RU2019132844A - Фенален-1-он-содержащая композиция фотосенсибилизатора, фенален-1-оновое соединение и их применение - Google Patents
Фенален-1-он-содержащая композиция фотосенсибилизатора, фенален-1-оновое соединение и их применение Download PDFInfo
- Publication number
- RU2019132844A RU2019132844A RU2019132844A RU2019132844A RU2019132844A RU 2019132844 A RU2019132844 A RU 2019132844A RU 2019132844 A RU2019132844 A RU 2019132844A RU 2019132844 A RU2019132844 A RU 2019132844A RU 2019132844 A RU2019132844 A RU 2019132844A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- carbon atoms
- independently
- fragment
- branched
- linear
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims 19
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 title claims 16
- 239000012634 fragment Substances 0.000 claims 93
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 74
- -1 phenalen-1-one compound Chemical class 0.000 claims 39
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 34
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims 33
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 24
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 21
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 21
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 21
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 19
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 14
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 12
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 12
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 12
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 11
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 11
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 11
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims 11
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 11
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 11
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims 9
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 9
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 9
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 9
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims 9
- 244000005700 microbiome Species 0.000 claims 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 6
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 5
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000005157 alkyl carboxy group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 claims 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims 4
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims 3
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 claims 3
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 claims 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- WWBGWPHHLRSTFI-UHFFFAOYSA-N phenalen-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 WWBGWPHHLRSTFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000001828 phenalenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 claims 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 claims 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 claims 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)C#N IJVRPNIWWODHHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 241000203069 Archaea Species 0.000 claims 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 claims 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 claims 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 241000233866 Fungi Species 0.000 claims 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 241000700605 Viruses Species 0.000 claims 2
- 210000004666 bacterial spore Anatomy 0.000 claims 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 108010069898 fibrinogen fragment X Proteins 0.000 claims 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 claims 2
- 230000002538 fungal effect Effects 0.000 claims 2
- 244000045947 parasite Species 0.000 claims 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 2
- 210000004215 spore Anatomy 0.000 claims 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- FHVDTGUDJYJELY-UHFFFAOYSA-N 6-{[2-carboxy-4,5-dihydroxy-6-(phosphanyloxy)oxan-3-yl]oxy}-4,5-dihydroxy-3-phosphanyloxane-2-carboxylic acid Chemical compound O1C(C(O)=O)C(P)C(O)C(O)C1OC1C(C(O)=O)OC(OP)C(O)C1O FHVDTGUDJYJELY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 claims 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims 1
- 229940072056 alginate Drugs 0.000 claims 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 claims 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 claims 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 claims 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 claims 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 claims 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 claims 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims 1
- 229940127554 medical product Drugs 0.000 claims 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 1
- 239000012785 packaging film Substances 0.000 claims 1
- 229920006280 packaging film Polymers 0.000 claims 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 claims 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 claims 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 claims 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/28—Radicals substituted by singly-bound oxygen or sulphur atoms
- C07D213/30—Oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C211/00—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C211/62—Quaternary ammonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C217/02—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C217/04—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
- C07C217/06—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one etherified hydroxy group and one amino group bound to the carbon skeleton, which is not further substituted
- C07C217/08—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one etherified hydroxy group and one amino group bound to the carbon skeleton, which is not further substituted the oxygen atom of the etherified hydroxy group being further bound to an acyclic carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C217/02—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C217/04—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
- C07C217/06—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one etherified hydroxy group and one amino group bound to the carbon skeleton, which is not further substituted
