BR112019019324A2 - composição fotossensibilizante contendo fenalen-1-ona, composto de fenalen-1-ona, artigo compreendendo uma composição de polímero endurecido, assim como seus usos e método para inativação - Google Patents

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Abstract

a presente invenção refere-se a um composto de fenalen-1-ona, uma composição fotossensibilizante que compreende o dito composto de fenalen-1-ona, um artigo que compreende dito composto de fenalen-1-ona e/ou composição fotossensibilizante e uso do mesmo.

Description

COMPOSIÇÃO FOTOSSENSIBILIZANTE CONTENDO FENALEN-1-ONA, COMPOSTO DE FENALEN-1-ONA, ARTIGO COMPREENDENDO UMA COMPOSIÇÃO DE POLÍMERO ENDURECIDO, ASSIM COMO SEUS USOS E MÉTODO PARA INATIVAÇÃO [0001] A presente invenção diz respeito a uma composição fotossensibilizante, a um composto de fenalen-1-ona, a um artigo, bem como seu uso.
[0002] A penetração, adesão e proliferação de patógenos ativa ou passiva em um hospedeiro é descrita como uma infecção. Fontes de partículas infecciosas estão em toda parte. Assim, por exemplo, o corpo humano é colonizado por um grande número de microrganismos que, como regra, são mantidos sob controle pelo metabolismo normal e um sistema imunológico intacto. No entanto, quando, por exemplo, o sistema imunológico é enfraquecido, os patógenos podem proliferar acentuadamente e, dependendo do tipo de patógeno, pode levar a vários sintomas de doença. A medicina tem contramedidas específicas disponíveis contra muitas doenças relacionadas a patógenos, por exemplo, antibióticos contra bactérias ou anti-micóticos contra fungos ou antivirais contra vírus. No entanto, mais e mais frequentemente ao empregar essas contramedidas, a ocorrência de patógenos resistentes tem sido observada, algumas das quais também mostraram-se resistentes a várias contramedidas. Devido à ocorrência desses patógenos resistentes ou multirresistentes, a terapia de doenças infecciosas está se tornando cada vez mais difícil. A consequência clínica de resistência é evidenciada por uma falha do tratamento, especialmente em pacientes imunossuprimidos.
[0003] As novas abordagens para o controle de patógenos resistentes ou multirresistentes são, assim, por um lado, pesquisas em novas contramedidas, por exemplo, antibióticos ou anti-micóticos, e, por outro lado, pesquisa em estratégias de inativação alternativas.
[0004] Um método alternativo demonstrou ser a inativação
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2/114 fotodinâmica de microrganismos. Dois processos foto-oxidativos diferentes desempenham um papel decisivo na inativação fotodinâmica de microrganismos. A condição para que uma inativação foto-oxidativa ocorra é por um lado a presença de uma quantidade suficiente de oxigênio e por outro lado a localização do que é conhecido como um fotossensibilizador, que seja excitado pela luz de um comprimento de onda apropriado. O fotossensibilizador excitado pode trazer a formação de espécies reativas de oxigênio (ROS), em que, por um lado radicais, por exemplo, os ânions de superóxido, peróxido de hidrogênio ou radicais de hidroxil e/ou por outro lado o oxigênio molecular excitado, por exemplo, oxigênio singlete, pode ser formado.
[0005] Em ambas as reações, a foto-oxidação de biomoléculas específicas que estão na vizinhança direta das espécies reativas de oxigênio (ROS) é primordial. A este respeito, em particular, a oxidação de lipídios e proteínas ocorre que, por exemplo, estão presentes como componentes da membrana celular de microrganismos. Por sua vez, a destruição da membrana celular leva à inativação dos microrganismos relevantes. Um processo de eliminação semelhante ocorre para vírus e fungos.
[0006] Como exemplo, todas as moléculas são atacadas por oxigênio singiete. Entretanto, os ácidos graxos insaturados nas membranas das bactérias são particularmente suscetíveis aos danos. Células endógenas saudáveis têm uma defesa celular contra ataques de radicais livres - através do que são conhecidos como catalases ou superóxido dismutases. Assim, as células endógenas, saudáveis, podem neutralizar dano por espécies reativas de oxigênio (ROS), por exemplo, radicais ou oxigênio singlete.
[0007] Muitos fotossensibilizadores são conhecidos a partir do estado da técnica que, por exemplo, se origina a partir do grupo formado por porfirinas e seus derivados ou ftalocianinas e seus derivados ou fulerenos e seus derivados ou derivados com uma estrutura de fenotiazínio tal como o metileno azul ou o toluidina azul, por exemplo, ou representantes da série do
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3/114 fenotiazínio tais como o azul Nilo, por exemplo.
[0008] WO 00/78854 A1 diz respeito a um método para a preparação de uma superfície antimicrobiana, em que o método compreende a combinação de um ou mais polímeros com um ou mais fotossensibilizadores, a fim de formar uma superfície que tem uma composição polimérica endurecida que compreende um ou mais polímeros e um ou mais fotossensibilizadores não covalentes e não ionicamente ligados, em que pelo menos um deles é um fotossensibilizador xanteno.
[0009] A desvantagem nesse caso é que o fotossensibilizador vaza da matriz polimérica e, assim, a atividade antimicrobiana diminui quando armazenada por longos períodos.
[0010] US 5 830 526 A divulga um substrato no qual um corante ativável à luz é ligado isoladamente ou em combinação com antimicrobiano convencional adicional e/ou agentes antivirais. O substrato é impregnado com um corante ativável à luz com antimicrobiano e/ou propriedades antivirais, em que um polímero solúvel em água catiônico ou aniônico liga o corante ao substrato.
[0011] A desvantagem nesse caso é que o fotossensibilizador pode ser liberado do substrato, por exemplo, por estresse mecânico, e, portanto, a atividade antimicrobiana é reduzida.
[0012] O objetivo da presente invenção é prover um revestimento que contenha um fotossensibilizador que garanta a facilidade de aplicação, preferivelmente aos diferentes tipos de superfícies e, particularmente, exibe simultaneamente atividade anti-microbial boa que segue iluminação com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e intensidade adequados.
[0013] Além disso, após a aplicação a uma superfície, o revestimento contendo fotossensibilizador deve preferivelmente assegurar uma adesão melhorada do fotossensibilizador, de modo que a hemorragia do fotossensibilizador seja preferivelmente evitada.
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4/114 [0014] Além disso, preferencialmente, a atividade do fotossensibilizador, particularmente, mediante irradiação longa com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e de uma intensidade apropriados, deve ser melhorada.
[0015] Nesse sentido, o revestimento contendo fotossensibilizador não deve, essencialmente, inibir a excitação das moléculas fotossensibilizantes contidas no revestimento por luz de um comprimento de onda específico.
[0016] O objetivo da presente invenção é conseguido provendo uma composição fotossensibilizante conforme reivindicada na reivindicação 1, compreendendo (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1):
Figure BR112019019324A2_D0001
[0017] em que os resíduos R1 a R8, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-alquil contendo 1 a 12 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb), ou um resíduo orgânico W1 que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1 a R7, preferencialmente pelo menos um dos resíduos R1, R2, R5 ou R6, mais preferencialmente, pelo menos um dos resíduos R1 ou R2 seja um resíduo orgânico W1, em que o resíduo
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5/114 orgânico W1, respectivamente, independentemente um do outro, represente um resíduo com a fórmula geral (2) a (6):
* - [(C(D)(E))d - B]a - (C(D)(E))m - X(2) * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - X(3) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - X(4) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(5) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(6) [0018] em que o resíduo A, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a), preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10a), mais preferencialmente, oxigênio:
*C
Figure BR112019019324A2_D0002
(10a) (11a) [0019] em que *pH denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11 a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), e [0020] em que o resíduo B, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (14), preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (14):
Figure BR112019019324A2_D0003
(10) (11) (12) (13) (14) [0021] em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a), R(12a), R(13a), R(14a) e
R(14b) respectivamente independentemente uns dos outros, representam
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6/114 hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo que consiste em halogênio, amino, hidroxil, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos OH, halogenoalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos de halogênio, e suas combinações, preferencialmente cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, dihidrogênio fosfato, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação destes, [0022] em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos de OH, halogenoalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos halogênio, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L-R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-X, um resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-X, ou um resíduo com a fórmula *(CH2)s-L-(CH2)t-X, em que o resíduo L, respectivamente, independentemente um do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll) respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n
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7/114 propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos com um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, npropil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, e em que os índices q, set, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, [0023] em que os índices a, c, g, f e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, preferencialmente de 1 a 4, [0024] e em que os índices b, d e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, preferencialmente de 2 a 4, [0025] em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído, e [0026] em que o resíduo X, respectivamente, independentemente um do outro é um grupo funcional reativo denotado por *-N(R(VI))(R(VII)), *-OH, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[OSi(R(X))(R(XI))]p-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
Figure BR112019019324A2_D0004
(20) (21) (22)
Figure BR112019019324A2_D0005
r(24c<
*^C\'c_R(24b) p(24a)
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8/114 (23) (24) [0027] em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), r(22c), pj(23a), p(24a), p(24b) θ r(24c) reSpectjvamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, ou n-pentil, preferencialmente hidrogênio, metil ou etil, e em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 4, [0028] em que os resíduos R(VI) e R(VII) respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificada, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, npropil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, [0029] em que os resíduos R(VIII), R(IX), R(X) e R(XI) respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificada, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro, representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, preferencialmente halogênio ou hidroxil e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4, e [0030] (b) pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
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9/114 [0031] As modalidades preferenciais da composição fotossensibilizante de acordo com a invenção são providas nas reivindicações 2 a 4 e 9 a 14.
[0032] O objetivo da presente invenção também é conseguido provendo um composto de fenalen-1-ona conforme reivindicado na reivindicação 5, em que o composto de fenalen-1-ona tem uma fórmula geral (1a):
R1a
Figure BR112019019324A2_D0006
[0033] em que os resíduos R1a a R8a, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-alquil contendo 1 a 12 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb), ou um resíduo orgânico W1a que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1a ou R2a, preferencialmente um dos resíduos R1a ou R2a, seja um resíduo orgânico W1a, em que o resíduo orgânico W1a, respectivamente, independentemente um do outro, represente um resíduo com a fórmula geral (2a) a (6a):
* - [(C(D)(E))d - B]e - (C(D)(E))m - Xa(2a) * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - Xa(3a) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - Xa(4a) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - Xa(5a) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - Xa(6a)
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10/114 [0034] em que o resíduo A, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a), preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10a), mais preferencialmente, oxigênio:
*C
Figure BR112019019324A2_D0007
(10a) (11a) [0035] em que *pH denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11 a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), [0036] em que o resíduo B, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (12); preferencialmente oxigênio ouum resíduo com a fórmula geral (10) a (12), preferencialmente oxigênio ouum resíduo com a fórmula geral (10):
*
Figure BR112019019324A2_D0008
(10) (11)(12) [0037] e em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a) e R(12a) respectivamente independentemente uns dos outros representam metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que o fenil e o benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, npropil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, e
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11/114 [0038] em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos de OH, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L- R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-Xa, um resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-Xa, ou um resíduo com a fórmula *-(CH2)s-L-(CH2)t-Xa , em que o resíduo L, respectivamente, independentemente um do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll)respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos com um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, os índices q, s e t, respectivamente, independentemente uns dos outros representando um número inteiro de 1 a 5, [0039] em que os índices c, g, f e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, preferencialmente de 1 a 4, e [0040] em que os índices b, d, e e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, preferencialmente de 2 a 4, [0041] em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído que não contém átomos de N, e [0042] em que o resíduo Xa, respectivamente, independentemente um do outro é um grupo funcional reativo denotado por
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12/114 *-0H, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[O-Si(R(X))(R(XI))]p-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
Figure BR112019019324A2_D0009
(23) (24) [0043] em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), pj(23a), p(24a), p(24b), θ r(24c) reSpectjvamente5 independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil ou n-pentil, e em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 4, em que o resíduos R(VIII), R(IX), R(X) e R(XI) respectivamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-Oalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro, representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, preferencialmente halogênio ou hidroxil e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4.
[0044] As modalidades preferenciais do composto de fenalen-1
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13/114 ona inventivo são providos nas reivindicações 6 a 8.
[0045] O objetivo da presente invenção é, além disso, alcançado pela provisão de um artigo conforme reivindicado na reivindicação 15, em que o artigo compreende pelo menos uma composição de polímero endurecido, em que a composição de polímero endurecido compreende (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1):
Figure BR112019019324A2_D0010
[0046] em que os resíduos R1 a R8, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-alquil contendo 1 a 12 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb), ou um resíduo orgânico W1 que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1 a R7, preferencialmente pelo menos um dos resíduos R1, R2, R5 ou R6, mais preferencialmente, pelo menos um dos resíduos R1 ou R2 seja um resíduo orgânico W1, em que o resíduo orgânico W1, respectivamente, independentemente um do outro, represente um resíduo com a fórmula geral (2) a (6):
* - [(C(D)(E))d - B]a - (C(D)(E))m - X(2) * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - X(3) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - X(4) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(5) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(6)
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14/114 [0047] em que o resíduo A, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a), preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10a), preferencialmente, oxigênio:
*C
Figure BR112019019324A2_D0011
(10a) (11a) [0048] em que *pH denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11 a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), [0049] em que o resíduo B, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (14), preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10), mais preferencialmente oxigênio:
Figure BR112019019324A2_D0012
(10) (11) (12) (13) (14) [0050] e em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a), R(12a), R(13a), R(14a) e R(14b) respectivamente independentemente uns dos outros, representam metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo que consiste em halogênio, amino, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos OH, halogenoalquil que pode ser linear ou
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15/114 ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos de halogênio, e suas combinações, preferencialmente cloro, bromo, flúor, metilo, etil, npropil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, dihidrogênio fosfato, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, e [0051] em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos de OH, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L-R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-X, um resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-X, ou um resíduo com a fórmula *-(CH2)s-L-(CH2)t-X, em que o resíduo L, respectivamente, independentemente um do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll) respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos com um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, os índices q, s e t, respectivamente, independentemente uns dos outros representando um número inteiro de 1 a 5, [0052] em que os índices a, c, f, g e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, preferencialmente de 1 a 4, e
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16/114 [0053] em que os índices b, d e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, preferencialmente 2 a 4, [0054] em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído, e [0055] em que o resíduo X, respectivamente, independentemente um do outro é um grupo funcional reativo denotado por *-N(R(VI))(R(VII)), *-OH, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[OSi(R(X))(R(XI))]p-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
Figure BR112019019324A2_D0013
Figure BR112019019324A2_D0014
Figure BR112019019324A2_D0015
(23) (24) [0056] em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), pj(23a), p(24a), p(24b) θ r(24c) respec|jvamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil ou n-pentil, preferencialmente hidrogênio, metil ou etil, e em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 4, em que o resíduos R(VI), R(vh), R(VIII), R(IX), R(X) e R(XI) respectivamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil
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17/114 e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, isopropil, metoxi, etoxi, e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro, representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, preferencialmente halogênio ou hidroxil e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4, e (b) pelo menos um componente polimérico endurecido, [0057] em que o pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1) é covalentemente e/ou eletrostaticamente ligado, preferivelmente covalentemente, ao pelo menos um componente polimérico endurecido.
[0058] As modalidades preferenciais do artigo de acordo com a invenção são definidas nas reivindicações 16 a 17.
[0059] O objetivo da presente invenção é também alcançado por meio da provisão de um uso, conforme reivindicado na reivindicação 18, em que uma composição fotossensibilizante, conforme reivindicada em uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 14, e/ou de um composto de fenalen-
1-ona, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8 e/ou de um artigo, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 15 a 17, é usado para a inativação, preferencialmente para a inativação fotodinâmica de microrganismos que são preferencialmente selecionados dentre o grupo que consiste em vírus, arqueia, bactérias, esporos bacterianos, fungos, esporos fúngicos, protozoários, algas e parasitas transmitidos pelo sangue, e/ou uma biopelícula do mesmo.
[0060] As modalidades preferenciais do uso de acordo com a invenção são providas nas reivindicações 19 a 20.
[0061] O termo biopelícula deve preferivelmente ser entendido
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18/114 como uma matriz formada a partir de substâncias poiiméricas extracelu lares (EPS), que são preferencialmente formadas por microrganismos e que são dadas por eles em seu ambiente imediato adjacente às células, em que os microrganismos, preferencialmente bactérias, algas, fungos, protozoários ou combinações dos mesmos, são pelo menos parcialmente dispostos ou incorporados.
[0062] O objetivo da presente invenção é também alcançado por meio da provisão de um método para a inativação, preferencialmente para a inativação fotodinâmica, de microrganismos que, preferencialmente, compreendem vírus, arqueia, bactéria, esporos bacterianos, fungos, esporos fúngicos, protozoários, algas, parasitas transmitidas pelo sangue ou combinações dos mesmos e/ou uma biopelícula dos mesmos, conforme reivindicado na reivindicação 21, em que o método compreende as seguintes etapas:
(A) colocar os microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos em contato com pelo menos um revestimento que tenha sido produzido através do endurecimento de uma composição fotossensibilizante, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 14 e/ou que contenha pelo menos um composto de fenalen-1-ona conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8, e/ou pelo menos um artigo conforme reivindicado em uma das reivindicações de 15 a 17, e (B) irradiar os microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos e o pelo menos um composto de fenalen-1-ona contido no revestimento e/ou o artigo com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e densidade de energia adequados.
[0063] O termo endurecimento ou configuração deve preferivelmente ser entendido como a transição de um estado deformável líquido ou plástico em um estado sólido sob condições padrão (temperatura: 25 °C, pressão: 1013 mbar) para uma substância ou uma mistura de substâncias.
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19/114 [0064] O processo de endurecimento ou configuração pode preferencialmente ser realizado por resfriamento, ou seja, reduzindo a temperatura abaixo do ponto de congelamento e/outemperaturade transição de vidro de a substância ou mistura de substâncias, secagemfísica, ou seja, removendo pelo menos um componente líquido, por exemplo, um solvente, e/ou por reação química , por exemplo, por polimerização em cadeia, poliadição e/ou policondensação.
[0065] O termo componente polimérico e/ou precursor do mesmo deve preferencialmente ser entendido como uma substância ou mistura de substâncias que compreendem pelo menos um, preferencialmente orgânico, polímero e/ou pelo menos um precursor do mesmo.
[0066] O termo polímero deve preferencialmente ser entendido como uma substância que é preferencialmente construída a partir de pelo menos 10 unidades estruturais, o que são conhecidos como unidades de repetição constitucional, que podem ser idênticas ou diferentes uns dos outros e que formam pelo menos um polímero orgânico por meio de uma reação química, preferencialmente polimerização em cadeia, poliadição e/ou policondensação. Preferencialmente, uma unidade de repetição constitucional (CRU) é o menor grupo repetitivo de átomos dentro de um polímero.
[0067] Um polímero no contexto da invenção pode ser não ramificado ou ramificado.
[0068] O termo precursor de um componente polimérico deve, preferencialmente, ser entendido como monômeros ou misturas de monômeros, bem como oligômeros e suas misturas, que podem, respectivamente, combinar para formar o polímero não ramificado ou ramificado correspondente, preferencialmente por reação química, mais preferencialmente por polimerização de cadeira, poliadição e/ou policondensação.
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20/114 [0069] O termo grupo funcional reativo deve preferencialmente ser entendido como um grupo funcional que pode contribuir para a formação do polímero não ramificado ou ramificado correspondente por reação química, mais preferencialmente por polimerização de cadeia, poliadição e/ou policondensação.
[0070] No contexto da invenção, monômeros ou misturas de monômeros são preferencialmente peso molecular baixo, moléculas reativas ou misturas de moléculas reativas que, respectivamente, pode combinar para formar o polímero não ramificado ou ramificado correspondente por reação química, mais preferencialmente por polimerização em cadeia, poliadição e/ou policondensação e, assim, formar a unidade de repetição constitucional do polímero. Preferencialmente, uma molécula reativa, por exemplo, um monômero, oligômero e, opcionalmente, polímero, compreende pelo menos um grupo funcional reativo.
[0071] O termo oligômero” deve, preferencialmente, ser entendido como uma substância que é preferencialmente construída de 2 a 9 unidades de repetição constitucionais que podem ser idênticas ou diferentes umas das outras, e que, preferencialmente, podem se combinar para formar um polímero não ramificado ou ramificado por reação química, mais preferencialmente por polimerização em cadeia, poliadição e/ou policondensação.
[0072] O termo componente polimérico endurecido deve, preferencialmente, ser entendido como uma substância polimérica ou uma mistura de substâncias poliméricas que está ou estão em um estado sólido sob condições padrão (temperatura: 25 °C, pressão: 1013 mbar) e que preferencialmente não é plasticamente deformável.
[0073] Em relação à definição dos termos citados acima, deve ser feita referência a Jenkins, A. D. et al.: Glossary of basic terms in polymer science (ILJPAC Recommendations 1996) (Pure Appl. Chem. 68 (12), 1996, páginas 2287 a 2311, doi: 10.1351/pad 99668122287).
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21/114 [0074] Preferencialmente, uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção é formada depois de endurecer uma composição de polímeroendurecida que contém pelo menos um composto com fórmula (1) usando de acordo com a invenção e/ou contém pelo menos um composto com fórmula (1a) de acordo com a invenção.
[0075] Em uma modalidade preferencial, mediante o endurecimento de uma composição inventiva fotossensibilizante, a pelo menos uma composição usada de acordo com a invenção com a fórmula (1) e/ou a pelo menos uma composição de acordo com a invenção com a fórmula (1a) é covalentemente e/ou eletrostaticamente ligada, preferivelmente covalentemente, na composição de polímero endurecido. Mais preferencialmente, mediante o endurecimento de uma composição fotossensibilizante inventiva, a pelo menos uma composição usada de acordo com a invenção com a fórmula (1) e/ou a pelo menos uma composição de acordo com a invenção com a fórmula (1a) é covalentemente e/ou eletrostaticamente ligada, preferencialmente covalentemente, ao pelo menos um componente polimérico endurecido.
[0076] Desta forma, o vazamento de pelo menos um composto com a fórmula (1) usado de acordo com a invenção e/ou do pelo menos um composto com a fórmula (1a) de acordo com a invenção formada a partir da composição fotossensibilizante endurecida é pelo menos parcialmente, prevenida preferencialmente completamente.
[0077] O composto com a fórmula (1) de acordo com a invenção e o composto com a fórmula (1a) de acordo com a invenção são, respectivamente, um 1 H-fenalen-1-ona derivado que também será descrito como tal abaixo.
[0078] Preferencialmente, uma composição usada de acordo com a invenção com a fórmula (1) e uma composição de acordo com a invenção com a fórmula (1a) compreende respectivamente nenhum átomo de nitrogênio neutro que possa ser protonado, por exemplo, como um
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22/114 resíduo de amino, resíduo de metilamino ou resíduo de dimetilamino e nenhum átomo de nitrogênio , preferencialmente quaternário, carregado positivamente, por exemplo, como um resíduo de piridin-1 -io-1 -il ou resíduo de trimetilamônio, assim como nenhum átomo de fósforo, preferivelmente quaternário, carregado positivamente, que seja diretamente ligado ao anel de fenaleno.
[0079] O termo direto conforme usado aqui deve ser entendido para significar que o átomo de nitrogênio e/ou o átomo de fósforo é/são ligados diretamente ao anel de fenaleno.
[0080] Os inventores observaram que quando o átomo de nitrogênio e/ou átomo de fósforo é/são ligados diretamente ao anel de fenaleno, o rendimento quântico de oxigênio singlete é substancialmente reduzido.
[0081] Um rendimento quântico de oxigênio singlete que é o mais alto possível é necessário para uma atividade antimicrobiana em terapia fotodinâmica ou na limpeza fotodinâmica ou descontaminação fotodinâmica de superfícies. No caso de uma disposição direta do átomo de nitrogênio e/ou átomo de fósforo no anel de fenaleno, a energia que é absorvida é emitida principalmente por efeitos de fluorescência, o que leva a uma redução significativa no rendimento quântico de oxigênio singlete.
[0082] Preferencialmente, um composto usado de acordo com a invenção com fórmula (1) e um composto de acordo com a invenção com fórmula (1a), respectivamente, não tem um grupo OH e/ou grupo OH desprotonado que é, respectivamente, diretamente ligado ao anel fenaleno.
[0083] O termo direto conforme usado aqui deve ser entendido para significar que grupo OH e/ou o grupo OH desprotonado é ligado diretamente ao anel de fenaleno.
[0084] Os inventores observaram que uma disposição direta de um grupo OH e/ou grupo OH desprotonado no anel de fenaleno conduz a uma deterioração significativa na fotoestabilidade do fotossensibilizador. Uma
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23/114 deterioração na fotoestabilidade conduz a uma descoloração mais rápida e, assim, a uma inativação mais rápida do fotossensibilizador mediante a irradiação com radiação eletromagnética de um comprimento de onda adequado.
[0085] Preferencialmente, o termo fotossensibilizador deve ser entendido como compostos que absorvem a radiação eletromagnética, preferencialmente luz visível, luz UV e/ou luz infravermelha, e, portanto, produzem espécies reativas de oxigênio (ROS), preferencialmente radicais livres e /ou oxigênio singlete, a partir de oxigênio triplete.
[0086] No contexto da invenção, um fotossensibilizador tem preferencialmente a fórmula geral (1) e/ou a fórmula geral (1a).
[0087] O termo descontaminação fotodinâmica deve, preferencialmente, ser entendido como a inativação induzida por luz de células ou microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos nas superfícies dos artigos.
[0088] O termo limpeza fotodinâmica deve, preferencialmente, ser entendido como a redução induzida pela luz do número de células ou microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos nas superfícies dos artigos.
[0089] O termo inativação no contexto da invenção deve ser entendido como a redução na viabilidade ou destruição de um microrganismo, preferencialmente a sua destruição. Uma inativação induzida por luz pode, por exemplo, ser determinada por uma redução no número de microrganismos após irradiação de uma quantidade inicial definida destes microrganismos na presença de pelo menos um composto de acordo com a invenção com fórmula (1a) e/ou pelo menos um composto usado de acordo com a invenção com a fórmula (1).
[0090] Preferencialmente, a redução na viabilidade ou a destruição de microrganismos de uma biopelícula, preferencialmente sua destruição, pode reduzir ou prevenir a liberação de substâncias poliméricos
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24/114 extracelulares que formam a matriz de uma biopelícula. Desta forma, preferencialmente, a formação de uma biopelícula é atrasada ou suprimida.
[0091] De acordo com a invenção, o termo redução de viabilidade deve ser entendido para significar que o número de microrganismos, por exemplo, em uma biopelícula, é reduzido em pelo menos 90,0%, preferencialmente pelo menos 95,0%, preferencialmente pelo menos 99,9%, mais preferencialmente em pelo menos 99,99%, mais preferencialmente em pelo menos 99,999%, mas mais preferencialmente em pelo menos 99,9999%. Mais preferencialmente, o número de microrganismos é reduzido em mais de 99,9% a 100%, preferencialmente por mais de 99,99% a 100%.
[0092] Preferencialmente, a redução no número de microrganismos é dada enquanto o fator de redução Iog10, de acordo com Boyce, J. M. e Pittet, D. (Guidelines for hand hygiene in healthcare settings. Recommendations of the Healthcare Infection Control Practices Advisory Committee and the HIPAC/SHEA/APIC/IDSA Hand Hygiene Task Force, Am. J. Infect. Control 30 (8), 2002, página 1 - 46).
[0093] De acordo com a invenção, o termo fator de redução log10 significa a diferença entre o logaritmo para basear dez do número de microrganismos antes e o logaritmo para basear dez do número de microrganismos após irradiar estes microrganismos com radiação eletromagnética na presença de pelo menos um composto de acordo com a invenção com a fórmula (1a) e/ ou pelo menos um composto usado de acordo com a invenção com a fórmula (1). Como, por exemplo, os microrganismos pomde estar contidos em uma biopelícula.
[0094] Exemplos de métodos adequados para determinar os fatores de redução log10 são descritos na norma DIN EN 14885:2007-01 Chemische Desinfektionsmittel e Antiseptika - Anwendung Europãischer Normen für Chemische Desinfektionsmittel and Antiseptika [Desinfetantes e antissépticos químicos - a aplicação de normas europeias para
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25/114 desinfetantes e antissépticos químicos] ou em Rabenau, H. F. e Schwebke,
I. (“Leitlinie der Deutschen Vereinigung zur Bekãmpfung der Viruskrankheiten (DVV) e. V. and der Robert Koch-lnstituts (RKI) zur Prüfung von chemischen Desinfektionsmitteln auf Wirksamkeit gegen Viren in der Humanmedizin” [Diretrizes da associação alemã para o controle de doenças virais (DVV) e o Robert-Koch Institute (RKI) para testar produtos químicos desinfetantes para a atividade antiviral na medicina humana] Bundesgesundheitsblatt, Gesundheitsforschung, Gesundheitsschutz 51 (8), (2008), páginas 937 - 945).
[0095] Preferivelmente, o fator de redução log10 após irradiar microrganismos e/ou uma biopelícula da mesma com radiação eletromagnética na presença de pelo menos um composto de acordo com a invenção com a fórmula (1a) e/ou pelo menos um composto usado de acordo com a invenção com a fórmula (1) é pelo menos 1 log10, preferencialmente pelo menos 2 log10, preferencialmente pelo menos 3 log-io, mais preferencialmente, pelo menos 4 log10, mais preferencialmente pelo menos 4,5 log10, mais preferencialmente pelo menos 5 log10, mais preferencialmente pelo menos 6 log10, ainda mais preferencialmente pelo menos 7 log 10.
[0096] Como exemplo, uma redução no número de microrganismos após irradiar esses microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos com radiação eletromagnética na presença de pelo menos um composto de acordo com a invenção com a fórmula (1a) e/ou pelo menos um composto usado de acordo com a invenção com a fórmula (1) é de aproximadamente 2 potências de dez, em relação à quantidade inicial desses microrganismos, ou seja, um fator de redução log10 de 2 log10.
[0097] Mais preferivelmente, o número de microrganismos após irradiar esses microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos com radiação eletromagnética na presença de pelo menos um composto de acordo com a invenção com a fórmula (1a) e/ou em pelo menos um
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26/114 composto usado de acordo com a invenção com a fórmula (1) é reduzido em pelo menos 1 potência de dez, mais preferencialmente por pelo menos 2 potências de dez, preferencialmente por pelo menos 4 potências de dez, mais preferencialmente por pelo menos 5 potências de dez, mais preferencialmente por pelo menos 6 potências de dez, contudo mais preferencialmente por pelo menos 7 potências de dez, respectivamente com respeito à quantidade inicial destes microrganismos.
[0098] O termo microrganismos, como usado no contexto da invenção deve, particularmente, ser entendido como vírus, arqueia, ou microrganismos procarióticos, tais como fungos, protozoários, esporos fúngicos, algas unicelulares. Os microrganismos podem, a este respeito, ser unicelulares ou multicelulares, por exemplo, como um micélio fúngico.
[0099] De acordo com a invenção, o termo halogênio deve ser entendido como, respectivamente, independentemente uns dos outros, flúor, cloro, bromo ou iodo. De acordo com a invenção, o termo haleto deve ser compreendido como, respectivamente, independentemente um do outro, fluoreto, cloreto, brometo ou iodeto.
[00100] A menos que seja afirmado o contrário, os centros quirais podem estar na configuração R- ou na S-. A invenção diz respeito tanto aos compostos opticamente puros bem como às misturas estereoisoméricas, tais como misturas enantioméricas e misturas diastereoisoméricas em qualquer proporção.
[00101] Preferencialmente, a invenção também diz respeito a mesômeros e/ou tautômeros do composto com a fórmula (1) e/ou com a fórmula (1a), tanto os compostos puros como também as misturas isoméricas em qualquer proporção.
[00102] A menos que indicado de outra forma, um em uma fórmula designa uma ligação entre dois resíduos.
[00103] Uma composição fotossensibilizante da invenção, de preferência endurecível, compreende:
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27/114 (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona para uso de acordo com a invenção com a fórmula geral (1):
R1
Figure BR112019019324A2_D0016
(1) e
(b) pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
[00104] Um composto de fenalen-1-ona para uso de acordo com a invenção possui a fórmula geral (1), em que os resíduos R1 a R8, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, preferencialmente, 2 a 9 átomos de C, alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente, 6 a 9 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente, 6 a 9 átomos de C, *-O-alquil contendo 1 a 12 átomos de C, preferencialmente 2 a 9 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente, 6 a 9 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente, 6 a 9 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb), ou um resíduo orgânico W1 que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1 a R7, preferencialmente pelo menos um dos resíduos R1, R2, R5 ou R6, mais preferencialmente, pelo menos um dos resíduos R1 ou R2, preferencialmente um dos resíduos de R1 ou R2, seja um resíduo orgânico W1, em que o resíduo orgânico W1, respectivamente, independentemente um do outro, represente um resíduo com a fórmula geral (2) a (6):
* - [(C(D)(E))d - B]a - (C(D)(E))m - X (2)
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28/114 * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - X(3) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - X(4) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(5) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(6) [00105] em que o resíduo A, respectivamente, independentemente urn do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a), preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a), mais preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10a), mais preferencialmente, oxigênio:
*c
Figure BR112019019324A2_D0017
(10a) (11a) [00106] em que *pH denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11 a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), [00107] em que o resíduo B, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (14); preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (14), mais preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10):
*
Figure BR112019019324A2_D0018
(10) (11) (12) (13) (14) [00108] em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a), R(12a), R(13a), R(14a) e
R(14b), respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil,
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29/114 fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo que consiste em halogênio, amino, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos OH, halogenoalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos de halogênio, e suas combinações, preferencialmente cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, dihidrogênio fosfato, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação destes, e [00109] em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos de OH, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L-R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-X, um resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-X, ou um resíduo com a fórmula *-(CH2)s-L-(CH2)t-X, em que o resíduo L, respectivamente, independentemente um do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll) respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos com um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor,
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30/114 metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, os indices q, s e t, respectivamente, independentemente uns dos outros representando um número inteiro de 1 a 5, [00110] em que os índices a, c, f, g e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, preferencialmente de 1 a 4, [00111] e em que os índices b, d e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, preferencialmente de 2 a 4, [00112] em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído, e [00113] em que o resíduo X, respectivamente, independentemente um do outro é um grupo funcional reativo denotado por *-N(R(VI))(R(VII)), *-OH, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[OSi(R(X))(R(XI))]p-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
Figure BR112019019324A2_D0019
(23) (24) [00114] em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), pj(23a), p(24a), p(24b) θ r(24c) reSpectjvamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil ou n-pentil, preferencialmente hidrogênio, metil ou etil, e
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31/114 em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 4, em que o resíduos R(VI), R(vh), R(VIII), R(IX), R(X) e R(XI) respectivamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, isopropil, metoxi, etoxi, e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro, representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4 [00115] Preferencialmente, pelo menos um dos resíduos R1 a R7, mais preferencialmente pelo menos um dos resíduos R1, R2, R5 ou R6, mais preferencialmente pelo menos um dos resíduos R1 ou R2, preferencialmente um dos resíduos R1 ou R2, do pelo menos um composto de fenalen-1-ona a ser usado de acordo com a invenção com a fórmula geral (1), respectivamente, independentemente um do outro representa um resíduo orgânico W1, em que pelo menos um resíduo orgânico W1, respectivamente, independentemente um do outro representa um resíduo com a fórmula geral (2) para (6) e em que o resíduo de Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um resíduo de fenil não substituído ou substituído, um resíduo de piridina não substituído ou substituído, um resíduo de bifenil não substituído ou substituído, um resíduo de difenilpropil não substituído ou substituído ou resíduo de bisfenilsulfonil não substituído ou substituído, preferencialmente um resíduo com a fórmula geral (25a) a (31), mais preferencialmente um resíduo com a fórmula geral (25a) a (28b):
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Figure BR112019019324A2_D0020
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Figure BR112019019324A2_D0021
Figure BR112019019324A2_D0022
(30) (31) [00116] em que os resíduos R25, R26, R27, R28, R29, R26a, R26b, R27a, R27b, R28a, R28b, R29a, R29b, R30a e R30b respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, hidroxi, amina, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil respectivamente independentemente um do outro podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e combinações dos mesmos, e em que o resíduo R30 respectivamente independentemente um do outro representa o hidrogênio ou o alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, e em que os resíduos R33a e R33b respectivamente independentemente um do outro representam hidrogênio, hidroxi, amina, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, perfluoralquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil, benzil ou, quando tomados em conjunto, um
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34/114 cicloalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 4 a 9 átomos de carbono ou um resíduo de 9H-fluoren-9-ilideno, e [00117] em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, fosfato de dihidrogênio, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação dos mesmos.
[00118] Preferencialmente, pelo menos um dos resíduos R1 a R7, mais preferencialmente pelo menos um dos resíduos R1, R2, R5 ou R6, mais preferencialmente pelo menos um dos resíduos R1 ou R2, preferencialmente um dos resíduos R1 ou R2, do pelo menos um composto de fenalen-1-ona a ser usado de acordo com a invenção com a fórmula geral (1), respectivamente, independentemente é um resíduo orgânico W1, em que pelo menos um resíduo orgânico W1, respectivamente, independentemente um do outro representa um resíduo com a fórmula geral (40) a (67) ou (72) a (98e) preferencialmente um resíduo com a fórmula geral (40) a (67) ou (72) ou (97):
Figure BR112019019324A2_D0023
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Figure BR112019019324A2_D0024
Figure BR112019019324A2_D0025
Figure BR112019019324A2_D0026
Figure BR112019019324A2_D0027
(57) (58) (59)
Figure BR112019019324A2_D0028
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Figure BR112019019324A2_D0030
(90) (91) (92) (93)
Figure BR112019019324A2_D0031
(98d) (98e) [00119] em que V é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, fosfato de dihidrogênio, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação dos mesmos.
[00120] Mais preferencialmente, o pelo menos um composto de fenalen-1-ona para uso de acordo com a invenção com a fórmula geral (1) é selecionado, respectivamente, independentemente do grupo constituído por
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38/114 compostos com fórmula (100) a (127), (132) a (166) e combinações dos mesmos, preferencialmente de compostos com fórmula (100) a (127), (132) a (161) e suas combinações:
Figure BR112019019324A2_D0032
(100)
Figure BR112019019324A2_D0033
Figure BR112019019324A2_D0034
Figure BR112019019324A2_D0035
Figure BR112019019324A2_D0036
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40/114
Figure BR112019019324A2_D0038
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Ο
Figure BR112019019324A2_D0039
(138)
Figure BR112019019324A2_D0040
Figure BR112019019324A2_D0041
(140)
Figure BR112019019324A2_D0042
(141) (142) (143)
Figure BR112019019324A2_D0043
(144)
Figure BR112019019324A2_D0044
Figure BR112019019324A2_D0045
(146)
Figure BR112019019324A2_D0046
Figure BR112019019324A2_D0047
Figure BR112019019324A2_D0048
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Figure BR112019019324A2_D0050
Figure BR112019019324A2_D0051
Figure BR112019019324A2_D0052
Figure BR112019019324A2_D0053
Figure BR112019019324A2_D0054
[00121] Mais preferencialmente, uma composição fotossensibilizante, de acordo com a invenção, compreende (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona de acordo com a invenção com a fórmula geral (1a), e (b) pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
[00122] Um composto de fenalen-1-ona da invenção tem a fórmula geral (1a):
Figure BR112019019324A2_D0055
(1a) [00123] em que os resíduos R1a a R8a, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, preferencialmente 2 a 9 átomos de C, alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente 6 a 9 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente 6 a 9 átomos de C, *-O
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44/114 alquil contendo 1 a 12 átomos de C, preferencialmente 2 a 9 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente 6 a 9 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, preferencialmente 6 a 9 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb) ou urn resíduo orgânico W1a que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1a ou R2a, preferencialmente um dos resíduos R1a ou R2a, é um resíduo orgânico W1a, em que o resíduo orgânico W1a, respectivamente, independentemente um do outro, representa um resíduo com a fórmula geral (2a) a (6a):
* - [(C(D)(E))d - B]e - (C(D)(E))m - Xa(2a) * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - Xa(3a) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - Xa(4a) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - Xa(5a) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - Xa(6a) [00124] em que o resíduo A, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a), preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula geral (10a), mais preferencialmente, oxigênio:
*C o y1 I °\*Ph °x*ph (10a) (11a) [00125] e em que *pH denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11 a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), [00126] em que o resíduo B, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (12); preferencialmente oxigênio ou um
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45/114 resíduo com a fórmula (10) ou (11), mais preferencialmente oxigênio ou um resíduo com a fórmula (10):
*
Figure BR112019019324A2_D0056
(10) (11) (12) [00127] e em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a) e R(12a) respectivamente independentemente uns dos outros representam metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que o fenil e o benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, npropil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, e [00128] em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos de OH, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L-R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-X, um resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-X, ou um resíduo com a fórmula *-(CH2)s-L-(CH2)t-X, em que o resíduo L, respectivamente, independentemente um do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll) respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos com um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, os índices
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46/114 q, s e t, respectivamente, independentemente uns dos outros representando um número inteiro de 1 a 5, [00129] em que os índices c, g, f e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, preferencialmente de 1 a 4, [00130] e em que os índices b, d, e e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, preferencialmente de 2 a 4, [00131] em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído que não contém átomos de N, e [00132] em que o resíduo Xa, respectivamente, independentemente um do outro é um grupo funcional reativo denotado por *-OH, *-SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[O-Si(R(X))(R(XI))]p-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
Figure BR112019019324A2_D0057
(23) (24) [00133] em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), R(23a), p(24a), p(24b) θ r(24c) respec|jvamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil ou n-pentil, preferencialmente hidrogênio, metil ou etil, e em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos
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47/114 outros representam um número inteiro de 0 a 4, em que o resíduos R(VIII), R(IX), R(X) and R(XI) respectivamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro, representa halogênio ou hidroxil e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4.
[00134] Preferencialmente, pelo menos um dos resíduos R1a ou R2a do composto de fenalen-1-ona da invenção com a fórmula geral (1a), respectivamente, independentemente um do outro é pelo menos um resíduo orgânico W1a, em que pelo menos um resíduo orgânico W1a, respectivamente, independentemente um do outro representa um resíduo com a fórmula geral (2a) a (6a) e em que o resíduo de Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um resíduo de fenil não substituído ou substituído, um resíduo de bifenil não substituído ou substituído, um resíduo de difenilpropil não substituído ou substituído ou resíduo de bisfenilsulfonil não substituído ou substituído, preferencialmente um resíduo com a fórmula geral (25a) a (25c), (29a) a (29c), (30) ou (31) preferencialmente um resíduo com a fórmula geral (25a) a (25c):
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Figure BR112019019324A2_D0060
(30) (31) [00135] em que os resíduos R25, R26, R27, R28, R29, R26a, R26b, R27a, R27b, R28a, R28b, R29a, R29b, R30a e R30b respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, hidroxi, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, perfluoralquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil respectivamente independentemente um do outro podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e combinações dos mesmos, e em que os resíduos R33a e R33b respectivamente independentemente um do outro representam hidrogênio, hidroxi, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, perfluoralquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil, benzil ou, quando tomados em conjunto, um cicloalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 4 a 9 átomos de carbono ou um resíduo de 9H-fluoren-9-ilideno.
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49/114 [00136] Mais preferivelmente, o pelo menos um resíduo orgânico W1a do composto de fenalen-1-ona da invenção com a fórmula geral (1a) é, respectivamente, independentemente um do outro, selecionado dentre do grupo que consiste nos resíduos com a fórmula geral (41) a (67), (98a) a (98e) e suas combinações, preferencialmente resíduos com a fórmula geral (41) a (67) e suas combinações:
Figure BR112019019324A2_D0061
(41) (42) (43)
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Figure BR112019019324A2_D0063
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(49) (50) (51) (52)
Figure BR112019019324A2_D0065
(53) (54) (55) (56)
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51/114 [00137] Mais preferencialmente, um composto de fenalen-1-ona de acordo com a invenção com a fórmula geral (1a) é selecionado dentre o grupo constituído por compostos com fórmula (101) a (127), (162) a (166) e combinações dos mesmos, preferencialmente de compostos com fórmula (101) a (127) e suas combinações:
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(101) (102)
Figure BR112019019324A2_D0068
Figure BR112019019324A2_D0069
(104)
Figure BR112019019324A2_D0070
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(106)
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(108)
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(125)
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Figure BR112019019324A2_D0081
[00138] Em uma modalidade preferencial, um composto fenalen1-ona com a fórmula geral (1) está presente como um sal, em que Y é um ânion, que, respectivamente, de forma independente uns dos outros, representa fluoreto, cloreto, brometo, iodeto, sulfato de hidrogênio sulfato, fosfato, fosfato de hidrogênio, di-fosfato de, pelo menos, um ânion
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54/114 carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos, um ânion sulfonato de ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C ou uma mistura dos mesmos.
[00139] Um exemplo de um ânion carboxilato adequado de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono é o acetato, oxalato, sucinato, tartarato ou de uma mistura dos mesmos.
[00140] Um exemplo de um ânion sulfonato adequado de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de carbono é o tosilato, mesilato ou uma mistura dos mesmos.
[00141] Em uma modalidade preferencial, uma composição de fotossensibilizante, conforme reivindicado em uma das reivindicações 1 a 4 compreende:
(a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1), que é um composto de fenalen-1-ona conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8, e (b) pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
[00142] Em uma modalidade preferencial, uma composição de fotossensibilizante de acordo com a invenção, preferencialmente endurecível é, pelo menos parcialmente, preferencialmente completamente transparente à radiação eletromagnética que tem um comprimento de onda no intervalo de 280 a 1000 nm, mais preferencialmente de 320 a 900 nm, ainda mais preferencialmente de 360 a 800 nm, ainda mais preferencialmente de 380 a 700 nm, após endurecimento da composição.
[00143] Preferencialmente, por meio da radiação eletromagnética que tem um comprimento de onda no intervalo de 280 a 1000 nm, mais preferencialmente de 320 a 900 nm, ainda mais preferencialmente de 360 a 800 nm, ainda mais preferencialmente de 360 a 800 nm, ainda mais preferencialmente de 380 a 700 nm, pelo o menos um composto fenalen-1ona para uso de acordo com a invenção com a fórmula geral (1) e/ou um
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55/114 composto fenalen-1-ona de acordo com a invenção com a fórmula geral (1a) contido na composição é excitado.
[00144] O pelo menos um composto fenalen-1-ona excitado para uso de acordo com a invenção com a fórmula geral (1), preferencialmente com a fórmula (1a), pode causar a formação de espécies reativas de oxigênio (ROS), em que, por um lado, radicais, por exemplo, ânions superóxidos, peróxido de hidrogênio ou radicais hidroxila e/ou, por outro lado, oxigênio molecular excitado, por exemplo, oxigênio singlete, pode ser formado.
[00145] Como, após o endurecimento, uma composição de fotossensibilizante de acordo com a invenção é pelo menos parcialmente, preferencialmente completamente transparente à radiação eletromagnética que tem o comprimento de onda necessário para excitar um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1) para uso de acordo com a invenção e/ou um composto de fenalen-1-ona de acordo com a invenção com a fórmula geral (1a), a radiação eletromagnética incidente é apenas parcialmente e, preferencialmente não atenuado, pois isso levaria a uma redução significativa no rendimento quântico de oxigênio singlete.
[00146] Um rendimento quântico de oxigênio singlete que é o mais alto possível é necessário para uma atividade antimicrobiana durante a inativação fotodinâmica de microorganismos nas superfícies.
[00147] Mais preferencialmente, uma composição de fotossensibilizante, de acordo com a invenção, é pelo menos parcialmente permeável ao oxigênio após o endurecimento.
[00148] Preferencialmente, após o endurecimento, a composição do fotossensibilizante de acordo com a invenção é pelo menos parcialmente permeável ao oxigênio molecular (O2), que se difunde na composição do fotossensibilizante endurecida e também ao oxigênio singlete que é formado, preferencialmente após irradiação do pelo menos um composto fenalen-1ona com a fórmula geral (1), mais preferencialmente pelo menos um
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56/114 composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a), com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e densidade de energia adequados.
[00149] Os inventores observaram que, usando pelo menos um composto fenalen-1-ono com a fórmula geral (1), mais preferencialmente pelo menos um composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a), em uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção, após o endurecimento da composição fotossensibilizante, é possível fornecer uma superfície que, após irradiação com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e densidade de energia adequados, preferencialmente na presença de oxigênio e/ou um composto liberador de oxigênio, para inativar de forma confiável microorganismos aderentes à superfície.
[00150] Os inventores observaram adicionalmente que, ao usar pelo menos um composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1), preferencialmente pelo menos um composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a), em uma composição fotossensibilizante, de acordo com a invenção, após o endurecimento da composição fotossensibilizante, é possível fornecer uma superfície que, mesmo após uma irradiação mais longa com radiação eletromagnética de comprimento de onda e densidade de energia adequados, exiba essencialmente nenhuma, preferencialmente nenhuma diminuição na atividade fotodinâmica da superfície e microrganismos aderentes à superfície sejam inativados de maneira confiável.
[00151] Uma composição fotossensibilizante, de acordo com a invenção, compreende pelo menos um componente polimérico e/ou um precursor do mesmo, em que o pelo menos um componente polimérico e/ou um precursor do mesmo é selecionado a partir do grupo que consiste em polímeros e/ou copolímeros de ácido acrílico e seus ésteres, ácido metacrílico e seus ésteres, ácido cianoacrílico e seus ésteres, acrilamida, metacrilamida,
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57/114 estireno, siloxanos e seus ésteres, melamina, acrilonitrila, 1,3-butadieno, epicloridrina, poiióis, poliisoprenos, poliéteres, polieterimidas, polivinil acetates, policarbonatos, poliéter sulfonas, carboxi metilcelu lose, alginate e suas combinações.
[00152] Preferencialmente, o dito pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo é um pré-polímero e/ou monômero, mais preferencialmente uma resina. Preferencialmente, o dito pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo é uma resina de poliuretano, uma resina epóxi, uma resina de silicone ou silicone, uma resina poliacrílica, resina polimetacrílica, uma resina melamina-formaldeído, resina fenol-formaldeído, uma resina ABS (acrilonitrila, 1,3-butadieno, estireno), uma resina alquídica, uma resina de poliéster, uma resina alquídica, uma resina de poliamida, uma resina de borracha fluorada, uma resina de éster de vinil ou uma combinação destes. Preferencialmente, dito pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo pode estar presente como uma resina de 1 componente (1C) ou como uma resina de 2 componentes (2C).
[00153] Mais preferencialmente, uma composição fotossensibilizante, de acordo com a invenção, compreende pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo e pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1), preferencialmente pelo menos um composto fenalen-1-ona composto com a fórmula geral (1a), em que, preferencialmente, o resíduo X do pelo menos um composto fenalen-1ona com a fórmula geral (1), preferencialmente pelo menos um composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a), pode ser coordenado com pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
[00154] Exemplos de combinações preferenciais de pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo e pelo menos um resíduo X do pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1) são como segue:
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58/114 pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo:
resina de poliuretano resina epóxi resíduo X:
-OH, -N(R(VI))(R(VII)),
-OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20), (22) ou (24), resina de silicone resina poliacrílica resina polimetacrílica resina de poliacrilamida resina melamina-formaldeído resina fenol-formaldeído resina ABS (acrilonitrila 1,3butadieno, estireno) resina alquílica resina de poliéster resina de poliacrilamida
-Si(R(VIII))(R(IX))-[OSi(R(X))(R(XI))]p-Z, um resíduo com a fórmula geral (20) e (22), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23),
-OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) ou (22), -OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) ou (22), -OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) ou (22), -OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), -OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), -OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23),
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59/114 resina de borracha de flúor -OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) ou (22), resina de éster vinílico um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), [00155] Exemplos de combinações preferenciais de pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo e pelo menos um resíduo X a do pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a) são como segue:
pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo:
resina de poliuretano resina epóxi resina de silicone resina poliacrílica resina poliametacrílica resina de poliacrilamida resina melamina-formaldeído resina fenol-formaldeído resina ABS (acrilonitrila -, 1,3butadieno, estireno) resíduo Xa:
-OH,
-OH, um resíduo com a fórmula geral (20), (22) ou (24),
-Si(R(VIII))(R(IX))-[OSi(R(X))(R(XI))]p-Z, um resíduo com a fórmula geral (20) e (22), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23),
-OH, um resíduo com a fórmula geral (20) ou (22)
-OH, um resíduo com a fórmula geral (20) ou (22)
OH, um resíduo com a fórmula geral (20) a (23),
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60/114 resina de poliéster
OH, um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), resina alquílica
-OH, -N(R(VI))(R(VII)), um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), resina de poliacrilamida
OH, um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), resina de borracha de flúor resina de éster vinílico
-OH, um resíduo com a fórmula geral (20) ou (22) um resíduo com a fórmula geral (20) a (23), [00156] Após o endurecimento da composição fotossensibilizante, é possível fornecer uma composição inventiva fotossensibilizante com uma superfície que, mesmo após longa irradiação com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e densidade de energia adequados, exibe essencialmente nenhuma e, preferencialmente, nenhuma diminuição na atividade fotodinâmica da superfície, e microrganismos que aderem à superfície são inativados de maneira confiável.
[00157] Uma composição fotossensibilizante compreende pelo menos um agente de reticulação, por exemplo, que contém pelo menos um poliisocianato, um isocianato bloqueado, pelo menos um diisocianato de alquila ou diisocianato de cicloalquila ou diisocianato de arila, pelo menos um composto com a fórmula geral SiZ4, (Rxll)SiZ3, (Rxll)2SiZ2, um composto contendo pelo menos dois resíduos de epóxi, um composto contendo pelo menos dois resíduos de acrilamida, um composto contendo pelo menos dois resíduos de acrilato, um composto contendo pelo menos dois resíduos de aldeído, um composto contendo pelo menos dois grupos alcoólicos, um composto contendo pelo menos dois resíduos de amina, um divinilsulfona e suas combinações, em que o resíduo Rx respectivamente independentemente um do outro representa alquil que pode ser linear ou
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61/114 ramificada, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, preferencialmente metil, etil, n-propil, iso-propil, fenil ou benzil, e em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, preferencialmente halogênio ou hidroxil.
[00158] Exemplos de compostos adequados contendo pelo menos dois grupos álcool são bisfenóis, por exemplo, os bisfenóis bisfenol A, bisfenol AF, bisfenol AP, bisfenol AP, bisfenol B, bisfenol BP, bisfenol C, bisfenol E, bisfenol F, bisfenol FL, bisfenol G, bisfenol M, bisfenol P, bisfenol PH, bisfenol S, bisfenol TMC, bisfenol Z e suas misturas, preferencialmente bisfenol A (CAS 80-05-7), bisfenol C (CAS 79-97-0), bisfenol F (CAS 620-92-8), bisfenol S (CAS 80-09-1), bisfenol Z (CAS 84355-0) e suas misturas.
[00159] Mais preferencialmente, uma composição fotossensibilizante, de acordo com a invenção compreende a pelo menos um composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1) preferencialmente com a fórmula (1a) que é covalentemente e/ou eletrostaticamente ligada, preferencialmente covalentemente, ao pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
[00160] Preferencialmente, uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção é uma tinta, um verniz, uma tinta de emulsão, uma tinta de látex, uma tinta de silicato ou uma tinta de giz.
[00161] Mais preferencialmente, uma composição fotossensibilizantes, de acordo com a invenção, é um granulado.
[00162] Mais preferencialmente, uma composição fotossensibilizantes, de acordo com a invenção está na forma de um revestimento, um filme autossustentável, um tecido ou um artigo moldado.
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62/114 [00163] Um artigo, de acordo com a invenção, compreende pelo menos uma composição de polímero endurecido, em que a composição de polímero endurecido compreende (a) pelo menos um dito composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1), pelo menos um composto de fenalen-1-ona como reivindicado em uma das reivindicações 5 a 8, ou uma combinação dos mesmos, mais preferencialmente pelo menos um dito composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a), e (b) pelo menos um dito composto polimérico endurecido, em que pelo menos um composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1), o pelo menos um composto de fenalen-1-ona como reivindicado em uma das reivindicações 5 a 8, ou uma combinação dos mesmos, mais preferencialmente o pelo menos um dito composto fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a), é ligado covalentemente e/ou eletrostaticamente, preferencialmente covalentemente, ao pelo menos um componente polimérico endurecido.
[00164] Preferencialmente, um artigo, de acordo com a invenção, é obtido por revestimento, por exemplo, por meio de pulverização, envernizamento, pintura e/ou mergulhando o artigo com uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção, que é, preferencialmente dispersável, pulverizável ou escoável à temperatura de aplicação, preferencialmente líquido e subsequente de secagem e/ou de endurecimento.
[00165] Como exemplo, um artigo, de acordo com a invenção, pode ser obtido por meio de laminação, cobertura, colagem com uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção, que é na forma de um tecido ou de um filme autossustentável.
[00166] Como exemplo, um artigo de acordo com a invenção pode ser obtido por meio de pulverização, fiação por sopro de fundido, extrusão ou outros processos conhecidos para moldar uma composição de
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63/114 fotossensibilizante de acordo com a invenção, que é preferencialmente espalhável, pulverizável ou escoável à temperatura de fabricação, preferencialmente líquido, e subsequente secagem e/ou endurecimento.
[00167] Mais preferencialmente, um artigo, de acordo com a invenção, compreende ou consiste em uma composição polimérica endurecida que compreende (a) pelo menos um composto fenalen-1-ona, de acordo com uma das reivindicações 5 a 8, e (b) pelo menos um componente polimérico endurecido que é mais preferencialmente na forma de um revestimento, um filme autossustentável, um tecido ou um artigo moldado, em que o pelo menos um composto de fenalen-1-ona como reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8 é ligado covalentemente e/ou eletrostaticamente, preferencialmente covalentemente, a pelo menos um componente polimérico endurecido.
[00168] O objetivo da presente invenção é adicionalmente alcançado por meio do uso de uma composição fotossensibilizante, conforme reivindicada em uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 14, e/ou de um composto de fenalen-1-ona, como reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8 e/ou de um artigo, como reivindicado em uma das reivindicações de 15 a 17, para a inativação, preferencialmente para a inativação fotodinâmica de microrganismos que são preferencialmente selecionados dentre o grupo que consiste em vírus, arquéia, bactérias, esporos bacterianos, fungos, esporos fúngicos, protozoários, algas e parasitas transmitidos pelo sangue, e/ou uma biopelícula do mesmo.
[00169] De preferência, uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção ou um composto fenalen-1-ona de acordo com a invenção é utilizado para a limpeza fotodinâmica da superfície e/ou revestimento da superfície de um artigo ou área.
[00170] Preferencialmente, uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção ou um composto de fenalen-1-ona de acordo
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64/114 com a invenção é utilizado para o revestimento de superfície de artigos, preferencialmente produtos médicos, embalagens de alimentos, têxteis, materiais de construção, dispositivos eletrônicos, móveis ou artigos de higiene.
[00171] Exemplos de outras aplicações são chupetas, bicos, tubos e conduítes, vidraças, superfícies de vidro e/ou azulejos em saunas e/ou banheiros, elementos de tela de toque, computadores pessoais (PC) e dispositivos periféricos, panos, lenços, superfícies de trabalho, superfícies de tratamento e preparação em clínicas e residências de idosos, equipamentos sanitários, aparelhos sanitários, peles para embutidos, recipientes para bebidas, louças ou recipientes para lixo.
[00172] Um método, de acordo com a invenção, para a inativação, preferencialmente para a inativação fotodinâmica, de microrganismos que, preferencialmente, compreendem vírus, arquéia, bactéria, esporos bacterianos, biopelículas de bactérias, fungos, esporos fúngicos, protozoários, algas, parasitas transmitidas pelo sangue ou combinações dos mesmos, e/ou uma biopelícula dos mesmos, compreende as seguintes etapas:
(A) colocar os microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos em contato com pelo menos um revestimento que tenha sido produzido através do endurecimento de uma composição fotossensibilizante, como reivindicado em uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 14 e/ou que contenha pelo menos um composto de fenalen-1-ona como reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8, e/ou pelo menos um artigo como reivindicado em uma das reivindicações de 15 a 17, e (B) irradiar os microrganismos e/ou uma biopelícula dos mesmos e o pelo menos um composto de fenalen-1-ona contido no revestimento e/ou o artigo com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e densidade de energia adequados.
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65/114 [00173] Como exemplo, artigos transparentes, claros ou translúcidos, como, por exemplo, bicos, chupetas, tubos ou semelhantes, podem ser produzidos utilizando uma composição fotossensibilizante de acordo com a invenção e limpos e/ou descontaminados com a ajuda do método de acordo com a invenção.
[00174] Mais preferencialmente, é tratado de artigos que têm uma durabilidade térmica limitada, por exemplo, artigos formados a partir de material termoplástico sintético, ou que são atacados por desinfetantes.
[00175] Os artigos que têm uma durabilidade térmica limitada, por exemplo, podem ser insuficientemente esterilizados, porque a temperaturas mais altas, perdem a forma ou se tomam quebradiços.
[00176] Adicionalmente, no caso de uso excessivo e/ou incorreto de desinfetantes, o acúmulo de resistência pode por meio da seleção de microrganismos mais robustos, se, por exemplo, a concentração da substância e o tempo de exposição, e portanto, a ação redutora de patógenos é muito baixa.
[00177] Em uma modalidade preferencial, os já mencionados resíduos de alquil contendo 1 a 12 átomos de carbono, mais preferencialmente 2 a 9 átomos de C, são respectivamente independentemente um do outro selecionados a partir do grupo que consiste em metil, etil, prop-1-il, prop-2-il, but-1-il, but-2-il, 2-metilprop-1 -il,
2-metil prop-2-il, pent-1-il, pent-2-il, pent-3-il, 2-metilbut-1 -il, 2-metilbut-2-il,
2- metilbut-3-il, 2-metilbut-4-il, 2,2-dimetilprop-1 -il, hex-1-il, hex-2-il, hex-3-il, hept-1-il, oct-1-il, 2-metilpent-1 -il, 2-metilpent-2-il, 2-metilpent-3-il, 2metilpent-4-il, 2-metilpent-5-il, 3-metilpent-1 -il, 3-metilpent-2-il, 3-metilpent-
3- il, 2,2-dimetilbut-1 -il, 2,2-dimetilbut-3-il, 2,2-dimetilbut-4-il, 2,3-dimetilbut-1 il e 2,3-dimetilbut-2-il, n-pentil, n-hexil, n-heptil e n-octil e suas combinações, mais preferencialmente de metil, etil, n-propil, n-butil, n-pentil, n-hexil, n-heptil e n-octil e combinações dos mesmos.
[00178] Em uma modalidade preferencial, os resíduos acima
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66/114 mencionados do *-O-alquil que contêm 1 a 12 átomos de C, preferencialmente 2 a 9 átomos de C, são respectivamente independentemente um do outro selecionados a partir do grupo que consiste em metóxi, etóxi, n-propóxi, do iso-propóxi, do n-butóxi, do tertbutóxi e das suas combinações.
[00179] Em uma modalidade preferencial, os resíduos acima mencionados 5 a 20 átomos de C, mais preferencialmente 6 a 9 átomos de C, são respectivamente independentemente um do outro selecionados a partir do grupo que consiste em fenil, naftil, antracenil, fenantrenil e pirenil.
[00180] Em uma modalidade preferencial, os resíduos * -O - aril acima mencionados contendo 5 a 20 átomos de C, mais preferencialmente 6 a 9 átomos de C, são respectivamente independentemente um do outro selecionados do grupo que consiste em * -O - fenil, * -O -Naftil, * -O antracenil e suas combinações.
[00181] Em uma modalidade preferencial, os resíduos alquilaril acima mencionados contendo 5 a 20 átomos de C, mais preferencialmente 6 a 9 átomos de C, são respectivamente independentemente um do outro selecionados a partir do grupo que consiste em benzil, 2-fenil-et-1 -il, 3-fenilet-1-il e suas combinações.
[00182] Em uma modalidade preferencial, os resíduos acima mencionados do *-O-alquilaril contendo 5 a 10 átomos de C, preferencialmente 6 a 9 átomos de C, são respectivamente independentemente um do outro selecionados a partir do grupo que consiste em metóxi-fenil, 1 -etóxi-2-fenil, 1 -propóxi-3-fenil e das suas combinações.
[00183] Em mais uma modalidade preferencial, os resíduos éter acima mencionados, respectivamente, independentemente um do outro, contêm 2 a 12 átomos de C, mais preferencialmente 3 a 9 átomos de C, mais preferencialmente 4 a 7 átomos de C. Em outra modalidade preferencial, os resíduos de éter acima mencionados, respectivamente,
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67/114 independentemente um do outro, são selecionados a partir do grupo que consiste em metoximetil, metoxietil, metoxi-n-propil, etoximetil, npropoximetil, 2-etoxietoximetil, 2- (2- etoxietoxi)etil, i-propoximetil, tercbutiloximetil, dioxa-3,6-heptil e benziloximetil. Em uma modalidade preferencial adicional, os resíduos éter acima mencionados podem ser resíduos éter simples, resíduos oligoéter, resíduos poliéter ou suas misturas.
[00184] A invenção será agora explicada por meio de figuras e exemplos, sem estar, de forma alguma, limitada a eles.
[00185] A Figura 1A mostra os resultados da redução logarítmica da contagem de S. aureus no Exemplo 3.1.
[00186] A Figura 1B mostra os resultados da redução logarítmica da contagem de S. aureus no Exemplo 3.2.
[00187] A Figura 2 mostra os resultados da redução logarítmica da contagem de S. aureus no Exemplo 3.3.
[00188] A Figura 3 mostra a redução logarítmica de S. aureus na superfície de silicone (A- significa 10 Shore sem corante, A+ significa 10 Shore mais corante, B- significa 45 Shore sem corante, B+ significa 45 Shore mais corante).
[00189] Todos os produtos químicos utilizados foram adquiridos a partir de fornecedores estabelecidos (Thermo Fisher Scientific, Polysciences Europe GmbH, Sigma Aldrich, TCI, ABCR, Acros, Merck e Fluka) e utilizados sem purificação adicional. Solventes foram destilados antes do uso e, se necessário, foram secos da maneira usual. O DMF seco foi adquirido a partir de Fluka (Taufkirchen, DE).
[00190] A cromatografia em camada fina foi realizada em uma folha de alumínio de camada fina revestida com silica gel 60 F254 de Merck (Darmstadt, DE). A cromatografia de camada fina preparativa foi realizada em placas de vidro comercialmente disponíveis revestidas com silica gel 60 (20 cm x 20 cm, Carl Roth GmbH & Co. KG, Karlsruhe, DE)). Os compostos
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68/114 foram detectados usando-se luz UV 1688 (λ = 254 nm, 333 nm) e algumas vezes detectados a olho nu ou corados com ninidrina. A cromatografia foi realizada usando silica gel (0,060 - 0,200) da Acros (Waltham, US).
[00191] Os espectros de NMR foram medidos em um espectrômetro Bruker Avance 300 (300 MHz [1H-NMR]) (Bruker Corporation, Billerica, EUA).
[00192] Todos os deslocamentos químicos são dados em δ [ppm] em relação a um padrão externo (tetrametilsilano, TMS). As constantes de acoplamento são dadas respectivamente em Hz; caracterização de sinais: s = singleto, d = dupleto, t = tripleto, m = multipleto, dd = dupleto de dupletos, br = largo. A integração determinou o número relativo de átomos. A determinação inequívoca dos sinais no espectro de carbono foi realizada usando o método DEPT (ângulo de pulso: 135°). Limites de erro: 0,01 ppm para 1H-NMR e 0,1 Hz para constantes de acoplamento. O solvente usado é registrado para cada espectro.
[00193] Os espectros de IR foram registrados em um espectrômetro Biorad Excalibur FTS 3000 (Bio-Rad Laboratories GmbH, Munich, DE).
