CN105314888B - 玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法和应用 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法和应用。该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；所述第一电介质层为氧化硅膜层，所述第二电介质层为氧化锌膜层，所述核心介质层为铜膜层，所述保护层为镍铬合金膜层，所述第三电介质层为氧化硅膜层；所述玻璃基板为浮法玻璃。本发明可以实现玫瑰金色低辐射的功效，且反射率低，不产生光污染，抗氧化性能明显提高，还能延长储存期限，适合工业生产与多个领域的应用。
Description
技术领域
本发明属于玻璃技术领域，具体涉及一种玫瑰金色度辐射镀膜玻璃及其制备方法和应用。
背景技术
目前，随着人们对玻璃墙幕颜色多样性的不断追求，常规颜色的玻璃已经不能满足市场需求。为了达到具有特殊颜色的效果，有许多开发人员开发出金色等低辐射的镀膜玻璃，然而这些金色等低辐射镀膜玻璃往往有很高的外反射会，但是现今越来越多的国家和地区正在关注光污染问题，使得金色镀膜玻璃、金色低辐射镀膜玻璃在应用上存在的上述问题越来越凸显，为达到反射程度高的效果，许多镀膜玻璃赋予了足够厚的Ag层作为功能层，然而，过厚的Ag容易导致产品抗氧化性能差，难以长时间储存。
发明内容
本发明实施例的目的在于开发出一种满足市场需求的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法，克服现有技术中特殊膜系存在的反射率偏高、抗氧化性能差、不能长时间储存等问题。
本发明实施例的又一目的在于提供该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的应用。
为了实现上述发明目的，本发明实施例的技术方案如下：
包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层。
以及，一种如上所述的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，包括如下步骤：
步骤S01、对玻璃基板进行清洗处理；
步骤S02、在所述玻璃基板表面上依次沉积如下功能膜层：第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层。
以及，如上所述的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃在建筑玻璃幕墙、玻璃屋顶、雨棚、建筑门窗及室内装饰的应用。
上述实施例中的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃，外观呈现出玫瑰金色状，具有很好的美观效果；
上述实施例中的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃，对可见光的外反射率小，能够有效减少光污染。
上述实施例中的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃产品因使用铜作为核心介质膜层，其抗氧化性有明显提高，使得制备的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃放置于干燥剂密封包装的有效存储时间达到6个月。
上述实施例中，玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制造过程中，采用在线光度计实时测量膜层颜色参数，并进行膜层厚度的调整，使生产的玻璃颜色参数与玫瑰金色相近，生产工艺先进，产品良率高，且采用铜作为核心介质层，制备的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃反射玫瑰金色的效果提高。
上述实施例的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃应用于建筑幕墙中，不但起到围护结构的作用，而且还起到装饰结构的作用，具有采光、隔音、隔热、保温、防结雾、防潮及抗风压等优点；应用于玻璃屋顶、雨棚中，具有集采光、装饰造型和防水的作用；应用于门窗中，能起到美化门窗的额作用，同时具有采光、隔音、隔热及保温等优点；应用于室内装饰，能够起到室内颜色多样性的装饰效果。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：
图1为本发明实施例玫瑰金色低辐射玻璃结构示意图；
图2(a)、2(b)、2(c)为本发明实施例1的膜层光谱曲线示意图；
图3(a)、3(b)、3 (c)为本发明实施例2的膜层光谱曲线示意图；
图4(a)、4(b)、4(c)为本发明实施例3的膜层光谱曲线示意图；
图5(a)、5(b)、5 (c)为本发明实施例4的膜层光谱曲线示意图；
图6(a)、6(b)、6(c)为本发明实施例5的膜层光谱曲线示意图；
图7(a)、7(b)、7(c)为本发明实施例6的膜层光谱曲线示意图；
