SE527385C2 - Belagd bandprodukt av rostfrit stål för användning i lastbärande applikationer - Google Patents
Belagd bandprodukt av rostfrit stål för användning i lastbärande applikationerInfo
- Publication number
- SE527385C2 SE527385C2 SE0302902A SE0302902A SE527385C2 SE 527385 C2 SE527385 C2 SE 527385C2 SE 0302902 A SE0302902 A SE 0302902A SE 0302902 A SE0302902 A SE 0302902A SE 527385 C2 SE527385 C2 SE 527385C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- layer
- strip
- thickness
- product according
- product
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/02—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/02—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
- C23C28/021—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material including at least one metal alloy layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/02—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material
- C23C28/023—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings only including layers of metallic material only coatings of metal elements only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
- C23C28/321—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one metal alloy layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
- C23C28/322—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
Description
20 25 30 35 527 395 karaktäriseras ofta av god elektrisk konduktivitet och god formbarhet men de flesta av dem har låg mekanisk hållfasthet, vilket betyder att de inte är lämpliga för applikationer som är mycket påfrestande, så som till exempel fjädrar. Legeringar av koppar och beryllium kan härdas till en draghàllfasthet upp till ca 1400 MPa men även denna draghàllfasthet begränsar fjädringskraften, utmattningen och relaxeringsmotstàndet som kan åstadkommas för fjäderapplikationer. Vidare är beryllium en toxisk metall, vilket kan innebära begränsningar under tillverkning och användning på grund av hälsoskäl.
Slutligen, koppar~beryllium-legeringar är kostsamma och därför krävs mindre dyra produkter i många applikationer.
Beläggning kan utföras genom olika metoder vilka kan indelas i mekaniska och kemiska metoder. Dessa kan också sub-indelas till hög- och lâgtemperatur metoder. Mekaniska metoder kan exemplifieras med plätering, termisk genom sprutning eller målning. I detta sammanhang är plätering representerat av valsplätering, i.e., för att binda ihop två (eller flera) olika material genom en valsningsprocess vilken är relativt enkel och kan utföras med olika kombinationer av substrat och beläggningar. Plätering har dock vissa tekniska nackdelar, vilka är relaterade till tjocklekstoleranser och dålig vídhäftning av det belagda skiktet. Detta kräver ofta en efter~bindnings värmebehandling för att erhålla en diffusionszon mellan skikten. Om ett (eller flera) av skikten är rostfritt stål är en god vidhäftning ännu svårare att åstadkomma på grund av den passiva filmen på den rostfria stâlytan. Dessutom är valsplätering en làghastighetsprocess och är begränsad i de möjliga kombinationerna av basmaterial och beläggningar.
Det finns också flera olika deponeringstekniker baserade pà sprutningsmetoder med olika namn så som termisk sprutning, 10 15 20 25 30 35 \D ~J (14 \'O (1 High Velocity Oxide Fuel (HVOF), plasmasprutning, Combustion Chemical Vapor Deposition (CCVD); bakgrundmetoden är dock den samma. Beläggningen sprutas på substratet och materialet matas in i munstrycket eller "flamman" från antingen en stav, tråd, råmaterialsstock, pulvermaterial, likvid eller gas. Sprutningstekniker används oftast för att belägga detaljer och är inte lämpliga för rulle-till-rulle-beläggningar, med höga krav på snäva toleranser och hög produktivitet.
En annan metod att belägga ett substrat är genom varmdoppning av produkten i en smält metall. Varmdoppning utförs generellt sätt med beläggningar som har låg smältpunkt, e.g. zink etc. För beläqgningar med högre smältpunkter, så som nickel och koppar, är temperaturen hos det smälta badet så hög att det ofta kommer påverka substratmaterialet på ett negativt sätt. Vidare är det svårt att ha en tillförlitlig processtyrning av sådana smälta bad vilket tillåter snäva toleranser av skikttjocklek.
Galvanoplätering är en elektrokemisk process i vilken beläggningen åstadkommas genom att leda en elektrisk ström genom en lösning innehàllandes lösta metalljoner och metallobjektet som ska pläteras. Metallsubstratet fungerar som katod i en elektrokemisk cell, attraherandes metalljoner från lösningen. Järnbaserade och icke- järnbaserade substrat pläteras med en mängd metaller, inklusive aluminium, mässing, brons, kadmium, koppar, krom, järn, bly, nickel, tenn och zink, likväl som ädelmetaller så som guld, platina och silver.
Eftersom substratet fungerar som katod i processen och därmed drar till sig jonerna i lösningen är det svårt för platta produkter att få en jämn skiktfördelning. Lokala 10 15 20 25 30 35 527 385 variationer i strömdensitet kommer att skapa en inhomogen depositionshastighet. Ett välkänt problem är ”hundbens”~ effekten vilket betyder att tjockleken av beläggningen är ofta större mot kanterna av ett belagt band. Vidare är metoden karaktäriserad av att inte vara miljövänlig eftersom den involverar elektrolyter och kostsam spillvattensbehandling. Elektrokemiska metoder och doppningsmetoder har också nackdelen att om en ensidig beläggning krävs måste ytan som ska förbli obelagd maskeras på något sätt innan beläggningen. Maskeringen måste sen tas bort efter beläggningsoperationen.
Det finns också några àngdeponeringsmetoder som kan användas för att deponera metaller. De flesta metoder är styckvisa processer, men det finns också några kontinuerliga processer. Ett exempel på en rulle~til1~ rulle-metod som använder elektronstràle deponering är angiven i WO 98/08986, vilken beskriver en metod för framställning av ferritiska rostfria FeCrAl-band genom att anbringa en aluminiumbeläggning på ett substratmaterial i en rulle-till-rulle-process. Dock är metoden som beskrivs i denna patentansökan optimerad för en produkt lämplig för användning i högtemperatur korrosiva miljöer, därmed krävandes ett material med en god hållfasthet vid hög temperatur och även ett gott korrosionsmotstànd vid hög temperatur, i.e., oxidationsmotstând. Dessutom föreslår denna patentansökan att en homogeniseringsglödgning vid en temperatur av 950-1l50°C görs i samband med beläggningen för att få aluminiumet jämnt fördelat i ferriten. Detta betyder att den slutliga produkten i detta fall inte är någon belagd produkt med ett aluminiumskikt på ytan.
Således är det snarare en FeCrAl-bandprodukt med en jämn fördelning av legeringsämnena, inklusive aluminium. Vidare betyder detta att det inte finns några speciella krav pà en oxidfri gränsyta och pâ en god vidhäftning av skiktet. 10 15 20 25 30 35 C fl BJ -J U J G) (Il Alla dessa konventionella metoder har således olika nackdelar, vilket betyder att det finns ett behov av utveckling av en ny produkt som kombinerar goda mekaniska egenskaper med utmärkta elektriska egenskaper och snäva geometriska toleranser. Alla processer som baseras på styckvis produktion kommer alltid öka kostnaden och det är därför nödvändigt att framställningen komer att vara en rulle-till-rulle-process för att minska kostnaden.
Det är därför ett första syfte med föreliggande uppfinning att àstadkoma en flexibel metallprodukt med skräddarsydda fysiska och mekaniska egenskaper lämplig för vidare behandling vilken kan exemplifieras av, men ej begränsas till, stansning, böjning, borrning, värmebehandling etc.
Ett annat syfte med föreliggande uppfinning är att åstadkomma en flexibel bandprodukt, för fjädrar och andra produkter, vilka kräver god elektrisk konduktivitet, gjord fràn ett singel- eller multi-skikt metalliskt band vilket inte är dyrt och vilket kan produceras i en kontinuerlig rulle-till-rulle-process.
Dessa och andra syften har uppnåtts på ett överraskande sätt genom att skapa en belagd stàlprodukt med särdrag enligt den karaktäriserande delen av patentkrav 1.
Ytterligare föredragna utföringsformer är definierade i de osjälvständiga patentkraven.
Kort beskrivning_§v gpgfinnigggg Ovanstående syften och ytterligare fördelar àstadkomes genom att applicera ett eller flera tunna kontinuerliga, jämna, elektriskt konduktiva skikt av en metall, så som 10 15 20 25 30 527 385 b nickel, silver, tenn, molybden, koppar, wolfram, guld eller kobolt, ovanpå ett rostfritt stàlband vilket fungerar som substrat. Beläggningen kan göras på en eller båda sidor av substratbandet. Metallskiktet ska vara jämnt och kompakt och ha god vidhäftníng för att tillåta vidarebearbetning utan risk för flagning eller ytsplittring. Slutprodukten, i form av ett höghållfast stálband med en eller tvâ elektriskt konduktiva ytor, är lämplig för användning i elektrisk apparatur, i packningar för elektromagnetisk skärmning eller för vilket annat syfte som helst, där ett höghàllfast material med låg kontaktresistans i gränsytan mellan produkten enligt uppfinningen och dess kontaktpunkt krävs.
Det belagda skiktet deponeras med hjälp av den tidigare kända metoden elektronstràle evaporering, i en rulle-till~ rulle-process, till ett jämnt fördelat skikt med en tjocklek av företrädesvis mindre än 15 um.
Substratmaterialet ska vara ett rostfritt stål med en Cr- halt över 10 % (baserat på vikt) och med en bandtjocklek av vanligtvis mindre än 3 mm. Substratmaterialet ska ha en brotthållfasthet på åtminstone 1300 MPa, vilket kan åstadkommas genom kalldeformation eller genom värmebehandling så som härdning från hög temperatur eller utskiljningshärdning vid lägre temperaturer. Som ett första steg innehåller rulle~till-rulle-processen en etsningskamare för att ta bort oxidskiktet som annars normalt finns pà ett rostfritt stål.
Kbst beskrivnigg av tïggfezna Figur 1 visar ett schematiskt tvärsnitt av en första utföringsform av föreliggande uppfinning, i.e., ett band 2 med en beläggning av ett elektriskt konduktivt skikt 1, 3 10 15 20 25 30 -4 på en eller båda ytorna. Om bandet är belagt pà båda sidorna kan beläggningarna ha sama samansättning, eller om så önskas, olika sammansättning. Även tjockleken på beläggningen kan vara samma eller olika för de tvâ ytorna.
Figur 2 visar ett schematiskt tvärsnitt av en andra utföringsform av föreliggande uppfinning, i.e., ett band 2 med beläggningar av multipla skikt (l,3,4 respektive 5,6) på en eller båda ytorna.
Figur 3 visar schematiskt en produktionslinje för framställningen av en belagd bandprodukt enligt uppfinningen.
Detaljerad beskrivnggg av_gpfinningE§ Slutprodukten, i form av ett metallbelagt bandmaterial är lämpligt för användning som lastbärande delar som också är karaktäriserade av att tillhandahålla en låg kontaktresistans vid gränsytan. Exempel pà sådana applikationer är kontaktdon och strömställare. Genom att applicera en given kraft på fjädern komer den komma i kontakt med en yta och på så sätt sluta en elektrisk krets.
I kontaktpunkten, där strömmen leds, är det viktigt att kontaktresistansen är låg. Rostfria stål är ett material som ökar i användning för fjäderapplikationer. Detta beror på den attraktiva kombinationen av mekanisk styrka och god formbarhet, vilket tillåter formning av även relativt komplexa fjädergeometrier. Höghàllfasta fjäderstàl har generell överlägsna mekaniska egenskaper jämfört med icke- järnbaserade material. I sammanhanget fjäderegenskaper är speciellt utmattningen och relaxationsmotstàndet hos höghállfasta rostfria stål avgörande för en lànglivad fjäder med konstant kraft under dess livstid. Dock är rostfria stål karaktäriserade av en passiv film på ytan. 10 15 20 25 30 35 Denna film består av kromoxid och har en betydligt lägre elektrisk konduktivitet än stålet i sig. Som ett referensvärde, ett rostfritt stål har en elektrisk resistivitet av 80-90 x 10"Qm, beroende på draghàllfastheten. Däremot, vid ytan har oxiden (crxh), en resistivitet av ca 1,3 x l0“'Qm. Om en oxidfilm finns i gränsytan mellan två konduktiva ytor kommer ett fall i konduktivitet ske. Detta kommer att minska effektiviteten i strömcirkulation i kretsen och på så sätt minska prestanda.
För att eliminera problemet med låg konduktivitet i höghàllfasta rostfria stål, belägga åtminstone en yta av bandet med ett metallskikt som är mindre benäget att forma en oxidfilm pà ytan. Det belagda skiktet kommer då att tillåta en oxidfri yta vid kontaktpunkten, varvid fallet i elektrisk konduktivitet i gränsytan undviks. Beroende på kraven kan beläggningen bestå av olika metaller. Silver, koppar, nickel, kobolt, guld, wolfram, tenn och molybden är alla metaller med god elektrisk konduktivitet som kan beläggas på ytan med metoden enligt uppfinningen. Det är också av avgörande betydelse att beläggningen är homogent distribuerad på ytan och inte är för tjock jämfört med substrattjockleken. Ett tjockt eller ojämnt skikt kommer att påverka fjäderegenskaperna, eftersom böjningskraften är proportionell mot tjockleken av en rektangulär sektion upphöjt i tre. Tjockleken av skiktet är därför företrädesvis max 10 % av substrattjockleken. Dessutom, är tjockleken av varje beläggningsskikt företrädesvis maximalt 15 pm, typiskt 0,05-15 um, företrädesvis 0,05-10 um och ännu hellre 0,05-5 um. Om multipla skikt ska deponeras så ska den totala sammanlagda tjockleken av belâggningarna inte överstiga 20 % av den totala tjockleken på det belagda bandet. Tjocklekstoleransen på det belagda skiktet enligt uppfinningen är mycket god. Variationen i tjocklek av och inom varje skikt ska inte överstiga +/" §0 % av den 10 15 20 25 30 35 F27 385 KC!! nominella tjockleken av sagda skikt. Mer företrädesvis ska variationen i tjocklek vara maximalt +/- 10 % av den nominella tjockleken inom varje skikt.
Beläggningen ska uppvisa en god vidhäftning till substratet och därmed möjliggöra efterföljande framställning.
Produkten enligt uppfinningen uppvisar en utmärkt Detta åstadkommes genom en förbehandlingsoperation av det vidhäftning mellan beläggningen och substratet. rostfria bandet med hjälp av jonetsning i vakuum innan deponeringen av beläggningen på substratet. Detta tillåter en metall~metall kontakt med en oxidfri gränsyta som kan ge en produkt som kan böjas, stansas, skäras eller djup-dras, den enda gränsen som är fast är duktiliteten hos substratmaterialet.
Substratbandet som ska beläggas Materialet som ska beläggas ska ha ett gott generellt korrosionsmotstånd. Detta betyder att materialet måste ha ett krominnehåll på åtminstone 10 vikts-%, företrädesvis minst 12% eller mer företrädesvis minst 13% eller helst minst 15 % krom. Vidare måste materialet vara legerat så att det tillåter en hög brottgräns på minst 1000 MPa, mer företrädesvis ett minimum på 1300 MPa eller ännu hellre minst 1500 MPa, eller helst ett minimum pà 1700 MPa. Den mekaniska hållfastheten kan åstadkommas genom kalldeformation så som för stål av serierna ASTM 200 och 300, eller genom termisk härdning så som för härdbara martensitiska kromstål. Andra lämpliga substratmaterial är utskiljningshärdbara (PH) stål av typ l3~8PH, 15-SPH, 17- 4PH eller 17-7PH. Ytterligare en grupp av lämpliga substratmaterial är rostfria maråldringsstål som karaktäriseras av en martensitisk matris innehållande låga halter av kol och kväve, vilka härdas genom utskiljning av 10 15 20 25 30 527 385 1.4 C) substitutionella atomer så som koppar, aluminium, titan, nickel etc.
Det konduktiva skiktetten) Materialet som ska beläggas i formen av en tunn skiktfilm på substratytan ska vara karaktäriserad av en god elektrisk konduktivitet vid rumstemperatur, en termodynamisk stabilitet mot oxidbildning och en lämplig elasticitetsmodul. Egenskaperna hos lämpliga ämnen är listad härunder.
Silver har en mycket låg elektrisk resistivitet, ca l,47xl0“ Qm, vid rumstemperatur. Den fria energin för oxidbildning för Agfllvid rumstemperatur är ca AG = -10,7 kJ vilket gör silver betydligt mera stabil mot oxidbildning jämfört med bildandet av Cr203, som vid rostfritt stål. Som ett referensvärde har Cryøgvid rumstemperatur en fri energi av ca AG = -1050 kJ. Silver har en elasticitetsmodul på ca 79 000 MPa som kan jämföras med l80.000~220.000 MPa för olika ståltyper. Silver är dock relativt dyrt och ibland krävs billigare alternativ.
Koppar har en låg elektrisk resistivitet av ca 1,58 x 10* Qm, en elasticitetsmodul på ca 210.000 MPa och en fri energi av AG = -145 kJ och AG = ~127 kJ för bildandet av Cu2O respektive CuO. Denna kombination av egenskaper gör också koppar till en lämplig beläggning i produkten enligt uppfinningen.
Nickel har en låg elektrisk resistivitet av ca 6,2 x 104 Qm, en elasticitetsmodul på 200.000 MPa och en fri energi av ca AG = -213 kJ för bildandet av N10. l0 15 20 25 30 Guld har en elektrisk resistivitet av ca 2 x 10* Qm, en elasticitetsmodul pà 80.000 MPa. Guld är också extremt stabilt mot oxidation. Detta gör guld i många applikationer till mest lämpligt som ett ämne för konduktiva Dock är guld dyrt och alternativ letas alltid efter pà grund av den höga legeringskostnaden likväl som beläggningar. återvinningskostnader.
Mblybdan har en låg elektrisk resistivitet av ca 5,3 x 10* Qm, en elasticitetsmodul på 329.000 MPa och en fri energi av ca AG = -668 kJ för bildandet av MoO3och AG = ~533 kJ för bildandet av Mo02.
Kobolt har en låg elektrisk resistivitet av ca 6,24 x 10* Qm, en elasticitetsmodul på 209.000 MPa och en fri energi av ca AG = -241 kJ för bildandet av Co0.
Wblfram har en låg elektrisk resistivitet av ca 5,3 x 104 Qm, en elasticitetsmodul på 360.000 MPa och fria energier på ca AG = ~534 kJ och AG = ~764 för bildandet av W02 respektive WO3.
Tenn har en elektrisk resistivitet av ca 10 x l0* Qm, och en elasticitetsmodul på 50.000 MPa. Den fria energin för att bilda SnO är ca AG = -534 kJ vid rumstemperatur. Tenn är också en relativt mjuk metall och kan enkelt deformeras i kontaktpunkten och kan i och med detta generera en större kontaktarea i gränsytan. Detta kan utnyttja, e.g., i packningsfjädrar för elektromagnetisk skärmning.
Beskrivning av beläggningsmetod Beläggningsmetoden är integrerad i en rulle-till-rulle linje för bandframställning. I denna rulle-till-rulle 10 15 20 25 30 35 m ro »a vNI ( O en }._l Na» framställningslinje är det första produktíonssteget en jon- assisterad etsning av metallbandsytan för att åstadkomma god vidhäftning av det första skiktet. Det konduktiva skiktet deponeras med hjälp av elektronstrále evaporering (EB) i en rulle-till~rulle-process. Bildandet av multiskikt kan åstadkommas genom att integrera flera EB deponeringskamrar i linje (se figur 3).
Föredragen utföringsform av uppfinningen Två exempel pà utföringsformer av uppfinningen kommer nu att beskrivas mer detaljerat. Ett exempel är baserat pà en silverbeläggning på ett stål av ASTM 301-typ med en kemisk samansättning av max 0,12% C, max l,5% Si, max 2% Mn, 16- 18% Cr och 6-8% Ni, resten järn och restämnen som är närvarande till följd av den metallurgiska metod som använts. Det andra exemplet är en nickel~beläggning på ett stål av modifierad ASTM 301-typ med en kemisk sammansättning av max 0,12% C, max 1,5% Si, max 2% Mn, 16- 18% Cr och 6-8% Ni, 0,5-l,0% Mo, resten järn och restämnen som är närvarande till följd av den metallurgiska metod som använts.
Först produceras substratmaterialen enligt vanlig metallurgisk stàltillverkning till en kemisk sammansättning så som exemplifierats ovan. De varmvalsas sen till en intermediär storlek, och kallvalsas sen i flera steg med ett antal rekristallationssteg mellan sagda valsningssteg, till en slutlig tjocklek pà ungefär 0,02-1 mm och med en bredd av maximalt 1000 mm erhålles. Ytan på substratmaterialet rengörs sen på lämpligt vis för att ta bort alla oljerester fràn valsningen.
Därefter sker beläggningsprocessen i en kontinuerlig processlinje som startar med en avhasplingsutrustning. Det 10 15 20 25 30 527 13 Car' 3,.- första steget i rulle-till-rulle-processen kan vara en vakuumkamare eller ett inträdes vakuumlás efterföljandes av en etsningskammare, i vilken jon-assisterad etsning sker för att ta bort det tunna oxidskikt på ytan av det rostfria substratmaterialet. Bandet komer sen in i E~stråle evaporeringskammaren(rarna) i vilken(a) deponeringen av det önskade skiktet sker. Ett metallskikt av vanligtvis 0,05 upp till 15 pm deponeras, vari den föredragna tjockleken beror på applikationen. I de två exemplen som beskrivs här är en tjocklek på 0,2-1,5 um deponerad genom användning av en E-strålekammare.
Efter EB evaporeringen passerar det belagda bandmaterialet genom en utgàngsvakuumkammare eller ett utgångsvakuumlàs innan den hasplas upp pà en haspel. Det belagda bandmaterialet kan nu, om nödvändigt, bearbetas ytterligare genom, till exempel, valsning eller tillskärning, för att erhålla den föredragna slutliga dimensionen för framställningen av komponenter.
Den slutliga produkten så som beskrivits i de tvâ exemplen, i.e., ett 0,05 mm tjockt band av ASTM 301 med en ensidig 1,5 um Ag~beläggning och ett 0,07 mm tjockt band av modifierad ASTM 301 med en ensidig 0,2 um Ni-beläggning, har en mycket god vidhäftning av det belagda skiktet och är därför lämpliga att användas i efterföljande framställning av komponenter för höghâllfasta applikationer, e.g. för fjädrar. Den goda vidhäftningen av skikten testas enligt standard brottest. Från ett substratmaterial av ett rostfritt stàlband som har belagts med ett tunt täckande skikt för att producera en belagd bandprodukt i enlighet med föreliggande uppfinning, produceras prov för brottest enligt standard. Brottest av 4 prover, till exempel enligt BN 10002-1, utförs därefter till brott. Efter testet är den 10 15 20 527 385 14 del av proven vilken gått till brott undersökt i ett optiskt mikroskop med en förstoring på 50 gånger. Förutom det faktiska brottet från testet har inga tecken på flagning, ytsplittring eller andra skador på det belagda skiktet observerats i något av proven. Resultaten från detta test är presenterade i Tabell 1.
Tabell 1. Mekaniska egenskaper och vidâftaing av skikt.
Prov Tjocklek, Sträck- Sträck- Brott- Visuell mm gräns gräns gräns undersökning Rp0.05%, Rp0.2%, Rm, vid 50 MPa MPH MPH gångers förstoring 30l+Nï 0,07 1659 2108 2120 Ingen ytsplittring eller flagning 30lMbd+ 0,05 1445 1920 1945 Ingen Ag ytsplittring eller flagning Rulle~till-rulle elektronstràle evaporeringsprocessen refererad till ovan är illustrerad i Figur 3. Den första delen av en sådan produktionslinje är avhaspeln 13 i vakuumkammaren 14, sen den i linje jon~assisterade etsningskamaren 15, följt av en serie EB evaporationskammare 16, antalet EB evaporationskamare som krävs kan variera från 1 upp till 10 kammare, detta för att åstadkomma en multiskikt struktur, om så önskas. Alla EB evaporationskamrarna 16 är utrustade med EB kanoner och lämpliga deglar 18 för evaporeringen. Efter dessa kamrar kommer utgångsvakuumkamaren 19 och upphasplings-haspeln 20 för det belagda bandet, varvid upphasplingshaspeln är 1.4 (Il placerad i vakuumkammaren 19. Vakuumkamrarna 14 och 19 kan också ersättas av ett system av ingångsvakuurnlàs respektive ett system av utgàngsvakuumlàs. I det senare fallet är avhaspeln 13 och haspeln 20 placerade i fria luften.
Claims (10)
1. En belagd bandprodukt för användning i lastbärande applikationer där låg kontaktresistans i ytan är fördelaktigt varvid produkten består av ett band (2) av rostfritt stål med ett kompakt och jämnt fördelat skikt (1, 3) på en sida eller på båda sidor av bandet kännetecknad av att produkten är producerad i en kontinuerlig rulle-till~ rulle~process inkluderad i en bandproduktionslinje som använder elektronstràleföràngning för deponering av skiktet och som innefattar en etsningskammare i linje för att etsa bandet medelst jonassisterad etsning, att skiktet huvudsakligen består av en eller flera av metallerna guld, koppar, nickel, molybden, kobolt, silver, tenn eller wolfram, att tjockleken av skiktet är maximalt 15 um, att toleransen av skiktet är maximalt +/- 30% av skikttjockleken, att Cr-halten av stàlbandet är åtminstone 10 %, att stålbandet har en minsta brotthållfasthet på 1300 MPa, och att skiktet har så god vidhäftning så att det enaxligt kan dras till brott genom dragprov utan att uppvisa någon tendens att ytsplittras, flagna eller liknande.
2. Produkt enligt krav 1 kännetecknad av att tjockleken på bandet är mellan 0,015 mm och 3,0 m.
3. Produkt enligt krav 1 eller 2 kännetecknad av att den är gjord av ett band av austenitiskt rostfritt stål, eller duplext rostfritt stål, eller härdbart martensitiskt kromstål, eller utskiljningshärdbart rostfritt stål, eller maråldringsstål. 10 15 20 25 30
4. Produkt enligt något av föregående krav kännetecknad av att skiktet har en multiskikt-utformning av upp till 10 lager.
5. Produkt enligt krav 4 kännetecknad av att varje enskilt skikt har en tjocklek av mellan 0,05 och 15 pm.
6. Produkt enligt krav 4 kännetecknad av att varje enskilt skikt har en tjocklek av mellan 0,05 och 11 pm.
7. Produkt enligt krav 4 kännetecknad av att varje enskilt skikt har en tjocklek av mellan 0,05 och 5 pm.
8. Produkt enligt krav 5 kännetecknad av att skiktet har en multiskikt-utformning av enskilda skikt av olika metalliska beläggningar, såsom Ag, Ni, Mo, Co, Au, Mo, W, och/eller Sn.
9. Produkt enligt krav 8 kännetecknad av att skiktet kan bestå av legeringar av åtminstone 2 av ämnena enligt krav li
10. Produkt enligt något av kraven 1-9 kännetecknad av att den är lämplig för framställning av och användning i fjäderelement i strömställare, kontaktdon, metalliska kupoler etc.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0302902A SE527385C2 (sv) | 2003-11-04 | 2003-11-04 | Belagd bandprodukt av rostfrit stål för användning i lastbärande applikationer |
KR1020067008652A KR101141573B1 (ko) | 2003-11-04 | 2004-11-03 | 스프링 요소의 제조 방법 |
EP04800266.1A EP1682691B1 (en) | 2003-11-04 | 2004-11-03 | Method for producing a stainless steel strip coated with a metallic layer |
CN200480031712A CN100591798C (zh) | 2003-11-04 | 2004-11-03 | 涂覆金属涂层的不锈钢带 |
JP2006537941A JP4819688B2 (ja) | 2003-11-04 | 2004-11-03 | 金属層で被覆されたステンレス鋼ストリップ |
PCT/SE2004/001603 WO2005042797A1 (en) | 2003-11-04 | 2004-11-03 | A stainless steel strip coated with a metallic layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0302902A SE527385C2 (sv) | 2003-11-04 | 2003-11-04 | Belagd bandprodukt av rostfrit stål för användning i lastbärande applikationer |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE0302902D0 SE0302902D0 (sv) | 2003-11-04 |
SE0302902L SE0302902L (sv) | 2005-05-05 |
SE527385C2 true SE527385C2 (sv) | 2006-02-21 |
Family
ID=29707840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE0302902A SE527385C2 (sv) | 2003-11-04 | 2003-11-04 | Belagd bandprodukt av rostfrit stål för användning i lastbärande applikationer |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1682691B1 (sv) |
JP (1) | JP4819688B2 (sv) |
KR (1) | KR101141573B1 (sv) |
CN (1) | CN100591798C (sv) |
SE (1) | SE527385C2 (sv) |
WO (1) | WO2005042797A1 (sv) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1891250A1 (en) * | 2005-05-31 | 2008-02-27 | Sandvik Intellectual Property AB | A metal strip product, such as an electrical contact spring, and the manufacturing thereof |
SE0601058L (sv) * | 2006-05-09 | 2007-11-10 | Sandvik Intellectual Property | Bladventilmaterial, tillverkning och användning därav |
SE0700476L (sv) * | 2007-02-23 | 2008-08-24 | Sandvik Intellectual Property | Kontaktelement med låg elektrisk impedans för drift i korrosiva miljöer |
SE0700978L (sv) * | 2007-04-23 | 2008-10-24 | Sandvik Intellectual Property | Kontaktelement hos ett alkaliskt batteri |
KR101136488B1 (ko) * | 2009-11-06 | 2012-04-20 | (주)알오호일 | 메탈 돔용 알루미늄층 금속박판 제조방법 |
KR20120026201A (ko) * | 2010-09-09 | 2012-03-19 | (주)엠에스테크비젼 | 반복형 퓨즈 |
CN102294485B (zh) * | 2011-08-25 | 2013-01-30 | 哈尔滨东大高新材料股份有限公司 | 复合电接触材料及其制备方法 |
CN103753871A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-30 | 苏州米达思精密电子有限公司 | 一种表面局部镀金的金色不锈钢卷带及其制备工艺 |
CN103847162B (zh) * | 2014-02-21 | 2016-01-27 | 苏州米达思精密电子有限公司 | 一种表面镀金的金色补强片及其制备工艺 |
JP6014199B2 (ja) * | 2015-04-28 | 2016-10-25 | 日本発條株式会社 | 積層体の製造方法 |
DE102015220230A1 (de) | 2015-10-16 | 2017-04-20 | Thyssenkrupp Ag | Beschichtete Feder |
US11098393B2 (en) | 2016-03-09 | 2021-08-24 | Hitachi Metals, Ltd. | Martensitic stainless steel foil and manufacturing method thereof |
WO2019239185A1 (en) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
CN109435362B (zh) * | 2018-09-25 | 2021-01-15 | 首钢集团有限公司 | 一种抗锈蚀冷轧钢板及其制造方法 |
SI3702638T1 (sl) * | 2019-02-26 | 2021-09-30 | Nv Bekaert Sa | Pogon za odpiranje in zapiranje vrat ali prtljažnih vrat avtomobila |
CN113481471B (zh) * | 2021-07-10 | 2023-08-04 | 如皋市凯源电器设备有限公司 | 高性能导电条用金属材料制备工艺 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6372869A (ja) | 1986-09-16 | 1988-04-02 | Nippon Steel Corp | 熱伝導性に優れたステンレスフオイル |
JPS6379955A (ja) | 1986-09-20 | 1988-04-09 | Nippon Steel Corp | ろう付け性に優れたステンレス鋼帯の製造方法 |
US4763601A (en) * | 1987-09-02 | 1988-08-16 | Nippon Steel Corporation | Continuous composite coating apparatus for coating strip |
JPH02122064A (ja) * | 1988-10-28 | 1990-05-09 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 耐銹性に優れたステンレス鋼材及びその製法 |
DE69220566T2 (de) * | 1991-11-21 | 1998-02-19 | Nisshin Steel Co Ltd | Verfahren zur bildung einer beschichtung mittels aufdampfen |
EP0570618B1 (en) * | 1992-05-21 | 1996-11-06 | Nissin Electric Company, Limited | Film forming method and apparatus |
SE508150C2 (sv) | 1996-08-30 | 1998-09-07 | Sandvik Ab | Förfarande för att tillverka band av ferritiskt, rostfritt FeCrAl-stål |
SE527180C2 (sv) * | 2003-08-12 | 2006-01-17 | Sandvik Intellectual Property | Rakel- eller schaberblad med nötningsbeständigt skikt samt metod för tillverkning därav |
-
2003
- 2003-11-04 SE SE0302902A patent/SE527385C2/sv not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-11-03 JP JP2006537941A patent/JP4819688B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-11-03 EP EP04800266.1A patent/EP1682691B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-11-03 CN CN200480031712A patent/CN100591798C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-11-03 KR KR1020067008652A patent/KR101141573B1/ko active IP Right Grant
- 2004-11-03 WO PCT/SE2004/001603 patent/WO2005042797A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1875128A (zh) | 2006-12-06 |
KR101141573B1 (ko) | 2012-07-12 |
JP2007510809A (ja) | 2007-04-26 |
SE0302902L (sv) | 2005-05-05 |
EP1682691A1 (en) | 2006-07-26 |
KR20060115380A (ko) | 2006-11-08 |
WO2005042797A1 (en) | 2005-05-12 |
CN100591798C (zh) | 2010-02-24 |
SE0302902D0 (sv) | 2003-11-04 |
EP1682691B1 (en) | 2017-01-11 |
JP4819688B2 (ja) | 2011-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE527385C2 (sv) | Belagd bandprodukt av rostfrit stål för användning i lastbärande applikationer | |
EP1439240B2 (en) | Method for hot-press forming a plated steel product | |
RU2566103C1 (ru) | Металлический материал для электронного компонента и способ его изготовления | |
CN103608474B (zh) | 软质稀释铜合金线、软质稀释铜合金绞线、以及使用这些的绝缘电线、同轴电缆及复合电缆 | |
US20090047510A1 (en) | Coated product and method of production thereof | |
CN101821418B (zh) | 高频铁损低的无方向性电磁钢板及其制造方法 | |
US9485894B2 (en) | Metal foil for electromagnetic shielding, electromagnetic shielding material, and shielding cable | |
US20080032161A1 (en) | Coated Product And Method Of Production Thereof | |
CN105309061B (zh) | 电磁波屏蔽用金属箔、电磁波屏蔽材和屏蔽电缆 | |
CN114717502A (zh) | 设置有提供牺牲阴极保护的含镧涂层的钢板 | |
KR20100133499A (ko) | 슬라이딩 부재의 제조 방법, 슬라이딩 부재 및 슬라이딩 부재 모재 | |
US20070082214A1 (en) | Stainless steel strip coated with aluminium | |
US20070224439A1 (en) | Stainless Steel Strip Coated with a Metallic Layer | |
KR101269816B1 (ko) | 플렉시블 라미네이트 및 그 라미네이트를 사용하여 형성한 플렉시블 전자 회로 기판 | |
KR102068583B1 (ko) | 도금 강판 및 그 제조 방법 | |
JPWO2019186891A1 (ja) | 亜鉛系めっき鋼板および熱処理鋼材 | |
KR20210116422A (ko) | 커넥터용 단자재 및 커넥터용 단자 | |
JP6753369B2 (ja) | 溶融Zn系めっき鋼板及びその製造方法 | |
WO2021210114A1 (ja) | 溶融Al系めっき鋼板および溶融Al系めっき鋼板の製造方法 | |
JP6099672B2 (ja) | 温度ヒューズ用電極材料およびその製造方法 | |
Panagopoulos et al. | Zn–Fe multilayered alloy coatings produced by electrodeposition | |
JPH04235271A (ja) | 高温耐食部材およびその製造方法 | |
Benmokhtar et al. | Effect of oxygen pressure on the microstructure and mechanical properties of Mo coating deposited on steel 42CD4 by thermal flame spraying | |
Kim et al. | Deposition of Workability-Enhancing Disposable Thick Fe Deposits on Fe-Si Alloy Sheets Using Thermal and Kinetic Spray Processes | |
JPH07166313A (ja) | ノズルを使用した溶融めっき方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |