JP3434320B2 - 鏡の製造方法およびこの方法により製造した鏡 - Google Patents
鏡の製造方法およびこの方法により製造した鏡Info
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- C03C17/3649—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer made of metals other than silver
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- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/3663—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties specially adapted for use as mirrors
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は鏡の製造方法および高反
射 "鏡" 被膜を一体化する被覆ガラス基板に関する。
射 "鏡" 被膜を一体化する被覆ガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】鏡の光反射特性は一般に高反射金属の
層、特にガラスまたはプラスチック基板に塗布される
銀、アルミニウムまたはクロムにより提供される。しば
しば代わりに銅の層が用いられるが、反射した光が強い
赤色であるため受け入れられない。
層、特にガラスまたはプラスチック基板に塗布される
銀、アルミニウムまたはクロムにより提供される。しば
しば代わりに銅の層が用いられるが、反射した光が強い
赤色であるため受け入れられない。
【０００３】銀被膜は一般に、銀塩の溶液をガラス表面
に塗布して存在する銀イオンをガラス表面に堆積する金
属銀に還元する還元剤と反応させる湿式の化学的方法に
より、予め形成したガラス板に低温で塗布される。用い
られる銀はあまり現実の使用に耐えず実際上他の層によ
る保護を必要とし、さらにこれらの方法では一般に被膜
を形成する製造ライン上でガラスに塗布するのに適当で
なく結果として銀メッキしたガラスを製造するのに別の
"銀被覆" ラインが要求される。
に塗布して存在する銀イオンをガラス表面に堆積する金
属銀に還元する還元剤と反応させる湿式の化学的方法に
より、予め形成したガラス板に低温で塗布される。用い
られる銀はあまり現実の使用に耐えず実際上他の層によ
る保護を必要とし、さらにこれらの方法では一般に被膜
を形成する製造ライン上でガラスに塗布するのに適当で
なく結果として銀メッキしたガラスを製造するのに別の
"銀被覆" ラインが要求される。
【０００４】アルミニウム被膜は金属アルミニウムの強
力な還元特性のため化学的方法による塗布が困難であ
り、そこでアルミニウム鏡は一般に低圧で実施される堆
積法、例えば、スパッタリングにより製造される。かか
る低圧法は本質的にバッチ法であり、銀鏡の堆積に用い
られる湿式の化学的方法に似て、一般にガラスを作成す
る製造ライン上でのオンライン塗布に適していない。
力な還元特性のため化学的方法による塗布が困難であ
り、そこでアルミニウム鏡は一般に低圧で実施される堆
積法、例えば、スパッタリングにより製造される。かか
る低圧法は本質的にバッチ法であり、銀鏡の堆積に用い
られる湿式の化学的方法に似て、一般にガラスを作成す
る製造ライン上でのオンライン塗布に適していない。
【０００５】英国特許公開第2248853 号明細書はアルミ
ニウムを用いてガラスを被覆し鏡を形成する方法を開示
している。アルミニウムのアランアミン付加物の溶液を
形成して液体を熱したガラスの上に堆積する。付加物を
分解してアルミニウム被膜を形成させる。その発明はフ
ロートガラス製造に関連して用いることができると考え
られると述べられているが、かかる使用の具体例は存在
しない。単に開示されたアルミニウム化合物をフロート
ガラスラインに導入する際に著しい技術的な問題が生じ
る場合があると考えられる。
ニウムを用いてガラスを被覆し鏡を形成する方法を開示
している。アルミニウムのアランアミン付加物の溶液を
形成して液体を熱したガラスの上に堆積する。付加物を
分解してアルミニウム被膜を形成させる。その発明はフ
ロートガラス製造に関連して用いることができると考え
られると述べられているが、かかる使用の具体例は存在
しない。単に開示されたアルミニウム化合物をフロート
ガラスラインに導入する際に著しい技術的な問題が生じ
る場合があると考えられる。
【０００６】またケイ素層は審美的な制御および太陽光
の制御を目的として建築上の窓ガラスに反射層（これ
は、銀およびアルミニウム層に似て、反射光の色がほと
んど自然である）を製造するために用いられている。英
国特許第1507465 号、第1507996 号および第1573154 号
はかかるケイ素層を有するフロートガラスを製造するた
めの連続した化学蒸着法に関連している。しかし、かか
るケイ素層は鏡で一般的に必要な高反射を提供しない。
このような REFLECTAFLOAT（登録商標）ガラスは約50％
の反射を有し、英国のセントヘレンス(St.Helens) 所在
のピルキントンガラスリミッテッドから商業上入手する
ことができ、リベイ−オーエンス−フォードカンパニー
(Libbey-Owens-Ford Co.) から商業上入手し得るMIRROP
ANE EP（登録商標）は約60％の反射を有する。
の制御を目的として建築上の窓ガラスに反射層（これ
は、銀およびアルミニウム層に似て、反射光の色がほと
んど自然である）を製造するために用いられている。英
国特許第1507465 号、第1507996 号および第1573154 号
はかかるケイ素層を有するフロートガラスを製造するた
めの連続した化学蒸着法に関連している。しかし、かか
るケイ素層は鏡で一般的に必要な高反射を提供しない。
このような REFLECTAFLOAT（登録商標）ガラスは約50％
の反射を有し、英国のセントヘレンス(St.Helens) 所在
のピルキントンガラスリミッテッドから商業上入手する
ことができ、リベイ−オーエンス−フォードカンパニー
(Libbey-Owens-Ford Co.) から商業上入手し得るMIRROP
ANE EP（登録商標）は約60％の反射を有する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前記技術のいずれもが
70％より高い、好ましくは80％より高い光反射を有する
被覆したガラス基板を提供するためにガラス製造工程中
にガラスに高反射被膜を塗布するのに適切ではない。
70％より高い、好ましくは80％より高い光反射を有する
被覆したガラス基板を提供するためにガラス製造工程中
にガラスに高反射被膜を塗布するのに適切ではない。
【０００８】全く異なる規模で、英国特許第1262163 号
には、例えば映画投光機で、可視光からの熱放射を分離
するために、ケイ素層から成る極めて高い反射（90％よ
り高い）の "冷光" 鏡を製造することが示されている。
かかる冷光鏡は薄い基材、代表的に３mmの厚さ以下のガ
ラス基板上に真空堆積法により製造し、任意の支持塗料
(backing paint) を用いないで使用されガラス中の熱の
形成が最小になる。英国特許第1262163 号は従来技術の
検討において、酸化ケイ素および酸化タンタルまたは酸
化チタンの４〜６種の交互層により被覆された "最も純
粋なケイ素層"から成る既知の冷光鏡に言及しているが
満足な生成物にとっては、かなり多くの層が必要となる
と結論付けている。従って、多層界面系の高屈折率の個
々の層として種々のケイ素層を用いる異なる方法で必要
とされる極めて高い（90％より高い）反射を達成するこ
とを提案している。
には、例えば映画投光機で、可視光からの熱放射を分離
するために、ケイ素層から成る極めて高い反射（90％よ
り高い）の "冷光" 鏡を製造することが示されている。
かかる冷光鏡は薄い基材、代表的に３mmの厚さ以下のガ
ラス基板上に真空堆積法により製造し、任意の支持塗料
(backing paint) を用いないで使用されガラス中の熱の
形成が最小になる。英国特許第1262163 号は従来技術の
検討において、酸化ケイ素および酸化タンタルまたは酸
化チタンの４〜６種の交互層により被覆された "最も純
粋なケイ素層"から成る既知の冷光鏡に言及しているが
満足な生成物にとっては、かなり多くの層が必要となる
と結論付けている。従って、多層界面系の高屈折率の個
々の層として種々のケイ素層を用いる異なる方法で必要
とされる極めて高い（90％より高い）反射を達成するこ
とを提案している。
【０００９】ごく最近、ジェー．ストーン(J.Stone) お
よびエル．ダブリュー．ストュルツ(L.W.Stulz)(Applie
d Optics,1990 年２月、29巻、４号) により、ケイ素お
よび二酸化ケイ素層の 1/4波長積み重ね(quarter wavel
ength stack)を 1.0および 1.6μm の間（すなわち赤外
線範囲）のスペクトル領域で鏡のために用いることが提
案されている。しかし、著者らはケイ素が約１μm 未満
の波長（従ってスペクトルの可視領域でない）ではかか
る波長におけるその高い吸収のために用いることができ
ないことを認める。ストーンおよびストュルツは反応性
スパッタリングおよび電子線蒸着のような低圧法による
Si/SiO2 の堆積法に言及している。
よびエル．ダブリュー．ストュルツ(L.W.Stulz)(Applie
d Optics,1990 年２月、29巻、４号) により、ケイ素お
よび二酸化ケイ素層の 1/4波長積み重ね(quarter wavel
ength stack)を 1.0および 1.6μm の間（すなわち赤外
線範囲）のスペクトル領域で鏡のために用いることが提
案されている。しかし、著者らはケイ素が約１μm 未満
の波長（従ってスペクトルの可視領域でない）ではかか
る波長におけるその高い吸収のために用いることができ
ないことを認める。ストーンおよびストュルツは反応性
スパッタリングおよび電子線蒸着のような低圧法による
Si/SiO2 の堆積法に言及している。
【００１０】英国特許第1262163 号ならびにストーンお
よびストュルツの論文はここで検討されているが、技
術、特にそこで記載された製造方法は大気圧で用いるの
に適切な工程が本質的に必要なオンラインガラス鏡の製
造に適切ではない。従って、これらの文献は当業者によ
り上述した通常のオフライン鏡に匹敵するオンライン鏡
の製造に関連した任意の方法として考えられない。
よびストュルツの論文はここで検討されているが、技
術、特にそこで記載された製造方法は大気圧で用いるの
に適切な工程が本質的に必要なオンラインガラス鏡の製
造に適切ではない。従って、これらの文献は当業者によ
り上述した通常のオフライン鏡に匹敵するオンライン鏡
の製造に関連した任意の方法として考えられない。
【００１１】本発明者らは高反射被膜を製造工程中に、
特にフロートガラス製造ライン上で、反射層を堆積する
ことおよび反射層の堆積の前または後に、反射増強層と
して２種の層を堆積することにより、実際にオンライン
でガラスに塗布することができることを見出した。
特にフロートガラス製造ライン上で、反射層を堆積する
ことおよび反射層の堆積の前または後に、反射増強層と
して２種の層を堆積することにより、実際にオンライン
でガラスに塗布することができることを見出した。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明により、反射層お
よび少なくとも２つの反射増強層を含む被膜を製造工程
中に熱ガラスのリボン上に堆積してこれにより鏡が少な
くとも70％の可視光反射を有することとする鏡の製造方
法を提供する。被覆リボンをオンラインで切断し、通常
のオフラインでさらに切断して所望の寸法の分離した鏡
を提供する。
よび少なくとも２つの反射増強層を含む被膜を製造工程
中に熱ガラスのリボン上に堆積してこれにより鏡が少な
くとも70％の可視光反射を有することとする鏡の製造方
法を提供する。被覆リボンをオンラインで切断し、通常
のオフラインでさらに切断して所望の寸法の分離した鏡
を提供する。
【００１３】反射層は、使用する際、反射されるべき光
の供給源から最も遠くにあり、反射増強層は光源および
反射層の間に存在する。このように前面鏡にとって前記
３種の層の内部層は反射層であり中間層および外側層は
反射増強層として作用し、さらに裏面鏡にとって前記３
種の層の外部層は反射層であり中間層および内側層は反
射増強層として作用する。内部層はガラスに最も近い被
膜の層として確認され外部層は前記３つの層のガラスか
ら最も遠い層として確認される。
の供給源から最も遠くにあり、反射増強層は光源および
反射層の間に存在する。このように前面鏡にとって前記
３種の層の内部層は反射層であり中間層および外側層は
反射増強層として作用し、さらに裏面鏡にとって前記３
種の層の外部層は反射層であり中間層および内側層は反
射増強層として作用する。内部層はガラスに最も近い被
膜の層として確認され外部層は前記３つの層のガラスか
ら最も遠い層として確認される。
【００１４】屈折率が波長により変化することはこの技
術において既知である。この明細書において、 "屈折
率" とは（従来の方法で） 550nmの波長の光に対する屈
折率を意味し、屈折率値の評価および引用において、屈
折率の任意の虚数部分は無視する。
術において既知である。この明細書において、 "屈折
率" とは（従来の方法で） 550nmの波長の光に対する屈
折率を意味し、屈折率値の評価および引用において、屈
折率の任意の虚数部分は無視する。
【００１５】この明細書で用いた、 "可視光反射" とは
イルミナントD65 ソース1931オブザーバーコンディショ
ン(Illuminant D65 source 1931 Observer Conditions)
下で反射した光の割合を意味する。
イルミナントD65 ソース1931オブザーバーコンディショ
ン(Illuminant D65 source 1931 Observer Conditions)
下で反射した光の割合を意味する。
【００１６】反射層は高屈折率を有する場合があり反射
増強層は高屈折率および低屈折率を有する場合があり、
従って結果として得られる層の積み重ねは連続して高屈
折率、低屈折率および高屈折率を有する。あるいはま
た、反射層は低屈折率を有する場合があるが、例えば反
射金属で構成される、高い固有反射力を有することがあ
り、さらに反射増強層は高屈折率および低屈折率を有す
ることがあり、従って結果として得られる層の積み重ね
は連続して高屈折率、低屈折率および低屈折率（しかし
高い固有反射力）を有する。金属層を用いる場合、金属
層は前面鏡または後表面鏡のいずれのためにも、かかる
金属層の不透明な性質を考慮して使用に際し反射される
べき光から最も遠く離れた層として配置する必要があ
る。
増強層は高屈折率および低屈折率を有する場合があり、
従って結果として得られる層の積み重ねは連続して高屈
折率、低屈折率および高屈折率を有する。あるいはま
た、反射層は低屈折率を有する場合があるが、例えば反
射金属で構成される、高い固有反射力を有することがあ
り、さらに反射増強層は高屈折率および低屈折率を有す
ることがあり、従って結果として得られる層の積み重ね
は連続して高屈折率、低屈折率および低屈折率（しかし
高い固有反射力）を有する。金属層を用いる場合、金属
層は前面鏡または後表面鏡のいずれのためにも、かかる
金属層の不透明な性質を考慮して使用に際し反射される
べき光から最も遠く離れた層として配置する必要があ
る。
【００１７】所望の高反射は前記被膜層の間の界面から
の反射が前記外部層の外側表面（前面鏡のための）また
は前記内部層の内側表面（裏面鏡のための）からの反射
を補強するような層厚さを用いて達成する。内部および
外部層の物質は反射層を高屈折率とする場合に２つの層
の物質の総屈折率が少なくとも 5.5となるように選択す
るのが好ましい。
の反射が前記外部層の外側表面（前面鏡のための）また
は前記内部層の内側表面（裏面鏡のための）からの反射
を補強するような層厚さを用いて達成する。内部および
外部層の物質は反射層を高屈折率とする場合に２つの層
の物質の総屈折率が少なくとも 5.5となるように選択す
るのが好ましい。
【００１８】少なくとも１つの内部層および外部層のた
めにケイ素を用いるのが好ましい。この理由は(a) ケイ
素が特に高屈折率を有することがあり、さらに(b) ケイ
素が熱ガラス上に、例えば、英国特許第1507465 号、第
1507996 号および第1573154号に記載された工程によ
り、オンラインで容易に堆積されるからである。
めにケイ素を用いるのが好ましい。この理由は(a) ケイ
素が特に高屈折率を有することがあり、さらに(b) ケイ
素が熱ガラス上に、例えば、英国特許第1507465 号、第
1507996 号および第1573154号に記載された工程によ
り、オンラインで容易に堆積されるからである。
【００１９】ケイ素の屈折率が約５と同じ大きさである
ことがあるが〔ピー．ジェー．マーチン(P.J.Martin)、
アール．ピー．ネザーフィールド(R.P.Netherfield) 、
ダブリュー．ジー．サインティー(W.G.Sainty)およびデ
ィー．アール．マッケンジー(D.R.McKenzie)のThin Sol
id Films 100(1983) 141〜147 ページ参照〕、しばしば
一層低い値が生じる。
ことがあるが〔ピー．ジェー．マーチン(P.J.Martin)、
アール．ピー．ネザーフィールド(R.P.Netherfield) 、
ダブリュー．ジー．サインティー(W.G.Sainty)およびデ
ィー．アール．マッケンジー(D.R.McKenzie)のThin Sol
id Films 100(1983) 141〜147 ページ参照〕、しばしば
一層低い値が生じる。
【００２０】実際に、この値はケイ素の規則的な物理的
形態および任意の不純物、例えば酸素、窒素または炭素
の存在に依存して変化する。本発明の目的のために、か
かる不純物の存在は屈折率が約 2.8未満に減少しないな
らば許容することができる（実際、現実にケイ素被膜を
有意な酸素および／または炭素の混入なくオンラインで
製造することは困難である）。このようにここで比較的
高屈折率の層に関して使用する "ケイ素" とはほとんど
ケイ素であるが、その屈折率が少なくとも 2.8であるな
らば、少量の不純物を含んでいてもよい物質を意味す
る。
形態および任意の不純物、例えば酸素、窒素または炭素
の存在に依存して変化する。本発明の目的のために、か
かる不純物の存在は屈折率が約 2.8未満に減少しないな
らば許容することができる（実際、現実にケイ素被膜を
有意な酸素および／または炭素の混入なくオンラインで
製造することは困難である）。このようにここで比較的
高屈折率の層に関して使用する "ケイ素" とはほとんど
ケイ素であるが、その屈折率が少なくとも 2.8であるな
らば、少量の不純物を含んでいてもよい物質を意味す
る。
【００２１】その高屈折率および堆積の容易さはケイ素
の使用を有利にするとともに、ケイ素の高い吸収作用は
反射の減少を招く。内部および外部層の１つだけがケイ
素から成る場合、他のもの（好ましくは裏面鏡のための
内部層および前面鏡のための外部層）は中間層より高い
屈折率（さらに少なくとも 1.6）を有する物質から成る
必要がありさらにスペクトルの可視領域で低い吸収作用
を有するのが好ましい。比較的高屈折率の層に対して、
ケイ素以外の好ましい物質は 1.9〜 3.0、通常2.0〜 2.
7の範囲の屈折率を有する物質であり酸化タンタル、酸
化チタン、酸化スズおよび酸化ケイ素（付加的元素、例
えば窒素および炭素を含有する酸化ケイ素を含む）が含
まれる。酸化ケイ素中のかかる付加的元素の量は屈折率
が組成依存性であるので屈折率を変化させるように変更
することができる。堆積した酸化ケイ素は一般に化学式
どおりの化合物ではない。一般に、物質の屈折率が高い
ほど、可視光吸収作用が低いほど、高屈折率の反射層ま
たは反射増強層として一層効果的になり、換言すれば、
この物質の屈折率の減少はその可視光吸収作用の減少に
より補償される場合がある。反射層に用いる物質は中間
層のものに比較して高屈折率であるのが好ましいが、前
記のように一層低い屈折率の物質は高い固有反射力を有
する条件で用いることができる。かかる高い固有反射力
は実質的に低い屈折率であるが高い吸光度係数（すなわ
ち高い吸収作用）の成分を用いた複合屈折率から生じる
場合がある。ケイ素の代わりに用いることができる物質
にはホウ素のような非金属物質もしくはゲルマニウムま
たはアルミニウム、クロム、コバルトもしくはチタンの
ような金属物質が含まれる。
の使用を有利にするとともに、ケイ素の高い吸収作用は
反射の減少を招く。内部および外部層の１つだけがケイ
素から成る場合、他のもの（好ましくは裏面鏡のための
内部層および前面鏡のための外部層）は中間層より高い
屈折率（さらに少なくとも 1.6）を有する物質から成る
必要がありさらにスペクトルの可視領域で低い吸収作用
を有するのが好ましい。比較的高屈折率の層に対して、
ケイ素以外の好ましい物質は 1.9〜 3.0、通常2.0〜 2.
7の範囲の屈折率を有する物質であり酸化タンタル、酸
化チタン、酸化スズおよび酸化ケイ素（付加的元素、例
えば窒素および炭素を含有する酸化ケイ素を含む）が含
まれる。酸化ケイ素中のかかる付加的元素の量は屈折率
が組成依存性であるので屈折率を変化させるように変更
することができる。堆積した酸化ケイ素は一般に化学式
どおりの化合物ではない。一般に、物質の屈折率が高い
ほど、可視光吸収作用が低いほど、高屈折率の反射層ま
たは反射増強層として一層効果的になり、換言すれば、
この物質の屈折率の減少はその可視光吸収作用の減少に
より補償される場合がある。反射層に用いる物質は中間
層のものに比較して高屈折率であるのが好ましいが、前
記のように一層低い屈折率の物質は高い固有反射力を有
する条件で用いることができる。かかる高い固有反射力
は実質的に低い屈折率であるが高い吸光度係数（すなわ
ち高い吸収作用）の成分を用いた複合屈折率から生じる
場合がある。ケイ素の代わりに用いることができる物質
にはホウ素のような非金属物質もしくはゲルマニウムま
たはアルミニウム、クロム、コバルトもしくはチタンの
ような金属物質が含まれる。
【００２２】ケイ素または金属以外の高屈折率の層をケ
イ素または金属層と関連して用いる場合、この層は通常
その層より低い可視光吸収作用を有し、従って反射され
るべき光の供給源の方に向けられるのが好ましい。この
ように前面鏡にとって、好ましい層の配置は、比較的高
屈折率の外部層（ケイ素または金属ではない）、比較的
低屈折率の中間層、ケイ素または金属の内部層および、
ガラスであり、一方、裏面鏡にとって、好ましい層の配
置は、ガラス、比較的高屈折率の内部層（ケイ素または
金属ではない）、比較的低屈折率の中間層、およびケイ
素または金属の外部層である。
イ素または金属層と関連して用いる場合、この層は通常
その層より低い可視光吸収作用を有し、従って反射され
るべき光の供給源の方に向けられるのが好ましい。この
ように前面鏡にとって、好ましい層の配置は、比較的高
屈折率の外部層（ケイ素または金属ではない）、比較的
低屈折率の中間層、ケイ素または金属の内部層および、
ガラスであり、一方、裏面鏡にとって、好ましい層の配
置は、ガラス、比較的高屈折率の内部層（ケイ素または
金属ではない）、比較的低屈折率の中間層、およびケイ
素または金属の外部層である。
【００２３】反射層が金属層でない場合、中間層すなわ
ち反射層に接する反射増強層、これは比較的低屈折率で
あり、比較的高屈折率の内部および外部層の屈折率より
低い（さらに少なくとも３未満の）屈折率を有する。反
射層が金属である場合、中間層はその金属の屈折率より
高いかまたは低い屈折率を有することがあるが、比較的
高屈折率の外部反射増強層（金属層から離間した）より
低い（さらに少なくとも３未満の）屈折率を有すること
がある。一般に、中間層の屈折率（所定の光吸収作用の
層のために）が低いほど達成することができる反射が大
きくなる。比較的低屈折率の層は通常約２未満の屈折率
を有し、さらに一般に 1.8未満の屈折率の層を用いるの
が好ましい。
ち反射層に接する反射増強層、これは比較的低屈折率で
あり、比較的高屈折率の内部および外部層の屈折率より
低い（さらに少なくとも３未満の）屈折率を有する。反
射層が金属である場合、中間層はその金属の屈折率より
高いかまたは低い屈折率を有することがあるが、比較的
高屈折率の外部反射増強層（金属層から離間した）より
低い（さらに少なくとも３未満の）屈折率を有すること
がある。一般に、中間層の屈折率（所定の光吸収作用の
層のために）が低いほど達成することができる反射が大
きくなる。比較的低屈折率の層は通常約２未満の屈折率
を有し、さらに一般に 1.8未満の屈折率の層を用いるの
が好ましい。
【００２４】またスペクトルの可視領域でほとんど非吸
収性である物質を中間層として用いすべての光反射を増
加させることが好ましい。適切なしかも有利な層物質は
酸化ケイ素であり、しかしこれは炭素または窒素のよう
な付加的元素を含む場合があり、さらにここで用いた"
酸化ケイ素 "とは他の元素を付加的に含む、例えば、炭
素および／または窒素を含みさらに、中間層に関して用
いる際に、２未満の屈折率を有する酸化ケイ素を包含す
るように使用する。驚くべきことに、実際に、ケイ素の
屈折率に受け入れがたい減少を生じさせるかまたは酸化
ケイ素の屈折率を増加させる相互拡散または相互反応を
起こすことなく、ケイ素および酸化ケイ素の接する層を
熱分解でガラスに塗布することができ、ケイ素および酸
化ケイ素の接する層が少なくともそれらの光学的機能に
関して、別々で異なるままであるように思われることが
見出される。しかし、層の界面で鏡の光学的特性を変化
させない急な屈折率勾配を伴う物理的に細い相互作用領
域が存在する場合がある。中間層のために用いることが
できる他の物質は酸化アルミニウムである。
収性である物質を中間層として用いすべての光反射を増
加させることが好ましい。適切なしかも有利な層物質は
酸化ケイ素であり、しかしこれは炭素または窒素のよう
な付加的元素を含む場合があり、さらにここで用いた"
酸化ケイ素 "とは他の元素を付加的に含む、例えば、炭
素および／または窒素を含みさらに、中間層に関して用
いる際に、２未満の屈折率を有する酸化ケイ素を包含す
るように使用する。驚くべきことに、実際に、ケイ素の
屈折率に受け入れがたい減少を生じさせるかまたは酸化
ケイ素の屈折率を増加させる相互拡散または相互反応を
起こすことなく、ケイ素および酸化ケイ素の接する層を
熱分解でガラスに塗布することができ、ケイ素および酸
化ケイ素の接する層が少なくともそれらの光学的機能に
関して、別々で異なるままであるように思われることが
見出される。しかし、層の界面で鏡の光学的特性を変化
させない急な屈折率勾配を伴う物理的に細い相互作用領
域が存在する場合がある。中間層のために用いることが
できる他の物質は酸化アルミニウムである。
【００２５】若干の被膜物質、特にケイ素は、限定され
た耐引掻性を有する高屈折率の外部層を形成するのに用
いられる場合がありさらに、一層耐久性のある製品が必
要な場合、一層堅固な物質、例えば酸化スズの付加的保
護層を前記外部層上に堆積する場合がある。かかる保護
層を前面鏡上に用いる場合、これがスペクトルの可視領
域で低い光吸収作用を有する物質（さらに酸化スズおよ
び酸化チタンが例である）から成り製品の光反射を保持
する必要があり、さらに 1/4波長とは著しく異なる光学
的厚さから成り外部層からの反射が抑制されるのを防ぐ
必要があると認められ、使用する場合、かかる保護層は
代表的に10nm〜30nmの領域の厚さを有する。ケイ素、チ
タニアまたは上述の保護層の最外層は鏡に化学的耐久性
を提供する。これは既知の銀鏡に関して現実の技術的利
点である。
た耐引掻性を有する高屈折率の外部層を形成するのに用
いられる場合がありさらに、一層耐久性のある製品が必
要な場合、一層堅固な物質、例えば酸化スズの付加的保
護層を前記外部層上に堆積する場合がある。かかる保護
層を前面鏡上に用いる場合、これがスペクトルの可視領
域で低い光吸収作用を有する物質（さらに酸化スズおよ
び酸化チタンが例である）から成り製品の光反射を保持
する必要があり、さらに 1/4波長とは著しく異なる光学
的厚さから成り外部層からの反射が抑制されるのを防ぐ
必要があると認められ、使用する場合、かかる保護層は
代表的に10nm〜30nmの領域の厚さを有する。ケイ素、チ
タニアまたは上述の保護層の最外層は鏡に化学的耐久性
を提供する。これは既知の銀鏡に関して現実の技術的利
点である。
【００２６】層の厚さを、一般に既知の方法（例えば前
記の従来技術参照）で選択することができ、その結果比
較的低屈折率の中間層と内部層および外部層との間の界
面からの反射は前記外部層の外側表面（前面鏡のため
の）または前記内部層の内側表面（裏面鏡のための）の
どちらからの反射も補強する。これは前面鏡に対し、前
記中間層および外部層が約ｎλ/4の光学的厚さを有する
場合に発生し、さらに裏面鏡に対しては、前記内部層お
よび中間層がそれぞれ約ｎλ/4の光学的厚さを有する場
合に発生し、そこでλがスペクトルの可視領域で光の波
長であり、すなわち約 400nm〜 750nmでｎが奇数の整数
で、ｎが前記層のそれぞれに対して同一かまたは異なる
ことがあるが、各場合に１であるのが好ましい。
記の従来技術参照）で選択することができ、その結果比
較的低屈折率の中間層と内部層および外部層との間の界
面からの反射は前記外部層の外側表面（前面鏡のため
の）または前記内部層の内側表面（裏面鏡のための）の
どちらからの反射も補強する。これは前面鏡に対し、前
記中間層および外部層が約ｎλ/4の光学的厚さを有する
場合に発生し、さらに裏面鏡に対しては、前記内部層お
よび中間層がそれぞれ約ｎλ/4の光学的厚さを有する場
合に発生し、そこでλがスペクトルの可視領域で光の波
長であり、すなわち約 400nm〜 750nmでｎが奇数の整数
で、ｎが前記層のそれぞれに対して同一かまたは異なる
ことがあるが、各場合に１であるのが好ましい。
【００２７】反射層が金属層（高い吸収作用を有する）
でない場合、内部層または外部層のいずれか（または両
者）がスペクトルの可視領域において非吸収性であるか
またはほんのわずかの吸収を示す比較的高屈折率の物質
から成る場合に、いずれの前記内部層および前記外部層
が約ｎλ/4の厚さを有することが認められ、そこでｎお
よびλが上記定義によることが好ましい。この方法にお
いて、反射形態の、前面鏡の場合の、比較的高屈折率の
内部層とガラスとの間の界面からの反射および、裏面鏡
の場合の、比較的一層高屈折率の外部層のガラスから離
間した面からの反射は鏡の総可視光反射を増加させる被
膜層の間の界面からの反射を補強する。他方前記内部層
および前記外部層がいずれもスペクトルの可視領域にお
いて高い吸収作用を示す物質から成る場合または反射層
が金属から成る場合、光源から離間した層（反射層）の
厚さは臨界以下である。これは光源の方に逆に通過する
光の量が光源から離間したその層の側面で反射した後吸
収により著しく減少するためである。
でない場合、内部層または外部層のいずれか（または両
者）がスペクトルの可視領域において非吸収性であるか
またはほんのわずかの吸収を示す比較的高屈折率の物質
から成る場合に、いずれの前記内部層および前記外部層
が約ｎλ/4の厚さを有することが認められ、そこでｎお
よびλが上記定義によることが好ましい。この方法にお
いて、反射形態の、前面鏡の場合の、比較的高屈折率の
内部層とガラスとの間の界面からの反射および、裏面鏡
の場合の、比較的一層高屈折率の外部層のガラスから離
間した面からの反射は鏡の総可視光反射を増加させる被
膜層の間の界面からの反射を補強する。他方前記内部層
および前記外部層がいずれもスペクトルの可視領域にお
いて高い吸収作用を示す物質から成る場合または反射層
が金属から成る場合、光源から離間した層（反射層）の
厚さは臨界以下である。これは光源の方に逆に通過する
光の量が光源から離間したその層の側面で反射した後吸
収により著しく減少するためである。
【００２８】70％の所望の可視光反射を達成するために
約ｎλ/4の光学厚さの層の厚さを選択して前記被膜層の
界面と（前面鏡のために）外部層の外面または（裏面鏡
のために）内部層の内面のいずれかとから光源方向に反
射された約 500nmの波長の光の位相の差をすべて波長の
±40％範囲内好ましくは波長の±20％範囲内とする。一
般的な条件は界面から最初に反射された光線が、前面鏡
の前記外面のためのまたは、裏面鏡の前記内面のための
いずれにも、これら割合値を超えることのない相誤差を
有する位相をほとんど同じにすることである。それぞれ
の反射増強層（前面鏡の場合はそれぞれの外部層および
中間層であり裏面鏡の場合は内部層および中間層であ
る）は 125nm±25％の光学的厚さを有し、反射層が金属
でなくまたは内部層もしくは外部層のいずれもがスペク
トルの可視領域において非吸収性であるかあるいはほん
のわずかの吸収を示す場合、また反射層も 125nm±25％
の光学的厚さを有する。
約ｎλ/4の光学厚さの層の厚さを選択して前記被膜層の
界面と（前面鏡のために）外部層の外面または（裏面鏡
のために）内部層の内面のいずれかとから光源方向に反
射された約 500nmの波長の光の位相の差をすべて波長の
±40％範囲内好ましくは波長の±20％範囲内とする。一
般的な条件は界面から最初に反射された光線が、前面鏡
の前記外面のためのまたは、裏面鏡の前記内面のための
いずれにも、これら割合値を超えることのない相誤差を
有する位相をほとんど同じにすることである。それぞれ
の反射増強層（前面鏡の場合はそれぞれの外部層および
中間層であり裏面鏡の場合は内部層および中間層であ
る）は 125nm±25％の光学的厚さを有し、反射層が金属
でなくまたは内部層もしくは外部層のいずれもがスペク
トルの可視領域において非吸収性であるかあるいはほん
のわずかの吸収を示す場合、また反射層も 125nm±25％
の光学的厚さを有する。
【００２９】層の光学的厚さをｎ× 500nm/4に近づける
ほど、反射色は一層中性になり、一方層の光学的厚さを
ｎ× 550nm/4に近づけるほど、すべての光反射が一層高
くなる。しかし、約 400nm（青緑色反射）の 1/4から 7
50nm（赤黄色反射）の 1/4までの範囲内で層の光学的厚
さを変更することにより反射色を変えることができるこ
とは、当業者により、容易に認められることができるも
のであり、また約 550nmから逸らすことが製品のすべて
の可視光反射を減少させることも認められる。
ほど、反射色は一層中性になり、一方層の光学的厚さを
ｎ× 550nm/4に近づけるほど、すべての光反射が一層高
くなる。しかし、約 400nm（青緑色反射）の 1/4から 7
50nm（赤黄色反射）の 1/4までの範囲内で層の光学的厚
さを変更することにより反射色を変えることができるこ
とは、当業者により、容易に認められることができるも
のであり、また約 550nmから逸らすことが製品のすべて
の可視光反射を減少させることも認められる。
【００３０】本発明の方法により、所望の指数の層をガ
ラス製造工程中に熱ガラスのリボンに塗布する。堆積は
既知の方法で液体または粉末噴霧処理により、または化
学蒸着処理により実施することができ、さらにそれぞれ
の層は異なる種類の処理により堆積させることができ
る。堆積は所望の層の物質に対する前駆物質である化合
物の分解を含む熱分解によるものであり得、可能なら他
の化合物との反応による。
ラス製造工程中に熱ガラスのリボンに塗布する。堆積は
既知の方法で液体または粉末噴霧処理により、または化
学蒸着処理により実施することができ、さらにそれぞれ
の層は異なる種類の処理により堆積させることができ
る。堆積は所望の層の物質に対する前駆物質である化合
物の分解を含む熱分解によるものであり得、可能なら他
の化合物との反応による。
【００３１】一般に、化学的蒸着処理を用いて所望とさ
れる任意のケイ素および酸化ケイ素（炭素を含んでもよ
い）を塗布するのが有利である。このように、例えば、
任意のケイ素層を化学的蒸着処理によりシランガスか
ら、有利にはガス状希釈剤、例えば窒素中で、熱基板上
に（直接または間接に）堆積することができる。一般
に、モノシランを用いるのが最も有効であるが、他のシ
ラン、例えばジクロロシランを用いることもできる。か
かるケイ素層の堆積に有効な１つの方法は英国特許第15
07996 号に記載している。所望の場合、例えばケイ素被
膜の耐アルカリ性を改善するために、反応体ガスは添加
剤として、ガス状電子供与化合物、特に、エチレン系不
飽和炭化水素化合物、例えば、エチレンを一部に含む場
合がある。
れる任意のケイ素および酸化ケイ素（炭素を含んでもよ
い）を塗布するのが有利である。このように、例えば、
任意のケイ素層を化学的蒸着処理によりシランガスか
ら、有利にはガス状希釈剤、例えば窒素中で、熱基板上
に（直接または間接に）堆積することができる。一般
に、モノシランを用いるのが最も有効であるが、他のシ
ラン、例えばジクロロシランを用いることもできる。か
かるケイ素層の堆積に有効な１つの方法は英国特許第15
07996 号に記載している。所望の場合、例えばケイ素被
膜の耐アルカリ性を改善するために、反応体ガスは添加
剤として、ガス状電子供与化合物、特に、エチレン系不
飽和炭化水素化合物、例えば、エチレンを一部に含む場
合がある。
【００３２】反射層または可視領域で高屈折率であるが
低吸収作用を有する反射増強層として用いる炭素を含む
酸化ケイ素の層はシランガスから、有利にはガス状希釈
剤、エチレン系不飽和炭化水素との混合物中、例えばエ
チレン中で、ケイ素層の製造に必要なシランに対するエ
チレンの割合より若干高い割合を用いて、化学的蒸着に
より同様に堆積することができる。さらに用いるシラン
はモノシランが有効である。
低吸収作用を有する反射増強層として用いる炭素を含む
酸化ケイ素の層はシランガスから、有利にはガス状希釈
剤、エチレン系不飽和炭化水素との混合物中、例えばエ
チレン中で、ケイ素層の製造に必要なシランに対するエ
チレンの割合より若干高い割合を用いて、化学的蒸着に
より同様に堆積することができる。さらに用いるシラン
はモノシランが有効である。
【００３３】低屈折率の反射増強層（すなわち中間層）
として用いるための酸化ケイ素層をシランガスから、有
利にはガス状希釈剤中で、酸素または酸素供給源との混
合物において化学的蒸着により同様に堆積することがで
きる。シランおよびエチレン系不飽和炭化水素との混合
物を二酸化炭素またはケトン、たとえばアセトンのよう
な酸素の供給源としてはたらく他の酸素化合物とともに
用いるのが好ましい。シランおよび用いる酸素供給源の
相対的濃度は所望の屈折率に依存し、一般に、所望の屈
折率が低いほど、用いるべきシランに対する酸素含有化
合物の割合が高くなる。さらに、用いるシランはモノシ
ランが好ましい。
として用いるための酸化ケイ素層をシランガスから、有
利にはガス状希釈剤中で、酸素または酸素供給源との混
合物において化学的蒸着により同様に堆積することがで
きる。シランおよびエチレン系不飽和炭化水素との混合
物を二酸化炭素またはケトン、たとえばアセトンのよう
な酸素の供給源としてはたらく他の酸素化合物とともに
用いるのが好ましい。シランおよび用いる酸素供給源の
相対的濃度は所望の屈折率に依存し、一般に、所望の屈
折率が低いほど、用いるべきシランに対する酸素含有化
合物の割合が高くなる。さらに、用いるシランはモノシ
ランが好ましい。
【００３４】酸化スズまたは酸化チタンのような金属酸
化物層のために、液体もしくは粉末噴霧処理または化学
的蒸着が一般に用いられる。このように、例えば酸化ス
ズまたは酸化チタンの層を対応するガス状金属塩化物と
水蒸気との反応による化学的蒸着により、または金属塩
化物の非水溶液を水蒸気の存在下に熱ガラス上に噴霧す
ることにより堆積することができる。このように酸化ス
ズが四塩化スズおよび水蒸気、さらに二塩化ジエチルス
ズまたはテトラメチルスズのような有機スズ化合物、お
よび酸素、空気中に任意に存在する酸素から選択した成
分の化学的蒸着により堆積させることができる。酸化チ
タンはチタンアルコキシド、例えばチタンイソプロポキ
シドの化学的蒸着により、水または空気の任意の存在下
に堆積させることができる。
化物層のために、液体もしくは粉末噴霧処理または化学
的蒸着が一般に用いられる。このように、例えば酸化ス
ズまたは酸化チタンの層を対応するガス状金属塩化物と
水蒸気との反応による化学的蒸着により、または金属塩
化物の非水溶液を水蒸気の存在下に熱ガラス上に噴霧す
ることにより堆積することができる。このように酸化ス
ズが四塩化スズおよび水蒸気、さらに二塩化ジエチルス
ズまたはテトラメチルスズのような有機スズ化合物、お
よび酸素、空気中に任意に存在する酸素から選択した成
分の化学的蒸着により堆積させることができる。酸化チ
タンはチタンアルコキシド、例えばチタンイソプロポキ
シドの化学的蒸着により、水または空気の任意の存在下
に堆積させることができる。
【００３５】金属を反射層として用いるべき場合に、層
は金属蒸気の凝縮により、または適当な有機金属蒸気を
用いた化学的蒸着により堆積することができる。
は金属蒸気の凝縮により、または適当な有機金属蒸気を
用いた化学的蒸着により堆積することができる。
【００３６】フロートガラスのリボンに被膜層を塗布す
る場合、化学的蒸着法はフロート浴内ですなわちガラス
が保護雰囲気下（ただしガラスが延伸を終えた後すなわ
ち 750℃未満のガラス温度が好ましい）、またはリボン
をフロート浴から取り出した後に有効に実施することが
できる。ケイ素層、炭素を含む酸化ケイ素層、または他
の酸化ケイ素層を堆積するためにモノシランを含むガス
を用いる場合、ガラスが 600℃〜 750℃の範囲の温度に
あるフロート浴においてその層の堆積を実施して十分な
堆積速度を達成するのが好ましい。
る場合、化学的蒸着法はフロート浴内ですなわちガラス
が保護雰囲気下（ただしガラスが延伸を終えた後すなわ
ち 750℃未満のガラス温度が好ましい）、またはリボン
をフロート浴から取り出した後に有効に実施することが
できる。ケイ素層、炭素を含む酸化ケイ素層、または他
の酸化ケイ素層を堆積するためにモノシランを含むガス
を用いる場合、ガラスが 600℃〜 750℃の範囲の温度に
あるフロート浴においてその層の堆積を実施して十分な
堆積速度を達成するのが好ましい。
【００３７】フロートガラスのリボンに液体または粉末
噴霧処理により被膜層を塗布する場合、一般にガラスの
リボンがフロート浴から取り出された後に層を堆積する
のが一層有効である。
噴霧処理により被膜層を塗布する場合、一般にガラスの
リボンがフロート浴から取り出された後に層を堆積する
のが一層有効である。
【００３８】ケイ素、酸化ケイ素、酸化チタンおよび本
発明の実施例で用いた（ドーピングしていない）酸化ス
ズを含み、一方スペクトルの可視領域で反射する好まし
い層は赤外線領域でほとんど透明であり、その結果アニ
ーリング中のガラス表面上のそれらの存在（鏡に従来用
いられる銀層のものとは似ていない）は被覆ガラスのア
ニーリングにいかなる著しい有害な作用も与えない。こ
のように、本発明の好ましい観点に従い、堆積した被膜
はスペクトルの赤外線領域でほとんど透明である。これ
はかかる鏡が既知の方法でアニーリングすることができ
るのでフロートガラス処理中にオンラインで製造するこ
とができることを意味する。
発明の実施例で用いた（ドーピングしていない）酸化ス
ズを含み、一方スペクトルの可視領域で反射する好まし
い層は赤外線領域でほとんど透明であり、その結果アニ
ーリング中のガラス表面上のそれらの存在（鏡に従来用
いられる銀層のものとは似ていない）は被覆ガラスのア
ニーリングにいかなる著しい有害な作用も与えない。こ
のように、本発明の好ましい観点に従い、堆積した被膜
はスペクトルの赤外線領域でほとんど透明である。これ
はかかる鏡が既知の方法でアニーリングすることができ
るのでフロートガラス処理中にオンラインで製造するこ
とができることを意味する。
【００３９】本発明の方法は、浴室および寝室の鏡とし
ての使用を含む、広い範囲の目的のための鏡の製造に有
用である。種々の用途に対して、これらの鏡は不透明
層、好ましくはほとんど不透明な、さらに使用に際して
反射される光の供給源から離間すべき層を備える。この
ように、裏面鏡のための、不透明層は通常外部層上に塗
布される一方前面鏡のための不透明層は一般にガラスの
裏表面上に塗布される。
ての使用を含む、広い範囲の目的のための鏡の製造に有
用である。種々の用途に対して、これらの鏡は不透明
層、好ましくはほとんど不透明な、さらに使用に際して
反射される光の供給源から離間すべき層を備える。この
ように、裏面鏡のための、不透明層は通常外部層上に塗
布される一方前面鏡のための不透明層は一般にガラスの
裏表面上に塗布される。
【００４０】既知の技術に基づいた被覆段階、例えばケ
イ素層の熱分解堆積を用いて、オンラインでガラス鏡を
高収率で製造する能力は新しい重要な段階でありこの方
法で製造することができる種々の重要な製品は新規であ
る。このように、本発明の他の観点により、以下の新規
な製品が提供される。
イ素層の熱分解堆積を用いて、オンラインでガラス鏡を
高収率で製造する能力は新しい重要な段階でありこの方
法で製造することができる種々の重要な製品は新規であ
る。このように、本発明の他の観点により、以下の新規
な製品が提供される。
【００４１】少なくとも１つの熱分解反射層および２つ
の反射増強層を含む被膜を有するガラス基板から成りこ
れにより鏡が少なくとも70％の可視光反射を示す鏡。前
記反射層はケイ素から成るのが好ましく、特に被膜のそ
れぞれの前記層が熱分解性、すなわち熱分解的に堆積さ
れることが好ましい。
の反射増強層を含む被膜を有するガラス基板から成りこ
れにより鏡が少なくとも70％の可視光反射を示す鏡。前
記反射層はケイ素から成るのが好ましく、特に被膜のそ
れぞれの前記層が熱分解性、すなわち熱分解的に堆積さ
れることが好ましい。
【００４２】被膜を有するガラス基板から成る鏡が、少
なくとも 1.6の屈折率を有する内部層、比較的低屈折率
の中間層および少なくとも 1.6の屈折率を有する外部
層、前記内部層または外部層の屈折率より小さくかつ３
より小さい屈折率を有する中間層を含む被膜を有する鏡
であって、少なくとも１つの前記内部および外部層がケ
イ素から成り、内部および外部層の総屈折率が少なくと
も 5.5であり、さらにこれらの層厚を鏡が70％〜90％の
範囲の可視光反射を有するようにした鏡。
なくとも 1.6の屈折率を有する内部層、比較的低屈折率
の中間層および少なくとも 1.6の屈折率を有する外部
層、前記内部層または外部層の屈折率より小さくかつ３
より小さい屈折率を有する中間層を含む被膜を有する鏡
であって、少なくとも１つの前記内部および外部層がケ
イ素から成り、内部および外部層の総屈折率が少なくと
も 5.5であり、さらにこれらの層厚を鏡が70％〜90％の
範囲の可視光反射を有するようにした鏡。
【００４３】約４mm以上の厚さを有するガラス基板を含
み、被膜を有する該基板が、少なくとも 1.6の屈折率を
有する内部層、比較的低屈折率の中間層、および少なく
とも1.6の屈折率を有する外部層、前記内部層または外
部層の屈折率より小さくかつ３より小さい屈折率を有す
る中間層を含む被膜を有する鏡であって、少なくとも１
つの前記内部および外部層がケイ素から成り、内部およ
び外部層の総屈折率が少なくとも 5.5であり、さらにこ
れらの層厚を鏡が少なくとも70％の可視光反射を有する
ようにした鏡。
み、被膜を有する該基板が、少なくとも 1.6の屈折率を
有する内部層、比較的低屈折率の中間層、および少なく
とも1.6の屈折率を有する外部層、前記内部層または外
部層の屈折率より小さくかつ３より小さい屈折率を有す
る中間層を含む被膜を有する鏡であって、少なくとも１
つの前記内部および外部層がケイ素から成り、内部およ
び外部層の総屈折率が少なくとも 5.5であり、さらにこ
れらの層厚を鏡が少なくとも70％の可視光反射を有する
ようにした鏡。
【００４４】被膜を有するガラス基板から成り、該被膜
が、少なくとも 1.6の屈折率を有する内部層、比較的低
屈折率の中間層、および少なくとも 1.6の屈折率を有す
る外部層、前記内部層または外部層の屈折率より小さく
かつ３より小さい屈折率を有する中間層を含む鏡であっ
て、少なくとも１つの前記内部層および外部層がケイ素
から成り、内部層および外部層の総屈折率が少なくとも
5.5であり、さらにこれらの層厚を鏡が少なくとも70％
の可視光反射を有しさらに前面鏡上で、前記被膜に対し
反対のガラス面にわたり、あるいは裏面鏡上で、前記被
膜にわたりほとんど不透明な層を有するようにした鏡。
が、少なくとも 1.6の屈折率を有する内部層、比較的低
屈折率の中間層、および少なくとも 1.6の屈折率を有す
る外部層、前記内部層または外部層の屈折率より小さく
かつ３より小さい屈折率を有する中間層を含む鏡であっ
て、少なくとも１つの前記内部層および外部層がケイ素
から成り、内部層および外部層の総屈折率が少なくとも
5.5であり、さらにこれらの層厚を鏡が少なくとも70％
の可視光反射を有しさらに前面鏡上で、前記被膜に対し
反対のガラス面にわたり、あるいは裏面鏡上で、前記被
膜にわたりほとんど不透明な層を有するようにした鏡。
【００４５】物質、被膜層の特性および厚さ、ならびに
前記外部層にわたり塗布される一層耐久性のある任意の
付加的外部保護層は本発明の方法に関して上述したよう
に選択することができる。
前記外部層にわたり塗布される一層耐久性のある任意の
付加的外部保護層は本発明の方法に関して上述したよう
に選択することができる。
【００４６】また当業者は付加的な低屈折率および高屈
折率の 1/4波長（ｎλ/4、ここでｎは奇数の整数、好ま
しくは１）の層を層の積み重ねに加えてさらに反射を増
強することができることを認識する。
折率の 1/4波長（ｎλ/4、ここでｎは奇数の整数、好ま
しくは１）の層を層の積み重ねに加えてさらに反射を増
強することができることを認識する。
【００４７】さらに前記内部層および外部層の間に付加
的非 1/4波長層を組み込むことは可能であるが、その場
合にはかかる層は一般に混成中間層の一部、混成単一層
と考えられ、前記混成中間層および他の被膜層の界面と
（前面鏡に対して）外部層の外面または（裏面鏡に対し
て）内部層の内面とから光表面へ反射した光の位相の違
いがすべて波長の±40％範囲内、好ましくは波長の±20
％範囲内であるような厚さを有するべき層を形成すると
最もよく考えられている。このように、混成単一層は前
記内部層または外部層の屈折率より小さくかつ３より小
さい屈折率を有し、かかる混成単一層が 1.8より低い屈
折率および 125nm±25％の光学的厚さを有するのが好ま
しい。同様に、付加的層を内部層とガラスの間に含める
ことができるが、裏面鏡の場合には、通常付加的層は内
部層とガラスの屈折率の間の中間の屈折率から成る。
的非 1/4波長層を組み込むことは可能であるが、その場
合にはかかる層は一般に混成中間層の一部、混成単一層
と考えられ、前記混成中間層および他の被膜層の界面と
（前面鏡に対して）外部層の外面または（裏面鏡に対し
て）内部層の内面とから光表面へ反射した光の位相の違
いがすべて波長の±40％範囲内、好ましくは波長の±20
％範囲内であるような厚さを有するべき層を形成すると
最もよく考えられている。このように、混成単一層は前
記内部層または外部層の屈折率より小さくかつ３より小
さい屈折率を有し、かかる混成単一層が 1.8より低い屈
折率および 125nm±25％の光学的厚さを有するのが好ま
しい。同様に、付加的層を内部層とガラスの間に含める
ことができるが、裏面鏡の場合には、通常付加的層は内
部層とガラスの屈折率の間の中間の屈折率から成る。
【００４８】図面を参照して本発明を実施例により説明
するがこれらに限定されるものではない。
するがこれらに限定されるものではない。
【００４９】
【実施例】図１に関して、前表面ガラス鏡は比較的高屈
折率の、例えば熱分解性ケイ素の内部層３、および比較
的低屈折率の、例えば 1.8未満の屈折率を有し約 1:2の
原子比のケイ素と酸素を含む酸化ケイ素の中間層４、な
らびに比較的高屈折率の、例えば熱分解性ケイ素の外部
層５を含む被膜２を有するフロートガラス基板１から成
る。比較的高屈折率の層３または５の１つだけがケイ素
から成る場合、通常それは内部層であり、可視光に対し
一層低い吸収作用を有する物質、例えば炭素または酸化
チタンを含む酸化ケイ素を外部層５として用いる。中間
層４および外部層５はそれぞれｎλ/4の光学的厚さを有
し、ここでｎは奇数の整数（好ましくは１）でありλは
スペクトルの可視領域の光の波長すなわち約 400nm〜 7
50nmである。内部層３および外部層５がケイ素のような
吸収物質から成る場合、内部層の厚さは臨界未満である
が、ｎλ/4の光学的厚さに一致する場合もありｎおよび
λは上記定義によりｎは奇数の整数好ましくは１であ
る。
折率の、例えば熱分解性ケイ素の内部層３、および比較
的低屈折率の、例えば 1.8未満の屈折率を有し約 1:2の
原子比のケイ素と酸素を含む酸化ケイ素の中間層４、な
らびに比較的高屈折率の、例えば熱分解性ケイ素の外部
層５を含む被膜２を有するフロートガラス基板１から成
る。比較的高屈折率の層３または５の１つだけがケイ素
から成る場合、通常それは内部層であり、可視光に対し
一層低い吸収作用を有する物質、例えば炭素または酸化
チタンを含む酸化ケイ素を外部層５として用いる。中間
層４および外部層５はそれぞれｎλ/4の光学的厚さを有
し、ここでｎは奇数の整数（好ましくは１）でありλは
スペクトルの可視領域の光の波長すなわち約 400nm〜 7
50nmである。内部層３および外部層５がケイ素のような
吸収物質から成る場合、内部層の厚さは臨界未満である
が、ｎλ/4の光学的厚さに一致する場合もありｎおよび
λは上記定義によりｎは奇数の整数好ましくは１であ
る。
【００５０】改良した例において、内部層３は低屈折率
を有するアルミニウムもしくはコバルトまたは高屈折率
を有するチタンもしくはクロムのような反射金属から成
る場合がある。
を有するアルミニウムもしくはコバルトまたは高屈折率
を有するチタンもしくはクロムのような反射金属から成
る場合がある。
【００５１】図２および３では、図１に関して記載した
ような同一の基板および層を示すのに同一の符号を用い
る。さらに、図２は外部層５よりも一層耐久性のある保
護層６を層５上に塗布した様子を示す。保護層は酸化チ
タンから成り、化学蒸着により塗布することができる。
外部層５がケイ素から成る場合、酸化スズのかかる保護
層は酸化ケイ素の表面層がケイ素上に形成された後に限
り塗布する、例えば、米国特許第4661381 号に記載され
たようにする必要がある。図３は支持塗料の不透明な層
であり、従来の鏡支持塗料であり、ガラス１の裏表面に
塗布することができる不透明層７を示す。
ような同一の基板および層を示すのに同一の符号を用い
る。さらに、図２は外部層５よりも一層耐久性のある保
護層６を層５上に塗布した様子を示す。保護層は酸化チ
タンから成り、化学蒸着により塗布することができる。
外部層５がケイ素から成る場合、酸化スズのかかる保護
層は酸化ケイ素の表面層がケイ素上に形成された後に限
り塗布する、例えば、米国特許第4661381 号に記載され
たようにする必要がある。図３は支持塗料の不透明な層
であり、従来の鏡支持塗料であり、ガラス１の裏表面に
塗布することができる不透明層７を示す。
【００５２】図４に関して、裏面ガラス鏡は比較的高屈
折率の、例えば熱分解性ケイ素の内部層43、比較的低屈
折率の、例えば 1.8未満の屈折率を有し約 1:2の原子比
のケイ素と酸素を含む酸化ケイ素の中間層44、および比
較的高屈折率の、例えば熱分解性ケイ素の外部層45を含
む被膜42を有するフロートガラス基板41から成る。比較
的高屈折率の層３または５の１つだけがケイ素から成る
場合、通常それは外部層であり、可視光に対し一層低い
吸収作用を有する物質、例えば炭素、または酸化チタン
を含む酸化ケイ素を内部層43として用いる。内部層43お
よび中間層44はそれぞれｎλ/4の光学的厚さを有し、こ
こでｎは奇数の整数（好ましくは１）でありλはスペク
トルの可視領域の光の波長すなわち約 400nm〜 750nmで
ある。内部層および外部層43および45がケイ素のような
吸収物質から成る場合、外部層の厚さは臨界点未満であ
るが、ｎλ/4の光学的厚さに一致する場合もありｎおよ
びλは上記定義のものでありｎは１であるのが好まし
い。
折率の、例えば熱分解性ケイ素の内部層43、比較的低屈
折率の、例えば 1.8未満の屈折率を有し約 1:2の原子比
のケイ素と酸素を含む酸化ケイ素の中間層44、および比
較的高屈折率の、例えば熱分解性ケイ素の外部層45を含
む被膜42を有するフロートガラス基板41から成る。比較
的高屈折率の層３または５の１つだけがケイ素から成る
場合、通常それは外部層であり、可視光に対し一層低い
吸収作用を有する物質、例えば炭素、または酸化チタン
を含む酸化ケイ素を内部層43として用いる。内部層43お
よび中間層44はそれぞれｎλ/4の光学的厚さを有し、こ
こでｎは奇数の整数（好ましくは１）でありλはスペク
トルの可視領域の光の波長すなわち約 400nm〜 750nmで
ある。内部層および外部層43および45がケイ素のような
吸収物質から成る場合、外部層の厚さは臨界点未満であ
るが、ｎλ/4の光学的厚さに一致する場合もありｎおよ
びλは上記定義のものでありｎは１であるのが好まし
い。
【００５３】改良した例において、外部層は低屈折率を
有するアルミニウムもしくはコバルトまたは高屈折率を
有するチタンもしくはクロムのような反射金属から成る
場合がある。
有するアルミニウムもしくはコバルトまたは高屈折率を
有するチタンもしくはクロムのような反射金属から成る
場合がある。
【００５４】内部層または外部層の１つとしてケイ素の
代わりに酸化チタンを用いることは鏡製品の反射力を高
めることが見出された。例えば、裏面鏡のために、外部
層として二酸化チタンを用いることは、ケイ素外部層を
有するかかる鏡に比較して、約３〜７％だけ反射力を高
めることができる。
代わりに酸化チタンを用いることは鏡製品の反射力を高
めることが見出された。例えば、裏面鏡のために、外部
層として二酸化チタンを用いることは、ケイ素外部層を
有するかかる鏡に比較して、約３〜７％だけ反射力を高
めることができる。
【００５５】図５および６では、図４に関して記載した
ような同一の基板および層を示すのに同一の符号を用い
る。さらに、図５は外部層45上に塗布された外部層45よ
り一層耐久性のある保護層46を示す。保護層は酸化チタ
ンから成り、すべて図２の層６に関して上述したよう
に、化学蒸着により塗布することができる。図６には支
持塗料の不透明な層47を示し、これはガラス基板41の被
膜42上に不透明層として塗布された従来の鏡支持塗料で
ある。
ような同一の基板および層を示すのに同一の符号を用い
る。さらに、図５は外部層45上に塗布された外部層45よ
り一層耐久性のある保護層46を示す。保護層は酸化チタ
ンから成り、すべて図２の層６に関して上述したよう
に、化学蒸着により塗布することができる。図６には支
持塗料の不透明な層47を示し、これはガラス基板41の被
膜42上に不透明層として塗布された従来の鏡支持塗料で
ある。
【００５６】図７は、ガラス溶融部分71、溶融ガラスが
連続したリボンの形になるフロート浴部分72、前記ガラ
スリボンをアニーリングするための炉部分73および保存
および／または流通および使用のためにリボンからガラ
スの一部を切断するための倉庫部分74を含むフロートガ
ラス製造ラインを概略的に示す。本発明の方法に従って
鏡を製造するために、それぞれに内部、中間および外部
層を塗布するためのそれぞれ３つの被覆ステーションは
通常フロート浴部分72および炉部分73中または間に配置
し、本発明で示した例では、前記３つの被覆ステーショ
ン75、76および77を図７に示すようにフロート浴部分72
に配置する。しかし、他の例では、本発明に従って内
部、中間および外部層を塗布するための１つまたはそれ
ぞれの被覆ステーションはフロート浴部分72と炉部分73
の間に配置することができる。各被覆ステーションの配
置はガラスリボンがその最終厚さ（通常約 750℃のガラ
ス温度で）にほぼ達して塗布した任意の被膜に亀裂を与
えることがあるそのうえの延伸を施さないが、その温度
がなお一層の熱分解層の形成のために十分高い温度のま
まである（通常少なくとも 300℃のガラス温度）ように
選定する。
連続したリボンの形になるフロート浴部分72、前記ガラ
スリボンをアニーリングするための炉部分73および保存
および／または流通および使用のためにリボンからガラ
スの一部を切断するための倉庫部分74を含むフロートガ
ラス製造ラインを概略的に示す。本発明の方法に従って
鏡を製造するために、それぞれに内部、中間および外部
層を塗布するためのそれぞれ３つの被覆ステーションは
通常フロート浴部分72および炉部分73中または間に配置
し、本発明で示した例では、前記３つの被覆ステーショ
ン75、76および77を図７に示すようにフロート浴部分72
に配置する。しかし、他の例では、本発明に従って内
部、中間および外部層を塗布するための１つまたはそれ
ぞれの被覆ステーションはフロート浴部分72と炉部分73
の間に配置することができる。各被覆ステーションの配
置はガラスリボンがその最終厚さ（通常約 750℃のガラ
ス温度で）にほぼ達して塗布した任意の被膜に亀裂を与
えることがあるそのうえの延伸を施さないが、その温度
がなお一層の熱分解層の形成のために十分高い温度のま
まである（通常少なくとも 300℃のガラス温度）ように
選定する。
【００５７】次の実施例は本発明を説明するがこれに限
定されず、この実施例において鏡は図７に示した構成を
有するフロートガラス製造ラインを用いたオンラインで
製造された。
定されず、この実施例において鏡は図７に示した構成を
有するフロートガラス製造ラインを用いたオンラインで
製造された。
【００５８】実施例１
前面鏡として用いるための、ガラス鏡を薄層蒸気被覆処
理および英国特許公開第2209176 号明細書に記載の改良
を組み込んだ英国特許第1507996 号明細書に記載の装置
を用いて製造した。３つの別々の被覆ビーム、それぞれ
前記特許出願明細書に記載されたようなものは、連続す
るケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表１に示し
た炉速度で厚さおよび前進を有するフロートガラスのリ
ボンに塗布するために用いた。それぞれ３つの被覆ビー
ムをガラスリボンが溶融金属の浴上に支持されるフロー
ト浴中に配置した。上流、中間および下流（それぞれガ
ラスの進行方向に関して）ビームをガラス温度が表１に
明記したようなほぼ同一の温度である位置にそれぞれ個
々に配置した。
理および英国特許公開第2209176 号明細書に記載の改良
を組み込んだ英国特許第1507996 号明細書に記載の装置
を用いて製造した。３つの別々の被覆ビーム、それぞれ
前記特許出願明細書に記載されたようなものは、連続す
るケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表１に示し
た炉速度で厚さおよび前進を有するフロートガラスのリ
ボンに塗布するために用いた。それぞれ３つの被覆ビー
ムをガラスリボンが溶融金属の浴上に支持されるフロー
ト浴中に配置した。上流、中間および下流（それぞれガ
ラスの進行方向に関して）ビームをガラス温度が表１に
明記したようなほぼ同一の温度である位置にそれぞれ個
々に配置した。
【００５９】
【表１】
【００６０】上流および下流ビームはそれぞれガラスの
進行方向に約13cmの長さを有する被覆室を備え、中間ビ
ームはガラスの進行方向に約26cmの長さを有する被覆室
を備える。
進行方向に約13cmの長さを有する被覆室を備え、中間ビ
ームはガラスの進行方向に約26cmの長さを有する被覆室
を備える。
【００６１】上流、中間および下流ビームにはそれぞれ
表１に明記した対応するガス混合物を供給された。窒素
(N2)をキャリアガスとして用いた。この実施例１および
次の実施例２〜５でガス流を周囲温度および１bar の圧
力で測定する窒素の流れ以外は、すべて周囲温度および
0.7bar の圧力で測定し、さらに液体として測定するア
セトン、およびすべてを被覆したガラスの１メートル幅
当たりで見積もる。
表１に明記した対応するガス混合物を供給された。窒素
(N2)をキャリアガスとして用いた。この実施例１および
次の実施例２〜５でガス流を周囲温度および１bar の圧
力で測定する窒素の流れ以外は、すべて周囲温度および
0.7bar の圧力で測定し、さらに液体として測定するア
セトン、およびすべてを被覆したガラスの１メートル幅
当たりで見積もる。
【００６２】炉の条件を改良することは高度の反射外
観、若干黄緑色を示す反射を有する得られた被覆リボン
をアニーリングするのに必要でなかった。色調は当業者
に良く知られた色座標系を用いることにより定量するこ
とができ、そこで色調は陰性ａ * を緑色、陰性ｂ* を青
色とし、陽性ａ* を赤色、陽性ｂ* を黄色とする直交座
標系における２つの座標ａ* およびｂ* により示され
る。リボンから切断した試料鏡の試験は表２に明記した
ような高可視光反射および色座標を有することを示し
た。すべての実施例において反射および色座標はイルミ
ナントD65 ソース1931オブザーバーコンディションを用
いて測定された。実施例１では測定はガラスの被覆側面
上で行った。
観、若干黄緑色を示す反射を有する得られた被覆リボン
をアニーリングするのに必要でなかった。色調は当業者
に良く知られた色座標系を用いることにより定量するこ
とができ、そこで色調は陰性ａ * を緑色、陰性ｂ* を青
色とし、陽性ａ* を赤色、陽性ｂ* を黄色とする直交座
標系における２つの座標ａ* およびｂ* により示され
る。リボンから切断した試料鏡の試験は表２に明記した
ような高可視光反射および色座標を有することを示し
た。すべての実施例において反射および色座標はイルミ
ナントD65 ソース1931オブザーバーコンディションを用
いて測定された。実施例１では測定はガラスの被覆側面
上で行った。
【００６３】
【表２】
【００６４】被膜の個々の層の厚さおよび屈折率を別々
に堆積した個々の層の反射スペクトルから評価しこの値
を表２に明記する。
に堆積した個々の層の反射スペクトルから評価しこの値
を表２に明記する。
【００６５】実施例２
ガス混合物を表１に明記したものに変える以外は実施例
１の方法を繰り返した。この変化によりわずかに一層低
い反射であるが一層自然な反射色が得られた。ガラスの
被覆側面上で測定した可視光反射および色座標を表２に
明記する。厚さおよび屈折率評価は行わなかった。
１の方法を繰り返した。この変化によりわずかに一層低
い反射であるが一層自然な反射色が得られた。ガラスの
被覆側面上で測定した可視光反射および色座標を表２に
明記する。厚さおよび屈折率評価は行わなかった。
【００６６】実施例３
本発明の方法を一般に実施例１に記載したように使用し
て連続したケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表
１に明記した改良条件下にフロートガラスのリボンに塗
布した。アセトン(CH3COCH3)は蒸気の形態であった。炉
条件を改良することは高反射外観を有し、その反射がほ
とんど自然色である、結果として得られるガラスリボン
をアニーリングするのに必要でなかった。リボンから切
断した試料鏡の試験は高可視光反射および表２に明記し
たような色座標を有することを示した。被膜の個々の層
の厚さおよび屈折率を評価して表２に明記する。
て連続したケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表
１に明記した改良条件下にフロートガラスのリボンに塗
布した。アセトン(CH3COCH3)は蒸気の形態であった。炉
条件を改良することは高反射外観を有し、その反射がほ
とんど自然色である、結果として得られるガラスリボン
をアニーリングするのに必要でなかった。リボンから切
断した試料鏡の試験は高可視光反射および表２に明記し
たような色座標を有することを示した。被膜の個々の層
の厚さおよび屈折率を評価して表２に明記する。
【００６７】実施例１および２と比較して達成された高
められた反射により酸素の供給源として実施例１および
２に用いられた二酸化炭素の代わりにアセトンを用いて
中間層の屈折率が1.46までに減少したことから主として
得られた。
められた反射により酸素の供給源として実施例１および
２に用いられた二酸化炭素の代わりにアセトンを用いて
中間層の屈折率が1.46までに減少したことから主として
得られた。
【００６８】実施例４
本発明の方法を一般に実施例１に記載したように使用し
て連続したケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表
１に明記した条件下にフロートガラスのリボンに塗布し
しかる後酸化スズの保護層を、前記ビームに類似した付
加的被覆ビームにより、外部ケイ素層上に塗布し、これ
をガラス温度が約 400℃であるアニーリング炉に配置し
た。アニーリング炉に配置した付加的被覆ビームを１分
当たり 110Ｌの空気と蒸気の形態の１分当たり0.01Ｌの
液体テトラメチルスズの混合物とともに供給して前記ケ
イ素層の露出した表面を炉中高温で空気に曝すことによ
り酸化した後外部ケイ素層の表面上に保護酸化スズ層を
形成した。
て連続したケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表
１に明記した条件下にフロートガラスのリボンに塗布し
しかる後酸化スズの保護層を、前記ビームに類似した付
加的被覆ビームにより、外部ケイ素層上に塗布し、これ
をガラス温度が約 400℃であるアニーリング炉に配置し
た。アニーリング炉に配置した付加的被覆ビームを１分
当たり 110Ｌの空気と蒸気の形態の１分当たり0.01Ｌの
液体テトラメチルスズの混合物とともに供給して前記ケ
イ素層の露出した表面を炉中高温で空気に曝すことによ
り酸化した後外部ケイ素層の表面上に保護酸化スズ層を
形成した。
【００６９】得られた鏡は黄色の反射色を有し可視光反
射および表２に明記したようなガラスの被覆側面で測定
した色座標を有することが見出された。保護酸化スズ層
の存在の結果、これらは優れた耐引掻性ならびに貴重な
鏡特性を有していた。
射および表２に明記したようなガラスの被覆側面で測定
した色座標を有することが見出された。保護酸化スズ層
の存在の結果、これらは優れた耐引掻性ならびに貴重な
鏡特性を有していた。
【００７０】実施例５
裏面鏡として用いるための、ガラス鏡を実施例１に記載
したような３つの別々の被覆ビームを用いて製造し連続
するケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表１に明
記した条件下フロートガラスのリボンに堆積した。それ
ぞれ３つの被覆手段をガラスリボンが溶融金属の浴上に
支持されるフロート浴中に配置した。炉条件を改良する
ことは高反射外観を有し、その反射がほとんど自然色
の、結果として得られるガラスリボンをアニーリングす
るのに必要でなかった。
したような３つの別々の被覆ビームを用いて製造し連続
するケイ素層、酸化ケイ素層およびケイ素層を表１に明
記した条件下フロートガラスのリボンに堆積した。それ
ぞれ３つの被覆手段をガラスリボンが溶融金属の浴上に
支持されるフロート浴中に配置した。炉条件を改良する
ことは高反射外観を有し、その反射がほとんど自然色
の、結果として得られるガラスリボンをアニーリングす
るのに必要でなかった。
【００７１】リボンから切断した試料鏡の試験は可視光
反射および表２に明記したようなガラスの非被覆側面上
で測定した色座標を有することを示した。被膜の個々の
層の厚さおよび屈折率を別々に堆積した個々の層の反射
スペクトルから評価して表２に明記する。
反射および表２に明記したようなガラスの非被覆側面上
で測定した色座標を有することを示した。被膜の個々の
層の厚さおよび屈折率を別々に堆積した個々の層の反射
スペクトルから評価して表２に明記する。
【００７２】実施例６
実施例１〜３により製造した鏡の側面上にアミノプロピ
ルトリメトキシシランプライマー（称号A1100 の下、米
国のユニオンカーバイド社から商業上入手し得る）を工
業用メタノール変性アルコール中２重量％のアミノシラ
ン溶液とともに噴霧することにより下塗りした。下塗り
した表面を乾燥させ次いでKEMIRA 401支持塗料を用いて
50μm の湿潤厚さに被覆しキシレンを有するB4カップに
60〜80秒溶媒和し数日間乾燥させて十分硬化させる。試
験に際し、鏡は十分に不透明になり DIN 50017の 480時
間の耐久性試験を合格することが見出された。
ルトリメトキシシランプライマー（称号A1100 の下、米
国のユニオンカーバイド社から商業上入手し得る）を工
業用メタノール変性アルコール中２重量％のアミノシラ
ン溶液とともに噴霧することにより下塗りした。下塗り
した表面を乾燥させ次いでKEMIRA 401支持塗料を用いて
50μm の湿潤厚さに被覆しキシレンを有するB4カップに
60〜80秒溶媒和し数日間乾燥させて十分硬化させる。試
験に際し、鏡は十分に不透明になり DIN 50017の 480時
間の耐久性試験を合格することが見出された。
【００７３】これら実施例に従って（前面鏡を製造する
ために）製造した鏡の被覆していない（ガラス）表面に
前記塗料系を塗布することは同様の満足の幾程度の不透
明化を招く。
ために）製造した鏡の被覆していない（ガラス）表面に
前記塗料系を塗布することは同様の満足の幾程度の不透
明化を招く。
【００７４】実施例７
この実施例では、光学的特性、特に、所定の内部層およ
び中間層を有するが外部層を有さず可変屈折率を有する
前面鏡の可視光反射および色座標を計算によりシミュレ
ーションした。内部層はケイ素の層をシミュレーション
するように 4.8の屈折率および 250Åの光学的厚さを有
するように指定された。中間層は酸化ケイ素の層をシミ
ュレーションするように1.46の屈折率および 850Åの光
学的厚さを有するように指定された。外部層は 1.5〜
3.0で変化する屈折率を有するように選択し光学的厚さ
は屈折率(n) と厚さ(x) の積(nx)がほぼ一定になるよ
う、およそλ/4、ここでλは 500nmの波長、となるよう
選択した。このように、外部層として種々の異なる物質
を用いて前面鏡の構成がシミュレーションされる。計算
はガラスの被覆表面に作られた光学的特性の測定をシミ
ュレーションする。
び中間層を有するが外部層を有さず可変屈折率を有する
前面鏡の可視光反射および色座標を計算によりシミュレ
ーションした。内部層はケイ素の層をシミュレーション
するように 4.8の屈折率および 250Åの光学的厚さを有
するように指定された。中間層は酸化ケイ素の層をシミ
ュレーションするように1.46の屈折率および 850Åの光
学的厚さを有するように指定された。外部層は 1.5〜
3.0で変化する屈折率を有するように選択し光学的厚さ
は屈折率(n) と厚さ(x) の積(nx)がほぼ一定になるよ
う、およそλ/4、ここでλは 500nmの波長、となるよう
選択した。このように、外部層として種々の異なる物質
を用いて前面鏡の構成がシミュレーションされる。計算
はガラスの被覆表面に作られた光学的特性の測定をシミ
ュレーションする。
【００７５】シミュレーションの結果を表３に示す。外
部層は少なくとも 1.6の屈折率を必要とし少なくとも70
％の可視光反射を提供すると考えられる。反射の色調は
外部層の屈折率が 1.6から 3.0に増加する際に一層自然
になる。
部層は少なくとも 1.6の屈折率を必要とし少なくとも70
％の可視光反射を提供すると考えられる。反射の色調は
外部層の屈折率が 1.6から 3.0に増加する際に一層自然
になる。
【００７６】
【表３】
【００７７】実施例７および次の実施例８のシミュレー
ションした結果は既知の屈折率を有する所定の物質の選
択により実際の例に移行することができる。例えば、酸
化アルミニウム、酸化スズおよび酸化チタンはそれぞれ
代表的に 1.6〜 1.8、 1.9〜2.0、および 2.3〜 2.7の
それぞれの範囲内の屈折率を有する。
ションした結果は既知の屈折率を有する所定の物質の選
択により実際の例に移行することができる。例えば、酸
化アルミニウム、酸化スズおよび酸化チタンはそれぞれ
代表的に 1.6〜 1.8、 1.9〜2.0、および 2.3〜 2.7の
それぞれの範囲内の屈折率を有する。
【００７８】実施例８
実施例８は実施例７に類似したシミュレーションである
が裏面鏡に対するものである。内部層は、実施例７の外
部層に対立するものとして、種々の異なる物質をシミュ
レーションするように可変屈折率および厚さを有する。
中間層は実施例７と同一になるよう指定した。外部層は
ケイ素の層をシミュレーションするように 4.6の屈折率
および 260Åの厚さを有するように指定された。
が裏面鏡に対するものである。内部層は、実施例７の外
部層に対立するものとして、種々の異なる物質をシミュ
レーションするように可変屈折率および厚さを有する。
中間層は実施例７と同一になるよう指定した。外部層は
ケイ素の層をシミュレーションするように 4.6の屈折率
および 260Åの厚さを有するように指定された。
【００７９】シミュレーションの結果を表４に示す。計
算した反射および色座標はガラスの非被覆面上の測定を
シミュレーションする。内部層は約 1.8より高い屈折率
を必要とし少なくとも70％の可視光反射を提供すると考
えられる。
算した反射および色座標はガラスの非被覆面上の測定を
シミュレーションする。内部層は約 1.8より高い屈折率
を必要とし少なくとも70％の可視光反射を提供すると考
えられる。
【００８０】
【表４】
【００８１】実施例９
この例は高屈折率および低屈折率の層がガラス基板にお
いて金属層上に堆積され前面鏡を形成する際に本発明の
構造の反射増強を示す。金属層はアルミニウム（屈折率
0.83、 550nmの吸光度係数6.07）、クロム（屈折率3.3
7、 550nmの吸光度係数4.84）またはチタン（屈折率2.8
7、 550nmの吸光度係数3.42）から成る。ガラス基板上
のこれら金属層の反射率を表５に示す。
いて金属層上に堆積され前面鏡を形成する際に本発明の
構造の反射増強を示す。金属層はアルミニウム（屈折率
0.83、 550nmの吸光度係数6.07）、クロム（屈折率3.3
7、 550nmの吸光度係数4.84）またはチタン（屈折率2.8
7、 550nmの吸光度係数3.42）から成る。ガラス基板上
のこれら金属層の反射率を表５に示す。
【００８２】
【表５】
【００８３】本発明に従って、２つの構造をシミュレー
ションし反射率を計算した。表５に示したような、構造
１は金属層上で85nmの厚さおよび屈折率1.46のシリカ層
ならびにシリカ層上で50nmの厚さおよび屈折率 2.5のチ
タニアから成る。シリカ／チタニア層がアルミニウム、
クロムおよびチタン層のそれぞれに対して高反射率を与
えることが表５から見出される。表５に示したような、
構造２はチタニア層を25nmの厚さで屈折率 4.6のケイ素
層に置換して構造１を改良したものである。ケイ素／シ
リカ層の構造がクロムおよびチタン層の反射を改善する
ことが表５から見出される。アルミニウム層の反射はケ
イ素／シリカ構造を用いることでアルミニウム層単独に
比べて減少する。ケイ素層がわずかに吸収性であるから
である。
ションし反射率を計算した。表５に示したような、構造
１は金属層上で85nmの厚さおよび屈折率1.46のシリカ層
ならびにシリカ層上で50nmの厚さおよび屈折率 2.5のチ
タニアから成る。シリカ／チタニア層がアルミニウム、
クロムおよびチタン層のそれぞれに対して高反射率を与
えることが表５から見出される。表５に示したような、
構造２はチタニア層を25nmの厚さで屈折率 4.6のケイ素
層に置換して構造１を改良したものである。ケイ素／シ
リカ層の構造がクロムおよびチタン層の反射を改善する
ことが表５から見出される。アルミニウム層の反射はケ
イ素／シリカ構造を用いることでアルミニウム層単独に
比べて減少する。ケイ素層がわずかに吸収性であるから
である。
【００８４】アルミニウム以外の低屈折率の金属層も用
いることができ、例えば、この例で使用しないが、コバ
ルトはこの屈折率の実部に対し比較的低い値（ 500nmで
約1.56）を有する。比較として、 550nmの波長でケイ素
は4.58の屈折率および0.56の吸光度係数を有しシリカは
1.46の屈折率および０の吸光度係数を有する。
いることができ、例えば、この例で使用しないが、コバ
ルトはこの屈折率の実部に対し比較的低い値（ 500nmで
約1.56）を有する。比較として、 550nmの波長でケイ素
は4.58の屈折率および0.56の吸光度係数を有しシリカは
1.46の屈折率および０の吸光度係数を有する。
【００８５】低屈折率で高吸収作用または一層高い屈折
率で一層低い吸収作用のいずれかから生ずる場合がある
高い固有反射の金属層を、本発明の実際のケイ素層の代
わりに使用することができることがこの実施例から明ら
かとなる。外部層としてチタニア層を用いることでケイ
素層の使用に比べて一層高い程度に反射を改善すること
ができると考えられる。
率で一層低い吸収作用のいずれかから生ずる場合がある
高い固有反射の金属層を、本発明の実際のケイ素層の代
わりに使用することができることがこの実施例から明ら
かとなる。外部層としてチタニア層を用いることでケイ
素層の使用に比べて一層高い程度に反射を改善すること
ができると考えられる。
【００８６】実施例１０
本発明に従って製造したケイ素鏡被膜の化学的耐久性を
試験した。本発明に従って作成しケイ素／酸化ケイ素／
ケイ素の混成被膜を有する鏡表面をDIN 50017に従って
湿度耐性試験にかけた。 1,000時間の試験期間（標準試
験期間は 480時間である）の後被膜の劣化は観察されな
かった。さらに試料をDIN 50021 に従って塩噴霧試験SS
にかけDIN 50021 に従って塩噴霧試験CASSに1,000 時間
の間（標準試験期間はそれぞれ 480および 120時間であ
る）かけた。これらの試料は試験で劣化しなかった。こ
れを約 240時間後DIN 50021 に従う塩噴霧試験CASSに落
第する従来の銀鏡と比較する場合がある。また試料を５
重量％のCaCl、または５重量％のNaClの溶液中に１分の
持続時間の周期で浸漬することにより試験し次いで40℃
で空気中に放置した。2620サイクルの試験は 480時間持
続した。被膜の劣化は観察されなかった。
試験した。本発明に従って作成しケイ素／酸化ケイ素／
ケイ素の混成被膜を有する鏡表面をDIN 50017に従って
湿度耐性試験にかけた。 1,000時間の試験期間（標準試
験期間は 480時間である）の後被膜の劣化は観察されな
かった。さらに試料をDIN 50021 に従って塩噴霧試験SS
にかけDIN 50021 に従って塩噴霧試験CASSに1,000 時間
の間（標準試験期間はそれぞれ 480および 120時間であ
る）かけた。これらの試料は試験で劣化しなかった。こ
れを約 240時間後DIN 50021 に従う塩噴霧試験CASSに落
第する従来の銀鏡と比較する場合がある。また試料を５
重量％のCaCl、または５重量％のNaClの溶液中に１分の
持続時間の周期で浸漬することにより試験し次いで40℃
で空気中に放置した。2620サイクルの試験は 480時間持
続した。被膜の劣化は観察されなかった。
【００８７】実施例１１
曲げ試験において、本発明に従って形成した被覆鏡を64
分間および 660℃の最高温度で曲げ炉(bending furnac
e) において曲げた。シート鏡を 2,000〜 1,400mmの曲
げ半径を有する曲げ鋳型において曲げた。被膜の劣化は
観察されなかった。
分間および 660℃の最高温度で曲げ炉(bending furnac
e) において曲げた。シート鏡を 2,000〜 1,400mmの曲
げ半径を有する曲げ鋳型において曲げた。被膜の劣化は
観察されなかった。
【００８８】本発明に従って形成した試料被覆鏡を15分
間 550℃〜 680℃の範囲の温度で炉において焼き入れし
た。被膜の劣化は観察されないが、 550℃での約 0.3％
から680℃での約 3.5％だけ反射力が低下した。
間 550℃〜 680℃の範囲の温度で炉において焼き入れし
た。被膜の劣化は観察されないが、 550℃での約 0.3％
から680℃での約 3.5％だけ反射力が低下した。
【００８９】本発明の方法および生成物は従来技術を超
えた重要な利点を有する。この方法によりガラス鏡はオ
ンラインで溶融ガラスを製造するために融解されるバッ
チを用いて開始され、これを連続してリボン、被覆、ア
ニーリングして次いで保存および流通のための寸法に切
断して形成する単一の製造方法により製造することがで
きる。これはリボンから切断したガラス板の最初の製
造、次いで別々の製造ラインの別々の被覆処理（通常異
なる位置で実施される）を含む鏡の製造に商業的に用い
られる従来の方法とは全く異なる。用いられる試薬は高
価でなく（銀の使用を避け）、さらにケイ素のような適
切な層を堆積するのに用いられる被覆処理が技術として
確立されている。さらに、用いるケイ素層が赤外におい
て透明であるので、本発明により製造された種々の被覆
製品を高負荷でしかも非被覆ガラスに必要とされるアニ
ーリング条件のいかなる変更も必要とせずにアニーリン
グすることができる。さらに、本発明により製造された
被覆製品はガラス上の被膜の温度安定性のため高められ
た温度で強化しおよび／または曲げることができる。最
後に、非金属層を堆積する際、反射被膜を製造するため
に用いられる元素（ケイ素および酸素にすぎないことが
ある）は−銀およびクロムのような鏡の製造に従来用い
られる金属とは異なり−一般にガラス作成処理と融和性
であるので、任意の不十分な被覆製品を壊し "カレッ
ト" としてガラス溶融タンクに再循環することができ
る。
えた重要な利点を有する。この方法によりガラス鏡はオ
ンラインで溶融ガラスを製造するために融解されるバッ
チを用いて開始され、これを連続してリボン、被覆、ア
ニーリングして次いで保存および流通のための寸法に切
断して形成する単一の製造方法により製造することがで
きる。これはリボンから切断したガラス板の最初の製
造、次いで別々の製造ラインの別々の被覆処理（通常異
なる位置で実施される）を含む鏡の製造に商業的に用い
られる従来の方法とは全く異なる。用いられる試薬は高
価でなく（銀の使用を避け）、さらにケイ素のような適
切な層を堆積するのに用いられる被覆処理が技術として
確立されている。さらに、用いるケイ素層が赤外におい
て透明であるので、本発明により製造された種々の被覆
製品を高負荷でしかも非被覆ガラスに必要とされるアニ
ーリング条件のいかなる変更も必要とせずにアニーリン
グすることができる。さらに、本発明により製造された
被覆製品はガラス上の被膜の温度安定性のため高められ
た温度で強化しおよび／または曲げることができる。最
後に、非金属層を堆積する際、反射被膜を製造するため
に用いられる元素（ケイ素および酸素にすぎないことが
ある）は−銀およびクロムのような鏡の製造に従来用い
られる金属とは異なり−一般にガラス作成処理と融和性
であるので、任意の不十分な被覆製品を壊し "カレッ
ト" としてガラス溶融タンクに再循環することができ
る。
【００９０】本発明の方法は極めて用途が広く、前表面
または裏面鏡で、反射被膜上に保護被膜を有するかまた
は有しないで、いずれの製造も可能であり、さらに反射
力および反射色を被膜層の厚さまたは屈折率の制御によ
り若干微調整して自然な（ 100未満の、好ましくは50未
満のａ*2＋ｂ*2を有する）または着色した鏡を提供する
ことができる。
または裏面鏡で、反射被膜上に保護被膜を有するかまた
は有しないで、いずれの製造も可能であり、さらに反射
力および反射色を被膜層の厚さまたは屈折率の制御によ
り若干微調整して自然な（ 100未満の、好ましくは50未
満のａ*2＋ｂ*2を有する）または着色した鏡を提供する
ことができる。
【００９１】さらに、本発明の方法により製造した新規
な鏡は、熱分解ケイ素から成り、高められた温度で堆積
したケイ素または酸化金属を組み合わせて、高度の化学
的耐久性（銀またはアルミニウム鏡より著しく安定な）
を有し、特に鏡が化学的に不利な環境で用いられる場合
には一層長い耐用年数が得られる。
な鏡は、熱分解ケイ素から成り、高められた温度で堆積
したケイ素または酸化金属を組み合わせて、高度の化学
的耐久性（銀またはアルミニウム鏡より著しく安定な）
を有し、特に鏡が化学的に不利な環境で用いられる場合
には一層長い耐用年数が得られる。
【図１】本発明の方法を用いて製造した前面鏡の断面図
（寸法に比例していない）である。
（寸法に比例していない）である。
【図２】図１に示したような鏡の反射被膜上に保護層を
加えた鏡の断面図（寸法に比例していない）である。
加えた鏡の断面図（寸法に比例していない）である。
【図３】図１に示したような鏡に不透明層を加えた鏡の
断面図（寸法に比例していない）である。
断面図（寸法に比例していない）である。
【図４】本発明の方法を用いて製造した裏面鏡の断面図
（寸法に比例していない）である。
（寸法に比例していない）である。
【図５】図４に示したような鏡の反射被膜上に保護層を
加えた鏡の断面図（寸法に比例していない）である。
加えた鏡の断面図（寸法に比例していない）である。
【図６】図４に示したような鏡に支持塗料の層を加えた
鏡の断面図（寸法に比例していない）である。
鏡の断面図（寸法に比例していない）である。
【図７】本発明の方法にかかる鏡の製造用のフロートガ
ラス製造ライン上での被覆ステーションの配置を示す概
略図である。
ラス製造ライン上での被覆ステーションの配置を示す概
略図である。
１ フロートガラス基板
２ 被膜
３ 内部層
４ 中間層
５ 外部層
６ 保護層
７ 不透明層
41 フロートガラス基板
42 被膜
43 内部層
44 中間層
45 外部層
46 保護層
47 不透明層
71 ガラス溶融部分
72 フロート浴部分
73 炉部分
74 倉庫部分
75 被覆ステーション
76 被覆ステーション
77 被覆ステーション
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平２−64601（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−212704（ＪＰ，Ａ)
特表 平２−504612（ＪＰ，Ａ)
欧州特許出願公開438646（ＥＰ，Ａ
１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C03C 15/00 - 23/00
A47G 1/00
G02B 5/08
ＷＰＩ
Claims (12)
- 【請求項１】 被膜を有するガラス基板から成り、該被
膜が、 1.6 以上の屈折率を有する内部層、 1.6 以上の屈折率を有する外部層、及び 前記内部層または外部層の屈折率より小さくかつ３より
小さい屈折率を有する中間層を含む鏡において、 少なくとも１つの前記内部層および外部層がケイ素から
成り、内部層および外部層の総屈折率が 5.5以上であ
り、さらにこれらの層厚を鏡が70％〜90％の範囲の可視
光反射を有するようにしたことを特徴とする鏡。 - 【請求項２】 被膜を備えた、４mm以上の厚さを有する
ガラス基板を含み、該被膜が、 1.6 以上の屈折率を有する内部層、 1.6 以上の屈折率を有する外部層、及び 前記内部層または外部層の屈折率より小さくかつ３より
小さい屈折率を有する中間層を含む鏡であって、 少なくとも１つの前記内部層および外部層がケイ素から
成り、内部層および外部層の総屈折率が5.5 以上であ
り、さらにこれらの層厚を鏡が70％以上の可視光反射を
有するようにしたことを特徴とする鏡。 - 【請求項３】 被膜を有するガラス基板から成り、該被
膜が、 1.6 以上の屈折率を有する内部層、 1.6 以上の屈折率を有する外部層、及び 前記内部層または外部層の屈折率より小さくかつ３より
小さい屈折率を有する中間層を含む鏡であって、 少なくとも１つの前記内部層および外部層がケイ素から
成り、内部層および外部層の総屈折率が5.5 以上であ
り、さらにこれらの層厚を鏡が70％以上の可視光反射を
有しさらに前面鏡上で、前記被膜に対し反対のガラス面
にわたり、あるいは裏面鏡上で、前記被膜にわたりほと
んど不透明な層を有するようにしたことを特徴とする
鏡。 - 【請求項４】 内部層および外部層がいずれもケイ素か
ら成ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つの
項に記載の鏡。 - 【請求項５】 前記内部層および外部層が、酸化スズ、
酸化チタンまたは酸化ケイ素から成ることを特徴とする
請求項１〜３のいずれか１つの項に記載の鏡。 - 【請求項６】 酸化ケイ素の層が炭素を含むことを特徴
とする請求項５に記載の鏡。 - 【請求項７】 中間層が 1.8より低い屈折率を有するこ
とを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つの項に記載
の鏡。 - 【請求項８】 中間層が酸化ケイ素の層を含むことを特
徴とする請求項１〜７のいずれか１つの項に記載の鏡。 - 【請求項９】 層厚を選択して中間層および内部層およ
び外部層のそれぞれの間の界面と、裏面鏡に対する、前
記内部層の内面または、前面鏡に対する、前記外部層の
外面とから光源へ反射した 400nm〜 750nmの範囲の選択
した波長の光の位相の差をすべて波長の±40％範囲内と
したことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記
載の鏡。 - 【請求項１０】 前記光の位相の差がすべて波長の±20
％範囲内であることを特徴とする請求項９に記載の鏡。 - 【請求項１１】 被膜の最外層として保護層を付加的に
含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つの
項に記載の鏡。 - 【請求項１２】 さらに鏡の裏表面にわたり処理した不
透明層を含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれ
か１つの項に記載の鏡。
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