SE513629C2 - Metallbelagda substrat - Google Patents

Description

l5 20 25 513 629 2 Ett sådant underskikt med högt brytningsindex gynnar emellertid inte uppkomsten av en låg ljusreflektans (RL), och således en hög selektivitet av det belagda substra- ICI.

GB-A-2 229 737 och GB-A-Z 229 738 beskriver ett substrat av ett glasningsmaterial som har en flerskiktsbeläggníng som innefattar ett reflekterande skikt av silver skiktat mellan en transparent underbeläggning och en transparent överbeläggning.

Underbeläggningen innefattar minst ett skikt av en metalloxid över vilken ett skikt av zinkoxid är avsatt upptill 15 nm tjocklek. Överbeläggriingen innefattar ett lager av en oxid av en otïennetall såsom aluminium, vismut, rostfritt stål, tenn eller titan eller en blandning därav.

Uppfinriingen har som ändamål att ge en förbättrad flerskíktsbelåggning i vilken bå- de den violetta fargen vid reflektion neutraliseras och en låg nivå på reflektionen uppnås, utan resulterande nackdelar i flerskiktsbeläggningens selektivitet.

Flera av egenskaperna hos ett belagt substratet har exakta betydelser definierat av en lämplig standard. De som används här baseras på definitionerna av International Commission on Illumination - Commission lntemationale de PEcIairage (”CIE”).

Standardljuskällan angiven häri som ljuskälla C är definierad av CIE. Ljuskälla C representerar genomsnittligt dagsljus som har en färgtemperatiir på 6700°K.

”Ljusgenomsläppligheten” (TL) är ljusflödet genomsläppt genom ett substrat som en procentdel av det infallande ljusflödet (av ljuskälla C).

”Ljusreflektansen” (RL) är det reflekterade ljusflödet från ett substrat som en pro- centdel av det infallande ljusflödet fiån ljuskälla C.

Det ”spektrala absorptionsindexet” (kk) hos ett substrat definieras av formeln: 10 15 20 25 30 513 629 k (RÅ) = -fiOO 41! där a (k) är den spektrala linjära absorptionskoefficienten, ”Solfaktorn” (F S) är förhållandet av summan av den totala energin direkt genom- släppt genom ett substrat och energin som absorberas och återstrålas på sidan bort från energikällan som en del av den totala strålningsenergin som faller in på sub- SlIatCt.

”Selektiviteten” (SE) hos det belagda substratet är förhållandet av ljusgenomsläpp- ligheten (TL) mot solfaktom (FS).

”Renheten” (p) hos färgen pâ substratet avser excitationsrenheten mätt med ljuskälla C som definierats i CIE Intemational Lighting Vocabulary, 1987, sida 87 och 89.

Renheten specificeras enligt en linjär skala på vilken en definierad vit ljuskälla har en renhet noll och den rena färgen har en renhet av 100%. Renheten hos det belagda substratet mäts från sidan motsatt sidan med beläggningen.

Termen ”brytningsindex” (n) definieras i CIE Intemational Lighting Vocabulary, 1987, sida 138.

Den ”dominerande våglängden” (KD), även känd som nyans, är toppvåglängden i området genomsläppt eller reflekterat av det belagda substratet.

Enligt uppfinningen tillhandahålles ett belagt substrat som har en flerskiktsbelägg- ning innefattande, i ordning fiån substratet, (i) ett skikt av dielektxiskt material, (ii) ett skikt av en metall vald bland silver, guld, koppar och legeiingar av en eller flera därav, och (iii) ett ytterligare skikt av dielektriskt material, som kärmetecknas av att skiktet (i) av dielektriskt material är ett kompositskikt som innefattar ett underskikt av ett selektivt absorberande material med ett brytningsindex på minst 1,4, ett 10 15 20 25 30 515 629 4 spektralt absorptionsindex kk på minst 0,4 i området 380<7t<450 nm och represente- rande ett förhållande k3g0<Ä<450 nmfkö5g 2.

De belagda substraten enligt uppfinningen är således känneteclcnande av ett under- skikt bildat av material med speciella absorberande egenskaper, som skiljer sig från dessa hos underskikt i våra tidigare ansökningar. Absorption av den blåa kompo- nenten av de oönskade violetta färgerna beroende på tjockleken hos det eller de metauiska skikten, som med hänvisning 511 förhållandet k (för 3so (för 650 2, satisfieras genom materialet som bildar under- skiktet. De angivna våglängdsområdena är inom det synliga spektrat.

Således använder sig uppfinningen av två färgneutraliserande mekanismer: absorp- tion i den blåa delen av spektrum (våglängder i området av omkring 450 nm och mindre) och interferenseffekter uppvisade av de kollektiva skikten i flerskiktsbe- läggningen i den röda delen av spektrat (våglängder i området av omkring 650 nm och däröver); och är således mera effektiva än tidigare föreslagna i att reducera den violetta färgningen. I motsats till tidigare förslag som förlitar sig enbart på interfe- renseffekter behöver uppfmningen inte använda ett neutraliserande skikt med ett brytningsindex högre än de i andra oxid- eller nitridskikt. Flerskilctsbeläggriingen uppvisar också förbättrad, dvs reducerad renhet vid reflektion, och anmärkningsvärt uppnås detta i kombination med en mycket låg nivå på ljusreflektansen (RL).

De belagda substraten enligt uppfinningen och således glasningsskivor innefattande dem, har den höga selektiviteten förknippad med närvaro av stora tjocklekar hos metallskikten, men utan den signifikanta reflektionen och starka violetta fargiingen, vanligtvis ingående i sådana produkter. I jämförelse med ett likartat belagt substrat på liknande sätt som innehåller en eller flera tjocka metallskikt, men utan det absor- berande materialet, erbjuder skivorna enligt uppfirmingen minst lika bra selektivitet, en högre dominerande våglängd avseende reflektion (XD) skiftande mot grönt - men samtidigt med en svagare reflektion från glassidan (RL) och en lägre fárgrenhet vid refleklion (p). 10 l5 20 25 513 629 5 I andra utföringsformer enligt uppfinningen kan flerskiktsbeläggningen innefatta ett ytterligare metallskikt (iv) och ett ytterligare dielektriskt skikt (v).

Ett oflerbarriärskikt, tex av en metall vald från krom, krom/nickellegering, niob, tantal, tenn, titan och zink är helst beläget omedelbart över metallskiktet eller varje metallskikt. Den föredragna offennetallen är titan. Offennetallen tar upp syre, som annars skulle angripa metallskiktet under och efter bildningen av skiktet och den re- sulterande oxiden ger ett skyddande skikt på metallskiktet. Med hänsyn tagen till offereffekten har offerrnetallen företrädesvis en tjocklek av 2-5 nm, men använd- ningen av tjocklek på upp till 10 nm kan vara fördelaktigt för att länma ett ooxiderat skikt av offermetallen för att förbättra solarisationsegenskapema hos beläggningen i sin helhet.

De dielektriska materialen hos skikten (i), (iii) och (v) innefattar företrädesvis minst en metalloxid eller metallnitrid. Lämpliga exempel på dessa innefattar aluminiumox- id (Al2O3), alwniniurnoxinitrid, magnesiumoxid (MgO), nioboxid, (Nb2O5), kisel- dioxid, kiselnitrid (Si3N4), tantaloxid (TaOz), tennoxid (SnOg), titandixod (TiOz), yttriumoxid (Y2O3), zinkoxid (ZnO), och zinksulfid (ZnS). Dessa kan användas en- sarnrna eller i kombination. De är icke absorberande transparanta material med för- måga att justera ljusreflektansen RL och fargrenheten p. De önskade optiska interfe- renseffektema varigenom flerskiktsbeläggningen reducerar den violetta reflektionen, uppnås utmärkt medflera underskikt av materialen, t ex SnOz/ZnO eller ZnO/SnOz/ZnO.

I en flerskiktsbeläggriing som har ett enkelt metallskikt, är tjockleken på de dielek- triska skikten (i) och (iii) företrädesvis inom områdena 15-45 nm respektive 30-60 nm, helst 25-45 nm och 35-55 nm. I en flerskiktsbeläggning, som har två metallskikt är tjockleken på de dielektriska lagren (i), (iii) och (v) företrädesvis i områdena 15- 35 nm, 60-90 nm respektive 20-40 nm. 10 15 20 25 513 629 6 Selektiviteten hos ett belagt substrat som innefattar underskikt har visat sig vara minst så högt som ett motsvarande belagt substrat i vilket underskiktsprodukten är frånvarande.

Lämpliga exempel på det selektivt absorberande materialet i underskiktet är oxid av rostfritt stål (SSOx), järnoxid (Fe2O3), en kromoxid (CrOx: CrO eller Cr2O3), pal- ladiumoxid (PdO), germanium, en gennariiumoxid (GeOX, där O kiseloxid (SiOX, där O Järnoxid har en fördel mot oxid av rostfritt stål vad gäller fargneutralisering, men detta är till en viss grad återgående eftersom oxid av rostfritt stål inte är magnetisk och således är enklare att avsätta än järnoxid, vars diamagnetism förhindrar dess applicering genom magnetronkatodforstoftnirig.

Det kan noteras att dessa selektivt absorberande material också har goda absorbe- rande egenskaper för ultravioletta (UV) våglängder. Således erbjuder en glasnings- skiva med en flerskiktsbeläggning innefattande ett sådan selektivt absorberande material den ytterligare fördelen med att reducera mängden UV-strålning som kom- mer in i ett rum och därvid skyddar vilken som helst textil och plast i rummet mot missfärgning. Även om skikten (iii) eller (v) samtidigt kan innefatta ett underskikt av ett selektivt absorberande material erhålles den önskade graden av absorberingsförrnåga av en- bart underskiktet självt i det första skiktet (i).

Tjockleken på det ena eller var och ett av de selektivt absorberande underskikten ska företrädesvis vara mindre än 15 nm. Belagda substrat enligt uppfmningen i vilka tjockleken på underskiktet är mindre än 5 nm är av speciellt intresse. En 5 nm tjocklek på SSOx tillåter fargneutralisering av ett 14 nm silverskikt och samma tjocklek på Fe2O3 tillåter neutraliseringen av ett 17,5 nm silverskikt.

Metallskikten (ii) och (iv) bildas av silver, guld eller koppar eller en legering av en eller flera därav. l en utföringsform enligt uppfinningen med ett enkelt metallskikt 10 15 20 25 30 513 629 7 (ii) närvarande i flerskiktsbeläggriingen är metalltjockleken företrädesvis i området 10-20 nm, med tillhörande ljusreflektans (RL) på mindre än 20%. I en annan utfö- ringsfonn enligt uppfinningen med ett enkelt metallskikt (ii) närvarande i flerskikts- beläggningen är dess tjocklek företrädesvis i området av mer än 20 nm upp till 30 nm, med en tillhörande ljusreflektans (RL) på mindre än 40%.

När två sådana skikt (ii) och (iv) föreligger är deras tjocklek företrädesvis var och en i området 10-25 nm.

Användningen av ett absorberande underskikt i det första dielektriska skiktet (i) fa- voriserar uppkomsten av ett lägre ljusreflekterande (RL) värde för de belagda sub- straten är för en traditionell ”neutraliserande” flerskiktsbeläggning som har metall- skikt av samma tjocklek (tjocklekar) som dessa av det belagda substratetl fallet av en flerskiktsbeläggriing enligt uppfinningen med två metallskikt (ii) och (iv) är RL företrädesvis mindre än 15%.

Substratet är vanligtvis glas, men kan vara ett annat transparent material, såsom po- lykarbonat, polymetylmetakrylat eller polyetylentereftalat.

Det belagda substratet har företrädesvis en färgrenhet (p) på mindre än 20%, mer föredraget mindre än 10%. Denna fördelaktigt låga färgrenhet är anmärkningsvärd då den är kombinerad med de låga RL-värdena som också är möjliga att uppnå en- ligt uppfinningen.

Förutom en sådan anmärkningsvärd reduktion i renheten hos det belagda substratet ökar uppfinningen också dess dominerande våglängd (KD), företrädesvis till en do- minerande våglängd mellan 480 och 500 nrn. I detta våglängdsområde är färgen inte längre violett utan snarare tenderande mot blå till blå-grön.

Tjockleksdimensionema angivna häri för skikten och substratskikten hos flerskikts- beläggningen är geometriska tjocklekar. De angivna egenskapema hos det belagda 10 15 20 25 513 629 8 substratet mäts på basis av ett enkelt ark av vanligt klart sodaglas som har en tjock- lek, såvida inte annat specificeras på 6 mm. Egenskapema har observerats från ytan motstâende den belagda ytan, dvs från glassidan. Den motstâende ytan är vanligtvis obelagd.

Då det belagda substratet används i en glasningsskiva är det lärnpligen anordnat till- sammans med ett eller flera obelagda substratark i en multipel glasningskombiria- tion, med beläggningen belägen på en inre yta.

Enligt uppfinningen har det snabbt blivit möjligt att uppnå dubbelt solskydd med ni- våer på selektiviteten som hittills uppnåtts med stor svårighet. Uppfinningen ger en selektivitet större 1,4 när man använder sig av ett enkelt metallskikt i en fler- skiktsbeläggning och större än 2,0 när man använder sig av ett dubbelt metallskikt i en flerskiktsbeläggiiing. Dessutom erhålls dessa höga nivåer på selektiviteten i kombination med låg färgenhet och låg reflektivitet. Även om uppfinningen i första hand beskrivits med hänvisning till belagda substrat använda i glasningsskivor är uppfinningen samtidigt också tillämpbar på belagda substrat som används i optiska filter. Typiska exempel på sådana filter är monokro- matiska filter, som tjänar till att reducera bandbredden hos synligt ljus passerande genom dem. Också kända som ”kvartsvåglängd” eller Fabry-Perot-filter är de typiskt centrerade inom våglängdsorrirådet på maximal mänsklig synskärpa (550 nm i 50 nm). Speciellt kan de tjäna till att eliminera de delar av spekrat, som inte bidrar till ljusgenomsläppligheten, men som är skadliga för solfaktom, dvs de infraröda och ultravioletta delarna av spektrat. Således erbjuder de möjligheten att erhålla höga selektivitetsvärden men denna fördel måste variligtvis betalas genom en oönskad ökning i färgrenheten vid reflektion. Införandet av ett absorberande underskikt enligt uppfinningen övervinner denna nackdel. De belagda substraten i dessa filter är av sarrirna struktur som substraten belagda med dubbla metallskikt som beskrivits ovan, men har andra tjocklekar i dielektrikema nämligen: 10 15 20 25 30 513 629 9 (i) och (v): mindre än 10 nm (förutom det selektiva absorberande underskiktet, som skall vara mindre än 15 nm) (iii): (550 nrn/4n) i 15 % [där n representerar det dielektriska skiktets brytningsindex (iii)].

Beläggningsskikten appliceras företrädesvis genom vakuumbeläggning. Detta förfa- rande föredras eftersom det ger lätt kontrollerad tjocklek och sammansättning för beläggningar och således hjälper till att förbättra produktens likforrnighet som öns- kas enligt uppfinningen. Avsättriingen använder typiskt en eller flera vakuumavsätt- ningskammare, transportband för substratet, kraftkällor och gasinloppsslussar. Varje avsättningskarnrnare innehåller plana magnetronsputteringskatoder, gasinlopp och evakueringsutlopp, avsättning utförs genom att mata substratet flera ggr under kato- dema. Trycket i kamrarna är typiskt ca 0,3 Pa.

De relativt låga tjocklekama hos respektive skikt hos de belagda substraten enligt uppfinningen ger processfördelar både vad gäller kort tidsåtgång för att applicera skikten och den ekonomiska användningen av de respektive materialen.

Uppfmningen beskrivs mera detaljerat med hänvisning till efterföljande icke- begränsande exempel. För varje exempel firms det minst ett järnförelse exempel för att visa förbättringarna som erhålls med belagda substrat enligt uppfmningen. För var och ett av exemplen fick ett substratark av 6 mm klart glas passera genom en va- kuumavsättningsanordning med kamrar med katoder försedda med målelektroder som, allt efter den specifika skiktuppbyggnaden, är bildade av titan, rostfritt stål, järn, zink och tenn, använda för respektive avsättning i en syreatmosfar med dielekt- riska underskikt av titandioxid, (TiOz), oxid av rostfritt stål (SSOx), jämoxid (Fe2O3), zinkoxid (ZnO) och tennoxid (SnOz) [(i), (iii) och, i vissa fall (v)]. Mål av silver och titan användes samtidigt för avsättning i en argonatmosfâr av ett eller fle- ra skikt av silver [(ii) och i vissa fall (iv)] och titan som ett eller flera offerbarriär- skikt. 10 15 20 25 513 629 10 Substratskivan utsattes för frarn- och återgående passager genom avsättningsanord- ningen för att erhålla de önskade skikten och tjocklekarna av två eller tre skikt av dielektriskt material. Den färdigställda flerskiktsbeläggningen innefattade skikt som framgår av tabell 1. Deras optiska egenskaper utforskades från glassidan och resul- tatet visas i tabell 2. TL, FS och SE -resultaten i de sista tre kolumnerna erhölls för en dubbel glasningsanordning innefattande en skiva belagd som ovan. Mellanrum- met mellan skivoma i enheten var fyllt med argon.

När dielektrikernai dessa exempel innehöll underskikt med strukturen SnO2/ZnO, var dessa oxider närvarande inom samma förhållande (0,5/0,5). När strukturerna var av typen ZnO/SnO2/ZnO, var proportionerna 0,25/0,5/0,25. 1 alla exemplen var absorptionskoefficienten i det blåa området (3 80<Ä<450 nm) mellan 0,4 och 1,2 för SSOx och mellan 0,5 och 0,9 för Fe2O3.

Exempel l (jämförelse) visar användningen av ett material med högt brytningsindex (TiOz, som har brytningsindex på 2,5 järnfört med ca 2,0 för ZnO eller SnOg) i di- elektrikat 1. Ett sådant material begränsar fargrenheten hos den violetta färgen för- orsakad av det viktiga skiktet av silver använt med hänvisning till material med lägre brytningsindex. Detta motsvarar känd teknik. Exempel 2 Üärrrförelse) visar att även i fallet med en sådan teknik, reduceras reflektionen, färgenheten är ytterligare reduce- rad och längden på den dominerande våglängden ökade genom införandet av det första dielektrikat hos ett absorberande underskikt enligt uppfinningen.

Exempel 3 visar att ju tjockare det absorberande underskiktet är desto lägre är fler- skiktsbeläggningens ljusreflektans och fargrenheten vid reflektion, och desto högre är dess dominerande våglängd. 513 629 ll Exempel 10 visar en tillämpning av uppfmningen inom området optiska filter. Detta exempel är också en illustration av den överlägsna neutraliseringskraften hos Fe2O3 jämfört med SSOx. 513 629 12 Tabell 1 (tjocklek i nm) Exempel Dlelektrilçmn 1 bfkaäšll Dlâläiçfn pæälål Barrzztar âllïïlškä TiOz Fe2O3 TiOz Ag Ti TiOz Ag Ti ZnO/ Snoz/ ZnO 1 21 - - 20 3 38.5 - - _ 2 16 8 5 20 3 37 - - _ SnOzl SSOx ZnO “ “ ZnO/ “ “ “ ZnO SnOZ/ ZnO 3a 34 - - 13.5 3 42 - - - 3b 18 10 5 13.5 3 42 - - - 3c 13 13 5 13.5 3 42 ~ - - 4a 26 - - 18 3 47 - _ _ 4b 15 6 5 18 3 47 - - - Sa 30 - - 22.5 3 52 - - - 5b 20 4 6 22.5 3 52 - - _ 6a 40 - - 27 3 54 - - - 6b 30 4 6 27 3 54 - - - SnOz “ SnOZ/ “ “ “ “ “ “ ZnO 7a - - 28 14.5 3 73 14.5 3 28 7b - 3 25 14.5 3 73 14.5 3 28 8a - - 32 16 3 80 16 3 32 8b - 7 25 16 3 80 16 3 32 9/la - - 31 18 3 81 18 3 31 9/lb - 8 23 18 3 81 18 3 31 9/2a - - 22 11 3 80 21.5 3 33 9/2b - 9 13 11 3 80 21.5 3 33 9/3a - - 22 14.5 3 80 18 3 33 9/31) - 14 8 14.5 3 80 18 3 33 10a - - 5 11.5 3 61 10.5 3 5 “ Fe2O3 “ “ “ “ “ “ “ 10b 5 15 - 11.5 3 61 10.5 3 5 515 629 13 Tabell 2 TL RL 1.0 p TL 1=s sE (%) (%) (um) (%) (%) (%) 1 71.1 21.7 478 21.0 64 41 1.56 2 75.1 11.6 480 10.0 68 41 1.56 36 84.5 8.2 472 23.0 76 52 1.46 31» 80.9 6.7 480 13.5 73 49 1.49 36 78.9 5.8 487 7.9 71 48 1.48 46 72.0 20.4 475 13.5 65 41 1.59 41» 71.7 17.1 481 5.3 65 40 1.63 56 58.4 33.7 478 9.0 52 31 1.68 51» 58.7 30.3 490 2.2 53 31 1.71 66 47.7 43.7 478 8.9 43 24 1.79 61» 47.9 39.6 486 2.5 43 24 1.79 76 71.5 9.2 486 10.9 64 30 2.13 71» 70.2 8.0 494 4.7 63 29 2.17 86 70.6 10.9 478 23.0 64 28 2.29 81» 67.6 7.7 483 7.7 61 25 2.44 9/16 67.5 13.3 477 32.0 61 23 2.65 9/11» 64.7 8.9 481 14.8 58 21 2.76 9/26 67.1 13.0 477 37.6 60 24 2.50 9/21» 64.0 13.0 485 16.3 58 23 2.52 9/36 70.8 10.3 477 38.8 64 26 ' 2.46 9/31» 66.7 7.1 481 18.8 62 25 2.48 106 73.7 10.4 473 51.8 66 35 1.89 101» 67.0 11.1 489 18.2 61 33 1.85

Claims (18)

10 15 20 25 513 629 14 Patentkrav

1. Belagt substrat som uppbär en flerskiktsbeläggning innefattande på varandra föl- jande räknat från substratet, (i) ett skikt av dielektriskt material, (ii) ett skikt av en metall vald bland silver, guld, koppar och legeringar av en eller flera därav, och (iii) ett ytterligare skikt av dielektriskt material, kännetecknad av att skíktet (i) av di- elektriskt material är ett kompositskikt, som innefattar ett underskikt av ett selektivt absorberande material med brytningsindex av minst 1,4, ett spektralt absorptionsin- dex kk av minst 0,4 i området 380<Ä<45O nm och uppvisande ett förhållande 1<3so<>t<4so nm/k6so<>t<76o mn > 2-

2. Belagt substrat enligt krav 1, i vilket flerskiktsbeläggningen innefattar ett ytterli- gare metallskikt (iv) och ett ytterligare dielektriskt skikt (v).

3. Belagt substrat enligt krav 1 eller krav 2, i vilket beläggningen innefattar ett of- ferbaniärskikt omedelbart över det enda eller varje metallskikt.

4. , Belagt substrat enligt något av föregående krav, i vilket materialet i de dielektris- ka skikten innefattar en eller flera av aluminiumoxid, aluminiumoxinitrid, magnesi- umoxid, nioboxid, kiseldioxid, kiselriitrid, tantaloxid, tennoxid, titandioxid, ytlri- umoxid, zinkoxid och zinksulfid.

5. Belagt substrat enligt något av föregående krav, i vilket det selektiva absorberan- de materialet i underskiktet är valt bland oxid av rostfritt stål, järnoxid, en krom- oxid, palladiumoxid och zirkonoxid.

6. Belagt substrat enligt något av föregående krav, i vilket tjockleken på det selektivt absorberande underskiktet är mindre än 15 nm. 10 15 20 25 30 513 629 15

7. Belagt substrat enligt något av föregående krav som har ett enkelt metallskikt, i vilket tjockleken på de dielektriska skikten (i) och (iii) är i områdena 25-45 nm resp. 35-55 nm och i vilket tjockleken på metallskiktet är i området 10-20 nm.

8. Belagt substrat enligt krav 7, som har ett ljusreflektansvärde (RL) på mindre än 20%.

9. Belagt substrat enligt något av kraven 1-7 som har ett enkelt metallskikt, i vilket tjockleken på metallskiktet är i området av mer än 20 nm upp till 30 nm.

10. Belagt substrat enligt krav 9, som har ett ljusreflektansvärde (RL) mindre än 40%.

11. Belagt substrat enligt något av kraven l-6 som har två metallskikt, i vilka tjock- leken på vart och ett av de två metallskikten är i området 10-25 nm.

12. Belagt substrat enligt något av kraven 1-6, eller 11 som har tvâ metallskikt, i vil- ket tjockleken på de dielektriska skikten (i), (iii) och (v) är i områdena 15-35 nm, 60-90 nm resp. 20-40 mn..

13. Belagt substrat enligt något av föregående krav, som bildar en del av ett optiskt filter. i

14. Belagt substrat enligt krav 13, i vilket tjockleken på de dielektriska skikten (i) och (v) var och ett är mindre än 10 mn, förutom eventuellt selektivt absorberande underskikt, och tjockleken på de dielektriska skikten (iii) är (550 nm/4n) :t 15%, där n anger det dielekniska skiktets (iii) brytningsindex.

15. Belagt substrat enligt något av kraven 11-14, som har ett ljusreflektansvärde (RL) på mindre än 15%. 10 515 629 16

16. Belagt substrat enligt något av föregående krav, som har en fárgrenhet (p) på mindre än 20%, företrädesvis mindre än 10%.

17. Belagt substrat enligt något av föregående krav, som har en dominerande våg- längd inom området 480 till 500 nm.

18. Belagt substrat enligt något av föregående krav, som bildar en del av en dubbel glasningspanel, som har en selektivitet större än 1,4.