JP3127476B2 - 光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物 - Google Patents
光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物Info
- Publication number
- JP3127476B2 JP3127476B2 JP4613791A JP4613791A JP3127476B2 JP 3127476 B2 JP3127476 B2 JP 3127476B2 JP 4613791 A JP4613791 A JP 4613791A JP 4613791 A JP4613791 A JP 4613791A JP 3127476 B2 JP3127476 B2 JP 3127476B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- photocurable resin
- resin composition
- exposure
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/52—Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
- C07C69/533—Monocarboxylic acid esters having only one carbon-to-carbon double bond
- C07C69/54—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/02—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
- C07C233/09—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having nitrogen atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals with carbon atoms of carboxamide groups bound to carbon atoms of an acyclic unsaturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F20/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F20/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/52—Amides or imides
- C08F20/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光反応性化合物および
該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物に関する。
さらに詳しくはレリーフ画像形成のための光硬化性樹脂
組成物に関する。本発明に係る光硬化性樹脂組成物は、
エレクトロニクス分野の部品加工や印刷産業における製
版材料などの一般のフォトレジスト応用分野に用いるこ
とができる。更に本発明に係る光硬化性樹脂組成物は、
紫外光に対して高感度であるがゆえに、顔料分散タイプ
のカラーフィルター製造に極めて適している。
該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物に関する。
さらに詳しくはレリーフ画像形成のための光硬化性樹脂
組成物に関する。本発明に係る光硬化性樹脂組成物は、
エレクトロニクス分野の部品加工や印刷産業における製
版材料などの一般のフォトレジスト応用分野に用いるこ
とができる。更に本発明に係る光硬化性樹脂組成物は、
紫外光に対して高感度であるがゆえに、顔料分散タイプ
のカラーフィルター製造に極めて適している。
【0002】
【従来の技術】近年、画像形成用の光硬化性樹脂組成物
には生産性や省エネルギー等の理由から、速い硬化速度
が、また作業環境の汚染防止や経済性等の理由から、未
露光部分のアルカリ水溶液可溶性が要求されている。か
かることを目的として、従来から多数の光硬化性樹脂組
成物が提案されている。これらは感光基が光によって二
量化架橋化する組成物(特公昭49−46396、特公
昭50−15026など)および付加重合可能なエチレ
ン性二重結合を含む化合物と光重合開始剤さらに所望に
応じて有機高分子結合剤と感光波長域を拡大するための
増感剤とからなる光重合組成物である。
には生産性や省エネルギー等の理由から、速い硬化速度
が、また作業環境の汚染防止や経済性等の理由から、未
露光部分のアルカリ水溶液可溶性が要求されている。か
かることを目的として、従来から多数の光硬化性樹脂組
成物が提案されている。これらは感光基が光によって二
量化架橋化する組成物(特公昭49−46396、特公
昭50−15026など)および付加重合可能なエチレ
ン性二重結合を含む化合物と光重合開始剤さらに所望に
応じて有機高分子結合剤と感光波長域を拡大するための
増感剤とからなる光重合組成物である。
【0003】光重合性組成物の例としては、エチレン性
不飽和二重結合を含む付加重合可能な化合物を置換トリ
アジンと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン
の系で光重合せしめる組成物(特開昭63−13933
9)、ケトクマリンと活性剤の系で光重合せしめる組成
物(特開昭52−112681、特開昭58−1550
3)、有機過酸化物と色素の系で光重合せしめる組成物
(特開昭59−140203)等多数知られている。こ
れらの光硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布して感光層
を作り、この感光層を像露光し、露光部分を重合硬化せ
しめ、ついで未硬化部分のみを溶解しうる溶媒で溶解除