图8为本发明实施例玫瑰金色低辐射镀膜玻璃制备方法流程图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明实例提供了一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃。该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和沉积于玻璃基板上的功能膜层2，所述沉积于玻璃基板上的功能膜层至少包含五个膜层结构，每个功能膜层依次沉积。
具体地，本实施的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的膜层结构为：玻璃基板1/第一电介质层21/第二电介质层22/核心介质层23/保护层24/第三电介质层25。
具体地，上述第一电介质层21/第二电介质层22/核心介质层23/保护层24/ 第三电介质层25构成了本发明实施中依次沉积于玻璃基板的功能膜层2。
更具体地，本实施例的上述第一电介质层为第一氮化硅膜层(SiNx)、第二电介质层为氧化锌膜层(ZnO)、核心介质层为铜膜层(Cu)、保护层为镍铬合金膜层(NiCr)、第三电介质层为第二氮化硅膜层(SiNx)。
更具体地，本实施例的上述各个功能膜层的厚度分别为，第一电介质层的第一氮化硅膜层(SiNx)10.5～32.1nm、第二电介质层的氧化锌膜层 (ZnO)3.8～17.9nm、核心介质层的铜膜层(Cu)13.2～28.3nm、保护层的镍铬合金膜层(NiCr)2.6～7.5nm、第三电介质层的第二氮化硅膜层(SiNx)10.2～27.3nm。
更具体地，各个膜层的作用如下：
第一电介质层氮化硅，在本发明实施例中能够阻止玻璃基板中的Na+向膜层中渗透；控制膜系的光学性能和颜色；增加膜层和玻璃基片之间的吸附力；
第二电介质层氧化锌在核心介质层和第一电介质层之间，提供吸附力；对核心介质层起铺垫作用，使核心介质层的铜膜层在其上可以更好地成膜；保护整个膜层结构，减少氧化，提高物理和化学性能；控制膜系的光学性能和颜色。
作为核心介质层的铜在本发明实施例中的具有降低辐射率、增强保温或隔热性能、控制膜系的光学性能和颜色的作用。
作为保护层的镍铬合金具有保护核心介质层不被氧化并控制膜系的光学性能和颜色的作用。
第三电介质层同样为氮化硅，具有保护整个膜层结构、减少氧化、提高物理和化学性能；控制膜系的光学性能和颜色的作用。
相应地，在上文所述的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的基础上，本发明实施例还提供了本发明实施例玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的一种制备方法。作为本发明优选实施例，该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
步骤S01：前处理，清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10-6mbar以上；
步骤S02、膜层沉积处理，控制溅射真空度为2×10-3mbar～5×10-3mbar，在所述浮法玻璃基板上依次沉积如下厚度的膜层：10.5～32.1nm的第一氮化硅膜层、3.8～17.9nm的氧化锌膜层、13.2～28.3nm的铜膜层、2.6～7.5nm的镍铬合金膜层、10.2～27.3nm的第二氮化硅膜层；
具体地，上述步骤S01中，采用Benteler清洗机对浮法玻璃进行清洗。
具体地，步骤S02在溅射镀膜过程中，采用德国冯·阿登那公司生产的磁控溅射镀膜设备控制溅射的真空度，并应当注意膜层厚度的调整，可使用在线光度计测量膜层颜色参数，并进行膜层厚度的调整，使颜色参数与玫瑰金接近。
具体地，上述步骤S02中膜层沉积处理后的玻璃，应采用浓度为1mol/L HCl 溶液和浓度为1mol/L NaOH溶液作为浸渍液，按照《GBT18918.2-2002镀膜玻璃第2部分低辐射镀膜玻璃》检测膜层沉积处理后的玻璃的耐酸性能和耐碱性能。
本发明的制备实施例先采用专业膜层模拟软件进行理论模拟，获得各功能膜层的理论厚度，然后采用磁控溅射镀膜设备进行镀膜加工。具体是对清洗后的浮法玻璃在真空室内进行依次镀膜，对沉积镀膜过程中玻璃，采用在线光度计测量颜色参数，并根据测量的颜色参数结果对膜层厚度进行调整，直至可以制备出与玫瑰金色接近的6mm样品。与此同时，还采用台式光度计、研磨机、 U4100紫外可见红外分光光度计等测试分析仪器测试获得玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的玻面、膜面、透过光谱，根据测量的辐射率信息导入window5.2和Optics 计算机软件获取相关的光热学性能参数。
其溅射靶材和膜层结构确定后，决定产品性能特点的核心部分是镀膜工艺的调试，即主要通过各相关膜层(核心介质层Cu；电介质层SiNx；保护层ZnO、电介质层NiCr沉积厚度的调节，最终达到不同的外观颜色、光热学性能参数。如通过厚度调节其透过率范围T＝21％～39％。镀膜工艺方面，各相关膜层的可调节范围如表1。
表1玫瑰金色低辐射镀膜玻璃膜层厚度调节范围
| 膜层名称 | 第一氮化硅 | 氧化锌 | 铜 | 镍铬合金 | 第二氮化硅 |
| 膜层调节范围(nm) | 10.5～32.1 | 3.8～17.9 | 13.2～28.3 | 2.6～7.5 | 10.2～27.3 |
