RU2632348C2 - НАНЕСЕННОЕ ЭЛЕКТРОДУГОВЫМ НАПЫЛЕНИЕМ ПОКРЫТИЕ Al-Cr-O, СОДЕРЖАЩЕЕ Si, ИМЕЮЩЕЕ УЛУЧШЕННУЮ КРОЮЩУЮ СПОСОБНОСТЬ - Google Patents

НАНЕСЕННОЕ ЭЛЕКТРОДУГОВЫМ НАПЫЛЕНИЕМ ПОКРЫТИЕ Al-Cr-O, СОДЕРЖАЩЕЕ Si, ИМЕЮЩЕЕ УЛУЧШЕННУЮ КРОЮЩУЮ СПОСОБНОСТЬ Download PDF

Info

Publication number
RU2632348C2
RU2632348C2 RU2014146776A RU2014146776A RU2632348C2 RU 2632348 C2 RU2632348 C2 RU 2632348C2 RU 2014146776 A RU2014146776 A RU 2014146776A RU 2014146776 A RU2014146776 A RU 2014146776A RU 2632348 C2 RU2632348 C2 RU 2632348C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
oxide coating
oxygen
substrate
coating
Prior art date
Application number
RU2014146776A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2014146776A (ru
Inventor
Рихард РАХБАУЭР
Юрген РАММ
Йорг ПАУЛИЧ
Пауль Хайнц МАЙРХОФЕР
Original Assignee
Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон filed Critical Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Пфеффикон
Publication of RU2014146776A publication Critical patent/RU2014146776A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2632348C2 publication Critical patent/RU2632348C2/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/08Anti-corrosive paints
    • C09D5/082Anti-corrosive paints characterised by the anti-corrosive pigment
    • C09D5/084Inorganic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/081Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/083Oxides of refractory metals or yttrium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M103/00Lubricating compositions characterised by the base-material being an inorganic material
    • C10M103/06Metal compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2201/00Inorganic compounds or elements as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2201/086Chromium oxides, acids or salts
    • C10M2201/0863Chromium oxides, acids or salts used as base material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2201/00Inorganic compounds or elements as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2201/10Compounds containing silicon
    • C10M2201/1006Compounds containing silicon used as base material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение может быть использовано при нанесении оксидного покрытия, в частности Al-Cr-O, на подложку методом физического осаждения из паровой фазы (PVD). Осуществляют нанесение реакционного PVD-покрытия на поверхность подложки в камере с использованием технологического газа, содержащего химически активный газ, в частности кислород, реагирующий с ионами металлов, полученными из по меньшей мере одной мишени, для осаждения по меньшей мере одного слоя, состоящего из Al, Cr, Si и О. По меньшей мере одна мишень имеет элементный состав, представленный формулой Al1-x-yCrxSiy, где 0,05≤y≤0,10 и 0,20≤x≤0,25. Добавка Si предотвращает образование оксидных островков на мишенях в процессе реакционного нанесения покрытия. 4 н. и 10 з.п. ф-лы, 5 ил.