去し、硬化画像を形成する。
不飽和二重結合を含む付加重合可能な化合物を置換トリ
アジンと(p−ジアルキルアミノベンジリデン)ケトン
の系で光重合せしめる組成物(特開昭63−13933
9)、ケトクマリンと活性剤の系で光重合せしめる組成
物(特開昭52−112681、特開昭58−1550
3)、有機過酸化物と色素の系で光重合せしめる組成物
(特開昭59−140203)等多数知られている。こ
れらの光硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布して感光層
を作り、この感光層を像露光し、露光部分を重合硬化せ
しめ、ついで未硬化部分のみを溶解しうる溶媒で溶解除
去し、硬化画像を形成する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の光硬化性樹脂組成物には、水性溶媒で未露光部分が溶
解できない、あるいは光重合系であるがゆえに、酸素存
在下での硬化速度が遅い、露光前の前処理温度が変化す
ると現像後の膜厚が大きく変動するなどの欠点があり、
画像形成に必要な性能を十分に満足しているとはいえな
かった。このような欠点を解消するために鋭意研究を行
った結果、本発明者等は環内に不飽和結合を有する脂環
式化合物を含む高分子化合物とアジド類の組み合せが極
めて高感度であることを見出し、本発明に至った。本発
明者等は、アルカリ水溶液で未露光部分の溶解除去が可
能で、かつ硬化速度の速い光硬化性樹脂組成物について
種々検討した結果、本発明に到達したものである。
の光硬化性樹脂組成物には、水性溶媒で未露光部分が溶
解できない、あるいは光重合系であるがゆえに、酸素存
在下での硬化速度が遅い、露光前の前処理温度が変化す
ると現像後の膜厚が大きく変動するなどの欠点があり、
画像形成に必要な性能を十分に満足しているとはいえな
かった。このような欠点を解消するために鋭意研究を行
った結果、本発明者等は環内に不飽和結合を有する脂環
式化合物を含む高分子化合物とアジド類の組み合せが極
めて高感度であることを見出し、本発明に至った。本発
明者等は、アルカリ水溶液で未露光部分の溶解除去が可
能で、かつ硬化速度の速い光硬化性樹脂組成物について
種々検討した結果、本発明に到達したものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記(1)〜(4)の構成を有する。 (1)一般式
記(1)〜(4)の構成を有する。 (1)一般式
【化3】 (式中、R1は水素原子、CH3またはC2H5基を表し、
Xは−O−または−NH−を表し、R2は水素原子、ハ
ロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基、アルコキ
シ基をmは2〜5の整数を表す。)で表される光反応性
化合物。 (2)一般式
Xは−O−または−NH−を表し、R2は水素原子、ハ
ロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基、アルコキ
シ基をmは2〜5の整数を表す。)で表される光反応性
化合物。 (2)一般式
【化4】 (式中、R1は水素原子、CH3またはC2H5基を表し、
Xは−O−または−NH−を表し、R2は水素原子、ハ
ロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基、アルコキ
シ基をmは1〜5の整数を表す。)で表わされる光反応
性化合物を重合せしめてなる高分子化合物に、感光性付
与剤としてアジド化合物を添加してなることを特徴とす
る光硬化性樹脂組成物。 (3)前記(2)に記載の光反応性化合物を同一分子内
にエチレン性不飽和二重結合とカルボキシル基を含有す
る化合物と重合せしめてなる前記(2)の光硬化性樹脂
組成物。 (4)前記(3)に記載の光硬化性樹脂組成物に着色顔
料を分散せしめてなることを特徴とするカラーフィルタ
ー材料。
Xは−O−または−NH−を表し、R2は水素原子、ハ
ロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基、アルコキ
シ基をmは1〜5の整数を表す。)で表わされる光反応
性化合物を重合せしめてなる高分子化合物に、感光性付
与剤としてアジド化合物を添加してなることを特徴とす
る光硬化性樹脂組成物。 (3)前記(2)に記載の光反応性化合物を同一分子内
にエチレン性不飽和二重結合とカルボキシル基を含有す
る化合物と重合せしめてなる前記(2)の光硬化性樹脂
組成物。 (4)前記(3)に記載の光硬化性樹脂組成物に着色顔
料を分散せしめてなることを特徴とするカラーフィルタ
ー材料。
【0006】本発明の組成物中の高分子化合物は、その
分子構造中に前記一般式で示される化合物を有する事が
特徴であり、該構造単位のみからなる単独重合体あるい
は該構造単位と他のビニル系単量体の不飽和二重結合を
開裂せしめた構造で示される構造単位一種類以上とを組
み合わせた繰り返し構造を有する共重合体型の構造を有
するものである。
分子構造中に前記一般式で示される化合物を有する事が
特徴であり、該構造単位のみからなる単独重合体あるい
は該構造単位と他のビニル系単量体の不飽和二重結合を
開裂せしめた構造で示される構造単位一種類以上とを組
み合わせた繰り返し構造を有する共重合体型の構造を有
するものである。
【0007】本発明の光反応性化合物は新規な化合物で
あり、シクロヘキセニルアルカノールまたはシクロヘキ
セニルアルキルアミンを(メタ)アクリル酸クロライド
と反応せしめることにより容易に得られる。本発明の光
反応性化合物は前記一般式で表され、分子構造中に反応
性の異なる二つの不飽和結合を有することが特徴であ
る。シクロヘキセン環中の不飽和二重結合は特にアジド
類との光反応性に富むが、ラジカルを使用しての重合反
応には活性が弱い。他方の不飽和二重結合はラジカル重
合性に富むが、アジド類との光反応性は弱い。該化合物
を光に対して不活性な高分子化合物と混合し、光ラジカ
ル開始剤、或いはアジド化合物を添加して、光硬化性樹
脂を調整することも勿論可能であるが、前述の如き不飽
和二重結合の反応性の差異を利用して、ラジカル重合せ
しめて高分子化合物となし、高分子化合物中のシクロヘ
キセン環の二重結合とアジド化合物の光反応性を利用す
ることがより好ましい。
あり、シクロヘキセニルアルカノールまたはシクロヘキ
セニルアルキルアミンを(メタ)アクリル酸クロライド
と反応せしめることにより容易に得られる。本発明の光
反応性化合物は前記一般式で表され、分子構造中に反応
性の異なる二つの不飽和結合を有することが特徴であ
る。シクロヘキセン環中の不飽和二重結合は特にアジド
類との光反応性に富むが、ラジカルを使用しての重合反
応には活性が弱い。他方の不飽和二重結合はラジカル重
合性に富むが、アジド類との光反応性は弱い。該化合物
を光に対して不活性な高分子化合物と混合し、光ラジカ
ル開始剤、或いはアジド化合物を添加して、光硬化性樹
脂を調整することも勿論可能であるが、前述の如き不飽
和二重結合の反応性の差異を利用して、ラジカル重合せ
しめて高分子化合物となし、高分子化合物中のシクロヘ
キセン環の二重結合とアジド化合物の光反応性を利用す
ることがより好ましい。
【0008】該化合物を使用してなる高分子化合物は該
化合物のみからなる単独重合体或いは該化合物と他のビ
ニル系単量体との共重合体のいづれでも良い。
化合物のみからなる単独重合体或いは該化合物と他のビ
ニル系単量体との共重合体のいづれでも良い。
【0009】共重合体型の構造を有する本発明の高分子
化合物において前記一般式で示される構造単位と組み合
わせて用いられるビニル系単量体としては、例えばスチ
レン、メチルスチレンなどのスチレン類、アクリル酸、
メタクリル酸、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチ
ル、(メタ)アクリル酸イソブチルなどのα−メチレン
脂肪族モノカルボン酸のエステル類、酢酸ビニルなどの
ビニルエステル類などをあげることができる。しかしな
がら該高分子化合物がアルカリ水溶液への適正な溶解性
をもつようにするために、メタクリル酸、アクリル酸あ
るいは2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートに無
水マレイン酸、無水コハク酸などの酸無水物を反応せし
めて得られるモノエステル類などを使用して、高分子中
にカルボキシル基を導入することが望ましい。
化合物において前記一般式で示される構造単位と組み合
わせて用いられるビニル系単量体としては、例えばスチ
レン、メチルスチレンなどのスチレン類、アクリル酸、
メタクリル酸、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチ
ル、(メタ)アクリル酸イソブチルなどのα−メチレン
脂肪族モノカルボン酸のエステル類、酢酸ビニルなどの
ビニルエステル類などをあげることができる。しかしな
がら該高分子化合物がアルカリ水溶液への適正な溶解性
をもつようにするために、メタクリル酸、アクリル酸あ
るいは2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートに無
水マレイン酸、無水コハク酸などの酸無水物を反応せし
めて得られるモノエステル類などを使用して、高分子中
にカルボキシル基を導入することが望ましい。
【0010】本発明の光硬化性組成物に係る高分子化合
物の分子量に特に制限はないが、光硬化性樹脂組成物を
支持体上に均一な膜として塗布することが必要であるた
め通常ポリスチレン換算重量平均分子量が5000〜5
00000程度が好ましい。しかし形成する膜の厚さ、
塗布方法、使用目的に応じて上記の範囲以外のポリスチ
レン換算重量平均分子量を選択することも可能である。
物の分子量に特に制限はないが、光硬化性樹脂組成物を
支持体上に均一な膜として塗布することが必要であるた
め通常ポリスチレン換算重量平均分子量が5000〜5
00000程度が好ましい。しかし形成する膜の厚さ、
塗布方法、使用目的に応じて上記の範囲以外のポリスチ
レン換算重量平均分子量を選択することも可能である。
【0011】本発明に用いられる感光性付与剤としての
アジド化合物としては4−アジドカルコン、4,4’−
ジアジドカルコン、2,6−ビス(4−アジドベンジリ
デン)−4−メチルシクロヘキサノンなど公知の化合物
が用いられる。
アジド化合物としては4−アジドカルコン、4,4’−
ジアジドカルコン、2,6−ビス(4−アジドベンジリ
デン)−4−メチルシクロヘキサノンなど公知の化合物
が用いられる。
【0012】本発明の光硬化性樹脂組成物における感光
性付与剤の配合量は、特に制限は無いが通常高分子化合
物100重量部あたり0.5〜15重量部の範囲が好ま
しい。0.5重量部未満では、皮膜の硬化速度が不十分
であるし15重量部を超えると感光性付与剤の析出など
の問題が生じて来る。
性付与剤の配合量は、特に制限は無いが通常高分子化合
物100重量部あたり0.5〜15重量部の範囲が好ま
しい。0.5重量部未満では、皮膜の硬化速度が不十分
であるし15重量部を超えると感光性付与剤の析出など
の問題が生じて来る。
【0013】本発明の光硬化性樹脂組成物には、上述し
たモノアジド類、ジアジド類に対し必要に応じて増感剤
を添加することができる。増感剤の具体的な例として
は、1−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフト
チアゾリンに代表されるナフトチアゾリン類及びベンゾ
チアゾリン類、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチ
ルアミノクマリン)に代表されるケトクマリン類が好ま
しい。
たモノアジド類、ジアジド類に対し必要に応じて増感剤
を添加することができる。増感剤の具体的な例として
は、1−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフト
チアゾリンに代表されるナフトチアゾリン類及びベンゾ
チアゾリン類、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチ
ルアミノクマリン)に代表されるケトクマリン類が好ま
しい。
【0014】増感剤の配合量は特に制限はないが、通常
高分子化合物100重量部当たり0.5〜15重量部の
範囲であり、好ましくは1〜10重量部の範囲である。
0.5重量部未満では増感剤の効果が小さく、硬化速度
は未添加時と比較して速くならない。15重量部を超え
ると未露光部のアルカリ水溶液への溶解性が低下してく
る。以上の各構成材料の各所定量を混合することにより
感光材料すなわち、本発明の光硬化性樹脂組成物が得ら
れる。
高分子化合物100重量部当たり0.5〜15重量部の
範囲であり、好ましくは1〜10重量部の範囲である。
0.5重量部未満では増感剤の効果が小さく、硬化速度
は未添加時と比較して速くならない。15重量部を超え
ると未露光部のアルカリ水溶液への溶解性が低下してく
る。以上の各構成材料の各所定量を混合することにより
感光材料すなわち、本発明の光硬化性樹脂組成物が得ら
れる。
【0015】前記の感光材料の使用に際しては従来常用
の方法が適用され、例えば線画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光し、次いでアルカリ水溶液で現
像することにより原画に対してポジ型、ネガ型のレリー
フ像が得られる。本発明の光硬化性樹脂組成物は、支持
体上に通常の塗布方法を用いて塗布した後紫外線を照射
してアジド類の架橋性から目的のレリーフ像を形成する
ことができる。このようにして得られたレリーフ像は耐
薬品性が大きく機械的強度がすぐれている。また支持体
に対する接着性が強固である。また極めて高感度である
ので、顔料分散型カラーフィルター形成材料としても好
適である。このように本発明に係る光硬化性樹脂組成物
は極めて有用なものである。
の方法が適用され、例えば線画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光し、次いでアルカリ水溶液で現
像することにより原画に対してポジ型、ネガ型のレリー
フ像が得られる。本発明の光硬化性樹脂組成物は、支持
体上に通常の塗布方法を用いて塗布した後紫外線を照射
してアジド類の架橋性から目的のレリーフ像を形成する
ことができる。このようにして得られたレリーフ像は耐
薬品性が大きく機械的強度がすぐれている。また支持体
に対する接着性が強固である。また極めて高感度である
ので、顔料分散型カラーフィルター形成材料としても好
適である。このように本発明に係る光硬化性樹脂組成物
は極めて有用なものである。
【0016】以下実施例により本発明を詳述する。本発
明はこれらの実施例に限られるものではない。実施例、
比較例中、露光にはウシオ社製超高圧水銀燈UI−50
1Cを使用した。400mm以上の長波長側の感度を測
定する際はHOYAカラーフィルターガラスL42(以
下L42と略す)を使用した。露光量の測定はウシオ社
製UIT−102積算光量計を用いて行った。現象は
0.05%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液で行い露光現像後の膜厚が一定となった(以下飽和膜
厚と呼ぶ)露光量をもって感度とした。露光はすべて空
気中で行った。
明はこれらの実施例に限られるものではない。実施例、
比較例中、露光にはウシオ社製超高圧水銀燈UI−50
1Cを使用した。400mm以上の長波長側の感度を測
定する際はHOYAカラーフィルターガラスL42(以
下L42と略す)を使用した。露光量の測定はウシオ社
製UIT−102積算光量計を用いて行った。現象は
0.05%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液で行い露光現像後の膜厚が一定となった(以下飽和膜
厚と呼ぶ)露光量をもって感度とした。露光はすべて空
気中で行った。
【0017】実施例1 3−シクロヘキセン−1−メタノール112g、メタク
リル酸172g、硫酸2.8gおよび重合禁止剤フェノ
チアジン0.28g、4−メトキシフェノール0.28
gを攪拌器付きフラスコに入れ、200mHg、80℃
で4時間攪拌した。その際26gの水が留出した。反応
液を蒸留し、2mmHg、53〜55℃の留分153g
(GC純度99%)を得た。IRスペクトル、H1 NM
Rスペクトルで構造を3−シクロヘキセニルメチルメタ
クリレートと確認した。次に3−シクロヘキセニルメチ
ルメタクリレート30g、2−ヒドロキシエチルメタク
リレートとメタクリル酸各30gをメタノール225g
に溶解し、4,4’−アゾビスイソブチロニトリル0.
27gを加えて65℃で6hr加熱した。これを酢酸エ
チル1500gに投入し、析出した沈殿を減圧乾燥して
65gの高分子化合物を得た。上記高分子化合物1.5
g、2,6−ジ(4−アジドベンジリデン)−4−メチ
ルシクロヘキサノン(以下AZ−1と略す)0.045
g、1−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフト
チアゾリン0.045g、メチルセロソルブ9ミリリッ
トル、N−メチル−2−ピロリドン1ミリリットルを混
合、溶解し、光硬化性樹脂組成物とした。
リル酸172g、硫酸2.8gおよび重合禁止剤フェノ
チアジン0.28g、4−メトキシフェノール0.28
gを攪拌器付きフラスコに入れ、200mHg、80℃
で4時間攪拌した。その際26gの水が留出した。反応
液を蒸留し、2mmHg、53〜55℃の留分153g
(GC純度99%)を得た。IRスペクトル、H1 NM
Rスペクトルで構造を3−シクロヘキセニルメチルメタ
クリレートと確認した。次に3−シクロヘキセニルメチ
ルメタクリレート30g、2−ヒドロキシエチルメタク
リレートとメタクリル酸各30gをメタノール225g
に溶解し、4,4’−アゾビスイソブチロニトリル0.
