RU2012124337A - Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки - Google Patents
Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012124337A RU2012124337A RU2012124337/28A RU2012124337A RU2012124337A RU 2012124337 A RU2012124337 A RU 2012124337A RU 2012124337/28 A RU2012124337/28 A RU 2012124337/28A RU 2012124337 A RU2012124337 A RU 2012124337A RU 2012124337 A RU2012124337 A RU 2012124337A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- laser
- mask
- diffraction
- wavelength
- pixels
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 23
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract 9
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract 3
- 238000003491 array Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims 4
- 229920006280 packaging film Polymers 0.000 claims 4
- 239000012785 packaging film Substances 0.000 claims 4
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JGRGMDZIEXDEQT-UHFFFAOYSA-N [Cl].[Xe] Chemical compound [Cl].[Xe] JGRGMDZIEXDEQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N [Kr]F Chemical compound [Kr]F VZPPHXVFMVZRTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N argon hydrofluoride Chemical compound F.[Ar] ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 claims 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
- B23K26/0624—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses using ultrashort pulses, i.e. pulses of 1ns or less
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/066—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/355—Texturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
- B42D25/29—Securities; Bank notes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44B—MACHINES, APPARATUS OR TOOLS FOR ARTISTIC WORK, e.g. FOR SCULPTURING, GUILLOCHING, CARVING, BRANDING, INLAYING
- B44B5/00—Machines or apparatus for embossing decorations or marks, e.g. embossing coins
- B44B5/02—Dies; Accessories
- B44B5/026—Dies
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44F—SPECIAL DESIGNS OR PICTURES
- B44F1/00—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects
- B44F1/08—Designs or pictures characterised by special or unusual light effects characterised by colour effects
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1828—Diffraction gratings having means for producing variable diffraction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
- B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
- B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
- B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
- B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H2001/0208—Individual components other than the hologram
- G03H2001/0212—Light sources or light beam properties
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0465—Particular recording light; Beam shape or geometry
- G03H2001/0467—Gated recording using pulsed or low coherence light source, e.g. light in flight, first arriving light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Accounting & Taxation (AREA)
- Finance (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
1. Способ получения цветного изображения с помощью дифракционной решетки при воздействии света, характеризующийся тем, что на поверхности твердого тела создают массивы дифракционной решетки в течение процесса микроструктурирования посредством воздействия лазера, излучением, по крайней мере, одной лазерной установки в наносекундном или пикосекундном диапазоне, причем каждый массив дифракционной решетки состоит из подобластей, продольные размеры которых имеют значение, меньшее, чем разрешающая способность человеческого глаза, при этом каждая подобласть содержит, по крайней мере, один пиксель, являющийся ограниченной микроструктурой дифракционной решетки, предназначенной для получения отдельного спектрального цвета, который дифрагируется при выбранных параметрах решетки и угле падения света αи при определенном угле дифракции αв, по крайней мере, одном определенном азимутальном угле обзора аВ.2. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что каждая указанная подобласть содержит, по крайней мере, два пикселя, с различной постоянной решетки для получения двух различных спектральных цветов при том же угле дифракции αи азимутальном направлении обзора аВ.3. Способ по п. 2, характеризующийся тем, что площадь пикселя и/или количество пикселей выбирают таким образом, чтобы различные спектральные цвета налагались друг на друга в, по крайней мере, одном заранее выбранном направлении обзора для получения смешанного цвета.4. Способ по п. 2 или 3, характеризующийся тем, что длину волны для основных спектральных цветов - красного, зеленного и синего выбрают в зависимости от предполагаемого применения, причем если смешанный �
Claims (19)
1. Способ получения цветного изображения с помощью дифракционной решетки при воздействии света, характеризующийся тем, что на поверхности твердого тела создают массивы дифракционной решетки в течение процесса микроструктурирования посредством воздействия лазера, излучением, по крайней мере, одной лазерной установки в наносекундном или пикосекундном диапазоне, причем каждый массив дифракционной решетки состоит из подобластей, продольные размеры которых имеют значение, меньшее, чем разрешающая способность человеческого глаза, при этом каждая подобласть содержит, по крайней мере, один пиксель, являющийся ограниченной микроструктурой дифракционной решетки, предназначенной для получения отдельного спектрального цвета, который дифрагируется при выбранных параметрах решетки и угле падения света αe и при определенном угле дифракции αm в, по крайней мере, одном определенном азимутальном угле обзора аВ.