- C07C217/08—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one etherified hydroxy group and one amino group bound to the carbon skeleton, which is not further substituted the oxygen atom of the etherified hydroxy group being further bound to an acyclic carbon atom
- C07C217/10—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one etherified hydroxy group and one amino group bound to the carbon skeleton, which is not further substituted the oxygen atom of the etherified hydroxy group being further bound to an acyclic carbon atom to an acyclic carbon atom of a hydrocarbon radical containing six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C217/00—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C217/02—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
- C07C217/04—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
- C07C217/06—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one etherified hydroxy group and one amino group bound to the carbon skeleton, which is not further substituted
- C07C217/12—Compounds containing amino and etherified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton having etherified hydroxy groups and amino groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one etherified hydroxy group and one amino group bound to the carbon skeleton, which is not further substituted the oxygen atom of the etherified hydroxy group being further bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C225/14—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C225/14—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated
- C07C225/16—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated and containing six-membered aromatic rings
- C07C225/18—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being unsaturated and containing six-membered aromatic rings the carbon skeleton containing also rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/16—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C233/17—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
- C07C233/18—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom having the carbon atom of the carboxamide group bound to a hydrogen atom or to a carbon atom of an acyclic saturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/16—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms
- C07C233/17—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
- C07C233/20—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by singly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom having the carbon atom of the carboxamide group bound to a carbon atom of an acyclic unsaturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/30—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by doubly-bound oxygen atoms
- C07C233/31—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by doubly-bound oxygen atoms with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C233/00—Carboxylic acid amides
- C07C233/01—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C233/34—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by amino groups
- C07C233/35—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by amino groups with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom
- C07C233/38—Carboxylic acid amides having carbon atoms of carboxamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms having the nitrogen atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by amino groups with the substituted hydrocarbon radical bound to the nitrogen atom of the carboxamide group by an acyclic carbon atom having the carbon atom of the carboxamide group bound to a carbon atom of an acyclic unsaturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
- C07C271/06—Esters of carbamic acids
- C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C271/16—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
- C07C271/06—Esters of carbamic acids
- C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
- C07C271/20—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C317/22—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/24—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/703—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups
- C07C49/723—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups polycyclic
- C07C49/727—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups polycyclic a keto group being part of a condensed ring system
- C07C49/737—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups polycyclic a keto group being part of a condensed ring system having three rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/753—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing ether groups, groups, groups, or groups
- C07C49/755—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing ether groups, groups, groups, or groups a keto group being part of a condensed ring system with two or three rings, at least one ring being a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/52—Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
- C07C69/533—Monocarboxylic acid esters having only one carbon-to-carbon double bond
- C07C69/54—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/52—Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
- C07C69/533—Monocarboxylic acid esters having only one carbon-to-carbon double bond
- C07C69/56—Crotonic acid esters; Vinyl acetic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C69/94—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of polycyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/08—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/14—Nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/025—Silicon compounds without C-silicon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/04—Esters of silicic acids
-
- C07F7/045—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/37—Thiols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/02—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems
- C07C2603/04—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings
- C07C2603/22—Ortho- or ortho- and peri-condensed systems containing three rings containing only six-membered rings
- C07C2603/28—Phenalenes; Hydrogenated phenalenes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Claims (184)
1. Композиция фотосенсибилизатора, содержащая
(а) по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1):
где фрагменты R1-R8, которые независимо друг от друга могут быть одинаковыми или различными, соответственно представляют собой атом водорода, атом галогена, алкил, содержащий от 1 до 12 атомов углерода, алкиларил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, арил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-алкил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-алкиларил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-арил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, простой эфир, содержащий от 2 до 12 атомов углерода, фрагмент формулы *-O-C(=O)-R(Ia), фрагмент формулы *-C(=O)-R(Ib), или органический фрагмент W1, содержащий по меньшей мере одну активную функциональную группу, при условии, что по меньшей мере один из фрагментов R1-R7 представляет собой органический фрагмент W1, где органический фрагмент W1 независимо представляет собой фрагмент общей формулы (2)-(6):
где фрагмент А независимо представляет собой атом кислорода, атом серы или фрагмент общей формулы (10а) - (11а):
где *ph обозначает связь между фрагментом общей формулы (10а) - (11а) и атомом углерода феналенового кольца, и *с обозначает связь между фрагментом общей формулы (10а) - (11а) и атомом углерода фрагмента (C(D)(E)), и
где фрагмент В независимо представляет собой атом кислорода, атом серы или фрагмент общей формулы (10) - (14):
где фрагменты R(Ia), R(Ib), R(11a), R(12a), R(13a), R(14a) и R(14b) независимо представляют собой атом водорода, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил, н-пентил, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из галогена, аминогруппы, гидроксила, *- О-алкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода, алкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода, гидроксиалкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода и от 1 до 3 -ОН групп, галогеналкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода и от 1 до 3 галогеновых групп, и их комбинаций, предпочтительно хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, где Y- представляет собой анион, который независимо представляет собой фторид, хлорид, бромид, иодид, сульфат, гидросульфат, фосфат, гидрофосфат, дигидрофосфат, по меньшей мере один карбоксилат-анион карбоновой кислоты, содержащей от 1 до 15 атомов углерода, по меньшей мере один сульфонат-анион сульфоновой кислоты, содержащей от 1 до 12 атомов углерода, или их комбинацию, и
где фрагменты D и Е независимо представляют собой водород, галоген, гидроксил, ал кил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, гидроксиалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода и от 1 до 5 -ОН групп, фенил, бензил, фрагмент формулы *-L-R(II), фрагмент формулы *-L-C(=L)-R(III), фрагмент формулы *-(CH2)q-X, фрагмент формулы *-L- (CH2)q-X или фрагмент формулы *-(CH2)s-L-(CH2)t-X, где фрагмент L независимо представляет собой атом кислорода или атом серы, предпочтительно атом кислорода, где фрагменты R(II) и R(III) независимо представляют собой водород, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил, н-пентил, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными, где индексы q, s и t независимо представляют собой целые числа от 1 до 5,
где индексы а, с, g, f и n независимо представляют собой целые числа от 0 до 5,
где индексы b, d и m независимо представляют собой целые числа от 1 до 5,
где фрагмент Ar независимо представляет собой замещенное или незамещенное ароматическое соединение или замещенное или незамещенное гетероароматическое соединение, и
где фрагмент X независимо представляет собой активную функциональную группу, обозначаемую *-N(R(VI))(R(VII)), *-ОН, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(RVIII))(R(IX)-[O-Si(R(X))(R(XI))]p-Z, или фрагмент общей формулы (20) - (24):
где фрагменты R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), R(23a), R(24a), R(24b), и R(24c) независимо представляют собой атом водорода, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил или н-пентил, где индексы I и k независимо представляют собой целые числа от 0 до 4,
где фрагменты R(VI) и R(VII) независимо представляют собой атом водорода, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций,
где фрагменты R(VIII), R(IX), R(X) и R(XI) независимо представляют собой атом водорода, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, *-O-алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, где фрагмент Z независимо представляет собой галоген, гидроксил, алкоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, или алкилкарбоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, предпочтительно галоген или гидроксил, где индекс р независимо представляет собой целое число от 0 до 4, и
(b) по меньшей мере один полимерный компонент и/или предшественник полимерного компонента.
2. Композиция фотосенсибилизатора по п. 1,
отличающаяся тем, что фрагмент Ar независимо представляет собой фрагмент общей формулы (25а) - (31):
где фрагменты R25, R26, R27, R28, R29, R26a, R26b, R27a, R27b, R28a, R28b, R29a, R29b, R30a и R30b независимо представляют собой атом водорода, гидроксил, аминогруппу, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, *-O-алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, где фрагмент R30 независимо представляет собой атом водорода или алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, где фрагменты R33a и R33b независимо представляют собой атом водорода, гидроксил, аминогруппу, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, перфторалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, *-O-алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил, бензил, или, вместе взятые, образуют циклоалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 4 до 9 атомов углерода, или фрагмент 9Н-флуорен-9-илидена, и
где Y- представляет собой анион, который независимо представляет собой фторид, хлорид, бромид, иодид, сульфат, гидросульфат, фосфат, гидрофосфат, дигидрофосфат, по меньшей мере один карбоксилат-анион карбоновой кислоты, содержащей от 1 до 15 атомов углерода, по меньшей мере один сульфонат-анион сульфоновой кислоты, содержащей от 1 до 12 атомов углерода, или их комбинацию.
3. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1 или 2,
отличающаяся тем, что по меньшей мере один органический фрагмент W1 независимо представляет собой фрагмент общей формулы (40) - (67), или (72) - (98е):
где Y- представляет собой анион, который независимо представляет собой фторид, хлорид, бромид, иодид, сульфат, гидросульфат, фосфат, гидрофосфат, дигидрофосфат, по меньшей мере один карбоксилат-анион карбоновой кислоты, содержащей от 1 до 15 атомов углерода, по меньшей мере один сульфонат-анион сульфоновой кислоты, содержащей от 1 до 12 атомов углерода, или их комбинацию.
4. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-3, содержащая:
(а) по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1), выбранное из группы, состоящей из соединений формул (100) - (127), (132) - (166):
и комбинаций указанных соединений, и
(b) по меньшей мере один полимерный компонент и/или предшественник полимерного компонента.
