WO2017047649A1 - 光反射フィルム及び液晶表示装置用バックライトユニット - Google Patents

光反射フィルム及び液晶表示装置用バックライトユニット Download PDF

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WO2017047649A1
WO2017047649A1 PCT/JP2016/077128 JP2016077128W WO2017047649A1 WO 2017047649 A1 WO2017047649 A1 WO 2017047649A1 JP 2016077128 W JP2016077128 W JP 2016077128W WO 2017047649 A1 WO2017047649 A1 WO 2017047649A1
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light
refractive index
index layer
film
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Application number
PCT/JP2016/077128
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English (en)
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Inventor
美佳 本田
Original Assignee
コニカミノルタ株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21S—NON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
    • F21S2/00—Systems of lighting devices, not provided for in main groups F21S4/00 - F21S10/00 or F21S19/00, e.g. of modular construction
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V7/00—Reflectors for light sources
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors

Definitions

  • the present invention relates to a light reflecting film and a backlight unit for a liquid crystal display device.
  • reflecting members are used in applications such as a light reflecting film of a backlight unit for a liquid crystal display device, a reflecting mirror of a projection television or an optical system device, and a reflecting member for LED illumination.
  • a reflective film including a silver layer is known as such a reflective member. Since the silver layer has defects such as pinholes, the silver layer may slightly transmit light. In order to reduce the transmission of such light and increase the reflectance, a silver layer and a light shielding layer obtained from a paint containing a white pigment disposed on the back surface side (the side opposite to the light incident surface) are provided.
  • the reflective film which has is proposed (for example, patent document 1).
  • liquid crystal display devices such as smartphones and tablets may be exposed to fluorescent lamps or sunlight when used.
  • white LED used as the backlight of these liquid crystal display devices may use ultraviolet rays for excitation of the phosphor. Therefore, in the film of Patent Document 1, the light transmitted through the silver layer excites the titanium oxide contained in the white paint layer or the white PET film, and deteriorates the resin contained in the white paint layer or the white PET film. there were.
  • the chromaticity XY in the CIE 1931 color system is made closer to blue (to reduce XY), specifically, the reflectance in the blue light region (wavelength 430 to 470 nm) is increased, and the visible light region (wavelength It has been studied to reduce the reflectance of 560 to 600 nm.
  • the silver layer has an average reflectance of 96.6% in the blue light region (wavelength of 430 to 470 nm) and an average reflectance of 98.3% in the visible light region (wavelength of 560 to 600 nm). The rate is lower than the average reflectance in the visible light region.
  • a low refractive index layer and a high refractive index layer may be further laminated on the silver layer.
  • Patent Document 4 a white color as shown in Patent Documents 1 and 2 is provided on the back surface of the transparent base material layer.
  • a paint layer or a white PET film is further disposed, there is a problem that the color tone of reflected light realized by the lamination of the low refractive index layer / high refractive index layer is impaired.
  • FIG. 6 is an example of a film having a laminated structure of white film 6 / pressure-sensitive adhesive layer 5 / transparent substrate layer 4 / silver layer 3 / low refractive index layer 2 / high refractive index layer 1.
  • the light transmitted through the silver layer 3 is a low refractive index layer 2 / high refractive index layer 1 interface that is a chromaticity adjusting layer and a high refractive index layer 1 / air interface.
  • R R21 and R10
  • none of the light reflected by the white film 6 has wavelength dependency. As a result, it is considered that the color tone realized by the lamination of the low refractive index layer 2 / high refractive index layer 1 is impaired.
  • a film having a laminated structure of transparent base material layer 4 / silver layer 3 / low refractive index layer 2 / high refractive index layer 1 (there is no white film 6 in FIG.
  • the color tone of the reflected light realized by the lamination of the low refractive index layer 2 / the high refractive index layer 1 is also impaired. It is considered that light transmitted through the silver layer 3 is complicatedly reflected in the liquid crystal display device while leaking out of the film.
  • the color tone realized by the lamination of the low refractive index layer 2 / the high refractive index layer 1 is not impaired by the light reflected by the white film 6 or the light that has passed through the silver layer 3 and leaked out of the film. It is desirable.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and the light reflection in which the reflectance of the blue region is enhanced without impairing the color tone of the reflected light realized by the lamination of the low refractive index layer / high refractive index layer.
  • the object is to provide a film.
  • a light absorption layer A having an average transmittance of light having a wavelength of 360 to 400 nm of 15% or less and an average reflectance of light having a wavelength of 360 to 400 nm of 10% or less, a metal reflection layer B, A refractive index layer C and a high refractive index layer D having a higher refractive index of light having a wavelength of 500 nm than that of the low refractive index layer C in this order, and allowing light to enter the high refractive index layer D at an incident angle of 5 °.
  • the present invention can provide a light reflecting film in which the reflectance of the blue region is increased without impairing the color tone of the reflected light realized by the lamination of the low refractive index layer / high refractive index layer.
  • the inventors of the present invention arrange the light absorbing layer A on the back surface (the surface opposite to the light incident surface) of the metal reflective layer B, so that the surface of the metal reflective layer B (the light incident surface side) has low refraction. It has been found that the reflectance of the blue light region can be increased without impairing the color tone of the reflected light realized by laminating the refractive index layer C / high refractive index layer D. The reason for this is not necessarily clear, but is considered as follows.
  • the reflectance of the blue light region can be increased without impairing the color tone realized by the lamination of the low refractive index layer C / high refractive index layer D.
  • the light absorption layer A can be a resin layer usually containing a black pigment such as carbon black.
  • the resin of the light absorption layer A easily flows due to the heat during vapor deposition (heat equal to or higher than the Tg of the resin). There is a risk of precipitation on the surface of the light absorption layer A. Thereby, there is a possibility that the metal reflection layer B having a uniform film thickness cannot be formed on the surface of the light absorption layer A.
  • the metal reflecting layer B is formed on one surface of the transparent base material layer E, and the light absorbing layer A is laminated on the other surface, so that the light absorbing layer A is heated in the process of manufacturing the light reflecting film. Can be added. That is, since the light reflecting film further includes the transparent base material layer E that supports the metal reflecting layer B, the risk of deposition of carbon black can be eliminated.
  • the present invention has been made based on these findings.
  • the light reflective film of the present invention includes a light absorbing layer A, a metal reflective layer B, a low refractive index layer C, and a high refractive index layer D in this order.
  • Light absorption layer A The light absorption layer A is disposed on the back surface side (the side opposite to the light incident surface) of the metal reflection layer B, and has a function of absorbing light slightly transmitted through the metal reflection layer B.
  • the average transmittance of light having a wavelength of 360 to 400 nm of the light absorption layer A is preferably 15% or less, and more preferably 10% or less. Further, the average reflectance of light having a wavelength of 360 to 400 nm of the light absorption layer A is preferably 10% or less.
  • the average light transmittance and average reflectance of the light absorption layer A are measured using a spectrophotometer equipped with an integrating sphere, specifically, a spectrophotometer U-4100 (solid sample measurement system) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. Thus, the measurement can be performed according to the condition of arranging the sample in front of the opening of the integrating sphere.
  • the light absorbing layer A can be usually a resin layer or a pressure-sensitive adhesive layer containing a light absorbing substance.
  • Examples of the light-absorbing substance include black pigments such as carbon black, and carbon black is preferable because of its high light-absorbing property.
  • the resin constituting the resin layer containing a light-absorbing substance examples include: polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate films; polyolefins such as polypropylene; acrylic resins; polycarbonates; polyimides; polyether ether ketones; From the viewpoint of being included and having high heat resistance, a polyester resin may be preferable.
  • the resin layer containing the light absorbing material may be a light absorbing resin film (preferably a black resin film) or a light absorbing paint layer (preferably a black paint layer).
  • the pressure-sensitive adhesive layer containing the light-absorbing substance can contain a cured product of the pressure-sensitive adhesive.
  • the pressure-sensitive adhesive include a rubber-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive.
  • the surface of the pressure-sensitive adhesive layer may be further laminated with another resin film from the viewpoint of suppressing stickiness.
  • the thickness of the light absorption layer A is preferably 5 to 50 ⁇ m.
  • the thickness of the light absorption layer A is more preferably 10 to 40 ⁇ m.
  • the metal reflection layer B has a function of reflecting incident light.
  • the metal reflection layer B contains, as a main component, one or more selected from the group consisting of Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, Au, and alloys thereof.
  • the metal reflective layer B preferably contains Al, Ag, or an alloy thereof as a main component, and more preferably contains Ag or an alloy thereof as a main component in that it has a high reflectance.
  • “Containing Ag or an alloy thereof as a main component” means that the content of the metal reflective layer B is 90 atomic% or more. Therefore, the content of Ag or an alloy thereof is preferably 90 atomic% or more, more preferably 99.9 atomic% or more with respect to the metal reflective layer B.
  • the metal reflection layer B may further contain other metal other than Ag or an alloy thereof.
  • other metals include Au, Pd, Sn, Ga, In, Cu, Ti, Bi and alloys thereof, preferably Au and Ag alloys.
  • the metal reflection layer B is preferably a thin film formed by a vacuum film forming method as described later, and more preferably a vapor deposition film.
  • the thickness of the metal reflection layer B is preferably 10 to 200 nm from the viewpoint of reflectivity.
  • the thickness of the metal reflection layer B is 10 nm or more, it is possible to suppress a decrease in reflectance due to an increase in the ratio of transmitted light.
  • the thickness of the metal reflection layer B is 200 nm or less, an increase in manufacturing cost can be suppressed.
  • the thickness of the metal reflective layer B is more preferably 30 to 150 nm, and further preferably 80 to 150 nm.
  • the surface reflectance of the metal reflective layer B is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.
  • the surface reflectance of the metal reflective layer B can be measured with a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
  • Low refractive index layer C / High refractive index layer D The low refractive index layer C and the high refractive index layer D can function as an increased reflection layer that adjusts the color tone of reflected light by increasing the reflectance of light in the low wavelength region of the metal reflective layer B.
  • the low refractive index layer C refers to a layer having a lower refractive index of light having a measurement wavelength of 500 nm than the adjacent high refractive index layer D.
  • the high refractive index layer D refers to a layer having a higher refractive index of light having a measurement wavelength of 500 nm than the adjacent low refractive index layer C.
  • the difference in the refractive index of light having a wavelength of 500 nm between the low refractive index layer C and the high refractive index layer D is preferably 0.35 or more and 0.4 or more in terms of obtaining a sufficient reflection enhancement effect. More preferably, it is more preferably 0.5 to 1.10.
  • the refractive index at a wavelength of 500 nm of the low refractive index layer C is n L
  • the thickness is d L
  • the high refractive index layer D When the refractive index at a wavelength of 500 nm is n H and the thickness is d H , it is preferable to satisfy the following formula. 350 ⁇ 8d L ⁇ n L ⁇ 730 (preferably 350 ⁇ 8d L ⁇ n L ⁇ 650) Formula (1) 350 ⁇ 4d H ⁇ n H ⁇ 730 Formula (2)
  • Low refractive index layer C The refractive index n L of light having a wavelength of 500 nm of the low refractive index layer C is set in consideration of the refractive index difference from the high refractive index layer D, and is preferably 1.80 or less, for example, 1.46. More preferably, it is 1.70 or less.
  • the refractive index n L of the low refractive index layer C is mainly adjusted by the refractive index of the material contained in the low refractive index layer C and the density of the low refractive index layer C.
  • the refractive index n L of the low refractive index layer C can be measured by the following method. That is, a low refractive index layer (single layer) having a thickness of 100 nm is applied and formed on a polyethylene terephthalate substrate to obtain a sample for refractive index measurement. The refractive index of light with a wavelength of 500 nm of the obtained sample is measured using a Horiba spectroscopic ellipsometer UVISEL.
  • Such a low refractive index layer C may be an inorganic layer (preferably a vapor deposition film) mainly composed of an inorganic material, or a resin layer mainly composed of a resin.
  • the “main component” refers to a component having a content of 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more based on the entire layer.
  • Examples of the inorganic material constituting the low refractive index layer C include Si oxide (for example, SiO 2 ), Si nitride (for example, Si 3 N 4 ), Si oxynitride (SiOxNy), and the like.
  • Examples of Si oxynitrides include polysilazane.
  • the polysilazane is a polymer having a silicon-nitrogen bond and can be represented by the following general formula (I).
  • R 1 , R 2 and R 3 in formula (I) are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group (preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms). Group), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms), a vinyl group, or a trialkoxysilyl (preferably silyl substituted with an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms) alkyl group.
  • R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different.
  • N in the general formula (I) is an integer of 1 or more.
  • the number average molecular weight of the compound having the structure represented by the general formula (I) is preferably 150 to 150,000.
  • Examples of the compound having a structure represented by the general formula (I) include perhydropolysilazane (PHPS) in which all of R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms.
  • PHPS perhydropolysilazane
  • the content of the inorganic material is preferably 90 atomic% or more, more preferably 95 atomic% or more with respect to the low refractive index layer C.
  • the resin constituting the low refractive index layer C may be a resin having a refractive index suitable for the low refractive index layer C.
  • examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), a copolymer of polyethylene terephthalate (coPET), and terephthalic acid.
  • Polyester resins such as cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer (PETG);
  • Acrylic resins such as poly (methyl methacrylate) (PMMA) and poly (methyl methacrylate) copolymers (coPMMA);
  • acrylic resins are preferable because the refractive index can be easily adjusted.
  • the acrylic resin may be a homopolymer of (meth) acrylic acid ester or a copolymer of (meth) acrylic acid ester and another copolymerizable monomer.
  • the (meth) acrylic acid ester may preferably be methyl methacrylate.
  • copolymer monomers copolymerized with methyl methacrylate include ⁇ , ⁇ -unsaturated acids such as acrylic acid and methacrylic acid; divalent carboxylic acids containing unsaturated groups such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid Hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid esters such as 2-hydroxymethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate are included.
  • a curable resin for example, an acrylic resin having a hydroxyl group
  • a functional group for example, a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a methylol group
  • the weight average molecular weight of the resin is not limited as long as it can be applied, and can be, for example, 1,000 to 500,000.
  • the low refractive index layer C When the low refractive index layer C is a resin layer, the low refractive index layer C includes amines and derivatives thereof, a compound having a pyrrole ring, a compound having a triazole ring, a compound having a pyrazole ring, and a thiazole ring as necessary.
  • amines and derivatives thereof include ethylamine, laurylamine, tri-n-butylamine, o-toluidine, diphenylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, etc. Is included.
  • Examples of compounds having a pyrrole ring include 2,5-dimethylpyrrole, N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5- Dimethylpyrrole and the like are included.
  • Examples of compounds having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, benzotriazole and the like are included.
  • Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole and the like.
  • Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole and the like.
  • Examples of compounds having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2 -Methylimidazole and the like are included.
  • Examples of the compound having a tetrazole ring include tetrazole, 5-phenyl-tetrazole and the like.
  • Examples of the compound having a thiol group include thiol group-containing carboxylic acids such as mercaptoacetic acid and mercaptopropionic acid; thiophenol; polythiol compounds such as 1,2-ethanedithiol and 1,3-propanedithiol; 3-mercapto-1 Thiol group-containing triazole compounds such as 1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole; 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole, 1-methyl-5-mercapto- Thiol group-containing tetrazole compounds such as 1H-tetrazole and 1- (2-dimethylaminoethyl) -5-mercapto-1H-tetrazole; Thiol group-containing benzothiazole compounds such as 2-mercaptobenzothiazole; 2-mercaptobenzimidazole and the like Benzimide containing thiol groups Thiol group-containing benzoxazole
  • thiol groups such as trimethylolpropane tristhioglycolate (TMTG), trimethylolpropane tristhiopropionate (TMTP), and pentaerythritol tetrakisthiopropionate (PETG). Containing carboxylic acid derivatives are preferred.
  • TMTG trimethylolpropane tristhioglycolate
  • TMTP trimethylolpropane tristhiopropionate
  • PETG pentaerythritol tetrakisthiopropionate
  • the content of Compound M is preferably 0.5 to 20% by mass with respect to the total amount of resins contained in the low refractive index layer C.
  • the content of the compound M is 0.5% by mass or more, the durability of the metal reflective layer B can be sufficiently increased.
  • the content of Compound M is 20% by mass or less, coloring and a decrease in reflectance due to light absorption of Compound M are unlikely to occur.
  • the content of the compound M is more preferably 1 to 10% by mass with respect to the total amount of resins contained in the low refractive index layer C.
  • the thickness d L of the low refractive index layer C depends on the wavelength range of the light to be increased and reflected, but is preferably 20 to 70 nm, for example, from the viewpoint of enhancing the effect of increasing the reflection of light having a wavelength of 430 to 470 nm. More preferably.
  • the thickness d L of the low refractive index layer C can be measured using a spectroscopic ellipsometer UVISEL manufactured by Horiba.
  • High refractive index layer D The refractive index n H of the light having a wavelength of 500 nm of the high refractive index layer D can be set in consideration of the refractive index difference from the low refractive index layer C, but is preferably 1.85 or more, for example, 2.00 More preferably, it is 2.70 or less.
  • the refractive index of the high refractive index layer D is mainly adjusted by the refractive index of the material contained in the high refractive index layer D and the density of the high refractive index layer D.
  • the refractive index n H of the high refractive index layer D is the same as described above except that a high refractive index layer (single layer) having a thickness of 100 nm is vacuum deposited or formed on a polyethylene terephthalate substrate to obtain a sample for refractive index measurement. Can be measured.
  • Such a high refractive index layer D may be an inorganic layer (preferably a vapor deposition film) mainly composed of an inorganic material, or a resin layer mainly composed of a resin.
  • the resin constituting the resin layer the same resin as that constituting the low refractive index layer C is used.
  • the high refractive index layer D is an inorganic substance layer which has an inorganic material as a main component from the point that a high refractive index is easy to be obtained.
  • Examples of inorganic materials constituting the high refractive index layer D include metal oxides or metal sulfides.
  • the metal constituting the metal oxide or metal sulfide include Zn, Ti, Zr, Nb, Ta and In.
  • metal oxides include TiO 2 , ITO (indium tin oxide), ZnO, Nb 2 O 5 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , Ti 4 O 7 , Ti 2 O 3 and TiO. Is included.
  • Examples of the metal sulfide include ZnS, MnS, and the like.
  • the low refractive index layer C contains a compound having a thiol group
  • a metal sulfide is preferable from the viewpoint that good adhesion with the low refractive index layer C is easily obtained, and a high refractive index and transparency are obtained.
  • zinc sulfide (ZnS) is more preferable.
  • the content of the metal oxide or metal sulfide is preferably 90 atomic percent or more with respect to the high refractive index layer D, and more preferably 95 atomic percent or more.
  • the thickness d H of the high refractive index layer D depends on the wavelength range of light to be increased in reflection, but is preferably 20 to 80 nm, for example, from the viewpoint of enhancing the effect of increasing the reflection of light having a wavelength of 430 to 470 nm. More preferably.
  • the thickness d H of the high refractive index layer D can be measured using a Horiba spectroscopic ellipsometer UVISEL.
  • the composition of the low refractive index layer C and the high refractive index layer D may change continuously, and the layer interface may not be clear.
  • “maximum refractive index of the entire low refractive index layer C and high refractive index layer D” ⁇ “minimum refractive index of the entire low refractive index layer C and high refractive index layer D” ⁇ n.
  • the point of the minimum refractive index + ⁇ n / 2 between the two layers can be regarded as “a layer interface between the low refractive index layer C and the high refractive index layer D”.
  • the maximum refractive index and the minimum refractive index in the whole of the low refractive index layer C and the high refractive index layer D are obtained by measuring the atomic composition in the depth direction of each of the low refractive index layer C and the high refractive index layer D by XPS. It can be calculated based on the atomic composition.
  • the atomic composition in the depth direction of the low refractive index layer C and the high refractive index layer D is determined by changing the atomic composition ratio at each depth to the XPS surface while etching from the surface of the light reflecting film to the depth direction using a sputtering method. It can be obtained by measuring with an analyzer or by cutting the laminated film of the low refractive index layer C and the high refractive index layer D and measuring the atomic composition ratio of the cut surface with an XPS surface analyzer.
  • the light reflecting film of the present invention may further include other layers as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • Examples of other layers include a transparent substrate layer E and a smooth layer F disposed between the light absorbing layer A and the metal reflective layer B, and a layer disposed between the transparent substrate layer E and the metal reflective layer B.
  • An anchor layer G and the like are included.
  • the light absorption layer A may function as a base material layer that supports the metal reflection layer B, or may not function.
  • the metal reflection layer B is formed on the light absorption layer A by vacuum deposition or the like. Due to the heat at the time of vacuum deposition, the resin contained in the light absorption layer A tends to flow, and a light absorbing material such as carbon black may be deposited on the surface, so that a vapor deposition film having a uniform film thickness cannot be formed. .
  • the specific gravity of titanium oxide used as a white pigment is around 4 and relatively difficult to move through the resin; the specific gravity of carbon black used as a black pigment is 2 or less, less than half of that, It is preferable that the light absorption layer A is not exposed to heat during the manufacturing process of the light reflecting film because it easily moves in the resin. Therefore, it is preferable that the light absorption layer A does not function as a base material layer that supports the metal reflection layer B. That is, it is preferable that the light reflecting film further includes a transparent substrate layer E.
  • Transparent base material layer E The transparent base material layer E has a function of supporting the metal reflective layer B.
  • the transparent substrate layer E is preferably a resin film having a certain translucency.
  • the resin film examples include polyester films such as polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film, polypropylene film, acrylic film, polycarbonate film, polyimide film, polysulfone film, polyether ether ketone film, fluororesin film, cellulose ester film, Polycycloolefin-based films and the like are included.
  • polyester films such as polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film, polypropylene film, acrylic film, polycarbonate film, polyimide film, polysulfone film, polyether ether ketone film, fluororesin film, cellulose ester film, Polycycloolefin-based films and the like are included.
  • a polyethylene terephthalate film and a polypropylene film are preferable from the viewpoint of high heat resistance, strength, and transparency.
  • the thickness of the transparent base material layer E can be set to 10 to 300 ⁇ m, for example. Since the transparent base material layer E has sufficient intensity
  • the thickness of the transparent substrate layer E is preferably 20 to 200 ⁇ m, and more preferably 20 to 100 ⁇ m.
  • the transparent base material layer E contains as little impurities as possible.
  • the average transmittance of the transparent base material layer E at a wavelength of 360 to 400 nm is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more.
  • the average transmittance of the transparent substrate layer E can be measured in the same manner as described above.
  • the transparent base material layer E and the light absorption layer A may be bonded together via an adhesive layer, or may be laminated directly.
  • the pressure-sensitive adhesive composition for obtaining the pressure-sensitive adhesive layer can be the same as the pressure-sensitive adhesive composition that can constitute the light-absorbing layer A except that it does not contain a light-absorbing substance.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 to 30 ⁇ m. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 ⁇ m or more, sufficient adhesive strength is easily obtained.
  • the smooth layer F is disposed between the light absorption layer A and the metal reflection layer B, for example, and can impart surface smoothness to the light absorption layer A to the extent that the reflection performance of the metal reflection layer B is not impaired.
  • the anchor layer G is disposed, for example, between the transparent base material layer E and the metal reflective layer B, enhances the adhesion between the transparent base material layer E and the metal reflective layer B, and impairs the reflective performance of the metal reflective layer B. It is possible to impart a degree of surface smoothness.
  • the smooth layer F and the anchor layer G contain a resin as a main component.
  • resins include polyester resins, acrylic resins, melamine resins, epoxy resins, polyamide resins, vinyl chloride resins, and vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins.
  • a composition containing an acrylic resin and a melamine resin is preferable from the viewpoint of good durability.
  • This composition may be a thermosetting composition further containing a curing agent such as isocyanate.
  • the smooth layer F and the anchor layer G may further contain the aforementioned compound M as required.
  • the content of the compound M can be about 0.5 to 10% by mass with respect to the total resin contained in the smooth layer F and the anchor layer G.
  • the thickness of the smooth layer F can be set to 0.01 to 1 ⁇ m, for example. When the thickness of the smooth layer F is 0.01 ⁇ m or more, the surface smoothness of the light absorption layer A can be sufficiently improved.
  • the thickness of the anchor layer G can be set to 0.01 to 3 ⁇ m, for example.
  • the thickness of the anchor layer G is 0.01 ⁇ m or more, the adhesion between the transparent base material layer E and the metal reflective layer B can be sufficiently improved.
  • the thickness of the anchor layer G is 3 ⁇ m or less, the film thickness uniformity of the anchor layer G is difficult to be impaired.
  • the thickness of the anchor layer G is preferably 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the low-refractive-index layer C and the high-refractive-index layer D included in the light reflecting film of the present invention may each be one or plural.
  • the plurality of low refractive index layers C may be the same as or different from each other.
  • the plurality of high refractive index layers D may be the same as or different from each other. From the metal reflection layer B side, a low refractive index layer C and a high refractive index layer D may be laminated in total in this order by 2 m layers (m is an integer of 1 or more).
  • Examples of the laminated structure of the light reflecting film of the present invention include the following aspects.
  • A is the light absorption layer A
  • B is the metal reflection layer B
  • C is the low refractive index layer C
  • D is the high refractive index layer D
  • E is the transparent substrate layer E
  • F is the smooth layer F
  • G is the anchor layer G.
  • the repetition number m of “C / D” depends on the required reflectance, but is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 5, and more preferably 1 or 2.
  • the low refractive index layer C and the high refractive index layer D are preferably in contact with each other in terms of sufficiently functioning as a reflection increasing film.
  • the light reflecting film 10 includes a transparent base layer E11, a metal reflective layer B13, a low refractive index layer C15, and a high refractive index layer D17 in this order, and the surface on which the metal reflective layer B13 of the transparent base layer E11 is disposed.
  • positioned through the adhesive layer 21 is further included in the surface on the opposite side (refer FIG. 1).
  • the light absorption layer A19 may be a black resin film bonded to the transparent base material layer E11 via the pressure-sensitive adhesive layer 21.
  • the light reflecting film 10 ′ includes a transparent base material layer E11, a metal reflective layer B13, a low refractive index layer C15, and a high refractive index layer D17 in this order, and a surface on which the metal reflective layer B13 of the transparent base material layer E11 is disposed. Further includes a light absorbing layer A19 ′ disposed on the opposite surface (see FIG. 2).
  • the light absorption layer A19 ' can be, for example, a coating layer formed on the surface of the transparent base layer E11 on which the metal reflection layer B is not disposed.
  • the light reflecting film 10 '' may include a light absorbing layer A19, a smooth layer F23, a metal reflecting layer B13, a low refractive index layer C15, and a high refractive index layer D17 in this order (see FIG. 3).
  • the light absorption layer A19 can be, for example, a black resin film.
  • the embodiment of FIGS. 1 and 2 is preferable, and the embodiment of FIG. 1 is more preferable.
  • the light reflectance film of the present invention preferably has an average reflectance R2 at a wavelength of 430 nm to 470 nm higher than an average reflectance R3 at a wavelength of 560 nm to 600 nm.
  • the difference in average reflectance (R2 ⁇ R3) is preferably 0.2 or more, and more preferably 0.4 or more.
  • Such a light reflection film is suitable as a light reflection film of a backlight unit for a liquid crystal display device, for example, because of its high reflectance in the blue light region.
  • the average reflectance of the light reflecting film can be measured using a spectrophotometer U-4100 (solid sample measuring system) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation under the condition of an incident angle of 5 °.
  • the chromaticity X and Y in the CIE1931 color system of the light reflecting film of the present invention are both preferably 0.33 or less, and more preferably 0.3 or less. This is because when the chromaticities X and Y are in the above range, the color of the reflected light of the light reflecting film becomes closer to blue.
  • the low refractive index layer C / the high refractive index layer D is laminated on one surface of the metal reflective layer B, And it is preferable to laminate
  • the thickness of the light reflecting film of the present invention can be, for example, 10 to 400 ⁇ m, preferably 10 to 100 ⁇ m, more preferably 20 to 80 ⁇ m, and further preferably 30 to 70 ⁇ m.