相应地，本发明实施例制备的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃，可应用于建筑玻璃幕墙、玻璃屋顶、雨棚、建筑门窗及室内装饰中。
为了能够达到较优的效果，最好是将本发明实施例的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃与普通玻璃如浮法玻璃制成中空玻璃，然后应用于建筑玻璃幕墙、玻璃屋顶、雨棚、建筑门窗及室内装饰中。
以下通过多个实施例来举例说明本发明实施例玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的原理、作用以及达到的功效。
下述各具体实施示范例中涉及的仪器设备为：VAAT GC330H镀膜设备、 Benteler清洗机、在线检测光度计、Datacolar CHECKⅡ(便携式测色仪)、Color I5透射比测试仪、U4100(紫外可见红外分光光度计)、BTA-5000型耐磨试验机、 Window 5.2和Optics光热学性能计算软件。
实施例1
一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。其中，玫瑰金色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；其中，第一电介质层为28.2nm的第一氮化硅膜层、第二电介质层为3.8nm的氧化锌膜层、核心介质层为23.2nm的铜膜层、保护层为 2.9nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为27.3nm的第二氮化硅膜层；所述玻璃基板为浮法玻璃。
该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在
8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理，采用氩气和氮气作为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射厚度为28.2nm的第一氮化硅(SiNx)膜层，控制硅铝靶的质量比为Si:Al＝92:8，氩气和氮气的流量比为1:1。
换用氩气和氧气为工艺气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在第一氮化硅膜层上磁控溅射氧化锌(ZnO)膜层，溅射厚度为3.8nm，锌铝靶的质量比为 Zn:Al＝98:2，氩气与氧气的流量比为3:4。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面铜靶，在氧化锌(ZnO)膜层上磁控溅射铜(Cu)膜层，溅射厚度为23.2nm。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在铜(Cu)膜层上磁控溅射镍铬合金(NiCr)膜层，厚度为2.9nm。
采用氩气和氮气为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金(NiCr) 膜层上磁控溅射第二氮化硅(SiNx)膜层，厚度为27.3nm；硅铝靶的质量比Si： Al＝92：8，氩气与氮气的流量比为1：1。
上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECK II测量本实施例产品的外观颜色，具体如表2所示，采用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图2(a)、2(b)、2(c)所示，采用U4100测量全波段光谱曲线，并将数据导入光热学性能计算软件进行计算，结果如表3所示。
实施例2
一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。其中，玫瑰金色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；其中，第一电介质层为10.5nm的第一氮化硅膜层、第二电介质层为7.9nm的氧化锌膜层、核心介质层为13.2nm的铜膜层、保护层为 2.6nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为10.2nm的第二氮化硅膜层；所述玻璃基板为浮法玻璃。
该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在 8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理，采用氩气和氮气作为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射厚度为10.5nm的第一氮化硅(SiNx)膜层，控制硅铝靶的质量比为Si:Al＝92:8，氩气和氮气的流量比为1:1。