5. Фенален-1-оновое соединение общей формулы (1а):
где фрагменты R1a - R8a, которые независимо друг от друга могут быть одинаковыми или различными, представляют собой атом водорода, атом галогена, алкил, содержащий от 1 до 12 атомов углерода, алкиларил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, арил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-алкил, содержащий от 1 до 12 атомов углерода, *-O-алкиларил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-арил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, простой эфир, содержащий от 2 до 12 атомов углерода, фрагмент формулы *-O-C(=O)-R(Ia), фрагмент формулы *-C(=O)-R(Ib), или органический фрагмент W1a, содержащий по меньшей мере одну активную функциональную группу, при условии, что по меньшей мере один из фрагментов R1a или R2a, представляет собой органический фрагмент W1a, где органический фрагмент W1a независимо представляет собой фрагмент общей формулы (2а) - (6а),
где фрагмент А независимо представляет собой атом кислорода, атом серы или фрагмент общей формулы (10а) - (11а):
где *ph обозначает связь между фрагментом общей формулы (10а) - (11а) и атомом углерода феналенового кольца, и *с обозначает связь между фрагментом общей формулы (10а) - (11а) и атомом углерода фрагмента (C(D)(E)),
где фрагмент В независимо представляет собой атом кислорода, атом серы или фрагмент общей формулы (10) - (12):
где фрагменты R(Ia), R(Ib), R(11a) и R(12a) независимо представляют собой метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил, н-пентил, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, и
где фрагменты D и Е независимо представляют собой водород, галоген, гидроксил, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, гидроксиалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода и от 1 до 5 -ОН групп, фенил, бензил, фрагмент формулы *-L-R(II), фрагмент формулы *-L-C(=L)-R(III), фрагмент формулы *-(СН2)q-Ха, фрагмент формулы *-L- (СН2)q-Ха, или фрагмент формулы *-(CH2)s-L-(CH2)t-Xa, где фрагмент L независимо представляет собой атом кислорода или атом серы, предпочтительно атом кислорода, где фрагменты R(II) и R(III) независимо представляют собой водород, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил, н-пентил, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, где индексы q, s и t независимо представляют собой целые числа от 1 до 5,
где индексы с, g, f и n независимо представляют собой целые числа от 0 до 5, и
где индексы b, d, е и m независимо представляют собой целые числа от 1 до 5,
где фрагмент Ar независимо представляет собой замещенное или незамещенное ароматическое соединение или замещенное или незамещенное гетероароматическое соединение, не содержащее атомов N, и
где фрагмент Ха независимо представляет собой активную функциональную группу, обозначаемую *-ОН, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX)-[O-Si(R(X))(R(XI))]p-Z, или фрагмент общей формулы (20) - (24):
где фрагменты R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), R(23a), R(24a), R(24b), и R(24c) независимо друг от друга, представляют собой атом водорода, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил или н-пентил, и где индексы I и k независимо представляют собой целые числа от 0 до 4, где фрагменты R(VIII), R(IX), R(X) и R(XI) независимо представляют собой атом водорода, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, *-O-алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, где фрагмент Z независимо представляет собой галоген, гидроксил, алкоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, или ал кил карбоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, и где индекс р независимо представляет собой целое число от 0 до 4.
6. Фенален-1-оновое соединение по п. 5, отличающееся тем, что фрагмент Ar независимо представляет собой замещенный или незамещенный фрагмент фенила, замещенный или незамещенный фрагмент бифенила, замещенный или незамещенный фрагмент дифенилпропила или замещенный или незамещенный фрагмент бисфенилсульфонила, предпочтительно фрагмент общей формулы (25а) - (25с), (29а) - (29с), (30) или (31):
где фрагменты R25, R26, R27, R28, R29, R26a, R26b, R27a, R27b, R28a, R28b, R29a, R29b, R30a и R30b независимо представляют собой атом водорода, гидроксил, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, перфторалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, *-O-алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, где фрагменты R33a и R33b независимо представляют собой атом водорода, гидроксил, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, перфторалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, *-O-алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил, бензил, или, вместе взятые, образуют циклоалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 4 до 9 атомов углерода, или фрагмент 9Н-флуорен-9-илидена,
при этом фенил и бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций.
7. Фенален-1-оновое соединение по п. 5 или 6,
отличающееся тем, что по меньшей мере один органический фрагмент W1a независимо выбран из группы, состоящей из фрагментов общих формул (41) - (67) или (98а) - (98е):
8. Фенален-1-оновое соединение по любому из пп. 5-7,
отличающееся тем, что указанное по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1а) выбрано из группы, состоящей из соединений формул (101) - (127), (162) - (166) и комбинаций указанных соединений:
9. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4, содержащая:
(c) по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1), представляющее собой фенален-1-оновое соединение по любому из пп. 5-8, и
(d) по меньшей мере один полимерный компонент и/или предшественник полимерного компонента.
10. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9, отличающаяся тем, что указанный по меньшей мере один полимерный компонент и/или предшественник полимерного компонента выбран из группы, состоящей из полимеров и/или сополимеров акриловой кислоты и сложных эфиров акриловой кислоты, метакриловой кислоты и сложных эфиров метакриловой кислоты, цианакриловой кислоты и сложных эфиров цианакриловой кислоты, акриламида, метакриламида, стирола, силоксанов и сложных эфиров силоксанов, меламина, акрилонитрила, 1,3-бутадиена, эпихлоргидрина, полиолов, полиизопренов, поли(простых эфиров), полиэфиримидов, поливинилацетатов, поликарбонатов, полиэфирсульфонов, карбоксиметилцеллюлозы, альгината и комбинаций указанных соединений.
11. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9-10, дополнительно содержащая по меньшей мере один сшивающий агент, содержащий по меньшей мере один полиизоцианат, блокированный изоцианат, по меньшей мере один алкилдиизоцианат, циклоалкилдиизоцианат или арилдиизоцианат, соединение общей формулы SiZ4, (RXII)SiZ3, (RXII)2SiZ2, соединение, содержащее по меньшей мере два эпоксидных фрагмента, соединение, содержащее по меньшей мере два акриламидных фрагмента, соединение, содержащее по меньшей мере два акрилатных фрагмента, соединение, содержащее по меньшей мере два альдегидных фрагмента, соединение, содержащее по меньшей мере две спиртовые группы, соединение, содержащее по меньшей мере два аминных фрагмента, дивинилсульфон или их комбинации, где фрагмент RXII независимо представляет собой алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, предпочтительно метил, этил, н-пропил, изопропил, фенил или бензил, и где фрагмент Z независимо представляет собой галоген, гидроксил, алкоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, или ал кил карбоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, предпочтительно галоген или гидроксил.
12. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9-11, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1) связано посредством ковалентной и/или электростатической, предпочтительно ковалентной, связи с по меньшей мере одним полимерным компонентом и/или предшественником полимерного компонента.
13. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9-12, отличающаяся тем, что указанная композиция фотосенсибилизатора представляет собой краску, лак, эмульсионную краску, латексную краску, силикатную краску или меловую краску.
14. Композиция фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9-13, отличающаяся тем, что указанная композиция фотосенсибилизатора представляет собой гранулят.
15. Изделие, содержащее по меньшей мере одну отвержденную полимерную композицию, при этом указанная отвержденная полимерная композиция содержит:
(а) по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1):
где фрагменты R1 - R8, которые независимо друг от друга могут быть одинаковыми или различными, соответственно представляют собой атом водорода, атом галогена, алкил, содержащий от 1 до 12 атомов углерода, алкиларил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, арил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-алкил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-алкиларил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, *-O-арил, содержащий от 5 до 20 атомов углерода, простой эфир, содержащий от 2 до 12 атомов углерода, фрагмент формулы *-O-C(=O)-R(Ia), фрагмент формулы *-C(=O)-R(Ib), или органический фрагмент W1, содержащий по меньшей мере одну активную функциональную группу, при условии, что по меньшей мере один из фрагментов R1 - R7, по меньшей мере один из фрагментов R1, R2, R5 или R6, более по меньшей мере один из фрагментов R1 или R2, представляет собой органический фрагмент W1, где органический фрагмент W1 независимо представляет собой фрагмент общей формулы (2) - (6):
где фрагмент А независимо представляет собой атом кислорода, атом серы или фрагмент общей формулы (10а) - (11а):
где *ph обозначает связь между фрагментом общей формулы (10а) - (11а) и атомом углерода феналенового кольца, и *с обозначает связь между фрагментом общей формулы (10а) - (11а) и атомом углерода фрагмента (C(D)(E)), и
где фрагмент В независимо представляет собой атом кислорода, атом серы или фрагмент общей формулы (10) - (14):
где фрагменты R(Ia), R(Ib), R(11a), R(12a), R(13a), R(14a) и R(14b) независимо представляют собой атом водорода, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил, н-пентил, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из галогена, аминогруппы, гидроксила, *-О-алкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода, алкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода, гидроксиалкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода и от 1 до 3 -ОН групп, галогеналкила, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 3 атомов углерода и от 1 до 3 галогеновых групп, и их комбинаций, предпочтительно хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, где Y- представляет собой анион, который независимо представляет собой фторид, хлорид, бромид, иодид, сульфат, гидросульфат, фосфат, гидрофосфат, дигидрофосфат, по меньшей мере один карбоксилат-анион карбоновой кислоты, содержащей от 1 до 15 атомов углерода, по меньшей мере один сульфонат-анион сульфоновой кислоты, содержащей от 1 до 12 атомов углерода, или их комбинацию, и