  • the light reflecting film of the present invention may be produced by any method. For example, a metal reflecting layer B, a low refractive index layer C, and a high refractive index layer D are sequentially laminated on the light absorbing layer A. (Method 1); after sequentially laminating a metal reflective layer B, a low refractive index layer C, and a high refractive index layer D on one surface of the transparent substrate layer E, the transparent substrate layer The light absorption layer A may be further laminated on the other surface of E (Method 2).
  • the light reflecting film of the present invention is obtained by 1) obtaining a laminate in which a metal reflecting layer B, a low refractive index layer C, and a high refractive index layer D are laminated in this order on one surface of the transparent substrate layer E. And 2) a process of laminating the light absorption layer A on the other surface of the transparent base material layer E.
  • Step 2-1.1) On one surface of the transparent substrate layer E, the metal reflective layer B, the low refractive index layer C and the high refractive index layer D are sequentially laminated to obtain a laminate.
  • the metal reflective layer B can be formed by a wet method or a dry method.
  • the wet method is a plating method in which a film is formed by depositing a metal from a solution, and specific examples thereof include a silver mirror reaction method.
  • the dry method is a vacuum film forming method, and specific examples thereof include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition method, and a sputtering method. Of these, the dry method is preferable from the viewpoint of production efficiency, and the vacuum evaporation method is more preferable from the viewpoint that film formation by a roll-to-roll method, which is a continuous film formation method, is possible.
  • the surface of the transparent base material layer E is subjected to a surface treatment such as corona treatment or ion coating treatment before the metal reflective layer B is formed. Also good.
  • An anchor layer G may be further formed on the surface of the transparent substrate layer E.
  • the formation of the low refractive index layer C and the high refractive index layer D can be performed by a dry method or a wet method.
  • the low refractive index layer C and the high refractive index layer D mainly composed of a resin are preferably formed by a wet method; the low refractive index layer C and the high refractive index layer D mainly composed of an inorganic material are dry-type. It is preferably formed by a method.
  • the material constituting the low refractive index layer C or the high refractive index layer D is formed by the same vacuum film forming method as described above, and the low refractive index layer C or the high refractive index layer D is formed.
  • the vacuum film forming method is preferably a vacuum vapor deposition method from the viewpoint that continuous film forming is possible.
  • the resin composition constituting the low refractive index layer C or the high refractive index layer D described above is applied and then cured, and then the low refractive index layer C or the high refractive index made of a cured product of the resin composition.
  • the rate layer D is formed.
  • the resin composition includes the above-described curable resin and a curing agent, and may further include a solvent as necessary.
  • the curing agent include polyisocyanate, epoxy compound, melamine resin, and the like.
  • the content of the curing agent can be about 0.1 to 15% by mass with respect to the above-described curable resin. Any solvent may be used as long as it can disperse the above-mentioned resin satisfactorily. For example, an aprotic solvent is preferable.
  • aprotic solvents examples include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane and toluene; halogen hydrocarbon solvents such as methylene chloride and trichloroethane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone And ethers such as dibutyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran are included.
  • hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane and toluene
  • halogen hydrocarbon solvents such as methylene chloride and trichloroethane
  • esters such as ethyl acetate and butyl acetate
  • ketones such as acetone and methyl ethyl ketone
  • ethers such as dibutyl ether, dioxane, and te
  • the resin composition can be applied by, for example, a gravure coating method, a spin coating method, a bar coating method, or the like. Curing is photocuring or thermal curing, and thermal curing is preferable in that sufficient curing is possible.
  • Step 2-2.2) The light absorption layer A is laminated on the other surface of the transparent base material layer E of the obtained laminate to obtain a light reflecting film.
  • the lamination of the light absorption layer A may be performed by attaching a resin film having a light absorption property to the other surface of the transparent substrate layer E via an adhesive (method ⁇ ); having a light absorption property. After applying the resin composition or the pressure-sensitive adhesive composition, drying and curing as necessary may be performed (method ⁇ ).
  • the resin composition having light absorptivity includes the above-described light absorptive substance and a resin (preferably a curable resin), and may further include a solvent and a curing agent as necessary.
  • the same solvent as described above can be used.
  • the curing agent is not particularly limited and includes aliphatic polyisocyanate and the like.
  • the light-absorbing pressure-sensitive adhesive composition may further include the above-described light-absorbing substance, a pressure-sensitive adhesive, and a curing agent.
  • the light absorption layer A can be laminated without heating, the light absorption layer A is laminated on the other surface of the transparent base layer E with a light-absorbing resin film via an adhesive. It is preferable to perform the bonding.
  • the light reflecting film of the present invention can be used as a reflecting member for various uses, for example, a light reflecting film of a backlight unit for a liquid crystal display device, a reflecting mirror of a projection television, a lamp reflector and the like.
  • the light reflection film of this invention is preferably used as a light reflection film of the backlight unit for liquid crystal display devices from the point which has a favorable reflectance and durability.
  • the backlight unit for liquid crystal display devices includes a light source and the light reflecting film of the present invention.
  • the light reflecting film of the present invention is disposed such that the high refractive index layer (D) faces the light source or the back surface of the light guide plate (the surface not facing the liquid crystal display panel).
  • Examples of the light source include a cold cathode tube (CCFL), a hot cathode tube (HCFL), an external electrode fluorescent tube (EEFL), a flat fluorescent tube (FFL), a light emitting diode element (LED), and an organic electroluminescence element (OLED). Etc. are included. Among these, a cold cathode tube (CCFL) and a light emitting diode element (LED) are preferable.
  • CCFL cold cathode tube
  • HCFL hot cathode tube
  • EFL external electrode fluorescent tube
  • FTL flat fluorescent tube
  • LED light emitting diode element
  • OLED organic electroluminescence element
  • the backlight unit for a liquid crystal display device may further include another optical film.
  • other optical films include light diffusion films and prism films.
  • the light diffusion film include a diffusion film coated with a filler or a bead-containing binder.
  • the backlight unit for a liquid crystal display device may be a direct type backlight unit or a side edge type backlight unit.
  • a side-edge type backlight unit is preferable because it is suitable for a medium / small-sized liquid crystal display device.
  • the side-edge type backlight unit includes a light source, a light guide plate disposed adjacent to the light source, and a light reflection film disposed on the back side of the light guide plate, and further includes other optical films as necessary. But you can.
  • An example of the aspect of the side edge type backlight unit includes a backlight unit 50 shown in FIG. 4 described later.
  • the liquid crystal display device of the present invention includes a liquid crystal display panel and a backlight unit.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the liquid crystal display device of the present invention. The figure shows an example in which a side edge type backlight unit is used.
  • the liquid crystal display device 30 includes a liquid crystal display panel 40 and a side edge type backlight unit 50.
  • the liquid crystal display panel 40 includes a liquid crystal cell 41 and a pair of polarizing plates 43 and 45 sandwiching the liquid crystal cell 41.
  • the display method of the liquid crystal cell 41 is not particularly limited, and may be various display modes such as VA (MVA, PVA) and IPS.
  • Each of the polarizing plates 43 and 45 includes a polarizer and a protective film disposed on at least one surface thereof.
  • the side-edge type backlight unit 50 includes a rod-shaped light source 51, a light guide plate 53 disposed so that the side end portion is adjacent to the light source 51, and the light reflecting film 10 disposed on the back side of the light guide plate 53. And a plurality of optical films 55 disposed on the surface side of the light guide plate 53.
  • the light source 51 is covered with a lamp reflector 52.
  • the plurality of optical films 55 are not limited to the embodiment of FIG. 4, and the optical film 55 may not be provided, and the combination and number of optical films may be changed.
  • the side edge type backlight unit 50 In the side edge type backlight unit 50, light emitted from the light source 51 propagates inside the light guide plate 53. A part of the light emitted from the light guide plate 53 is reflected by the light reflecting film 10 and emitted to the front surface side (liquid crystal display panel 40 side) of the light guide plate 53. The light emitted to the surface side of the light guide plate 53 is diffused by the light diffusion film 57, refracted by the prism film 59, and incident on the entire surface of the liquid crystal display panel 40.
  • the liquid crystal display device 30 including the light reflecting film 10 can have high light utilization efficiency.
  • a transparent polyester film (A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 25 ⁇ m was prepared.
  • Silver (Ag) was vacuum-deposited on one surface of the transparent polyester film to form a metal reflective layer B having a thickness of 110 nm.
  • silicon oxide (SiO 2 ) was vacuum-deposited on the metal reflective layer B to form a low refractive index layer C having a thickness of 50 nm.
  • zinc sulfide (ZnS) was vacuum-deposited on the low refractive index layer C to form a high refractive index layer D having a thickness of 50 nm to obtain a laminated film.
  • Aliphatic polyisocyanate (Buret-modified polyisocyanate) [manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., trade name: Desmodur (registered trademark) N3200] as a crosslinking agent was added to the obtained dispersion with respect to the solid content of the dialnal resin. 5% by weight [hydroxyl group of acrylic polymer in dispersion / isocyanate group of aliphatic polyisocyanate (equivalent ratio): 1/1], and black coating composition (resin composition for light absorbing layer A) was prepared.
  • a black resin film having a thickness of 38 ⁇ m (Lumirror X30 manufactured by Toray Industries, Inc.) was prepared.
  • the smooth layer F composition prepared above was applied on the black resin film with a gravure coater, and then dried at 100 ° C. for 1 minute to form a smooth layer F having a thickness of 0.5 ⁇ m.
  • silver (Ag) was vacuum-deposited on the smooth layer F to form a metal reflective layer B having a thickness of 120 nm.
  • silicon oxide (SiO 2 ) was vacuum-deposited on the metal reflective layer B to form a low refractive index layer C having a thickness of 50 nm.
  • ZnS zinc sulfide
  • Example 3 In the same manner as in Example 1, a laminated film in which the transparent substrate layer E / metal reflective layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D were laminated in this order was obtained.
  • a 38 ⁇ m-thick black resin film (Lumirror X30 manufactured by Toray Industries, Inc.) was prepared as the light absorption layer A.
  • Acrylic adhesive Sdyne # 7851 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) was applied to one side of this black resin film, and then dried at 90 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer having a thickness of 5 ⁇ m.
  • the black resin film with the pressure-sensitive adhesive layer was bonded so that the pressure-sensitive adhesive layer was in contact with the surface of the transparent base layer E of the laminated film on which the metal reflective layer B was not formed to form the light absorption layer A. .
  • the light reflection film in which the light absorption layer A / pressure-sensitive adhesive layer / transparent substrate layer E / metal reflection layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D were laminated in this order was obtained.
  • Example 4> Preparation of resin composition for low refractive index layer C
  • dialnal BR-608 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • compound M 1-phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole
  • Toyobo Co., Ltd., see the following formula is added so as to be 5% by mass with respect to the dialnal solid content, and coronate HX as a curing agent is 1% by mass with respect to the resin solid content (dianal solid content).
  • the resin composition for the low refractive index layer C was prepared by adding and mixing.
  • a transparent polyester film (A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 25 ⁇ m was prepared.
  • the anchor layer coating liquid prepared above was applied to one surface of the transparent polyester film and then dried to form an anchor layer G having a thickness of 0.1 ⁇ m.
  • silver (Ag) was vacuum-deposited to form a metal reflective layer B having a thickness of 120 nm.
  • the low refractive index layer C having a thickness of 40 nm was formed by drying at 90 ° C. for 1 minute.
  • zinc sulfide (ZnS) was vacuum-deposited on the low refractive index layer C to form a high refractive index layer D having a thickness of 45 nm to obtain a laminated film.
  • a black resin film (Lumirror X30 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 38 ⁇ m was bonded to the other surface of the transparent substrate layer E of the obtained laminated film via an adhesive.
  • a light reflecting film was obtained in which the light absorbing layer A / adhesive layer / transparent substrate layer E / anchor layer G / metal reflective layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D were laminated in this order. .
  • Example 5 Except that the low refractive index layer C having a thickness of 50 nm was formed on the metal reflective layer B by vacuum deposition of silicon oxide (SiO 2 ), the light absorption layer A / adhesive layer / A light reflecting film was obtained in which transparent base layer E / anchor layer G / metal reflective layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D were laminated in this order.
  • silicon oxide SiO 2
  • niobium oxide Nb 2 O 5
  • a light reflecting film was obtained in which / adhesive layer / transparent substrate layer E / anchor layer G / metal reflective layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D were laminated in this order.
  • Transparent substrate layer E / anchor layer G / metal reflective layer B / low refractive index in the same manner as in Example 4 except that the low refractive index layer C was formed using the obtained resin composition for low refractive index layer C.
  • a laminated film in which the refractive index layer C / the high refractive index layer D were laminated in this order was obtained.
  • Example 8> (Preparation of pressure-sensitive adhesive composition for light absorbing layer A) Carbon black [Mitsubishi Chemical Co., Ltd., product number: MA100] is added as a black pigment to the adhesive Sdyne # 7851 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) so that the black adhesive (light Absorbent layer A pressure-sensitive adhesive composition) was prepared.
  • the prepared black pressure-sensitive adhesive was applied onto a transparent polyester film having a thickness of 50 ⁇ m and then dried to form a black pressure-sensitive adhesive layer (light absorption layer A) having a thickness of 5 ⁇ m. And the transparent polyester film with a black adhesive layer is bonded together so that the black adhesive layer may contact the other surface of the transparent base material layer E of the laminated film obtained in Example 4, and transparent polyester film / black A light reflecting film was prepared in which an adhesive layer (light absorbing layer A) / transparent substrate layer E / anchor layer G / metal reflecting layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D) were laminated in this order.
  • ⁇ Comparative Example 2 Comparative Example 1 except that the transparent substrate film E was changed from a 25 ⁇ m thick transparent polyester film (A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) to a 25 ⁇ m thick transparent polyester film (HB3 manufactured by Teijin DuPont Films) containing an ultraviolet absorber. Similarly, a light reflecting film in which white resin film / adhesive layer / transparent substrate layer E / metal reflective layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D were laminated in this order was obtained.
  • Transparent substrate layer E / metal reflective layer B / low refractive index layer C / high refractive index layer D were laminated in this order in the same manner as in Comparative Example 1 except that the white resin film with the adhesive layer was not bonded. A light reflecting film was obtained.
  • the light reflectance of the light absorption layer A, the light transmittance of the transparent base material layer E, the refractive index of the low refractive index layer C and the high refractive index layer D used in each example / comparative example were respectively determined by the following methods. It was measured.
  • the light absorption layer A is a coating layer
  • a sample obtained by forming a coating layer having a thickness of 1 ⁇ m on a polyethylene terephthalate (PET) substrate having a thickness of 100 ⁇ m is used as a sample, and the average reflection of light having a wavelength of 360 to 400 nm of the sample is used.
  • the rate was measured as described above.
  • the average reflectance of light having a wavelength of 360 to 400 nm of the polyethylene terephthalate (PET) substrate alone was measured in the same manner as described above. Then, the average reflectance of the light absorbing layer A was determined by subtracting the average reflectance of the substrate alone from the average reflectance of the sample.
  • a low refractive index layer C having a thickness of 50 nm is vacuum deposited or formed on a polyethylene terephthalate (PET) substrate having a thickness of 100 ⁇ m, and a refractive index is measured. Sample 1 was obtained.
  • a high refractive index layer D having a thickness of 50 nm was vacuum deposited or formed on a PET substrate having a thickness of 100 ⁇ m to obtain a sample 2 for refractive index measurement.
  • the refractive indexes of the light of these samples 1 and 2 having a wavelength of 500 nm were measured using a spectroscopic ellipsometer UVISEL manufactured by Horiba.
  • Average reflectance The average reflectance of light having a wavelength of 430 to 470 nm and the average reflectance of light having a wavelength of 560 to 600 nm of the obtained light reflecting film were respectively measured by a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High Technologies. Using (solid sample measurement system), the measurement was performed under the condition of an incident angle of 5 °.
  • Luminance / Chromaticity (Initial)
  • the backlight unit was taken out from the liquid crystal display device (trade name: LC-37GX1W, manufactured by Sharp), and the light reflecting film of the backlight unit was replaced with the light reflecting film produced above.
  • a luminance meter (manufactured by Konica Minolta, product name “CS-2000”) is located on the side opposite to the surface where the light reflecting film of the obtained backlight unit is disposed and at a height of 200 mm from the light reflecting film.
  • tristimulus value Y (luminance) [cd / m 2 ] at intervals of 0.6 mm from end to end in the form of crossing the center of the surface light source device in the vertical direction of the light sources arranged in parallel, and Chromaticity x and y in the CIE 1931 color system were measured. These values were measured at 25 ° C.
  • the luminance value is preferably as large as possible, and the chromaticity value is as small as possible.
  • the produced light reflecting film was allowed to stand for 500 hours in an environment of 60 ° C. and 90% RH. Thereafter, the obtained light reflecting film was replaced with the light reflecting film provided in the backlight unit.
  • the tristimulus value Y (luminance) [cd / m 2 ] and chromaticities X and Y were measured from the position of 200 mm above the light reflecting film of the obtained backlight unit in the same manner as described above.
  • a Xenon lamp is applied to the light incident surface (the surface on the high refractive index layer D side) of the light reflecting film using a Suga Test Machine SX75 under an environment where the black panel temperature is 63 ° C. and the relative humidity is 50%. Irradiation was performed under the conditions of / m 2 and 500 hours, and a weather resistance test was performed. And the breaking strength (MPa) of the light reflection film after a weather resistance test was measured like said 1). 3) The initial breaking strength obtained in 1) above and the breaking strength after the weather resistance test obtained in 2) above were applied to the following formula to determine the rate of decrease in breaking strength. And based on the fall rate, the weather resistance was evaluated in the following five stages.
  • Rate of decrease in breaking strength ⁇ (initial breaking strength ⁇ breaking strength after weathering test) / initial breaking strength ⁇ ⁇ 100 5: Decreasing rate of breaking strength is less than 10% 4: Decreasing rate of breaking strength is 10% or more and less than 20% 3: Decreasing rate of breaking strength is 20% or more and less than 30% 2: Decreasing rate of breaking strength is 30% or more Less than 40% 1: Decrease rate of breaking strength is 40% or more and less than 50%
  • the light reflecting film attached to the lower surface of the light guide plate of the backlight unit of the liquid crystal display (trade name: LC-37GX1W, manufactured by Sharp) is peeled off, and the produced light reflecting film is disposed on the side.
  • a liquid crystal display device was manufactured by pasting on the lower surface of the light guide plate through a black adhesive tape having a width of 0.5 mm and a thickness of 40 ⁇ m at the end. Then, the luminance when the liquid crystal display device displayed white and black was measured with an ultra-low luminance spectroradiometer (SR-UL2, manufactured by Topcon Technohouse).
  • SR-UL2 ultra-low luminance spectroradiometer
  • Contrast brightness at white display / brightness contrast at black display, the larger the number, the higher the black reproducibility.
  • FIG. 5 is a graph showing a simulation result of the reflectance spectrum of the light reflection film by Essential Macleod.
  • the thick solid line indicates the spectrum of the light reflecting film of Example 3; the thin solid line indicates the spectrum of the light reflecting film of Comparative Example 1; the dotted line indicates the low refractive index layer / high refractive index layer laminated.
  • the spectrum of the light reflection film of the reference example which has the structure similar to Example 3 except not having shown is shown.
  • the light reflecting films of Examples 1 to 8 having the light absorbing layer A on the back surface (the surface opposite to the light incident side) of the metal reflecting layer B are in the blue light region (wavelength 430 to The average reflectance at 470 nm) is high, the chromaticity is 0.31 or less, and a sufficient blue color can be obtained (see the spectrum of Example 3 in FIG. 5). Further, since the light reflecting films of Examples 1 to 8 do not contain a white film, it is shown that the weather resistance is also high.
  • the light reflecting films of Comparative Examples 1 and 2 having a white resin film instead of the light absorbing layer A, and the light reflecting film of Comparative Example 3 having neither a white resin film nor a black resin film are all blue. It can be seen that the average reflectance in the light region (wavelength 430 to 470 nm) is low, the chromaticity is 0.35 or more, and a sufficient blue color cannot be obtained (see the spectrum of Comparative Example 1 in FIG. 5). Moreover, since the light reflection film of the comparative examples 1 and 2 contains a white resin film, it is shown that a weather resistance is also low.
  • the light reflecting films of Examples 3 to 8 in which the support of the metal reflection layer B and the light absorption layer A are separate members are the same as the support of the metal reflection layer B, the light absorption layer A, and the like. It is shown that the weather resistance and black reproducibility are higher than those of the light reflecting film of Example 1 in which the same member is used. This is because the support of the metal reflection layer B and the light absorption layer A are separate members, so that the film thickness uniformity of the metal reflection layer B is not easily impaired by the deposition of carbon black from the light absorption layer A. Presumed to be.
  • the low refractive index layer C with “a resin layer containing a compound containing a thiol group” from the comparison between Examples 4 and 5, it is more than a “deposited film of silicon oxide (SiO 2 )”. It shows that the color after durability can be maintained well.
  • the comparison between Examples 4 and 6 shows that the high refractive index layer D is made of “metal sulfide”, so that the color after durability can be maintained better than that of “metal oxide”. .

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Abstract

本発明の目的は、低屈折率層／高屈折率層の積層によって実現される反射光の色調が損なわれることなく、青色領域の反射率が高められた光反射フィルムを提供することである。本発明の光反射フィルムは、波長３６０～４００ｎｍの光の平均透過率が１５％以下であり、且つ波長３６０～４００ｎｍの光の平均反射率が１０％以下である光吸収層Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃと、前記低屈折率層Ｃよりも波長５００ｎｍの光の屈折率が高い高屈折率層Ｄとをこの順に含み、前記高屈折率層Ｄに入射角５°で光を入射させたときの、波長４３０ｎｍ～４７０ｎｍの平均反射率Ｒ２が、波長５６０ｎｍ～６００ｎｍの平均反射率Ｒ３よりも大きい。

Description

光反射フィルム及び液晶表示装置用バックライトユニット
　本発明は、光反射フィルム及び液晶表示装置用バックライトユニットに関する。
　従来、液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルム、プロジェクションテレビや光学系装置の反射鏡、及びＬＥＤ照明用反射部材等の用途において、反射部材が用いられている。
　そのような反射部材として、銀層を含む反射フィルムが知られている。銀層は、ピンホール等の欠陥を有するため、わずかではあるが光を透過することがある。そのような光の透過を低減して反射率を高めるために、銀層と、その裏面側（光入射面とは反対側）に配置された白色顔料を含む塗料から得られる光遮蔽層とを有する反射フィルムが提案されている（例えば特許文献１）。また、金属薄膜（例えば銀薄膜）を有する光反射フィルムと、充填剤（例えば酸化チタン）を含む合成樹脂フィルムを延伸して得られる光散乱フィルムとを粘着剤を介して積層した光反射シートも提案されている（例えば特許文献２）。
　一方、スマートホンやタブレット等の液晶表示装置には、使用時に蛍光灯や太陽光に曝されることがある。また、これらの液晶表示装置のバックライトとして用いられる白色ＬＥＤは、蛍光体の励起に紫外線を使用することがある。従って、特許文献１のフィルムにおいては、銀層を透過した光が、白色塗料層や白色ＰＥＴフィルムに含まれる酸化チタンを励起させ、白色塗料層や白色ＰＥＴフィルムに含まれる樹脂を劣化させることがあった。そのような白色塗料層や白色ＰＥＴフィルムに含まれる樹脂の光劣化を抑制するために、白色塗料層等の光遮蔽層と銀層との間に紫外線遮蔽層をさらに配置することが提案されている（例えば特許文献３）。
　ところで、近年、液晶表示装置のバックライトユニット用光反射フィルムには、色度の改善が検討されている。即ち、ＣＩＥ１９３１表色系における色度ＸＹを青寄りにすること（ＸＹを小さくすること）、具体的には青色光領域（波長４３０～４７０ｎｍ）の反射率を高くし、且つ可視光領域（波長５６０～６００ｎｍ）の反射率を低くすることが検討されている。銀層は、青色光領域（波長４３０～４７０ｎｍ）の平均反射率が９６．６％、可視光領域（波長５６０～６００ｎｍ）の平均反射率が９８．３％であり、青色光領域の平均反射率が、可視光領域の平均反射率よりも低い。そのため、青色光領域（波長４３０～４７０ｎｍ）の平均反射率を可視光領域の平均反射率よりも高くするために、銀層に、低屈折率層と高屈折率層とをさらに積層することが検討されている（例えば特許文献４）。
特開平９－１５０４８２号公報 特開平５－２２９０５３号公報 特許第５０４５８５１号公報 特許第４４９８２７３号公報
　しかしながら、特許文献４に示されるような透明基材層／銀層／低屈折率層／高屈折率層を含むフィルムにおいて、透明基材層の裏面に特許文献１や２に示されるような白色塗料層や白色ＰＥＴフィルムがさらに配置されていると、低屈折率層／高屈折率層の積層によって実現される反射光の色調が損なわれるという問題があった。
　この理由は必ずしも明らかではないが、以下の理由によると考えられる。図６は、白色フィルム６／粘着剤層５／透明基材層４／銀層３／低屈折率層２／高屈折率層１の積層構造を有するフィルムの一例である。白色フィルム６で反射された光のうち、銀層３を透過した光は、色度調整層である低屈折率層２／高屈折率層１の界面と、高屈折率層１／空気の界面とでそれぞれ反射されて（Ｒ２１とＲ１０）、空気層の外にほとんど出ることがなく；銀層３を透過しない光は、粘着剤層５内を伝播する（Ｒ５６とＲ５４）。また、白色フィルム６で反射された光は、いずれも波長依存性を有しない。これらの結果、低屈折率層２／高屈折率層１の積層によって実現される色調が損なわれると考えられる。
　さらに、透明基材層４／銀層３／低屈折率層２／高屈折率層１の積層構造からなるフィルム（図６において白色フィルム６がなく、透明基材層４の裏面が露出しているフィルム）においても、低屈折率層２／高屈折率層１の積層によって実現される反射光の色調が損なわれるという問題があった。銀層３を透過した光が、フィルム外へ漏れ出たまま液晶表示装置内で複雑に反射されることによると考えられる。
　つまり、低屈折率層２／高屈折率層１の積層によって実現される色調が、白色フィルム６で反射された光や、銀層３を透過してフィルム外へ漏れ出た光によって損なわれないことが望まれる。
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、低屈折率層／高屈折率層の積層によって実現される反射光の色調が損なわれることなく、青色領域の反射率が高められた光反射フィルムを提供することを目的とする。
　［１］　波長３６０～４００ｎｍの光の平均透過率が１５％以下であり、且つ波長３６０～４００ｎｍの光の平均反射率が１０％以下である光吸収層Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃと、前記低屈折率層Ｃよりも波長５００ｎｍの光の屈折率が高い高屈折率層Ｄとをこの順に含み、前記高屈折率層Ｄに入射角５°で光を入射させたときの、波長４３０ｎｍ～４７０ｎｍの平均反射率Ｒ２が、波長５６０ｎｍ～６００ｎｍの平均反射率Ｒ３よりも大きい、光反射フィルム。
　［２］　前記光吸収層Ａと前記金属反射層Ｂとの間に配置された透明基材層Ｅをさらに含む、［１］に記載の光反射フィルム。
　［３］　前記透明基材層Ｅの波長３６０～４００ｎｍの光の平均透過率が８０％以上である、［２］に記載の光反射フィルム。
　［４］　前記光吸収層Ａは、前記透明基材層Ｅと粘着剤層を介して配置された光吸収性樹脂フィルムである、［２］又は［３］に記載の光反射フィルム。
　［５］　前記光吸収層Ａは、黒色樹脂層である、［１］～［４］のいずれかに記載の光反射フィルム。
　［６］　前記金属反射層Ｂは、銀又はその合金を主成分とする蒸着膜である、［１］～［５］のいずれかに記載の光反射フィルム。
　［７］　前記低屈折率層Ｃは、チオール基を有する化合物を含む樹脂層である、［１］～［６］のいずれかに記載の光反射フィルム。
　［８］　前記高屈折率層Ｄは、金属硫化物を主成分とする蒸着膜である、［１］～［７］のいずれかに記載の光反射フィルム。
　［９］　光源と、［１］～［８］のいずれかに記載の光反射フィルムとを含む、液晶表示装置用バックライトユニット。
　本発明は、低屈折率層／高屈折率層の積層によって実現される反射光の色調が損なわれることなく、青色領域の反射率が高められた光反射フィルムを提供することができる。
本発明の光反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の光反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の光反射フィルムの一例を示す模式図である。 本発明の液晶表示装置の一例を示す断面図である。 光反射フィルムの反射率スペクトルのシミュレーション結果を示すグラフである。 白色フィルム／粘着剤層／透明基材層／銀層／低屈折率層／高屈折率層を含むフィルムの一例を示す模式図である。
　本発明者らは、金属反射層Ｂの裏面（光入射面とは反対側の面）に、光吸収層Ａを配置することで、金属反射層Ｂの表面（光入射面側）に低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄを積層することによって実現される反射光の色調を損なうことなく、青色光領域の反射率を高めうることを見出した。この理由は必ずしも明らかではないが、以下のように考えられる。
　金属反射層Ｂを透過した光は、光吸収層Ａで吸収されるため、光反射フィルム外に漏れ出にくくしうる。それにより、光反射フィルム外に漏れ出た光が装置内で複雑に反射されるのを抑制できる。また、光吸収層Ａに到達した光は、ほとんど反射されないため、反射光が光反射フィルム内で複雑に伝播するのを抑制できる。それらの結果、低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄの積層によって実現される色調が損なわれることなく、青色光領域の反射率を高めることができると考えられる。
　一方で、光吸収層Ａは、通常、カーボンブラック等の黒色顔料を含む樹脂層でありうる。そのような光吸収層Ａ上に、金属反射層Ｂを真空蒸着法で形成すると、蒸着時の熱（樹脂のＴｇ以上の熱）で光吸収層Ａの樹脂が流動しやすくなり、カーボンブラックが光吸収層Ａの表面に析出する虞がある。それにより、光吸収層Ａの表面に、均一な膜厚の金属反射層Ｂを形成できない虞がある。
　これに対して、透明基材層Ｅの一方の面に金属反射層Ｂを形成し、他方の面に光吸収層Ａを積層することで、光反射フィルムの製造過程で光吸収層Ａに熱が加わらないようにすることができる。つまり、光反射フィルムが、金属反射層Ｂを支持する透明基材層Ｅをさらに含むことで、カーボンブラックの析出の虞をなくすことができる。本発明は、これらの知見に基づいてなされたものである。
　１．光反射フィルム
　本発明の光反射フィルムは、光吸収層Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃと、高屈折率層Ｄとをこの順に含む。
　１－１．光吸収層Ａ
　光吸収層Ａは、金属反射層Ｂの裏面側（光入射面とは反対側）に配置され、金属反射層Ｂを僅かに透過する光を吸収する機能を有する。
　光吸収層Ａの波長３６０～４００ｎｍの光の平均透過率は、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。さらに、光吸収層Ａの波長３６０～４００ｎｍの光の平均反射率は、１０％以下であることが好ましい。光吸収層Ａの光の平均透過率及び平均反射率は、積分球を備えた分光光度計、具体的には、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ－４１００（固体試料測定システム）を用いて、積分球の開口部前にサンプルを配置する条件により測定することができる。
　光吸収層Ａは、通常、光吸収性物質を含む樹脂層又は粘着剤層でありうる。
　光吸収性物質の例には、カーボンブラック等の黒色顔料が含まれ、光吸収性が高いことから、好ましくはカーボンブラックである。
　光吸収性物質を含む樹脂層を構成する樹脂の例には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステル；ポリプロピレン等のポリオレフィン；アクリル系樹脂；ポリカーボネート；ポリイミド；ポリエーテルエーテルケトン；セルロースエステル等が含まれ、耐熱性が高い点から、好ましくはポリエステル樹脂でありうる。光吸収性物質を含む樹脂層は、光吸収性樹脂フィルム（好ましくは黒色樹脂フィルム）であってもよいし、光吸収性塗料層（好ましくは黒色塗料層）であってもよい。
　光吸収性物質を含む粘着剤層は、粘着剤の硬化物を含みうる。粘着剤の例には、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤及びシリコーン系粘着剤等が含まれる。粘着剤層の表面は、べとつきを抑制する点から、他の樹脂フィルムがさらに積層されていてもよい。
　光吸収層Ａの厚みは、５～５０μｍであることが好ましい。光吸収層Ａの厚みが５μｍ以上であると、金属反射層Ｂを透過した光を十分に吸収しやすい。光吸収層Ａの厚みが５０μｍ以下であると、光吸収性を損なうことなく、光反射フィルムの厚みが大きくなりすぎるのを抑制できる。光吸収層Ａの厚みは、１０～４０μｍであることがより好ましい。
　１－２．金属反射層Ｂ
　金属反射層Ｂは、入射した光を反射する機能を有する。金属反射層Ｂは、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ａｕ及びそれらの合金からなる群より選ばれる一以上を主成分として含む。中でも、高い反射率を有する点では、金属反射層ＢはＡｌ、Ａｇ又はそれらの合金を主成分として含むことが好ましく、Ａｇ又はその合金を主成分として含むことがより好ましい。
　Ａｇ又はその合金を主成分として含むとは、金属反射層Ｂに対する含有量が９０原子％以上であることをいう。従って、Ａｇ又はその合金の含有量は、金属反射層Ｂに対して９０原子％以上であることが好ましく、９９．９原子％以上であることがより好ましい。
　金属反射層Ｂは、Ａｇ又はその合金以外の他の金属をさらに含んでもよい。他の金属の例には、Ａｕ、Ｐｄ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｂｉ及びそれらの合金が含まれ、好ましくはＡｕとＡｇ合金でありうる。金属反射層Ｂは、後述するように真空製膜法で形成された薄膜であることが好ましく、蒸着膜であることがより好ましい。
　金属反射層Ｂの厚みは、反射率の点から、１０～２００ｎｍであることが好ましい。金属反射層Ｂの厚みが１０ｎｍ以上であると、透過光の割合が増大することによる反射率の低下を抑制できる。金属反射層Ｂの厚みが２００ｎｍ以下であると、製造コストの増大を抑制しうる。金属反射層Ｂの厚みが３０～１５０ｎｍであることがより好ましく、８０～１５０ｎｍであることがさらに好ましい。
　金属反射層Ｂの表面反射率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。金属反射層Ｂの表面反射率は、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ－４１００により測定することができる。
　１－３．低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄ
　低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄは、金属反射層Ｂの低波長領域の光の反射率を高めて反射光の色調を調整する増反射層として機能しうる。低屈折率層Ｃは、隣接する高屈折率層Ｄよりも測定波長５００ｎｍの光の屈折率が低い層をいう。高屈折率層Ｄは、隣接する低屈折率層Ｃよりも測定波長５００ｎｍの光の屈折率が高い層をいう。
　低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄの、波長５００ｎｍの光の屈折率の差は、十分な増反射効果を得る点では、０．３５以上であることが好ましく、０．４以上であることがより好ましく、０．５～１．１０であることがさらに好ましい。
　低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄを増反射層として機能させるためには、低屈折率層Ｃの波長５００ｎｍでの屈折率をｎＬ、厚みをｄＬとし、高屈折率層Ｄの波長５００ｎｍでの屈折率をｎＨ、厚みをｄＨとしたときに、下記式を満たすことが好ましい。
　３５０＜８ｄＬ・ｎＬ＜７３０（好ましくは３５０＜８ｄＬ・ｎＬ＜６５０）…式（１）
　３５０＜４ｄＨ・ｎＨ＜７３０…式（２）
　１－３－１．低屈折率層Ｃ
　低屈折率層Ｃの波長５００ｎｍの光の屈折率ｎＬは、高屈折率層Ｄとの屈折率差を考慮して設定されるが、例えば１．８０以下であることが好ましく、１．４６以上１．７０以下であることがより好ましい。低屈折率層Ｃの屈折率ｎＬは、主に低屈折率層Ｃに含まれる材料の屈折率や、低屈折率層Ｃの密度で調整される。
　低屈折率層Ｃの屈折率ｎＬは、以下の方法で測定することができる。即ち、ポリエチレンテレフタレート基材上に、厚み１００ｎｍの低屈折率層（単層）を塗布形成して、屈折率測定用サンプルを得る。得られたサンプルの波長５００ｎｍの光の屈折率を、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いて測定する。
　そのような低屈折率層Ｃは、無機材料を主成分とする無機物層（好ましくは蒸着膜）であってもよいし、樹脂を主成分とする樹脂層であってもよい。以下、「主成分」とは、層全体に対する含有量が５０質量％以上、好ましくは６０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上である成分をいう。
　低屈折率層Ｃを構成する無機材料の例には、Ｓｉの酸化物（例えばＳｉＯ２）、Ｓｉの窒化物（例えばＳｉ３Ｎ４）、及びＳｉの酸窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）等が含まれる。Ｓｉの酸窒化物の例には、ポリシラザンが含まれる。ポリシラザンとは、ケイ素－窒素結合を有するポリマーであり、下記一般式（Ｉ）で表されうる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　一般式（Ｉ）のＲ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して水素原子、置換又は非置換の、アルキル基（好ましくは炭素原子数１～８の直鎖、分岐状又は環状のアルキル基）、アリール基（好ましくは炭素原子数６～３０のアリール基）、ビニル基、又はトリアルコキシシリル（好ましくは炭素原子数１～８のアルコキシ基で置換されたシリル）アルキル基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ同じであってもよいし、異なってもよい。
　一般式（Ｉ）のｎは、１以上の整数である。一般式（Ｉ）で表される構造を有する化合物の数平均分子量は、１５０～１５００００であることが好ましい。
　一般式（Ｉ）で表される構造を有する化合物の例には、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザン（ＰＨＰＳ）が含まれる。
　低屈折率層Ｃが無機物層である場合、無機材料の含有量は、低屈折率層Ｃに対して９０原子％以上であることが好ましく、９５原子％以上であることがより好ましい。
　低屈折率層Ｃを構成する樹脂は、低屈折率層Ｃに適した屈折率を有する樹脂であればよく、その例には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートのコポリマー（ｃｏＰＥＴ）、テレフタル酸－シクロヘキサンジメタノール－エチレングリコール共重合体（ＰＥＴＧ）等のポリエステル系樹脂；ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリ（メチルメタクリレート）のコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）等のアクリル系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂、ゼラチン、セルロース類、増粘多糖類及び反応性官能基を有するポリマー等の水溶性樹脂；及びメラミン系樹脂等が含まれる。中でも、屈折率を調整しやすい点から、アクリル系樹脂が好ましい。
　アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体又は（メタ）アクリル酸エステルと他の共重合モノマーとの共重合体であり得る。（メタ）アクリル酸エステルは、好ましくはメタクリル酸メチルであり得る。
　メタクリル酸メチルと共重合される共重合体モノマーの例には、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β－不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸；２－ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル等が含まれる。
　これらの樹脂のうち、硬化剤と反応する官能基（例えばカルボキシル基、水酸基、アミノ基、メチロール基等）を有する硬化性樹脂（例えば水酸基を有するアクリル系樹脂等）は、硬化物であってもよい。樹脂の重量平均分子量は、塗布可能な程度であればよく、例えば１０００～５０万でありうる。
　低屈折率層Ｃが樹脂層である場合、低屈折率層Ｃは、必要に応じてアミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、テトラゾール環を有する化合物（但し、これらはいずれもチオール基を有しないものとする）及びチオール基を有する化合物からなる群より選ばれる一以上の化合物Ｍをさらに含んでもよい。これらの化合物Ｍは、金属反射層Ｂを構成する金属（好ましくは銀）との親和性が高いことから、低屈折率層Ｃを均一な膜厚に塗布形成しやすく、且つ金属反射層Ｂとの良好な密着性が得られやすい。
　アミン類及びその誘導体の例には、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、ｏ－トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等が含まれる。
　ピロール環を有する化合物の例には、２，５－ジメチルピロール、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－２，５ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール等が含まれる。
　トリアゾール環を有する化合物の例には、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール等が含まれる。
　ピラゾール環を有する化合物の例には、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等が含まれる。
　チアゾール環を有する化合物の例には、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール等が含まれる。
　イミダゾール環を有する化合物の例には、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール等が含まれる。
　テトラゾール環を有する化合物の例には、テトラゾール、５－フェニル－テトラゾール等が含まれる。
　チオール基を有する化合物の例には、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸等のチオール基含有カルボン酸；チオフェノール；１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール等のポリチオール化合物；３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール等のチオール基含有トリアゾール化合物；１－フェニル－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール、１－メチル－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール、１－（２－ジメチルアミノエチル）－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール等のチオール基含有テトラゾール化合物；２－メルカプトベンゾチアゾール等のチオール基含有ベンゾチアゾール化合物；２－メルカプトベンゾイミダゾール等のチオール基含有ベンゾイミダゾール化合物；２－メルカプトベンゾオキサゾール等のチオール基含有ベンゾオキサゾール化合物；チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２－Ｎ，Ｎ－ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ－ジメチルアミノベンザルロダニン、及び２－メルカプトベンゾチアゾール等のチアゾール化合物；チオナリド；３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のチオール基含有シラン化合物；ポリオール（ブタンジオール、ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、及びペンタエリスリトール等）とチオール基含有モノカルボン酸（チオグリコール酸及びメルカプトプロピオン酸等）とを反応させて得られるチオール基含有カルボン酸誘導体（グリコールジメルカプトアセテート、ブタンジオールビスチオグリコレート（ＢＤＴＧ）、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート（ＴＭＴＧ）、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）及びペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＧ）等）；モノアルコール（ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール等）とチオエーテル基含有ポリカルボン酸（チオジプロピオン酸等）とを反応させて得られるチオエーテル含有アルコール誘導体（ジラウリル３，３－チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル３，３－チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３－チオジプロピオネート等）等が挙げられる。
　中でも、分子内にチオール基を有する化合物が好ましく、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート（ＴＭＴＧ）、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）及びペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＧ）等のチオール基含有カルボン酸誘導体が好ましい。
　化合物Ｍの含有量は、低屈折率層Ｃに含まれる樹脂の合計量に対して０．５～２０質量％であることが好ましい。化合物Ｍの含有量が０．５質量％以上であると、金属反射層Ｂの耐久性を十分に高めうる。化合物Ｍの含有量が２０質量％以下であると、化合物Ｍの光吸収に伴う着色や反射率の低下が生じにくい。化合物Ｍの含有量は、低屈折率層Ｃに含まれる樹脂の合計量に対して１～１０質量％であることがより好ましい。
　低屈折率層Ｃの厚みｄＬは、増反射させる光の波長域によるが、例えば波長４３０～４７０ｎｍの光の増反射効果を高める点では、２０～７０ｎｍであることが好ましく、３０～６０ｎｍであることがより好ましい。低屈折率層Ｃの厚みｄＬは、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いて測定することができる。
　１－３－２．高屈折率層Ｄ
　高屈折率層Ｄの波長５００ｎｍの光の屈折率ｎＨは、低屈折率層Ｃとの屈折率差を考慮して設定されうるが、例えば１．８５以上であることが好ましく、２．００以上２．７０以下であることがより好ましい。高屈折率層Ｄの屈折率は、主に高屈折率層Ｄに含まれる材料の屈折率や、高屈折率層Ｄの密度で調整される。
　高屈折率層Ｄの屈折率ｎＨは、ポリエチレンテレフタレート基材上に、厚み１００ｎｍの高屈折率層（単層）を真空蒸着又は塗布形成して屈折率測定用サンプルを得る以外は前述と同様にして測定することができる。
　そのような高屈折率層Ｄは、無機材料を主成分とする無機物層（好ましくは蒸着膜）であってもよいし、樹脂を主成分とする樹脂層であってもよい。樹脂層を構成する樹脂は、低屈折率層Ｃを構成する樹脂と同様のものが用いられる。中でも、高屈折率層Ｄは、高い屈折率が得られやすい点から、無機材料を主成分とする無機物層であることが好ましい。
　高屈折率層Ｄを構成する無機材料の例には、金属酸化物又は金属硫化物が含まれる。金属酸化物又は金属硫化物を構成する金属の例には、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ及びＩｎ等が含まれる。金属酸化物の例には、ＴｉＯ２、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｔｉ３Ｏ５、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ２Ｏ３及びＴｉＯ等が含まれる。金属硫化物の例には、ＺｎＳ、ＭｎＳ等が含まれる。
　中でも、低屈折率層Ｃがチオール基を有する化合物を含む場合に、低屈折率層Ｃとの良好な密着性が得られやすい点から、金属硫化物が好ましく、高い屈折率と透明性とを有する点から、硫化亜鉛（ＺｎＳ）がより好ましい。
　金属酸化物又は金属硫化物の含有量は、高屈折率層Ｄに対して９０原子％以上であることが好ましく、９５原子％以上であることがより好ましい。
　高屈折率層Ｄの厚みｄＨは、増反射させる光の波長域によるが、例えば波長４３０～４７０ｎｍの光の増反射効果を高める点では、２０～８０ｎｍであることが好ましく、３０～７０ｎｍであることがより好ましい。高屈折率層Ｄの厚みｄＨは、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いて測定することができる。
　低屈折率層Ｃや高屈折率層Ｄの厚みを測定するにあたり、低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄの組成が連続的に変化し、層界面が明確でない場合がある。そのような場合、「低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄの全体のうち最大屈折率」－「低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄの全体のうち最小屈折率」＝Δｎとしたとき、２層間の最小屈折率＋Δｎ／２の地点を「低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄとの層界面」とみなすことができる。
　低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄの全体における最大屈折率及び最小屈折率は、低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄのそれぞれの深さ方向の原子組成をＸＰＳによって測定し、該原子組成に基づいて計算して求めることができる。低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄの深さ方向の原子組成は、スパッタ法を用いて光反射フィルムの表面から深さ方向へエッチングを行いながら、各深さにおける原子組成比をＸＰＳ表面分析装置により測定したり；低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄの積層膜を切断して、切断面の原子組成比をＸＰＳ表面分析装置で測定したりすることによって得ることができる。
　１－４．その他の層
　本発明の光反射フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で、他の層をさらに含んでもよい。他の層の例には、光吸収層Ａと金属反射層Ｂとの間に配置される透明基材層Ｅや平滑層Ｆ、透明基材層Ｅと金属反射層Ｂとの間に配置されるアンカー層Ｇ等が含まれる。
　光吸収層Ａは、金属反射層Ｂを支持する基材層として機能してもよいし、機能しなくてもよい。光吸収層Ａが金属反射層Ｂを支持する基材層として機能する場合、金属反射層Ｂは、光吸収層Ａ上に真空蒸着等で形成される。この真空蒸着時の熱により、光吸収層Ａに含まれる樹脂が流動しやすくなり、カーボンブラック等の光吸収性物質が表面に析出して、均一な膜厚の蒸着膜を形成できない虞がある。白色顔料として使用されている酸化チタンの比重は４前後であり、樹脂中を比較的移動しにくいのに対し；黒色顔料として使用されているカーボンブラックの比重はその半分以下の２以下であり、樹脂中を移動しやすいことから、光吸収層Ａは、光反射フィルムの製造過程で熱に曝さないことが好ましい。従って、光吸収層Ａは、金属反射層Ｂを支持する基材層として機能しないことが好ましい。即ち、光反射フィルムは、透明基材層Ｅをさらに含むことが好ましい。
　１－４－１．透明基材層Ｅ
　透明基材層Ｅは、金属反射層Ｂを支持する機能を有する。透明基材層Ｅは、一定の透光性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。
　樹脂フィルムの例には、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、フッ素樹脂フィルム、セルロースエステル系フィルム、ポリシクロオレフィン系フィルム等が含まれる。中でも、耐熱性や強度、透明性が高い点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリプロピレンフィルムが好ましい。
　透明基材層Ｅの厚みは、例えば１０～３００μｍとすることができる。透明基材層Ｅの厚みが１０μｍ以上であると、透明基材層Ｅが十分な強度を有するので、取り扱いやすい。透明基材層Ｅの厚みが３００μｍ以下であると、透明基材層Ｅの表面平滑性が損なわれにくい。透明基材層Ｅの厚みは、２０～２００μｍであることが好ましく、２０～１００μｍであることがより好ましい。
　透明基材層Ｅ上に、金属反射層Ｂを真空蒸着法等で均一に形成するためには、透明基材層Ｅが不純物をできるだけ含まないことが好ましい。そのような観点から、透明基材層Ｅの波長３６０～４００ｎｍでの平均透過率は、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。透明基材層Ｅの平均透過率は、前述と同様にして測定されうる。
　透明基材層Ｅと光吸収層Ａは、粘着剤層を介して貼り合わされていてもよいし、直接積層されていてもよい。粘着剤層を得るための粘着剤組成物は、光吸収層Ａを構成しうる粘着剤組成物において、光吸収性物質を含まない以外は同様のものを用いることができる。
　粘着剤層の厚みは、１～３０μｍであることが好ましい。粘着剤層の厚みが１μｍ以上であると、十分な接着強度が得られやすい。
　１－４－２．平滑層Ｆ／アンカー層Ｇ
　平滑層Ｆは、例えば光吸収層Ａと金属反射層Ｂの間に配置され、光吸収層Ａに、金属反射層Ｂの反射性能を損なわない程度の表面平滑性を付与しうる。アンカー層Ｇは、例えば透明基材層Ｅと金属反射層Ｂとの間に配置され、透明基材層Ｅと金属反射層Ｂとの密着性を高め、且つ金属反射層Ｂの反射性能を損なわない程度の表面平滑性を付与しうる。
　平滑層Ｆやアンカー層Ｇは、樹脂を主成分として含む。そのような樹脂の例には、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、及び塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等が含まれる。中でも、耐久性が良好である点から、アクリル系樹脂とメラミン系樹脂とを含む組成物が好ましい。この組成物は、さらにイソシアネート等の硬化剤を含む熱硬化型組成物であってもよい。
　平滑層Ｆやアンカー層Ｇは、必要に応じて前述の化合物Ｍをさらに含んでもよい。化合物Ｍの含有量は、平滑層Ｆやアンカー層Ｇに含まれる樹脂の合計に対して０．５～１０質量％程度としうる。
　平滑層Ｆの厚みは、例えば０．０１～１μｍとすることができる。平滑層Ｆの厚みが０．０１μｍ以上であると、光吸収層Ａの表面平滑性を十分に高めやすい。
　アンカー層Ｇの厚みは、例えば０．０１～３μｍとすることができる。アンカー層Ｇの厚みが０．０１μｍ以上であると、透明基材層Ｅと金属反射層Ｂとの密着性を十分に高めやすい。アンカー層Ｇの厚みが３μｍ以下であると、アンカー層Ｇの膜厚均一性が損なわれにくい。アンカー層Ｇの厚みは、０．１～１μｍであることが好ましい。
　１－５．積層構造
　本発明の光反射フィルムに含まれる低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄは、それぞれ１つであってもよいし、複数あってもよい。複数の低屈折率層Ｃは、互いに同じであっても異なってもよい。複数の高屈折率層Ｄは、互いに同じであっても異なってもよい。金属反射層Ｂ側から、低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄがこの順序で合計２ｍ層（ｍは１以上の整数）積層されていればよい。
　本発明の光反射フィルムの積層構造の例には、以下の態様が含まれる。以下の態様において、Ａは光吸収層Ａであり、Ｂは金属反射層Ｂであり、Ｃは低屈折率層Ｃであり、Ｄは高屈折率層Ｄであり、Ｅは透明基材層Ｅであり、Ｆは平滑層Ｆであり、Ｇはアンカー層Ｇである。
　Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄ
　Ａ／Ｆ／Ｂ／Ｃ／Ｄ
　Ａ／Ｅ／Ｂ／Ｃ／Ｄ
　Ａ／粘着剤層／Ｅ／Ｂ／Ｃ／Ｄ
　Ａ／粘着剤層／Ｅ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｄ
　Ａ／粘着剤層／Ｅ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｄ
　Ａ／粘着剤層／Ｅ／Ｇ／Ｂ／Ｃ／Ｄ
　「Ｃ／Ｄ」の繰り返し数ｍは、求められる反射率にもよるが、例えば１～１０であり、１～５であることが好ましく、１又は２であることがより好ましい。増反射膜として十分に機能させる点では、低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄとは互いに接していることが好ましい。
　図１～３は、本発明の光反射フィルムの一例を示す模式図である。光反射フィルム１０は、透明基材層Ｅ１１、金属反射層Ｂ１３、低屈折率層Ｃ１５及び高屈折率層Ｄ１７をこの順に含み、透明基材層Ｅ１１の金属反射層Ｂ１３が配置された面とは反対側の面に、粘着剤層２１を介して配置された光吸収層Ａ１９をさらに含む（図１参照）。光吸収層Ａ１９は、透明基材層Ｅ１１上に粘着剤層２１を介して貼り合わされた黒色樹脂フィルムでありうる。
　光反射フィルム１０’は、透明基材層Ｅ１１、金属反射層Ｂ１３、低屈折率層Ｃ１５及び高屈折率層Ｄ１７をこの順に含み、透明基材層Ｅ１１の金属反射層Ｂ１３が配置された面とは反対側の面に配置された光吸収層Ａ１９’をさらに含む（図２参照）。光吸収層Ａ１９’は、例えば透明基材層Ｅ１１の金属反射層Ｂが配置されていない面に形成された塗布層でありうる。
　光反射フィルム１０''は、光吸収層Ａ１９、平滑層Ｆ２３、金属反射層Ｂ１３、低屈折率層Ｃ１５及び高屈折率層Ｄ１７をこの順に含みうる（図３参照）。光吸収層Ａ１９は、例えば黒色樹脂フィルムでありうる。
　中でも、光反射フィルムの製造過程で、光吸収層Ａに熱に曝されにくいことから、図１及び図２の態様が好ましく、図１の態様がより好ましい。
　１－６．物性
　（平均反射率）
　本発明の光反射フィルムの、波長４３０ｎｍ～４７０ｎｍの平均反射率Ｒ２は、波長５６０ｎｍ～６００ｎｍの平均反射率Ｒ３よりも高いことが好ましい。具体的には、平均反射率の差（Ｒ２－Ｒ３）は、０．２以上であることが好ましく、０．４以上であることがより好ましい。このような光反射フィルムは、青色光領域での反射率が高いため、例えば液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルムとして好適である。
　光反射フィルムの平均反射率は、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ－４１００（固体試料測定システム）を用いて、入射角５°の条件で測定することができる。
　（色度）
　本発明の光反射フィルムの、ＣＩＥ１９３１表色系における色度Ｘ及びＹが、いずれも０．３３以下であることが好ましく、０．３以下であることがより好ましい。色度Ｘ及びＹが上記範囲にあると、光反射フィルムの反射光の色が青色寄りとなるからである。
　光反射フィルムの青色光領域での反射率や高める（色味を青色寄りにする）ためには、金属反射層Ｂの一方の面に低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄを積層し、且つ他方の面に光吸収層Ａを積層することが好ましい。
　本発明の光反射フィルムの厚みは、例えば１０～４００μｍとすることができ、１０～１００μｍであることが好ましく、２０～８０μｍであることがより好ましく、３０～７０μｍであることがさらに好ましい。
　２．光反射フィルムの製造方法
　本発明の光反射フィルムは、任意の方法で製造されてよく、例えば光吸収層Ａ上に、金属反射層Ｂ、低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄを順次積層して製造されてもよいし（方法１）；透明基材層Ｅの一方の面に、金属反射層Ｂ、低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄを順次積層した後、透明基材層Ｅの他方の面に光吸収層Ａをさらに積層して製造されてもよい（方法２）。
　中でも、光吸収層Ａに熱履歴を経ないようにする点から、方法２が好ましい。即ち、本発明の光反射フィルムは、１）透明基材層Ｅの一方の面に、金属反射層Ｂ、低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄがこの順に積層された積層物を得る工程と、２）透明基材層Ｅの他方の面に、光吸収層Ａを積層する工程とを経て製造されうる。
　２－１．１）の工程について
　透明基材層Ｅの一方の面に、金属反射層Ｂ、低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄを順次積層して、積層物を得る。
　金属反射層Ｂの形成は、湿式法又は乾式法により行うことができる。湿式法は、溶液から金属を析出させて膜を形成するめっき法であり、その具体例には銀鏡反応法が含まれる。乾式法は、真空製膜法であり、その具体例には抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法及びスパッタ法が含まれる。中でも、製造効率の点から乾式法が好ましく、連続的な製膜方式であるロール・トゥ・ロールでの製膜が可能である点から、真空蒸着法がより好ましい。
　透明基材層Ｅと金属反射層Ｂとの密着性を高めるために、金属反射層Ｂを形成する前に、透明基材層Ｅの表面にコロナ処理やイオンコート処理等の表面処理を施してもよい。透明基材層Ｅの表面に、アンカー層Ｇをさらに形成してもよい。
　低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄの形成は、乾式法又は湿式法により行うことができる。樹脂を主成分とする低屈折率層Ｃや高屈折率層Ｄは、湿式法で形成されることが好ましく；無機材料を主成分とする低屈折率層Ｃや高屈折率層Ｄは、乾式法で形成されることが好ましい。
　乾式法では、前述の低屈折率層Ｃや高屈折率層Ｄを構成する材料を、前述と同様の真空製膜法にて製膜して、低屈折率層Ｃ又は高屈折率層Ｄを形成する。真空製膜法は、連続的な製膜が可能である点から、真空蒸着法であることが好ましい。
　湿式法では、例えば前述の低屈折率層Ｃや高屈折率層Ｄを構成する樹脂組成物を塗布した後、硬化させて、当該樹脂組成物の硬化物からなる低屈折率層Ｃ又は高屈折率層Ｄを形成する。
　樹脂組成物は、前述の硬化性樹脂と、硬化剤とを含み、必要に応じて溶剤をさらに含んでもよい。硬化剤の例には、ポリイソシアネートやエポキシ化合物、メラミン系樹脂等が含まれる。硬化剤の含有量は、前述の硬化性樹脂に対して０．１～１５質量％程度としうる。溶剤は、前述の樹脂を良好に分散できるものであればよく、例えば非プロトン性溶剤であることが好ましい。非プロトン性溶剤の例には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素溶媒；塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類等が含まれる。
　樹脂組成物の塗布は、例えばグラビアコート法、スピンコート法及びバーコート法等により行うことができる。硬化は、光硬化又は熱硬化であり、十分な硬化が可能である点では熱硬化が好ましい。
　２－２．２）の工程について
　得られた積層物の透明基材層Ｅの他方の面に、光吸収層Ａを積層して光反射フィルムを得る。
　光吸収層Ａの積層は、透明基材層Ｅの他方の面に、粘着剤を介して光吸収性を有する樹脂フィルムを貼り合わせて行ってもよいし（方法α）；光吸収性を有する樹脂組成物又は粘着剤組成物を塗布した後、乾燥及び必要に応じて硬化させて行ってもよい（方法β）。
　光吸収性を有する樹脂組成物は、前述の光吸収性物質と、樹脂（好ましくは硬化性樹脂）とを含み、必要に応じて溶剤や硬化剤をさらに含みうる。溶剤は、前述と同様のものを用いることができる。硬化剤は、特に制限されず、脂肪族ポリイソシアネート等が含まれる。光吸収性を有する粘着剤組成物は、前述の光吸収性物質と、粘着剤と、硬化剤とをさらに含みうる。
　中でも、加熱しなくても光吸収層Ａの積層が可能であることから、光吸収層Ａの積層は、透明基材層Ｅの他方の面に、粘着剤を介して光吸収性樹脂フィルムを貼り合わせて行うことが好ましい。
　３．光反射フィルムの用途
　本発明の光反射フィルムは、各種用途の反射部材、例えば液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルム、プロジェクションテレビの反射鏡及びランプリフレクター等として用いることができる。中でも、本発明の光反射フィルムは、良好な反射率と耐久性を有する点から、液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルムとして好ましく用いられる。
　（液晶表示装置用バックライトユニット）
　液晶表示装置用バックライトユニットは、光源と、本発明の光反射フィルムとを含む。本発明の光反射フィルムは、その高屈折率層（Ｄ）が、光源又は導光板の裏面（液晶表示パネルと対向しない面）と対向するように配置される。
　光源の例には、冷陰極管（ＣＣＦＬ）、熱陰極管（ＨＣＦＬ）、外部電極蛍光管（ＥＥＦＬ）、平面蛍光管（ＦＦＬ）、発光ダイオード素子（ＬＥＤ）、及び有機エレクトロルミネッセンス素子（ＯＬＥＤ）等が含まれる。中でも、冷陰極管（ＣＣＦＬ）や発光ダイオード素子（ＬＥＤ）が好ましい。
　液晶表示装置用バックライトユニットは、他の光学フィルムをさらに含んでもよい。他の光学フィルムの例には、光拡散フィルムやプリズムフィルムが含まれる。光拡散フィルムの例には、フィラーやビーズ含有のバインダーを塗装した拡散フィルムが含まれる。
　液晶表示装置用バックライトユニットは、直下型のバックライトユニットであってもよいし、サイドエッジ型のバックライトユニットであってもよい。中・小型の液晶表示装置に適することから、サイドエッジ型のバックライトユニットが好ましい。
　サイドエッジ型のバックライトユニットは、光源と、それと隣接して配置される導光板と、導光板の裏面側に配置される光反射フィルムとを含み、必要に応じて他の光学フィルムをさらに含んでもよい。サイドエッジ型のバックライトユニットの態様の一例には、後述する図４に示されるバックライトユニット５０が含まれる。
　（液晶表示装置）
　本発明の液晶表示装置は、液晶表示パネルと、バックライトユニットとを含む。図４は、本発明の液晶表示装置の一例を示す断面図である。同図は、サイドエッジ型のバックライトユニットを用いた場合の一例である。図４に示されるように、液晶表示装置３０は、液晶表示パネル４０と、サイドエッジ型のバックライトユニット５０とを含む。
　液晶表示パネル４０は、液晶セル４１と、それを挟持する一対の偏光板４３及び４５とを含む。液晶セル４１の表示方式は、特に制限されず、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）やＩＰＳ等の種々の表示モードでありうる。偏光板４３及び４５は、それぞれ偏光子と、その少なくとも一方の面に配置された保護フィルムとを含む。
　サイドエッジ型のバックライトユニット５０は、棒状の光源５１と、側端部が光源５１と隣接するように配置された導光板５３と、導光板５３の裏面側に配置された光反射フィルム１０と、導光板５３の表面側に配置された複数の光学フィルム５５とを含む。
　光源５１は、ランプリフレクター５２で覆われている。複数の光学フィルム５５は、図４の態様に限定されず、光学フィルム５５がなくてもよいし、光学フィルムの組み合わせや枚数を変更してもよい。
　サイドエッジ型のバックライトユニット５０では、光源５１から発せられた光が導光板５３の内部を伝播する。導光板５３から出た光の一部は、光反射フィルム１０で反射され、導光板５３の表面側（液晶表示パネル４０側）に出射される。導光板５３の表面側に出射した光は、光拡散フィルム５７で拡散され、プリズムフィルム５９で屈折されて、液晶表示パネル４０の全面に入射される。
　光反射フィルム１０は、高い反射率を有することから、それを含む液晶表示装置３０は、高い光利用効率を有しうる。
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　＜実施例１＞
　（積層フィルムの作製）
　透明基材層Ｅとして、厚み２５μｍの透明ポリエステルフィルム（東洋紡社製Ａ４１００）を準備した。この透明ポリエステルフィルムの一方の面に、銀（Ａｇ）を真空蒸着して、厚み１１０ｎｍの金属反射層Ｂを形成した。次いで、金属反射層Ｂ上に、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を真空蒸着して、厚み５０ｎｍの低屈折率層Ｃを形成した。次いで、低屈折率層Ｃ上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）を真空蒸着して、厚み５０ｎｍの高屈折率層Ｄを形成し、積層フィルムを得た。
　（光吸収層Ａ用樹脂組成物の調製）
　樹脂としてダイヤナールＢＲ－６０８（三菱レイヨン（株）製）を３質量％含むメチルエチルケトン溶液に、黒色顔料としてカーボンブラック〔三菱化学（株）製、品番：ＭＡ１００〕（不揮発分中のカーボンブラック濃度：４０質量％）をダイヤナール樹脂固形分に対して２質量％添加し、ペイントシェーカーで１時間分散させて分散液を得た。得られた分散液に、架橋剤として脂肪族ポリイソシアネート（ビューレット変性ポリイソシアネート）〔住化バイエルウレタン（株）製、商品名：デスモジュール（登録商標）Ｎ３２００〕をダイヤナール樹脂固形分に対して５質量％〔分散液中のアクリル系重合体の水酸基／脂肪族系ポリイソシアネートのイソシアネート基（当量比）：１／１〕添加し、黒色塗料組成物（光吸収層Ａ用樹脂組成物）を調製した。
　（光反射フィルムの作製）
　上記作製した積層フィルムの、透明基材層Ｅの他方の面に、上記作製した黒色塗料組成物をグラビアコータで塗布した後、１２０℃で３分間、次いで４０℃で２日間乾燥させて、厚み１０μｍの光吸収層Ａを形成した。それにより、光吸収層Ａ／透明基材層Ｅ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜実施例２＞
　（平滑層Ｆ用樹脂組成物の調製）
　メラン２６５０Ｌ（イソブチルアルコール変性メラミン樹脂、日立化成工業社製）を３０質量％含むイソブチアルコール溶液を調製した。
　（光反射フィルムの作製）
　光吸収層Ａとして、厚み３８μｍの黒色樹脂フィルム（東レ社製ルミラーＸ３０）を準備した。この黒色樹脂フィルム上に、上記調製した平滑層Ｆ用組成物をグラビアコータで塗布した後、１００℃で１分間乾燥させて、厚み０．５μｍの平滑層Ｆを形成した。次いで、平滑層Ｆ上に、銀（Ａｇ）を真空蒸着して、厚み１２０ｎｍの金属反射層Ｂを形成した。次いで、金属反射層Ｂ上に、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を真空蒸着して、厚み５０ｎｍの低屈折率層Ｃを形成した。そして、低屈折率層Ｃ上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）を真空蒸着して、厚み５０ｎｍの高屈折率層Ｄを形成した。それにより、光吸収層Ａ／平滑層Ｆ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜実施例３＞
　実施例１と同様にして、透明基材層Ｅ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された積層フィルムを得た。
　一方、光吸収層Ａとして、厚み３８μｍの黒色樹脂フィルム（東レ社製ルミラーＸ３０）を準備した。この黒色樹脂フィルムの片面に、アクリル系粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業社製）を塗布した後、９０℃で１分間乾燥させて、厚み５μｍの粘着剤層を形成した。この粘着剤層付き黒色樹脂フィルムを、その粘着剤層が上記積層フィルムの透明基材層Ｅの金属反射層Ｂが形成されていない面と接するように貼り合わせて、光吸収層Ａを形成した。それにより、光吸収層Ａ／粘着剤層／透明基材層Ｅ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜実施例４＞
　（低屈折率層Ｃ用樹脂組成物の調製）
　樹脂としてダイヤナールＢＲ－６０８（三菱レイヨン（株）製）を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）に３質量％となるように溶解させた後、化合物Ｍとして１－フェニル－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール（ＰＭＴ、東洋紡社製、下記式参照）を、ダイヤナール固形分に対して５質量％となるように添加し、硬化剤としてコロネートＨＸを樹脂固形分（ダイヤナール固形分）に対して１質量％となるように添加し、混合して低屈折率層Ｃ用樹脂組成物を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　（アンカー層Ｇ用樹脂組成物の調製）
　実施例２で調製した平滑層Ｆ用組成物に、化合物Ｍとして１－フェニル－５－メルカプト－１Ｈ－テトラゾール（ＰＭＴ、東洋紡社製）をダイヤナール固形分に対して１．５質量％となるように添加して、アンカー層Ｇ用組成物を調製した。
　（光反射フィルムの作製）
　透明基材層Ｅとして、厚み２５μｍの透明ポリエステルフィルム（東洋紡社製Ａ４１００）を準備した。この透明ポリエステルフィルムの一方の面に、上記調製したアンカー層用コーティング液を塗布した後、乾燥させて、厚み０．１μｍのアンカー層Ｇを形成した。このアンカー層Ｇ上に、銀（Ａｇ）を真空蒸着して、厚み１２０ｎｍの金属反射層Ｂを形成した。次いで、金属反射層Ｂ上に、上記調製した低屈折率層Ｃ用樹脂組成物を塗布した後、９０℃１分間乾燥させて、厚み４０ｎｍの低屈折率層Ｃを形成した。次いで、低屈折率層Ｃ上に、硫化亜鉛（ＺｎＳ）を真空蒸着して、厚み４５ｎｍの高屈折率層Ｄを形成し、積層フィルムを得た。
　得られた積層フィルムの透明基材層Ｅの他方の面に、厚み３８μｍの黒色樹脂フィルム（東レ社製ルミラーＸ３０）を、粘着剤を介して貼り合わせた。それにより、光吸収層Ａ／粘着剤層／透明基材層Ｅ／アンカー層Ｇ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜実施例５＞
　金属反射層Ｂ上に、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を真空蒸着して、厚み５０ｎｍの低屈折率層Ｃを形成した以外は実施例４と同様の方法で、光吸収層Ａ／粘着剤層／透明基材層Ｅ／アンカー層Ｇ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜実施例６＞
　低屈折率層Ｃ上に、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）を真空蒸着して、厚み４５ｎｍの高屈折率層Ｄを形成した以外は実施例４と同様の方法で、光吸収層（Ａ）／粘着剤層／透明基材層Ｅ／アンカー層Ｇ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜実施例７＞
　（低屈折率層Ｃ用樹脂組成物の調製）
　パーヒドロポリシラザン（アクアミカ　ＮＮ１２０－１０、無触媒タイプ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製）１０質量部と、ジブチルエーテル９０質量部とを混合して、低屈折率層Ｃ用樹脂組成物を調製した。
　（積層フィルムの作製）
　得られた低屈折率層Ｃ用樹脂組成物を用いて低屈折率層Ｃを形成した以外は実施例４と同様にして、透明基材層Ｅ／アンカー層Ｇ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された積層フィルムを得た。
　＜実施例８＞
　（光吸収層Ａ用粘着剤組成物の調製）
　粘着剤エスダイン＃７８５１（積水化学工業（株）製）に、黒色顔料としてカーボンブラック〔三菱化学（株）製、品番：ＭＡ１００〕を５質量％となるように添加して、黒色粘着剤（光吸収層Ａ用粘着剤組成物）を調製した。
　（光反射フィルムの作製）
　上記調製した黒色粘着剤を、厚み５０μｍの透明ポリエステルフィルム上に塗布した後、乾燥させて、厚み５μｍの黒色粘着剤層（光吸収層Ａ）を形成した。そして、黒色粘着剤層付き透明ポリエステルフィルムを、その黒色粘着剤層を、実施例４で得た積層フィルムの透明基材層Ｅの他方の面と接するように貼りあわせて、透明ポリエステルフィルム／黒色粘着剤層（光吸収層Ａ）／透明基材層Ｅ／アンカー層Ｇ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄ）がこの順に積層された光反射フィルムを作製した。
　＜比較例１＞
　実施例１と同様にして、透明基材層Ｅ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された積層フィルムを得た。
　厚み３８μｍの白色樹脂フィルム（東レ社製ルミラーＥ２０）の片面に、アクリル系粘着剤である積水化学工業製エスダイン＃７８５１を塗布した後、９０℃で１分間乾燥させて、厚み５μｍの粘着剤層を形成した。そして、得られた白色樹脂フィルム上の粘着剤層と、上記積層フィルムの、透明基材層Ｅの金属反射層Ｂが形成されていない面とを貼り合わせた。それにより、白色樹脂フィルム／粘着剤層／透明基材層Ｅ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜比較例２＞
　透明基材層Ｅとして、厚み２５μｍの透明ポリエステルフィルム（東洋紡社製Ａ４１００）を、紫外線吸収剤を含む、厚み２５μｍの透明ポリエステルフィルム（帝人デュポンフィルム社製ＨＢ３）に変更した以外は比較例１と同様にして、白色樹脂フィルム／粘着剤層／透明基材層Ｅ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　＜比較例３＞
　粘着剤層付き白色樹脂フィルムを貼り合わせなかった以外は比較例１と同様にして、透明基材層Ｅ／金属反射層Ｂ／低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄがこの順に積層された光反射フィルムを得た。
　各実施例／比較例で用いた、光吸収層Ａの光反射率、透明基材層Ｅの光透過率、低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄの屈折率を、それぞれ以下の方法で測定した。
　（１）光吸収層Ａの平均反射率
　光吸収層Ａがフィルムである場合は、当該フィルムの波長３６０～４００ｎｍの光の平均反射率を、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ－４１００（固体試料測定システム）を用いて、入射角５°の条件で測定した。
　光吸収層Ａが塗布層である場合は、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に、厚み１μｍの塗布層を形成したものをサンプルとし、当該サンプルの波長３６０～４００ｎｍの光の平均反射率を前述と同様にして測定した。さらに、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材単独の波長３６０～４００ｎｍの光の平均反射率を前述と同様にして測定した。そして、サンプルの平均反射率から基材単独の平均反射率を差し引いて、光吸収層Ａの平均反射率を求めた。
　（２）透明基材層Ｅの平均透過率
　透明基材層Ｅの波長３６０～４００ｎｍの光の平均透過率は、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ－４１００（固体試料測定システム）を用いて、積分球の開口部前にサンプルを配置する条件で測定した。
　（３）低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄの屈折率
　厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に、厚み５０ｎｍの低屈折率層Ｃを真空蒸着又は塗布形成して、屈折率測定用サンプル１を得た。同様にして、厚み１００μｍのＰＥＴ基材上に、厚み５０ｎｍの高屈折率層Ｄを真空蒸着又は塗布形成して、屈折率測定用サンプル２を得た。これらのサンプル１及び２の波長５００ｎｍの光の屈折率を、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いてそれぞれ測定した。
　また、各実施例／比較例で得られた光反射フィルムの、反射率、輝度及び色度（初期と耐久後）、耐候性及び黒色再現性を、それぞれ以下の方法で評価した。
　（１）平均反射率
　得られた光反射フィルムの波長４３０～４７０ｎｍの光の平均反射率、及び波長５６０～６００ｎｍの光の平均反射率を、それぞれ日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ－４１００（固体試料測定システム）を用いて、入射角５°の条件で測定した。
　（２）輝度・色度
　（初期）
　液晶表示装置（商品名：ＬＣ－３７ＧＸ１Ｗ、シャープ製）からバックライトユニットを取り出し、当該バックライトユニットの光反射フィルムを、上記作製した光反射フィルムに取り換えた。得られたバックライトユニットの光反射フィルムが配置された面とは反対側で、且つ光反射フィルムからの高さが２００ｍｍの位置に、輝度計（コニカミノルタ社製、製品名「ＣＳ－２０００」）を設置し、面光源装置中央部を平行に配列された光源の垂直方向に横断する形で、端から端まで０．６ｍｍ間隔で三刺激値Ｙ（輝度）[ｃｄ／ｍ２]、及びＣＩＥ１９３１表色系における色度ｘとｙを測定した。これらの値の測定は、２５℃で行った。また、輝度の値は大きいほど好ましく、色度の値は小さいほど好ましい。
　（耐久試験後）
　上記作製した光反射フィルムを、６０℃９０％ＲＨの環境下で５００時間静置した。その後、得られた光反射フィルムを、上記バックライトユニットに備え付けられていた光反射フィルムと取り換えた。得られたバックライトユニットの、光反射フィルムの上方２００ｍｍの位置から、前述と同様にして、三刺激値Ｙ（輝度）[ｃｄ／ｍ２]、及び色度ＸとＹを測定した。
　（３）耐候性（キセノン照射後の引張試験）
　１）上記作製した光反射フィルムを１ｃｍ×５ｃｍの短冊状に切り出した。この試料を、株式会社エー・アンド・デイ製のテンシロン万能材料試験機、ＲＴＦ－２４３０を用いて、５０ｍｍ／分の速さで引っ張り試験を行い、破断時の破断強度（ＭＰａ）を測定した。
　２）次いで、光反射フィルムを、８５℃８５％ＲＨの環境下で３０日間放置した。その後、光反射フィルムの光入射面（高屈折率層Ｄ側の面）に、スガ試験機ＳＸ７５を用いて、キセノンランプを、ブラックパネル温度６３℃、相対湿度５０％の環境下で放射強度１８０Ｗ／ｍ２、５００時間の条件で照射し、耐候試験を実施した。そして、耐候試験後の光反射フィルムの破断強度（ＭＰａ）を、前記１）と同様にして測定した。
　３）前記１）で得られた初期の破断強度と、前記２）で得られた耐候試験後の破断強度とを、下記式に当てはめて、破断強度の低下率を求めた。そして、低下率に基づいて、耐候性を以下の５段階で評価した。
　破断強度の低下率（％）＝｛（初期の破断強度－耐候試験後の破断強度）／初期の破断強度｝×１００
　５：破断強度の低下率が１０％未満
　４：破断強度の低下率が１０％以上２０％未満
　３：破断強度の低下率が２０％以上３０％未満
　２：破断強度の低下率が３０％以上４０％未満
　１：破断強度の低下率が４０％以上５０％未満
　（４）黒色再現性
　液晶ディスプレイ（商品名：ＬＣ－３７ＧＸ１Ｗ、シャープ製）のバックライトユニットの導光板の下面に貼られていた光反射フィルムを剥がし取り、上記作製した光反射フィルムを、その側端部に０．５ｍｍ幅で厚み４０μｍの黒色粘着テープを介して導光板の下面に貼り付けて、液晶表示装置を作製した。
　そして、液晶表示装置を白表示及び黒表示させたときの輝度を、それぞれ超低輝度分光放射計（ＳＲ－ＵＬ２、トプコンテクノハウス製）にて測定した。得られた黒表示時の輝度（ｃｄ／ｍ２）と白表示時の輝度（ｃｄ／ｍ２）を下記式に当てはめて、コントラストを算出した。
　コントラスト＝白表示時の輝度／黒表示時の輝度コントラストの数字が大きければ大きいほど黒色再現性が高いことを示す。
　各実施例／比較例で作製した光反射フィルムの層構成及び各層の物性を表１に示し；光反射フィルムの評価結果を表２に示す。表１において、最も右側に記載した層の表面が光入射面となる。また、図５は、Essential Macleodによる光反射フィルムの反射率スペクトルのシミュレーション結果を示すグラフである。図５において、太実線は実施例３の光反射フィルムのスペクトルを示し；細実線は、比較例１の光反射フィルムのスペクトルを示し；点線は、低屈折率層／高屈折率層を積層しなかった以外は実施例３と同様の構成を有する参考例の光反射フィルムのスペクトルを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　表２に示されるように、金属反射層Ｂの裏面（光入射側とは反対側の面）に光吸収層Ａを有する実施例１～８の光反射フィルムは、青色光領域（波長４３０～４７０ｎｍ）での平均反射率が高く、色度も０．３１以下であり、十分な青色味が得られることがわかる（図５の実施例３のスペクトル参照）。また、実施例１～８の光反射フィルムは、白色フィルムを含まないことから、耐候性も高いことが示される。
　これに対して、光吸収層Ａに代えて白色樹脂フィルムを有する比較例１及び２の光反射フィルム、及び白色樹脂フィルムも黒色樹脂フィルムも有しない比較例３の光反射フィルムは、いずれも青色光領域（波長４３０～４７０ｎｍ）での平均反射率が低く、色度も０．３５以上であり、十分な青色味が得られないことがわかる（図５の比較例１のスペクトル参照）。また、比較例１及び２の光反射フィルムは、白色樹脂フィルムを含むことから、耐候性も低いことが示される。
　実施例１～８の中でも、金属反射層Ｂの支持体と光吸収層Ａとを別部材とした実施例３～８の光反射フィルムは、金属反射層Ｂの支持体と光吸収層Ａとを同一部材とした実施例１の光反射フィルムよりも、耐候性や黒色再現性が高いことが示される。これは、金属反射層Ｂの支持体と光吸収層Ａとを別部材とすることで、光吸収層Ａからのカーボンブラックの析出によって金属反射層Ｂの膜厚均一性が損なわれにくいためであると推測される。
　また、実施例４と５の対比から、低屈折率層Ｃを「チオール基を含有する化合物を含む樹脂層」とすることで、「酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の蒸着膜」とするよりもさらに耐久後の色味を良好に維持できることが示される。
　また、実施例４と６の対比から、高屈折率層Ｄを「金属硫化物」とすることで、「金属酸化物」とするよりもさらに耐久後の色味を良好に維持できることが示される。
　本出願は、２０１５年９月１５日出願の特願２０１５－１８１９４７に基づく優先権を主張する。当該出願明細書及び図面に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。
　１０、１０’、１０''　光反射フィルム
　１１　透明基材層（Ｅ）
　１３　金属反射層（Ｂ）
　１５　低屈折率層（Ｃ）
　１７　高屈折率層（Ｄ）
　１９、１９’　光吸収層（Ａ）
　２１　粘着剤層
　２３　平滑層（Ｆ）
　３０　液晶表示装置
　４０　液晶表示パネル
　４１　液晶セル
　４３、４５　偏光板
　５０　サイドエッジ型のバックライトユニット
　５１　光源
　５２　ランプリフレクター
　５３　導光板
　５５　光学フィルム
　５７　光拡散フィルム
　５９　プリズムフィルム

Claims (9)

  1. 　波長３６０～４００ｎｍの光の平均透過率が１５％以下であり、且つ波長３６０～４００ｎｍの光の平均反射率が１０％以下である光吸収層Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃと、前記低屈折率層Ｃよりも波長５００ｎｍの光の屈折率が高い高屈折率層Ｄとをこの順に含み、
    　前記高屈折率層Ｄに入射角５°で光を入射させたときの、波長４３０ｎｍ～４７０ｎｍの平均反射率Ｒ２が、波長５６０ｎｍ～６００ｎｍの平均反射率Ｒ３よりも大きい、光反射フィルム。
  2. 　前記光吸収層Ａと前記金属反射層Ｂとの間に配置された透明基材層Ｅをさらに含む、請求項１に記載の光反射フィルム。
  3. 　前記透明基材層Ｅの波長３６０～４００ｎｍの光の平均透過率が８０％以上である、請求項２に記載の光反射フィルム。
  4. 　前記光吸収層Ａは、前記透明基材層Ｅと粘着剤層を介して配置された光吸収性樹脂フィルムである、請求項２又は３に記載の光反射フィルム。
  5. 　前記光吸収層Ａは、黒色樹脂層である、請求項１～４のいずれか一項に記載の光反射フィルム。
  6. 　前記金属反射層Ｂは、銀又はその合金を主成分とする蒸着膜である、請求項１～５のいずれか一項に記載の光反射フィルム。
  7. 　前記低屈折率層Ｃは、チオール基を有する化合物を含む樹脂層である、請求項１～６のいずれか一項に記載の光反射フィルム。
  8. 　前記高屈折率層Ｄは、金属硫化物を主成分とする蒸着膜である、請求項１～７のいずれか一項に記載の光反射フィルム。
  9. 　光源と、請求項１～８のいずれか一項に記載の光反射フィルムとを含む、液晶表示装置用バックライトユニット。
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