Description

Настоящее изобретение относится к трехкомпонентным покрытиям из оксида алюминия-хрома (Al-Cr-O), которые могут дополнительно содержать фазы Al-O. Согласно настоящему изобретению эти покрытия осаждают из составных мишеней, содержащих преимущественно, но не исключительно, алюминий и хром, методами физического осаждения из паровой фазы (PVD) с использованием реакционного катодного электродугового испарения. Покрытия согласно настоящему изобретению проявляют улучшенную кроющую способность, в частности, в отношении коррозионной стойкости, сопротивления окислению, механических свойств и химической стойкости. Кроме того, настоящее изобретение относится к способу промышленного получения покрытий Al-Cr-O, который позволяет регулировать кроющую способность путем добавления небольших количеств других элементов в мишени Al-Cr, используемые в качестве источника материала.
Уровень техники
Кристаллические покрытия Al-Cr-O являются очень многообещающими благодаря их замечательным свойствам. Особенно желательно получать кристаллические покрытия (Al,Cr)2O3 в твердых растворах, имеющих преимущественно структуру корунда или включающих структуру корунда, благодаря лучшим химическим, механическим и трибологическим свойствам, присущим такому типу кристаллической структуры. Способ осаждения для получения слоев (Al,Cr)2O3 из мишеней из сплава Al-Cr, которые испаряют в содержащую кислород среду с помощью реакционного катодного электродугового испарения, предложен Ramm и др. в заявке US 2007/0000772 А1.
Кроме того, Ramm и др. в публикации в журнале Surface & Coating Technology 202(2007)876-883 "Pulse enhanced electron emission (P3eTM) arc evaporation and synthesis of wear resistant Al-Cr-O coatings in corundum structure" сообщали, что использование составных мишеней для синтеза трех- и более компонентных оксидов путем реакционного электродугового испарения очень эффективно. Таким образом, состав металлов в оксидах регулируется составом мишени в широком диапазоне процесса. Упоминалось также, что синтез оксида протекает в среде чистого кислорода.
Ограничения известного уровня техники в отношении осаждения слоев Al-Cr-O из мишеней из сплава Al-Cr способами PVD с использованием реакционного катодного электродугового испарения
Однако Ramm и др. сообщали в статье Surface & Coating Technology 205 (2010)1356-1361 "Correlation between target surface and layer nucleation in the synthesis of Al-Cr-O coatings deposited by reactive cathodic arc evaporation", что использование Al-содержащих составных мишеней в атмосфере чистого кислорода может иметь тот недостаток, что в процессе испарения на поверхности мишени могут образовываться оксидсодержащие вещества. Этот оксидный материал, обнаруженный на поверхности мишени, открытой атмосфере кислорода, обычно называется "оксидными островками". Ramm и др. приписали наблюдаемый рост "оксидных островков" окислению избытка алюминия, который возникает в процессах быстрого охлаждения расплава, имеющих место на поверхности мишени во время испарения.
Одним возможным объяснением появления оксидных островков на поверхности мишени, предложенным Ramm и др., является то, что по меньшей мере часть алюминия, содержащегося в составной мишени заданного состава Al-Cr, не расходуется на образование высокоплавких интерметаллических соединений. Этот избыточный алюминий, если он выделяется в свободном виде при температурах выше 1000°C, может реагировать с доступным кислородом и образовывать при этой высокой температуре оксидные островки, которые по меньшей мере частично имеют структуру корунда.
Для предотвращения или препятствия образованию оксидных островков на поверхности мишени можно рассмотреть два решения:
1) Одной возможностью является выбирать состав алюминийсодержащей составной мишени таким образом, чтобы выделение фазы металлического алюминия в процессе быстрого охлаждения расплава на поверхности мишени (во время катодного электродугового испарения) происходило при температуре ниже 1000°C. Это соответствует, например, случаю, когда используются мишени с элементным составом (в атомных процентах) Al85Cr15.
2) Другой возможностью является выбирать состав алюминийсодержащей составной мишени таким образом, чтобы для выбранного состава было возможным образование только интерметаллических соединений.
