RU2018124444A - Способ и установка для получения цветного остекления - Google Patents

Способ и установка для получения цветного остекления Download PDF

Info

Publication number
RU2018124444A
RU2018124444A RU2018124444A RU2018124444A RU2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A RU 2018124444 A RU2018124444 A RU 2018124444A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
coating
component
oxide
preceding paragraphs
oxynitride
Prior art date
Application number
RU2018124444A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2720846C2 (ru
RU2018124444A3 (ru
Inventor
Любовь МАГДЕНКО-САВУРЕ
Розиана АГИАР
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс
Publication of RU2018124444A publication Critical patent/RU2018124444A/ru
Publication of RU2018124444A3 publication Critical patent/RU2018124444A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2720846C2 publication Critical patent/RU2720846C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
    • C03C17/2456—Coating containing TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0015—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036—Reactive sputtering
    • C23C14/0057—Reactive sputtering using reactive gases other than O2, H2O, N2, NH3 or CH4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0688—Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/3464—Sputtering using more than one target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5806—Thermal treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/45—Inorganic continuous phases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C03C2217/479—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/48—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific function
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/48—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific function
    • C03C2217/485—Pigments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C03C2218/153—Deposition methods from the vapour phase by cvd by plasma-enhanced cvd
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • C03C2218/155—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by reactive sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Claims (42)

