RU2012124337A - Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки - Google Patents

Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки Download PDF

Info

Publication number
RU2012124337A
RU2012124337A RU2012124337/28A RU2012124337A RU2012124337A RU 2012124337 A RU2012124337 A RU 2012124337A RU 2012124337/28 A RU2012124337/28 A RU 2012124337/28A RU 2012124337 A RU2012124337 A RU 2012124337A RU 2012124337 A RU2012124337 A RU 2012124337A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
laser
mask
diffraction
wavelength
pixels
Prior art date
Application number
RU2012124337/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2593618C2 (ru
Inventor
Шарль БОЭГЛИ
Original Assignee
Боэгли-Гравюр С.А.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Боэгли-Гравюр С.А. filed Critical Боэгли-Гравюр С.А.
Publication of RU2012124337A publication Critical patent/RU2012124337A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2593618C2 publication Critical patent/RU2593618C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • G02B5/1857Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/062Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
    • B23K26/0622Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
    • B23K26/0624Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses using ultrashort pulses, i.e. pulses of 1ns or less
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/066Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/352Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
    • B23K26/355Texturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29Securities; Bank notes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44BMACHINES, APPARATUS OR TOOLS FOR ARTISTIC WORK, e.g. FOR SCULPTURING, GUILLOCHING, CARVING, BRANDING, INLAYING
    • B44B5/00Machines or apparatus for embossing decorations or marks, e.g. embossing coins
    • B44B5/02Dies; Accessories
    • B44B5/026Dies
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44FSPECIAL DESIGNS OR PICTURES
    • B44F1/00Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
    • B44F1/08Designs or pictures characterised by special or unusual light effects characterised by colour effects
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1828Diffraction gratings having means for producing variable diffraction
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/328Diffraction gratings; Holograms
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/0208Individual components other than the hologram
    • G03H2001/0212Light sources or light beam properties
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/0465Particular recording light; Beam shape or geometry
    • G03H2001/0467Gated recording using pulsed or low coherence light source, e.g. light in flight, first arriving light

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Accounting & Taxation (AREA)
  • Finance (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

1. Способ получения цветного изображения с помощью дифракционной решетки при воздействии света, характеризующийся тем, что на поверхности твердого тела создают массивы дифракционной решетки в течение процесса микроструктурирования посредством воздействия лазера, излучением, по крайней мере, одной лазерной установки в наносекундном или пикосекундном диапазоне, причем каждый массив дифракционной решетки состоит из подобластей, продольные размеры которых имеют значение, меньшее, чем разрешающая способность человеческого глаза, при этом каждая подобласть содержит, по крайней мере, один пиксель, являющийся ограниченной микроструктурой дифракционной решетки, предназначенной для получения отдельного спектрального цвета, который дифрагируется при выбранных параметрах решетки и угле падения света αи при определенном угле дифракции αв, по крайней мере, одном определенном азимутальном угле обзора аВ.2. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что каждая указанная подобласть содержит, по крайней мере, два пикселя, с различной постоянной решетки для получения двух различных спектральных цветов при том же угле дифракции αи азимутальном направлении обзора аВ.3. Способ по п. 2, характеризующийся тем, что площадь пикселя и/или количество пикселей выбирают таким образом, чтобы различные спектральные цвета налагались друг на друга в, по крайней мере, одном заранее выбранном направлении обзора для получения смешанного цвета.4. Способ по п. 2 или 3, характеризующийся тем, что длину волны для основных спектральных цветов - красного, зеленного и синего выбрают в зависимости от предполагаемого применения, причем если смешанный �

Claims (19)

1. Способ получения цветного изображения с помощью дифракционной решетки при воздействии света, характеризующийся тем, что на поверхности твердого тела создают массивы дифракционной решетки в течение процесса микроструктурирования посредством воздействия лазера, излучением, по крайней мере, одной лазерной установки в наносекундном или пикосекундном диапазоне, причем каждый массив дифракционной решетки состоит из подобластей, продольные размеры которых имеют значение, меньшее, чем разрешающая способность человеческого глаза, при этом каждая подобласть содержит, по крайней мере, один пиксель, являющийся ограниченной микроструктурой дифракционной решетки, предназначенной для получения отдельного спектрального цвета, который дифрагируется при выбранных параметрах решетки и угле падения света αe и при определенном угле дифракции αm в, по крайней мере, одном определенном азимутальном угле обзора аВ.
2. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что каждая указанная подобласть содержит, по крайней мере, два пикселя, с различной постоянной решетки для получения двух различных спектральных цветов при том же угле дифракции αm и азимутальном направлении обзора аВ.
3. Способ по п. 2, характеризующийся тем, что площадь пикселя и/или количество пикселей выбирают таким образом, чтобы различные спектральные цвета налагались друг на друга в, по крайней мере, одном заранее выбранном направлении обзора для получения смешанного цвета.
4. Способ по п. 2 или 3, характеризующийся тем, что длину волны для основных спектральных цветов - красного, зеленного и синего выбрают в зависимости от предполагаемого применения, причем если смешанный цвет будет видим человеческому глазу, то длина волны для красного цвета равна λкр=630 нм, зеленого цвета - λзел=530 нм, синего цвета - λсин=430 нм.
5. Способ по любому из пп. 1-3, характеризующийся тем, что подобласти имеют продольный размер с максимальным значением 200 мкм, причем максимальный продольный размер области пикселей равен 66,67 мкм.
6. Способ по любому из пп. 1-3, характеризующийся тем, что пиксели представлены посредством линейной или кольцевой концентрирующей решетки, линейной или кольцевой решетки с канавками или решетки с ребрами, или решетки с колонками, имеющей поперечное сечение в виде окружности или в виде многоугольника.
7. Способ по п. 6, характеризующийся тем, что дифракционную решетку выполняют в соответствии со способом проектирования маски с помощью маски, расположенной во вращающем и поворотном устройстве замены маски и диафрагмы на пути луча эксимерного лазера
8. Способ по. 7, характеризующийся тем, что маску получают посредством воздействия фемтосекундного лазера согласно методу фокусирования или посредством водействия лазера на молекулах фтора согласно соответствующему способу проектирования маски, при этом поверхность подложки подвергают облучению так, что получают непрозрачные области путем придания поверхности подложки шероховатости и путем модифицирования ее поверхности, причем в качестве подложки используют кварцевое стекло (SiO2), или сапфир (Al2O3), или фторид кальция (CaF2), или фторид магния (MgF2).
9. Способ по любому из пп. 1-3, характеризующийся тем, что пиксели включают дифракционные решетки с волнообразной поверхностью, полученной посредством воздействия пико- или фемтосекундного лазера.
10. Способ по п. 9, характеризующийся тем, что пиксели получают путем наложения решетки на волнообразную микроструктуру.
11. Способ по любому из пп. 1-3, 7, 8, 10 характеризующийся тем, что несколько подобластей располагают рядом для формирования знаков, изображений, логотипов или признаков аутенификации.
12. Способ по любому из п.п. 1-3, 7, 8, 10, характеризующийся тем, что поверхностью твердого тела является покрытая твердым материалом поверхность валика для тиснения или гравировального штампа для тиснения упаковочной пленки, причем покрытие твердым материалом состоит из тетраэдрически связанного аморфного углерода ta-C, или карбида вольфрама WC, или карбида бора B4C, или карбида кремния SiC, или аналогичного твердого материала.
13. Устройство для осуществления способа по любому из пп. 1-3, 7, 8, 10, характеризующееся тем, что первая лазерная установка (L1) для получения концентрирующей дифракционной решетки, решетки с канавками, и решетки с ребрами, или решетки с колонками, содержит эксимерный лазер на молекулах фтористого криптона KrF (1) с длиной волны 248 нм, или лазер на молекулах фтористого аргона ArF с длиной волны 193 нм, или лазер на молекулах фтора с длиной волны 157 нм, или эксимерный лазер на молекулах ксенон-хлора с длиной волны 308 нм, а вторая лазерная установка (L2) для получения волнообразной структуры содержит фемтосекундный лазер (15) с центральной длиной волны 775 нм или с длиной волны, соответствующей удвоенной или утроенной частоте, или пикосекундный лазер Nd:YAG с длиной волны 1064 нм, или с длиной волны, соответствующей удвоенной или утроенной частоте.
