透過部２となる。反射層２３は反射層３３となる。金属膜１４および接着層２５はそれぞれ金属膜４、接着層３５となる。
図１４に示すように、光制御パネル３０では、光透過部２の間の反射層３３には２つの金属膜４と接着剤層３５が必要になっている。

実施形態の光制御パネルおよび光学結像装置ならびにその製造方法は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることができる。
図４に示す光制御パネル１では、光透過部２は全体がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなるが、光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物で構成されていればよい。
「アリル基及びメタリル基の少なくともいずれか一方」は、アリル基及びメタリル基のいずれか一方または両方を意味する。「光照射及び加熱の少なくともいずれか一方」は、光照射及び加熱のいずれか一方または両方を意味する。「脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方」は、脂環式構造及び芳香環構造のいずれか一方または両方を意味する。
実施形態の光制御パネルは、少なくとも１つの反射層の両面が、隣り合う光透過部の一方および他方に直接接して前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面であればよい。

以下、合成例、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの記載により限定されるものではない。
実施例及び参考例に記載のフィルム、シートの全光線透過率、鉛筆硬度等は、以下の方法により測定した。

［全光線透過率］
全光線透過率は、日本電色工業社製ヘーズメーターＮＤＨ５０００を使用し、ＪＩＳ Ｋ−７３６１−１に準拠して測定した。

［Ｈａｚｅ］
Ｈａｚｅ値は、日本電色工業社製ヘーズメーターＮＤＨ５０００を使用し、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠して測定した。

［鉛筆硬度］
鉛筆硬度は安田精機工業社製電動鉛筆引っかき硬度試験機Ｎｏ．５５３−Ｍを使用し、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠し測定した。

［ゲル分率］
実施例に記載の半硬化または本硬化状態のゲル分率は以下の方法により測定した。
半硬化または本硬化状態のフィルムをアセトン中で４時間環流し、可溶成分を抽出後、固形物をろ別した。得られた固形物を１００℃に加熱した熱風オーブンで２時間乾燥させ、以下の計算式でゲル分率を計算した。

ゲル分率（％）＝（Ｗ_１／Ｗ_０）×１００
（式中、Ｗ_０は抽出前のフィルムの質量を表す。Ｗ_１は抽出乾燥後の固形物の質量を表す。）

合成例１：
蒸留装置の付いた２リットルの三つ口フラスコに、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル１６２５ｇ、トリメチロールプロパン２４７ｇ、ジオクチル錫オキサイド４．１ｇを仕込み、窒素気流下、１８０℃で生成するアリルアルコールを系外に留去しながら加熱した。留去したアリルアルコールが約２６０ｇになったところで、反応系内を徐々に、４時間かけて６．６ｋＰａまで減圧し、アリルアルコールの留出速度を速めた。留出がほとんどなくなったところで、圧力を０．５ｋＰａとし、１時間反応させた後、室温まで冷却しアリルエステルオリゴマーＡを得た。

実施例１（透明基材Ａ）：
合成例１で作製したアリルエステルオリゴマーＡ１００質量部に対し、トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成株式会社製、「Ｍ−３０９」）１０質量部、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、「イルガキュア（登録商標）ＴＰＯ」）０．５質量部、パーヘキシル（登録商標）Ｉ（日油株式会社）を１質量部加え十分撹拌しアリルエステル樹脂組成物Ｂを得た。この組成物ＢをＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、硬化後の厚さが０．３ｍｍとなるように塗布した。塗工液表面をＰＥＴ製カバーフィルムで覆い、紫外線照射装置（メタルハライドランプ）を用いて２００ｍＷ／ｃｍ^２、８００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で紫外線を照射した後、１５０℃に設定した加熱炉に１０分間投入した。加熱炉から取り出し、ベースフィルム及びカバーフィルムを剥がし、厚さ０．３ｍｍの透明基材Ａを得た。この透明基材Ａの鉛筆硬度は２Ｈであり、ゲル分率は９９％であった。

（第１積層体Ｃ）
透明基材Ａの両面に真空蒸着法によりアルミニウムを蒸着し、表面抵抗値１．１Ω／□を有するアルミニウム膜を有する厚さ０．３ｍｍの第１積層体Ｃを得た。この第１積層体Ｃのアルミニウム蒸着面の、波長３８０〜７８０ｎｍの領域の平均反射率は９１％であった。

（第２積層体Ｄ）
第１積層体Ｃの表面にアリルエステル樹脂組成物Ｂを硬化後の厚さが０．３ｍｍとなるように塗布した。塗工液表面をＰＥＴ製カバーフィルムで覆い、紫外線照射装置（メタルハライドランプ）を用いて２００ｍＷ／ｃｍ^２、８００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で紫外線を照射し、アリルエステル樹脂組成物Ｂを半硬化させ、カバーフィルムを剥がし第２積層体Ｄを得た。半硬化のアリルエステル樹脂組成物Ｂのゲル分率は７６％であった。

（光制御パネル）
第２積層体Ｄを１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさに炭酸ガスレーザーによってシート状に切断加工した。得られたシートを１７４枚重ね、その最下段に第一積層体Ｃ１枚を重ねて貼り合わせて複層積層体を作製し、これを１５０℃に加熱した熱風オーブンで５時間加熱することにより積層品を作製した。この積層品を、ダイヤモンドワイヤーソーを用いて１ｍｍの厚みとなるように切断をし、０．３ｍｍ間隔で金属膜を有する約１０ｃｍ×約１０ｃｍ光制御パネルを得た。
この光制御パネルを二枚作製し、片面にデクセリアルズ株式会社製ＵＶ硬化型樹脂ＳＶＲ１１２０塗布した。積層面が直交するようにして固定し、紫外線照射装置（メタルハライドランプ）を用いて２００ｍＷ／ｃｍ^２、５０００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で紫外線を照射し、光学結像装置とした。
得られた光学結像装置の両面に透明基材Ａのシートを、デクセリアルズ株式会社製ＵＶ硬化型樹脂ＳＶＲ１１２０を用いて貼合し、光学結像装置Ａを得た。

参考例１：
実施例１で得られた第１積層体Ｃを１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさに炭酸ガスレーザーによってシート状に切断加工した。アロンアルファ株式会社製接着剤ＥＸ４０００（１０μｍ）を用いて、得られたシートを３５０枚重ねて貼り合わせ、積層品を作製した。この積層品を、ダイヤモンドワイヤーソーを用いて１ｍｍの厚みとなるように切断をし、０．３ｍｍ間隔で金属膜層を有する約１０ｃｍ×約１０ｃｍ光制御パネルを得た。
この光制御パネル二枚を片面にデクセリアルズ株式会社製ＵＶ硬化型樹脂ＳＶＲ１１２０塗布した。積層面が直交するようにして固定し、紫外線照射装置（メタルハライドランプ）を用いて２００ｍＷ／ｃｍ^２、５０００ｍＪ／ｃｍ^２の条件で紫外線を照射し、光学結像装置とした。
得られた光学結像装置の両面に製造例１の透明基材Ａを、デクセリアルズ株式会社製ＵＶ硬化型樹脂ＳＶＲ１１２０を用いて貼合し、光学結像装置Ｂを得た。

光学結像装置Ａおよび光学結像装置Ｂの測定結果を表１に示す。鉛筆硬度は光学結像装置の透明保護層表面（図１および図２に示す符号６の表面）の測定値である。

１ 光制御パネル
２ 光透過部
３ 反射層
４ 金属膜
４ａ 光反射面
６ 透明保護層
１０ 光学結像装置
１５ 接着層（樹脂組成物層）
１６ 第１積層体
１７ 第２積層体
１８ 複層積層体
２１ 積層体
２２ 切断箇所
２５ 接着剤層
３０ 光制御パネル
３３ 反射層
３５ 接着剤層

Claims (7)

1. 可視光が透過可能な複数の光透過部と、隣り合う前記光透過部の間に形成された反射層とを備え、
   前記反射層の両面は、それぞれ前記隣り合う光透過部の一方および他方に直接接して前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面であり、
   前記光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなる光制御パネル。
2. 前記アリルエステル樹脂組成物が、一般式（２）
   

   

   （式中、Ｒ^３はアリル基またはメタリル基を表し、Ａ^２はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する１種以上の有機残基を表す。）で示される基を末端基として有し、かつ一般式（３）
   

   

   （式中、Ａ^３はジカルボン酸に由来する、脂環式構造及び芳香環構造の少なくともいずれか一方を有する一種以上の有機残基を表し、Ｘは多価アルコールから誘導された一種以上の有機残基を表す。ただし、Ｘはエステル結合によって、さらに前記一般式（２）を末端基とし、前記一般式（３）を構成単位とする分岐構造を有することができる。）で示される構造を構成単位として有するアリルエステルオリゴマーを含むものである請求項１に記載の光制御パネル。
3. 前記反射層は、アルミニウム、銀及びクロムから選択される金属からなる金属膜を有する請求項１または２に記載の光制御パネル。
4. 請求項１〜３のうちいずれかに記載の光制御パネルを少なくとも一対有し、
   前記一対の光制御パネルは、厚さ方向から見て少なくとも一部が重なり、重なり領域において前記反射層が交差するように配置されている光学結像装置。
5. 少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなり、可視光が透過可能な第１の透明基材の両面に反射層を形成して第１積層体とする工程と、
   前記第１積層体の一方の面に、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物からなる半硬化の樹脂組成物層を形成して第２積層体とする工程と、
   複数の前記第２積層体を、前記半硬化の樹脂組成物層が形成された面と前記半硬化の樹脂組成物層が形成されていない面とが当接するように積層させて複層積層体とする工程と、
   前記半硬化の樹脂組成物層を硬化させて第２の透明基材を得る工程と、
   前記複層積層体を、前記第１および第２の透明基材に対して交差する面に沿って切断することにより、前記第１の透明基材から切り出された光透過部と前記第２の透明基材から切り出された光透過部との間に前記反射層が形成され、前記反射層の両面がそれぞれ前記光透過部に接して前記光透過部を通る可視光を反射する光反射面であり、前記光透過部は、少なくとも一部がアリルエステル樹脂組成物の硬化物からなる光制御パネルを得る工程と、を有する光制御パネルの製造方法。
6. 前記半硬化の樹脂組成物層のゲル分率が２０〜９０％である請求項５に記載の光制御パネルの製造方法。
7. 前記第１積層体の第１の透明基材に用いるアリルエステル樹脂組成物と、前記第２積層体の半硬化の樹脂組成物層に用いるアリルエステル樹脂組成物とが同一である請求項５または６に記載の光制御パネルの製造方法。

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