Однако ни один из этих двух подходов не применим для материальной системы Al-Cr, если желательно синтезировать трехкомпонентный оксид со структурой корунда. В работе Ramm и др. (указанная выше публикация 2007 г.) было указано, что структуру корунда для Al-Cr-O можно было идентифицировать рентгенодифракционным анализом только для содержаний Al в слое или мишени ниже 70 ат. %, соответственно. Таким образом, стратегия увеличения содержания Al выше 85 ат. % действительно позволит предотвратить рост оксидных островков, однако она будет препятствовать образованию твердого раствора Al-Cr-O со структурой корунда.
Задача изобретения
Задача настоящего изобретения состояла в разработке способа нанесения покрытий методом PVD с использованием электродугового испарения для промышленного синтеза покрытий Al-Cr-O, который не имеет вышеуказанных недостатков.
В частности, одной задачей изобретения является предотвращение роста оксидных островков на поверхности мишеней Al-Cr во время катодного электродугового испарения в атмосфере кислорода.
Другой задачей изобретения является получение покрытий с плотной морфологией путем осаждения с использованием электродугового испарения, в том числе при высоких расходах кислорода.
Дополнительной задачей изобретения является образование кристаллических фаз в покрытии Al-Cr-O в дополнение или как замена твердого раствора Al-Cr-O со структурой корунда.
СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Чтобы устранить отмеченные выше недостатки, авторы изобретения решили использовать содержащие Al-Cr составные мишени, включающие дополнительный элемент, с намерением исследовать его влияние на рост оксидных островков и с целью предотвратить или повлиять на этот рост оксидных островков на поверхности мишени.
Неожиданно оказалось, что при добавлении в содержащие Al-Cr мишени небольших количеств кремния (Si) для получения, например, мишеней Al-Cr-Si, имеющих элементный состав (в атомных процентах) Al70Cr25Si5, больше не наблюдалось роста оксидных островков после использования мишени в процессах реакционного катодного электродугового распыления, в том числе при очень высоких расходах кислорода (примерно 800 Нсм3/мин и выше) и для больших продолжительностей работы дуги.
Для лучшего понимания настоящего изобретения некоторые дополнительные детали будут описаны с использованием фигур 1-4, на которых:
Фигура 1: снимки двух поверхностей, соответствующих двум разным мишеням, используемым для реакционного катодного электродугового напыления
a) снимок поверхности мишени Al70Cr30, обрабатываемой 1,5 ч в атмосфере чистого кислорода при расходе кислорода 800 Нсм3/мин;
b) снимок поверхности мишени Al70Cr25Si5, обрабатываемой 1,5 ч в атмосфере чистого кислорода при расходе кислорода 800 Нсм3/мин;
c) увеличенное изображение поверхности мишени, показанной на фигуре 1а;
d) увеличенное изображение поверхности мишени, показанной на фигуре 1b.
Фигура 2: Рентгенодифракционные спектры поверхностей обеих мишеней, показанных на фигуре 1:
a) мишень Al70Cr30;
b) мишень Al70Cr25Si5.
Фигура 3: микроснимки СЭМ морфологии разрушения двух покрытий, осажденных методом реакционного катодного электродугового испарения в атмосфере чистого кислорода:
a) из мишени Al70Cr30 при расходе кислорода 800 Нсм3/мин;
b) из мишени Al70Cr25Si5 при расходе кислорода 800 Нсм3/мин.
Фигура 4: Рентгенодифракционные спектры покрытия, осажденного из мишени Al70Cr25Si5 при расходе кислорода 800 Нсм3/мин, морфология разрушения которого показана на фигуре 3b.
На фигуре 1а можно видеть присутствие большого числа черных точек на поверхности мишени Al70Cr30, эти черные точки являются оксидными островками, содержащими некоторое количество Al2O3 со структурой корунда (идентифицировано по XRD). В то же время на фигуре 1b можно видеть, что поверхность мишени Al70Cr25Si5 не содержит черных точек. Поверхности обеих мишеней Al70Cr30 и Al70Cr25Si5 анализировали методом рентгеновской дифракции, чтобы идентифицировать фазы, присутствующие на поверхности мишеней для обоих материалов мишени. Рентгенодифракционные спектры, снятые на поверхности мишеней, показаны на фигуре 2. Анализ поверхности мишени Al70Cr30 (фиг. 2а) соответствует прежним исследованиям и показывает также, наряду с образованием фаз Al и Cr, образование фаз Al8Cr5 и Al4Cr. Анализ мишени Al70Cr25Si5 (фигура 2b) показывает, как и на фигуре 2а, образование фаз Al и Cr, а также фаз Al8Cr5 и Al4Cr, но в этом случае пики Al8Cr5 и Al4Cr сдвинуты в сторону более значительных углов дифракции. Это можно объяснить внедрением Si в эти фазы, кроме того, можно видеть присутствие фазы CrSi.
Один вариант осуществления настоящего изобретения относится к способу получения покрытия Al-Cr-O путем реакционного катодного электродугового распыления с использованием в качестве источника материала покрытия мишеней Al-Cr с добавкой кремния. Мишени Al-Cr-Si предпочтительно имеют следующий элементный состав (в атомных процентах):