27gを加えて65℃で6hr加熱した。これを酢酸エ
チル1500gに投入し、析出した沈殿を減圧乾燥して
65gの高分子化合物を得た。上記高分子化合物1.5
g、2,6−ジ(4−アジドベンジリデン)−4−メチ
ルシクロヘキサノン(以下AZ−1と略す)0.045
g、1−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフト
チアゾリン0.045g、メチルセロソルブ9ミリリッ
トル、N−メチル−2−ピロリドン1ミリリットルを混
合、溶解し、光硬化性樹脂組成物とした。
【0018】この光硬化性樹脂組成物をガラス基板上に
1000rpmでスピンコートし、110℃で10分間
加熱した後露光した。露光前の膜厚は1.50μmであ
り、露光現像後の飽和膜厚は1.35μmであった。こ
の時の感度は30mj/cm2であった。また、露光前
の加熱処理を85℃、10分間行った時の露光前膜厚は
1.55μmであった。この時の感度は45mj/cm
2であった。
1000rpmでスピンコートし、110℃で10分間
加熱した後露光した。露光前の膜厚は1.50μmであ
り、露光現像後の飽和膜厚は1.35μmであった。こ
の時の感度は30mj/cm2であった。また、露光前
の加熱処理を85℃、10分間行った時の露光前膜厚は
1.55μmであった。この時の感度は45mj/cm
2であった。
【0019】実施例2(使用例) 実施例1の光硬化性の樹脂組成物をガラス基板上に10
00rpmでスピンコートし、110℃で10分間加熱
した後L42を通して露光した。このときの感度は80
mj/cm2であり、露光現像後の飽和膜厚は1.30
μmであった。
00rpmでスピンコートし、110℃で10分間加熱
した後L42を通して露光した。このときの感度は80
mj/cm2であり、露光現像後の飽和膜厚は1.30
μmであった。
【0020】実施例3 アセトン350g、トリエチルアミン121g、α−テ
ルピネオール154gおよび重合禁止剤としてフェノチ
アジン0.7gを攪拌器付きフラスコに入れ、0〜5℃
に保ちつつメタクリル酸クロライド110gをゆっくり
滴下した。滴下終了後50℃で2時間攪拌した。析出し
た塩を濾過で除きアセトンを留去濃縮し、2mmHg、
97〜103℃の留分115g(GC純度95%)を得
た。IRスペクトル、H1 NMRスペクトルで構造を4
−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル−ジメチルメ
タクリレートと確認した。次に4−メチル−3−シクロ
ヘキセン−1−イル−ジメチルメタクリレート30g、
モノ(2−メタクリロキシエチル)マレート40gをメ
タノール220gに溶解し、2,2’−アゾビスイソブ
チロニトリル0.28gを加えて65℃で6時間加熱し
た。これを酢酸エチル1500gに投入し、析出した沈
殿を減圧乾燥して43gの高分子化合物を得た。上記高
分子化合物1.5g、AZ−10.05g、メチルセロ
ソルブ9ミリリットル、N−メチル−2−ピロリドン1
ミリリットルを混合、溶解し光硬化性樹脂組成物とし
た。これを実施例1と同様の方法で露光した。110℃
加熱時の露光前膜厚は1.50μm、露光現像後の飽和
膜厚は1.30μmであり、感度は80mj/cm2で
あった。85℃加熱時の露光前膜厚は1.60μm、露
光現像後の飽和膜厚は1.30μmであり、この時の感
度は120mj/cm2であった。
ルピネオール154gおよび重合禁止剤としてフェノチ
アジン0.7gを攪拌器付きフラスコに入れ、0〜5℃
に保ちつつメタクリル酸クロライド110gをゆっくり
滴下した。滴下終了後50℃で2時間攪拌した。析出し
た塩を濾過で除きアセトンを留去濃縮し、2mmHg、
97〜103℃の留分115g(GC純度95%)を得
た。IRスペクトル、H1 NMRスペクトルで構造を4
−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル−ジメチルメ
タクリレートと確認した。次に4−メチル−3−シクロ
ヘキセン−1−イル−ジメチルメタクリレート30g、
モノ(2−メタクリロキシエチル)マレート40gをメ
タノール220gに溶解し、2,2’−アゾビスイソブ
チロニトリル0.28gを加えて65℃で6時間加熱し
た。これを酢酸エチル1500gに投入し、析出した沈
殿を減圧乾燥して43gの高分子化合物を得た。上記高
分子化合物1.5g、AZ−10.05g、メチルセロ
ソルブ9ミリリットル、N−メチル−2−ピロリドン1
ミリリットルを混合、溶解し光硬化性樹脂組成物とし
た。これを実施例1と同様の方法で露光した。110℃
加熱時の露光前膜厚は1.50μm、露光現像後の飽和
膜厚は1.30μmであり、感度は80mj/cm2で
あった。85℃加熱時の露光前膜厚は1.60μm、露
光現像後の飽和膜厚は1.30μmであり、この時の感
度は120mj/cm2であった。
【0021】実施例4(使用例) 実施例3の光硬化性樹脂組成物を実施例2と同様の方法
で露光した。このときの感度は200mj/cm2であ
った。
で露光した。このときの感度は200mj/cm2であ
った。
【0022】実施例5 アセトン500g、2−(1−シクロヘキセニル)エチ
ルアミン77g、トリエチルアミン155gおよび重合
禁止剤としてフェノチアジン0.5gを攪拌器付きフラ
スコに入れ、0〜5℃に保ちつつメタクリル酸クロライ
ド71gをゆっくり滴下した。その後25℃で2時間攪
拌した。析出した塩を濾過で除きアセトンを留去濃縮し
水洗いした。1mmHg、145〜147℃の留分80
g(GC純度94%)を得た。IRスペクトル、H1 N
MRスペクトルで構造をN−(1−シクロヘキセニル−
2−エチル)メタクリルアミドと確認した。次にN−
[2−(1−シクロヘキセニル)エチル]メタクリルア
ミド30g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート40
g、メタクリル酸30gをメタノール300gに溶解
し、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.5gを
加え65℃で4時間加熱した。これを酢酸エチル200
0gに投入し、析出した沈殿を乾燥して54gの高分子
化合物を得た。上記高分子化合物1.5g、4,4’−
ジアジドカルコン0.06g、メチルセロソルブ9ミリ
リットル、N−メチル−2−ピロリドン1ミリリットル
を混合、溶解し、光硬化性樹脂組成物とした。これを実
施例1と同様の方法で露光した。110℃加熱時の露光
前膜厚は1.20μm、露光現像後の飽和膜厚は1.1
0μmであり、この時の感度は80mj/cm2であっ
た。85℃加熱時の露光前膜厚は1.30μm、露光現
像後の飽和膜厚は1.05μmであり、この時の感度は
120mj/cm2であった。
ルアミン77g、トリエチルアミン155gおよび重合
禁止剤としてフェノチアジン0.5gを攪拌器付きフラ
スコに入れ、0〜5℃に保ちつつメタクリル酸クロライ
ド71gをゆっくり滴下した。その後25℃で2時間攪
拌した。析出した塩を濾過で除きアセトンを留去濃縮し
水洗いした。1mmHg、145〜147℃の留分80
g(GC純度94%)を得た。IRスペクトル、H1 N
MRスペクトルで構造をN−(1−シクロヘキセニル−