[00194] Os espectros de ES-MS foram medidos usando um espectrômetro ThermoQuest Finnigan TSQ 7000, todos os espectros de HR-MS foram determinados em um espectrômetro ThermoQuest Finnigan MAT 95 (cada um da Thermo Fisher Scientific Inc, Waltham, EUA), e ο argônio foi usado como gás de ionização para FAB.
[00195] Os pontos de fusão foram determinados com o auxílio do instrumento de medição de ponto de fusão Büchi SMP-20 (Büchi Labortechnik GmbH, Essen, DE) utilizando um capilar de vidro.
[00196] Todos os espectros de UV/vis foram registrados usando um espectrômetro Varian Gary 50 bio UV/VIS, e os espectros de fluorescência foram registrados com um espectrômetro Varian Gary Eclipse (ambos da Agilent Technologies, Santa Clara, EUA).
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69/114 [00197] Os solventes para as medições de absorção e emissão foram adquiridos da Acros ou Baker ou Uvasol da Merck em graus espectroscópicos especiais. A água Millipore (18 ΜΩ, Milli QPIus) foi usada para todas as medições.
Exemplo 1: Produção dos derivados de fenalen-1-ona
Visão geral 1: Síntese dos derivados de fenalen-1-ona empregados
Figure BR112019019324A2_D0082
[00198] Condições: a) Piridina substituída, MeCN, 50 °C, 6h; b) Dimetilamina substituída, MeCN, RT, 24h; ç) NaOH 4N, água, tolueno, hidrogenossulfato de tetrabutilamônio, RT, 6h; d) Variação 1: ácido carboxílico como sal de sódio, Adogen® 464, tolueno, refluxo, 4h; Variação 2: ácido carboxílico, DMAP, DCC, THF, 0 °C -> RT, 4h; e) Álcool substituído, tolueno, NaOH 4N, hidrogenossulfato de tetrabutilamônio, RT, 6h ou fenol substituído, THF, PPh 3, DEAD, 0 °C-> RT, 6h; 0819 f) Cloreto de sililo substituído, DCM ou THF, trietilamina ou imidazol, 0 °C ->RT;
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Figure BR112019019324A2_D0083
Figure BR112019019324A2_D0084
[00199] Condições: q) Ácido carboxílico, THF, PPh3, DCC, 0°C RT, 4h ou cloreto de ácido carboxílico, DCM, trietilamina, 0°C RT, 3h;
h) Álcool substituído, DCM, PPh, DEAD, 0°C -> RT, 6h;
Figure BR112019019324A2_D0085
Figure BR112019019324A2_D0086
Figure BR112019019324A2_D0087
[00200] Condições: k) aminas Secundárias em metanol, 0°C RT, 6h; I) ácido Carboxílico cloreto, DCM ou THF, trietilamina, 0°C RT;
1. Produção de 2-clorometil-1 H-fenalen-1 -ona [00201 ] 2-clorometil-1 H-fenalen-1 -ona foi obtida usando o método descrito no Exemplo 1 de US 2014/039184 A1. O espectro de NMR 2014/039184 A1.
2. Especificação geral a):
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Piridina substitute 1, etc da em visão ipa a) MW [g/mol] geral Peso [mg] Fórmula Pr oduto Designação
2.1 4-piridina metanol (Sigma-Aldrich) Ra = *-CH2OH 109,13 270 o •OH SAPN-19a [composto (132)]
2.2 4-piridina etanol (Sigma-Aldrich) Ra = *-CH2CH2OH 123,16 310 Οχ> o \—/ ✓OH SAPN-19b [composto (134)]
2.3 4-piridina propan2-ol (Sigma-Aldrich) Ra = *-C(CH3)2OH 137,18 340 ci cr* Jx^.0 00 ‘OH SAPN-19C [composto (133)]
[00202] 2-clorometil-1 H-fenalen-1-ona (115 mg, 0,5 mmol) foi colocada em acetonitrila (6 ml). A piridina substituída dada acima (2,5 mmol) foi adicionada, respectivamente, lentamente, em pequena porções. A suspensão foi agitada durante 3 dias à temperatura ambiente no escuro.
[00203] Para a purificação, a suspensão foi dividida em dois tubos de polipropileno com bases cônicas (volume nominal de 15 ml, Greiner Bio-One GmbH, Frickenhausen, DE) e precipitada pela adição de éter dietílico até 15 ml por tubo. O produto foi centrifugado (60 minutos, 4400 rpm, 0 °C) e o sobrenadante foi descartado. O precipitado foi suspenso em éter dietílico. Depois que o produto sedimentou, em cada caso, o sobrenadante foi descartado. A etapa de purificação foi repetida mais uma vez e o produto foi então seco.
3. Especificação geral b):
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Dimetilamina substit 1, eta uída na vi< 3a b) MW [g/mol] são geral Peso [mg] ProdL Fórmula Jto Designação
3.1 N,N- dimetilalilamina (Sigma-Aldrich) Rb1 = 2-propen-1 -il Rb2, Rb3 = metil 85,16 170 cr 00 SAPN-35a [composto (135)]
3.2 1-N, Ndimetilamino-2propino (Sigma-Aldrich) Rb1 = 2-propen-1 -il Rb2, Rb3 = metil 85,13 166 A cr 00 SAPN-35a [composto (136)]
3.3 N- (4-vinilbenzil) -N, N-dimetilamina (Thermo Fisher Scientific) Rb1 = 4-vinilfen-1-II Rb2, Rb3 = metil 161,24 322 np Cl 00 SAPN-36 [composto (137)]
3.4 2-(N,Ndimetilamino) etil metacrilato (Sigma-Aldrich) b1 = et-1 -ilmetacrilato Rb2, Rb3 = metil 157,21 314 O A I cr 00 SAPN-37a [composto (138)]
3.5 N-[2-(N,N- dimetilamino)-etil]metacrilamida (Polysciences Europa GmbH) Rb1 = et-1-ilmetacrilamida Rb2, Rb3 = metil 156,22 312 o ΎΤ χ cr 00 SAPN-37b [composto (139)]
3.6 (N,N-dimetil-3aminopropil)trimetoxisilano (Sigma-Aldrich) Rb1 = 3- (trimetoxissilil) prop-1-ilo Rb2, Rb3 = metil 207,34 414 cr L ? -;N______ S< x 00 SA-PN-38 [composto (140)]
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3.71 1-N-Boc-etileno diamina (Sigma-Aldrich) Rb1 = 2-N-Boc-etilenoamin- 1-il Rb2, Rb3 = H 160,2 320 z I o O CO SA-PN-25Cboc
3.8 2-N-Boc-aminoetil1-N,N-dimetilamina Rb1 = 2-N-Boc-etilenoamin1-il Rb2, Rb3 = metil 198,2 396 b -ζΟz I o O CO SA-PN-25aboc
3.9 1,1-N,N-(2-N-Bocaminoetil)-Nmetilamina Rb1, Rb2 = 2-N-Bocetilenoamin-1-il Rb3 = metil 327,2 654 CO o O CO T o O-y?· OC SA-PN-34aboc
3.10 Rb1 = *-(CH2)2O(CH2)2OH Rb2, Rb3 = CH3 133,19 400 l + CF ___________OH dó SA-PN-11 [composto (142)]
3.11 I Rb1 = *(CH2)2O[(CH2)2O]2H Rb2, Rb3 = CH3 177,25 530 I O o \_/ SA-PN-12 [composto (143)]
3.12 N,N-dimetilaminoetanol Rb1 = *-(CH2)2OH Rb2, Rb3 = CH3 89,14 270 /~~\ o O SA-PN-09 [composto (141)]
00204] 2-clorometil-1 H-fenalen-1-ona (115 mg, 0,5 mmol) foi colocada em acetonitrila (6 ml). A dimetilamina substituída dada acima (2 mmol) foi adicionada, respectivamente, lentamente, em pequena porções. A suspensão foi agitada durante 48h à temperatura ambiente no escuro.
[00205] Para a purificação, a suspensão foi dividida em dois tubos de polipropileno com bases cônicas (volume nominal de 15 ml, Greiner Bio-One GmbH) e precipitada pela adição de éter dietílico até 15 ml por tubo. O produto foi centrifugado (60 minutos, 4400 rpm, 0 °C) e o sobrenadante foi descartado. O precipitado foi suspenso em éter dietílico.
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Depois que o produto sedimentou, em cada caso, o sobrenadante foi descartado. A etapa de purificação foi repetida mais uma vez e o produto foi então seco.
4. Especificação c): Produção de 2-hidroximetiI-1 H-fenalen-1 -ona
Designação: PNOH, composto (100)]
Figure BR112019019324A2_D0088
[00206] 2-clorometil-1 H-fenalen-1 -ona (230 mg, 1 mmol) foi dissolvido em 20 ml de tolueno. Hidróxido de sódio aquoso (4N, 5 ml) e o catalisador de transferência de fase hidrogenossulfato de tetrabutilamônio (100 mg) foram adicionados. A mistura de reação foi agitada vigorosamente durante 16h à temperatura ambiente. Foi formado um precipitado amarelomarrom. O precipitado foi filtrado e lavado com água (4 vezes, 20 ml), tolueno e éter de petróleo (respectivamente 1 vez, 20 ml). O produto foi seco ao ar até um peso constante.
5. Especificação geral d):
Ácido carboxílico em visão geral 1, etapa d) Produto
MW [g/mol] Peso [mg] Fórmula Designação
5.1 ácido acrílico (Sigma-Aldrich) Rd = *-CH=CH2 72,06 72 o PN-AMO-O7a [composto (110)]
5.2 ácido metacrílico (Sigma-Aldrich) Rd = *-C(CH3)=CH2 87,09 87 o PN-AMO-O7b [composto (112)]
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5.3 Ácido 4-vinilbenzóico (Sigma-Aldrich) Rd = 4-vinilfen-1 -il 148,16 148 1,0 ¢0 PN-AMO-08 [composto (107)]
Variação 1:
[00207] Os ácidos carboxílicos dados acima (1 mmol) foram respectivamente neutralizados com uma quantidade equimolar de hidróxido de sódio e o sal de sódio do ácido carboxílico obtido foi isolado por liofilização.
[00208] 2-clorometil-1 H-fenalen-1-ona (115 mg, 0,5 mmol) foi dissolvido em tolueno (3 ml). Adicionou-se o sal de sódio do ácido carboxílico dado acima, hidroquinona (11 mg, 0,1 mmol) e Adogen® 464 (200 mg) e a mistura de reação foi refluxada durante 4h com agitação vigorosa. Depois de arrefecer até à temperatura ambiente, foi diluído com tolueno (20 ml) e agitado com água (30 ml). A fase aquosa foi extraída duas vezes com éster etílico de ácido acético (20 ml). As fases orgânicas foram combinadas, lavadas com água (50 ml), separadas e secas sobre sulfato de magnésio.
[00209] Após filtração e concentração sob pressão reduzida, o produto bruto foi purificado por cromatografia flash (DCM/PE 2: 1).
Variação 2:
[00210] Composto de (100) (65 mg, de 0,3 mmol) foi dissolvido em THF seco (1 ml). O ácido carboxílico acima mencionado, hidroquinona (11 mg, 0,1 mmol), DMAP (61 mg, 0,5 mmol) e DCC (103 mg, 0,5 mmol) foram adicionados a 2-5 °C. A mistura de reação foi agitada vigorosamente durante 4h em temperatura ambiente. Foi diluído com éster etílico de ácido acético (20 ml) e batido com água (30 ml). A fase aquosa foi extraída duas vezes com éster etílico de ácido acético (20 ml). As fases orgânicas foram combinadas, lavadas com água (50 ml), separadas e secas sobre sulfato de magnésio.
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76/114 [00211] Após filtração e concentração sob pressão reduzida, o produto bruto foi purificado por cromatografia flash (DCM/PE 2: 1).
6. Especificação geral e):
Álcool subs visão geral ’ tituído em , etapa e) MW [g/mol] Peso [mg] Fórmula Produto Designação
6.1 álcool alílico (Sigma-Aldrich) Re = 2-propen-1-il 58,08 58 ¢0 PN-AMO-O4a [composto (114)]
6.2 Álcool propargílico (Sigma-Aldrich) Re = 2-propin-1 -il 56,06 56 ¢0 PN-AMO-O4b [composto (118)]
6.3 4-vinil fenol (Sigma-Aldrich) Re = 4-vinilfen-1 -il 120,15 120 $ .0 r^^·0 00 PN-AMO-06 [composto (108)]
6.4 2-aliloxietanol (Sigma-Aldrich) Re = 2-aliloxiet-1 -il 102,13 102 0^^ 00 PN-AMO-05 [composto (119)]
6.5 Glicerina (Sigma-Aldrich) Re = 2,3-di-hidroxiprop-1 -il 92,09 92 T \_/ PN-AMO-10 [composto (103)]
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6.6 4-hidroxi-álcool benzílico (Sigma-Aldrich) Re = 4-(hidroximetil)fen-1 -il 124,14 124 .OH .0 ¢0 PN-AMO-O2b [composto (105)]
6.7 4-hidroxi-3-metóxiálcool benzílico (Sigma-Aldrich) Re = 4-(hidroximetil)-2-metóxifen-1-il 154,17 154 .OH .0 1 Js^O 00 PN-AMO-O4a [composto (104)]
[00212] 2-clorometil-1 H-fenalen-1-ona (115 mg, 0,5 mmol) foi colocado em tolueno (4 ml). Foram adicionados o álcool substituído (1 mmol), hidroquinona (11 mg, 0,1 mmol) e hidrogenossulfato de tetrabutilamônio (100 mg) acima mencionados. Adicionaram-se 2 ml de hidróxido de sódio 4N aquoso à solução agitada vigorosamente a 2-5 °C. O banho de gelo foi removido e a mistura de reação foi agitada vigorosamente durante mais 6h. Foi diluído com 30 ml de DCM e batido várias vezes com água (4 vezes, cada vez em 20 ml).
[00213] A fase orgânica foi separada e seca sobre sulfato de magnésio. Após filtração e concentração sob pressão reduzida, o produto bruto foi purificado por cromatografia flash (DCM/PE 2: 1).
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7. Especificação geral f):
Cloreto de sililo sut visão geral 1, jstituído ( stapa f) MW [g/mol] jm Peso [mg] F Fórmula ’roduto Designação
7.1 Trietoxiclorosilano (Sigma-Aldrich) R'1, R'2, R'3 = etóxi 198,72 76 4 V_. p—v /\_V n_w'-O ' > o o / PN-AMO-14a [composto (123)]
7.2 Alildimetilclorossilano (Sigma-Aldrich) R'1 = 2-propen-1 -il R'2, R'3 = metil 134,68 54 4 ____ .0 00 PN-AMO-14b [composto (124)]
[00214] 2-hidroximetil-1 F -fenalen-1 -ona (70 mg, 0,3 mmol)
colocado junto com imidazol (30 mg, 0,4 mmol) em DCM seco (3 ml) em um balão de fundo redondo de 10 ml com um septo, sob nitrogênio. O cloreto de silil substituído mencionado acima (0,4 mmol) em 2 ml de DCM seco foi adicionado lentamente gota a gota através do septo usando uma seringa, a aproximadamente 0 °C. O banho de gelo foi removido e a mistura de reação foi agitada à temperatura ambiente durante a noite. Foi diluído com 30 ml de DCM e batido várias vezes com água (4 vezes, cada vez em 20 ml). A fase orgânica foi separada e seca sobre sulfato de magnésio. Após filtração e concentração sob pressão reduzida, o produto bruto foi purificado usando cromatografia flash (DCM/PE 2:1).
8. Especificação geral g):
Ácido carboxí visão geral 1, ico em ítapa g) MW [g/mol] Peso [mg] F Fórmula ’roduto Designação
8.1 ácido acrílico R9 = *-CH=CH2 72,06 53 4 y-o o PN-AMO-12a [composto (109)]
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8.2 ácido metacrílico R9 = *-C(CH3)=CH2 87,09 62 PN-AMO-12b [composto (111)]
8.3 Ácido 4-vinilbenzóico R9 = 4-vinilfen-1 -il 148,16 88 o /=\ o-^ /“xS \ Λ CH D PN-AMO-12C [composto (106)]
[00215] 3-hidroxi-fenalen-1 -on (Sigma-Aldrich) (100 mg, 0,5 mmol) foi colocado junto com trifenilfosfina (50 mg, 1 mmol) e o ácido carboxílico mencionado acima (0,6 mmol) em THF seco (5 ml ) em urn balão de fundo redondo de 10 ml com septo sob nitrogênio. Adicionou-se lentamente DCC (103 mg, 0,5 mmol) em THF seco (1 ml) gota a gota através do septo usando uma seringa, a aproximadamente 0 °C. Após agitação durante 2h no banho de gelo, foi adicionada gota a gota uma porção adicional de DCC (103 mg, 0,5 mmol) em THF seco (1 ml). A mistura de reação foi agitada no banho de gelo descongelante, depois à temperatura ambiente durante 6h. O THF foi retirado, o resíduo foi retomado em 30 ml de DCM e batido várias vezes com água (4 vezes, 20 ml).
[00216] A fase orgânica foi separada e seca sobre sulfato de magnésio. Após filtração e concentração sob pressão reduzida, o produto bruto foi purificado usando cromatografia flash (DCM/PE 2:1).
9. Especificação geral h):
Álcool sut visão gera istituído e 1, etapa MW [g/mol] im h) Peso [mg] Prod Fórmula uto Designação
9.1 álcool alílico Rh = 2-propen-1-il 58,08 23 /=\ O—/ LM CK PN-AMO-11a [composto (113)]
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9.2 Álcool propargílico Rh = 2-propin-1 -il 56,06 22 GH PN-AMO-11b [composto (117)]
9.3 glicidol (Sigma-Aldrich) Rh = 2,3-epóxi-prop-1-il 58,08 30 o /=\ 0—4^ /-O GM PN-AMO-13 [composto (115)]
9.4 bis(2hidroxietil)éter (Thermo Fisher Scientific) Rh = *-(CH2)2O(CH2)2OH 106,12 42 O \=/ o o I PN-AMO-O3a [composto (102)]
9.5 1,3-propanodiol (Sigma-Aldrich) Rh = *-(CH2)2OH 76,10 31 O o I PN-AMO-O3b [composto (101)]
9.61 3-Bocaminopropan-1-ol (Sigma-Aldrich) Rh = *-(CH2)2NHBoc 175.2 70 Q \=/ z I u O CO SAPN-32-boc
[00217] 3-hidroxi-fenalen-1 -on (Sigma-Aldrich) (100 mg, 0,5 mmol) foi colocado junto com trifenilfosfina (30 mg, 0,6 mmol) em DCM (3 ml) e o álcool substituído mencionado acima (0,4 mmol) em um balão de fundo redondo com septo, sob nitrogênio. DEAD em tolueno (40%, 0,2 ml, 0,4 mmol) foram adicionados lentamente gota a gota usando uma seringa através do septo, a aproximadamente 0°C. A mistura de reação foi agitada no banho do gelo descongelante, então à temperatura ambiente durante 6h. Foi diluído com 30 ml de DCM e batido várias vezes com água (4 vezes, cada vez em 20 ml). A fase orgânica foi separada e seca sobre sulfato de magnésio. Após filtração e concentração sob pressão reduzida, o produto bruto foi purificado usando cromatografia flash (DCM/PE 2:1).
10. Especificação k): Produção de cloridrato de 2-(Nmetilamino)metil-1 H-fenalen-1 -ona
Designação: SAPN-02c, composto (158)]]
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81/114 [00218] 2-clorometil-1 H-fenalen-1-ona (113 mg, 0,5 mmol) em metanol (10 ml) foi adicionado gota a gota a uma solução gelada da amina em metanol (10 ml, 5 M) durante 2h. Após agitação vigorosa durante 1h à temperatura ambiente, o solvente, junto com a amina excedente, foi eliminado na corrente de nitrogênio. O resíduo foi dissolvido no mínimo DCM/etanol 4:1 possível e precipitado por meio da adição de éter dietílico. O produto foi centrifugado (60 minutos, 4400 rpm, 0 °C) e o sobrenadante foi descartado. O precipitado foi suspenso em éter dietílico e centrifugado novamente. A etapa de purificação foi repetida mais uma vez e o produto foi então seco.
11. Especificação geral I):
Cloreto de ácido carboxílico etapa I) sm visão g MW [g/mol] eral 1, Peso [mg] F Fórmula 3roduto Designação
11.1 cloreto de ácido acrílico (Merck-Millipore) Rk = metil R' = 2-eten-1-il 90,5 36 o PN-AMO-O7a [composto (126)]
11.2 Cloreto de ácido metacrílico Rk = metil R1 = 1 -metil-2-eten-1 -II 104,53 41 o CK>y PN-AMO-O7b [composto (126)]
[00219] O cloridrato de 2-(N-metilamino)metil-1 H -fenalen-1-ona
(80 mg, 0,3 mmol) foi dissolvido com trietilamina (100 mg, 1 mmol) em DCM (3 ml) e agitado em um banho de gelo com a exclusão de umidade. O cloreto de ácido carboxílico correspondente (0,4 mmol) em DCM (0,5 ml) foi adicionado gota a gota. A mistura de reação foi agitada no banho de gelo
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82/114 descongelante, depois à temperatura ambiente durante 4h. Foi diluído com 30 ml de DCM e batido várias vezes com água (4 vezes, cada vez em 20 ml). A fase orgânica foi separada e seca sobre sulfato de magnésio. Após filtração e concentração sob pressão reduzida, o produto bruto foi purificado usando cromatografia flash.
/2. Síntese do composto (127)
Designação: PN-AMO-01]
OH
N.
[00220] 2-clormetil-1 H-fenalen-1-ona (230 mg, 1,0 mmol) em acetonitrila (20 ml) foi adicionado gota a gota a uma solução de 3aminopropanol (1,5 ml, 20 mmol) em acetonitrila (50 ml) ao longo de 30 min. Depois de agitar durante a noite à temperatura ambiente, adicionou-se trietilamina (2,02 g, 2,66 ml, 20 mmol) e a solução foi agitada em um banho de gelo. Ácido acético anidrido (3,06 g, 2,83 ml, 30 mmol) foi adicionado gota a gota a aproximadamente 0°C. A mistura de reação foi agitada durante 2 h, à temperatura ambiente , em seguida, aquecida a 50 °C durante 1h. Todos os componentes voláteis foram removidos sob pressão reduzida.
[00221] O produto foi purificado por cromatografia em coluna usando diclorometano/etanol a 20:1. Foram obtidos 261 mg de um xarope amarelo. Este material foi dissolvido em metanol (2 ml). Adicionou-se hidróxido de sódio aquoso (1 M, 0,5 ml) e a mistura foi agitada durante a noite à temperatura ambiente. O álcool foi retirado e a solução restante foi diluída com água (10 ml). O produto foi extraído com diclorometano (2x10 ml). As fases orgânicas foram secas sobre sulfato de magnésio, filtradas e concentradas sob pressão reduzida. O produto foi um sólido amarelado e oleoso (215 mg, 69%, 0,69 mmol).
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13. Desproteção do grupo Boo
Produto
Derivado protegido de fenalenona Fórmula Designação
13.1 H BocHN^—Νχ| ¢0 (a partir da síntese 3,7) H 00 SA-PN-25C [composto (150)]
13.2 L BocHN^·—'/S ¢0 (a partir da síntese 3,8) o GHç z SA-PN-25b [composto (159)]
13.3 BocHN' | BocHN^^/N> Γι ° ¢0 (a partir da síntese 3,9) nh2 cr 7n^nh2 00 SA-PN-34b [composto (160)]
13.4 BocHN^x^O^üx^O CO (a partir da síntese 9,6) có SAPN-32 [composto (161)]
[00222] O terc-butiloxicarboni correspondente (derivado de fenalenona protegida com Boc) foi colocado em diclorometano (3 ml por 100 mg). Foi adicionada gota a gota uma solução saturada de ácido clorídrico em éter dietílico (0,5 ml por mmol de grupo Boc). O lote foi agitado durante 3 h com exclusão de umidade. O produto foi precipitado pela adição de 30 ml de éter dietílico. O precipitado foi centrifugado e lavado completamente com éter dietílico. O produto obtido foi seco sob pressão reduzida.
[00223] Os respectivos peso molecular (MW) e fórmula molecular (MF), bem como os dados para o espectro de massa medido (MS) e os espectros de NMR de 1H são dados abaixo para os compostos produzidos.
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NMR 1H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ [ppm] = 9,18 (d, J = 6,8 Hz, 2H), 8,54 - 8,45 (m, 2H), 8,42 (s, 1H), 8,35 (d, J = 7,8 Hz, 1H), 8,15 (d, J = 6,4 Hz, 1H), 8,04 (d, J = 6,7 Hz, 2H), 7,91 (t, J = 7,7 Hz, 1H), 7,80 (dd, J = 8,2 & 7,2 Hz, 1H), 6,17 (t, J = 5,4 Hz, 1H), 5,79 (s, 2H), 4,80 (d, J = 4,5 Hz, 2H), 1H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ [ppm] = 9,18 (d, J = 6,8 Hz, 2H), 8,52 (dd, J = 8,9, 7,7 Hz, 2H), 8,45 (s, 1H), 8,36 (d, J = 8,1 Hz, 1H), 8,22 - 8,13 (m, 3H), 7,93 (t, J = 7,7 Hz, 1H), 7,82 (dd, J = 8,1 & 7,3 Hz, 1H), 5,91 (s, 1H), 5,78 (s, 2H), 1,49 (s, 6H), 1H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): δ [ppm] = 9,11 (d, J = 6,6 Hz, 2H), 8,60 - 8,45 (m, 2H), 8,46 8,31 (m, 2H), 8,17 (d, J = 6,9 Hz, 1H), 8,02 (d, J = 6,6 Hz, 2H), 7,93 (t, J = 7,7 Hz, 1H), 7,87 7,72 (m, 1H), 5,75 (s, 2H), 4,95 (s, 1H), 3,75 (t, J = 5,9 Hz, 2H), 3,01 (t, J = 6,0 Hz, 2H), 1H-NMR (300 MHz, MeOD): δ [ppm] = 8,66 (dd, J = 7,4 & 1,1 Hz, 1H), 8,49 - 8,37 (m, 2H), 8,36 8,24 (m, 1H), 8,18-8,06 (m, 1H), 7,91 (t, J = 7,8 Hz, 1H), 7,77 (dd, J = 8,2 & 7,2 Hz, 1H), 5,87 5,69 (m, 2H), 4,56 (s, 2H), 4,10 (d, J = 7,3 Hz, 2H), 3,11 (s, 6H), 1H-NMR (300 MHz, MeOD): δ [ppm] = 8,66 (dd, J = 7,4 & 1,1 Hz, 1H), 8,51 - 8,37 (m, 2H), 8,30 (d, J = 8,3 Hz, 1H), 8,12 (d, J = 6,5 Hz, 1H), 7,91 (t, J = 7,8 Hz, 1H), 7,77 (dd, J - 8,2 & 7,2 Hz, 1H), 4,67 (s, 2H), 4,47 (s, 2H), 3,64 (m, 1H), 3,25 (s, 6H),
Espectro de massa (MS) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 302,1 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 330,1 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 316,1 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 278,2 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 276,1 (100%, M+)
Peso molecular (MW)/Fórmula molecular (MF) MW: 302,3 + 35,45 = 337,75 g/mol MF: C20Hi6NO2CI MW: 330,4 + 35,45 = 365,85 g/mol MF: C22H20NO2CI MW: 316,4 +35,45 = 351,85 g/mol MF: C2iH18NO2CI MW: 278,38 + 35,45 = 313,83 g/mol MF: Ci9H20NOCI MW: 276,36 + 35,45 = 311,81 g/mol MF: C19H18NOCI
Estrutura oó ÇO O Qw) O /=\ /M ·.. ? O // '5
Ns da substância SAPN-19a SAPN-19C SAPN-19b SAPN-35a SAPN-35b
2,1 2,2 CO c\j 3,1 3,2
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1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,92 (s, 1H), 8,57 (dd, J= 7,4 & 0,9 Hz, 1H), 8,25 (d, J= 7,3 Hz, 1H), 8,12 (d, J= 7,7 Hz, 2H), 7,79 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 7,66 (m, 3H), 7,57 (m, 2H), 7,43 (d, J= 8,1 Hz, 2H), 7,57 (m, 2H), 6,68 (m, 1H), 5,80 (d, J= 16,8 Hz, 1H), 5,33 (d, J = 10,9 Hz, 1H), 5,15 (s, 2H), 5,03 (s, 2H), 3,19 (s, 6H), 1H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,58 (dd, J= 7,4, 1,1 Hz, 1H), 8,52 - 8,32 (m, 2H), 8,25 (dd, J = 8,3 & 0,7 Hz, 1H), 8,18 - 8,03 (m, 1H), 7,93-7,78 (m, 1H), 7,76-7,63 (m, 1H), 6,19 (m, 1H), 5,72 (m, 1H), 4,89 (m, 2H), 4,67 (m, 2H), 3,98 - 3,76 (m, 2H), 3,26 (s, 6H), 1,97 (s, 3H), 1H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,58 (dd, J= 7,4, 1,1 Hz, 1H), 8,52 - 8,32 (m, 2H), 8,25 (dd, J = 8,3 & 0,7 Hz, 1H), 8,18 - 8,03 (m, 1H), 7,93-7,78 (m, 1H), 7,76-7,63 (m, 1H), 6,19 (m, 1H), 5,72 (m, 1H), 4,89 (m, 2H), 4,67 (m, 2H), 3,98 - 3,76 (m, 2H), 3,26 (s, 6H), 1,97 (s, 3H),
MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 354,2 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 350,2 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 350,2 (100%, M+)
MW: 354,48 + 35,45 = 389,93 g/mol MF: C25H24NOCI MW: 350,44 + 35,45 = 385,89 g/mol MF: C22H24NO3CI MW: 350,44 + 35,45 = 385,89 g/mol MF: C22H24NO3CI
1 cr GO GO so
SAPN36 SAPN37a SAPN37b
3,3 CO 3,5
1H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,58 (dd, J= 7,4, 1,1 Hz, 1H), 8,52 - 8,32 (m, 2H), 8,25 (dd, J = 8,3 & 0,7 Hz, 1H), 8,18 - 8,03 (m, 1H), 7,93-7,78 (m, 1H), 7,76-7,63 (m, 1H), 6,19 (m, 1H), 5,72 (m, 1H), 4,89 (m, 2H), 4,67 (m, 2H), 3,98 - 3,76 (m, 2H), 3,26 (s, 6H), 1,97 (s, 3H), 1H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,58 (dd, J= 7,4, 1,1 Hz, 1H), 8,52 - 8,32 (m, 2H), 8,25 (dd, J = 8,3 & 0,7 Hz, 1H), 8,18 - 8,03 (m, 1H), 7,93-7,78 (m, 1H), 7,76-7,63 (m, 1H), 6,19 (m, 1H), 5,72 (m, 1H), 4,89 (m, 2H), 4,67 (m, 2H), 3,98 - 3,76 (m, 2H), 3,26 (s, 6H), 1,97 (s, 3H), 1H-NMR (300 MHz, MeOD): δ [ppm] = 8,58 (dd, J= 7,4, 1,1 Hz, 1H), 8,52 - 8,32 (m, 2H), 8,25 (dd, J = 8,3 & 0,7 Hz, 1H), 8,18 - 8,03 (m, 1H), 7,93-7,78 (m, 1H), 7,76-7,63 (m, 1H), 6,19 (m, 1H), 5,72 (m, 1H), 4,89 (m, 2H), 4,67 (m, 2H), 3,98 - 3,76 (m, 2H), 3,26 (s, 6H), 1,97 (s, 3H),
MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 350,2 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 350,2 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 350,2 (100%, M+)
MW: 350,44 + 35,45 = 385,89 g/mol MF: C22H24NO3CI MW: 350,44 + 35,45 = 385,89 g/mol MF: C22H24NO3CI MW: 350,44 + 35,45 = 385,89 g/mol MF: C22H24NO3CI
0 iv_/ j—( 1-0 *0-0 È LTJ O 00 1X1
SA-PN38 SA-PN25c-boc SA-PN25a
3,6 CO CO co
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1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,89 (s, 1H), 8,58 (d, J= 7,3 Hz, 1H), 8,31 -8,02 (m, 3H), 7,78 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 7,66 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 6,53 (s, 2H), 4,82 (s, 2H), 3,98 - 3,58 (m, 8H), 3,22 (s, 3H), 1,39 (s, 18H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,89 (s, 1H), 8,58 (d, J= 7,3 Hz, 1H), 8,31 -8,02 (m, 3H), 7,78 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 7,66 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 6,53 (s, 2H), 4,82 (s, 2H), 3,98 - 3,58 (m, 8H), 3,22 (s, 3H), 1,39 (s, 18H), 1H-NMR (300 MHz, DMSO): õ [ppm] = 8,65 - 8,45 (m, 3H), 8,39 (d, J = 8,0 Hz, 1H), 8,17 (d, J = 6,5 Hz, 1H), 7,96 (t, J = 7,7 Hz, 1H), 7,83 (dd, J = 8,2 & 7,2 Hz, 1H), 4,60 (s, 2H), 3,97 (s, 2H), 3,75 - 3,41 (m, 13H), 3,14 (s, 6H), 1H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): õ[ppm] = 8,58 - 8,54 (dd, J = 1,0 & 7,3 Hz, 1H), 8,55 - 8,50 (dd, J = 1,2 & 7,4 Hz, 1H), 8,52 (s, 1H), 8,37 (dd, J = 1,0 & 7,8 Hz, 1H), 8,18 (dd, 4=0,9 Hz, J= 7,1 Hz, 1H), 7,95 (t, J = 7,7 Hz, 1H), 7,84 - 7,78 (m, 1H), 5,62 (t, 4=5,1 Hz, 1H), 4,61 (s, 2H), 3,99 - 3,88 (m, 2H), 3,59 - 3,51 (m, 2H), 3,15 (s,6H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,66 (dd, 4 = 7,4 & 1,2 Hz, 1H), 8,22 (dd, 4= 8,1, 1,1 Hz, 1H), 8,01 (m, 2H), 7,89 - 7,74 (m, 2H), 7,62 (dd, 4=8,2 & 7,1 Hz, 1H), 4,82 (d, 4= 1,4 Hz, 2H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,67 (d, 4= 7,4 Hz, 1H), 8,23 (d, 4 = 8,0 Hz, 1H), 8,03 (d, 4 = 8,4 Hz, 2H), 7,87 - 7,76 (m, 2H), 7,65 - 7,59 (m, 1H), 6,64 (d, 4 = 16,6 Hz, 1H), 6,35 (dd, 4 = 16,6, 10,1 Hz, 1H), 6,18 (d, 4= 10,1 Hz, 1H), 4,83 (s, 2H),
MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 510,3 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 510,3 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): e/z (%) = 370,2 (100, M+); MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): e/z (%) = 282,1 (100, M+); MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 211,1 (100%, MH+), 193,1 (64%, MH+ - H2O) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 265,1 (100%, MH+)
MW: 510,66 + 35,45 = 546,12 g/mol MF: C29H40N3O5CI MW: 510,66 + 35,45 = 546,12 g/mol MF: C29H40N3O5CI MW: 370,5 + 35,45 = 405,95 g/mol MF: C22H28NO4CI MW: 282,4 + 35,45 = 317,85 g/mol MF: Ci8H20NO2CI MW: 210,33 g/mol MF: C14H10NO2 MW: 264,28 g/mol MF: C17H12O3
I ( ω ‘Ji ώ .X Τ' ΛΛ M V-O .MH u \—/ it O O WQ5 it i'S .5 MW .... M? ΐ. a V-Q CH
SA-PN34a SA-PN11 SA-PN12 SA-PN09 PNOH PNAMO07a
3,9 3,10 CO CXI co Tt LO
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Não medido 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,69 (d, J= 7,4 Hz, 1H), 8,25 (d, J=8,1 Hz, 1H), 8,22 (d, J=8,4 Hz, 2H), 8,05 (d, J=8,4 Hz, 2H), 7,89 - 7,74 (m, 2H), 7,67 - 7,62 (m, 1H), 7,58 (d, J = 8,3 Hz, 2H), 6,90- 6,73 (m, 2H), 5,94 (d, J= 17,5 Hz, 1H), 5,48 (d, J= 10,8 Hz, 1H), 4,85 (s, 1H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,63 (d, J= 7,4 Hz, 1H), 8,19 (d, J= 8,1 Hz, 1H), 7,99 (d, J = 8,3 Hz, 1H), 7,85 (m, 1H), 7,75 (m, 2H), 7,58 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 6,06 (m, 1H), 5,40 (dd, J= 17,2 & 1,6 Hz, 1H), 5,26 (dd, J= 10,4 & 1,1 Hz, 1H), 4,61 (s, 2H), 4,20 (d, J = 5,6 Hz, 2H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,66 (dd, J= 7 A, 1,1 Hz, 1H), 8,22 (dd, J = 8,0, 0,9 Hz, 1H), 8,02 (d, J = 8,1 Hz, 1H), 7,87 (t, J = 1,4 Hz, 1H), 7,79 (t, J= 7,7 Hz, 2H), 7,61 (dd, J = 8,2, 7,2 Hz, 1H), 4,71 (d, J= 1,5 Hz, 2H), 4,37 (d, J= 2,4 Hz, 2H), 2,51 (t, J= 2,4 Hz, 1H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,70 (d, J= 6,4 Hz, 1H), 8,25 (d, J=8,1 Hz, 1H), 8,04 (d, J=8,1 Hz, 1H), 7,95 (s, 1H), 7,86-7,78 (m, 2H), 7,66 - 7,58 (m, 1H), 7,38 (d, J= 8,7 Hz, 2H), 7,03 (d, J = 8,7 Hz, 2H), 6,67 (dd, J= 17,6, 10,9 Hz, 1H), 5,63 (d, J= 17,6 Hz, 1H), 5,20 (d, J= 1,5 Hz, 2H), 5,14 (d, J= 11,0 Hz, 1H),
MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NhUOAc): m/z = 279,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NhUOAc): m/z = 341,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NhUOAc): m/z = 193.1 (52%, MH+ -C3H6O), 251.1 (100%, MH+), 273,1 (13%, MNa+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NhUOAc): m/z = 249,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NhUOAc): m/z = 313,1 (100%, MH+)
MW: 278,31 g/mol MF: CisHuOs MW: 340,38 g/mol MF: C23H16O3 MW: 250,30 g/mol MF: C17H14O2 MW: 248,28 g/mol MF: C17H12O2 MW: 312,37 g/mol MF: C22H16O2
vQj θ V-θ L ui Ηθθ Va /7 V
PN-AMO07b PN-AMO08 PN-AMO04a PN-AMO04b PN-AMO06
5,2 5,3 6,2 6,3
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1H-NMR (300 MHz, CDCI3): δ [ppm] = 8,63 (dd, J = 7,4 & 1,1 Hz, 1H), 8,19 (dd, J=8,1 & 0,9 Hz, 1H), 7,99 (d, J=8,1 Hz, 1H), 7,89 (t, J = 1,5 Hz, 1H), 7,76 (t, J = 7,6 Hz, 2H), 7,58 (dd, J = 8,2 & 7,2 Hz, 1H), 5,94 (m, 1H), 5,32 (ddd, J = 17,2 & 3,2 & 1,6 Hz, 1H), 5,26 5,16 (m, 1H), 4,66 (d, J= 1,5 Hz, 2H), 4,09 (dt, J = 5,6 & 1,3 Hz, 2H), 3,83 (m, 2H), 3,72 (m, 2H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,62 (d, J= 7,6 Hz, 1H), 8,20 (d, J = 8,1 Hz, 1H), 7,97 (d, J = 8,2 Hz, 1H), 7,87 (s, 1H), 7,76 (t, J = 7,5 Hz, 2H), 7,56 (t, J = 7,6 Hz, 1H), 4,61 (s, 2H), 4,12 - 3,56 (m, 7H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,69 (d, J= 7,4 Hz, 1H), 8,23 (d, J=8,1 Hz, 1H), 7,98 (d, J=8,1 Hz, 1H), 7,93 (s, 1H), 7,78-7,73 (m, 2H), 7,62 - 7,51 (m, 1H), 7,01 (d, J= 7,8 Hz, 2H), 6,78 (d, J = 7,8 Hz, 2H), 5,26 (m, 2H), 4,46 (s, 2H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,67 (dd, J = 7,3 & 0,9 Hz, 1H), 8,21 (d, J = 8,0 Hz, 1H), 8,01 (d, J = 8,2 Hz, 1H), 7,94 (s, 1H), 7,78 (dd, J = 10,8 & 4,4 Hz, 2H), 7,65 - 7,52 (m, 1H), 6,97 - 6,89 (m, 2H), 6,84 (dd, J = 8,2 & 1,7 Hz, 1H), 5,24 (d, J = 1,3 Hz, 2H), 4,63 (s, 2H), 3,95 (s, 3H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,67 (d, J= 7,4 Hz, 1H), 8,22 (d, J = 7,5 Hz, 1H), 8,03 (d, J = 8,6 Hz, 2H), 7,90 - 7,74 (m, 2H), 7,67 - 7,57 (m, 1H), 4,82 (s, 2H), 3,76 - 3,69 (m, 6H), 1,26 (d, J = 7,0 Hz, 9H),
MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 193,1 (27%, MH+ -C5H10O2), 295,1 (100%, MH+), 317,1 (10%, MNa+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 285,1 (100%, MH+), 263,1 (29%, MH+ - H2O) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 317,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 347,1 (100%, MH+), 369,1 (9%, MNa+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 373,1 (13%, MH+), 286,1 (100%, (M -3 C2H5)+)
MW: 294,35 g/mol MF: C19H18O3 MW: 284,31 g/mol MF: C17H16O4 MW: 316,36 g/mol MF: C21H16O3 M MW: 346,39 g/mol MF: C22H18O4 MW: 372,50 g/mol MF: C20H24O5SÍ
0 J X GH (JO <5-0 '°-O <5 / < O _p^
PN-AMO05 PN-AMO10 PN-AMO02b PN-AMO02a PN-AMO14a
CD S‘9 6,6 CD
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1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,67 (d, J= 7,4 Hz, 1H), 8,22 (d, J = 8,2 Hz, 1H), 8,03 (d, J = 8,4 Hz, 2H), 7,90 - 7,74 (m, 2H), 7,68 - 7,57 (m, 1H), 4,98 (dd, J= 28,1, 14,7 Hz, 1H), 4,83 (s, 2H), 1,72 (dt, J = 6,4, 1,6 Hz, 1H), 0,51 (d, J = 5,2 Hz, 1H), 0,23 - 0,07 (m, 6H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,70 (d, J= 7,3 Hz, 1H), 8,57 (d, J=6,6 Hz, 1H), 8,27 (d, J=8,0 Hz, 1H), 8,19 (d, J= 7,8 Hz, 1H), 8,11 (s, 1H), 7,79 (dt, J= 21,7, 7,8 Hz, 2H), 6,70 (dd, J= 17,3, 1,1 Hz, 1H), 6,41 (dd, J= 17,3 & 10,4 Hz, 1H), 6,11 (dd, J= 10,4 & 1,1 Hz, 1H), Não medido 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,55 (d, J= 7,3 Hz, 1H), 8,19 (d, J= 8,3 Hz, 2H), 8,12 (d, J= 8,0 Hz, 1H), 8,00 (d, J= 8,2 Hz, 1H), 7.91 (d, J= 7,2 Hz, 1H), 7,69 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 7,61 - 7,48 (m, 3H), 6.91 - 6,60 (m, 2H), 5,92 (d, J= 17,6 Hz, 1H), 5,45 (d, J= 10,9 Hz, 1H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,59 (dd, J= 7,3, 1,1 Hz, 1H), 8,31 (dd, J= 7,3, 0,9 Hz, 1H), 8,22 - 8,14 (m, 1H), 8,08 (d, J= 7,5 Hz, 1H), 7,78 - 7,57 (m, 2H), 6,23 - 6,08 (m, 2H), 5,55 (dd, J = 17,3, 1,4 Hz, 1H), 5,42 (dd, J= 10,5, 1,2 Hz, 1H), 4,73 (d, J= 5,4 Hz, 2H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,56 (d, J= 7,2 Hz, 1H), 8,47 (d, J= 7,3 Hz, 1H), 8,20 (d, J=8,0 Hz, 1H), 8,10 (d, J=8,1 Hz, 1H), 7,81 - 7,63 (m, 2H), 7,57 (s, 1H), 4,35-4,10 (m, 2H), 2,63 (s, 1H),
MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 309,1 (26%, MH+), 193,1 (100%, (Μ -H2O -C5HiiSI)+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 251,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 265,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 327,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 237,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 235,1 (100%, MH+)
MW: 308,46 g/mol MF: C19H20O2S1 MW: 250,26 g/mol MF: C16H10O3 MW: 264,28 g/mol MF: C17H12O3 MW: 326,36 g/mol MF: C22H14O3 MW: 236,27 g/mol MF: C16H12O2 MW: 234,26 g/mol MF: CigHio02
0 /=\ h -V hcR Õ yo Õ X=/
PN-AMO14b PN-AMO12a PN-AMO12b PN-AMO12c PN-AMO11a PN-AMO11b
C\1 CO C\l co 8,3 oS 9,2
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1H-NMR (300 MHz, CDCI3): δ [ppm] = 8,59 (dd, J = 7,1 & 0,9 Hz, 1H), 8,29 (m, 2H), 8,17 (d, J = 7,6 Hz, 1H), 7,47 (t, J = 7,8 Hz, 1H), 7,31 (t, J= 7,8 Hz, 1H), 7,16 (m, 1H), 4,18 (dd, J= 11,4 & 4,6 Hz, 1H), 3,93 (dd, J = 11,2 & 5,8 Hz, 1H), 3,31 (m, 1H), 2,88 (m, 1H), 2,69 (m, 1H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,26 (dd, J = 7,2 & 0,8 Hz, 1H), 7,94-7,74 (m, 2H), 7,66 (d, J= 7,9 Hz, 1H), 7,43 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 7,23 (t, J= 7,8 Hz, 1H), 5,79 (s, 1H), 4,13-3,97 (m, 2H), 3,88 - 3,79 (m, 2H), 3,77 - 3,69 (m, 2H), 3,68 - 3,51 (m, 3H), H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,66 - 8,58 (m, 1H), 8,45 (m, 2H), 8,27 (m, 1H), 7,96 - 7,72 (m, 3H), 3,22 (t, J= 7,1 Hz, 2H), 2,47 (m, 2H), 1,81 (m, 2H), 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,56 (dd, J = 7,3 & 1,0 Hz, 1H), 8,22 (d, J= 7,2 Hz, 1H), 8,19 - 8,11 (m, 1H), 8,05 (d, J= 7,9 Hz, 1H), 7,72 (t, J= 7,7 Hz, 1H), 7,67 - 7,55 (m, 1H), 6,13 (s, 1H), 4,81 (s, 1H), 4,22 (t, J = 5,9 Hz, 2H), 3,43 (s, 2H), 2,14 (p, J = 6,3 Hz, 2H), 1,45 (s, 9H), H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,68 (dd, J = 7,4 & 1,0 Hz, 1H), 8,51 - 8,38 (m, 1H), 8,27 (d, J = 7,9 Hz, 1H), 8,20 (s, 1H), 8,07 (d, J= 7,0 Hz, 1H), 7,91 (t, J= 7,8 Hz, 1H), 7,76 (dd, J = 8,2 & 7,2 Hz, 1H), 4,21 (s, 2H), 2,79 (s, 3H), 1 H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,72 - 8,59 (m, 1H), 8,30 8,16 (m, 1H), 8,02 (dd, J = 14,3 & 8,2 Hz, 1H), 7,85 - 7,72 (m, 2H), 7,60 (m, 1H), 7,47 (s, 1H), 6,62 (m, 1H), 6,41 (m, 1H), 5,70 (m, 1H), 4,72 - 4,60 (m, 2H), 3,20 (d, J = 27,8 Hz, 3H),
MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 253,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 285,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 255,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 354,2 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 223,1 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAC): m/z = 292,1 (100%, MH+)
MW: 252,27 g/mol MF: C16H12O3 MW: 284,31 g/mol MF: C17H16O4 MW: 254,29 g/mol MF: C16H14O3 MW: 353,42 g/mol MF: C2iH23NO4 MW: 223,28 g/mol MF: C15H13NO MW: 291,35 g/mol MF: Ci9Hi7NO2
2 ’ ΛΟ 0 $ 0 X Qi 0 0 1 0
PNAMO-13 PNAMO03a PNAMO03b SAPN32boc SAPN02c PNAMO09a
9,3 9,4 9,5 9,6 0
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Não medido 1H-NMR (300 MHz, CDCI3): õ [ppm] = 8,69 (dd, J = 1,2 & 7,4 Hz, 1H), 8,26 (dd, J= 1,0 & 8,1 Hz, 1H), 8,08 (dd, J= 0,6 & 8,2 Hz, 1H), 7,78 - 7,90 (m, 2H), 7,62 (dd, J= 7,0 & 1,2 Hz, 1H), 7,51 (s, 1H), 4,65 (s, 2H), 3,83 (bs, 1H), 3,66 (t, J = 5,6 Hz, 2H), 3,59 (t, J = 5,6 Hz, 2H), 2,16 (s, 3H), 1,78 (m,2H), H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,71 (dd, J = 7,4 & 1,0 Hz, 1H), 8,46 (d, J = 8,1 Hz, 1H), 8,29 (t, J= 3,9 Hz, 2H), 8,10 (d, J= 7,1 Hz, 1H), 7,92 (t, J = 7,8 Hz, 1H), 7,77 (dd, J = 8,2 & 7,2 Hz, 1H), 4,33 (s, 2H), 3,46 (m, 4H), 1H-NMR (300 MHz, DMSO-d6): õ [ppm] = 8,68 (s, 3H), 8,57 (dd, J = 10,0 & 6,5 Hz, 3H), 8,40 (d, J= 8,3 Hz, 1H), 8,22 (d, J= 7,0 Hz, 1H), 7,97 (t, J = 7,7 Hz, 1H), 7,91 - 7,76 (m, 1H), 4,62 (s, 2H), 3,77 3,65 (m, 2H), 3,43 (m, 2H), 3,20 (s, 6H), H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,74 (dd, J = 7,5 & 0,9 Hz, 1H), 8,47 (d, J = 8,0 Hz, 1H), 8,31 (t, J= 3,8 Hz, 2H), 8,12 (d, J= 7,2 Hz, 1H), 7,93 (t, J = 7,6 Hz, 1H), 7,79 (dd, J = 8,2 & 7,4 Hz, 1H), 4,35 (s, 2H), 3,58-3,35 (m, 8H), H-NMR (300 MHz, MeOD): õ [ppm] = 8,62 - 8,50 (m, 1H), 8,42 (m, 2H), 8,26 (m, 1H), 7,98 - 7,70 (m, 3H), 3,05 (t, J= 7,0 Hz, 2H), 2,88 - 2,78 (m, 2H), 1,86 (dd, J = 9,5 & 3,6 Hz, 2H),
MS (ESI-MS, CH2CI2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 278,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 310,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 253,1 (100%, MH+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 281,1 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 310,1 (100%, M+) MS (ESI-MS, CH2Cl2/MeOH + 10 mmol NH4OAc): m/z = 254,1 (100%, MH+)
MW: 277,33 g/mol MF: C18H15NO3 MW: 309,37 g/mol MF: C19H19NO3 MW: 252,32 g/mol MF: Ci6Hi6N2O MW: 281,38 + 35,45 = 316,83 g/mol MF: C18H21N2OCI MW: 310,42 + 35,45 = 345, 87 g/mol MF: C19H24N3O MW: 253,30 g/mol MF: C16H15NO2
X 0 0 £ Ο λ“·
PN-AMO09b PN-AMO01 SA-PN25c SA-PN25b SA-PN34b SAPN-32
11,2 CXJ CO 13,2 13,3 CO
Exemplo 2: Produção de revestimentos antimicrobianos de superfície
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92/114 [00224] Os fotossensibilizantes produzidos no Exemplo 1 foram testados em uma variedade de sistemas de pintura, conforme segue.
1) Tinta de poliuretano de 2 componentes (2-C), contendo solvente [00225] O respectivo fotossensibilizante (0,06 mmol) foi dissolvido em 100 ml de tinta básica clara (resina acrílica contendo grupo hidroxil e reticulável de poliisocianato, 20% em acetato de xileno/n-butil). O agente de reticulação (diisocianato de hexametileno (HDI) - contendo polímero, 20% em acetato de xileno/n-butil, “Desmodur® N75” da Covestro AG, Leverkusen, DE) foi misturado com a tinta básica na proporção de 5: 1 (v/v). A solução viscosa, amarela pálida, foi aplicada a uma variedade de superfícies desengorduradas usando uma pistola de pulverização. As substâncias testadas foram PMMA, PVC, vidro, alumínio, aço inoxidável e madeira. Após secagem durante 4 horas à temperatura ambiente, foi obtido um endurecimento completo por aquecimento a 60 °C durante 30 minutos.
[00226] Os seguintes fotossensibilizantes foram processados usando este método:
Figure BR112019019324A2_D0089
12,6 19,0 20,8 15,2
20,2 mg 21,9 mg 19,1 mg 18,5 mg mg mg mg mg [00227] Resultado: revestimento transparente, ligeiramente opaco, amarelo pálido, homogêneo; espessura da camada entre 20 e 40 pm.
2) tinta de poliuretano monocomponente (1-C) à base de água [00228] O respectivo fotossensibilizante (0,05 mmol) foi dissolvido na tinta à base de água (100 ml, emulsão acrílica-poliuretano, ácido graxo modificado, 20% em água). A mistura foi agitada
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93/114 vigorosamente durante 30 min à temperatura ambiente. A tinta foi aplicada uniformemente a i) uma tábua de madeira não tratada, ii) placas PMMA ou iii) placas de PVC usando um pincel. Alternativamente, a tinta foi aplicada usando uma pistola de pintura, uniformemente a uma distância de aproximadamente 30 cm. O revestimento foi deixado secar ao ar e foi deixado para endurecer durante a noite à temperatura ambiente.
[00229] Os seguintes fotossensibilizantes foram processados usando este método:
Figure BR112019019324A2_D0090
Figure BR112019019324A2_D0091
18,2 mg
10,5 mg 15,9 mg 18,1 mg [00230] Resultado: revestimento transparente, fosco, amarelo pálido, homogêneo; espessura da camada de aproximadamente 50 pm.
3) resinas epóxi 2-C Composição de resinas básicas (produtos técnicos típicos):
Formulação I (resina com diluente reativo): resina de bisfenol-A-epicloridrina com peso molecular médio de <700 g/mol (25-50%) Éter glicidílico alifático C12-C14 (25-50%) éter alquilglicidílico (5-25%)
Formulação II (resina com diluente reativo): resina de bisfenol-A-epicloridrina com peso molecular médio de <700 g/mol (60-80%)
1,4-bis (2,3-epoxipropóxi) butano (20-40%)
Formulação III (resina com diluente reativo): resina de bisfenol-A-epicloridrina com peso molecular médio de <700 g/mol (75-90%) éter diglicidílico de hexanodiol (10-25%)
Formulação IV (resina com diluente reativo): resina de bisfenol-A-epicloridrina com peso molecular médio de <700 g/mol (50-90%) resina epóxi bisfenol F (25 - 50%) Éter glicidílico alifático C12-C14 (10-20%)
1,4-bis (2,3-epoxipropóxi) butano (10-20%)
Composição de endurecedor (produtos técnicos típicos):
Formulação I (endurecedor normal): isoforona diamina (aminometil-3,5,5-trimetil-ciclohexilamina) (10-25%) álcool benzílico (25-50%)
2,2,4-trimetil-hexano-1,6-diamina (3-10%)
Formulação II (endurecedor isoforona diamina (aminometil-3,5,5-trimetil-ciclonormal): hexilamina) (44%) xilideno diamina (10%) trimetilhexametileno diamina (5%) ácido salicílico (1%) polietileno amina (10%)
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Formulação III (endurecedor rápido):
Opcionalmente com acelerador/catalisador:
álcool benzílico (30%) diaminociclo-hexano (18%) pentametileno diamina (25%) ácido salicílico (2%) polietileno amina (20%) álcool benzílico (35%)
N-benzildimetilamina (BDMA) e/ou
N, N, N, N-tetrametil-1,3-butanodiamina (TMBDA) e/ou
2-metil imidazol (2MI)
Variação a) [00231] O respectivo fotossensibilizante (0,05 mmol) foi dissolvido em 25 ml do endurecedor claro (formulação II ou III). A partir da resina básica (formulação I, III ou IV), 75 ml foram misturados com o endurecedor. A solução viscosa, amarela pálida, foi aplicada nas superfícies desengorduradas formadas a partir de i) PMMA ou ii) PVC usando uma pistola de pulverização.
[00232] Alternativamente, a mistura foi aplicada com um pincel várias vezes em revestimentos uniformes à madeira não tratada, a fim de obter uma vedação antimicrobiana. Após endurecimento durante 12h à temperatura ambiente, o pós-endurecimento foi realizado por meio de aquecimento a 40 °C durante 6h.
[00233] Os seguintes fotossensibilizantes foram processados usando este método:
L ci
15,9 mg 12,7 mg 10,5 mg 15,8 mg 15,9 mg 12,7 mg [00234] Resultado: revestimento transparente, ligeiramente opaco, amarelo pálido, homogêneo; espessura da camada entre 20 e 40 pm.
Variação b) [00235] O respectivo fotossensibilizante (0,05 mmol) foi dissolvido em 30 ml do endurecedor transparente (formulação II ou III). A
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95/114 partir da resina básica (formulação I), 70 ml foram misturados com o endurecedor. Um tinteiro plano de aço inoxidável foi uniformemente revestido com cera de liberação. Nele, i) um tapete de fibra de vidro, ii) um pedaço de tecido CFRP ou iii) um pedaço de tecido de aramida (cada 20x20 cm2) foi impregnado uniformemente com a mistura de resina com uma escova, para que o tecido pudesse absorver completamente a mistura. Após endurecimento durante 24 horas à temperatura ambiente, o pósendurecimento foi realizado aquecendo lentamente a 60 °C e mantendo durante 30 min.
[00236] Os seguintes fotossensibilizantes foram processados usando este método:
Figure BR112019019324A2_D0092
10,5
15,9 mg 21,9 mg mg [00237] Resultado: tapete fibroso de flexibilidade limitada e rígido; cor intrínseca de corante não pode ser discernida.
Variação c) [00238] O respectivo fotossensibilizante (0,05 mmol) foi dissolvido em 70 ml da resina básica (formulação II, III ou IV). Do endurecedor (formulação III), 30 ml foram misturados. A solução viscosa, amarela pálida, foi aplicada com uma pistola de pulverização nas superfícies desengorduradas formadas a partir de i) PMMA ou ii) vidro rugoso.
[00239] Alternativamente, a mistura foi aplicada à madeira não tratada várias vezes em camadas uniformes com uma escova, a fim de obter uma vedação antimicrobiana. Após endurecimento durante 6h à temperatura ambiente, o pós-endurecimento foi realizado por meio de aquecimento a 40 °C durante 3h. Os seguintes exemplos foram processados usando este método:
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Figure BR112019019324A2_D0093
12,6 mg [00240] Resultado: revestimento transparente, ligeiramente opaco, amarelo pálido, homogêneo; espessura da camada entre 20 e 40 pm, quando usado pincel: >50 μιτι.
4) Silicone de 1 componente (RTV-1) vulcanizante à temperatura ambiente [00241] Composição típica do silicone (produto técnico da Wacker): polidimetilsiloxano diol e polidimetilsiloxano como uma mistura com dióxido de silício (carga) e triacetoximetilsilano (agente de reticulação, <5%)
Variação a) [00242] Dissolveu-se silicone sanitário transparente (1-C, reticulação à temperatura ambiente, reticulação ácida, 5,0 g) em hexano (10 ml). Uma solução do respectivo fotossensibilizante (0,012 mmol) em diclorometano seco (20 ml) foi misturada. A solução viscosa ligeiramente opaca, amarela pálida, foi aplicada uniformemente a i) uma placa de vidro desengordurada, ii) uma placa de PMMA desengordurada, iii) uma placa de cerâmica ou iv) uma película de poliéster. Após aproximadamente 15 minutos à temperatura ambiente, o revestimento havia secado; aproximadamente 10 minutos depois, formação de pele havia começado. Após 6h à temperatura ambiente, a camada de aproximadamente 0,1 mm de espessura havia endurecido por completo.
[00243] Resultado: revestimento transparente, fosco, amarelo pálido, homogêneo, semelhante à borracha.
Variação b) [00244] O respectivo fotossensibilizante (0,02 mmol) foi dissolvido em 100 ml de acetato de etila seco (100 ml). Foi adicionado
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97/114 silicone sanitário transparente (1-C, reticulação à temperatura ambiente, reticulação ácida, 8,0 g) e a solução foi agitada até ficar homogênea. A solução ligeiramente opaca e amarela pálida foi aplicada uniformemente a i) uma placa de argila, ii) uma telha cerâmica, iii) uma placa de PE desengordurada ou iii) uma placa de alumínio, usando uma pistola de pintura. Após aproximadamente 20 minutos à temperatura ambiente, o revestimento havia secado; aproximadamente 10 minutos depois, a formação de pele havia começado. Após 6h à temperatura ambiente, a camada de aproximadamente 0,1 mm de espessura havia endurecido por completo.
[00245] Resultado: revestimento transparente, fosco, amarelo pálido, homogêneo, semelhante à borracha.
Variação c) [00246] O fotossensibilizante finamente pulverizado (0,012 mmol) foi agitado em silicone sanitário transparente (1-C, reticulação à temperatura ambiente, reticulação ácida, 5,0 g) em um misturador Speed Mixer™ DAC 600 (Hauschild Engineering, Alemanha) à temperatura ambiente, até que uma pasta macroscopicamente homogênea foi obtida. A massa viscosa amarela pálida foi aplicada uniformemente usando uma seringa descartável a i) um rejunte de azulejo ou ii) para unir duas placas de vidro que foram empilhadas verticalmente uma na parte superior da outra. Após aproximadamente 30 minutos à temperatura ambiente, o silicone havia secado; aproximadamente 20 minutos depois, formação de pele havia começado. Após 6h à temperatura ambiente, a camada havia endurecido por completo.
[00247] Os seguintes fotossensibilizantes nas três variações foram processados em rejuntes de silicone amarelo pálido semelhantes à borracha:
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Figure BR112019019324A2_D0094
4,4 mg 2,5 mg 6,3 mg 6,2 mg 5,1 mg Variação a Variação a/c Variação b Variação b/c Variação b [00248] Resultado: rejunte transparente, fosco, amarelo pálido, homogêneo, semelhante à borracha.
5) Silicone de 2 componentes (RTV-2) vulcanizante à temperatura ambiente [00249] Composição típica do silicone (produto técnico da Wacker): componente A) silano oligomérico contendo grupos vinil/vinilsilano e componente B) polidimetilsiloxano como uma mistura com dióxido de silício (carga) e adjuvantes e catalisador de platina.
[00250] O polímero de base (A) foi misturado com o agente de reticulação (B) em uma proporção de 9:1.
[00251] O fotossensibilizante finamente pulverizado (0,05 mmol) foi agitado em 90 g do polímero base (A) à temperatura ambiente, até que uma pasta macroscopicamente homogênea foi obtida. A massa viscosa amarela pálida foi misturada com o agente reticulado (B) em uma proporção de 9:1 com o auxílio de uma espátula plana, aplicada uniformemente a i) uma película de poliéster, ii) um azulejo cerâmico, um vidro desengordurado iv) uma placa de PE desengordurada ou v) uma placa de alumínio (50 ml por m2).
[00252] Após aproximadamente 30 minutos à temperatura ambiente, havia ocorrido formação inicial da pele. Após 8h à temperatura ambiente, a camada havia endurecido por completo.
[00253] O seguinte fotossensibilizantes foram transformados em revestimentos de silicone:
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Figure BR112019019324A2_D0095
15,7 mg 19,5 mg
12,5 mg 15,6 mg 14,7 mg 15,4 mg 11,8 mg [00254] Resultado: revestimento transparente, fosco, amarelo pálido, homogêneo, semelhante à borracha.
6) Poliacrilato, 1-C [00255] O fotossensibilizante finamente pulverizado (0,05 mmol) foi dissolvido em 100 ml de éster etílico de ácido metacrílico (condições secas). Foram adicionados quinona de cânfora (1,7 mg, 0,01 mmol) e éster metílico do ácido 4-dimetilaminobenzóico (0,9 mg, 0,005 mmol, acelerador de amina) e a mistura foi agitada durante 15 min no escuro. A solução podería ser mantida por semanas no escuro.
[00256] A solução foi aplicada a i) madeira com um pincel ou ii) absorvida em um papel de filtro ou iii) pulverizada uniformemente sobre uma placa de PMMA desengordurada.
[00257] Na segunda etapa, a iluminação foi realizada utilizando uma lâmpada de polimerização (LED Bluephase; IvoclarVivadent AG, a 650 mW/cm2) durante 30 segundos. Após a produção, as amostras de teste foram armazenadas em um gabinete de secagem a 37°c durante 24 h, a fim de completar a polimerização. Os seguintes fotossensibilizantes foram utilizados nos experimentos:
Figure BR112019019324A2_D0096
15,7 mg 19,3 mg 13,2 mg 13,9 mg 14,6 mg 12,5 mg 13,2 mg [00258] Resultado: os seguintes foram obtidos: i) vedação polimérica transparente, ii) uma plaqueta amarela pálida parcialmente flexível ou iii) revestimento transparente, amarelo pálido, semelhante à tinta.
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7) Poliacrilato, 2-C
Variação a) [00259] O respectivo fotossensibilizante (0,05 mmol) foi dissolvido em 100 ml de éster metilico do ácido metacrilico (metacrilato de metila, MMA, Sigma Aldrich) (solução A). Tert-butil peroxibenzoato (Peroxan PB, 0,5 g) foi dissolvido em THF (2 ml) (solução B). A solução B foi adicionada à solução A e a mistura foi aquecida durante 15 min a 90 °C em um banho-maria. A solução levemente viscosa foi i) aplicada a uma placa de PMMA desengordurada ou ii) pulverizada sobre uma placa de vidro desengordurada ou iii) aplicada à madeira de pinho e distribuída uniformemente com uma escova (50 ml por m2). Para endurecer completamente o revestimento de vidro acrílico, o suporte foi armazenado durante 24 horas a 60 °C em um gabinete de secagem. Foi obtido um revestimento ou vedação polimérica amarelo claro, de material sintético claro e transparente para a madeira.
[00260] Resultado: revestimento transparente, homogêneo, tipo tinta; em i) e ii), a cor intrínseca amarela da camada era quase imperceptível; em iii), a cor intrínseca não podia ser distinguida a partir do fundo.
Variação b) [00261] O respectivo fotossensibilizante (0,05 mmol) foi dissolvido em 100 ml de éster metilico do ácido metacrilico (metacrilato de metila, MMA, Sigma Aldrich) (solução A). Peróxido de benzoíla (0,5 g) foi dissolvido em THF (2 ml) (solução B). A solução B foi adicionada à solução A e a mistura foi aquecida durante 20 min a 80 °C em um banho-maria. Com a mistura, i) fleece de algodão com aproximadamente 6 mm de espessura ou ii) um tapete de feltro com aproximadamente 6 mm de espessura ou iii) um pedaço de tecido de aramida (cada 20x20 cm2) foi impregnado uniformemente com uma escova, para que o tecido pudesse absorver a mistura na sua totalidade.
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101/114 [00262] Para endurecer completamente o vidro acrílico, os tapetes fibrosos foram secos durante 12 horas a 60 °C. Foi obtida uma placa amarelada sólida. Os seguintes fotossensibilizantes foram processados:
Figure BR112019019324A2_D0097
15,7 mg 19,3 mg 13,2 mg 13,9 mg 14,6 mg 12,5 mg 13,2 mg [00263] Resultado: tapete fibroso de flexibilidade limitada e rígido; cor intrínseca de corante somente pode ser discernida em i).
8) de Poliacrilamida [00264] Uma solução a 40% de acrilamida/bis-acrilamida (37,5: 1) em água (2,5 ml) foi misturada com tampão Tris (3,75 ml, 1M, pH 8,8) e propilenoglicol (0,6 ml). O respectivo fotossensibilizante (0,005 mmol) em água destilada (3,0 ml) foi adicionado. A solução foi desgaseificada durante 5 minutos com uma bomba de vácuo (5-10 mbar) e depois foi adicionado TEMED (10 μΙ_). Finalmente, foram adicionados 0,05 ml de persulfato de amônio (10% em água), com agitação.