AlaCr1-a-bSic, где 90≥a≥60, 40≥1-a-b≥10, 20≥c≥1.
Таким образом, уменьшить или предотвратить рост оксидных островков можно благодаря распылению мишеней в атмосфере чистого кислорода или в газовых смесях, содержащих кислород, в том числе и при использовании высоких расходов кислорода.
В описании настоящего изобретения текущие потоки и давления будут считаться низкими, средними или высокими согласно следующему:
- низкие расходы кислорода: примерно 100-250 Нсм3/мин (200 Нсм3/мин, что соответствует примерно 0,3 Па в напылительной камере);
- средние расходы кислорода: примерно 250-500 Нсм3/мин;
- высокие расходы кислорода: примерно 800-1000 Нсм3/мин (что соответствует ≥2,3 Па в напылительной камере).
Добавление в мишень, например, 5 ат. % Si меняет отношение Al/Cr по сравнению с мишенью Al70Cr30 с 2,3 до 2,8, что, в свою очередь, сравнимо с составом мишени Al(74)Cr(26) для мишени без добавки. Исходя из более ранних исследований (Ramm и др., 2007), можно было бы ожидать, что состав металлов в мишени будет идентичен составу металлов в синтезированном трехкомпонентном оксиде. Однако это не так. Отношение Al/Cr в синтезированном покрытии сдвинуто в сторону более высоких содержаний Al для мишеней обоих составов. В таблице 1 приведены отношения Al/Cr для синтезированных покрытий Al-Cr-O.
Figure 00000001
Составы измеряли двумя независимыми методами анализа: энергодисперсионная рентгеновская спектроскопия (EDX) и анализ методом детектирования атомов отдачи (Elastic Recoil Detection Analysis, ERDA). Однако модифицированное отношение Al/Cr, являющееся следствием добавки Si, отражается в некоторой степени на составе покрытия. Тем не менее, было совершенно неожиданным, что в покрытии, которое было образовано из мишени состава Al70Cr25Si5, никакого Si обнаружено не было. Этот эффект можно объяснить улетучиванием Si в комбинации с кислородом. В публикации Shyklaev и др. "Initial reactive sticking coefficient of O2 on Si(111)-7×7 at elevated temperatures", Surface Science 351(1996)64-74, описаны реакции, которые указывают на этот эффект. Однако условия, описанные в этой публикации, несколько отличаются от условий проведения синтеза оксидов в настоящей работе. Таким образом, объяснение, почему Si нельзя обнаружить в оксидном покрытии, является только предположением. Удивительным является тот факт, что Si совсем не входит или почти не входит в покрытие.
Настоящее изобретение позволяет использовать мишени Al-Cr с добавками кремния с той выгодой, что на поверхности мишени не образуется оксидных островков, и происходит синтез чистых оксидов Al-Cr без существенного введения Si в покрытие.
На фигуре 3а и b с помощью метода сканирующей электронной микроскопии поперечных сечений образца (X-SEM) сравниваются морфологии синтезированных оксидных покрытий, полученных для разного состава мишеней. Морфология оксидного слоя, полученного из мишени Al70Cr30 (а), показывает характерную столбчатую структуру. Согласно имеющимся знаниям это является типичным поведением для материалов покрытия Al-Cr-O, полученных реакционным электродуговым испарением: повышение расхода кислорода приводит к выраженному изменению морфологии от плотной структуры (получаемой при использовании низких расходов кислорода) к росту столбчатой структуры (получаемому при использовании более значительных расходов кислорода). Фигура 3b была выполнена для покрытия, полученного при таком же высоком расходе кислорода (800 Нсм3/мин) и в идентичных условиях процесса, за исключением того, что использовалась мишень Al70Cr25Si5. Микроснимок показывает совершенно другую морфологию, характеризующуюся очень плотной структурой. Учитывая, что покрытие не содержит Si, этот результат совершенно неожидан. Однако рост этого плотного слоя делает оксиды Al-Cr, нанесенные электродуговым распылением, подходящими для стойких к окислению и коррозии покрытий, для которых процессы диффузии должны ингибироваться и для которых столбчатая структура была бы слишком неплотной. Дополнительные эксперименты с добавкой Si в мишени А-Cr показали, что добавление от 1 до 20 ат. % Si приводит к близкому уплотнению покрытий из оксида А-Cr, причем предпочтительный диапазон добавки Si составляет от 2 до 10 ат. %.
Хотя в синтезированном оксидном покрытии не обнаружено никакого или очень незначительное (по сравнению с составом мишени) количество Si, добавка Si в мишень приводит к полностью модифицированной морфологии оксидного покрытия, которая характеризуется плотной структурой без роста столбчатых кристаллов, несмотря на высокие расходы кислорода, использованные для синтеза.
