CN108290779B - 获得着色玻璃板的方法和设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及在玻璃基材上沉积涂层的方法，所述方法的特征在于在真空沉积装置的同一个腔室中通过等离子体同时共溅射以下物质的步骤：‑由第一元素的氧化物、氮化物或氮氧化物组成的材料制成的第一组分，‑由金属形式第二元素组成的第二组分，以及将与第一元素不同的第三元素的氢化物、卤化物或有机化合物引入到所述等离子体中以便在装置的出口处回收所述基材，所述基材覆盖有包含所述第一、第二和第三元素的所述涂层，所述涂层由分散在所述第一和第三元素的无机基质中的第二元素金属纳米颗粒组成，特别地呈第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物形式，所述涂层在可见区域显示等离子激元吸收峰，所述峰必要时任选地进行额外的热处理步骤。本发明还涉及实施上述方法的设备。
Description
本发明涉及在玻璃基材表面处理领域中的方法和设备，用于在其上沉积涂层，赋予涂层合适的着色，而不必向玻璃的初始组成中添加额外的金属氧化物。通常，所述处理旨在改变玻璃板（vitrage）的表面外观，特别地由浮法玻璃类型的工业方法产生的无色平板玻璃的表面外观，以在其形成后简单地通过沉积薄层涂层赋予其着色，所述涂层由在可见光区具有等离子激元吸收峰（plasmon absorption peak）的材料组成。
在建筑玻璃板领域，许多研究致力于开发具有各种性能的创新玻璃：用于控制日光的玻璃板，自洁玻璃或着色玻璃。越来越多的研究还涉及将多种性能结合起来的玻璃板，特别是具有一种或多种功能性的着色玻璃板，例如控制日光，隔热（低幅射玻璃板），电磁屏蔽，加热，亲水或疏水功能，光催化（自洁玻璃），改变可见光的反射水平（防反射或镜面玻璃板）。
当希望获得着色玻璃时，现有的工业方法包括向浮法玻璃熔浴中添加颜料（通常为金属氧化物）。在玻璃制造期间，取决于玻璃板所期望的最终颜色，因此可以使用各种金属氧化物：用于红色的CuO，用于紫色的MnO，或用于蓝色的CoO。这使玻璃在其本体上着色。
虽然这种方法实施相对简单，但它有一个主要缺点。在玻璃制造过程中使用颜料会污染熔浴，这意味着必须在特定的浴中制造特定的颜色。
特别地，颜色变化总是需要制造过渡玻璃：因此大量的玻璃损失直至获得所需的颜色。这涉及生产水平的巨大损失以及设备生产率的巨大损失，如果希望改变其颜色，最终会导致玻璃板成本明显增加。因此这种方法缺乏适应客户不断变化的需求的灵活性。
在着色玻璃的生产中允许更大的灵活性的有利的解决方案包括在其上以一层或多层沉积涂层，并且在这种情况下，可以容易地调整和修改所述涂层的色度学特性。
因此，根据第一方面，本发明的目的是提出一种用于实施它的简单方法和设备，所述方法使得可以沉积容易调节色度学的涂层。
如已知的那样，基材可以通过几种不同的技术在气相中用一种或多种特定材料的薄层进行涂覆：
根据称为热解的第一种方法，以气体，液体或固体形式供应的待沉积产品的前体在热基材（T> 500℃）上分解。在气态前体的情况下，该方法被称为AP-CVD（常压化学气相沉积）或更一般地热CVD。本发明不涉及这样的方法。
根据第二种沉积方法，使用称为阴极溅射或“磁控管溅射”的方法，其包括在磁场下在超高真空中进行沉积，通过溅射待沉积的材料或材料的前体。例如在专利US 6,214,183中描述了这种设备的实施例。
已描述的第三种方法，其最初在微电子领域开发并且被称为PE-CVD（用于等离子体增强化学气相沉积）。根据该方法，代替使用由待沉积材料制成的靶，待沉积材料的前体以气体的形式被注入并且在等离子体的放电中被分解。该方法通常在10毫托至500毫巴（1托= 133帕，1巴= 0.1兆帕）的压力下进行。通常在室温下使用基材或者将基材加热到相对较低的温度（例如低于350℃）以提供沉积层的机械性能和附着性能。由于基材承受的温度适中，该技术可用于涂覆对温度敏感的基材，例如由塑料构成的基材。例如在申请EP 0 149408中描述的这种方法。