[00265] Em seguida, i) uma gaveta espessa de 3 milímetros (placas limpadas previamente com álcool 70%) foi preenchida com a mistura e cuidadosamente revestida com isopropanol. Após a polimerização durante 30 min à temperatura ambiente, o gel era sólido e o sobrenadante pode ser decantado. Após a remoção das placas de câmara, foi obtida uma película amarela pálida, flexível e espessa. Alternativamente, ii) a mistura foi aplicada de maneira uniforme a um fleece.
[00266] Durante a polimerização, o material foi coberto com película aderente. Após a polimerização durante 30 min à temperatura ambiente, o gel era sólido e o filme foi cuidadosamente removido. Foi obtido um revestimento amarelado semelhante a gel.
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102/114 [00267] Os fotossensibilizantes seguintes a foram polimerizados desta maneira:
Figure BR112019019324A2_D0098
1,9 mg 1,9 mg 1,3 mg 1,4 mg 1,5 mg 1,3 mg 1,3 mg [00268] Resultado: i) tapete amarelo pálido semelhante a borracha, ligeiramente opaco; ii) revestimento transparente, fosco, amarelo pálido, homogêneo, semelhante a borracha.
9) Cianoacrilato
Variação a) [00269] O respectivo fotossensibilizante (0,01 mmol) foi dissolvido em 100 ml de diclorometano (seco sobre cloreto de cálcio). Foram adicionados 0,2 g de cianoacrilato comercial (Loctite, Henkel AG & Co. KGaA, Düsseldorf, DE) a 1 g da solução (condições secas). A mistura foi pulverizada uniformemente sobre a) uma placa de vidro desengordurada ou b) madeira de abeto seco. À temperatura ambiente e com uma umidade de entre 20% e 70%, a camada endureceu completamente em 20 minutos.
Variação b [00270] O respectivo fotossensibilizante (0,01 mmol) foi dissolvido em 100 ml de metiletilcetona seca. Cianoacrilato comercial (Loctite.) foi misturado com 10 g da solução em uma proporção de 1:5 (p/p). A solução foi aplicada uniformemente a um substrato limpo com isopropanol, por exemplo i) vidro ou ii) PE ou iii) placa de melamina. Após a evaporação do solvente, o revestimento curado na umidade do ar (aproximadamente 15 minutos, umidade entre 20% e 70%).
[00271] Os fotossensibilizantes a seguir foram processados de acordo com a respectiva variação:
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Figure BR112019019324A2_D0099
39,0 mg 26,4 mg
34,0 mg 31,2 mg 25,0 mg 32,6 mg
Variação a Variação a Variação b
Variação b
Variação b
Variação b [00272] Resultado: revestimento transparente, ligeiramente opaco, amarelo pálido, homogêneo; espessura da camada entre 20 e 40 pm.
10) Poliestireno [00273] O respectivo fotossensibilizante (0,01 mmol) foi dissolvido em 20 ml de poliestireno recém-destilado (Sigma Aldrich) (solução A). Peróxido de benzoíla (0,5 g) foi dissolvido em THF (2 ml) (solução B). A solução B foi adicionada à solução A e a mistura foi aquecida durante 20 min a 80 °C em banho-maria. 5 a 6 ml da mistura foram pintados uniformemente em i) um compensado limpo e não tratado ou ii) uma placa de PMMA desengordurada ou iii) uma placa de vidro desengordurada (cada 20x20 cm2) com uma escova. O suporte foi deixado durante 12 horas a 60 °C para secar completamente. Foi obtida uma placa amarela sólida. Os seguintes fotossensibilizantes foram processados:
Figure BR112019019324A2_D0100
3,1 mg 3,9 mg 2,5 mg 3,1 mg 3,0 mg 3,2 mg 2, 4 mg 3,2 mg
11) Revestimentos de carboximetilcelulose [00274] O respectivo fotossensibilizante (0,05 mmol) foi dissolvido em 100 ml de água juntamente com carboximetilcelulose finamente triturada (4,0 g, Akzo Nobel). 5 a 6 ml da solução límpida e um pouco viscosa foram pintados uniformemente em i) um compensado limpo
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104/114 e não tratado ou ii) uma placa de PMMA desengordurada (cada 20x20 cm2) usando uma escova.
[00275] Como alternativa, iii) um fleece de algodão (20x20 cm2) pode ser impregnado uniformemente com uma escova, para que o tecido possa absorver a mistura na sua totalidade. Para endurecer, o suporte foi deixado secar durante 3 horas à temperatura ambiente. Os seguintes fotossensibilizantes foram processados:
Figure BR112019019324A2_D0101
18,2 mg 15,9 mg 15,9 mg 12,6 mg 15,5 mg [00276] Resultado: i) vedação polimérica transparente sem nenhuma cor intrínseca detectável; ii) revestimento transparente, levemente opaco, amarelo pálido, homogêneo; iii) tapete fibroso de flexibilidade limitada, rígido; a cor intrínseca do fotossensibilizante foi quase indetectável.
12) Revestimentos de alginato [00277] Dissolveu-se hidróxido de sódio (850 mg, 21,25 mmol) em 95 ml de água destilada. Foram adicionados 5 g de ácido algínico (Sigma Aldrich) à solução quente (aproximadamente 35 °C) e agitados durante 3 h. Uma solução viscosa e clara foi formada. Uma solução estoque do respectivo fotossensibilizante (5 ml, 12 mmol/L) foi adicionado gota a gota, com agitação. Utilizando a solução amarela, ligeiramente viscosa, foi impregnado i) um pedaço de papel ou ii) um pedaço de lã de algodão ou iii) uma toalha de papel/almofada (cada 20x20 cm2). A solução excedente foi deixada pingar. O suporte úmido foi rapidamente imerso em uma solução de cloreto de cálcio a 1%. Deixou-se escorrer bem o material, depois foi cuidadosamente esfregado e seco à temperatura ao ar durante 3 horas.
[00278] Os seguintes fotossensibilizantes foram processados:
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Figure BR112019019324A2_D0102
Figure BR112019019324A2_D0103
Figure BR112019019324A2_D0104
20,2 mg 21,9 mg 21,1 mg 12,6 mg [00279]
Resultado: tapete ou pedaço de papel fibroso com flexibilidade limitada e rígida; a cor intrínseca do fotossensibilizante foi quase indetectável.
Exemplo 3: Testando a atividade dos revestimentos de superfície antimicrobiana
1.) Produção de suportes de amostra [00280] O fotossensibilizante a seguir foi usado para os testes abaixo:
Figure BR112019019324A2_D0105
SAPN-19C absorção máxima 360 - 420 nm coeficiente de extinção molar 9800 L mol·1 cm'1 [00281] O fotossensibilizante foi dissolvido no respectivo sistema de pintura e aplicado a vários suportes de amostra quadrados (largura: 4 cm, comprimento: 4 cm, espessura: 3 mm) formado a partir de PVC ou PMMA e depois seco. Após secagem do revestimento, aplicou-se à superfície uma quantidade específica de bactérias da espécie Staphylococcus aureus ATCC 25923.
[00282] Nesse sentido, em primeiro lugar, uma cultura noturna (ON) de S. aureus em 5 ml de caldo Mueller Hinton (Carl Roth GmbH + Co. KG, Karlsruhe, DE) foi inoculada com uma única colônia de uma placa de ágar e incubada a 37 ° C e 180 rpm em um agitador durante 18-20 horas.
[00283] No dia do teste, em cada caso, 1 ml de cultura ON foi centrifugado (centrífuga Hettich Universal 320 R (Andreas Hettich GmbH &
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Co.KG, Tuttlingen, DE); rotor de rotação 1494; 10 min, 3000 rpm, RT ) O sobrenadante foi descartado e o pélet foi ressuspenso em 1 ml de água Milli-Q, que está comercialmente disponível por Merck (KGaA, Darmstadt, DE) (designação “Água Ultra Pura Integral Milli-Q (Tipo 1) ”).
[00284] Depois de determinar a densidade óptica a 600 nm (Specord 50 plus, espectrômetro, Analytik Jena), as bactérias ressuspensas foram diluídas com Milli-Q-água para uma contagem de células de 105 bactérias/ml. A partir da diluição, em cada caso foram pingados 100 μΙ_ no suporte de amostra usando uma pipeta (tamanho de gota aproximadamente 1 cm2).
[00285] Isto resultou em aproximadamente 10.000 bactérias por cm2 na superfície do respectivo suporte de amostra. O suporte de amostra foi então seco ao ar sob uma bancada limpa no escuro durante aproximadamente 2 horas, até que a água não pudesse mais ser vista na superfície.
2.) Irradiação e determinação quantitativa das unidades formadoras de colônia (UFC)/ml [00286] Os respectivos suportes de amostra foram irradiados com luz monocromática a um comprimento de onda de 405 nm com o auxílio de um módulo de LED (área de teste 5 χ 5 cm iluminada de forma homogênea; LEDs de alta potência) ou com iluminação da sala (Osram Lumilux Cool White, cor temperatura 4000 K) nas intensidades e durante os períodos de irradiação indicados abaixo. Imediatamente após a irradiação, as bactérias foram eliminadas da superfície do respectivo suporte de amostra com um pano estéril e ressuspensas em 1 ml de caldo MuellerHinton.
[00287] Em seguida, a amostra foi diluída em série (estágios de diluição 1:10:180 + 20 pL; até o estágio de diluição 10’5).
[00288] Para cada estágio de diluição (100 a 105), foram pingados 3 x respectivamente 20 pl de caldo em uma placa de ágar
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Mueller-Hinton (Carl Roth GmbH + Co. KG) usando uma pipeta e espalhados. As placas de ágar foram então incubadas a 37 °C ON.
[00289] No dia seguinte, foram contadas as colônias de todos os estágios de diluição que poderíam ser contados em um experimento e foi calculado o CFU/ml.
[00290] Estágios de diluição que exibiram um gramado bacteriano ou nenhuma colônia foram denotados com ou 0 e não foram incluídos no cálculo de CFU/ml.
[00291] Em seguida, a partir do valor para o CFU/ml, a taxa de erradicação de log10 foi calculada. O ponto de referência em cada experiência foi o controle de referência (=contagem de 100% das bactérias empregadas).
[00292] Um teste foi composto pelos seguintes:
- suporte de amostra revestido: sem fotossensibilizante, não irradiado (“controle de referência”)
- suporte de amostra revestido: com fotossensibilizante, não irradiado (controle escuro)
- suporte de amostra revestido: sem fotossensibilizante e irradiado (“controle de luz”)
- suporte de amostra revestido: com fotossensibilizante e irradiado (amostra)
3.) Sistemas de pintura usados e parâmetros de irradiação
3.1.) Pintura de poliuretano 2-C (solvente: acetato de butilo/xileno) a partir do Exemplo 2.1 [00293] Material revestido: PMMA, 3 milímetros de espessura, 4 x 4 cm [00294] Tempo de secagem de aproximadamente 1 hora [00295] Temperatura de secagem de 15 - 30 °C [00296] Aplicação com uma pistola de pulverização
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108/114 [00297] Concentração (61,55 mg/L)
Condições de irradiação:
Fonte de irradiação
Módulo de LED (405 nm)
Módulo de LED (405 nm) Módulo de LED (405 nm) de fotossensibilizante utilizado: 200 μηπ
Teste Ne
3.1.1
3.1.2
3.1.3
Intensidade de irradiação Duração da irradiação mW/cm2 2 min mW/cm2
0,7 mW/cm2 min a 150 min
3.2.) Pintura de poliuretano 1 -C, à base de água, a partir do Exemplo
2.2 [00298] Material revestido: PVC, 3 milímetros de espessura, 4x4 cm [00299] Tempo de secagem de aproximadamente 2 horas [00300] Temperatura de secagem de 15 - 30 °C [00301] Umidade relativa para o tempo de secagem 30 - 70% [00302] Aplicação com uma pistola de pulverização [00303] Concentração de fotossensibilizante utilizado: 200 μιτι (61,55 mg/L)
Condições de irradiação:
Teste Ne Fonte de irradiação Intensidade de irradiação Duração de irradiação
3.2.1 Módulo de LED (405 nm) 10 mW/cm2 10 min
3.3) Silicone de 2 componentes (RTV-2) vulcanizante à temperatura ambiente do Exemplo 2.5 [00304] Material revestido: PVC, 3 milímetros de espessura, 4x4 cm [00305] Tempo de secagem de aproximadamente 2 horas [00306] Temperatura de secagem de 15 - 30 °C [00307] Umidade relativa para o tempo de secagem 30 - 70% [00308] Aplicação com uma pistola de pulverização [00309] Concentração de fotossensibilizante utilizado: 200 μιτι (61,55 mg/L)
Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 115/162
109/114 [00310] Dois graus de dureza do silicone (conhecidos como Shores): A = 10 Shore; B = 45 Shore
Condições de irradiação:
Teste Ne Fonte de irradiação Intensidade de irradiação Duração de irradiação
3.3.1 Módulo de LED (405 nm) 10mW/cm2 5 min
3.3.2 Módulo de LED (405 nm) 10mW/cm2 10 min
4.) Resultados e avaliação
4.1.) Tinta de poliuretano 2-C (solvente: acetato de butilo/xileno) a partir do Exemplo 2.1 [00311] Em um primeiro estudo com o sistema de pintura 2-C, em primeiro lugar, as altas intensidades de 10 e 20 mW/cm2 foram utilizadas para testar a atividade do fotossensibilizante SAPN-19c usado contra S. aureus. Os resultados são mostrados na Figura 1A.
[00312] A figura 1A mostra respectivamente os valores médios para a redução de S. aureus na superfície de pintura 2-C a partir de três testes independentes. A irradiação foi realizada usando 10 ou 20 mW/cm2 e durante 2 minutos (corresponde a uma densidade de energia de 1,2 OU 2,4 J/cm2).
[00313] A figura 2A mostra que o sistema de pintura 2-C, mesmo depois de um tempo de irradiação de 2 minutos a uma intensidade de luz de 10 mW/cm2, exibiu uma redução em log 10 de 1,8 (valor médio de 3 experimentos independentes). Aumentar a intensidade da luz 20 mW/cm2 levou a um extermínio efetivo de 2,7 unidades de log 10.
[00314] Subsequentemente, foi determinada a efetividade a baixas intensidades de 0,7 mW/cm2. Os resultados são mostrados na Figura 1B.
[00315] A figura 1B, respectivamente, mostra os valores médios para a redução de S. aureus na superfície de pintura 2-C (tinta 2-C incolor à base de solvente, sobre suporte de amostra PMMA transparente) a partir de dois testes independentes.
[00316] A irradiação foi realizada usando 0.7 mW/cm2 por até 150 minutos (corresponde a uma densidade de energia de até 6,3 J/cm2). O
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110/114 valor médio para o controle de referência (sem luz, sem catalisador) foi de
3,2 x 104 bactérias por ml. Os controles claros e escuros foram medidos somente em 150 minutos.
[00317] A redução nas unidades formadoras de colônias em relação a uma amostra não irradiada (0 min) foi medida em intervalos, em que após os tempos mostrados na Figura 1b (5 min, 10 min, 20 min, 30 min, 40 min, 60 min, 90 min, 120 min e 150 min), respectivamente 2 suportes de amostras revestidos foram retirados da irradiação. Os resultados a partir de dois testes independentes são mostrados na Figura 1B.
[00318] O valor médio para o controle de referência (sem luz, sem catalisador) foi de 3,2 x 104 bactérias por ml. Os controles claros e escuros foram medidos somente em 150 minutos.
[00319] Figura 1B mostra que, depois de apenas 20 minutos, a 2-C sistema de pintura atingiu uma erradicação de S. aureus de 1,9 log10 unidades.
[00320] Quando irradiado com uma fonte de luz artificial, o sistema de pintura 2-C exibiu uma atividade biológica contra S. aureus, tanto a altas intensidades e baixos tempos de irradiação (Figura 1A) quanto também a baixas intensidades e tempos de irradiação mais longos (Figura 1B).
4.2.) Pintura de poliuretano 1 -C, à base de água, a partir do Exemplo
2.2 [00321] Um primeiro teste, com uma alta intensidade (10 mW/cm2) e um longo período de irradiação (10 minutos), demonstrou a atividade do sistema de pintura 1-C.
[00322] Os resultados são mostrados na Figura 2.
[00323] A figura 2 mostra os valores médios para a redução de S. aureus na superfície de pintura 1-C a partir de três testes independentes. A
Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 117/162
111/114 irradiação foi realizada usando 10 mW/cm2 e 10 minutos (corresponde a uma densidade de energia de 6 J/cm2).
[00324] As experiências com o sistema de tinta 1-C mostram claramente que apenas uma interação de luz e o catalisador fotodinâmico produz um efeito erradicação de S. aureus na superfície revestida. Três testes independentes exibiram 1669 uma erradicação média de 3,0 unidades log10 para uma densidade de energia de 6 J/cm2.
[00325] O controle de luz nos experimentos exibiu uma redução média de 1,2 unidades de log10, o que presumivelmente se deve ao suporte de amostra escura.
3.3) Silicone de 2 componentes (RTV-2) vulcanizante à temperatura ambiente do Exemplo 2.5 [00326] Um primeiro teste, com uma alta intensidade (10 mW/cm2) e um período de irradiação de 5 minutos ou 10 minutos demonstrou a atividade do sistema de silicone RTV-2.
[00327] Os resultados são mostrados na Figura 3, em que, em cada caso, o valor médio de 3 testes é mostrado.
[00328] A Figura 3 mostra a redução logarítmica de S. aureus na superfície de silicone (A- significa 10 Shore sem corante, A+ significa 10 Shore mais corante, B- significa 45 Shore sem corante, B+ significa 45 Shore mais corante).
4.3) Resumo [00329] Nos sistemas de tinta testados (sistema de tinta 2-C PUR; sistema de tinta 1-C PUR, silicone RTV-2), o fotossensibilizante SAPN-19c que foi usado exibiu uma atividade biológica contra S. aureus no revestimento de superfície pintado.
[00330] Intensidades de luz mais altas e/ou períodos de irradiação mais longos produziram mais oxigênio singlete, o que resultou em uma erradicação mais rápida e eficaz de microrganismos na superfície.
Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 118/162
112/114 [00331] A concentração de 200 μΜ (61,55 mg/L) usado em ambos os sistemas de tinta não era visível em superfícies coloridas. Além disso, a uma intensidade de luz de 6 J/cm2, o revestimento atingiu uma redução de 3 unidades de log10 (= 99,9%) das bactérias envolvidas.
Exemplo 4. Testando o efeito fototóxico de uma superfície revestida em iluminação de escritório (tubos de neon) [00332] Em um teste subsequente, o sistema de tinta 2-C foi irradiado com iluminação ambiente. A este respeito, as superfícies fotoativas produzidas no Exemplo 2.1 com os fotossensibilizantes SAPN19c e SAPN-19 foram adicionalmente armazenadas expostas em áreas com iluminação normal de escritório (lâmpadas fluorescentes padrão, Osram Cool White, 840) e as ações fototóxicas em S. aureus com as mesmas contagens de patógenos como no Exemplo 3 foi analisada após períodos específicos. A este respeito, as camadas fotoativas foram distanciadas da fonte luminosa em cerca de 40 cm.
[00333] Foi demonstrado que, para o fotossensibilizante SAPN19c, após armazenamento durante 24 horas sob condições padrão de iluminação de escritório com um período de iluminação de 12 h, todos os patógenos na superfície foram completamente erradicados(aproximadamente 5,5 log 10 unidades , correspondendo à redução de 99,999%).
Exemplo 5: Teste de longo prazo da estabilidade fotoativa [00334] Para testar a estabilidade das lacunas produzidas, foi realizado um teste de longo prazo.
[00335] As áreas de teste foram pré-irradiadas por diferentes períodos de tempo (5, 25, 50, 75 h) a uma saída de 5 mW crri2, a fim de estabelecer se o respectivo fotossensibilizante em PUR foi afetado de uma maneira a reduzir a atividade fototóxica de superfície:
Energia aplicada [J cm'2] 5 mW cm'2 0,7 mW cm'2 “Dias de irradiação”
90 5 h 35,70 h 7 dias (d)
Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 119/162
113/114
450 25 h 178,5 h 36 d
900 50 h 357,0 h 71 d
1350 75 h 535,5 h 107d
[00336] Após a pré-irradiação, as superfícies, como descrito acima, foram contaminadas com S. aureus, em seguida, irradiadas durante 2h (corresponde a 5 mW cnT2) e a eficiência fototóxica foi medida.
Figure BR112019019324A2_D0106
Figure BR112019019324A2_D0107
OH
SAPN-19C Quantidade usada: 5 10-4 mol/L
F.sso ^.ffiecdíar = 718,SS Q H
Sensibilizante TPP WBII/2 Quantidade usada: 5 10-4 mol/L [00337] O Sensibilizante TPP WBII/2 foi produzido usando o método descrito em Felgentrâger A., Maisch T., Spâth A., Schroder J.A., Bãumler W., “Singlet oxygen generation in porphyrin-doped polymeric surface coating enables antimicrobial effects on Staphylococcus aureus.”, (Phys Chem Chem Phys. 2014 Out 14;16(38):20598-607. doi: 10.1039/c4cp02439g.).
[00338] Para as superficies dopadas com porfirina testadas (Sensibilizante TPP WBII/2), houve uma notável redução na eficiência fototóxica. A este respeito, após um mês, o teste de superfícies tinha descolorido significativamente e eles perderam atividade fototóxica.
[00339] Isso pode ocorrer porque o anel do corante se rompe sob a influência do oxigênio ativo, após o que são formados análogos da bilirrubina:
Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 120/162
114/114
Figure BR112019019324A2_D0108
[00340] Para SAPN-19c, não houve diferença em relação à eficiência fototóxica até uma pré-irradiação de 75 h com 5 mW cm’2.
[00341] Isto corresponde a uma irradiação extrapolada de 312 dias (d), assumindo que os tubos de iluminação de escritório com uma potência de 100 pW cm-2 (na área de trabalho do escritório) sejam continuamente iluminados durante 12 horas por dia.

Claims (36)

  1. REIVINDICAÇÕES
    1. Composição fotossensibilizante caracterizada pelo fato de que compreende (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1):
    Figure BR112019019324A2_C0001
    em que os resíduos R1 a R8, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-alquil contendo 1 a 12 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb), ou um resíduo orgânico W1 que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1 a R7 seja um resíduo orgânico W1, em que o resíduo orgânico W1, respectivamente, independentemente um do outro, represente um resíduo com a fórmula geral (2) a (6):
    * - [(C(D)(E))d - B]a - (C(D)(E))m - X(2) * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - X(3) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - X(4) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(5) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(6) em que A, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a):
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 122/162
  2. 2/36 *C
    Figure BR112019019324A2_C0002
    (10a) (11a) em que *pH denota respectivamente urn enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente urn enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), e em que o resíduo B, respectivamente, independentemente urn do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (14):
    *
    Figure BR112019019324A2_C0003
    (10) (11) (12) (13) (14) em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a), R(12a), R(13a), R(14a) e R(14b), respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo que consiste em halogênio, amino, hidroxil, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos OH, halogenoalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos de halogênio, e suas combinações, preferencialmente cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 123/162
  3. 3/36 representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, dihidrogênio fosfato, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação destes, e em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos de OH, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L- R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-X, um resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-X, ou um resíduo com a fórmula *(CH2)s-L-(CH2)t-X, em que o resíduo L, respectivamente, independentemente um do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll) respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, npropil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos, os índices q, s e t, respectivamente, independentemente uns dos outros representando um número inteiro de 1 a 5, em que os índices a, c, f, g e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, e em que os índices b, d e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído, e em que o resíduo X, respectivamente, independentemente um do outro é um grupo funcional reativo denotado por *-N(R(VI))(R(VII)), -OH, *Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 124/162
  4. 4/36
    SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[O-Si(R(X))(R(XI))]P-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
    Figure BR112019019324A2_C0004
    Figure BR112019019324A2_C0005
    Figure BR112019019324A2_C0006
    (23) (24) em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), R(23a), pj(24a), p(24b) θ r(24c) reSpectjvamente5 independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, secbutil, iso-butil, ou n-pentil, e em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 4, em que os resíduos R(VI) e R(VII) respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificada, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, em que os resíduos R(VIII), R(IX), R(X) e R(XI) respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificada, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-Oalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 125/162
  5. 5/36 uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro, representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, preferencialmente halogênio ou hidroxil e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4, e (b) pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
    2. Composição fotossensibilizante, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o resíduo Ar respectivamente independentemente um do outro representa um resíduo com a fórmula geral (25a) a (31):
    Figure BR112019019324A2_C0007
    (25a) (25b) (25c)
    Figure BR112019019324A2_C0008
    (26a) (26b) (26c)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 126/162
  6. 6/36
    Figure BR112019019324A2_C0009
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 127/162
  7. 7/36
    Figure BR112019019324A2_C0010
    em que os resíduos R25, R26, R27, R28, R29, R26a, R26b, R27a, R27b, R28a, R28b, R29a, R29b, R30a e R30b respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, hidroxi, amina, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil respectivamente independentemente um do outro podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e combinações dos mesmos, e em que o resíduo R30 respectivamente independentemente um do outro representa o hidrogênio ou o alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, e em que os resíduos R33a e R33b respectivamente independentemente um do outro representam hidrogênio, hidroxi, amina, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, perfluoralquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil, benzil ou, quando tomados em conjunto, um cicloalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 4 a 9 átomos de carbono ou um resíduo de 9H-fluoren-9-ilideno, e em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, fosfato de dihidrogênio, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 128/162
  8. 8/36 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação dos mesmos.
    3. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações 1 ou 2, caracterizada pelo fato de que pelo menos um resíduo orgânico W1 respectivamente independentemente um do outro representa um resíduo com a fórmula geral (40) a (67) ou (72) a (98e):
    Figure BR112019019324A2_C0011
    Figure BR112019019324A2_C0012
    Figure BR112019019324A2_C0013
    Figure BR112019019324A2_C0014
    (49) (50) (51) (52)
    Figure BR112019019324A2_C0015
    (53) (54) (55) (56)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 129/162
  9. 9/36
    Figure BR112019019324A2_C0016
    (57) (58) (59)
    Figure BR112019019324A2_C0017
    Figure BR112019019324A2_C0018
    (61) (62) (63) (64)
    Figure BR112019019324A2_C0019
    (65) (66) (67)
    Figure BR112019019324A2_C0020
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 130/162
  10. 10/36
    Figure BR112019019324A2_C0021
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 131/162
  11. 11/36
    Figure BR112019019324A2_C0022
    Figure BR112019019324A2_C0023
    Figure BR112019019324A2_C0024
    (98d) (98e) em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, fosfato de dihidrogênio, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono, pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação dos mesmos.
    4. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações de 1 a 3, caracterizada pelo fato de que compreende:
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 132/162
  12. 12/36 (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1), que é selecionado dentre o grupo que consiste em compostos com fórmula (100) a (127), (132) a (166):
    Figure BR112019019324A2_C0025
    (100) (101) (102) (103)
    Figure BR112019019324A2_C0026
    Figure BR112019019324A2_C0027
    (107)
    Figure BR112019019324A2_C0028
    (108)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 133/162
  13. 13/36
    Figure BR112019019324A2_C0029
    Figure BR112019019324A2_C0030
    (117)
    Figure BR112019019324A2_C0031
    Figure BR112019019324A2_C0032
    Figure BR112019019324A2_C0033
    (120) (121) (122)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 134/162
  14. 14/36
    Figure BR112019019324A2_C0034
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 135/162
  15. 15/36
    Figure BR112019019324A2_C0035
    (138) (139) (140)
    Figure BR112019019324A2_C0036
    (141) (142) (143)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 136/162
  16. 16/36
    Figure BR112019019324A2_C0037
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 137/162
  17. 17/36 (153) (154) (155)
    Figure BR112019019324A2_C0038
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 138/162
  18. 18/36 (165) (166) e suas combinações, e (b) pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
    5. Composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a) caracterizado pelo fato de que:
    Figure BR112019019324A2_C0039
    (1a) os resíduos R1a a R8a, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-alquil contendo 1 a 12 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb), ou um resíduo orgânico W1a que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1a ou R2a seja um resíduo orgânico W1a, em que o resíduo orgânico W1a, respectivamente, independentemente um do outro, represente um resíduo com a fórmula geral (2a) a (6a):
    * - [(C(D)(E))d - B]e - (C(D)(E))m - Xa(2a) * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - Xa(3a) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - Xa(4a) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - Xa(5a) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - Xa(6a)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 139/162
  19. 19/36 em que o resíduo A, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a):
    *C
    Figure BR112019019324A2_C0040
    (10a) (11a) em que *pH denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), em que o resíduo B, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (12):
    *
    Figure BR112019019324A2_C0041
    (10) (11) (12) e em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a) e R(12a) respectivamente independentemente uns dos outros representam metil, etil, n-propil, isopropil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que o fenil e o benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, isopropil, metoxi, etoxi, e suas combinações, e em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 140/162
  20. 20/36 grupos de OH, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L- R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-Xa, urn resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-Xa, ou um resíduo com a fórmula *(CH2)s-L-(CH2)t-Xa, em que o resíduo L, respectivamente, independentemente urn do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll)respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, npropil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos com um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, npropil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, os índices q, s e t, respectivamente, independentemente uns dos outros representando um número inteiro de 1 a 5, em que os índices c, g, f e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, e e em que os índices b, d, e e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído que não contém átomos de N, e em que o resíduo Xa, respectivamente, independentemente um do outro representa um grupo funcional reativo * -OH, * -SH, * -NCO, * -NCS, * -Si(R(VIII))(R(IX))-[O-Si(R(X))(R(XI))]p-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
    Figure BR112019019324A2_C0042
    (20) (21) (22)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 141/162
  21. 21/36
    Figure BR112019019324A2_C0043
    (23) (24) em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), R(23a), pj(24a), p(24b) θ r(24c) reSpectjvamente5 independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, secbutil, iso-butil ou n-pentil, e em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 4, em que o resíduos R(VIII), R(IX), R(X) e R(XI) respectivamente, independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, -Oalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metilo, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro, representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4.
    6. Composto de fenalen-1-ona, de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de que o resíduo Ar respectivamente independentemente um do outro representa um resíduo fenil não substituído ou substituído, um resíduo bifenil não substituído ou substituído, um resíduo de difenilpropil não substituído ou substituído ou um resíduo bisfenilsulfonil não substituído ou substituído, preferencialmente um resíduo com a fórmula geral (25a) a (25c), (29a) a (29c), (30) ou (31):
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 142/162
  22. 22/36
    Figure BR112019019324A2_C0044
    (25a) (25b) (25c)
    Figure BR112019019324A2_C0045
    Figure BR112019019324A2_C0046
    em que os resíduos R25, R26, R27, R28, R29, R26a, R26b, R27a, R27b, R28a, R28b, R29a, R29b, R30a e R30b respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, hidroxi, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, perfluoralquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que os resíduos R33a e R33b respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, hidroxi, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, perfluoralquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil, benzil ou, quando
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 143/162
  23. 23/36 tomados em conjunto, um cicloalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 4 a 9 átomos de carbono ou um resíduo de 9H-fluoren-9-ilideno, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros, podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações.
    7. Composto de fenalen-1-ona, de acordo com a reivindicação 5 ou 6, caracterizado pelo fato de que pelo menos um resíduo orgânico W1a respectivamente independentemente um do outro representa um resíduo com a fórmula geral (41) a (67) ou (98a) a (98e):
    Figure BR112019019324A2_C0047
    (41) (42) (43)
    Figure BR112019019324A2_C0048
    Figure BR112019019324A2_C0049
    Figure BR112019019324A2_C0050
    (49) (50) (51) (52)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 144/162
  24. 24/36
    Figure BR112019019324A2_C0051
    Figure BR112019019324A2_C0052
    (53) (54) (55) (56)
    Figure BR112019019324A2_C0053
    Figure BR112019019324A2_C0054
    (57) (58) (59)
    Figure BR112019019324A2_C0055
    (60)
    Figure BR112019019324A2_C0056
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 145/162
  25. 25/36
    Figure BR112019019324A2_C0057
    (98a) (98b) (98c)
    Figure BR112019019324A2_C0058
    Figure BR112019019324A2_C0059
    (98e) (98d)
    8. Composto de fenalen-1-ona, de acordo com uma das reivindicações de 5 a 7, caracterizado pelo fato de que pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1a) é selecionado dentre o grupo constituído por compostos com fórmula (101) a (127), (162) a (166) e suas combinações:
    OH
    Figure BR112019019324A2_C0060
    (101) (102) (103)
    Figure BR112019019324A2_C0061
    (104)
    Figure BR112019019324A2_C0062
    (105)
    Figure BR112019019324A2_C0063
    (106)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 146/162
  26. 26/36
    Figure BR112019019324A2_C0064
    (107) (108)
    Figure BR112019019324A2_C0065
    Figure BR112019019324A2_C0066
    Figure BR112019019324A2_C0067
    Figure BR112019019324A2_C0068
    (117) (118) (119)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 147/162
  27. 27/36
    Figure BR112019019324A2_C0069
    (123) (124) (125)
    Figure BR112019019324A2_C0070
    (126) (127)
    Figure BR112019019324A2_C0071
    Figure BR112019019324A2_C0072
    Figure BR112019019324A2_C0073
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 148/162
  28. 28/36
    Figure BR112019019324A2_C0074
    (165) (166)
    9. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações de 1 a 4, caracterizada pelo fato de que compreende:
    (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1) que é um composto de fenalen-1-ona conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8, e (b) pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo.
    10. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações de 1 a 4 ou 9, caracterizada pelo fato de que o pelo menos um componente polimérico e/ou precursor do mesmo é selecionado dentre o grupo que consiste em polímeros e/ou copolímeros de ácido acrílico e seus ésteres, ácido metacrílico e seus ésteres, ácido cianoacrilico e seus ésteres, acrilamida, metacrilamida, estireno, siloxanos e seus ésteres, melamina, acrilonitrila, 1,3-butadieno, epicloridrina, polióis, poliisoprenos, poliéteres, polieterimidas, polivinil acetatos, policarbonatos, poliéter sulfonas, carboximetilcelulose, alginato e suas combinações.
    11. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 10, caracterizada pelo fato de que a composição compreende adicionalmente pelo menos um agente de reticulação, que contém pelo menos um poliisocianato, um isocianato bloqueado, pelo menos um diisocianato de alquila ou diisocianato de cicloalquila ou diisocianato de arila, um composto com a fórmula geral SiZ4, (Rx) SiZ3, (Rxll)2SiZ2, um composto contendo pelo menos dois resíduos de epóxi, um composto contendo pelo menos dois resíduos de acrilamida, um composto contendo pelo menos dois resíduos de acrilato, um composto contendo pelo menos dois resíduos de aldeído, um composto contendo
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 149/162
  29. 29/36 pelo menos dois grupos alcoólicos, um composto contendo pelo menos dois resíduos de amina, uma divinilsulfona, ou suas combinações, em que o resíduo Rx respectivamente independentemente um do outro representa um alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, preferencialmente metil, etil, n-propil, iso-propil, fenil ou benzil, e em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente um do outro representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, preferencialmente halogênio ou hidroxil.
    12. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 11, caracterizada pelo fato de que pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1) é covalentemente e/ou eletrostaticamente ligado, preferivelmente covalentemente, ao pelo menos um componente polimérico e/ou precursor dos mesmos.
    13. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 12, caracterizada pelo fato de que a composição fotossensibilizante é uma tinta, um verniz, uma tinta de emulsão, uma tinta látex, uma tinta de silicato ou uma tinta de giz.
    14. Composição fotossensibilizante, de acordo com uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 13, caracterizada pelo fato de que a composição fotossensibilizante é um granulado.
    15. Artigo compreendendo pelo menos uma composição de polímero endurecido, caracterizado pelo fato de que a composição de polímero endurecido compreende (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1):
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 150/162
  30. 30/36
    R1
    Figure BR112019019324A2_C0075
    em que os resíduos R1 a R8, que, respectivamente, independentemente um do outro podem ser idênticos ou diferentes um do outro, respectivamente, representam hidrogênio, halogênio, alquil contendo 1 a 12 átomos de C, alquilaril contendo 1 a 18 átomos de C, aril contendo 5 a 20 átomos de C, *-O-alquil contendo 1 a 12 átomos de C, *—O—alquilaril contendo 1 a 18 átomos de C, *-O-aril contendo 5 a 20 átomos de C, éter contendo 2 a 12 átomos de C, um resíduo com a fórmula *-O-C(=O)-R(la), um resíduo com a fórmula *-C(=O)-R(lb), ou um resíduo orgânico W1 que contenha pelo menos um grupo funcional reativo, com a condição de que pelo menos um dos resíduos R1 a R7 seja um resíduo orgânico W1, em que o resíduo orgânico W1, respectivamente, independentemente um do outro, represente um resíduo com a fórmula geral (2) a (6):
    * - [(C(D)(E))d - B]a - (C(D)(E))m - X(2) * - A - [(C(D)(E))d - B]c - (C(D)(E))m - X(3) * - (C(D)(E))d - Ar - (C(D)(E))n - X(4) * - [(C(D)(E))d - B]b - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(5) * - A - [(C(D)(E))d - B]f - (C(D)(E))g - Ar - (C(D)(E))n - X(6) em que o resíduo A, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a):
    *c ck >c „ I θ^*Ρ^ θ^*ρή (10a) (11a)
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 151/162
  31. 31/36 em que *pH denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do anel fenaleno e *c denota respectivamente um enlace do resíduo com a fórmula geral (10a) a (11a) a um átomo de C do resíduo (C(D)(E)), e em que o resíduo B, respectivamente, independentemente um do outro representa oxigênio, enxofre ou um resíduo com a fórmula geral (10) a (14):
    *
    Figure BR112019019324A2_C0076
    (10) (11) (12) (13) (14) em que os resíduos R(la), R(lb), R(11a), R(12a), R(13a), R(14a) and R(14b), respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo que consiste em halogênio, amino, hidroxil, *-O-alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos OH, halogenoalquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 3 átomos de carbono e 1 a 3 grupos de halogênio, e suas combinações, preferencialmente cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que Y é um ânion que, respectivamente, independentemente um do outro representa flúor, cloreto, brometo, iodeto, sulfato, sulfato de hidrogênio, fosfato, fosfato de hidrogênio, dihidrogênio fosfato, pelo menos um ânion carboxilato de um ácido carboxílico contendo 1 a 15 átomos de carbono,
    Petição 870190092885, de 17/09/2019, pág. 152/162
  32. 32/36 pelo menos um ânion sulfonato de um ácido sulfônico contendo 1 a 12 átomos de C, ou uma combinação destes, e em que os resíduos D e E, respectivamente, independentemente uns dos outros representam hidrogênio, halogênio, hidroxil, alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, hidroxialquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono e 1 a 5 grupos de OH, fenil, benzil, um resíduo com a fórmula *-L- R(ll), um resíduo com a fórmula *-L-C(=L)-R(lll), um resíduo com a fórmula *-(CH2)q-X, um resíduo com a fórmula *-L- (CH2)q-X, ou um resíduo com a fórmula *(CH2)s-L-(CH2)t-X, em que o resíduo L, respectivamente, independentemente um do outro, representa oxigênio ou enxofre, preferencialmente oxigênio, em que os resíduos R(ll) e R(lll) respectivamente independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, npropil, iso-propil, n-butil, sec-butil, iso-butil, n-pentil, fenil ou benzil, e em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos, os índices q, s e t, respectivamente, independentemente uns dos outros representando um número inteiro de 1 a 5, em que os índices a, c, f, g e n, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 5, e em que os índices b, d e m respectivamente independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 1 a 5, em que o resíduo Ar, respectivamente, independentemente um do outro, representa um composto aromático substituído ou não substituído ou um composto heteroaromático substituído ou não substituído, e em que o resíduo X, respectivamente, independentemente um do outro é um grupo funcional reativo denotado por *-N(R(VI))(R(VII)), -OH, *SH, *-NCO, *-NCS, *-Si(R(VIII))(R(IX))-[O-Si(R(X))(R(XI))]p-Z ou um resíduo com a fórmula geral (20) a (24):
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  33. 33/36
    Figure BR112019019324A2_C0077
    Figure BR112019019324A2_C0078
    Figure BR112019019324A2_C0079
    R(24c<
    *-^C\'C_R<24b>
    'R(24a) (23) (24) em que os resíduos R(20a), R(20b), R(20c), R(21a), R(22a), R(22b), R(22c), R(23a), pj(24a), p(24b) θ r(24c) reSpectjvamente5 independentemente uns dos outros, representam hidrogênio, metil, etil, n-propil, iso-propil, n-butil, secbutil, iso-butil, ou n-pentil, e em que os índices I e k, respectivamente, independentemente uns dos outros representam um número inteiro de 0 a 4, em que os resíduos R(VI) e R(VII) respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificada, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil respectivamente independentemente uns dos outros podem ser substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor, metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi, e suas combinações, em que os resíduos R(VIII), R(IX), R(X) e R(XI) respectivamente independentemente uns dos outros representam hidrogênio, alquil que pode ser linear ou ramificada, contendo 1 a 5 átomos de carbono, *-0alquil que pode ser linear ou ramificado, contendo 1 a 5 átomos de carbono, fenil ou benzil, em que fenil e benzil, respectivamente, independentemente uns dos outros podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais resíduos selecionados dentre o grupo constituído por cloro, bromo, flúor,
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  34. 34/36 metil, etil, n-propil, iso-propil, metoxi, etoxi e suas combinações, em que o resíduo Z, respectivamente, independentemente urn do outro, representa halogênio, hidroxil, alcoxil contendo 1 a 4 átomos de carbono ou alquilcarboxil contendo 1 a 4 átomos de carbono, preferencialmente halogênio ou hidroxil e em que o índice p respectivamente independentemente um do outro representa um número inteiro de 0 a 4, e (b) pelo menos um componente polimérico endurecido, em que o pelo menos um composto de fenalen-1-ona com a fórmula geral (1) é covalentemente e/ou eletrostaticamente ligado, preferivelmente covalentemente, ao pelo menos um componente polimérico endurecido.
    16. Artigo, de acordo com a reivindicação 15, caracterizado pelo fato de que a composição de polímero endurecido compreende (a) pelo menos um composto de fenalen-1-ona com fórmula (1), pelo menos um composto de fenalen-1-ona conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8 ou uma combinação dos mesmos, e (b) pelo menos um componente polimérico endurecido, em que o pelo menos um composto de fenalen-1-ona com fórmula (1), o pelo menos um composto de fenalen-1-ona conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8 ou uma combinação dos mesmos é covalentemente e/ou eletrostaticamente ligado, preferivelmente covalentemente, ao pelo menos um componente polimérico endurecido.
    17. Artigo, de acordo com a reivindicação 15 ou 16, caracterizado pelo fato de que a composição de polímero endurecido está na forma de um revestimento, película autossustentável, tecido ou artigo em forma.
    18. Uso de uma composição fotossensibilizante, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 14, e/ou de um composto de fenalen-1-ona, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8 e/ou de um artigo, conforme reivindicado em uma das reivindicações 15 a 17, caracterizado pelo fato de que é para a
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  35. 35/36 inativação, preferencialmente para a inativação fotodinâmica de microrganismos que são preferencialmente selecionados dentre o grupo que consiste em vírus, arqueia, bactérias, esporos bacterianos, biopelícula de bactérias, fungos, esporos fúngicos, protozoários, algas e parasitas transmitidos pelo sangue, e/ou uma biopelícula dos mesmos.
    19. Uso de uma composição fotossensibilizante, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 14, e/ou de um composto de fenalen-1-ona, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8, caracterizado pelo fato de que é para a limpeza de superfície fotodinâmica e/ou o revestimento de superfície de um artigo ou de uma área.
    20. Uso, de acordo com a reivindicação 19 ou 20, caracterizado pelo fato de que é para o revestimento de superfície dos artigos, preferencialmente, produtos médicos, embalagem de alimentos, película de empacotamento, matérias têxteis, materiais de construção, brinquedos, dispositivos eletrônicos, mobília ou artigos de higiene.
    21. Método para a inativação, preferencialmente para a inativação fotodinâmica, de microrganismos que, de preferência, compreendem vírus, arqueia, bactéria, esporos bacterianos, biopelículas de bactérias, fungos, esporos fúngicos, protozoários, algas, parasitas transmitidas pelo sangue ou combinações dos mesmos, e/ou uma biopelícula do mesmo, caracterizado pelo fato de que o método compreende as seguintes etapas:
    (A) colocar os microrganismos e/ou uma biopelícula do mesmo em contato com pelo menos um revestimento que tenha sido produzido através do endurecimento de uma composição fotossensibilizante, conforme reivindicado em uma das reivindicações de 1 a 4 ou de 9 a 14 e/ou que contenha pelo menos um composto de fenalen-1-ona conforme reivindicado em uma das reivindicações de 5 a 8, e/ou pelo menos um
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  36. 36/36 artigo conforme reivindicado em uma das reivindicações de 15 a 17, e (B) irradiar os microrganismos e/ou uma biopelícula do mesmo e o pelo menos um composto de fenalen-1-ona contido no revestimento e/ou o artigo com radiação eletromagnética de um comprimento de onda e densidade de energia adequados.
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