Рентгенодифракционный анализ слоя, синтезированного из мишени Al70Cr25Si5 при расходе кислорода 800 Нсм3/мин (фигура 4), показывает характерный пик около 2θ=46°. Этот пик приписывается кубической фазе A-Cr-O в соответствии с публикацией Khatibi и др. "Phase transformations in face centered cubic (Al0.23Cr0.68)2O3 thin films", Surface & Coating technology 206(2012)3216-3222. Хотя дифракция электронов также указывает на наличие твердых растворов Al-Cr-O со структурой корунда, для высокого расхода кислорода более выраженной является кубическая структура. Однако расход кислорода и отношение Al/Cr можно корректировать, чтобы с выгодой использовать соотношение между кубической и корундовой фазами в A-Cr-O. Рентгенодифракционный анализ показывает дополнительные пики. Пик с самой высокой интенсивностью вблизи 69° приписывается кремниевой подложке. Дополнительный пик высокой интенсивности вблизи 67° является характеристическим для Al2O3 в структуре корунда или для оксида альфа-алюминия. Таким образом, добавление Si в мишень способствует росту кубических фаз Al-Cr-O в покрытии и может дополнительно производить также фазы чистого корунда.
Рекомендуемыми областями для применения покрытий, полученных согласно настоящему изобретению, являются:
- коррозионно-стойкие покрытия;
- барьеры, препятствующие окислению;
- химические барьеры;
- приработочные слои для высокотемпературных приложений, связанных с трением, - применение в топливных элементах;
- твердая смазка в трибологических приложениях при высоких температурах.
Следующим очень интересным аспектом настоящего изобретения является то, что при использовании мишени Al-Cr с присадкой Si в качестве источника материала покрытия для осаждения покрытия Al-Cr-O в кислородсодержащей среде методом PVD с использованием реакционного катодного электродугового испарения, согласно рентгеновском исследованиям не наблюдается образования кубической фазы Al-Cr-O в покрытии, когда концентрация Si в мишени AlCrSi составляет примерно 5 ат. % (см. фигуру 5).
Кроме того, наблюдалось также существенное снижение образования оксидных островков на поверхности мишени, когда концентрация Si в мишенях AlCrSi составляла примерно 5 ат. %.
Частные детали настоящего изобретения упоминаются в следующих пунктах 1-14 формулы изобретения.
Настоящее описание раскрывает способ получения методом PVD оксидных покрытий с по меньшей мере одним слоем, состоящим из Al, Cr, Si и О, причем способ включает по меньшей мере следующие этапы:
a) подготовку камеры нанесения покрытий методом PVD,
b) введение в такую камеру нанесения покрытий методом PVD подложки, содержащей по меньшей мере одну поверхность, подлежащую покрытию,
c) осуществление процесса нанесения реакционного PVD-покрытия, причем технологический газ содержит химически активный газ, реагирующий с ионами металлов, полученными из одной или более мишеней, для осаждения по меньшей мере одного слоя, состоящего из Al, Cr, Si и О, на поверхность подложки,
отличающийся тем, что указанная одна или более мишеней, используемых для осуществления процесса реакционного PVD-покрытия на этапе с), имеет элементный состав (в атомных процентах), задаваемый формулой Al1-x-yCrxSiy, где 0,05≤y≤0,10 и 0,20≤x≤0,25, и химически активный газ является кислородом, тем самым получая покрытие с по меньшей мере одним слоем, состоящим из Al, Cr, Si и О, причем, если не учитывать кислород, в этом, по меньшей мере одном слое концентрация кремния меньше, чем концентрация кремния в указанной одной или более мишенях.
Способ нанесения покрытия методом PVD является, например, способом электродугового испарения.
Согласно одному варианту осуществления, технологический газ представляет собой технологический кислород. Можно и предпочтительно выбрать параметры y=0,05 и x=0,25.
Концентрация кремния может быть меньше или равна половине концентрации кремния в одной или более мишеней.
Способ может применяться для получения оксидного покрытия. Подложка может быть покрыта оксидным покрытием.
Оксидное покрытие может применяться для улучшения коррозионной стойкости.
Оксидное покрытие может применяться в качестве
- барьера от окисления, и/или
- химического барьера, и/или
- приработочного слоя для высокотемпературных трибологических приложений, например, при температурах выше 200°C, и/или
- топливных элементов, и/или
- твердой смазки для трибологических приложений, осуществляемых при температурах выше 200°C.
Описанное выше оксидное покрытие может применяться на подложках, использующихся в области, требующей одной или более из вышеописанных характеристик.