磁控溅射方法和较小程度的PE-CVD方法必须在真空下在一台设备中进行，因此单独采用的灵活性非常有限。
如上所述，本发明的目的之一是通过提出制造方法来改进上述问题，所述制造方法可以被调制并且允许快速灵活地适应玻璃板所需的色度学，和此外所述方法是经济的并且不会导致浮法玻璃生产的明显损失。
根据本发明，描述了一种结合磁控管溅射和PE-CVD原理的方法，用于将涂层沉积在原则上最初为无色的基材（商业中通常称为透明（clear）玻璃）上，以使其具有可适应性的颜色。
本发明的应用提供了几个优点。首先，颜色的产生完全独立于根据本发明原则上无色的玻璃（无色玻璃）的制造。因此，可以预先制造玻璃而不必预先确定其着色。薄层也可以获得少量的着色玻璃；因此本方法更加灵活和适应需求。由于本发明，可以生产不同颜色和不同比例的层，而不会有大量玻璃的中间损失。
已知的沉积方法可以通过在真空下称作靶的磁控溅射技术来制造主要由金属纳米颗粒和介电层组成的叠层。例如，出版物“Preparation and optical characterizationof Au/SiO2 composite films with multilayer structure, H. B. Liao, Weijia Wen,G. K. L. Wong, Journal of Applied Physics, 2003, Vol. No. 93, 4485”描述了制备SiO2 /Au叠层，其吸收约530nm的波长并且在透射中具有红色。
申请WO2010 / 106370描述了一种用于在基材上沉积涂层的方法，其中前体的溶液通过CVD，AP-CVD或热解在加热至330-370℃的基材上进行沉积，以获得掺杂有铝的氧化锡，氧化钛或氧化锌的基质膜，其中掺入了金纳米颗粒。所述方法似乎不够灵活，也不适用于工业规模的应用，特别是用于通过浮法获得的平板玻璃基材上的大尺寸玻璃着色，所述平板玻璃基材通常具有约几米的宽度。
本发明方法提供了着色层中涂层的简单且经济的生产，其根据可容易地调节的波长吸收入射的可见光辐射，其由嵌入电介质（特别地氧化物）基质中的金属纳米颗粒组成。
更具体地说，本发明涉及在玻璃基材上沉积涂层以改变其色度学的方法，所述方法的特征在于其至少包括以下步骤：
a）使所述基材通过用于通过阴极溅射进行真空沉积的装置，
b）将气体引入所述真空沉积装置并由所述气体产生等离子体，
c）在真空沉积设备的同一个室中同时共溅射：
- 由第一元素的氧化物、氮化物或氮氧化物组成的材料制成的第一组分，优选地第一组分的氧化物，和
- 由第二元素的金属形式组成的第二组分，
所述共溅射通过所述等离子体获得，
d）将与第一元素不同的第三元素的氢化物、卤化物或有机化合物引入所述等离子体中，
e）在装置的出口处回收所述基材，所述基材覆盖有包含所述第一、第二和第三元素的所述涂层，所述涂层由分散在所述第一和第三元素的无机基质中的第二元素金属纳米颗粒组成，特别地呈第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物形式，所述涂层在可见光区域显示等离子激元吸收峰，
或
e'）在装置的出口处回收所述基材，所述基材覆盖有包含所述第一、第二和第三元素的所述涂层，并于合适的温度（优选高于400°且低于玻璃的软化点）加热整体足够的时间以获得由分散在所述第一和第三元素的无机基质中的第二元素金属纳米颗粒组成的涂层，特别地呈第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物形式，所述涂层在可见光区域显示等离子激元吸收峰。