2−エチル)メタクリルアミドと確認した。次にN−
[2−(1−シクロヘキセニル)エチル]メタクリルア
ミド30g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート40
g、メタクリル酸30gをメタノール300gに溶解
し、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.5gを
加え65℃で4時間加熱した。これを酢酸エチル200
0gに投入し、析出した沈殿を乾燥して54gの高分子
化合物を得た。上記高分子化合物1.5g、4,4’−
ジアジドカルコン0.06g、メチルセロソルブ9ミリ
リットル、N−メチル−2−ピロリドン1ミリリットル
を混合、溶解し、光硬化性樹脂組成物とした。これを実
施例1と同様の方法で露光した。110℃加熱時の露光
前膜厚は1.20μm、露光現像後の飽和膜厚は1.1
0μmであり、この時の感度は80mj/cm2であっ
た。85℃加熱時の露光前膜厚は1.30μm、露光現
像後の飽和膜厚は1.05μmであり、この時の感度は
120mj/cm2であった。
【0023】実施例6(使用例) 実施例5の光硬化性樹脂組成物に3,3’−カルボニル
ビス(7−ジエチルアミノクマリン)0.075gを加
え実施例2と同様の方法で露光した。この時の感度は1
50mj/cm2であった。
ビス(7−ジエチルアミノクマリン)0.075gを加
え実施例2と同様の方法で露光した。この時の感度は1
50mj/cm2であった。
【0024】比較例1 メタクリル酸メチル−メタクリル酸コポリマー(重合比
7:3)1.0g、トリメチロールプロパントリアクリ
ルレート0.3g、2,4,6−トリス(トリクロロメ
チル)トリアジン(以下TCTと略す)0.012g、
NT−10.04g、メチルセロソルブ9ミリリット
ル、N−メチル−2−ピロリドン1ミリリットルを混
合、溶解し、光硬化性樹脂組成物とした。この光硬化性
樹脂組成物をガラス基板上に900rpmでスピンコー
トし、85℃で10分間加熱した後、露光した。露光前
膜厚は1.10μmであり、露光現像後の飽和膜厚は
0.70μmであった。この時の感度は150mj/c
m2であった。また、露光前の加熱処理を75℃、10
分間行った時の露光前膜厚は1.20μmであり、露光
現像後の飽和膜厚は0.50μmであった。この時の感
度は240mj/cm2であった。
7:3)1.0g、トリメチロールプロパントリアクリ
ルレート0.3g、2,4,6−トリス(トリクロロメ
チル)トリアジン(以下TCTと略す)0.012g、
NT−10.04g、メチルセロソルブ9ミリリット
ル、N−メチル−2−ピロリドン1ミリリットルを混
合、溶解し、光硬化性樹脂組成物とした。この光硬化性
樹脂組成物をガラス基板上に900rpmでスピンコー
トし、85℃で10分間加熱した後、露光した。露光前
膜厚は1.10μmであり、露光現像後の飽和膜厚は
0.70μmであった。この時の感度は150mj/c
m2であった。また、露光前の加熱処理を75℃、10
分間行った時の露光前膜厚は1.20μmであり、露光
現像後の飽和膜厚は0.50μmであった。この時の感
度は240mj/cm2であった。
【0025】比較例2(比較使用例) 比較例1の光硬化性樹脂組成物をガラス基板上に900
rpmでスピンコートし、85℃で10分間加熱した後
L42を通して露光した。この時の感度は180mj/
cm2であり、露光現像後の飽和膜厚は0.40μmで
あった。
rpmでスピンコートし、85℃で10分間加熱した後
L42を通して露光した。この時の感度は180mj/
cm2であり、露光現像後の飽和膜厚は0.40μmで
あった。
【0026】実施例7(応用例) 実施例1で得られた高分子化合物を用いて、次のカラー
フィルター用顔料インキを調整した。 赤色顔料インキ ポリマー 17g 2,6-ジ (4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン 0.5g Cromophtal Red A3B(チバガイギー社、商品名) 5g Seikafast Yellow 2700 (大日精化社、商品名) 1.0g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル 緑色顔料インキ ポリマー 17g 2,6-ジ (4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン 0.5g Cyanine Green S537-2y (大日精化社、商品名) 6g Seikafast Yellow 2700 (大日精化社、商品名) 1.2g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル 青色顔料インキ ポリマー 17g 4,4'−ジアジドジフェニルメタン 0.7g Chromofine Blue 4920(大日精化社、商品名) 5g Chromofine Violet RE(大日精化社、商品名) 1.2g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル 黒色顔料インキ ポリマー 17g 2,6-ジ (4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン 0.5g Denka Black (電気化学社、商品名) 6g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル
フィルター用顔料インキを調整した。 赤色顔料インキ ポリマー 17g 2,6-ジ (4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン 0.5g Cromophtal Red A3B(チバガイギー社、商品名) 5g Seikafast Yellow 2700 (大日精化社、商品名) 1.0g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル 緑色顔料インキ ポリマー 17g 2,6-ジ (4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン 0.5g Cyanine Green S537-2y (大日精化社、商品名) 6g Seikafast Yellow 2700 (大日精化社、商品名) 1.2g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル 青色顔料インキ ポリマー 17g 4,4'−ジアジドジフェニルメタン 0.7g Chromofine Blue 4920(大日精化社、商品名) 5g Chromofine Violet RE(大日精化社、商品名) 1.2g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル 黒色顔料インキ ポリマー 17g 2,6-ジ (4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン 0.5g Denka Black (電気化学社、商品名) 6g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 90ミリリットル N-メチル−2-ピロリドン 10ミリリットル
【0027】これらの着色インキを夫々別のガラス基板
にスピンコーターを用いて回転数1200rpmで塗布
し、110℃、10分間熱処理後、ウシオ社製UI−5
01C超高圧水銀燈でストライプパターンのマスクを介
して空気中で露光した。露光後0.05%の炭酸ソーダ
水溶液に2分間浸漬、次いで流水で15秒間洗浄して未
露光部分を除去した。露光量を変えて上記操作を行い、
各色について現像後の膜厚が一定になる露光量を求め
た。(ただし黒色インキのみは露光後110℃で5分間
熱処理を行った。)
にスピンコーターを用いて回転数1200rpmで塗布
し、110℃、10分間熱処理後、ウシオ社製UI−5
01C超高圧水銀燈でストライプパターンのマスクを介
して空気中で露光した。露光後0.05%の炭酸ソーダ
水溶液に2分間浸漬、次いで流水で15秒間洗浄して未
露光部分を除去した。露光量を変えて上記操作を行い、
各色について現像後の膜厚が一定になる露光量を求め
た。(ただし黒色インキのみは露光後110℃で5分間
熱処理を行った。)
【0028】現像後の飽和膜厚を1.7μmとした時の
感度は赤100mj/cm2、緑150mj/cm2、青
300mj/cm2、黒300mj/cm2であり、顔料
を含みかつ空気中での露光でも従来のカラーフィルター
形成法と同程度の露光量で十分パターンが形成出来、極
めて高感度であることを示している。第4図に、以上の
条件で形成した着色画像の分光スペクトルを示す。次に
上記の条件により、同一ガラス基板上に、順次、赤、
緑、青、黒の着色パターンを形成した。各色の分光スペ
クトルは第2図と一致し、工程中に混色ないしは脱色が
生じなかったことを示した。
感度は赤100mj/cm2、緑150mj/cm2、青
300mj/cm2、黒300mj/cm2であり、顔料
を含みかつ空気中での露光でも従来のカラーフィルター
形成法と同程度の露光量で十分パターンが形成出来、極
めて高感度であることを示している。第4図に、以上の
条件で形成した着色画像の分光スペクトルを示す。次に
上記の条件により、同一ガラス基板上に、順次、赤、
緑、青、黒の着色パターンを形成した。各色の分光スペ
クトルは第2図と一致し、工程中に混色ないしは脱色が
生じなかったことを示した。
【0029】
【発明の効果】本発明の光反応性化合物およびそれを使
用してなる光硬化性樹脂組成物は、空気中においても少
ない露光量で硬化し、かつ、露光現像後の飽和膜厚に対
する前処理温度の影響が小さいなど、従来の光硬化性樹
脂組成物より、生産性、省エネルギー、設備の点で有利
であり、また未露光部分をアルカリ水溶液で容易に除去
できるため、職場環境が改善される。又、極めて高感度
であるため、顔料分散タイプのカラーフィルター形成材
料としても好適である。
用してなる光硬化性樹脂組成物は、空気中においても少
ない露光量で硬化し、かつ、露光現像後の飽和膜厚に対
する前処理温度の影響が小さいなど、従来の光硬化性樹
脂組成物より、生産性、省エネルギー、設備の点で有利
であり、また未露光部分をアルカリ水溶液で容易に除去
できるため、職場環境が改善される。又、極めて高感度
であるため、顔料分散タイプのカラーフィルター形成材
料としても好適である。
【図1】実施例1で得られた化合物のIRスペクトルで
ある。
ある。
【図2】実施例1で得られた高分子化合物のIRスペク
トルである。
トルである。
【図3】実施例3で得られた化合物のIRスペクトルで
ある。
ある。
【図4】実施例で形成した着色画像の分光スペクトルで
ある。
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭50−32923(JP,A) 特開 平1−241542(JP,A) 特開 昭63−125934(JP,A) 特開 昭62−127735(JP,A) 特開 平1−186876(JP,A) 特開 平2−188576(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/027 G03F 7/008 G03F 7/033
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中、R1は水素原子、CH3またはC2H5基を表し、
Xは−O−または−NH−を表し、R2は水素原子、ハ
ロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基、アルコキ
シ基をmは2〜5の整数を表す。)で表される光反応性
化合物。 - 【請求項2】 一般式 【化2】 (式中、R1は水素原子、CH3またはC2H5基を表し、
Xは−O−または−NH−を表し、R2は水素原子、ハ
ロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基、アルコキ
シ基をmは1〜5の整数を表す。)で表わされる光反応
性化合物を重合せしめてなる高分子化合物に、感光性付
与剤としてアジド化合物を添加してなることを特徴とす
る光硬化性樹脂組成物。 - 【請求項3】 請求項2に記載の光反応性化合物を同一
分子内にエチレン性不飽和二重結合とカルボキシル基を
含有する化合物と重合せしめてなる請求項2の光硬化性
樹脂組成物。 - 【請求項4】 請求項3に記載の光硬化性樹脂組成物に
着色顔料を分散せしめてなることを特徴とするカラーフ
ィルター材料。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4613791A JP3127476B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物 |
GB9203190A GB2253208A (en) | 1991-02-19 | 1992-02-14 | Cyclohexenyl compounds and photocurable resin compositions prepared therefrom |
DE19924205025 DE4205025A1 (de) | 1991-02-19 | 1992-02-19 | Eine photoreaktive verbindung und ihre verwendung in einer lichthaertenden harzmasse |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4613791A JP3127476B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06202324A JPH06202324A (ja) | 1994-07-22 |
JP3127476B2 true JP3127476B2 (ja) | 2001-01-22 |
Family
ID=12738593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4613791A Expired - Fee Related JP3127476B2 (ja) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | 光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3127476B2 (ja) |