2. Способ по п. 1, характеризующийся тем, что каждая указанная подобласть содержит, по крайней мере, два пикселя, с различной постоянной решетки для получения двух различных спектральных цветов при том же угле дифракции αm и азимутальном направлении обзора аВ.
3. Способ по п. 2, характеризующийся тем, что площадь пикселя и/или количество пикселей выбирают таким образом, чтобы различные спектральные цвета налагались друг на друга в, по крайней мере, одном заранее выбранном направлении обзора для получения смешанного цвета.
4. Способ по п. 2 или 3, характеризующийся тем, что длину волны для основных спектральных цветов - красного, зеленного и синего выбрают в зависимости от предполагаемого применения, причем если смешанный цвет будет видим человеческому глазу, то длина волны для красного цвета равна λкр=630 нм, зеленого цвета - λзел=530 нм, синего цвета - λсин=430 нм.
5. Способ по любому из пп. 1-3, характеризующийся тем, что подобласти имеют продольный размер с максимальным значением 200 мкм, причем максимальный продольный размер области пикселей равен 66,67 мкм.
6. Способ по любому из пп. 1-3, характеризующийся тем, что пиксели представлены посредством линейной или кольцевой концентрирующей решетки, линейной или кольцевой решетки с канавками или решетки с ребрами, или решетки с колонками, имеющей поперечное сечение в виде окружности или в виде многоугольника.
7. Способ по п. 6, характеризующийся тем, что дифракционную решетку выполняют в соответствии со способом проектирования маски с помощью маски, расположенной во вращающем и поворотном устройстве замены маски и диафрагмы на пути луча эксимерного лазера
8. Способ по. 7, характеризующийся тем, что маску получают посредством воздействия фемтосекундного лазера согласно методу фокусирования или посредством водействия лазера на молекулах фтора согласно соответствующему способу проектирования маски, при этом поверхность подложки подвергают облучению так, что получают непрозрачные области путем придания поверхности подложки шероховатости и путем модифицирования ее поверхности, причем в качестве подложки используют кварцевое стекло (SiO2), или сапфир (Al2O3), или фторид кальция (CaF2), или фторид магния (MgF2).
9. Способ по любому из пп. 1-3, характеризующийся тем, что пиксели включают дифракционные решетки с волнообразной поверхностью, полученной посредством воздействия пико- или фемтосекундного лазера.
10. Способ по п. 9, характеризующийся тем, что пиксели получают путем наложения решетки на волнообразную микроструктуру.
11. Способ по любому из пп. 1-3, 7, 8, 10 характеризующийся тем, что несколько подобластей располагают рядом для формирования знаков, изображений, логотипов или признаков аутенификации.
12. Способ по любому из п.п. 1-3, 7, 8, 10, характеризующийся тем, что поверхностью твердого тела является покрытая твердым материалом поверхность валика для тиснения или гравировального штампа для тиснения упаковочной пленки, причем покрытие твердым материалом состоит из тетраэдрически связанного аморфного углерода ta-C, или карбида вольфрама WC, или карбида бора B4C, или карбида кремния SiC, или аналогичного твердого материала.
13. Устройство для осуществления способа по любому из пп. 1-3, 7, 8, 10, характеризующееся тем, что первая лазерная установка (L1) для получения концентрирующей дифракционной решетки, решетки с канавками, и решетки с ребрами, или решетки с колонками, содержит эксимерный лазер на молекулах фтористого криптона KrF (1) с длиной волны 248 нм, или лазер на молекулах фтористого аргона ArF с длиной волны 193 нм, или лазер на молекулах фтора с длиной волны 157 нм, или эксимерный лазер на молекулах ксенон-хлора с длиной волны 308 нм, а вторая лазерная установка (L2) для получения волнообразной структуры содержит фемтосекундный лазер (15) с центральной длиной волны 775 нм или с длиной волны, соответствующей удвоенной или утроенной частоте, или пикосекундный лазер Nd:YAG с длиной волны 1064 нм, или с длиной волны, соответствующей удвоенной или утроенной частоте.
14. Устройство по п. 13, характеризующееся тем, что между первой лазерной установкой (1) и ее фокусирующей оптикой (8) расположены, по крайней мере, одна комбинация маски и диафрагмы (18, 6), причем ряд комбинаций маски и диафрагмы установлены во вращающем и поворотном устройстве замены, при этом устройство замены приспособлено для размещения в нем независимо друг от друга маски (18) и диафрагмы (6) на пути луча (29) лазера (1), причем маска (18) и диафрагма (6) установлены в держателях с возможностью линейного или вращательного перемещения и вращения вокруг собственной оси.
15. Устройство по п. 14, характеризующееся тем, что маска (6) является треугольной маской (78) или ленточной маской (79) для получения концентрирующей дифракционной решетки.
16. Устройство по любому из пп. 14 или 15 для структурирования областей на поверхности валика для тиснения или гравировального штампа для нанесения оптически эффективной дифракционной области на упаковочную пленку.
17. Устройство по любому из пп. 14 или 15 для получения оптически эффективных дифракционных знаков или признаков аутентификации на элементах карманных наручных часов с нанесенным на них покрытием или без такого покрытия, на обычных или сапфировых стеклах карманных наручных часов, на поверхностях монет и декоративных изделий.
18. Упаковочная пленка, обработанная посредством валиков для тиснения или структурированная посредством гравировального штампа по п. 16, характеризующаяся тем, что имеет оптически эффективные дифракционные области и/или признаки аутентификации, содержащие цветные пиксели спектрального цвета или пиксели различного цвета для получения смешанных цветов.
19. Упаковочная пленка по п. 18, характеризующаяся тем, что она сатинизирована в местах, где не предусмотрены оптически эффективные области дифракции, признаки аутентификации, и/или логотипы.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP09405227.1 | 2009-12-18 | ||
EP20090405227 EP2336810A1 (de) | 2009-12-18 | 2009-12-18 | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Farbmustern mittels Beugungsgitter |
PCT/CH2010/000294 WO2011072408A1 (en) | 2009-12-18 | 2010-11-22 | Method and device for generating colour patterns using a diffraction grating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012124337A true RU2012124337A (ru) | 2014-09-27 |
RU2593618C2 RU2593618C2 (ru) | 2016-08-10 |
Family
ID=42224244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012124337/28A RU2593618C2 (ru) | 2009-12-18 | 2010-11-22 | Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9140834B2 (ru) |
EP (2) | EP2336810A1 (ru) |
JP (1) | JP5905394B2 (ru) |
CN (1) | CN102792193B (ru) |
BR (1) | BR112012014869B1 (ru) |
CA (1) | CA2781475C (ru) |
RU (1) | RU2593618C2 (ru) |
WO (1) | WO2011072408A1 (ru) |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9993895B2 (en) | 2009-03-30 | 2018-06-12 | Boegli-Gravures Sa | Method and device for structuring the surface of a hard material coated solid body by means of a laser |
ES2541834T3 (es) * | 2009-03-30 | 2015-07-27 | Boegli-Gravures S.A. | Procedimiento y dispositivo para estructurar una superficie de cuerpo sólido con un revestimiento duro con un láser que utilizan máscara y diafragma |
MX348059B (es) * | 2012-04-17 | 2017-05-25 | Boegli-Gravures Sa | Metodo para fabricar un conjunto de rodillos para estampado en relieve. |
DE102012105444A1 (de) | 2012-06-22 | 2013-12-24 | Ovd Kinegram Ag | Sicherheitselement mit diffraktiver Struktur |
US9971078B2 (en) * | 2013-03-05 | 2018-05-15 | Rambus Inc. | Phase gratings with odd symmetry for high-resolution lensless optical sensing |
EP2994317B1 (en) * | 2013-05-10 | 2019-11-13 | Idit Technologies Corp. | Nanostructure array diffractive optics for rgb color displays |
CN103399377A (zh) * | 2013-07-22 | 2013-11-20 | 西安电子科技大学 | 飞秒激光直写蓝宝石环形光波导及其制备方法 |
US9244356B1 (en) * | 2014-04-03 | 2016-01-26 | Rolith, Inc. | Transparent metal mesh and method of manufacture |
JP6410463B2 (ja) * | 2014-05-12 | 2018-10-24 | トリニティ工業株式会社 | 加飾部品の製造方法 |
EP2944413A1 (de) * | 2014-05-12 | 2015-11-18 | Boegli-Gravures S.A. | Vorrichtung zur Maskenprojektion von Femtosekunden- und Pikosekunden- Laserstrahlen mit einer Blende, einer Maske und Linsensystemen |
WO2015183243A1 (en) | 2014-05-27 | 2015-12-03 | Rolith, Inc. | Anti-counterfeiting features and methods of fabrication and detection |
CH708200A8 (de) | 2014-09-12 | 2015-03-13 | Boegli Gravures Sa | Verfahren und Vorrichtung zur Authentifizierung von Identifikations-Merkmalen auf einer Verpackungsfolie. |
EP3037253A1 (en) | 2014-12-22 | 2016-06-29 | Boegli-Gravures S.A. | Micro-embossing |
GB2537427A (en) * | 2015-04-18 | 2016-10-19 | Meiban Int Pte Ltd | Surface authentication |
GB201603991D0 (en) | 2016-03-08 | 2016-04-20 | Univ Dundee | Processing method and apparatus |
BR112017027975A2 (pt) | 2015-06-24 | 2018-08-28 | University Of Dundee | método e aparelho para redução de rendimento, e, superfície tratada a laser |
WO2017010548A1 (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-19 | 凸版印刷株式会社 | 表示体 |
EP3184292A1 (de) | 2015-12-22 | 2017-06-28 | Boegli-Gravures S.A. | Vorrichtung zum feinprägen von verpackungsmaterial mit einem satz prägewalzen des patrizen-matrizentyps |
CN106959518B (zh) * | 2016-01-08 | 2020-02-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板和显示装置 |
CN105737879A (zh) * | 2016-03-01 | 2016-07-06 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 带有台阶高度的微米级光栅校准样片 |
IL245932A (en) * | 2016-05-30 | 2017-10-31 | Elbit Systems Land & C4I Ltd | System and methods for determining the authenticity of an object that includes a reference image acquisition and a user unit |
EP3251825A1 (en) | 2016-05-31 | 2017-12-06 | Boegli-Gravures S.A. | Method and device for embossing planar material |
US10167560B2 (en) * | 2016-07-08 | 2019-01-01 | The Chinese University Of Hong Kong | Method and apparatus for structural coloration of metallic surfaces |
EP3300612A1 (en) | 2016-10-03 | 2018-04-04 | Boegli-Gravures S.A. | Paper joint without discontinuity for tube shaped paper wraps closed by means of embossed paper and re-sealable innerliner seal by means of structured innerliner |
JP6732627B2 (ja) * | 2016-10-19 | 2020-07-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ光照射装置 |
EP3339012A1 (en) | 2016-12-20 | 2018-06-27 | Boegli-Gravures S.A. | Method and embossing structure for maximizing pressure buildup at rotational embossing of foils |
DE102016015335A1 (de) * | 2016-12-21 | 2018-06-21 | Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh | Holographisches Sicherheitselement und Verfahren zu dessen Herstellung |
EP3415306A1 (en) | 2017-06-14 | 2018-12-19 | Boegli-Gravures S.A. | Method and embossing structure using high density pressure for creating shadowed or curved highly reflective areas on rotationally embossed foils |
EP3437849A1 (en) | 2017-08-03 | 2019-02-06 | Boegli-Gravures SA | Tool and method for embossing packaging material with an embossing pattern having a code with low visibility |
DE202017105458U1 (de) | 2017-08-03 | 2017-10-27 | Boegli-Gravures S.A. | Vorrichtung und System zur Prägung von Verpackungsmaterial mit einem Prägemuster, das einen Code mit geringer Sichtbarkeit aufweist |
ES2701764A1 (es) * | 2017-08-24 | 2019-02-25 | Seat Sa | Método para obtener al menos un texturizado superficial en un material plástico y material plástico obtenido por dicho método |
RU2765594C1 (ru) | 2018-06-26 | 2022-02-01 | Бёльи-Гравюр Са | Способ и устройство для тиснения рельефных структур |
WO2020018270A1 (en) * | 2018-07-19 | 2020-01-23 | Applied Materials, Inc. | Variable height slanted grating method |
EP3871040A4 (en) * | 2018-10-24 | 2022-12-07 | Truiris LLC | COSMETIC HOLOGRAPHIC BODY-WEARABLE EYE DEVICES AND METHOD FOR THEIR MANUFACTURE |
DE202019101652U1 (de) * | 2019-03-22 | 2019-05-16 | 4Jet Microtech Gmbh | Laserbearbeitungsvorrichtung zum Erzeugen einer Vielzahl von Furchen |
RU2705182C1 (ru) * | 2019-04-10 | 2019-11-05 | Кирилл Сергеевич Коблов | Способ лазерного проецирования |
CN112289171B (zh) * | 2020-09-30 | 2022-09-27 | 北京德弦科技有限公司 | 一种透明介质的数据标识加工、读取、检测方法及装置 |
CN113409148B (zh) * | 2021-07-21 | 2022-03-04 | 南京理工大学 | 一种基于区块链的交易信息安全维护系统 |
CN113649703A (zh) * | 2021-08-18 | 2021-11-16 | 淮阴工学院 | 一种多显色的激光打标机 |
EP4177057A1 (en) * | 2021-11-05 | 2023-05-10 | Boegli-Gravures S.A. | Method for engraving code patterns in a solid piece's tool surface |
DE102022000102A1 (de) * | 2022-01-12 | 2023-07-13 | Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh | Optisch variables Flächenmuster |
CN114993950A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-09-02 | 瀚天天成电子科技(厦门)有限公司 | 一种SiC外延片表面的台阶聚集缺陷的检测方法 |
Family Cites Families (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT393334B (de) * | 1988-01-22 | 1991-09-25 | Ims Ionen Mikrofab Syst | Anordnung zur stabilisierung einer bestrahlten maske |
US5058992A (en) | 1988-09-07 | 1991-10-22 | Toppan Printing Co., Ltd. | Method for producing a display with a diffraction grating pattern and a display produced by the method |
US5091979A (en) * | 1991-03-22 | 1992-02-25 | At&T Bell Laboratories | Sub-micron imaging |
CA2159337A1 (en) * | 1993-04-06 | 1994-10-13 | Robert Arthur Lee | Optical data element |
WO1994028444A1 (en) * | 1993-05-25 | 1994-12-08 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Multiple image diffractive device |
EP0710183B2 (en) * | 1993-06-08 | 2007-03-28 | Securency Pty. Ltd. | Embossing of banknotes or the like with security devices |
JPH07150334A (ja) | 1993-11-25 | 1995-06-13 | Canon Inc | レーザ光用薄膜の製造方法 |
AUPO384796A0 (en) | 1996-11-26 | 1996-12-19 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Colour image diffractive device |
JPH11109117A (ja) | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Canon Inc | 回折光学素子の製造方法及び製造装置 |
AUPP444498A0 (en) * | 1998-07-02 | 1998-07-23 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Diffractive structure with interstitial elements |
FR2781707B1 (fr) | 1998-07-30 | 2000-09-08 | Snecma | Procede d'usinage par laser excimere de trous ou de formes a profil variable |
CA2369584A1 (en) * | 1999-04-09 | 2000-10-19 | The University Of New Mexico | Large photosensitivity in lead silicate glasses |
JP4124396B2 (ja) * | 1999-12-17 | 2008-07-23 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ホログラムの製造方法および装置 |
JP3982136B2 (ja) | 2000-02-04 | 2007-09-26 | セイコーエプソン株式会社 | レーザ加工方法及びその装置 |
JP2002011589A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-15 | Hitachi Ltd | レーザ加工用マスクとその製造方法、製造装置、及びレーザアブレーション加工装置、並びに該マスクを用いて製作した画像表示装置 |
EP1303795B1 (en) * | 2000-07-18 | 2006-08-30 | Optaglio Limited | Achromatic diffractive device |
US6929886B2 (en) * | 2001-01-02 | 2005-08-16 | U-C-Laser Ltd. | Method and apparatus for the manufacturing of reticles |
JP2003075621A (ja) | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 真正性証明用回折格子、およびそれが設けられた記録体 |
JP4006994B2 (ja) * | 2001-12-18 | 2007-11-14 | 株式会社リコー | 立体構造体の加工方法、立体形状品の製造方法及び立体構造体 |
CN1271477C (zh) * | 2002-06-25 | 2006-08-23 | 西安大天激光图像有限公司 | 激光全息防伪铝箔生产工艺 |
US7751608B2 (en) * | 2004-06-30 | 2010-07-06 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Model-based synthesis of band moire images for authenticating security documents and valuable products |
JP4203310B2 (ja) | 2002-12-09 | 2008-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 |
US6941052B2 (en) * | 2002-12-19 | 2005-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Sensitized optical fiber method and article |
EP1437213A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-14 | Boegli-Gravures S.A. | Vorrichtung zum Satinieren und Prägen von Flachmaterial |
US20040161709A1 (en) * | 2003-02-10 | 2004-08-19 | Schroeder Joseph F. | Laser-written optical structures within calcium fluoride and other crystal materials |
EP1462831B1 (en) * | 2003-03-21 | 2008-05-14 | Her Majesty in Right of Canada as Represented by the Minister of Industry | Bragg grating and method of producing a bragg using an ultrafast laser |
TWI356973B (en) * | 2003-04-11 | 2012-01-21 | Tadahiro Ohmi | Pattern drawing apparatus and pattern drawing meth |
GB0323922D0 (en) * | 2003-10-11 | 2003-11-12 | Univ Aston | Laser inscription of optical structures in laser crystals |
US20050112472A1 (en) | 2003-11-20 | 2005-05-26 | Kutsch Wilhelm P. | Seamless holographic embossing substrate produced by laser ablation |
JP2005223760A (ja) | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Canon Inc | 画像読取装置及びその制御方法 |
JP2005270992A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Toppan Printing Co Ltd | パルスレーザーによる材料の表面加工方法、複製版の製造方法、表面加工データの処理方法、情報担体、光学素子及び画像 |
US7687740B2 (en) * | 2004-06-18 | 2010-03-30 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laterally spaced laser beam spots delivering multiple blows |
ATE469756T1 (de) * | 2004-06-22 | 2010-06-15 | Boegli Gravures Sa | Vorrichtung und verfahren zum satinieren und prägen von flachmaterial |
US20060018021A1 (en) * | 2004-07-26 | 2006-01-26 | Applied Opsec, Inc. | Diffraction-based optical grating structure and method of creating the same |
US7071417B2 (en) * | 2004-10-25 | 2006-07-04 | Demodulation, Inc. | Optically encoded glass-coated microwire |
JP4486472B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2010-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | レーザー処理装置及びその方法 |
DE102004060672A1 (de) | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Giesecke & Devrient Gmbh | Gitterbild zur Darstellung von Echtfarbenbildern und Verfahren zu seiner Herstellung |
US7349599B1 (en) * | 2005-03-14 | 2008-03-25 | Lightsmyth Technologies Inc | Etched surface gratings fabricated using computed interference between simulated optical signals and reduction lithography |
WO2007012215A1 (de) | 2005-07-28 | 2007-02-01 | Boegli-Gravures Sa | Verfahren und vorrichtung zur gezielten strukturierung einer oberfläche mit einer laseranlage |
CN101365991A (zh) * | 2005-11-03 | 2009-02-11 | 布鲁斯·哈 | 利用衍射在单一像面产生多个图像的方法和系统 |
JP2009539966A (ja) | 2006-06-13 | 2009-11-19 | セーエスウーエム、サントル、スイス、デレクトロニック、エ、ド、ミクロテクニック、ソシエテ、アノニム | 回折性微小構造を有する薬学的錠剤およびそのような錠剤を製造するための圧縮ダイ |
US7732351B2 (en) * | 2006-09-21 | 2010-06-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of semiconductor device and laser processing apparatus |
JP2008225322A (ja) | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 微細な凹凸部を有する光回折構造 |
EP2027993A1 (de) * | 2007-08-23 | 2009-02-25 | Boegli-Gravures S.A. | Vorrichtung zur Vorbereitung von Verpackungspapier auf den anschliessenden Verpackungsprozess |
DE102007042385A1 (de) * | 2007-09-04 | 2009-03-05 | Bundesdruckerei Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur individuellen holografischen Trommelbelichtung |
US8541066B2 (en) * | 2007-11-26 | 2013-09-24 | University Of North Carolina At Charlotte | Light-induced directed self-assembly of periodic sub-wavelength nanostructures |
JP5302611B2 (ja) * | 2008-02-08 | 2013-10-02 | 株式会社オハラ | 光学部品用ガラス部材及びそれに用いるガラス組成物 |
JP2010145800A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Elpida Memory Inc | 位相シフトマスクおよびその製造方法、ならびに集積回路の製造方法 |
-
2009
- 2009-12-18 EP EP20090405227 patent/EP2336810A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-11-22 RU RU2012124337/28A patent/RU2593618C2/ru active
- 2010-11-22 WO PCT/CH2010/000294 patent/WO2011072408A1/en active Application Filing
- 2010-11-22 BR BR112012014869A patent/BR112012014869B1/pt active IP Right Grant
- 2010-11-22 US US13/513,891 patent/US9140834B2/en active Active
- 2010-11-22 CA CA2781475A patent/CA2781475C/en active Active
- 2010-11-22 EP EP10785319A patent/EP2513687A1/en not_active Withdrawn
- 2010-11-22 JP JP2012543431A patent/JP5905394B2/ja active Active
- 2010-11-22 CN CN201080056938.5A patent/CN102792193B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9140834B2 (en) | 2015-09-22 |
EP2336810A1 (de) | 2011-06-22 |
BR112012014869A2 (pt) | 2016-03-29 |
CA2781475C (en) | 2018-09-04 |
EP2513687A1 (en) | 2012-10-24 |
JP2013514539A (ja) | 2013-04-25 |
WO2011072408A1 (en) | 2011-06-23 |
CA2781475A1 (en) | 2011-06-23 |
BR112012014869B1 (pt) | 2020-01-21 |
CN102792193A (zh) | 2012-11-21 |
RU2593618C2 (ru) | 2016-08-10 |
JP5905394B2 (ja) | 2016-04-20 |
CN102792193B (zh) | 2016-08-10 |
US20120243094A1 (en) | 2012-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012124337A (ru) | Способ и устройство для создания цветных картин с использованием дифракционной решетки | |
RU2012124336A (ru) | Способ и устройство для изготовления маски для лазерной установки для получения микроструктур | |
RU2567138C2 (ru) | Способ и устройство для структурирования поверхности твердого тела, покрытого твердым материалом, с помощью лазера | |
RU2011139389A (ru) | Способ и устройство для структурирования поверхности твердого тела, покрытого твердым материалом, с помощью лазера | |
RU2161093C2 (ru) | Способ маркировки бриллиантов | |
Kopitkovas et al. | Fabrication of micro-optical elements in quartz by laser induced backside wet etching | |
US11059127B2 (en) | Ablative production device and method for a periodic line structure on a workpiece | |
Ding et al. | Micron-and submicron-sized surface patterning of silica glass by LIBWE method | |
US20240337950A1 (en) | Apparatus and method for laser interference structuring of substrates with periodic dot structures for anti-reflection properties | |
Meinertz et al. | Micron and sub-micron gratings on glass by UV laser ablation | |
WO2015049406A1 (es) | Lente antirreflectante para gafas y procedimiento de fabricación de dicha lente | |
FR2494865A1 (fr) | Masque d'exposition pour rayonnements multiples | |
Glebov et al. | Interaction of photo-thermo-refractive glass with nanosecond pulses at 532 nm | |
Ihlemann et al. | Laser based rapid fabrication of SiO2-phase masks for efficient UV-laser micromachining | |
JP2005289693A (ja) | 人工水晶部材、光学素子、光学系、投影露光装置、及び人工水晶部材の選別方法 | |
Lukishova et al. | Soft apertures to shape high-power laser beams | |
FR2957686A1 (fr) | Photorepeteur pour la lithographie en extreme ultra-violet | |
David et al. | Laser Ablation Lithography Using Diffractive Phase Masks | |
Jakubczak et al. | Improved efficiency of materials processing by dual action of XUV/Vis-NIR ultrashort laser pulses and comprehensive study of high-order harmonic source at PALS | |
JP2006041050A (ja) | 発光素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
HE9A | Changing address for correspondence with an applicant |