换用氩气和氧气为工艺气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在第一氮化硅层膜层上磁控溅射氧化锌(ZnO)膜层，溅射厚度为7.9nm，锌铝靶的质量比为 Zn:Al＝98:2，氩气与氧气的流量比为3:4。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面铜靶，在氧化锌(ZnO)膜层上磁控溅射铜(Cu)膜层，溅射厚度为13.2nm。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在铜(Cu)膜层上磁控溅射镍铬合金(NiCr)膜层，厚度为2.6nm。
采用氩气和氮气为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金(NiCr) 膜层上磁控溅射第二氮化硅(SiNx)膜层，厚度为10.2nm；硅铝靶的质量比Si： Al＝92：8，氩气与氮气的流量比为1：1。
上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECKⅡ测量本实施例产品的外观颜色，具体如表2所示，采用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图3(a)、3(b)、3(c)所示，采用U 4100测量全波段光谱曲线，并将数据导入光热学性能计算软件进行计算，结果如表3所示。
实施例3
一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。其中，玫瑰金色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；其中，第一电介质层为30.5nm的第一氮化硅膜层、第二电介质层为5.7nm的氧化锌膜层、核心介质层为20.0nm的铜膜层、保护层为 7.5nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为21.9nm的第二氮化硅膜层；所述玻璃基板为浮法玻璃。
该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在
8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理，采用氩气和氮气作为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射厚度为30.5nm的第一氮化硅(SiNx)膜层，控制硅铝靶的质量比为Si:Al＝92:8，氩气和氮气的流量比为1:1。
换用氩气和氧气为工艺气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在第一氮化硅膜层上磁控溅射氧化锌(ZnO)膜层，溅射厚度为5.7nm，锌铝靶的质量比为 Zn:Al＝98:2，氩气与氧气的流量比为3:4。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面铜靶，在氧化锌(ZnO)膜层上磁控溅射铜(Cu)膜层，溅射厚度为20.0nm。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在铜(Cu)膜层上磁控溅射镍铬合金(NiCr)膜层，厚度为7.5nm。
采用氩气和氮气为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金(NiCr) 膜层上磁控溅射第二氮化硅(SiNx)膜层，厚度为21.9nm；硅铝靶的质量比Si： Al＝92：8，氩气与氮气的流量比为1：1。
上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECKⅡ测量本实施例产品的外观颜色，具体如表2所示，采用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图4(a)、4(b)、4(c)所示，采用U 4100测量全波段光谱曲线，并将数据导入光热学性能计算软件进行计算，结果如表3所示。
实施例4
一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。其中，玫瑰金色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；其中，第一电介质层为32.1nm的第一氮化硅膜层、第二电介质层为5.7nm的氧化锌膜层、核心介质层为28.3nm的铜膜层、保护层为 3.2nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为24.9nm的第二氮化硅膜层；所述玻璃基板为浮法玻璃。
该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在 8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理，采用氩气和氮气作为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射厚度为32.1nm的第一氮化硅(SiNx)膜层，控制硅铝靶的质量比为Si:Al＝92:8，氩气和氮气的流量比为1:1。
