RU2016103250A - СЛОИ TiB2 И ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЕ - Google Patents

СЛОИ TiB2 И ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЕ Download PDF

Info

Publication number
RU2016103250A
RU2016103250A RU2016103250A RU2016103250A RU2016103250A RU 2016103250 A RU2016103250 A RU 2016103250A RU 2016103250 A RU2016103250 A RU 2016103250A RU 2016103250 A RU2016103250 A RU 2016103250A RU 2016103250 A RU2016103250 A RU 2016103250A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
tib
product
layer
targets
power
Prior art date
Application number
RU2016103250A
Other languages
English (en)
Inventor
Денис КУРАПОВ
Зигфрид КРАССНИТЦЕР
Original Assignee
Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах filed Critical Эрликон Серфиз Солюшнз Аг, Трюббах
Publication of RU2016103250A publication Critical patent/RU2016103250A/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/067Borides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3464Sputtering using more than one target
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/3426Material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Claims (13)

1. Способ покрытия по меньшей мере одного изделия содержащим TiB2 слоем со следующими этапами:
- помещают подлежащее покрытию изделие в напылительную камеру,
- осаждают содержащий TiB2 слой посредством процесса нереактивного распыления в содержащей рабочий газ атмосфере путем воздействия на мишени TiB2, отличающийся тем, что воздействуют на по меньшей мере две мишени TiB2 с такой мощностью источника питания постоянного тока, что время от времени удельная мощность приводит к локальной плотности тока на мишенях более чем 0,2 А/см2, при этом мишени должны работать при осредненной по времени мощности не более чем 10 кВт.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что мощность источника питания постоянного тока составляет более чем 20 кВт.
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что на шероховатость содержащего TiB2 слоя влияют регулировкой парциального давления рабочего газа.
4. Способ по п. 3, отличающийся тем, что при распылении по меньшей мере некоторое время поддерживают парциальное давление рабочего газа не более чем 0,2 Па, предпочтительно не более чем 0,4 Па, а особо предпочтительно не более чем 0,75 Па.
5. Способ по п. 4, отличающийся тем, что рабочий газ содержит по меньшей мере аргон.
6. Изделие с покрытием, которое включает в себя по меньшей мере один содержащий TiB2 слой, отличающееся тем, что содержащий TiB2 слой получен согласно одному из предшествующих пп. 1-5, и содержащий TiB2 слой имеет более высокую плотность по сравнению со слоями, полученными посредством традиционного процесса распыления.
7. Изделие с покрытием по п. 6, отличающееся тем, что содержащий TiB2 слой имеет твердость по меньшей мере 50 ГПа.
8. Изделие с покрытием по п. 6 или 7, отличающееся тем, что слой TiB2 имеет текстуру, которая дает характерные пики на рентгеновском дифракционном спектре, которые демонстрируют
выраженную ориентацию (001).
9. Изделие с покрытием по одному из предшествующих пп. 6-8, отличающееся тем, что поверхность изделия сразу после нанесения покрытия имеет значения шероховатости Ra, которые составляют не более 0,14 мкм, предпочтительно не более 0,115 мкм, а особо предпочтительно не более 0,095 мкм, если вычесть вклад непокрытой поверхности изделия.
10. Изделие по одному из пп. 6-9, отличающееся тем, что поверхность изделия сразу после нанесения покрытия имеет значения шероховатости Rz, которые составляют не более 0,115 мкм, предпочтительно не более 0,095 мкм, а особо предпочтительно не более 0,05 мкм, если вычесть вклад непокрытой поверхности изделия.
RU2016103250A 2013-07-03 2014-06-30 СЛОИ TiB2 И ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЕ RU2016103250A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013011075.0 2013-07-03
DE102013011075.0A DE102013011075A1 (de) 2013-07-03 2013-07-03 TiB2 Schichten und ihre Herstellung
PCT/EP2014/001781 WO2015000576A1 (de) 2013-07-03 2014-06-30 Tib2 schichten und ihre herstellung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2016103250A true RU2016103250A (ru) 2017-08-09

Family

ID=51063397

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016103250A RU2016103250A (ru) 2013-07-03 2014-06-30 СЛОИ TiB2 И ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЕ

Country Status (17)

Country Link
US (1) US10378095B2 (ru)
EP (1) EP3017078B1 (ru)
JP (1) JP6561048B2 (ru)
KR (1) KR102234455B1 (ru)
CN (1) CN105492652B (ru)
BR (1) BR112015032908B1 (ru)
CA (1) CA2916769C (ru)
DE (1) DE102013011075A1 (ru)
HU (1) HUE053539T2 (ru)
IL (1) IL243433B (ru)
MX (1) MX2016000044A (ru)
MY (1) MY186024A (ru)
PH (1) PH12015502841A1 (ru)
PL (1) PL3017078T3 (ru)
RU (1) RU2016103250A (ru)
SG (1) SG11201510769SA (ru)
WO (1) WO2015000576A1 (ru)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105755440B (zh) * 2016-04-19 2019-04-02 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种耐海水腐蚀的硬质涂层及其制备方法
CN108251803B (zh) * 2016-12-29 2020-06-02 深圳先进技术研究院 TiB2自润滑涂层及其制备方法和耐磨构件
CN107740043B (zh) * 2017-10-25 2019-08-23 深圳先进技术研究院 掺杂CaF2的TiB2涂层、CaF2和TiB2复合涂层、其制备方法和应用及刀具
CN109136608B (zh) * 2018-08-22 2020-06-09 北京理工大学 一种取向可控的TiB晶须增强钛基复合材料的制备方法
CN110484881B (zh) * 2019-08-15 2021-09-07 广东工业大学 一种致密二硼化钛涂层及其制备方法和应用
CN112359395B (zh) * 2020-10-15 2021-09-24 安徽工业大学 一种金属硼化物涂层的制备方法
CN113981369A (zh) * 2021-10-28 2022-01-28 赣州澳克泰工具技术有限公司 多层涂层系统及其制备方法
CN115612984B (zh) * 2022-09-09 2024-09-20 中国科学院金属研究所 一种应力和结构梯度的二硼化钛涂层及其制备方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4820392A (en) 1987-12-21 1989-04-11 Ford Motor Company Method of increasing useful life of tool steel cutting tools
FR2744461B1 (fr) * 1996-02-01 1998-05-22 Tecmachine Nitrure de titane dope par du bore, revetement de substrat a base de ce nouveau compose, possedant une durete elevee et permettant une tres bonne resistance a l'usure, et pieces comportant un tel revetement
US5945214C1 (en) * 1996-08-28 2002-04-23 Premark Rwp Holdings Inc Diboride coated pressing surfaces for abrasion resistant laminate and making pressing surfaces
US6190514B1 (en) * 1997-12-30 2001-02-20 Premark Rwp Holdings, Inc. Method for high scan sputter coating to produce coated, abrasion resistant press plates with reduced built-in thermal stress
US6287711B1 (en) * 1998-07-01 2001-09-11 Front Edge Technology, Inc. Wear-resistant coating and component
US6656045B2 (en) * 2000-01-06 2003-12-02 Melange Computer Services, Inc. Method and system for storing preselected numbers for use in games of bingo
IL144688A0 (en) * 2000-09-01 2002-06-30 Premark Rwp Holdings Inc Polishing of press plates coated with titanium diboride
SE522722C2 (sv) * 2001-03-28 2004-03-02 Seco Tools Ab Skärverktyg belagt med titandiborid
US6815690B2 (en) * 2002-07-23 2004-11-09 Guardian Industries Corp. Ion beam source with coated electrode(s)
CN1730718A (zh) * 2005-09-01 2006-02-08 叡邦微波科技股份有限公司 磁控及非平衡式磁控物理溅镀多层覆合超硬薄膜之方法
JP5424103B2 (ja) * 2008-09-24 2014-02-26 日立金属株式会社 塑性加工用被覆金型
KR20120014571A (ko) 2009-04-27 2012-02-17 오씨 외를리콘 발처스 악티엔게젤샤프트 복수의 스퍼터 소스를 구비한 반응성 스퍼터링
JP2012139795A (ja) 2011-01-05 2012-07-26 Mitsubishi Materials Corp 軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐剥離性とすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具
DE102011018363A1 (de) * 2011-04-20 2012-10-25 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Hochleistungszerstäubungsquelle
DE102011117177A1 (de) * 2011-10-28 2013-05-02 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zur Bereitstellung sequenzieller Leistungspulse

Also Published As

Publication number Publication date
BR112015032908A2 (ru) 2017-07-25
CN105492652A (zh) 2016-04-13
MX2016000044A (es) 2016-05-31
PH12015502841A1 (en) 2018-08-20
PL3017078T3 (pl) 2021-06-28
US10378095B2 (en) 2019-08-13
MY186024A (en) 2021-06-15
CN105492652B (zh) 2018-09-28
BR112015032908B1 (pt) 2022-03-15
SG11201510769SA (en) 2016-02-26
IL243433A0 (en) 2016-02-29
EP3017078A1 (de) 2016-05-11
CA2916769A1 (en) 2015-01-08
IL243433B (en) 2019-06-30
KR20160029815A (ko) 2016-03-15
DE102013011075A1 (de) 2015-01-08
US20160186306A1 (en) 2016-06-30
CA2916769C (en) 2022-03-08
WO2015000576A1 (de) 2015-01-08
HUE053539T2 (hu) 2021-07-28
JP6561048B2 (ja) 2019-08-14
JP2016527392A (ja) 2016-09-08
KR102234455B1 (ko) 2021-04-01
EP3017078B1 (de) 2020-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2016103250A (ru) СЛОИ TiB2 И ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЕ
MX2019010190A (es) Metodo para producir una tira de acero con una capa de recubrimiento de aleacion de aluminio.
MX361794B (es) Proceso para producir una capa de borocarburo metálico en un sustrato.
WO2014156310A8 (ja) 金属被膜の成膜装置および成膜方法
MX2016013455A (es) Metodo para galvanizar un tira de metal movil y tira de metal recubierta producida de este modo.
SG165295A1 (en) Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating
AR102991A1 (es) Revestimiento que se deposita sobre la superficie de un sustrato y método para producir el revestimiento
MY153896A (en) Surface-coated aluminum and zinc plated steel sheet and method of preparing same
MX2015010064A (es) Hoja de metal con un recubrimiento de zn/a1/mg con una microestructura particular, y un metodo de produccion correspondiente.
MY181967A (en) Decorative hipims hard-material layer
MX2016016573A (es) Blanco de pulverizacion.
RU2013132038A (ru) Способ получения многослойного градиентного покрытия методом магнетронного напыления
PH12015502753A1 (en) Tixsi1-xn layers and their production
JP2020147826A5 (ru)
WO2015124736A3 (de) Verfahren und prozessieranordnung zum bearbeiten einer metalloberfläche eines substrats oder eines metallsubstrats
RU2009114631A (ru) Способ нанесения металлических покрытий на изделия из керамики
MY189225A (en) Ticn having reduced growth defects by means of hipims
TW201612340A (en) Thin film forming apparatus and thin film forming method thereof
MX2009007512A (es) Metodo para revestir un substrato, equipo para implementar el metodo y dispositivo de suministro de metal para este equipo.
WO2015192144A3 (en) Protective coatings for electronic devices and atomic layer deposition processes for forming the protective coatings
MX363237B (es) Carcasa de dispositivo y su metodo de procesamiento, dispositivo.
JP2012529765A5 (ru)
SG11201903343VA (en) Al2o3 sputtering target and production method thereof
RU2010104509A (ru) Способ получения износостойких покрытий с помощью детонационного напыления
RU2015146543A (ru) Способ получения защитного покрытия внутренней поверхности медных анодов генераторных ламп

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20170703