где фрагменты D и Е независимо представляют собой водород, галоген, гидроксил, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, гидроксиалкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода и от 1 до 5 -ОН групп, фенил, бензил, фрагмент формулы *-L-R(II), фрагмент формулы *-L-C(=L)-R(III), фрагмент формулы *-(CH2)q-X, фрагмент формулы *-L- (CH2)q-X, или фрагмент формулы *-(CH2)s-L-(CH2)t-X, где фрагмент L независимо представляет собой атом кислорода или атом серы, предпочтительно атом кислорода, где фрагменты R(II) и R(III) независимо представляют собой водород, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил, н-пентил, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными, где индексы q, s и t независимо представляют собой целые числа от 1 до 5,
где индексы а, с, g, f и n независимо представляют собой целые числа от 0 до 5,
где индексы b, d и m независимо представляют собой целые числа от 1 до 5,
где фрагмент Ar независимо представляет собой замещенное или незамещенное ароматическое соединение или замещенное или незамещенное гетероароматическое соединение, и
где фрагмент X независимо представляет собой активную функциональную группу, обозначаемую *-N(R(VI))R(VII)), *-ОН, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[O-Si(R(X))(R(XI))]p-Z, или фрагмент общей формулы (20) - (24):
где фрагменты R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), R(23a), R(24a), R(24b), и R(24c) независимо представляют собой атом водорода, метил, этил, н-пропил, изопропил, н-бутил, втор-бутил, изобутил или н-пентил, где индексы I и k независимо представляют собой целые числа от 0 до 4,
где фрагменты R(VI) и R(VII) независимо представляют собой атом водорода, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций,
где фрагменты R(VIII), R(IX), R(X) и R(XI) независимо представляют собой атом водорода, алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, *-O-алкил, который может быть линейным или разветвленным и содержать от 1 до 5 атомов углерода, фенил или бензил, при этом фенил или бензил независимо друг от друга могут быть незамещенными или замещенными одним или более фрагментами, выбранными из группы, состоящей из хлора, брома, фтора, метила, этила, н-пропила, изопропила, метокси, этокси и их комбинаций, где фрагмент Z независимо представляет собой галоген, гидроксил, алкоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, или алкилкарбоксил, содержащий от 1 до 4 атомов углерода, предпочтительно галоген или гидроксил, где индекс р независимо представляет собой целое число от 0 до 4, и
(b) по меньшей мере один отвержденный полимерный компонент,
при этом указанное по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1) связано посредством ковалентной и/или электростатической, предпочтительно ковалентной, связи с указанным по меньшей мере одним отвержденным полимерным компонентом.
16. Изделие по п. 15, отличающееся тем, что отвержденная полимерная композиция содержит
(a) по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1), по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение по любому из пп. 5-8, или комбинацию указанных соединений, и
(b) по меньшей мере один отвержденный полимерный компонент,
при этом указанное по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение общей формулы (1), по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение по любому из пп. 5-8 или комбинация указанных соединений связаны посредством ковалентной и/или электростатической, предпочтительно ковалентной, связи с указанным отвержденным полимерным компонентом.
17. Изделие по любому из пп. 15 или 16, отличающееся тем, что указанная отвержденная полимерная композиция находится в форме покрытия, непровисающей пленки, ткани или формованного изделия.
18. Применение композиции фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9-14 и/или фенален-1-онового соединения по любому из пп. 5-8, и/или изделия по любому из пп. 15-17 для инактивации, предпочтительно фотодинамической инактивации, микроорганизмов, которые предпочтительно выбраны из группы, состоящей из вирусов, археев, бактерий, спор бактерий, грибов, спор грибов, простейших, водорослей и гемоконтактных паразитов и/или биопленки указанных микроорганизмов.
19. Применение композиции фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9-14 и/или фенален-1-онового соединения по любому из пп. 5-8 для фотодинамической очистки поверхности и/или нанесения покрытия на поверхность или часть поверхности изделия.
20. Применение по любому из пп. 19 или 20 для нанесения покрытия на изделия, предпочтительно медицинские продукты, пищевые упаковки, упаковочные пленки, текстильные изделия, строительные материалы, игрушки, электронные устройства, мебель или изделия для гигиены.
21. Способ инактивации, предпочтительно фотодинамической инактивации, микроорганизмов, предпочтительно выбранных из группы, состоящей из вирусов, археев, бактерий, спор бактерий, грибов, спор грибов, простейших, водорослей и гемоконтактных паразитов, и/или биопленки указанных микроорганизмов, включающий следующие стадии: (А) приведение микроорганизмов и/или биопленки микроорганизмов в контакт с по меньшей мере одним покрытием, полученным путем отверждения композиции фотосенсибилизатора по любому из пп. 1-4 или 9-14 и/или содержащим по меньшей мере одно фенален-1-оновое соединение по любому из пп. 5-8, и/или с по меньшей мере одним изделием по любому из пп. 15-17, и
(В) облучение микроорганизмов и/или биопленки микроорганизмов и по меньшей мере одного фенален-1-онового соединения, содержащегося в покрытии и/или изделии, электромагнитным излучением с подходящей длиной волны и интенсивностью излучения.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP17161718.6 | 2017-03-17 | ||
EP17161718.6A EP3375774A1 (de) | 2017-03-17 | 2017-03-17 | Phenalen-1-on-haltige photosensibilisatorzusammensetzung, phenalen-1-on-verbindungen sowie deren verwendung |
PCT/EP2018/056653 WO2018167264A1 (de) | 2017-03-17 | 2018-03-16 | Phenalen-1-on-haltige photosensibilisatorzusammensetzung, phenalen-1-on-verbindung sowie deren verwendung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2019132844A true RU2019132844A (ru) | 2021-04-19 |
RU2019132844A3 RU2019132844A3 (ru) | 2021-07-16 |
Family
ID=58360928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2019132844A RU2019132844A (ru) | 2017-03-17 | 2018-03-16 | Фенален-1-он-содержащая композиция фотосенсибилизатора, фенален-1-оновое соединение и их применение |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11186545B2 (ru) |
EP (1) | EP3375774A1 (ru) |
JP (1) | JP7277930B2 (ru) |
KR (1) | KR20190139873A (ru) |
CN (1) | CN110494421A (ru) |
AU (1) | AU2018234998B2 (ru) |
BR (1) | BR112019019324B1 (ru) |
CA (1) | CA3056486A1 (ru) |
MX (1) | MX2019010950A (ru) |
RU (1) | RU2019132844A (ru) |
SG (1) | SG11201908281VA (ru) |
WO (1) | WO2018167264A1 (ru) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109497058A (zh) * | 2018-12-04 | 2019-03-22 | 四川赛华睿科技有限责任公司 | 一种增效减量的草甘膦增效剂 |
EP4126558A1 (de) | 2020-04-03 | 2023-02-08 | Giesecke+Devrient Currency Technology GmbH | Wertdokumentsubstrat und verfahren zum desinfizieren |
DE102020110710A1 (de) | 2020-04-20 | 2021-10-21 | Airbus Operations Gmbh | Tischvorrichtung sowie Passagiersitz und Fahrzeugkabine mit einer Tischvorrichtung |
JP2023010285A (ja) | 2021-07-09 | 2023-01-20 | コニカミノルタ株式会社 | 静電荷像現像用トナー及びその製造方法、並びにそれを用いた画像形成方法、画像形成システム及び出力物 |
EP4299131A1 (en) | 2022-06-29 | 2024-01-03 | Centre national de la recherche scientifique | Hydrophilic phenalenones and their use in antimicrobial photodynamic therapy |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7302561A (ru) | 1972-03-01 | 1973-09-04 | ||
JPS5590506A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
DE3126264A1 (de) | 1981-07-03 | 1983-01-20 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Polymere mit mindestens zwei stabilen und reversibel umwandelbaren oxidationsstufen und ihre anwendung als redoxsysteme und in der elektrotechnik sowie zur antistatischen ausruestung von kunststoffen |
DE3232483A1 (de) | 1982-09-01 | 1984-03-01 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Reversibel oxidierbare bzw. reduzierbare polymere mit polyen-einheiten, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
JPS606757A (ja) * | 1983-06-24 | 1985-01-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 塗膜の形成方法 |
US5830526A (en) | 1994-12-28 | 1998-11-03 | Fibermark, Inc. | Light-activated antimicrobial and antiviral materials |
US6420455B1 (en) | 1999-06-18 | 2002-07-16 | 3M Innovative Properties Company | Antimicrobial composition containing photosensitizers articles, and methods of use |
DE102011012343A1 (de) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | TriOpto Tec GmbH | Phenalen-1-on-Derivate, Verfahren zur Herstellung und Verwendung derselben |
-
2017
- 2017-03-17 EP EP17161718.6A patent/EP3375774A1/de active Pending
-
2018
- 2018-03-16 CA CA3056486A patent/CA3056486A1/en active Pending
- 2018-03-16 SG SG11201908281V patent/SG11201908281VA/en unknown
- 2018-03-16 JP JP2019571787A patent/JP7277930B2/ja active Active
- 2018-03-16 WO PCT/EP2018/056653 patent/WO2018167264A1/de active Application Filing
- 2018-03-16 KR KR1020197030420A patent/KR20190139873A/ko active IP Right Grant
- 2018-03-16 MX MX2019010950A patent/MX2019010950A/es unknown
- 2018-03-16 AU AU2018234998A patent/AU2018234998B2/en active Active
- 2018-03-16 BR BR112019019324-3A patent/BR112019019324B1/pt active IP Right Grant
- 2018-03-16 US US16/494,836 patent/US11186545B2/en active Active
- 2018-03-16 RU RU2019132844A patent/RU2019132844A/ru unknown
- 2018-03-16 CN CN201880018342.2A patent/CN110494421A/zh active Pending
-
2021
- 2021-10-13 US US17/500,593 patent/US11987557B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG11201908281VA (en) | 2019-10-30 |
BR112019019324A2 (pt) | 2020-04-14 |
US20200087259A1 (en) | 2020-03-19 |
CA3056486A1 (en) | 2018-09-20 |
JP2020514523A (ja) | 2020-05-21 |
JP7277930B2 (ja) | 2023-05-19 |
AU2018234998B2 (en) | 2022-09-01 |
MX2019010950A (es) | 2020-01-21 |
EP3375774A1 (de) | 2018-09-19 |
US20220064114A1 (en) | 2022-03-03 |
US11186545B2 (en) | 2021-11-30 |
BR112019019324B1 (pt) | 2023-04-25 |
US11987557B2 (en) | 2024-05-21 |
WO2018167264A1 (de) | 2018-09-20 |
AU2018234998A1 (en) | 2019-11-07 |
CN110494421A (zh) | 2019-11-22 |
KR20190139873A (ko) | 2019-12-18 |
RU2019132844A3 (ru) | 2021-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2019132844A (ru) | Фенален-1-он-содержащая композиция фотосенсибилизатора, фенален-1-оновое соединение и их применение | |
JP2017511390A5 (ru) | ||
JP2013529724A5 (ru) | ||
JP2012108527A5 (ru) | ||
JP6887147B2 (ja) | 物品又は衛生用品に抗菌作用を付与する方法、抗菌作用が付与された物品及び衛生用品 | |
JP2010047741A5 (ru) | ||
JP2005171069A5 (ru) | ||
Dong et al. | Smart Antibacterial Surfaces Established by One‐Step Photo‐Crosslinking | |
KR20160038816A (ko) | (메트)아크릴레이트 화합물, 이로부터 유도된 반복단위를 포함하는 코폴리머 및 호모폴리머 | |
JP2010047740A5 (ru) | ||
JP2015110534A (ja) | シリル基含有ホスホリルコリン化合物及びその製造方法、並びに、重縮合体及び表面改質剤 | |
JP2014009306A (ja) | 抗菌性組成物 | |
JP6994562B2 (ja) | コーティング用樹脂組成物及びその硬化物をコーティング層として含むコーティングフィルム | |
JP2009184300A (ja) | 表面親水性部材 | |
JP2017528577A (ja) | シルセスキオキサンポリマーコア、シルセスキオキサンポリマー外層、及び反応性基を含む硬化性ポリマー | |
KR20130041608A (ko) | 중합체 조성물, 이로부터 얻어진 필름 및 그 제조 방법 | |
JP6067938B2 (ja) | ポリエステル樹脂組成物 | |
KR101336838B1 (ko) | 전자재료용 무색 대전방지제·이의 제조방법 및 이를 이용한 자외선 경화형 대전방지 코팅제·이를 이용한 코팅소재 | |
JP2001190344A (ja) | 人工大理石とそれを用いたキッチンカウンター、浴槽または洗い場 | |
KR102672038B1 (ko) | 가시광 반응 Si-Al 유기 복합 졸-겔 코팅액 및 이의 제조방법 | |
JP2015074672A (ja) | プラスチックシート及びディスプレイ用保護シート、並びにプラスチックシートの製造方法 | |
JPS6226333B2 (ru) | ||
JP7028263B2 (ja) | 層間修飾層状無機化合物を含む徐放性複合剤およびその製造方法 | |
JPH04120900A (ja) | スピーカ用振動板 | |
JP6465061B2 (ja) | コーティング用組成物および被覆物品 |