换用氩气和氧气为工艺气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在第一氮化硅膜层上磁控溅射氧化锌(ZnO)膜层，溅射厚度为5.7nm，锌铝靶的质量比为 Zn:Al＝98:2，氩气与氧气的流量比为3:4。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面铜靶，在氧化锌(ZnO)膜层上磁控溅射铜(Cu)膜层，溅射厚度为28.3nm。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在铜(Cu)膜层上磁控溅射镍铬合金(NiCr)膜层，厚度为3.2nm。
采用氩气和氮气为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金(NiCr) 膜层上磁控溅射第二氮化硅(SiNx)膜层，厚度为24.9nm；硅铝靶的质量比Si： Al＝92：8，氩气与氮气的流量比为1：1。
上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECKⅡ测量本实施例产品的外观颜色，具体如表2所示，采用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图5(a)、5(b)、5(c)所示，采用U 4100测量全波段光谱曲线，并将数据导入光热学性能计算软件进行计算，结果如表3所示。
实施例5
一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。其中，玫瑰金色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；其中，第一电介质层为21.2nm的第一氮化硅膜层、第二电介质层为17.9nm的氧化锌膜层、核心介质层为27.0nm的铜膜层、保护层为4.5nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为24.3nm的第二氮化硅膜层；所述玻璃基板为浮法玻璃。
该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在 8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理，采用氩气和氮气作为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射厚度为21.2nm的第一氮化硅(SiNx)膜层，控制硅铝靶的质量比为Si:Al＝92:8，氩气和氮气的流量比为1:1。
换用氩气和氧气为工艺气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在第一氮化硅膜层上磁控溅射氧化锌(ZnO)膜层，溅射厚度为17.9nm，锌铝靶的质量比为 Zn:Al＝98:2，氩气与氧气的流量比为3:4。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面铜靶，在氧化锌(ZnO)膜层上磁控溅射铜(Cu)膜层，溅射厚度为27.0nm。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在铜(Cu)膜层上磁控溅射镍铬合金(NiCr)膜层，厚度为4.5nm。
采用氩气和氮气为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金(NiCr) 膜层上磁控溅射第二氮化硅(SiNx)膜层，厚度为24.3nm；硅铝靶的质量比Si： Al＝92：8，氩气与氮气的流量比为1：1。
上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECKⅡ测量本实施例产品的外观颜色，具体如表2所示，采用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图6(a)、6(b)、6(c)所示，采用U 4100测量全波段光谱曲线，并将数据导入光热学性能计算软件进行计算，结果如表3所示。
实施例6
一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法。其中，玫瑰金色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；其中，第一电介质层为30.5nm的第一氮化硅膜层、第二电介质层为5.3nm的氧化锌膜层、核心介质层为18.5nm的铜膜层、保护层为 3.3nm的镍铬合金膜层、第三电介质层为19.1nm的第二氮化硅膜层；所述玻璃基板为浮法玻璃。
该玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
1)前处理，采用Benteler清洗机清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在 8×10-6mbar以上。
2)膜层沉积处理，采用氩气和氮气作为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在玻璃基板上磁控溅射厚度为30.5nm的第一氮化硅(SiNx)膜层，控制硅铝靶的质量比为Si:Al＝92:8，氩气和氮气的流量比为1:1。