DE (1) | DE4205025A1 (ja) |
GB (1) | GB2253208A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2001251743A1 (en) * | 2000-05-09 | 2001-11-20 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Synthesis of high oxygen scavenging capacity polymers and copolymers through suspension polymerization |
EP1205498A1 (en) | 2000-11-13 | 2002-05-15 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | (Meth)acrylate ester-based resin composition |
DE10154420A1 (de) * | 2001-11-06 | 2003-05-28 | Carl V Ossietzky Uni Oldenburg | Lichthärtendes Kunststoffmaterial mit Indikator zur Anzeige des Aushärtungsgrades |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1511011A (fr) * | 1966-12-13 | 1968-01-26 | Electro Chimie Soc D | Nouveaux élastomères acryliques |
FR1527054A (fr) * | 1967-04-17 | 1968-05-31 | Ugine Kuhlmann | Copolymères greffés de méthacrylate de méthyle sur un élastomère |
BE725398A (ja) * | 1968-01-09 | 1969-05-16 | ||
US3536687A (en) * | 1968-07-16 | 1970-10-27 | Ashland Oil Inc | Polymers and copolymers from cyclohexenyl-alkyl alcohol ester of alpha,beta-unsaturated acids |
JPS63275545A (ja) * | 1987-05-01 | 1988-11-14 | Daicel Chem Ind Ltd | (メタ)アクリレート化合物の製造方法 |
-
1991
- 1991-02-19 JP JP4613791A patent/JP3127476B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-02-14 GB GB9203190A patent/GB2253208A/en not_active Withdrawn
- 1992-02-19 DE DE19924205025 patent/DE4205025A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9203190D0 (en) | 1992-04-01 |
DE4205025A1 (de) | 1992-09-10 |
GB2253208A (en) | 1992-09-02 |
JPH06202324A (ja) | 1994-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4416975A (en) | Photopolymerization process employing compounds containing acryloyl groups and maleimide groups | |
US4824765A (en) | Water-soluble photoinitiators | |
JP2834213B2 (ja) | 光重合性混合物、それから作製された記録材料、及びコピーの製造方法 | |
JPH01103602A (ja) | 放射線感応性化合物の又は該化合物に関する改良 | |
US5045434A (en) | Visible radiation sensitive composition containing substituted 3-(benzothiazo-2-yl)-7-diethylaminocoumarin as sensitizers | |
WO2016184429A1 (zh) | 吡唑啉类增感剂及其制备方法和应用 | |
JP3127476B2 (ja) | 光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物 | |
JP2975063B2 (ja) | 光硬化性インキ | |
JP4567485B2 (ja) | 高分子開始剤 | |
JPH09281698A (ja) | カラーフィルター用光重合性組成物 | |
EP0036221B1 (en) | Photosensitive material and a process for reproducing photo-information | |
US3847610A (en) | Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds | |
JPH04113362A (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH08297366A (ja) | 感光性着色組成物とそれを用いたカラーフィルタ | |
JPH0313580B2 (ja) | ||
JPS6076735A (ja) | 光硬化樹脂組成物 | |
JPH03223759A (ja) | 感光性組成物 | |
JP3921010B2 (ja) | ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 | |
JPH09178932A (ja) | 着色感光性樹脂組成物及びカラーフィルタ | |
JP2822096B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH025062A (ja) | ネガ型の感光性記録層 | |
US4465758A (en) | 1,3-Diaza-9-thia-anthracene-2,4-diones and photopolymerizable mixtures containing same | |
JP3175599B2 (ja) | 光重合開始剤および光重合性樹脂組成物 | |
TW200403527A (en) | Semiconductor laser-curable resin composition and resist pattern-forming method by use of the same | |
JPH0229681B2 (ja) | Hikarijugoseisoseibutsu |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |