SE529161C2 - Skärverktyg med kompositbeläggning för finbearbetning av härdade stål - Google Patents
Skärverktyg med kompositbeläggning för finbearbetning av härdade stålInfo
- Publication number
- SE529161C2 SE529161C2 SE0501487A SE0501487A SE529161C2 SE 529161 C2 SE529161 C2 SE 529161C2 SE 0501487 A SE0501487 A SE 0501487A SE 0501487 A SE0501487 A SE 0501487A SE 529161 C2 SE529161 C2 SE 529161C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- peak
- cbn
- coating
- layer
- cutting tool
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23C—MILLING
- B23C5/00—Milling-cutters
- B23C5/16—Milling-cutters characterised by physical features other than shape
- B23C5/20—Milling-cutters characterised by physical features other than shape with removable cutter bits or teeth or cutting inserts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5053—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials non-oxide ceramics
- C04B41/5062—Borides, Nitrides or Silicides
- C04B41/5068—Titanium nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/87—Ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
- C23C14/0647—Boron nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
- C23C14/0658—Carbon nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0664—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0676—Oxynitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/548—Controlling the composition
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23C—MILLING
- B23C2226/00—Materials of tools or workpieces not comprising a metal
- B23C2226/12—Boron nitride
- B23C2226/125—Boron nitride cubic [CBN]
Description
15 20 25 30 35 529 161 verktyg eftersom de slutligen havererar beroende på termisk abra- sion och brott av verktygseggen beroende på fortskridande abra- sion. För att ytterligare förbättra slitstyrka och brotthållfast- het hos ett PcBN verktyg, har det föreslagits beläggning av PCBN verktyg med ett skikt av TiN, TiCN, TiAlN, etc. , t ex US 5,853,873 och US 6,737,l78.
Men ett belagt PcBN verktyg röner problem i att en oförut- sedd flagning av ett skikt ofta uppstår.
JP-A-l-96083 eller JP-A-1-96084 beskriver förbättring av den adhesiva styrkan för ett PcBN-verktyg belagt med ett skikt bestå- ende av nitrid, karbid eller karbonitrid av titan genom ett me- talliskt Ti-skikt med en medeltjocklek av 0,05-0,3 um.
US-A-5,853,873 beskriver ett TiN-skikt som ett mellanskikt mellan ett cBN substrat och TiAlN-belagd film för att binda den TlAlN-belegde filmen därtill med en hög blndeetyrka. ' US 6,737,l78 beskriver skikt av TiN, TiCN, TiAlN, Al2O3, ZrC, CrN, VN, HfN, HfC och HfCN.
US-A-2002/0048696 beskriver ett ytbelagt bornitridverktyg, med ett hårt skikt och ett intermediärt skikt bestående av åtmin- stone ett element valt från Grupp 4a, 5a och 6a i det periodiska systemet och med en tjocklek av högst l um. Den hårda belägg- ningen innehåller åtminstone ett skikt innehållande åtminstone ett element valt från gruppen bestående av grupp 4a, 5a, 6a ele- ZrN, ment, Al, B, Si och Y och åtminstone ett element valt från grup-» pen bestående av C, N och O med en tjocklek av 0,5-10 um. Det in- termediära skiktet innehåller åtminstone ett av elementen Cr, Zr och V.
US-B-6,8ll,580, US-B-6,382,95l och US-B-6,382,95l beskriver skär av kubisk bornitrid belagda med Al2O3.
Det är ett syfte med föreliggande uppfinning att förelägga bättre skärverktyg baserade på en sintrad kropp omfattande en högtrycksfas av typ bornitrid såsom cBN med en beläggning med utomordentlig adhesiv styrka avsett för spånavskiljande bearbetning av härdat stål eller gjutjärn.
Det är ett ytterligare syfte med föreliggande uppfinning att förelägga en metod för utfällning av en beläggning på skärverktyg 10 15 20 25 30 35 529 161 baserade på PcBN med utomordentlig adhesiv styrka avsett för spå- navskiljande bearbetning av härdat stål eller gjutjärn.
Det har visat sig att de tribologiska egenskaperna för det belagda verktyget kan förbättras betydligt genom att använda en beläggning med optimerade egenskaper och behandling på ett PcBN baserat skärverktyg. Genom att balansera den kemiska sammansätt- ningen, mängden av termisk energi och graden av joninducerad yt- aktivering under tillväxt, kan skikt innehållande en (Me,Si)X-fas erhållas vilka, jämfört med känd teknik, uppvisar förbättrade prestanda i metallbearbetning av härdat stål. Vidhäftningen för skiktet är överlägsen beroende på optimerad förbehandling och beläggningsbetingelser. Skikten omfattar korn av (Me,Si)X med el- ler utan samexistens av korn av andra faser. Skikten utfälls med användning av PVD-teknik, företrädesvis bågförångning.
Kort beskrivning av figurerna Figur 1: CuKa röntgendiffraktogram i 9-26 geometri erhållet från ett utfällt Ti0;7Si0¿3N-skikt på ett PcBN-substrat enligt uppfinningen. Indexen i figuren hänvisar till NaCl-typ-strukturen för beläggningen d.v.s. (Ti,Si)N.
Figur 2: CuKa-röntgendiffraktogram med användning av en kon- stant strykande infallsvinkel av 1° mellan huvudstràle och prov- yta från ett utfällt Ti0¿7Si0¿3N-skikt på ett PcBN-substrat en- ligt uppfinningen. Indexen i figuren hänvisar till NaCl-typ strukturen för beläggningen d.v.s. (Ti,Si)N.
Figur 3: SEM mikrofoto visande strukturen för ett PcBN mate- rial efter konventionell jonetsning före beläggning.
Figur 4: SEM mikrofoto visande strukturen för ett PCBN mate- rial efter jonetsning enligt föreliggande uppfinning före belägg- ning.
Detaljerad beskrivning av uppfinningen Föreliggande uppfinning förelägger ett skärverktyg för spå- navskiljande bearbetning omfattande en kropp av ett polykristal- lin kubisk bornitrid (PCBN) baserat material, ovanpå vilket en slitstark beläggning är utfälld. Beläggningen är sammansatt av 10 15 20 25 30 35 529 161 ett eller flera skikt av refraktära föreningar omfattande åtmin- stone ett skikt bestående av kristaller av (Me,Si)X-fas, företrä- desvis växt med användning av fysisk ångbeläggning (PVD). Ytter- ligare skikt består av nitrider och/eller karbider och/eller oxi- der från grupp 4-6 i periodiska systemet. Verktyg enligt förelig- gande uppfinning är speciellt användbara i metallbearbetnings- tillämpningar vid finbearbetning av härdade stål eller grått gjutjärn, där ytgrovheten av den bearbetade delen ofta begränsar livslängden.
(Me,Si)X skikt omfattar kristaller av MeLfiSig%_fas, där Me är ett eller flera av elementen Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, och Al, företrädesvis ett eller flera av elementen Ti, Cr, Zr och Al och a är mellan 0,05 och 0,4, företrädesvis mellan 0,l och 0,3, och X ett eller flera av elementen N, C, O och B och b är mellan 0,5 och 1,1, företrädesvis mellan 0,8 och 1,05.
Existensen av en kristallin Men@SiQ%_fas upptäcks vid rönt- gendiffraktion med användning av CuKa strålning i 9-26 och/eller strykande infallsgeometri visande ett eller flera av följande särdrag: en (Me,Si)X (lll) topp, en (Me,Si)X (200) topp, en (Me,Si)X (220) topp, för TiL¶SixN vid ungefär 61 °26 När Me inte eller de och Si är olika, kan topplägena vara förskjutna.
Strukturen av (Me,Si)X är av NaCl-typ.
Texturen definierad som förhållandet, K, mellan ytan av Mer¶SiaXb (lll) toppen (A(Meb1SiaXb)lll) och ytan av Mey¶SiaXb (200) toppen (A(Mey¶SiaXb)200), d v s. K = A(Me¶¶SiaXb)lll/ A(Me1_ aSiaXb)200, i röntgendiffraktogrammet, i 0-26 geometri är mellan 0,0 och 1,0, företrädesvis mellan 0,0 och 0,3, och/eller att topp-till-bakgrund förhållandet (intensitet vid toppmaximum delat med medelbakgrundsintensiteten nära toppen) för MeL1SiaXb (200) toppen är större än 2, företrädesvis större än 4.
Toppbredd FWHM (Full Bredd vid Halvt Maximum) värdet för detta skikt är huvudsakligen en effekt dess ringa kornstor- för TiL¶SixN vid ungefär 36 °29, är Ti, relativa mängderna av Me för TiL¶SixN vid ungefär 42 °26,i 10 15 20 25 30 35 529 161 lek. 0,05° och kan alltså utelämnas i dessa beräkningar) FWHM av (Me,Si)X (111) och/eller FWHM av (Me,Si)X (200) X består av mindre än 30 at-% O och/eller B med rest av N och/eller C. Nitrider föredras före karbonitrider och karbider.
X i (Me,Si)X skall vara mindre än 15 at-% C. Tillsatsen av 1-10 at-% O kommer att främja tillväxten av en finkornig struktur och förbättra oxidationsmotståndet men detta kommer att öka risken (Bidraget från instrumentet är av storleksordningen 26 = toppen är mellan 0,4 och 1,5 °29 toppen är mellan 0,4 och 1,5 °29 vatt få en icke-ledande beläggning i kammaren och därvid ge pro- duktionsproblem.
En amorf fas identifierad som en bred topp (FWHM = 4°-6% belägen vid 26 = 36° - 38°. Förhållandet mellan den amorfa fasen och den kristallina fasen, genom mätning av den refrakterade intensiteten för den amorfa toppen, Aa, och intensiteten för den kristallina (200)-toppen, AC, är typiskt Oíäa/AC Skiktet omfattande (Me,Si)X har en betydligt ökad hårdhet jämfört med ett kubiskt enkelfasskikt av en NaCl-typ Tipgu¶N struktur, se Exempel 1, demonstrerat genom systemen för Tikbstfl och TiwAlyN.
Den totala beläggningstjockleken, om (Me,Si)X innehållande skikt enligt föreliggande uppfinning kombineras med andra skikt, är 0,1 till 5 pm, företrädesvis 0,1 till 3 pm, med tjockleken av icke (Me,Si)X innehållande skikt varierande mellan 0,1 och 3 pm.
För finbearbetningstillämpningar är beläggningens tjocklek mindre än 2 pm, företrädesvis mindre än 1,2 pm.
I en utföringsform är (Me,Si)X innehållande skikt, 0,1 till 2 pm tjocklek, ett av upp till fem olika material i en 0,5 till 5 pm tjock multiskiktbeläggning bestående av individuellt 2-100, företrädesvis 5-50, skikt.
I en föredragen utföringsform Me= Ti med sammansättnin (Tio,9-o,v5io,1o-o,3o)N; hel-St (Tio,ss-o,7sSio,1s-o,25)N- I I en annan föredragen utföringsform Me= Ti och Al med sam- mansättning (Tio,e-o,asÅlo,zo-o,4osio,154,30)N, helst (Tims-oßsAl-o,2s-o,3sSio,15- o,3o)N- 10 15 20 25 30 35 529 161 I en ytterligare föredragen utföringsform är ett toppskikt av TiN och/eller CrN och/eller ZrN, eller blandning därav utfällt ytterst.
PcBN innehåller 35 och 60 vol-% cBN med en kornstorlek av 0,5-2 um i en Ti(C,N) NaCl-typ bindefas. Företrädesvis är samman- sättningen av skiktet enligt föreliggande uppfinning sådan att och helst inom +/- 1% av den för den NaCl-fas strukturerade bindefasen för att erhålla en ökad mängd epitaxiell tillväxt och ett maximum i vidhäftnings- förmåga. Enhetscellparameter för den NaCl-strukturerade binde- fasen mäts med användning av röntgendiffraktion på ett polerat tvärsnitt av provet. Enhetscellparameter av skiktet mäts med användning av röntgendiffraktion på det belagda provet. Detta skikt är helst i direkt kontakt med substratet. Exempel på sådana enhetscellanpassade sammansättningar är (Tim8&mßSim1&m2QN och (Tim¶Al@%zr@wSi@N)N. Alternativt kan det vara ett mediärt skikt, inte enhetscellanpassat, däremellan.
Föreliggande uppfinning avser även ett sätt att växa skikt omfattande (Me,Si)X fas på ett PcBN-substrat.
Först uppnås en optimerad ytbetingelse företrädesvis genom dess enhetscellparameter är inom +/~ % att använda en svag Ar-jonetsning som möjliggör god etsning och rengöring av cBN korn såväl som bindefas utan att minska ytinne- hållet av bindefas med preferentiell sputtring. Ythalten av bin- defas skall vara lika med eller högre än den i det inre. Ar-jo- netsningen utförs i en Ar-atmosfär eller i en blandning av Ar och IQ, varigenom i det senare fallet en kombinerad effekt av fysika- lisk sputtring och kemisk etsning åstadkommes, i en sekvens av två och flera steg där medelenergin för kolliderande joner minskas efter hand med början vid en substratförspänning, V¿<- SOOV till att sluta med V¿>-150V. Intermediära steg, om några, använder -500V ningen pulsad med en frekvens >5kHz med en bipolär spänning pålagd. Den negativa pulsen är helst >80 % urladdningspuls.
Figur 3 är ett SEM mikrofoto visande strukturen av ett PCBN- material med en NaCl-typ strukturerad bindefas efter konventio- följd av en positiv 10 15 20 25 30 35 529 161 nell jonetsning före beläggning och Figur 4 efter jonetsning en- ligt föreliggande uppfinning före beläggning. Som synes vid jäm- förelse av Figur 3 och 4, avlägsnar konventionell jonetsning alltför mycket av bindefasen och exponerar cBN-kornen. Förhållan- det L, definierat som fraktionerad projicerad yta av cBN, Aæm delat med fraktionerad volym av cBN, Vwu, (L= Adm/ Van), läggning, är 59% (L=l,l8), och i Figur 4 är det 49% (L=0,98), att jämföras med volymsandel i bulken av 50%.
Optimal yta kan även erhållas vid kemisk behandling och/eller mekanisk behandling såsom en lätt blästring före be- läggning och/eller i kombination med en in-situ process i belägg- ningssystemet. före be- För att erhålla den föredragna strukturen för skiktet enligt föreliggande uppfinning måste många beläggningsparametrar fin- stämmas. Faktorer som påverkar beläggningarna är temperaturen i korrelation till energin för de kolliderande jonerna, som kan va- rieras genom substratförspänning, avstånd katod-substrat och N2 partialtryck, PN2.
Den använda metoden att växa skikt omfattande (Me,Si)X fas enligt föreliggande uppfinning, här exemplifierad med systemet TiL¶SLm, baseras på bàgförångning av en legerad, eller kompo- sitkatod, under följande betingelser: Ti+Si katodsammansättning är 60 till 90 at-% Ti, vis 70 till 90 at-% Förängningsströmmen är mellan 50 A och 200 A beroende på ka- todstorlek och katodmaterial. Vid användning av katoder av 63 mm diameter är förångningsströmmen helst mellan 60 A och 120 A.
Substratförspänningen är mellan -10 V och -150 V, företrä- desvis mellan -40 V och -70 V.
Beläggningstemperaturen är mellan 400OC och 7000C, företrä- desvis mellan 500°C och 7000C.
Vid växt av skikt innehållande (Me,Si)X där X är N används en Ar+N2-atmosfär bestående av 0-50 vol-% Ar, företrädesvis 0-20 vol-%, vid ett totalt tryck av 0,5 Pa till 9,0 Pa, företrädesvis 1,5 Pa till 5,0 Pa. företrädes- Ti och rest Si. 10 15 20 25 30 35 529 161V För tillväxt av (Me,Si)X där X omfattar C och O, måste C och/eller O innehållande gaser tillsättes till N2 och/eller Ar+N2 atmosfären (t ex Cfib, CH4, CO, C02, 02)- Om X även Omfattar B kan den tillsättas antingen vid legering av targeten med B eller vid. tillsats av en B-innehållande gas till atmosfären.
De exakta processparametrarna är beroende på utformningen och betingelsen av beläggningsutrustningen. Det ligger inom fack- mannens område att fastställa om den önskade strukturen har er- hållits och att modifiera beläggningsbetingelserna i enlighet med föreliggande beskrivning.
Vid växt av skikt innehållande (Me,Si)X-fas föreligger risk att den kompressiva restspänningen blir mycket hög vilket kommer att påverka prestandan negativt i bearbetningstillämpningar när skarpa skäreggar används och/eller när kraven på god vidhäftning är av yttersta betydelse. Restspänningarna kan reduceras genom värmebehandling i en atmosfär av Ar och/eller N2 vid temperaturer mellan 6OO0C och 110000 i 20 till 600 min.
Dessutom uppnås förbättring genom en efterbehandling, som förbättrar ytfinheten för skäreggen. Detta kan göras genom våt- blästring. Även nylonborstar med inbäddade abrasiva korn kan an- vändas. Ett annat sätt är att föra det belagda PcBN-verktyget ge- nom ett abrasivt medium såsom trumling eller släppolering.
Föreliggande uppfinning har beskrivits med hänvisning till skikt innehållande (Me,Si)X fas utfälld med användning av bågför- ångning. Det är uppenbart att (Me,Si)X fäS innehållande skikt även skulle kunna framställas med användning av andra PVD-tekno- logier såsom magnetronsputtering.
Exempel l Polykristallin kubisk bornitrid (PCBN) skär av typ RCGN0803MOS med volymsandel CBN av 50% med medelkornstorlek av 1 um och en bindefas bestående av Ti(C,N) rengjordes i ultraljuds- bad med användning av alkalilösning och sprit och placerades där- efter i PVD-systemet med användning av en fixtur med trefaldig rotation. Det kortaste katod-till-substrat-avståndet var 160 mm.
Systemet evakuerades till ett tryck av mindre än 2,0XlO°3 Pa, 10 15 20 25 30 35 529 161 varefter skären sputtrades rena med Ar-joner. En bi-polar pulsad process användes där substratets förspänning ändrades mellan -Vs (80%) och +50V (20%) för en period med en frekvens av 20kHz. VS var i början av processen -550 V och minskades därefter till -120 V i slutet. Figur 4 visar utseendet av PcBN-ytan efter etsning med användning av denna process.
Variant A växtes med användning av bâgförångning av Ti0J5Si0¿5-katoder, 63 mm i diameter och variant B med användning av Ti0¿0Si@20 katod. Utfällningarna utfördes i en 99,995% ren N2 atmosfär vid ett totalt tryck av 4,0 Pa, med användning av en substratförspänning av -110 V i 60 minuter. Beläggningstemperatu- ren var omkring 53000. Omedelbart efter beläggning ventilerades kammaren med torr N2. Som referens användes en beläggning enligt känd teknik, Ti0¿4Al0ß6N, och en obelagd variant.
Röntgendiffraktionsmönstret av det utfällda Tipfistfl-skiktet plus ett TiN skikt visas i Figur 1 och Figur 2. Frànsett topparna motsvarande PcBN-substraten är de enda toppar som framträder de motsvarande en kubisk NaCl-typ Tibqstfl fas och en kubisk NaCl typ TiN fas som ses vid identifikationen av (111), (200), (220), (311), (222), (400), (331), (420), (422), och (511) topparna.
Texturen, definierad som förhållandet (K) mellan ytan av (Me,Si)X (111)-toppen och (Me,Si)X (200)-toppen, är för dylikt prov 0,28.
FWHM av (Me,Si)X (111)-toppen är 1,30 °26 och av (Me,Si)X (200) toppen 1,44 °20.
Fasidentifikation av Tihflstfl i utfälld betingelse utfördes med röntgendiffraktion med användning av en konstant strykande infallsvinkel av 1° mellan huvudstràle och provyta och svepande detektorer för att förstora topparna från beläggningen, se Figur 2. Närvaron av Tiyxsgfl bekräftas av indexeringen av diffrakto- grammet i NaCl typ strukturen.
Topp-till-bakgrund-förhållandet för TiL¶&QN (200) toppen är 24.
Beläggningens tjocklek vid skäreggen var 1,0 um för Tibüstfl skiktet med användning av svepelektronmikroskop (SEM) på ett tvärsnitt. 10 15 20 25 529 161 10 Enhetscellparametern av (Ti0flvSio@3)N2 Var 4:29 År av PCBN bindefasen bestående av Ti(C,N)-fas 4,30 Å och 4,14 Å av Ti0,34Al0,66N.
Hårdheten för skikten mättes med nanoindentation med använd- ning av ett Nano Indenter II instrument på polerade flaCkSnitt med användning av maximumlast av 25 mN resulterande i ett maxi- malt inträngningsdjup av omkring 200 nm. Hårdheten redovisas i Tabell 1. Det kan ses i Tabell 1 att hârdheten ökar drastiskt när Si föreligger i skiktet jämfört med en TihflU¶N variant.
Tabell 1. variant Hàrdhet upptäckta FWHM (111) FWHM (200) Texturpa" (GPA) faser °29 °29 rameter K A 48 T10,,,s10,231v, 1,30 1,44 0,28 TiN B 45 Tioßzsimlsu, 1,18 1,20 0,34 TiN c 32 T10,34A10,66N, - - - TiN D - Obelagd - ' ' Exempel 2 De belagda skären från Exempel 1 bestående skär av polykris- tallin kubisk bornitrid (PcBN) av typ RCGNOBOBMOS provades i en finbearbetningsoperation på sätthärdade växelhjul. Använda skär- data var: Material: SA 5120 vf 190 m/min ap = 0,10 mm fn = 0,07 mm/varv.
Livslängdskriterium var antal växelhjul bearbetade med en minimum bärkraftnivå av 75% för de bearbetade delarna. Resultaten visas i Tabell 2.
Tabell 2. (2OMnCr5), 59-61 HRC II Variant Antal bearbetade delar 10 15 20 25 529 161 11 A 525 B 500 C 200 D 80 Detta prov visar att variant A och B (denna uppfinning) kan bearbeta det största antalet delar följd av variant C.
Exempel 3 Skär av wipertyp belagda på samma sätt som i Exempel 1 be- stående av polykristallin kubisk bornitrid (PCBN) skär av typ CNGAl20408S-L1-WZ i en finbearbetningsoperation av en sätthärdad kopplingsaxel. Använda skärdata var på följande sätt: Material: SA 5115 (l6MnCrS5), 58 HRC vf = 190 m/min ap = 0,15/0,35 mm fn = 0,3 mm/varv.
Livslängdskriterium var antal kopplingsaxlar bearbetade med maximal ytfinhet. Resultaten återfinns i Tabell 3.
Tabell 3.
Variant Antal bearbetade delar A 236 C 170 Detta prov visar att variant A (denna uppfinning) kan bear- beta det största antalet delar.
Exempel 4 Skär belagda likadant som i Exempel 1 bestående av polykris- tallin kubisk bornitrid (PCBN) skär av typ CNGAl20408S-LO-B i genomhärdad fattning. Använda skärdata var följande: Material: SA 52100 (l0OCr6), 63 HRC vf = 220 m/min 529 161 12 ap fn 0,11/0,15 mm 0,3 mm/varv.
Livslängdskriterium var antal fattningar bearbetade med en maximal ytfinhet. Resultaten återfinns i Tabell 4.
Tabell 4.
Variant Antal bearbetade delar B 175 C 124 Detta prov visar att variant B (denna uppfinning) kan bear- beta det största antalet delar.
Claims (7)
1. Skärverktyg för spånavskiljande bearbetning i form av skär, solid pinnfräs eller borr, omfattande ett substrat av polykristallin kubisk bornitrid (PCBN) baserat material och en beläggning k ä n n e t e c k n a t av - ett kubisk bornitrid (cBN) innehåll av mellan 35 och 60 vol-% cBN med en kornstorlek av 0,5-2 um i en Ti(C,N) NaCl-typ bindefas, - en beläggning sammansatt av ett eller flera skikt av re- fraktära föreningar av vilka skikt åtminstone ett omfattar en (Me,Si)X fas beskriven med sammansättningen Mekfisigg där Me är ett eller flera av elementen Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr och Al, företrädesvis Ti, Cr, Zr och Al, a är mellan 0,05 och 0,4, företrädesvis mellan 0,1 och 0,3, och X ett eller flera av elementen N, C, O och B och b är mellan 0,5 och 1,1, företrädes- vis mellan 0,8 och 1,05, och att X innehåller mindre än 30 at-% av O + B varvid ytterligare skikt består av nitrider och/eller karbider och/eller oxider från grupp 4-6 i periodiska systemet, - att strukturen av Mebñsigg är av NaCl-typ, - förekomst i skiktet av en kristallin kubisk fas, (Me,Si)X, upptäckt vid röntgendiffraktion i 6-20 och/eller strykande in- fallsgeometri av 1° mellan huvudstråle och provyta som visar ett eller flera av följande särdrag: en (Me,Si)X (111) tOpp, för Tir¶SixN vid ungefär 36 °2G, en (Me,Si)X (200) topp, för TiL¶SixN vid ungefär 42 °26, en (Me,Si)X (220) topp, för TiL¶SixN vid ungefär 61 °26, - att förhållandet, K, mellan ytan av Me,fiSiQ@ (111) toppen (A(MeLfiSiQg)11l) och ytan av Mebqsigg (200) toppen (A(MeraSi“ aXb)200), K = A(MeLfiSiQg)11l/ A(MeL¶SiQ%)200, i röntgendiff- raktogrammet, i 9-20 geometri, från skiktet, är mellan 0,0 och 1,0, företrädesvis mellan 0,0 och 0,3, och/eller att topp-till- bakgrundsförhållandet, intensitet vid maximal topphöjd delat med medelbakgrundsintensitet nära toppen, för Mebasigq (200) topp är större än 2, d.v.s. företrädesvis större än 4 samt - att FWHM (Full Bredd Halv Maximum) värde av Mehasigß (lll) toppen i röntgendiffraktogrammet, i 9-26 geometri, från skiktet 10 15 20 25 30 529 161 /7 är mellan 0,4 och 1,5 °20 och Mebflsigg (200) toppen är mellan 0,4 och 1,5 °20. U
2. Skärverktyg enligt krav l k ä n n e t e c k n a t av att X= N med sammansättning (Me0¿_m7Sim1@@¿0)N.
3. Skärverktyg enligt krav 1 k ä n n e t e c k n a t av att Me= Ti med sammansättning (Tim8&0fl5Sim1&0¿5)N.
4. Skärverktyg enligt krav 1 k ä n n e t e c k n a t av att Me= Ti och Al med sammansättning (Tim64,§Alm2m@A0Sim154,w)N, fö- reträdesvis (Ti0¿_m35Alm2&@¿5Sim1&@¿0)N.
5. Skärverktyg enligt något av föregående krav k ä n n e t e c k n a t av att enhetscellparametern för skiktet är inom +/- 2%, helst inom +/- 1%, av enhetscellparametern för den NaCl-typ strukturerade bindefasen med skiktet företrädesvis i direkt kontakt med substratet eller med ett <0,3 pm skikt där- emellan.
6. Sätt att tillverka ett belagt skärverktyg i form av skär, solid pinnfräs eller borr omfattande ett substrat av polykristal- lin kubisk bornitrid (PCBN) baserat material och en beläggning enligt krav l k ä n n e t e c k n a t av att beläggningen utfälls med användning av bågförångningsteknik vid en förångningsström av 50-200 A, en substratförspänning av -10 - -150 V, en temperatur av 400-700 OC, ett totaltryck av 0,5-9 Pa på ett kubisk bornitrid (cBN) innehåll av mellan 35 och 60 vol-% cBN med en kornstorlek av 0,5-2 um i en Ti(C,N§ bindefas av NaCl-typ.
7. Sätt enligt krav 6 k ä n n e t e c k n a t av att ytan som skall beläggas förbehandlas med Ar-jonetsning utförd i en se- kvens av tvâ och flera steg med början vid en substratförspän- ning, Vs<-500 V och slutar med Vg>-150 för att erhålla en yta med en lägre fraktionerad projicerad yta av CBN fas jämfört med fraktionerad volym av cBN varvid förhållandet L, definierat som fraktionerad projicerad yta av cBN, AæN, delat med fraktionerad volym av cBN, væN, (L= Aam/ VæN), före beläggning, är
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0501487A SE529161C2 (sv) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | Skärverktyg med kompositbeläggning för finbearbetning av härdade stål |
EP06445043A EP1736565B1 (en) | 2005-06-22 | 2006-06-13 | Method for depositing composite coatings for finishing of hardened steels |
AT06445043T ATE418626T1 (de) | 2005-06-22 | 2006-06-13 | Verfahren zur herstellung einer verbundbeschichtung für endbearbeitung von gehärtetem stahl |
DE602006004400T DE602006004400D1 (de) | 2005-06-22 | 2006-06-13 | Verfahren zur Herstellung einer Verbundbeschichtun |
US11/455,842 US20060292399A1 (en) | 2005-06-22 | 2006-06-20 | Composite coating for finishing of hardened steels |
CZ20060400A CZ2006400A3 (cs) | 2005-06-22 | 2006-06-20 | Vícevrstvý povlak pro konečnou úpravu kalených ocelí |
CNB2006100940116A CN100418679C (zh) | 2005-06-22 | 2006-06-21 | 用于修整硬质钢的复合涂层 |
JP2006171538A JP2007001007A (ja) | 2005-06-22 | 2006-06-21 | 硬化鋼の仕上げ用複合被膜 |
BRPI0602327-4A BRPI0602327A (pt) | 2005-06-22 | 2006-06-22 | revestimento de compósito para o acabamento de aços endurecidos |
KR1020060056564A KR20060134859A (ko) | 2005-06-22 | 2006-06-22 | 경화강 마무리가공용 복합코팅 |
US12/931,211 US20110123829A1 (en) | 2005-06-22 | 2011-01-27 | Composite coating for finishing of hardened steels |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0501487A SE529161C2 (sv) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | Skärverktyg med kompositbeläggning för finbearbetning av härdade stål |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE0501487L SE0501487L (sv) | 2006-12-23 |
SE529161C2 true SE529161C2 (sv) | 2007-05-22 |
Family
ID=36753938
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE0501487A SE529161C2 (sv) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | Skärverktyg med kompositbeläggning för finbearbetning av härdade stål |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20060292399A1 (sv) |
EP (1) | EP1736565B1 (sv) |
JP (1) | JP2007001007A (sv) |
KR (1) | KR20060134859A (sv) |
CN (1) | CN100418679C (sv) |
AT (1) | ATE418626T1 (sv) |
BR (1) | BRPI0602327A (sv) |
CZ (1) | CZ2006400A3 (sv) |
DE (1) | DE602006004400D1 (sv) |
SE (1) | SE529161C2 (sv) |
Families Citing this family (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE0602814L (sv) * | 2006-12-27 | 2008-06-28 | Sandvik Intellectual Property | Skärverktyg med multiskiktbeläggning |
EP2147132B1 (en) * | 2007-04-18 | 2017-03-01 | Sandvik Intellectual Property AB | A coated cutting tool |
JP2008279562A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 表面被覆切削工具 |
US8557406B2 (en) * | 2007-06-28 | 2013-10-15 | Kennametal Inc. | Coated PCBN cutting insert, coated PCBN cutting tool using such coated PCBN cutting insert, and method for making the same |
SE531704C2 (sv) * | 2007-07-13 | 2009-07-14 | Seco Tools Ab | Finkornig hårdmetall för svarvning av varmhållfasta superlegeringar (HRSA) |
US8389115B2 (en) | 2008-03-07 | 2013-03-05 | Seco Tools Ab | Thermally stabilized (Ti,Si)N layer for cutting tool insert |
EP2098611B1 (en) | 2008-03-07 | 2013-02-13 | Seco Tools AB | Layered coated cutting tool |
EP2305405B1 (en) * | 2008-07-14 | 2013-12-18 | Tungaloy Corporation | Coated member |
SE533883C2 (sv) | 2009-06-01 | 2011-02-22 | Seco Tools Ab | Nanolaminerat belagt skärverktyg |
SE533884C2 (sv) | 2009-06-01 | 2011-02-22 | Seco Tools Ab | Nanolaminerat belagt skärverktyg |
US9028573B2 (en) | 2010-09-08 | 2015-05-12 | Element Six Limited | EDM cuttable, high cBN content solid PCBN compact |
WO2012079769A1 (en) | 2010-12-17 | 2012-06-21 | Seco Tools Ab | Coated cubic boron nitride tool for machining applications |
CN102162084B (zh) * | 2011-03-08 | 2013-07-03 | 西安宇杰表面工程有限公司 | 一种模具用抗高温氧化纳米ZrOxN1-x薄膜及其制备工艺 |
CN102560355B (zh) * | 2012-01-11 | 2014-01-01 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种V-Si-N纳米复合硬质涂层及其制备方法 |
CN104160060A (zh) * | 2012-03-07 | 2014-11-19 | 山高刀具公司 | 具有金属基氮化物层的刀体和涂布该刀体的方法 |
EP2636764B1 (en) | 2012-03-07 | 2014-07-09 | Seco Tools Ab | Nanolaminated coated cutting tool |
US9103036B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-08-11 | Kennametal Inc. | Hard coatings comprising cubic phase forming compositions |
CN103143761B (zh) * | 2013-03-22 | 2015-06-24 | 武汉大学 | 一种AlTiN-MoN纳米多层复合涂层铣刀及其制备方法 |
RU2538059C1 (ru) * | 2013-07-12 | 2015-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2538058C1 (ru) * | 2013-07-12 | 2015-01-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2532632C1 (ru) * | 2013-07-12 | 2014-11-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента |
RU2548863C2 (ru) * | 2013-07-19 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2548864C2 (ru) * | 2013-07-19 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2545941C2 (ru) * | 2013-07-23 | 2015-04-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента |
RU2548860C2 (ru) * | 2013-07-23 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента |
RU2532622C1 (ru) * | 2013-07-23 | 2014-11-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2548559C2 (ru) * | 2013-07-23 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента |
RU2548859C2 (ru) * | 2013-07-23 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2532620C1 (ru) * | 2013-07-23 | 2014-11-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента |
RU2545955C2 (ru) * | 2013-07-23 | 2015-04-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2548861C2 (ru) * | 2013-07-26 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2545958C2 (ru) * | 2013-07-26 | 2015-04-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2545972C2 (ru) * | 2013-07-26 | 2015-04-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2548553C2 (ru) * | 2013-08-02 | 2015-04-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
US9168664B2 (en) | 2013-08-16 | 2015-10-27 | Kennametal Inc. | Low stress hard coatings and applications thereof |
US9896767B2 (en) | 2013-08-16 | 2018-02-20 | Kennametal Inc | Low stress hard coatings and applications thereof |
CN103556119B (zh) * | 2013-10-28 | 2015-12-09 | 沈阳大学 | 一种氮化钛锆铌氮梯度硬质反应膜的制备方法 |
RU2620528C2 (ru) * | 2015-10-27 | 2017-05-26 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2620531C2 (ru) * | 2015-11-10 | 2017-05-26 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2620532C2 (ru) * | 2015-11-10 | 2017-05-26 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2616720C1 (ru) * | 2015-11-10 | 2017-04-18 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2620529C1 (ru) * | 2015-12-15 | 2017-05-26 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2622531C1 (ru) * | 2015-12-15 | 2017-06-16 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2622527C1 (ru) * | 2015-12-15 | 2017-06-16 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2715267C2 (ru) * | 2015-12-22 | 2020-02-26 | Сандвик Интеллекчуал Проперти Аб | Режущий инструмент с покрытием и способ |
JP7075342B2 (ja) * | 2015-12-22 | 2022-05-25 | サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ | Pvd層及び被覆切削工具を製造する方法 |
CN107557755B (zh) * | 2016-07-01 | 2020-05-01 | 山特维克知识产权股份有限公司 | 具有{0 0 1}织构化κ-Al2O3层的CVD涂层切削工具 |
RU2637862C1 (ru) * | 2016-10-11 | 2017-12-07 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2637863C1 (ru) * | 2016-10-11 | 2017-12-07 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента |
RU2630736C1 (ru) * | 2016-10-11 | 2017-09-12 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" | Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента |
WO2018180911A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 京セラ株式会社 | 切削インサート及び切削工具 |
JP6858347B2 (ja) * | 2017-07-28 | 2021-04-14 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
KR102336097B1 (ko) * | 2017-09-27 | 2021-12-06 | 가부시키가이샤 몰디노 | 피복 절삭 공구 |
CN108103454B (zh) * | 2017-11-30 | 2019-10-11 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种高光滑涂层刀具及其制作方法 |
US20200406364A1 (en) * | 2018-10-10 | 2020-12-31 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Cutting tool and method for manufacturing same |
US20200406365A1 (en) * | 2018-10-10 | 2020-12-31 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Cutting tool and method for manufacturing same |
JP7247452B2 (ja) * | 2019-03-25 | 2023-03-29 | 株式会社Moldino | 被覆工具 |