换用氩气和氧气为工艺气体，交流电源溅射旋转锌铝靶，在第一氮化硅膜层上磁控溅射氧化锌(ZnO)膜层，溅射厚度为5.3nm，锌铝靶的质量比为 Zn:Al＝98:2，氩气与氧气的流量比为3:4。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面铜靶，在氧化锌(ZnO)膜层上磁控溅射铜(Cu)膜层，溅射厚度为18.5nm。
采用氩气作为工艺气体，直流电源溅射平面镍铬合金靶，在铜(Cu)膜层上磁控溅射镍铬合金(NiCr)膜层，厚度为3.3nm。
采用氩气和氮气为工艺气体，交流电源溅射旋转硅铝靶，在镍铬合金(NiCr) 膜层上磁控溅射第二氮化硅(SiNx)膜层，厚度为19.1nm；硅铝靶的质量比Si： Al＝92：8，氩气与氮气的流量比为1：1。
上述步骤结束后，采用在线检测光度计、Datacolar CHECKⅡ测量本实施例产品的外观颜色，具体如表2所示，采用在线检测光度计测量光谱曲线，得到的光谱曲线如附图7(a)、7(b)、7(c)所示，采用U 4100测量全波段光谱曲线，并将数据导入光热学性能计算软件进行计算，结果如表3所示。
表2实施例1～6中玫瑰金色低辐射镀膜玻璃外观颜色
其中，上表2中字母的含义如下
G：表示镀膜玻璃的玻璃面；R*g：表示镀膜玻璃玻璃面的反射值；a*g， b*g：表示镀膜玻璃玻璃面的颜色值(a*g越正表示颜色越红，a*g越负表示颜色越绿；b*g越正表示颜色越黄，b*g越负表示颜色越蓝)；L*g：表示镀膜玻璃玻璃面的亮度。
F：表示镀膜玻璃的镀膜面；R*f：表示镀膜玻璃膜面的反射值；a*f，b*f：表示镀膜玻璃膜面的颜色值(a*f越正表示颜色越红，a*f越负表示颜色越绿； b*f越正表示颜色越黄，b*f越负表示颜色越蓝)；L*f：表示镀膜玻璃膜面的亮度。
T：表示镀膜玻璃的透过；Tr：表示镀膜玻璃的透过率；a*T，b*T：表示镀膜玻璃透过的颜色值(a*T越正表示颜色越红，a*T越负表示颜色越绿；b*T 越正表示颜色越黄，b*T越负表示颜色越蓝)；L*T：表示镀膜玻璃透过的亮度。
表3实施例1～6玫瑰金色低辐射镀膜玻璃性能参数测试结果
其中，表3中各参数的含义如下：
可见光透过率：在可见光光谱(波长：380～780nm)范围内，透过玻璃光强度的百分比值；
可见光反射率：在可见光光谱(波长：380～780nm)范围内，玻璃表面反射光强度的百分比值；
太阳能透过率：在太阳光谱(波长：300～2500nm)范围内，透过玻璃的紫外光、可见光和近红外光总能量的百分比值；
太阳能反射率：在太阳光谱(波长：300～2500nm)范围内，玻璃表面反射的紫外光、可见光和近红外光总能量的百分比值；
U值：美国ASHRAE标准条件下的传热系数。传热系数的值与测试条件有关，同一种玻璃在不同的测试条件下，传热系数的值不同；
遮阳系数：相同条件下，透过玻璃的总太阳能辐射能量与透过3mm透明玻璃的总太阳能辐射能量的比，遮阳系数越小，阻挡阳光辐射的性能越好。
6C仿玫瑰金+12A+6C：6mm低辐射镀膜玻璃(镀膜玻璃的膜层为仿玫瑰金色Low-E膜)与6mm普通浮法玻璃合成中空玻璃，中空层为12mm。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包括在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层；所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；
所述第一电介质层为氮化硅膜层，所述第二电介质层为氧化锌膜层，所述核心介质层为铜膜层，所述保护层为镍铬合金膜层，所述第三电介质层为氮化硅膜层；所述第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层的厚度分别为10.5～32.1nm、3.8～17.9nm、13.2～28.3nm、2.6～7.5nm和10.2～27.3nm。
2.如权利要求1所述的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板为浮法玻璃基板。
3.一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：包括如下步骤：
步骤S01、对玻璃基板进行清洗处理；
步骤S02、在所述玻璃基板表面上依次沉积如下功能膜层：第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层；
其中，沉积的所述第一电介质层为氮化硅膜层，所述第二电介质层为氧化锌膜层，所述核心介质层为铜膜层，所述保护层为镍铬合金膜层，所述第三电介质层为氮化硅膜层；
所述第一电介质层厚度为10.5～32.1nm，所述第二电介质层厚度为3.8～17.9nm，所述核心介质层厚度为13.2～28.3nm，所述保护层厚度为2.6～7.5nm，所述第三电介质层厚度为10.2～27.3nm。
4.如权利要求3所述的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：在所述沉积功能膜层的过程中，控制溅射真空度为2×10-3mbar～5×10-3mbar。
5.如权利要求1～2任一所述玫瑰金色低辐射镀膜玻璃在建筑玻璃幕墙、玻璃屋顶、雨棚、建筑门窗及室内装饰的应用。
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