CN103869546A - 一种基板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板，该基板上设置有修复结构，该修复结构用于修复摩擦布表面纤维。本发明通过基板上设置修复结构，当摩擦布经过该修复结构时，能够使得摩擦布表面的纤维的弯曲度一致，提高摩擦布表面摩擦纤维排列的有序性，从而能够有效改善摩擦不良现象。

Description

一种基板

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种基板。

背景技术

液晶显示器(LCD)通过控制液晶分子的旋转方向和角度来控制穿透液晶层的光量，从而显示各种灰度的图像，因此液晶显示器内必须有一层均匀取向的取向层，从而确保液晶分子是均匀排列的。

在各种液晶显示器取向层的制造方法中，摩擦法(Rubbing)是最为常用的方法。采用摩擦法制造液晶显示器取向层的制造方法如下：涂覆了取向层的阵列(Array)基板放置在基台上，滚轮上缠绕了摩擦布，与基板接触并且高速转动，同时基台向某一方向移动从而实现对整块基板的摩擦处理。基板上的取向层经过这样的摩擦处理后，形成了均匀的微槽，具有了定向液晶分子的能力。

然而，对于ADSDS（ADvanced Super Dimension Switch，高级超维场开关）液晶显示产品，其阵列基板上设有外围焊接区域(Pad区域)，外围焊接区域上设有不同的导线连接部，在对阵列基板进行摩擦处理过程中，外围焊接区域的导线与摩擦布相接触，对摩擦布的摩擦表面的形态造成一定的影响，使得后续摩擦得到的取向层不能保证液晶分子均匀排列，造成摩擦不良现象，进而影响液晶显示效果。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是提供一种基板，能够有效改善摩擦布对基板进行摩擦时产生的摩擦不良现象。

（二）技术方案

为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供了一种基板，所述基板上设置有修复结构，所述修复结构用于修复摩擦布表面纤维。

进一步地，所述基板包括多个显示单元，所述修复结构位于摩擦方向上所述基板的周边或者相邻两个显示单元之间。

进一步地，所述修复结构在所述基板上的对应区域的形状为长方形。

进一步地，所述修复结构包括多个平行设置的条状凸起。

进一步地，所述条状凸起的横截面形状为以下的任意一种：梯形、矩形、三角形。

进一步地，所述多个条状凸起之间等间距设置。

进一步地，所述条状凸起的延伸方向与所述摩擦方向相同。

进一步地，所述显示单元包括第一边以及与所述第一边垂直的第二边，所述区域包括与所述第一边方向相同的第三边以及与第二边方向相同的第四边，所述摩擦方向为第一边方向，所述第四边的长度大于或等于所述第二边的长度。

进一步地，所述摩擦布通过滚筒带动以对所述显示单元进行摩擦，所述基板通过机台向所述第一边方向移动，所述第三边的长度k满足：k≥a/n；

其中，n为所述滚筒的转速，a为所述机台向所述第一边方向移动的速度。

进一步地，所述修复结构包括：

在对应于摩擦方向上所述基板的周边或者相邻两个显示单元之间的区域依次形成的包括栅极的图形、绝缘层、包括半导体有源层的图形、包括数据线的图形以及钝化层，其中，所述包括数据线的图形的形状形成为多个平行排布的条状凸起。

进一步地，所述修复结构包括：

在对应于摩擦方向上所述基板的周边或者相邻两个显示单元之间的区域依次形成的包括栅极的图形、绝缘层、钝化层以及包括像素电极的图形，其中，所述包括栅极的图形和所述包括像素电极的图形在该区域形成为相同的形状，均形成为多个平行排布的条状凸起。

进一步地，所述基板包括多个所述修复结构。

（三）有益效果

本发明通过基板上设置修复结构，当摩擦布经过该修复结构时，能够使得摩擦布表面的纤维的弯曲度一致，提高摩擦布表面摩擦纤维排列的有序性，从而能够有效改善摩擦不良现象。

附图说明

图1是本发明实施方式提供的第一种基板的示意图；

图2是本发明实施方式提供的第二种基板的示意图；

图3是本发明实施方式提供的第一种修复结构的示意图；

图4是本发明实施方式提供的第二种修复结构的示意图；

图5是本发明实施方式提供的第三种基板的示意图；

图6是本发明实施方式提供的第四种基板的示意图；

图7是本发明实施方式提供的第五种基板的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

本发明实施方式提供了一种基板，所述基板上设置有修复结构，所述修复结构用于修复摩擦布表面纤维。

本发明实施方式提供的基板，该基板上设置有修复结构，当摩擦布经过该修复结构时，能够使得摩擦布表面的纤维的弯曲度一致，提高摩擦布表面摩擦纤维排列的有序性，从而能够有效改善摩擦不良现象。

其中，基板可以包括多个显示单元，修复结构可以位于摩擦方向上基板的周边或者相邻两个显示单元之间，所述摩擦方向是指摩擦布摩擦所述基板的方向。参见图1，图1是本发明实施方式提供的一种基板的示意图，该基板1包括两个修复结构3以及在该基板上形成的四个排列有序的显示单元2，修复结构位于摩擦方向上相邻两个显示单元之间，即如图1所示，所述摩擦方向为箭头5所示方向（图中显示单元的行方向），上述的两个修复结构3分别位于第一行两个显示单元之间以及第二行两个显示单元之间。当然，所述修复结构还可以位于摩擦方向上基板的周边，例如如图1所示，摩擦结构可以位于第一列两个显示单元的左侧，这样就可以在对显示单元进行摩擦之前对摩擦布进行预修复，更好的保证摩擦的质量。

需要说明的是，本发明实施方式中，基板可以通过切割工艺将多个显示单元分割，分割后的单个显示单元通过对盒工艺从而形成显示面板，例如，该显示单元可以为阵列基板，该阵列基板与彩膜基板通过对盒从而形成可以显示图像的显示面板，当然本发明实施例以基板上包括四个显示单元为例进行说明，实际应用中基板可以包括六个、八个、九个等不同数量的显示单元，这些本发明不做限定。

具体地，摩擦布沿方向5对该基板1进行摩擦，摩擦布表面的纤维与显示单元2的表面接触，显示单元上设置有pad区4，包括电性测试焊接区（ET Pad）4a和芯片焊接区（IC Bonding Pad）4b，当摩擦布表面与Pad区4接触时，会对摩擦布表面纤维的弯曲度造成一定的影响，使得其表面纤维的弯曲度不一致，当摩擦布经过pad区4后与修复结构3接触，该修复结构3能够使得摩擦布表面的纤维的弯曲度一致，提高摩擦布表面摩擦纤维排列的有序性，在后续摩擦布对基板的摩擦过程中，能够在基板的表面形成排列有序的沟槽，从而可以改善摩擦不良现象。

其中，修复结构3在所述基板上的对应区域的形状可以为长方形。

参见图1，每一个显示单元2包括第一边2a以及与所述第一边2a垂直的第二边2b，修复结构3在所述基板对应区域包括与所述第一边方向2a相同的第三边3a以及与第二边2b方向相同的第四边3b，所述摩擦布沿所述第一边2a方向（方向5，即摩擦方向）对所述显示单元进行摩擦，其中，修复结构3在基板对应区域的第四边3b的长度可以大于或等于所述第二边的长度，这样可以实现对有效摩擦布或者说经过显示单元的摩擦布全都能进行修复。

具体地，修复结构3在基板对应区域的第四边3b的长度可以根据具体情况进行设置，参见图2，该基板1包括一个修复结构3以及在该基板上形成的四个排列有序的显示单元2，其中，修复结构3在基板对应区域的第四边3b的长度大于或等于两倍的显示单元的第二边2b的长度，从而使得该修复结构3既可以位于第一行两个显示单元之间，又可以位于第二行两个显示单元之间。当然本发明实施例以基板上包括四个显示单元为例进行说明，实际应用中基板可以包括六个、八个、九个等不同数量的显示单元，则修复结构3可以位于任两列显示单元之间，每一修复结构3在基板对应区域的第四边3b的长度大于或等于每列所有显示单元的第二边2b的长度之和，这些本发明不做限定。

在本发明实施方式中，摩擦布可以通过滚筒带动以对显示单元进行摩擦，基板通过机台向第一边方向移动，具体地，摩擦布裹在滚筒周边，滚筒在机台上方转动，为了保证摩擦布经过修复结构时，所有经过Pad区的纤维都能得到修复，修复结构3在基板对应区域的第三边3a的长度k满足：k≥a/n；

其中，n为所述滚筒的转速，a为所述机台向所述第一边方向移动的速度。例如，滚筒的转速为10转/秒，机台的移动速度为60mm/秒，则修复结构3在基板对应区域的第三边3a的长度k最小值为6mm。

参见图3，修复结构3可以包括多个平行设置的条状凸起30，优选地，可以包括多个形状相同的条状凸起。其中，条状凸起30的延伸方向与所述摩擦方向即摩擦布摩擦所述基板的方向5相同。

优选地，所述多个条状凸起30之间等间距设置。

参见图4，条状凸起30的横截面形状可以为以下的任意一种：梯形、矩形、三角形。

本发明实施方式中，修复结构3可以是在制备基板的过程中通过沉积、刻蚀等工艺一同制备得到。参见图5，修复结构的图案可以采用和显示单元中沟道区域相同的膜层结构，其形成工艺与沟道区域相同，具体地，首先在衬底基板6的对应区域上依次制作包括栅极的图形7、绝缘层8、包括半导体有源层的图形9，然后在包括半导体有源层的图形9上制作包括数据线的图形10，其中，包括数据线的图形10在对应于摩擦方向上所述基板的周边或者相邻两个显示单元之间的区域的形状形成为多个平行排布的条状凸起，然后在包括数据线的图形10上形成厚度均匀的钝化层（PVX）11，从而形成上述的修复结构3的图形。

此外，参见图6，修复结构的图案还可以采用显示单元中用于绑定IC的周边引线区的膜层结构，首先在衬底基板6上形成包括栅极的图形7，其中，包括栅极的图形7在对应于相邻两个显示单元之间区域的形状形成为多个平行排布的条状凸起，然后在栅极图形7上依次形成厚度均匀的绝缘层8以及厚度均匀的钝化层（PVX）11，并在钝化层11上形成包括像素电极的图形12，所述包括像素电极的图形12在该区域的形状与包括栅极的图形7在该区域的形状相同，即形成与包括栅极的图形中平行排布的条状凸起对应的形状，从而形成上述的修复结构3的图形。

此外，所述修复结构中平行排布的条状凸起还可以由其他膜层形成，如半导体有源层或钝化层等，此处不再赘述。

在本发明实施方式中，基板上的修复结构可以为多个，该多个修复结构可以根据摩擦布摩擦基板的方向设置在基板上不同的位置，参见图7，摩擦布沿方向5对基板1进行摩擦，该基板1包括四个显示单元，分别为显示单元21，显示单元22，显示单元23以及显示单元24，在该基板1上设置有三组修复结构，每一组修复结构包括两个修复结构，其中，第一组修复结构包括修复结构31和修复结构32，位于基板1左侧的边缘1a处，用于在摩擦布在对基板1摩擦之前对摩擦布进行修复，第二组修复结构包括修复结构33和修复结构34，位于基板1的中间位置，其中，修复结构33位于显示单元21和显示单元23之间，修复结构34位于显示单元22和显示单元24之间，第三组修复结构包括修复结构35和修复结构36，位于基板右侧的边缘1b处，用于在摩擦布对基板摩擦完成后对摩擦布进行修复。此外，修复结构还可以设置在显示单元中，具体地，可以设置在显示单元中的有效显示区域之外的区域。

本发明实施方式提供的基板，该基板上设置有修复结构，当摩擦布经过该修复结构时，能够使得摩擦布表面的纤维的弯曲度一致，提高摩擦布表面摩擦纤维排列的有序性，从而能够有效改善摩擦不良现象，提高显示面板的对比度。

以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。

Claims (12)

1.一种基板，其特征在于，所述基板上设置有修复结构，所述修复结构用于修复摩擦布表面纤维。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板包括多个显示单元，所述修复结构位于摩擦方向上所述基板的周边或者相邻两个显示单元之间。

3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述修复结构在所述基板上的对应区域的形状为长方形。

4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述修复结构包括多个平行设置的条状凸起。

5.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述条状凸起的横截面形状为以下的任意一种：梯形、矩形、三角形。

6.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述多个条状凸起之间等间距设置。

7.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述条状凸起的延伸方向与所述摩擦方向相同。

8.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述显示单元包括第一边以及与所述第一边垂直的第二边，所述区域包括与所述第一边方向相同的第三边以及与第二边方向相同的第四边，所述摩擦方向为第一边方向，所述第四边的长度大于或等于所述第二边的长度。

9.根据权利要求8所述的基板，其特征在于，所述摩擦布通过滚筒带动以对所述显示单元进行摩擦，所述基板通过机台向所述第一边方向移动，所述第三边的长度k满足：k≥a/n；

其中，n为所述滚筒的转速，a为所述机台向所述第一边方向移动的速度。

10.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述修复结构包括：

在对应于摩擦方向上所述基板的周边或者相邻两个显示单元之间的区域依次形成的包括栅极的图形、绝缘层、包括半导体有源层的图形、包括数据线的图形以及钝化层，其中，所述包括数据线的图形的形状形成为多个平行排布的条状凸起。

11.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述修复结构包括：

在对应于摩擦方向上所述基板的周边或者相邻两个显示单元之间的区域依次形成的包括栅极的图形、绝缘层、钝化层以及包括像素电极的图形，其中，所述包括栅极的图形和所述包括像素电极的图形在该区域形成为相同的形状，均形成为多个平行排布的条状凸起。

12.根据权利要求1至11任一所述的基板，其特征在于，所述基板包括多个所述修复结构。

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