JPH11109117A - 回折光学素子の製造方法及び製造装置 - Google Patents
回折光学素子の製造方法及び製造装置Info
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- JPH11109117A JPH11109117A JP28791197A JP28791197A JPH11109117A JP H11109117 A JPH11109117 A JP H11109117A JP 28791197 A JP28791197 A JP 28791197A JP 28791197 A JP28791197 A JP 28791197A JP H11109117 A JPH11109117 A JP H11109117A
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- mask
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い回折効率で所望の分光特性を有する回折
光学素子を得る 【解決手段】 レーザー発振器１からＡｒＦレーザービ
ームが発光し、ビーム整形機構３において必要なビーム
形状とビームの強度分布が均一に整形され、マスク４の
正三角形の部分を通過した後に、縮小光学系５において
１／８に縮小投影され、回転中の被加工物Ｓ上に、マス
ク４と相似形の正三角形の像が結像する。ここで、被加
工物Ｓ上のエネルギ密度が２Ｊ／ｃｍ2 となるようにビ
ームを絞り、照射面における被加工物の回転速度を２．
５ｍｍ／ｓに設定し、１００Ｈｚでパルスを発生して加
工すると、格子の高さが１０２３ｎｍの鋸歯状の同心円
の形状を得ることができ、マスクの形状やレーザービー
ムの出力を変えて上述の加工を繰り返すことにより、鋸
歯形状の回折光学素子８を作成することができる。
光学素子を得る 【解決手段】 レーザー発振器１からＡｒＦレーザービ
ームが発光し、ビーム整形機構３において必要なビーム
形状とビームの強度分布が均一に整形され、マスク４の
正三角形の部分を通過した後に、縮小光学系５において
１／８に縮小投影され、回転中の被加工物Ｓ上に、マス
ク４と相似形の正三角形の像が結像する。ここで、被加
工物Ｓ上のエネルギ密度が２Ｊ／ｃｍ2 となるようにビ
ームを絞り、照射面における被加工物の回転速度を２．
５ｍｍ／ｓに設定し、１００Ｈｚでパルスを発生して加
工すると、格子の高さが１０２３ｎｍの鋸歯状の同心円
の形状を得ることができ、マスクの形状やレーザービー
ムの出力を変えて上述の加工を繰り返すことにより、鋸
歯形状の回折光学素子８を作成することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真用カメラ、ビ
デオカメラ、双眼鏡、プロジェクタ、望遠鏡、顕微鏡、
複写機等の各種の光学機器の光学系に使用する回折光学
素子の製造方法及び製造装置に関するものである。
デオカメラ、双眼鏡、プロジェクタ、望遠鏡、顕微鏡、
複写機等の各種の光学機器の光学系に使用する回折光学
素子の製造方法及び製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、回折光学素子は従来の硝子等の
レンズと異なり平板状に形成することができ、小型化が
容易でかつ一度に多数個が製作できるという利点を有
し、ＣＤプレーヤの光ピックアップや光コネクタ等の光
学素子に応用されており、その用途範囲は広く、今後益
々展開が広がるものと期待されている。この回折光学素
子の製造方法については、マスクを用いたフォトリソグ
ラフィにより形成する方法、マイクロモールドにより形
成する方法、電子ビームで直接描画する方法等があり、
最近ではレーザービームで直接加工する方法が提案され
ている。
レンズと異なり平板状に形成することができ、小型化が
容易でかつ一度に多数個が製作できるという利点を有
し、ＣＤプレーヤの光ピックアップや光コネクタ等の光
学素子に応用されており、その用途範囲は広く、今後益
々展開が広がるものと期待されている。この回折光学素
子の製造方法については、マスクを用いたフォトリソグ
ラフィにより形成する方法、マイクロモールドにより形
成する方法、電子ビームで直接描画する方法等があり、
最近ではレーザービームで直接加工する方法が提案され
ている。
【０００３】このレーザービームの加工への応用展開
は、炭酸ガスレーザービームやＹＡＧレーザービームを
中心に近年盛んに行われており、特に金属加工分野では
１つの加工方法として確立している。更に、最近では紫
外領域の発振波長を有するエキシマレーザービームの加
工応用が検討されており、エキシマレーザービームは炭
酸ガスレーザーやＹＡＧレーザービーム等と比較して波
長が短いので、特に微細加工に適している。その加工メ
カニズムは熱加工ではなく、高いフォトンエネルギを利
用した非熱加工であるアブレーション加工なので加工形
状が美しく、またパルス発振による加工量の制御が容易
なので、任意の深さの加工が可能である。従って、微細
な溝加工等を必要とする回折光学素子には、このレーザ
ービームによる加工が好適である。
は、炭酸ガスレーザービームやＹＡＧレーザービームを
中心に近年盛んに行われており、特に金属加工分野では
１つの加工方法として確立している。更に、最近では紫
外領域の発振波長を有するエキシマレーザービームの加
工応用が検討されており、エキシマレーザービームは炭
酸ガスレーザーやＹＡＧレーザービーム等と比較して波
長が短いので、特に微細加工に適している。その加工メ
カニズムは熱加工ではなく、高いフォトンエネルギを利
用した非熱加工であるアブレーション加工なので加工形
状が美しく、またパルス発振による加工量の制御が容易
なので、任意の深さの加工が可能である。従って、微細
な溝加工等を必要とする回折光学素子には、このレーザ
ービームによる加工が好適である。
【０００４】このようなレーザー加工装置は、一般的に
はレーザー装置からレーザービームを発振し、所定形状
のマスクを透過させ、直接ないしレンズ系で縮小又は拡
大した後に、マスク形状のレーザービームを被加工物に
照射して加工する方法及び構成である。例えば、レーザ
ービームを使用して回折光学素子を加工する方法は、特
開平４−１５８９９８号公報や特開平８−１７９１０８
号公報に開示されており、特開平４−１５８９９８号公
報の加工方法では、マスクを何度か交換して位置合わせ
を行い、それぞれを重ね合わせて加工することによっ
て、深さ方向の異なる複雑な階段形状を形成している。
また、特開平８−１７９１０８号公報の加工方法では、
被加工物への結像位置を変えることによって、深さ方向
の異なる複雑な階段形状の加工を行っている。
はレーザー装置からレーザービームを発振し、所定形状
のマスクを透過させ、直接ないしレンズ系で縮小又は拡
大した後に、マスク形状のレーザービームを被加工物に
照射して加工する方法及び構成である。例えば、レーザ
ービームを使用して回折光学素子を加工する方法は、特
開平４−１５８９９８号公報や特開平８−１７９１０８
号公報に開示されており、特開平４−１５８９９８号公
報の加工方法では、マスクを何度か交換して位置合わせ
を行い、それぞれを重ね合わせて加工することによっ
て、深さ方向の異なる複雑な階段形状を形成している。
また、特開平８−１７９１０８号公報の加工方法では、
被加工物への結像位置を変えることによって、深さ方向
の異なる複雑な階段形状の加工を行っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来例の特開平４−１５８９９８号公報の加工方法では
鋸歯状の加工は不可能であり、またマスク位置と加工位
置関係を含めた位置合わせに高い精度が要求され、特に
微細加工における高精度の実現は実際上困難である。ま
た、特開平８−１７９１０８号公報の加工方法でも同様
に鋸歯状の加工が不可能であり、また結像の位置が変わ
ることにより、微妙な出力の調整が必要となるために、
高精度の加工に相当の時間を要するという問題がある。
従来例の特開平４−１５８９９８号公報の加工方法では
鋸歯状の加工は不可能であり、またマスク位置と加工位
置関係を含めた位置合わせに高い精度が要求され、特に
微細加工における高精度の実現は実際上困難である。ま
た、特開平８−１７９１０８号公報の加工方法でも同様
に鋸歯状の加工が不可能であり、また結像の位置が変わ
ることにより、微妙な出力の調整が必要となるために、
高精度の加工に相当の時間を要するという問題がある。
【０００６】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
高い回折効率で所望の分光特性を有する回折光学素子を
作成する回折光学素子の製造方法及び製造装置を提供す
ることにある。
高い回折効率で所望の分光特性を有する回折光学素子を
作成する回折光学素子の製造方法及び製造装置を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る回折光学素子の製造方法は、被加工物の
目的パターンに応じたパターンを有するマスクと前記被
加工物とを光軸上に並べ、前記マスクのパターンを通し
て前記被加工物にエキシマレーザービームを照射し、同
