SU744425A1 - Фотополимеризующа с композици - Google Patents
Фотополимеризующа с композици Download PDFInfo
- Publication number
- SU744425A1 SU744425A1 SU772552323A SU2552323A SU744425A1 SU 744425 A1 SU744425 A1 SU 744425A1 SU 772552323 A SU772552323 A SU 772552323A SU 2552323 A SU2552323 A SU 2552323A SU 744425 A1 SU744425 A1 SU 744425A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- composition
- stability
- monomer
- basis
- copolymer
- Prior art date
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
I
Изобретение относитс к фотополимеризукицим .композици м, которые могут быть использованы в полиграфии дл изготовлени офсетных печатных форм, цинковых кдшше, печатных плат.
Известна фотополимеризуница с композици ,; включающа сополимер стирола, метакриловой кислоты и малеинового анпздрида, мономер - дйметакриловый эфир этиленгг ой или а, со-триметакрил (бис-пентаэритрит)адапинат , или а, ш-триметакрил-пентаэритрит-ди Ощметакрилпептаэритритадишгаат), ииицнатс, краситель и растворитель 1. : Недостатком известной композиции, содержащей а, ш-триметакркл (5ис-пентаэритрит), а,Сд;-триметакрил-пентазритрит-ди- (диметакрилпентазритритадшшнат ), вл етс недостаточна стабильность физик о-химических свойств готобой композиции при дпительиом хранеюш, объ сн юща с тем, что толуол, присутствующий . в промышленно вьтускаемом мономере, способствует высаждению сополимера в композиции .
Композици , I включающа дйметакриловый зфир зтиленгликол , характеризуетс понижением реакщкжной способности мономера в : сочетании с данным сополимером и повышенной липкостью.
Цель изобретени - повышение стабильности композиции и улучшение технологии изготовлени печатных форм.
Цель достигаетс тем, что в качестве мономера композици содержит мономер на .основе,
10
аминофенола общей формулы
0-CO-CR CHj. NHCOCR:CHi, |где R HjCHa и следующем соотношешш компонентов, c.i: Соцолимер стирола, метакриловой кислоты и малеинового ангидрида4-6 Мсшомер на основе аминофенола8-12 Инициатор 3-5 Краситель0,05 - 0,1 Растворитель77 - 85 Используемый аминофенол характеризуетс следующими физико-химическими .свойствами: температура плавлени 30 С, максимальна зона поглощени 255 нм. Мономер хорошо растворим в ацетоне, ацетона-этанольной cNfet, толуоле. Его преимуществом вл етс то, что он твердый, нелетучий, стабилен при дштельном хранении. Подобные мономеры малочувствительны к ингибирующему действию кислорода. Изготовление фотополимерных офсетных форм осуществл ют следующим образом. Светочувствительн тю композшдаю нанос т на металлические подложки (алюлошневые, цинковые, медные, хромовые), сушат при комнатной температуре, затем облучают через фото формы актитачньш УФ-светом. В качестве исто iifflikoB излучени используют лампы типа ЛУФ-80, ПРК-7, дуговые фонари. Врем копировани 3-7 мин. ПолучёШШ копии про вл ют 2%-ным раствором карбоната натри ЮМ 0,5%-ным раствором едкого натра. Способ получени композиции заключаетс в том, что определенную навеску, сополимера раствор ют в ацетоне, затем добавл ют при перемешивании определенное количество изобутилового эфира бензсшна и красител . К зтому раствору добавл ют йредварительно растворенный в ацетоне твердый кономер на основе ами иофенолов. Полученную смесь перемешивают в течение 30 мин электромешалкой, затем фильтруют через капроновое сито, после чего композици готова к употреблению. Шосоё изготовлени копировального сло на основе предлагаемой крмпозищш заключаетс в том, что копировальный слой поливают на предварительно подготовленную алюминиевую пластину (мрнёную, обезжире1шую 2%-ным раст вором серной кислоты), сущат при комнатной температуре в течение 5-10 мин на центрифуге , покрьшают зап |йтным слоем (2%-ный раст вором пЪливишшового спирта с добавкой 0,1% поверхностно-активного вещества) и ОСТЙБЛЯЮТ на хранение в заггёмненнснл месте. Дл прлуче , ни печатных форм предва штел но очувствлен ные пластины экспонируют через негативную фотоформу, про вл ют 2%-ным раствором каль цинировакной соды, сушат, после чего форма готова к печати. Способ изготовлени биметаллических печатных форм на основе предлагаемой композиции заключаетс в том, что на хромированную поверхность методом центрифугировани нанос т композицию, слой сушат, затем экспонируют через позитивную фотоформу, про вл ют в 2%ном растворе кальцинированной соды и сушат в течение 5-10 мин при 40-50°С. Печатающие элементы формируютс путем химического травлени хрома до медной основы. Копировальный слой на основе предлагаемой композиции, используемый дл защиты пробельных элементов, в процессе травлени обладает повышенной кислотостойкоетью (вьщерживает травление смесью хлористого цинка, хлористого кальци и сол ной кислоты с удельным весом d 1,8 свыпю 25 мин). Примеры предлагаемой композиции приведены в табл. 1. Таблица ConojjHMep стирола , метакриловой кислоты и малеинового ангидрида45 виМетакрилиламинофенилметакрилат810 . . - .. -ч Изобутиловый эфир бензоина 34 Краштель Родамин 6ж КДМ0,05 0,075 Светочувствительные слои, полученные на основе указанных композиций обладают улучшенными технологическими свойствами по сравнению с.известной композицией. Данные об рсновньк технологических свойствах копировальных слоев на основе известной и предлагаемой композиций приведены в табл.12.
Свойства
Светочувствительность
-3
дж -см
Контрастность,
ДЖСМ
Гель-фракци , %
Адгези к алюминию, кг/см
Износостойкость, %
Краевые углы смачивани .
а)печатающих элементов
б)пробельных элементов
Разрешающа
способность, ЛИН/СМ
Выдел юща способность, с .
Срок . хранени , мер.
7444256
Таблица 2
Составы
известный
предлагаемые
г г г-
.
2,02,32,5
2,52,73,0
606875
130145150
979798
125 131
140
10
13 140
160 170
54 12
54 10
54 12
Claims (1)
- Как видно из табл. 2, светочувствительные слои на основе предлагаемойкомпозиции цо своим технологическим свойствам превосход т слои на основе известной композиции: фотографические свойства на 40-50% гель-фракци на 33-50% адгези к алюминию на 18-30%, ;изнооостоЙ1кость на 40-50%. . . Краевые углы смачивани , характеризукнцке краскоотдачу и красковоспри тие увеличиваютс на 13-20%, стабильность композиции возрастает в 3,5-4 раза. Поло тельный эффект от использовани предлагаемой композиции заключа етс в улучшении технологии изготовлени фотопол мерв ьй печатных рм. Введение твердого мономера пошостью ycTjpaiiaeT лиШ6сть к6тр сло , что исключает прилипание фотошаблонов к слою в процессе экспонировани , высока стабильность композиции ри хранении обеспечивает получение высококачественных печатных форм, изготовленных из предварительно очувствленных формных пласиш ш ее основе. Формула изобретени , Фотополимер зующа с композици ,включающа сополимер стирола, метакриловой кислрты и малеииового ангидрида, мсжомер, ини- циатор, краситель и растворитель, отличающа с тем, что, с целью повыщени стабильности; композиции и улучщени тсх оло1 й§гб еШйШй печатньгх форм, в качестве 744425 7 мономера она содержит мсжомер на основе Ш|4Н-« о-со-сд ctti нофенош общей формулы f) NHCOCRCHi. 3 где R HiCHs пр следующем соотношешш компонентов, Сополнкюр стирола, метакрнповой кислоты н малеинового ангидрша4-6 Мономер на основе аминофенола8-12 Игащн тор3-5 Краситель0,05-0,1 Растворитель 77-85 Источники информацин, прин тые во внимание при сспершзе 1. Авторское свидетельство СССР но за вке 2181395/23-04, кл. G 03 С 1/68, 11.04.77 тотип).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772552323A SU744425A1 (ru) | 1977-12-09 | 1977-12-09 | Фотополимеризующа с композици |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772552323A SU744425A1 (ru) | 1977-12-09 | 1977-12-09 | Фотополимеризующа с композици |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU744425A1 true SU744425A1 (ru) | 1980-06-30 |
Family
ID=20736869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU772552323A SU744425A1 (ru) | 1977-12-09 | 1977-12-09 | Фотополимеризующа с композици |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU744425A1 (ru) |
-
1977
- 1977-12-09 SU SU772552323A patent/SU744425A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4939070A (en) | Thermally stable photoresists with high sensitivity | |
CA1308594C (en) | Thermally stable photoresists with high sensitivity | |
JPH0544459B2 (ru) | ||
JPH02226149A (ja) | 光重合性化合物、それを含む光重合性混合物及びそれから製造された光重合性複写材料 | |
JPS6359130B2 (ru) | ||
PL87151B1 (ru) | ||
JPH0218564A (ja) | 感放射線混合物及びレリーフパターン作製方法 | |
JPS59184209A (ja) | 光感受性重合体 | |
JPS619420A (ja) | ペルフルオロアルキル基を含有するポリマー、その製法およびこれを含有する放射線感性複写層 | |
JPS5934293B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH07179522A (ja) | 酸触媒によって架橋可能なコポリマー | |
JPH0128366B2 (ru) | ||
JP3556256B2 (ja) | N,n−二置換スルホンアミド懸垂基を有する重合体およびその使用 | |
JPS5965090A (ja) | 10−フエニル−1,3,9−トリアザアントラセン及び該化合物を含有する光重合可能な混合物 | |
SU744425A1 (ru) | Фотополимеризующа с композици | |
FR2609187A1 (fr) | Matiere photopolymerisable, pouvant supporter une chaleur moderee | |
JP3315757B2 (ja) | 感光性多官能芳香族ジアゾ化合物およびそれを用いた感光性組成物 | |
JPS6037456B2 (ja) | 感光性複写材料 | |
WO2019151019A1 (ja) | ポジ型レジスト組成物、レジスト膜形成方法、及び積層体の製造方法 | |
JPS6249612B2 (ru) | ||
CA1213274A (en) | 1,3-diaza-9-thia-anthracene-2,4-diones and photopolymerizable mixtures containing same | |
SU593177A1 (ru) | Фотополимеризующа с композици | |
SU819787A1 (ru) | Фотополимеризующа с композици дл КОпиРОВАльНыХ СлОЕВ | |
JP3127476B2 (ja) | 光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物 | |
JPS58115432A (ja) | 光重合性組成物 |