因此，本发明涉及一种用于在玻璃基材上沉积涂层的方法，所述方法包括以下步骤：将由第一元素的氧化物，氮化物或氧氮化物（优选氧化物）组成的材料制成的第一组分以及由金属形式第二元素组成的第二组分在真空沉积设备的同一个室中通过等离子体同时共溅射。根据本发明，将与第一元素不同的第三元素的氢化物，卤化物或有机化合物引入所述等离子体中，以回收覆盖有包含所述第一，第二和第三元素的涂层的所述基材，其中在设备的出口。根据本发明，由此获得的所述涂层由分散在所述第一和第三元素的无机基质中的第二元素的金属纳米颗粒组成，并且其在可见光区域中显示等离子激元吸收峰，其给予由此获得的玻璃板的最终着色，如果需要，所述最终着色可通过另外的热处理步骤获得。
所述着色可以容易地调节，特别是通过改变所述溅射的条件，和特别是通过改变引入到等离子体中的第三元素的前体的量而进行调节。
根据本发明具体的优选实施例，其当然可以彼此组合：
- 第一元素选自钛，锆，锡，铟，铝，锡或硅，锌。
- 不同于第一元素的第三元素选自钛，锆，锡，铟，铝，锡或硅，锌。
- 第一，第二和第三个元素彼此不同。
- 第一组分包含，基本上包含第一元素的氧化物或由第一元素的氧化物组成。
- 无机基质是所述第一和第三元素的氧化物。
- 第二元素选自Ag，Au，Ni，Cr，Cu，Pt，Pd，优选其选自Ag，Ni，Cu，更优选选自Ag或Au。
- 等离子体气体是选自氩气，氪气或氦气的中性气体。
- 将包含氧和/或氮的反应性气体（特别是二氧和/或二氮气）与中性气体混合并引入装置中。
- 根据第一种可能的实施方案，步骤c）包括在所述用于通过阴极溅射进行真空沉积的装置中溅射靶，该靶包括由第一组分的氧化物、氮化物或氮氧化物（优选第一组分的氧化物）的混合物组成的部件和由第二元素的金属组成的部件。
- 根据该实施方案，金属形式第二组分占靶总重量的10％至40％。
- 根据可能但较不优选的替代实施方案，步骤c）包括在所述用于通过阴极溅射进行真空沉积的装置中溅射由第一组分的氧化物、氮化物或氮氧化物（优选第一组分的氧化物）组成的第一靶以及由第二元素的金属组成的第二靶。
- 第一组分是氧化钛，和所述第二组分选自由Au、Cu、Ag或Ni组成的组，其中所述中性气体是氩气，与氧混合并且其中第二元素是硅。根据该实施方案，该第二元素可以有利地以有机金属硅化合物，优选TEOS或HMDSO的形式引入到所述装置中。
- 在步骤e）中，该方法包括将基材加热至400º以上且低于软化点的温度。如果通过等离子激元效应改善涂层在可见光区域的吸收是有用的或必需的，则特别地采用这种加热。
- 涂层的厚度在10-70nm之间，特别地在15-50nm之间。
本发明还涉及可通过上述方法获得的玻璃板，其包含其上沉积涂层的玻璃基材，所述涂层由包含分散在至少两种不同元素的氧化物、氮化物或氮氧化物的无机基质中的纳米颗粒组成的材料组成，所述材料在可见光区中显示等离子激元吸收峰。
特别地，在根据本发明优选的所述玻璃板中：
- 所述两种元素选自由钛、锆、锡、锌或硅组成的组，和金属纳米颗粒由选自由Ag、Au、Ni、Cr、Cu、Pt、Pd组成的组中的至少一种元素组成，更优选选自Ag，Ni或Au，更优选选自Ag或Au。
- 金属纳米颗粒占构成涂层的材料总重量的1-15％，优选占构成涂层的材料总重量的2至10％，和非常优选占构成涂层的材料总重量的2至5％。
- 涂层的厚度在10-70nm之间，特别地在15-50nm之间。
- 第一元素是硅，和第二元素选自硅，锆，锡，铟，锌，钛，和金属纳米粒子由选自Ag，Au，Ni ，Cr，Cu，Pt，Pd的至少一个元素组成，更优选选自Ag，Cu，Ni或Au，更优选选自Ag或Au。优选地，根据该实施方案，第三元素是硅。
- 第一元素是钛，和第二元素选自硅，锆，锡，铟，锌，和金属纳米颗粒由选自Ag，Au，Ni， Cr，Cu，Pt，Pd的至少一个元素组成，更优选选自Ag，Cu，Ni或Au，更优选选自Ag或Au。优选地，根据该实施方案，第二元素是钛。
而且，本发明涉及一种用于实施上述方法的设备。
根据第一实施方案，所述设备包括下述的组合：
- 包括在真空下的至少一个室的阴极溅射装置，
- 由第一元素的氧化物、氮化物或氧氮化物组成的介电材料制成的第一组分和由金属形式第二元素组成的第二组分的混合物组成的靶，所述靶设置在真空室中，
- 用于溅射所述靶的装置，其包括用于引入等离子体气体的装置和用于从所述气体产生等离子体的装置，所述等离子体用于所述靶的溅射，
- 用于以所述第三元素的氢化物、卤化物或有机化合物的形式向所述等离子体中引入不同于第一元素的第三元素的装置，
- 用于以适当的速度使基材通过所述装置的器件，其用于在其表面上沉积由分散在第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物的无机基质中的第二元素的金属纳米颗粒组成的涂层的层，
- 用于回收在装置的出口处覆盖有所述涂层的所述基材的装置。
根据第二实施例，所述设备包括下述的组合：
- 包括在真空下的至少一个室的阴极溅射装置，
- 由第一元素的氧化物、氮化物或氮氧化物组成的介电材料制成的第一组分的混合物组成的第一靶，所述第一靶设置在真空下的室中，
- 由金属形式第二元素组成的第二组分制成的第二靶，所述第二靶设置在真空下的室中，
- 用于同时共溅射两个靶的装置，包括用于引入等离子体气体的装置和用于从所述气体产生等离子体的装置，所述等离子体用于所述靶的溅射，
- 用于以所述所述元素的氢化物、卤化物或有机化合物的形式向所述等离子体中引入不同于第一元素的第三元素的装置，
- 用于以适当的速度使基材通过所述装置的器件，其用于在其表面上沉积由分散在第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物的无机基质中的第二元素的金属纳米颗粒组成的涂层的层，
- 用于回收在装置的出口处覆盖有所述涂层的所述基材的装置。
最后，本发明涉及如上所述设备用于制造着色玻璃基材的用途，所述着色玻璃基材包括由分散在所述第一和第三元素的氧化物，氮化物或氮氧化物的无机基质中的第二元素的金属纳米颗粒组成的涂层的层。
根据本发明，为了产生等离子体，阴极可以具有RF（射频）电源或DC（直流电）电源，任选地脉冲或者AC（交流）电源。众所周知，RF电源通常提供13.56MHz的交流电。使用此电源需要调谐器来调谐生成到靶的信号。
实际上，为了溅射具有很少或不具有导电率的靶，优选使用RF电源。
根据本发明的沉积方法，也可以或甚至优选使用直流电源，其可以获得更高的溅射比率，或避免注入腔室的化合物对阴极的结垢。
通过阅读下面给出的非限制性实施例，本发明，其各个方面及其优点将被更好地理解，纯粹为了说明的目的而提供。
在这些实施例中，目的是通过本发明的方法沉积由元素Ti和Si的氧化物基质组成的着色层，金的金属颗粒被分散其中。
根据本发明的着色层的沉积在磁控管类型的阴极溅射外壳中进行，该阴极溅射外壳限定了其中可以产生超高真空的室。在该外壳（构成阳极）中，靶（构成阴极）以这样的方式安装在室中：在沉积期间，RF或DC电源允许从等离子体气体（通常为氩，氪或氦气）产生等离子体，在靶前方，基材与该靶平行行进。通过这种设置，可以选择基材的行进速度，并因此选择沉积时间和层的厚度。
对于根据本发明的靶，首先使用商购氧化钛靶（TiOx）。金属金珠粒被固定（例如通过与银粘合剂粘合）并且在氧化钛靶上规则间隔以构成根据本发明的双组分靶，使得等离子体同时溅射所述靶的两种组分。
从装置中的气体产生等离子体所需的功率被施加到阴极。为了将元素Si共同沉积在玻璃基材上，将硅的有机金属前体HMDSO（六甲基二硅氧烷）注入已经产生的等离子体中。沉积在主要由氩气（中性等离子体气体）和壳体室中少量双氧的气氛下进行。更确切地说，对于下面给出的所有例子，注入室中的氩气流量为25sccm（标准立方厘米每分钟），注入室的氧气流量为10sccm。所有实施例的沉积时间约为6分钟。由此获得的层的厚度在10至30nm之间变化。
根据相同原理沉积多层，改变硅前体的流速以获得由钛和硅的混合氧化物组成的不同介电基质，其中如下表1所示调节两种元素Si和Ti的比例。 改变所述比率提供介电基质的折射率以及所沉积的层的厚度的变化。 最后，通过测量所获得的涂层的折射率，可以评估构成所述涂层（沉积层）的材料中存在的硅的量，测得的指数为2.4，对应于其组成接近于 TiO2的材料，测得的指数约为1.5，对应于其组成接近于SiO2的材料。 下表1示出了根据本发明方法沉积涂层的步骤的主要参数。
| 实施例 | 氩(sccm) | O<sub>2</sub> (sccm) | HMDSO (sccm) | 功率 (W) | 总压力 (μbar) | 沉积时间 (min) |
| 1 | 25 | 10 | 1 | 500 | 3.47 | 6 |
| 2 | 25 | 10 | 6 | 500 | 3.6 | 6 |
| 3 | 25 | 10 | 8 | 500 | 3.66 | 6 |
| 4 | 25 | 10 | 9 | 500 | 3.68 | 6 |
| 5 | 25 | 10 | 10 | 500 | 3.7 | 6 |
| 6 | 25 | 10 | 12 | 500 | 3.74 | 6 |
| 7 | 25 | 10 | 15 | 500 | 3.82 | 6 |
| 8 | 25 | 10 | 20 | 500 | 4.10 | 6 |
表 1。
沉积之后，具有各种涂层的基材在空气中在常压下在650℃下退火。
对于每个实施例，然后根据以下方案测量由此沉积的涂层的性质：
使用Lambda 900分光光度计在250nm至2500nm的波长范围内记录样品的光谱。在层侧进行透射测量，并在玻璃侧和层侧进行反射测量。吸收光谱和可能存在的等离子激元吸收峰由测量使用以下关系推导出：A = 100 -T-R（层侧）。
还使用上述装置在所获得的玻璃板上（层侧）测量层的色度学特性。表征颜色的值L *，a *和b *（国际系统）从所获得的光谱测量。
以薄层形式沉积的涂层构成的材料的折射率和厚度通过使用可变角度椭圆偏振仪（VASE）的经典椭圆偏光技术来测量。
对于每个实施例，所得结果列于下表2中。
此外，附图显示了根据前述实施例获得的玻璃板在可见光中的吸收光谱（波长在横坐标上以纳米为单位给出）。
表 2。
上面表2中给出的结果显示了与本发明有关的优点。特别地，令人惊讶地，并且之前没有描述过，根据本发明的方法，在沉积过程中注入的HMDSO（元素硅的前体）的流速的简单控制提供了对玻璃板的最终色度学的控制。
根据本发明的方法，因此可以非常容易和经济地完美地控制和在宽范围内改变玻璃板的颜色，而不损失生产。
特别地，简单地通过沉积涂层，根据本发明可以通过简单调节根据本发明的装置中的前体气体的流速来改变最终玻璃板的着色（覆盖有涂层的基材），快速且没有任何困难，颜色从青色变化到各种色调和强度的蓝色，以及紫色或品红色调。
当在TiOx靶上使用金属银珠粒代替金珠粒时观察到相同类型的结果，并且通过这种替换获得了各种进一步的着色。
作为实施例，还可以提及以下可能的组合：包含少量铝（例如基于存在的硅的量在4至12mol％之间的铝）和钛前体例如TiPT（四异丙醇钛）的氧化硅靶，靶的第二组分选自Ag，Au，Ni，Cr，Cu，优选选自Ag，Au的金属。
当然，根据本发明，可以在顶部（通过参照玻璃基材）或甚至在其下方沉积其他层或其它叠层，根据本发明的着色涂层，以赋予玻璃板额外的功能，例如控制日光，低辐射，电磁屏蔽，加热，亲水性，疏水性，光催化，抗反射或镜面，电致变色玻璃，电致发光，光伏功能。
根据本发明的优选实施方案，用于增加所述涂层的机械和/或化学耐久性的电介质材料的保护层（例如氮化硅或氧化硅或者氧化钛）被沉积在根据本发明的着色涂层顶部，或者甚至在着色涂层下面。该保护层的厚度可以为例如约1至15nm，或甚至1至10nm，或甚至1至5nm。
Claims (29)
1.在玻璃基材上沉积涂层的方法，所述方法的特征在于它包括以下相继的步骤：
a）使所述基材通过用于通过阴极溅射进行真空沉积的装置，
b）将气体引入所述真空沉积装置并由所述气体产生等离子体，
c）在真空沉积设备的同一个室中同时共溅射：
- 由第一元素的氧化物、氮化物或氮氧化物组成的材料制成的第一组分，和
- 由第二元素的金属形式组成的第二组分，
所述共溅射通过所述等离子体获得，
d）将与第一元素不同的第三元素的氢化物、卤化物或有机化合物引入所述等离子体中，
e）在装置的出口处回收所述基材，所述基材覆盖有包含所述第一、第二和第三元素的所述涂层，所述涂层由分散在所述第一和第三元素的无机基质中的第二元素金属纳米颗粒组成，所述涂层在可见光区域显示等离子激元吸收峰，
或
在装置的出口处回收所述基材，所述基材覆盖有包含所述第一、第二和第三元素的所述涂层，并于合适的温度加热整体足够的时间以获得由分散在所述第一和第三元素的无机基质中的第二元素金属纳米颗粒组成的涂层，所述涂层在可见光区域显示等离子激元吸收峰，
其中所述无机基质是所述第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤e）期间，温度高于400°且低于玻璃的软化点。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第一元素选自钛、锆、锡、铟、铝、硅或锌。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第三元素选自钛、锆、锡、铟、铝、硅或锌。
5.如权利要求1或2所述的方法，其中第一组分是第一元素的氧化物。
6.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第二组分在由Ag、Au、Ni、Cr、Cu、Pt、Pd组成的组的金属中选择。
7.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第二组分选自Ag、Ni、Cu、Au。
8.根据权利要求1或2中任一项所述的方法，其中所述等离子体气体是选自氩、氪或氦的中性气体。
9.根据权利要求8所述的方法，其中将包含氧和/或氮的反应性气体与所述中性气体混合并引入所述装置。
10.如权利要求1或2所述的方法，其中步骤c）包括在所述用于通过阴极溅射进行真空沉积的装置中溅射靶，该靶包括由第一组分的氧化物、氮化物或氮氧化物的混合物组成的部件和由金属形式第二组分组成的部件。
11.如权利要求1或2所述的方法，其中步骤c）包括在所述用于通过阴极溅射进行真空沉积的装置中溅射由第一组分的氧化物、氮化物或氮氧化物组成的第一靶以及由金属形式第二组分组成的第二靶。
12.根据权利要求8所述的方法，其中所述第一组分是氧化钛，其中所述第二组分在由Au、Ni、Cu、Ag组成的组中选择，其中所述中性气体是氩气，与氧混合并且其中第三元素是硅。
13.根据权利要求1或2所述的方法，包括附加步骤，所述附加步骤包括在步骤e）期间将所述基材加热至高于400°且低于所述玻璃的软化点的温度。
14.根据权利要求9所述的方法，其中将包含二氧和/或二氮的反应性气体与所述中性气体混合并引入所述装置。
15.根据权利要求12所述的方法，其中第三元素是硅，以有机金属硅的形式引入到所述装置中。
16.根据权利要求12所述的方法，其中第三元素是硅，以TEOS或HMDSO的形式引入到所述装置中。
17.通过权利要求1或2中任一项所述的方法能获得的玻璃板，其包含其上沉积涂层的玻璃基材，所述涂层由包含分散在至少两种不同元素的氧化物、氮化物或氮氧化物的无机基质中的金属纳米颗粒的材料组成，所述材料在可见光区中显示等离子激元吸收峰，其中所述两种元素属于由钛、锆、锡、锌或硅组成的组，其中金属纳米颗粒由选自由Ag、Au、Ni、Cr、Cu、Pt、Pd组成的组中的至少一种元素组成，并且其中金属纳米颗粒占构成涂层的材料总重量的1-15％。