14. Устройство по п. 13, характеризующееся тем, что между первой лазерной установкой (1) и ее фокусирующей оптикой (8) расположены, по крайней мере, одна комбинация маски и диафрагмы (18, 6), причем ряд комбинаций маски и диафрагмы установлены во вращающем и поворотном устройстве замены, при этом устройство замены приспособлено для размещения в нем независимо друг от друга маски (18) и диафрагмы (6) на пути луча (29) лазера (1), причем маска (18) и диафрагма (6) установлены в держателях с возможностью линейного или вращательного перемещения и вращения вокруг собственной оси.
15. Устройство по п. 14, характеризующееся тем, что маска (6) является треугольной маской (78) или ленточной маской (79) для получения концентрирующей дифракционной решетки.
16. Устройство по любому из пп. 14 или 15 для структурирования областей на поверхности валика для тиснения или гравировального штампа для нанесения оптически эффективной дифракционной области на упаковочную пленку.
17. Устройство по любому из пп. 14 или 15 для получения оптически эффективных дифракционных знаков или признаков аутентификации на элементах карманных наручных часов с нанесенным на них покрытием или без такого покрытия, на обычных или сапфировых стеклах карманных наручных часов, на поверхностях монет и декоративных изделий.
18. Упаковочная пленка, обработанная посредством валиков для тиснения или структурированная посредством гравировального штампа по п. 16, характеризующаяся тем, что имеет оптически эффективные дифракционные области и/или признаки аутентификации, содержащие цветные пиксели спектрального цвета или пиксели различного цвета для получения смешанных цветов.
19. Упаковочная пленка по п. 18, характеризующаяся тем, что она сатинизирована в местах, где не предусмотрены оптически эффективные области дифракции, признаки аутентификации, и/или логотипы.
RU2012124337/28A 2009-12-18 2010-11-22 Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки RU2593618C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP09405227.1 2009-12-18
EP20090405227 EP2336810A1 (de) 2009-12-18 2009-12-18 Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Farbmustern mittels Beugungsgitter
PCT/CH2010/000294 WO2011072408A1 (en) 2009-12-18 2010-11-22 Method and device for generating colour patterns using a diffraction grating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2012124337A true RU2012124337A (ru) 2014-09-27
RU2593618C2 RU2593618C2 (ru) 2016-08-10

Family

ID=42224244

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012124337/28A RU2593618C2 (ru) 2009-12-18 2010-11-22 Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9140834B2 (ru)
EP (2) EP2336810A1 (ru)
JP (1) JP5905394B2 (ru)
CN (1) CN102792193B (ru)
BR (1) BR112012014869B1 (ru)
CA (1) CA2781475C (ru)
RU (1) RU2593618C2 (ru)
WO (1) WO2011072408A1 (ru)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9993895B2 (en) 2009-03-30 2018-06-12 Boegli-Gravures Sa Method and device for structuring the surface of a hard material coated solid body by means of a laser
ES2541834T3 (es) * 2009-03-30 2015-07-27 Boegli-Gravures S.A. Procedimiento y dispositivo para estructurar una superficie de cuerpo sólido con un revestimiento duro con un láser que utilizan máscara y diafragma
MX348059B (es) * 2012-04-17 2017-05-25 Boegli-Gravures Sa Metodo para fabricar un conjunto de rodillos para estampado en relieve.