Claims (18)

1. Способ получения оксидного покрытия на подложке методом физического осаждения из паровой фазы (PVD), включающий получение на подложке по меньшей мере одного слоя, состоящего из Al, Cr, Si и О, при этом осуществляют следующие этапы:
a) подготовку камеры нанесения покрытий методом PVD,
b) введение в упомянутую камеру подложки, содержащей по меньшей мере одну поверхность, подлежащую покрытию,
c) нанесение реакционного PVD-покрытия, причем используют технологический газ, содержащий химически активный газ, реагирующий с ионами металлов, полученными из по меньшей мере одной мишени, для осаждения по меньшей мере одного слоя, состоящего из Al, Cr, Si и О, на поверхность подложки,
отличающийся тем, что на этапе с) используют указанную по меньшей мере одну мишень, имеющую элементный состав (в атомных процентах), представленный формулой Al1-x-yCrxSiy, где 0,05≤y≤0,10 и 0,20≤x≤0,25, и химически активный кислород с получением покрытия с по меньшей мере одним слоем, состоящим из Al, Cr, Si и О, причем, если не учитывать кислород, в упомянутом по меньшей мере одном слое концентрация кремния меньше, чем концентрация кремния в указанной по меньшей мере одной мишени.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что процесс PVD-покрытия является процессом электродугового испарения.
3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что используют технологический кислород.
4. Способ по меньшей мере по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что y=0,05 и x=0,25.
5. Способ по одному из пп. 1-3, отличающийся тем, что, если не учитывать кислород, в указанном по меньшей мере одном слое концентрация кремния меньше или равна половине концентрации кремния в указанной одной или более мишенях.
6. Оксидное покрытие, полученное способом по одному из пп. 1-5.
7. Подложка, имеющая оксидное покрытие по п. 6.
8. Оксидное покрытие по п. 6, предназначенное для улучшения коррозионной стойкости.
9. Оксидное покрытие по п. 6, предназначенное в качестве барьера от окисления.
10. Оксидное покрытие по п. 6, предназначенное в качестве химического барьера.
11. Оксидное покрытие по п. 6, предназначенное в качестве приработочного слоя в трибологических приложениях, осуществляемых при высоких температурах.
12. Оксидное покрытие по п. 6, предназначенное для получения топливных элементов.
13. Оксидное покрытие по п. 6, предназначенное в качестве твердой смазки для трибологических приложений, осуществляемых при температурах выше 200°C.
14. Подложка, имеющая оксидное покрытие по одному из пп. 8-13.
RU2014146776A 2012-04-22 2013-04-22 НАНЕСЕННОЕ ЭЛЕКТРОДУГОВЫМ НАПЫЛЕНИЕМ ПОКРЫТИЕ Al-Cr-O, СОДЕРЖАЩЕЕ Si, ИМЕЮЩЕЕ УЛУЧШЕННУЮ КРОЮЩУЮ СПОСОБНОСТЬ RU2632348C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP12002815.4 2012-04-22
EP12002815 2012-04-22
PCT/EP2013/001188 WO2013159893A1 (en) 2012-04-22 2013-04-22 Arc-deposited al-cr-o coatings having enhanced coating properties