18.根据权利要求17所述的玻璃板，其中第一元素是硅且第三元素在由钛、锆、锡、锌组成的组中选择，并且所述金属纳米颗粒由选自由Ag、Au、Ni、Cr、Cu、Pt、Pd组成的组中的至少一种元素组成。
19.根据权利要求17或18所述的玻璃板，其中第一元素是钛且第三元素在由硅、锆、锡、铟、锌组成的组中选择，并且所述金属纳米颗粒由选自由Ag、Au、Ni、Cr、Cu、Pt、Pd组成的组中的至少一种元素组成。
20.根据权利要求17所述的玻璃板，其包含其上沉积涂层的玻璃基材，所述涂层由包含分散在至少两种不同元素的氧化物的无机基质中的金属纳米颗粒的材料组成。
21.根据权利要求17所述的玻璃板，其中金属纳米颗粒占构成涂层的材料总重量的2至10％。
22.根据权利要求17所述的玻璃板，其中金属纳米颗粒占构成涂层的材料总重量的2至5％。
23.根据权利要求18所述的玻璃板，其中所述金属纳米颗粒由选自由Ag、Cu、Ni或Au组成的组中的至少一种元素组成。
24.根据权利要求18所述的玻璃板，其中所述金属纳米颗粒由选自由Ag或Au组成的组中的至少一种元素组成。
25.根据权利要求19所述的玻璃板，其中所述金属纳米颗粒由选自由Ag、Cu、Ni或Au组成的组中的至少一种元素组成。
26.根据权利要求19所述的玻璃板，其中所述金属纳米颗粒由选自由Ag或Au组成的组中的至少一种元素组成。
27.用于实施如权利要求1至16中任一项所述的方法的设备，所述设备包括下述的组合：
- 包括在真空下的至少一个室的阴极溅射装置，
- 由第一元素的氧化物、氮化物或氧氮化物组成的介电材料制成的第一组分和由金属形式第二元素组成的第二组分的混合物组成的靶，所述靶设置在真空室中，
- 用于溅射所述靶的装置，其包括用于引入等离子体气体的装置和用于从所述气体产生等离子体的装置，
- 用于以所述第三元素的氢化物、卤化物或有机化合物的形式向所述等离子体中引入不同于第一元素的第三元素的装置，
- 用于以适当的速度使基材通过所述装置的器件，其用于在其表面上沉积由分散在第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物的无机基质中的第二元素的金属纳米颗粒组成的涂层的层，
- 用于回收在装置的出口处覆盖有所述涂层的所述基材的装置。
28.用于实施如权利要求1至16中任一项所述的方法的设备，所述设备包括下述的组合：
- 包括在真空下的至少一个室的阴极溅射装置，
- 由第一元素的氧化物、氮化物或氮氧化物组成的介电材料制成的第一组分的混合物组成的第一靶，所述第一靶设置在真空下的室中，
- 由金属形式第二元素组成的第二组分制成的第二靶，所述第二靶设置在真空下的室中，
- 用于同时共溅射两个靶的装置，包括用于引入等离子体气体的装置和用于从所述气体产生等离子体的装置，
- 用于以所述第三元素的氢化物、卤化物或有机化合物的形式向所述等离子体中引入不同于第一元素的第三元素的装置，
- 用于以适当的速度使基材通过所述装置的器件，其用于在其表面上沉积由分散在第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物的无机基质中的第二元素的金属纳米颗粒组成的涂层的层，
- 用于回收在装置的出口处覆盖有所述涂层的所述基材的装置。
29.如权利要求27或28所述的设备的用途，用于制造着色玻璃基材，所述着色玻璃基材包括由第一和第三元素的氧化物、氮化物或氮氧化物的无机基质组成的涂层，其中分散有第二元素的金属纳米颗粒。
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