DE102012105444A1 (de) 2012-06-22 2013-12-24 Ovd Kinegram Ag Sicherheitselement mit diffraktiver Struktur
US9971078B2 (en) * 2013-03-05 2018-05-15 Rambus Inc. Phase gratings with odd symmetry for high-resolution lensless optical sensing
EP2994317B1 (en) * 2013-05-10 2019-11-13 Idit Technologies Corp. Nanostructure array diffractive optics for rgb color displays
CN103399377A (zh) * 2013-07-22 2013-11-20 西安电子科技大学 飞秒激光直写蓝宝石环形光波导及其制备方法
US9244356B1 (en) * 2014-04-03 2016-01-26 Rolith, Inc. Transparent metal mesh and method of manufacture
JP6410463B2 (ja) * 2014-05-12 2018-10-24 トリニティ工業株式会社 加飾部品の製造方法
EP2944413A1 (de) * 2014-05-12 2015-11-18 Boegli-Gravures S.A. Vorrichtung zur Maskenprojektion von Femtosekunden- und Pikosekunden- Laserstrahlen mit einer Blende, einer Maske und Linsensystemen
WO2015183243A1 (en) 2014-05-27 2015-12-03 Rolith, Inc. Anti-counterfeiting features and methods of fabrication and detection
CH708200A8 (de) 2014-09-12 2015-03-13 Boegli Gravures Sa Verfahren und Vorrichtung zur Authentifizierung von Identifikations-Merkmalen auf einer Verpackungsfolie.
EP3037253A1 (en) 2014-12-22 2016-06-29 Boegli-Gravures S.A. Micro-embossing
GB2537427A (en) * 2015-04-18 2016-10-19 Meiban Int Pte Ltd Surface authentication
GB201603991D0 (en) 2016-03-08 2016-04-20 Univ Dundee Processing method and apparatus
BR112017027975A2 (pt) 2015-06-24 2018-08-28 University Of Dundee método e aparelho para redução de rendimento, e, superfície tratada a laser
WO2017010548A1 (ja) * 2015-07-15 2017-01-19 凸版印刷株式会社 表示体
EP3184292A1 (de) 2015-12-22 2017-06-28 Boegli-Gravures S.A. Vorrichtung zum feinprägen von verpackungsmaterial mit einem satz prägewalzen des patrizen-matrizentyps
CN106959518B (zh) * 2016-01-08 2020-02-18 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板和显示装置
CN105737879A (zh) * 2016-03-01 2016-07-06 中国电子科技集团公司第十三研究所 带有台阶高度的微米级光栅校准样片
IL245932A (en) * 2016-05-30 2017-10-31 Elbit Systems Land & C4I Ltd System and methods for determining the authenticity of an object that includes a reference image acquisition and a user unit
EP3251825A1 (en) 2016-05-31 2017-12-06 Boegli-Gravures S.A. Method and device for embossing planar material
US10167560B2 (en) * 2016-07-08 2019-01-01 The Chinese University Of Hong Kong Method and apparatus for structural coloration of metallic surfaces
EP3300612A1 (en) 2016-10-03 2018-04-04 Boegli-Gravures S.A. Paper joint without discontinuity for tube shaped paper wraps closed by means of embossed paper and re-sealable innerliner seal by means of structured innerliner
JP6732627B2 (ja) * 2016-10-19 2020-07-29 浜松ホトニクス株式会社 レーザ光照射装置
EP3339012A1 (en) 2016-12-20 2018-06-27 Boegli-Gravures S.A. Method and embossing structure for maximizing pressure buildup at rotational embossing of foils
DE102016015335A1 (de) * 2016-12-21 2018-06-21 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Holographisches Sicherheitselement und Verfahren zu dessen Herstellung
EP3415306A1 (en) 2017-06-14 2018-12-19 Boegli-Gravures S.A. Method and embossing structure using high density pressure for creating shadowed or curved highly reflective areas on rotationally embossed foils
EP3437849A1 (en) 2017-08-03 2019-02-06 Boegli-Gravures SA Tool and method for embossing packaging material with an embossing pattern having a code with low visibility
DE202017105458U1 (de) 2017-08-03 2017-10-27 Boegli-Gravures S.A. Vorrichtung und System zur Prägung von Verpackungsmaterial mit einem Prägemuster, das einen Code mit geringer Sichtbarkeit aufweist
ES2701764A1 (es) * 2017-08-24 2019-02-25 Seat Sa Método para obtener al menos un texturizado superficial en un material plástico y material plástico obtenido por dicho método
RU2765594C1 (ru) 2018-06-26 2022-02-01 Бёльи-Гравюр Са Способ и устройство для тиснения рельефных структур
WO2020018270A1 (en) * 2018-07-19 2020-01-23 Applied Materials, Inc. Variable height slanted grating method
EP3871040A4 (en) * 2018-10-24 2022-12-07 Truiris LLC COSMETIC HOLOGRAPHIC BODY-WEARABLE EYE DEVICES AND METHOD FOR THEIR MANUFACTURE
DE202019101652U1 (de) * 2019-03-22 2019-05-16 4Jet Microtech Gmbh Laserbearbeitungsvorrichtung zum Erzeugen einer Vielzahl von Furchen
RU2705182C1 (ru) * 2019-04-10 2019-11-05 Кирилл Сергеевич Коблов Способ лазерного проецирования
CN112289171B (zh) * 2020-09-30 2022-09-27 北京德弦科技有限公司 一种透明介质的数据标识加工、读取、检测方法及装置
CN113409148B (zh) * 2021-07-21 2022-03-04 南京理工大学 一种基于区块链的交易信息安全维护系统
CN113649703A (zh) * 2021-08-18 2021-11-16 淮阴工学院 一种多显色的激光打标机
EP4177057A1 (en) * 2021-11-05 2023-05-10 Boegli-Gravures S.A. Method for engraving code patterns in a solid piece's tool surface
DE102022000102A1 (de) * 2022-01-12 2023-07-13 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Optisch variables Flächenmuster
CN114993950A (zh) * 2022-05-30 2022-09-02 瀚天天成电子科技(厦门)有限公司 一种SiC外延片表面的台阶聚集缺陷的检测方法

Family Cites Families (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT393334B (de) * 1988-01-22 1991-09-25 Ims Ionen Mikrofab Syst Anordnung zur stabilisierung einer bestrahlten maske
US5058992A (en) 1988-09-07 1991-10-22 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing a display with a diffraction grating pattern and a display produced by the method
US5091979A (en) * 1991-03-22 1992-02-25 At&T Bell Laboratories Sub-micron imaging
CA2159337A1 (en) * 1993-04-06 1994-10-13 Robert Arthur Lee Optical data element
WO1994028444A1 (en) * 1993-05-25 1994-12-08 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Multiple image diffractive device
EP0710183B2 (en) * 1993-06-08 2007-03-28 Securency Pty. Ltd. Embossing of banknotes or the like with security devices
JPH07150334A (ja) 1993-11-25 1995-06-13 Canon Inc レーザ光用薄膜の製造方法
AUPO384796A0 (en) 1996-11-26 1996-12-19 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Colour image diffractive device
JPH11109117A (ja) 1997-10-03 1999-04-23 Canon Inc 回折光学素子の製造方法及び製造装置
AUPP444498A0 (en) * 1998-07-02 1998-07-23 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Diffractive structure with interstitial elements
FR2781707B1 (fr) 1998-07-30 2000-09-08 Snecma Procede d'usinage par laser excimere de trous ou de formes a profil variable
CA2369584A1 (en) * 1999-04-09 2000-10-19 The University Of New Mexico Large photosensitivity in lead silicate glasses
JP4124396B2 (ja) * 1999-12-17 2008-07-23 独立行政法人科学技術振興機構 ホログラムの製造方法および装置
JP3982136B2 (ja) 2000-02-04 2007-09-26 セイコーエプソン株式会社 レーザ加工方法及びその装置
JP2002011589A (ja) * 2000-06-28 2002-01-15 Hitachi Ltd レーザ加工用マスクとその製造方法、製造装置、及びレーザアブレーション加工装置、並びに該マスクを用いて製作した画像表示装置
EP1303795B1 (en) * 2000-07-18 2006-08-30 Optaglio Limited Achromatic diffractive device
US6929886B2 (en) * 2001-01-02 2005-08-16 U-C-Laser Ltd. Method and apparatus for the manufacturing of reticles
JP2003075621A (ja) 2001-09-04 2003-03-12 Dainippon Printing Co Ltd 真正性証明用回折格子、およびそれが設けられた記録体
JP4006994B2 (ja) * 2001-12-18 2007-11-14 株式会社リコー 立体構造体の加工方法、立体形状品の製造方法及び立体構造体
CN1271477C (zh) * 2002-06-25 2006-08-23 西安大天激光图像有限公司 激光全息防伪铝箔生产工艺
US7751608B2 (en) * 2004-06-30 2010-07-06 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Model-based synthesis of band moire images for authenticating security documents and valuable products
JP4203310B2 (ja) 2002-12-09 2008-12-24 富士フイルム株式会社 防眩性反射防止フィルムの製造方法
US6941052B2 (en) * 2002-12-19 2005-09-06 3M Innovative Properties Company Sensitized optical fiber method and article
EP1437213A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-14 Boegli-Gravures S.A. Vorrichtung zum Satinieren und Prägen von Flachmaterial
US20040161709A1 (en) * 2003-02-10 2004-08-19 Schroeder Joseph F. Laser-written optical structures within calcium fluoride and other crystal materials
EP1462831B1 (en) * 2003-03-21 2008-05-14 Her Majesty in Right of Canada as Represented by the Minister of Industry Bragg grating and method of producing a bragg using an ultrafast laser
TWI356973B (en) * 2003-04-11 2012-01-21 Tadahiro Ohmi Pattern drawing apparatus and pattern drawing meth
GB0323922D0 (en) * 2003-10-11 2003-11-12 Univ Aston Laser inscription of optical structures in laser crystals
US20050112472A1 (en) 2003-11-20 2005-05-26 Kutsch Wilhelm P. Seamless holographic embossing substrate produced by laser ablation
JP2005223760A (ja) 2004-02-06 2005-08-18 Canon Inc 画像読取装置及びその制御方法
JP2005270992A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Toppan Printing Co Ltd パルスレーザーによる材料の表面加工方法、複製版の製造方法、表面加工データの処理方法、情報担体、光学素子及び画像
US7687740B2 (en) * 2004-06-18 2010-03-30 Electro Scientific Industries, Inc. Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots delivering multiple blows
ATE469756T1 (de) * 2004-06-22 2010-06-15 Boegli Gravures Sa Vorrichtung und verfahren zum satinieren und prägen von flachmaterial
US20060018021A1 (en) * 2004-07-26 2006-01-26 Applied Opsec, Inc. Diffraction-based optical grating structure and method of creating the same
US7071417B2 (en) * 2004-10-25 2006-07-04 Demodulation, Inc. Optically encoded glass-coated microwire
JP4486472B2 (ja) * 2004-10-26 2010-06-23 東京エレクトロン株式会社 レーザー処理装置及びその方法
DE102004060672A1 (de) 2004-12-15 2006-06-22 Giesecke & Devrient Gmbh Gitterbild zur Darstellung von Echtfarbenbildern und Verfahren zu seiner Herstellung
US7349599B1 (en) * 2005-03-14 2008-03-25 Lightsmyth Technologies Inc Etched surface gratings fabricated using computed interference between simulated optical signals and reduction lithography
WO2007012215A1 (de) 2005-07-28 2007-02-01 Boegli-Gravures Sa Verfahren und vorrichtung zur gezielten strukturierung einer oberfläche mit einer laseranlage
CN101365991A (zh) * 2005-11-03 2009-02-11 布鲁斯·哈 利用衍射在单一像面产生多个图像的方法和系统
JP2009539966A (ja) 2006-06-13 2009-11-19 セーエスウーエム、サントル、スイス、デレクトロニック、エ、ド、ミクロテクニック、ソシエテ、アノニム 回折性微小構造を有する薬学的錠剤およびそのような錠剤を製造するための圧縮ダイ
US7732351B2 (en) * 2006-09-21 2010-06-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of semiconductor device and laser processing apparatus
JP2008225322A (ja) 2007-03-15 2008-09-25 Dainippon Printing Co Ltd 微細な凹凸部を有する光回折構造
EP2027993A1 (de) * 2007-08-23 2009-02-25 Boegli-Gravures S.A. Vorrichtung zur Vorbereitung von Verpackungspapier auf den anschliessenden Verpackungsprozess
DE102007042385A1 (de) * 2007-09-04 2009-03-05 Bundesdruckerei Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur individuellen holografischen Trommelbelichtung
US8541066B2 (en) * 2007-11-26 2013-09-24 University Of North Carolina At Charlotte Light-induced directed self-assembly of periodic sub-wavelength nanostructures
JP5302611B2 (ja) * 2008-02-08 2013-10-02 株式会社オハラ 光学部品用ガラス部材及びそれに用いるガラス組成物
JP2010145800A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Elpida Memory Inc 位相シフトマスクおよびその製造方法、ならびに集積回路の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US9140834B2 (en) 2015-09-22
EP2336810A1 (de) 2011-06-22
BR112012014869A2 (pt) 2016-03-29
CA2781475C (en) 2018-09-04
EP2513687A1 (en) 2012-10-24
JP2013514539A (ja) 2013-04-25
WO2011072408A1 (en) 2011-06-23
CA2781475A1 (en) 2011-06-23
BR112012014869B1 (pt) 2020-01-21
CN102792193A (zh) 2012-11-21
RU2593618C2 (ru) 2016-08-10
JP5905394B2 (ja) 2016-04-20
CN102792193B (zh) 2016-08-10
US20120243094A1 (en) 2012-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012124337A (ru) Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки
RU2012124336A (ru) Способ и устройство для изготовления маски для лазерной установки для получения микроструктур
RU2567138C2 (ru) Способ и устройство для структурирования поверхности твердого тела, покрытого твердым материалом, с помощью лазера
RU2011139389A (ru) Способ и устройство для структурирования поверхности твердого тела, покрытого твердым материалом, с помощью лазера
RU2161093C2 (ru) Способ маркировки бриллиантов
Kopitkovas et al. Fabrication of micro-optical elements in quartz by laser induced backside wet etching
US11059127B2 (en) Ablative production device and method for a periodic line structure on a workpiece
Ding et al. Micron-and submicron-sized surface patterning of silica glass by LIBWE method
US20240337950A1 (en) Apparatus and method for laser interference structuring of substrates with periodic dot structures for anti-reflection properties
Meinertz et al. Micron and sub-micron gratings on glass by UV laser ablation
WO2015049406A1 (es) Lente antirreflectante para gafas y procedimiento de fabricación de dicha lente
FR2494865A1 (fr) Masque d'exposition pour rayonnements multiples
Glebov et al. Interaction of photo-thermo-refractive glass with nanosecond pulses at 532 nm
Ihlemann et al. Laser based rapid fabrication of SiO2-phase masks for efficient UV-laser micromachining
JP2005289693A (ja) 人工水晶部材、光学素子、光学系、投影露光装置、及び人工水晶部材の選別方法
Lukishova et al. Soft apertures to shape high-power laser beams
FR2957686A1 (fr) Photorepeteur pour la lithographie en extreme ultra-violet
David et al. Laser Ablation Lithography Using Diffractive Phase Masks
Jakubczak et al. Improved efficiency of materials processing by dual action of XUV/Vis-NIR ultrashort laser pulses and comprehensive study of high-order harmonic source at PALS
JP2006041050A (ja) 発光素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
HE9A Changing address for correspondence with an applicant