US20220220601A1 (en) * | 2019-05-21 | 2022-07-14 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Pvd coatings comprising multi-anion high entropy alloy oxy-nitrides |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3811907C1 (sv) * | 1988-04-09 | 1989-08-03 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe, De | |
US5431963A (en) * | 1993-02-01 | 1995-07-11 | General Electric Company | Method for adhering diamondlike carbon to a substrate |
US6071560A (en) * | 1997-09-12 | 2000-06-06 | Balzers Aktiengesellschaft | Tool with tool body and protective layer system |
JP3637883B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2005-04-13 | 住友電気工業株式会社 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
JP3637882B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2005-04-13 | 住友電気工業株式会社 | 表面被覆窒化硼素焼結体工具 |
JP3996809B2 (ja) * | 2002-07-11 | 2007-10-24 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 被覆切削工具 |
SE526339C2 (sv) * | 2002-09-04 | 2005-08-23 | Seco Tools Ab | Skär med slitstark refraktär beläggning med kompositstruktur |
SE526338C2 (sv) * | 2002-09-04 | 2005-08-23 | Seco Tools Ab | Skär med utskiljningshärdad slitstark refraktär beläggning |
DE60312110T2 (de) * | 2002-11-19 | 2007-10-11 | Hitachi Tool Engineering Ltd. | Hartstoffschicht und damit beschichtetes Werkzeug |
US7211138B2 (en) * | 2003-02-07 | 2007-05-01 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Hard film, method of forming the same and target for hard film formation |
JP2004283930A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Nachi Fujikoshi Corp | 切削用ホブ及び歯車加工方法 |
SE526599C2 (sv) * | 2003-06-16 | 2005-10-18 | Seco Tools Ab | CVD-belagt hårdmetallskär |
SE526602C2 (sv) * | 2003-10-27 | 2005-10-18 | Seco Tools Ab | Belagt skär för grovsvarvning |
JP2005271190A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-10-06 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
CN100419117C (zh) * | 2004-02-02 | 2008-09-17 | 株式会社神户制钢所 | 硬质叠层被膜、其制造方法及成膜装置 |
-
2005
- 2005-06-22 SE SE0501487A patent/SE529161C2/sv not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-06-13 EP EP06445043A patent/EP1736565B1/en not_active Not-in-force
- 2006-06-13 DE DE602006004400T patent/DE602006004400D1/de active Active
- 2006-06-13 AT AT06445043T patent/ATE418626T1/de not_active IP Right Cessation
- 2006-06-20 US US11/455,842 patent/US20060292399A1/en not_active Abandoned
- 2006-06-20 CZ CZ20060400A patent/CZ2006400A3/cs unknown
- 2006-06-21 JP JP2006171538A patent/JP2007001007A/ja active Pending
- 2006-06-21 CN CNB2006100940116A patent/CN100418679C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-22 KR KR1020060056564A patent/KR20060134859A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-06-22 BR BRPI0602327-4A patent/BRPI0602327A/pt not_active Application Discontinuation
-
2011
- 2011-01-27 US US12/931,211 patent/US20110123829A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE418626T1 (de) | 2009-01-15 |
EP1736565B1 (en) | 2008-12-24 |
BRPI0602327A (pt) | 2007-02-21 |
CZ2006400A3 (cs) | 2007-01-31 |
KR20060134859A (ko) | 2006-12-28 |
EP1736565A1 (en) | 2006-12-27 |
SE0501487L (sv) | 2006-12-23 |
DE602006004400D1 (de) | 2009-02-05 |
CN100418679C (zh) | 2008-09-17 |
US20110123829A1 (en) | 2011-05-26 |
JP2007001007A (ja) | 2007-01-11 |
CN1883855A (zh) | 2006-12-27 |
US20060292399A1 (en) | 2006-12-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE529161C2 (sv) | Skärverktyg med kompositbeläggning för finbearbetning av härdade stål | |
JP6789986B2 (ja) | 多層アークpvdコーティングを有する工具 | |
JP5297388B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP5321975B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP5261018B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
SE529223C2 (sv) | Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas | |
JP2009034781A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2006082207A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2009095907A (ja) | 刃先交換型切削チップ | |
JP2006192545A (ja) | 表面被覆切削工具およびその製造方法 | |
KR101505222B1 (ko) | 다층 금속 산화물 코팅을 구비한 공구 및 코팅된 공구의 제조 방법 | |
JP4405835B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP4268558B2 (ja) | 被覆切削工具 | |
KR101590203B1 (ko) | 산화물 코팅된 절삭 인서트 | |
SE526337C2 (sv) | PVD-belagt skärverktyg med åtminstone ett skikt av (Ti, A1) (O, N) samt metod för att framställa detsamma | |
JP2005262356A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2023506295A (ja) | 被覆切削工具 | |
JP2008279563A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
KR102172454B1 (ko) | 다층 피복 절삭 소재, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 기계가공용 절삭 공구 인서트 | |
JP5267365B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP5070621B2 (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2009148856A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2005262355A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2006082210A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP4080481B2 (ja) | 表面被覆切削工具およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |