TW200410019A - Rubbing machine with realigning functions of rubbing cloth for use in LCD manufacturing process and rubbing method using the same - Google Patents

Description

200410019 五、發明說明（l) 【本發明所屬之技術領域】 本發明係關於液晶顯示器μ 關於一種在製造液晶顯示器盤睡置更砰細的成，乃 器、時適合於裝備製作的附：有摩擦布以：示 器的摩擦機及利用該摩擦機之摩擦方法。歹J力此之液日日顯示 【先前技術】 / 將塗佈於基板上的配向膜以布等 向的摩擦過程LCD製造工程中之重要 摩U而決定配向方 P S Γ _Γ)形態以外，尚有平坦切換(/ ^lane Switchlng)，邊緣場切換（FFs :Fringe pieid

Swi tching)，光補償扭曲（〇CB : 〇

Bend) ^ensat.on 。。二1各匕態的共Λ點為上下板的摩擦方向均屬於平行（ 〇或18〇 )平行的摩擦並非為了特別的場合。事實上，上 下板平行的摩擦方向之場合較為普遍 為特別的場合。 "^遍90 _形恐反而成 f平行摩擦的場合’摩擦的均句性乃直接涉及畫面品質 疋非吊重要的因素。IPS形態與FFS形態係以經常黑色 (jor ma 1 1 y b 1 ack )設計，爰此，在灰暗狀態下的畫面品質， 係決定於摩擦之均勻性。 々 仁以大里生產觀念而㊂，殊難獲得均勻的摩擦條件，如 第1圖所不，會發生很多起因於摩擦不均勻的不良率。 大量生產觀念中會發生摩擦不均勻的理由如下。 通常使用的摩擦布，係在基布上附以短而細的絨毛而成

這些本身具有彈性與復原 配合的部份以某種程度的緩衝作用而能對配向犋與基板間不 ，上由於一張摩擦布的工作量太夕，行摩擦。然而在量產概 著不均勻，則超過其本身能保二=如持續在一定位置存在 部份的摩擦布表面變成不均勻。、、戍衝限度，其影響所及該 由是隨著作業的進行，較 性也越嚴重。是以平行摩擦的；戈摩擦的基板，其不均勻 作業量，遠較TN為少。 "’一張摩擦布所能完成的 μ狂r f發生的不沾a 些因素包含摩擦狀態的不均 句勻性因素不勝牧舉。 TFT圖案與線紋，彩色過遽器的查坡璃狀邊緣’形成陣列狀 柱形隔條等多種樣式。 "素與黑色矩陣，最近還孝 問題在這些都是LCD盤不可或缺 的不均勻，也不能除去上揭要素。、，素。為了解決摩摘 生產=如擦捲上時，在應用於大^ 認了上揭老化法不但在 均勾的摩擦布之再整列是有效的。卩在中間期亦對發生; 雉捭Ϊ二Ϊ樣的摩•布的再整列技術對延長摩擦布的壽命』 雉持較鬲的工程品質是非常有效的。 Ρ > 200410019 、發明說明（3) 如第2圖所不，摩擦在的再整列技術， 丄數張或數十張之摩擦後，取 面千坦的玻璃基板等。 列美=成=均勾原因的大量生產基板中間被插人的這種再整 1採Ϊ被f化不均勾性的摩擦布可還原成初期的狀態。 中間擦布再整列技術時，大量生產基板⑴ 基板⑻混二大/生板產(^不勝其煩’亦有因再整列用 由是A 了紐i生產基板（Μ而引起不良結果的可能性。 板而賦予yy功這樣本的/^良可能性，不另加入再整列用基 可解決此項問題此本身可以再整列摩擦布的機能時，即 【本發明之内容】 π BS本發明乃為了解決上揭傳統技術諸項問題而 :目的在提供—種使用於液晶顯示 力能之摩擦布的摩擦機以及使用該摩d:;有再 的邊際效用’並可延長摩擦布壽：者負、而擴大摩擦過程 一為了達成上揭目的，本發明之且有再馨引丄 :器之摩擦機，其係一種供摩捧配置於基能的液晶顯 d膜以決定配向的方向而使用的液所塗佈 i::察布之再整列，在摩擦滾輪之-部份：r摩擦機’ ①布接觸的再整列部，為其特徵。 ，配置可與摩 又，本發明之具有再整列“能之液 ά再整列部沿

第9頁 了加大上揭再整列部與摩擦布間的接觸面積=摩擦機’ 五、發明說明（4) :擦滚輪形成圓弧狀’或棒狀的再整列底塾形態，二 積二將再整列部的接觸* 再者，將與本發：：；：：：，為其特徵。 曲面形態，為其特；擦布接觸的再整列部的-部份形成 形態的底i i】的d:部在固定基板用的基台上以曲面 柝方：：：’利用本發明之具有再整列功能之摩扒趟沾麽 擦方法，於利用供摩擦配置於 ^肊之厚擦機的摩 以決定配向方向之摩捧液;z上基板面所塗佈的配向臈 含：為了再整列摩2=曰顯示器之摩擦方法中，包 驗基板之步驟，在^ #罝生產基板間插入再整列用試 之步驟，及：該摩”輪之摩擦布上配置再整列部 擦之步驟，為其特^ 了 *以疋壓力回轉通過基板上進行摩 以上的本發明之目的，i 明之本發明較佳且體與，、他特徵及優點，可參照以下說 【本發明之實例而得於瞭解。 之摩；附，Γ羊細說明本發明之具有再整列功能 擦布之摩二及上，之㈣列功能之^ 量生產摩擦機的摩擦方法中，表示移動於大 ΐ fΛ Λ彳用基板上之摩擦滾輪之示意圖。 圖為表本發明之具有再整列功能之液晶顯示器的摩

200410019 五、發明說明（5) 擦布之摩擦機及利 ^ _ 輪之摩擦布上形成有^ a :機的摩擦方法中，表示在摩擦滾 意圖。 书、底墊狀與圓弧狀之再整列部的示 第5圖為本發明之且右 布之摩擦機及利用該摩摔 列功能之液晶顯示器的摩擦 摩擦滾輪的摩擦布上形:一、♦摩擦方法另一實施例中表示在 處以上之再整列部的示意圖=以上，或將接觸面積分割成二 第6圖為本發明之且° 布之摩擦機及利用該摩擦^功能之液晶^示器的摩擦 將接觸於摩擦布的部羊铋方法再一實施例t，表示 第7圖為本發明再 布之摩擦機及利用該摩擦機的摩m之又液—晶^示器的摩擦 將再整列部繫固於固定基板用基台上的實施例中，表不 如第3圖所示，首先為了 、不Q圖。 產基板1〇間插入再整 摩擦布，在數張大量生 整列用試驗基板20的數目與材以：：：作業。此時該再 任意設定。 不脫離發明常識範圍内 又，通常摩擦機的形態為附著有 3〇在基板1〇上以一定壓力回轉經 2 的摩擦滾輪 基板10的面積只佔滾輪30的—部彳八，二，時摩擦在35接觸於 摩擦布的再整列。 77 文在其他部份儘可進行 又’如第4圖所示，在摩擦滾輪3〇 用之再整歹㈤7。於此該再整列物 /伤附著再整列 果，則任何材質均可，但最好屬發揮再整列效 暴板屬於同—材質。又圖案 第11頁 200410019 五、發明說明（6) 與面積可在常識性領域内予於設定。 』 選擇比通常之底墊护能面p如第4圖所不，可 2 ()積較大的圓弧形態⑴。 口^再整列部3 7係屬接觸於摩捧右而 再整列邱π π炎社⑴—辱仏命而再整列細毛的部份。 丹正幻邙37可為棒狀之底墊形態。盥 仍 為任何材質形成，但最好採用鱼美板，：35接觸之部份可 者。 休用興基板冋一材質或類似材質 又，再整列效果可調節再整歹香^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 摩擦布之細毛端的間隔）而得木到度（即再整列部的接觸面押虔 裝置因加強再整列部37的接觸壓力與接觸面積的 用形成圓Ϊ: :J幹不要採用單純的棒狀底墊，而應採 觸面積，而裴置二處=輪之一部份的作法，或者為了調節接 數調節面積。 处上的再整列部，視其需要而以適當個 另一方面，在本發 摩擦滾輪50的再整列月其他實施例中，如第5圖所示，將 列部57的接觸面積分割7形成二處57a、57b以上，或將再整 亦可。 "成二處以上，而依需要調節接觸面積 但是，摩擦布如， 列底墊如有階梯差即 ❺梯差即會被損傷，而摩擦布的再整 階梯差會導致摩擦布的擦布亦會受損傷’因此再整列底墊的 由是，如欲防止★、不均勻而縮短其哥命。 如第6圖所示的再_實〃此—實施例中的缺失，本發明又提供 錢施例，將底墊的再整列部67形成無階、

第12頁 200410019 五、發明說明（7) 梯差的曲面6 7 a。如此_來 除再整列底墊的不均勻而導 另一方面，本發明又提 摩擦的實施係以移動摩擦滾 台80來完成’基板7〇自始至 使將再整列底墊9 7裝置於基 果。此時如將再整列部形成 綜上所述’本發明有以 可解決因摩擦布的不均 題，並擴大摩擦過程的邊際 以上所述的幾項本發明 發明實施之範圍。即凡依本 更與修飾，應皆為本發明專 ’由於完全沒有階梯差，即可免 致縮短壽命之虞。 供如第7圖所示的又一實施例， 輪90，或移動固定基扳7〇用的基 終得以與摩擦布9 5接觸，因此即 固定用基台80上亦可有同等效 曲面即效果更大。 下的效果： 勻而造成的畫面品質降低的問 效用，延長摩擦布壽命。 的較佳貫施例，並非用來限定本 發明申請專利範圍所做之同等變 利範圍所涵蓋。 200410019 圖式簡單說明 第1圖為表示傳統技術的LCD製造過程中所用摩擦機與摩 擦方法中’在多數大量生產基板出現摩擦布不均勻現象的示 意圖； 卞第2圖為表示傳統技術的LCD製造過程中所用摩擦機與摩 擦方法中’在多數大量生產基板間插入再整列基板時，發生 摩擦布不均勻現象的示意圖； 第3圖為於本發明之具有再整列功能之液晶顯示器的摩 : 之摩擦機及利用該摩擦機的方法中，表示移動於大量生 基f與再整列用基板上之摩擦滾輪之示意圖； 第4圖為於本發明之摩擦機與摩擦方法中，表示在 二，之摩擦布上形成有通常的底墊狀與圓弧狀之 不意圖； 〜砟的 第5圖為於本發明之摩擦機與摩擦方法另一實施例中， ]:在：擦滾輪的摩擦布上形成二處以上’或將接 割成，處以上之再整列部的示意圖； 積分 一第6圖為本發明之摩擦機與摩擦方法再一實施 不將接觸於摩擦布的部份形成曲面的示意圖； ^ 一第7圖為本發明之摩擦機與摩擦方法又一實施例中， 不：再整列部繫固於固定基板用基台上的示意圖。 【圖中元件編號與名稱對照表】 1 :大量生產基板 再整列用試驗基板 3 ΰ ' 5 0 ' 9 〇 :摩擦滾輪布

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Claims (1)

1. 六、申請專利範圍 1 · 一種 摩擦布的摩 之塗佈配向 擦滾輪的一 觸。 2 ·如申 為了擴大與 弧狀，或棒 3 ·如申 係形成二處 上以便調節 4 ·如申 觸之該再整 5 ·如申 係在固定基 6. -種 用供摩檫配 向方向之摩 為： 使用於液 擦機中， 膜而決定 部份上將 清專利範 該摩擦在 狀之再整 請專利範 以上，4 接觸面積 清專利範 列部之部 凊專利範 板用之基 利用具有 置於基台 擦機的液 =^不器製造程序而具有再整列功能之 ^配擦機用以摩擦配置於基台上的基板 兄向’為了該摩擦部的再整列，在摩 再整列部與該摩擦布配置成能互相接 圍第1項之摩擦機，其中所述再整列部 間之接觸面積，而沿該摩擦滾輪形成圓 列底墊形態。 圍第1項之摩擦機，其中所述再整列部 將違再整列部之接觸面積分割成二個以 者。 圍第1項之摩擦機，其中與該摩擦布接 伤係形成曲面形態。 圍第1項之摩擦機，其中所述再整列部 台上以曲面形態之底墊配置者。 再整列功能之摩擦機的摩擦方法，於利 上之基板面所塗佈的配向膜，以決定配 晶顯示器之摩擦方法中，所包含之步驟 ’在大量生產基板間插入再整列用試 驗基：了再整列摩擦布 在附著於摩擦滾 使該摩擦滾輪以 7·如申請專利範 輪之摩擦布上配置再整列部；及 一定壓力回轉通過基板上進行摩擦。 圍第6項之摩擦方法，其中所述再整列

   200410019 六、申請專利範圍 · 部為了擴大與該摩擦部的接觸面積而沿該摩擦滾輪形成圓弧 狀，或棒狀之再整列底墊形態。 8. 如申請專利範圍第6項之摩擦方法，其中所述再整列 部與該摩擦布接觸之部份係形成曲面形態。 9. 如申請專利範圍第6項之摩擦方法，其中所述再整列 部係在固定基板用之基台上以曲面形態之底墊配置者。

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