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2014146776A RU2014146776A (ru) 2016-06-10
RU2632348C2 true RU2632348C2 (ru) 2017-10-04

Family

ID=48236844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2014146776A RU2632348C2 (ru) 2012-04-22 2013-04-22 НАНЕСЕННОЕ ЭЛЕКТРОДУГОВЫМ НАПЫЛЕНИЕМ ПОКРЫТИЕ Al-Cr-O, СОДЕРЖАЩЕЕ Si, ИМЕЮЩЕЕ УЛУЧШЕННУЮ КРОЮЩУЮ СПОСОБНОСТЬ

Country Status (10)

Country Link
US (1) US9677169B2 (ru)
EP (1) EP2841618B1 (ru)
JP (1) JP6200488B2 (ru)
KR (1) KR102219393B1 (ru)
CN (1) CN104350172B (ru)
AR (1) AR090735A1 (ru)
BR (1) BR112014026231A2 (ru)
CA (1) CA2871067C (ru)
RU (1) RU2632348C2 (ru)
WO (2) WO2013159870A1 (ru)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8652589B2 (en) * 2008-01-25 2014-02-18 Oerlikon Trading Ag, Truebbach Permeation barrier layer
EP3063309B1 (de) * 2013-11-03 2022-10-12 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Oxidationsbarriereschicht
DE102016125042A1 (de) * 2015-12-28 2017-06-29 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Infrarotspiegel mit einer thermisch stabilen Schicht
JP7315931B2 (ja) * 2017-09-15 2023-07-27 エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 プフェフィコン より高い熱安定性を有するAl-CrO系コーティングおよびその製造方法
WO2019136261A1 (en) * 2018-01-04 2019-07-11 Ih Ip Holdings Limited Gas phase co-deposition of hydrogen/deuterium loaded metallic structures

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2213807C2 (ru) * 2001-09-28 2003-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Московское машиностроительное производственное предприятие "Салют" Состав сплава для нанесения покрытий
RU2264480C2 (ru) * 2000-04-10 2005-11-20 Падеров Анатолий Николаевич Способ нанесения защитных покрытий на детали из жаропрочных сплавов
US20080090099A1 (en) * 2006-10-11 2008-04-17 Oc Oerlikon Balzers Ag Layer system with at least one mixed crystal layer of a multi-oxide
RU2348739C2 (ru) * 2007-04-16 2009-03-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") Способ получения алюминидного покрытия на поверхности изделия из жаропрочного сплава
JP2011152627A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Mitsubishi Materials Corp 高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH688863A5 (de) * 1994-06-24 1998-04-30 Balzers Hochvakuum Verfahren zum Beschichten mindestens eines Werkstueckes und Anlage hierfuer.
JP4616213B2 (ja) * 2001-06-19 2011-01-19 株式会社神戸製鋼所 切削工具用硬質皮膜
PT1422311E (pt) * 2002-11-19 2007-03-30 Hitachi Tool Eng Película dura e ferramenta revestida por película dura
JP3640310B2 (ja) * 2002-11-25 2005-04-20 日立ツール株式会社 硬質皮膜
JP2004238736A (ja) * 2003-01-17 2004-08-26 Hitachi Tool Engineering Ltd 硬質皮膜及び硬質皮膜被覆工具
JP2008013852A (ja) * 2003-01-17 2008-01-24 Hitachi Tool Engineering Ltd 硬質皮膜及び硬質皮膜被覆工具
US9997338B2 (en) 2005-03-24 2018-06-12 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon Method for operating a pulsed arc source
CN101426947A (zh) * 2006-04-21 2009-05-06 塞美康股份公司 涂覆体
SE531933C2 (sv) * 2007-12-14 2009-09-08 Seco Tools Ab Belagt hårdmetallskär för bearbetning av stål och rostfria stål
JP4850189B2 (ja) * 2008-01-08 2012-01-11 日立ツール株式会社 被覆工具
JP4850204B2 (ja) * 2008-04-14 2012-01-11 日立ツール株式会社 被覆工具
JP4975682B2 (ja) * 2008-05-21 2012-07-11 日立ツール株式会社 被覆切削工具の製造方法
JP5061394B2 (ja) * 2008-10-31 2012-10-31 住友電工ハードメタル株式会社 表面被覆切削工具

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2264480C2 (ru) * 2000-04-10 2005-11-20 Падеров Анатолий Николаевич Способ нанесения защитных покрытий на детали из жаропрочных сплавов
RU2213807C2 (ru) * 2001-09-28 2003-10-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Московское машиностроительное производственное предприятие "Салют" Состав сплава для нанесения покрытий
US20080090099A1 (en) * 2006-10-11 2008-04-17 Oc Oerlikon Balzers Ag Layer system with at least one mixed crystal layer of a multi-oxide
RU2348739C2 (ru) * 2007-04-16 2009-03-10 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") Способ получения алюминидного покрытия на поверхности изделия из жаропрочного сплава
JP2011152627A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Mitsubishi Materials Corp 高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具

Also Published As

Publication number Publication date
CA2871067C (en) 2020-07-21
CN104350172B (zh) 2016-10-12
KR102219393B1 (ko) 2021-02-24
CN104350172A (zh) 2015-02-11
AR090735A1 (es) 2014-12-03
US20150111795A1 (en) 2015-04-23
WO2013159893A1 (en) 2013-10-31
WO2013159870A1 (en) 2013-10-31
CA2871067A1 (en) 2013-10-31
EP2841618B1 (en) 2018-08-08
KR20140147127A (ko) 2014-12-29
JP6200488B2 (ja) 2017-09-20
BR112014026231A2 (pt) 2017-06-27
EP2841618A1 (en) 2015-03-04
RU2014146776A (ru) 2016-06-10
JP2015518522A (ja) 2015-07-02
US9677169B2 (en) 2017-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Hörling et al. Thermal stability of arc evaporated high aluminum-content Ti 1− x Al x N thin films
RU2632348C2 (ru) НАНЕСЕННОЕ ЭЛЕКТРОДУГОВЫМ НАПЫЛЕНИЕМ ПОКРЫТИЕ Al-Cr-O, СОДЕРЖАЩЕЕ Si, ИМЕЮЩЕЕ УЛУЧШЕННУЮ КРОЮЩУЮ СПОСОБНОСТЬ
CN110573645B (zh) 富铝的AlTiN基膜
Wang et al. Dense and high-stability Ti2AlN MAX phase coatings prepared by the combined cathodic arc/sputter technique
Xiao et al. Nanostructured TiN coating prepared by reactive plasma spraying in atmosphere
Forsén et al. Effects of Ti alloying of AlCrN coatings on thermal stability and oxidation resistance
KR102633691B1 (ko) 초합금 스퍼터링 타겟
CN113966408B (zh) 包含多阴离子高熵合金氮氧化物的pvd涂层
Wang et al. Diffusion-controlled intercalation approach to synthesize the Ti2AlC MAX phase coatings at low temperature of 550 C
Zhang et al. Nanocrystalline thin films synthesized from a Ti2AlN compound target by high power impulse magnetron sputtering technique
CN111757948A (zh) 具有增强热稳定性的Al-Cr基陶瓷涂层
Escobar-Alarcon et al. Microstructural characterization of Ti–C–N thin films prepared by reactive crossed beam pulsed laser deposition
JP2020536167A (ja) 三元tm二ホウ化物コーティングフィルム
WO2014111264A1 (en) COATING METHOD FOR PRODUCING (Al,Cr)2O3-BASED COATINGS WITH ENHANCED PROPERTIES
Ding et al. Influence of Si addition on structure and properties of TiB2-Si nanocomposite coatings deposited by high-power impulse magnetron sputtering
Guzman et al. Vapour deposited Zn–Cr Alloy coatings for enhanced manufacturing and corrosion resistance of steel sheets
Ortiz et al. Structural and corrosion Evaluation for multilayer system conformed by TiCN/TiVCN
Zhou et al. Structure, mechanical properties and thermal stability of CrAlNbN/TiN multilayers
Mayrhofer et al. Influence of different atmospheres on the thermal decomposition of Al-Cr-N coatings
Alaksanasuwan et al. Effect of sputtering current on the structure of TiCrN thin films prepared from mosaic target by reactive DC magnetron sputtering
Lee et al. Controlling Void Contents in the Zn Interlayer for Improving Adhesion Strength of ZnMg/Zn Bilayer Coatings on TRIP Steel
Chen et al. X-ray photoelectron spectroscopy and transmission electron microscopy study of internally oxidized Nb–Ru coatings
Xiao et al. Structure and oxidation resistance of W1–xAlxN composite films
Demchishin et al. Structure, phase composition and microhardness of vacuum-arc multilayered Ti/Al, Ti/Cu, Ti/Fe, Ti/Zr nano-structures with different periods
Fouad et al. Reactively Magnetron Sputter-Deposited Ti (C, N) Nanocomposite Thin Films: Composition and Thermal Stability