1. Способ осаждения покрытия на стеклянную подложку, характеризующийся тем, что он включает в себя следующие последовательные этапы:
a) продвигают упомянутую подложку в устройстве вакуумного осаждения катодным распылением,
b) вводят в упомянутое устройство вакуумного осаждения газ и создают плазму из упомянутого газа,
c) совместно распыляют одновременно, в одной и той же камере устройства вакуумного осаждения,
- первый компонент из материала, состоящего из оксида, нитрида или оксинитрида первого элемента, и
- второй компонент, состоящий из второго элемента в металлической форме,
причем упомянутое совместное распыление производят посредством упомянутой плазмы,
d) вводят в упомянутую плазму гидрид, галогенид или органическое соединение третьего элемента, отличного от первого элемента,
e) извлекают упомянутую подложку, покрытую упомянутым покрытием, содержащим упомянутые первый, второй и третий элементы, на выходе из устройства, причем упомянутое покрытие состоит из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице упомянутых первого и третьего элементов, и упомянутое покрытие имеет пик плазмонного поглощения в видимой области спектра,
или
извлекают упомянутую подложку, покрытую упомянутым покрытием, содержащим упомянутые первый, второй и третий элементы, на выходе из устройства и все это нагревают при подходящей температуре в течение достаточного времени для получения покрытия, состоящего из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице упомянутых первого и третьего элементов, причем упомянутое покрытие имеет пик плазмонного поглощения в видимой области спектра.
2. Способ по п. 1, в котором в ходе этапа e) температура составляет выше 400° и ниже температуры размягчения стекла.
3. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором, в частности, неорганическая матрица является оксидом, нитридом или оксинитридом упомянутых первого и третьего элементов.
4. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором первый элемент выбран из титана, циркония, олова, индия, алюминия, олова или кремния, цинка.
5. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором третий элемент выбран из титана, циркония, олова, индия, алюминия, олова или кремния, цинка.
6. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором первый компонент является оксидом первого элемента.
7. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором второй компонент выбран из группы металлов, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, а предпочтительно выбран из Ag, Ni, Cu, Au.
8. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором плазмообразующий газ является нейтральным газом, выбранным из аргона, криптона или гелия.
9. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором в устройство вводят реакционноспособный газ, содержащий кислород и/или азот, в частности, молекулярный кислород и/или молекулярный азот, смешивая с нейтральным газом.
10. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором этап c) включает в себя распыление, в упомянутом устройстве вакуумного осаждения катодным распылением, мишени, содержащей участки, состоящие из смеси оксида, нитрида или оксинитрида первого компонента, и участки, состоящие из второго компонента в металлической форме.
11. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором этап c) включает в себя распыление, в упомянутом устройстве вакуумного осаждения катодным распылением, первой мишени, состоящей из оксида, нитрида или оксинитрида первого компонента, и второй мишени, состоящей из второго компонента в металлической форме.
12. Способ по одному из предыдущих пунктов, в котором первый компонент является оксидом титана, в котором упомянутый второй компонент выбран из группы, состоящей из Au, Ni, Cu, Ag, в котором нейтральный газ является аргоном, смешанным с кислородом, и в котором третий элемент является кремнием, причем упомянутый кремний предпочтительно вводят в упомянутое устройство в форме металлоорганического соединения кремния, предпочтительно TEOS или HMDSO.
13. Способ по одному из предыдущих пунктов, включающий в себя дополнительный этап, состоящий в нагревании подложки до температуры выше 400° и ниже температуры размягчения стекла в ходе этапа e).
14. Остекление, получаемое способом по одному из предыдущих пунктов и содержащее стеклянную подложку, на которую нанесено покрытие, причем упомянутое покрытие состоит из материала, содержащего металлические наночастицы, диспергированные в неорганической матрице оксида, нитрида или оксинитрида, предпочтительно оксида, по меньшей мере двух разных элементов, причем упомянутый материал имеет пик плазмонного поглощения в видимой области спектра, в котором упомянутые два элемента относятся к группе, состоящей из титана, циркония, олова, цинка или кремния, в котором металлические наночастицы образованы из по меньшей мере одного элемента, выбранного из группы, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, и в котором металлические наночастицы составляют от 1 до 15% от полного веса образующего покрытие материала, предпочтительно от 2 до 10% от полного веса образующего покрытие материала, а очень предпочтительно от 2 до 5% от полного веса образующего покрытие материала.
15. Остекление по предыдущему пункту, в котором первый элемент является кремнием, а второй элемент выбран из группы, состоящей из титана, циркония, олова, цинка, и металлические наночастицы образованы из по меньшей мере одного элемента, выбранного из группы, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, более предпочтительно из Ag, Cu, Ni или Au, а еще более предпочтительно из Ag или Au.
16. Остекление по предыдущему пункту, в котором первый элемент является титаном, а второй элемент выбран из группы, состоящей из кремния, циркония, олова, индия, цинка, и металлические наночастицы состоят из по меньшей мере одного элемента, выбранного из группы, состоящей из Ag, Au, Ni, Cr, Cu, Pt, Pd, более предпочтительно из Ag, Cu, Ni или Au, а еще более предпочтительно из Ag или Au.
17. Установка для осуществления способа по одному из пп. 1-13, содержащая в сочетании:
- устройство катодного распыления, содержащее по меньшей мере одну вакуумную камеру,
- расположенную в вакуумной камере мишень, состоящую из смеси первого компонента из диэлектрического материала, состоящего из оксида, нитрида или оксинитрида первого элемента, и второго компонента, состоящего из второго элемента в металлической форме,
- средства распыления упомянутой мишени, содержащие средства введения плазмообразующего газа и средства создания плазмы из упомянутого газа,
- средства введения в упомянутую плазму третьего элемента, отличного от первого элемента, в форме гидрида, галогенида или органического соединения упомянутого третьего элемента,
- средства продвижения подложки в упомянутом устройстве со скоростью, подходящей для осаждения на ее поверхности слоя покрытия, состоящего из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице оксида, нитрида или оксинитрида упомянутых первого и третьего элементов,
- средства извлечения упомянутой подложки, покрытой упомянутым покрытием, на выходе из устройства.
18. Установка для осуществления способа по одному из пп. 1-13, содержащая в сочетании:
- устройство катодного распыления, содержащее по меньшей мере одну вакуумную камеру,
- расположенную в вакуумной камере первую мишень, состоящую из смеси первого компонента из диэлектрического материала, состоящего из оксида, нитрида или оксинитрида первого элемента,
- расположенную в вакуумной камере вторую мишень из второго компонента, состоящего из второго элемента в металлической форме,
- средства одновременного совместного распыления двух мишеней, содержащие средства введения плазмообразующего газа и средства создания плазмы из упомянутого газа,
- средства введения в упомянутую плазму третьего элемента, отличного от первого элемента, в форме гидрида, галогенида или органического соединения упомянутого третьего элемента,
- средства продвижения подложки в упомянутом устройстве со скоростью, подходящей для осаждения на ее поверхности слоя покрытия, состоящего из металлических наночастиц второго элемента, диспергированных в неорганической матрице оксида, нитрида или оксинитрида упомянутых первого и третьего элементов,
- средства извлечения упомянутой подложки, покрытой упомянутым покрытием, на выходе из устройства.
19. Применение установки по одному из пп. 16 или 17 для изготовления цветных стеклянных подложек, содержащих покрытие, состоящее из неорганической матрицы оксида, нитрида или оксинитрида первого и третьего элемента, в которой диспергированы металлические наночастицы второго элемента.
RU2018124444A 2015-12-09 2016-12-08 Способ и установка для получения цветного остекления RU2720846C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1562045A FR3045033B1 (fr) 2015-12-09 2015-12-09 Procede et installation pour l'obtention d'un vitrage colore
FR1562045 2015-12-09
PCT/FR2016/053277 WO2017098166A1 (fr) 2015-12-09 2016-12-08 Procédé et installation pour l'obtention d'un vitrage coloré

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2018124444A true RU2018124444A (ru) 2020-01-09
RU2018124444A3 RU2018124444A3 (ru) 2020-04-08
RU2720846C2 RU2720846C2 (ru) 2020-05-13

Family

ID=55236741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018124444A RU2720846C2 (ru) 2015-12-09 2016-12-08 Способ и установка для получения цветного остекления

Country Status (14)

Country Link
US (1) US10988409B2 (ru)
EP (1) EP3386929B1 (ru)
JP (1) JP2018536769A (ru)
KR (1) KR20180091832A (ru)
CN (1) CN108290779B (ru)
BR (1) BR112018010447B1 (ru)
CA (1) CA3005761A1 (ru)
CO (1) CO2018005701A2 (ru)
ES (1) ES2807909T3 (ru)
FR (1) FR3045033B1 (ru)
MX (1) MX2018006885A (ru)
PL (1) PL3386929T3 (ru)
RU (1) RU2720846C2 (ru)
WO (1) WO2017098166A1 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3065722B1 (fr) * 2017-04-28 2021-09-24 Saint Gobain Vitrage colore et son procede d'obtention
KR102481460B1 (ko) * 2020-09-29 2022-12-26 한국유리공업 주식회사 다층 박막 코팅이 구비된 투명 기재
RU2765964C1 (ru) * 2021-11-29 2022-02-07 Дмитрий Юрьевич Старцев Способы нанесения на стеклянные изделия покрытий из оксида титана

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5747711A (en) * 1980-08-08 1982-03-18 Fujitsu Ltd Chemical plasma growing method in vapor phase
DE3239753C1 (de) * 1982-10-27 1984-03-29 Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen Farbneutrale,solarselektive Waermereflexionsschicht fuer Glasscheiben und Verfahren zur Herstellung der Schichten
JPH07268615A (ja) * 1994-03-28 1995-10-17 Asahi Glass Co Ltd 非線形光学ガラス薄膜の製造方法
JPH09235141A (ja) * 1995-12-26 1997-09-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd 紫外線吸収着色膜被覆ガラス物品
WO1997023424A1 (fr) * 1995-12-26 1997-07-03 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Article en verre recouvert d'une couche coloree absorbant le rayonnement ultraviolet
US5976678A (en) * 1996-02-27 1999-11-02 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Colored film-covered glass articles
KR100495338B1 (ko) 1997-01-27 2005-06-14 피터 디. 하랜드 광학 기판으로부터의 반사를 감소시키기 위한 코팅막, 반사 감소 방법 및 장치
EP1029827A4 (en) * 1997-11-13 2003-07-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd ULTRAVIOLET / INFRARED ABSORBENT GLASS, ULTRAVIOLET / INFRARED ABSORBENT GLASS PANEL, ULTRAVIOLET / INFRARED ABSORBENT GLASS PANEL COATED WITH A COLORED FILM, AND VEHICLE GLAZING
JP2002206161A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Citizen Watch Co Ltd 装飾成形部材およびその製造方法
DE10159907B4 (de) * 2001-12-06 2008-04-24 Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. Beschichtungsverfahren
FR2856677B1 (fr) * 2003-06-27 2006-12-01 Saint Gobain Substrat revetu d'une couche dielectrique et procede pour sa fabrication
US7211513B2 (en) * 2003-07-01 2007-05-01 Pilkington North America, Inc. Process for chemical vapor desposition of a nitrogen-doped titanium oxide coating
US8500965B2 (en) 2004-05-06 2013-08-06 Ppg Industries Ohio, Inc. MSVD coating process
DE102005007825B4 (de) * 2005-01-10 2015-09-17 Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung, reflexionsmindernde Schicht auf einem transparenten Substrat sowie Verwendung einer derartigen Schicht
US20070108043A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-17 Guardian Industries Corp. Sputtering target including titanium silicon oxide and method of making coated article using the same
GB2454132B (en) * 2006-08-24 2011-11-23 Ngimat Co Optical coating
GB0904803D0 (en) 2009-03-20 2009-05-06 Univ London Coated substrate
RU2420607C1 (ru) 2009-10-22 2011-06-10 Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) Способ нанесения теплозащитного покрытия на полимерный материал
FR2963788B1 (fr) * 2010-08-10 2016-01-22 Saint Gobain Vitrage a proprietes antisolaires
JP2013237910A (ja) * 2012-05-16 2013-11-28 Tsukiboshi Art Kogyo Kk 意匠性鋼板の製造方法
EP2738790A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-04 Abengoa Solar New Technologies, S.A. Procedure for preparing one single barrier and/or dielectric layer or multilayer on a substrate and device for the implementation thereof
JP5661965B1 (ja) * 2014-06-17 2015-01-28 株式会社ジーエル・マテリアルズホールディングス 有機系太陽電池用材料及びそれを用いた有機系太陽電池、並びに、その材料の製造方法
CN104120394B (zh) 2014-06-30 2016-08-24 厦门理工学院 一种Ag/TiO2纳米复合变色材料制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
MX2018006885A (es) 2018-09-06
RU2720846C2 (ru) 2020-05-13
CA3005761A1 (fr) 2017-06-15
EP3386929A1 (fr) 2018-10-17
WO2017098166A1 (fr) 2017-06-15
PL3386929T3 (pl) 2020-09-21
CO2018005701A2 (es) 2018-06-12
ES2807909T3 (es) 2021-02-24
KR20180091832A (ko) 2018-08-16
CN108290779A (zh) 2018-07-17
US20180273423A1 (en) 2018-09-27
FR3045033B1 (fr) 2020-12-11
JP2018536769A (ja) 2018-12-13
CN108290779B (zh) 2022-01-25
FR3045033A1 (fr) 2017-06-16
EP3386929B1 (fr) 2020-04-22
RU2018124444A3 (ru) 2020-04-08
BR112018010447B1 (pt) 2021-08-24
US10988409B2 (en) 2021-04-27
BR112018010447A8 (pt) 2019-02-26
BR112018010447A2 (pt) 2018-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2018124444A (ru) Способ и установка для получения цветного остекления
CN105291674B (zh) 一种电子产品壳体及其表面处理方法
JP2013040767A5 (ru)
MXPA04004205A (es) Metodo para aplicar o reparar recubrimientos de barrera termica.
KR20060086932A (ko) 금속 코팅 강 제품의 제조 방법 및 장치
CN107151780B (zh) 一种聚合物表面的处理方法
RU2019138308A (ru) Цветное стекло и способ его изготовления
JPWO2013069402A1 (ja) ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
US20140004273A1 (en) Method of alloy surface treatment
CN106498350A (zh) 硅铝溅射靶材的制备方法
Yu et al. Engineering the surface and interface of Parylene C coatings by low-temperature plasmas
CN105683409A (zh) 装饰性hipims-硬材料层
CA2973135C (en) Method for applying a metal protective coating to a surface of a steel product
CN109437592A (zh) 一种基于电介质膜的镜面镀膜玻璃及其生产工艺
CN107946164A (zh) 一种防着板及其制备方法和应用
EP2406409B1 (fr) Decoration par pulverisation plasma magnetron sur des contenants en verre pour les secteurs de la cosmetique
US8084119B2 (en) Mobile phone shell and method of manufacturing the same
JP2005534812A5 (ru)
CN102226267A (zh) 在真空室内连续完成喷底漆、烘干、电镀的装置
RU2554245C1 (ru) Способ нанесения керамического разделительного покрытия в вакууме на поверхность ферритов, керамики и феррокерамики (варианты)
JP2003205235A (ja) 傾斜膜の製造方法および装置
US10654069B2 (en) Coating of usage surfaces with plasma polymer layers under atmospheric pressure in order to improve the cleanability
RU2777094C1 (ru) Способ нанесения на стеклянные изделия металлических покрытий из меди и медных сплавов
Hong et al. Optical properties of porous silicon coated with ultrathin gold film by RF-magnetron sputtering
RU2016103909A (ru) Мишень для реактивного осаждения электроизолирующих слоев методом ионного распыления