時に前記被加工物を回転することにより、鋸歯状又は階
段状又はキノフォーム状の表面形状を得ることを特徴と
する。
の本発明に係る回折光学素子の製造方法は、被加工物の
目的パターンに応じたパターンを有するマスクと前記被
加工物とを光軸上に並べ、前記マスクのパターンを通し
て前記被加工物にエキシマレーザービームを照射し、同
時に前記被加工物を回転することにより、鋸歯状又は階
段状又はキノフォーム状の表面形状を得ることを特徴と
する。
【０００８】本発明に係る回折光学素子の製造方法は、
基板に形成した第１の回折格子上に前記基板と異なる屈
折率及びアッベ数を有する膜を形成し、第２の回折格子
をその条件に対応したマスクを使用して形成することを
特徴とする。
基板に形成した第１の回折格子上に前記基板と異なる屈
折率及びアッベ数を有する膜を形成し、第２の回折格子
をその条件に対応したマスクを使用して形成することを
特徴とする。
【０００９】本発明に係る回折光学素子の製造装置は、
被加工物を加工するエキシマレーザービームを射出する
加工用光源と、該加工光源からのレーザービームに対し
て透明部分と不透明部分を有し、前記レーザービームの
一部を透過して前記被加工物の少なくとも一部に照射す
るマスクと、前記被加工物を回転する機構とを有するこ
とを特徴とする。
被加工物を加工するエキシマレーザービームを射出する
加工用光源と、該加工光源からのレーザービームに対し
て透明部分と不透明部分を有し、前記レーザービームの
一部を透過して前記被加工物の少なくとも一部に照射す
るマスクと、前記被加工物を回転する機構とを有するこ
とを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明を図示の実施例に基づいて
詳細に説明する。図１はレーザービームを使用した加工
装置の構成図を示す。レーザー発振器１の光路上に折り
返しミラー２が配置され、この折り返しミラー２の反射
方向には、ビーム整形機構３、図２に示すような形状で
１辺が４ｍｍの三角形の部分を有するマスク４、縮小光
学系５が順次に配置されている。その下方には、被加工
物Ｓを載置するために、回転機構を有する架台６とこの
架台６を動かすためのＸＹステージ７が配置されてい
る。マスク４は任意の形状の蒸着パターンか又は任意の
形状を有する金属パターンを、石英基板間に挟着したも
のにより構成されている。
詳細に説明する。図１はレーザービームを使用した加工
装置の構成図を示す。レーザー発振器１の光路上に折り
返しミラー２が配置され、この折り返しミラー２の反射
方向には、ビーム整形機構３、図２に示すような形状で
１辺が４ｍｍの三角形の部分を有するマスク４、縮小光
学系５が順次に配置されている。その下方には、被加工
物Ｓを載置するために、回転機構を有する架台６とこの
架台６を動かすためのＸＹステージ７が配置されてい
る。マスク４は任意の形状の蒸着パターンか又は任意の
形状を有する金属パターンを、石英基板間に挟着したも
のにより構成されている。
【００１１】上述の加工装置の構成により、レーザー発
振器１からビーム形状が約８×２５ｍｍの長方形断面の
波長１９３ｎｍのＡｒＦレーザービームが発光され、こ
のレーザービームは折り返しミラー２で方向を変え、ビ
ーム整形機構３に入射して必要なビーム形状とビーム強
度分布が均一に整形された後に、マスク４に入射する。
更に、マスク４の三角形部を通過したレーザービーム
は、縮小光学系５に入射して１／８に縮小投影され、回
転中の被加工物Ｓである光学硝子ＢＫ−７上に、マスク
４と相似形の三角形像を結像する。
振器１からビーム形状が約８×２５ｍｍの長方形断面の
波長１９３ｎｍのＡｒＦレーザービームが発光され、こ
のレーザービームは折り返しミラー２で方向を変え、ビ
ーム整形機構３に入射して必要なビーム形状とビーム強
度分布が均一に整形された後に、マスク４に入射する。
更に、マスク４の三角形部を通過したレーザービーム
は、縮小光学系５に入射して１／８に縮小投影され、回
転中の被加工物Ｓである光学硝子ＢＫ−７上に、マスク
４と相似形の三角形像を結像する。
【００１２】このまま、被加工物Ｓである光学硝子ＢＫ
−７上のエネルギ密度が２Ｊ／ｃｍ2 となるようにビー
ムを絞り、照射面における被加工物の光学硝子ＢＫ−７
の回転速度を２．５ｍｍ／ｓに設定し、１００Ｈｚでパ
ルスを発生して加工すると、格子の高さが１０２３ｎｍ
の鋸歯状の同心円の形状を得ることができる。この格子
の角度は、マスクの形状及びレーザービームの出力を変
えることにより変化させることができ、上述の加工方法
を繰り返して、図３に示すような断面の鋸歯形状の回折
光学素子８を作成する。
−７上のエネルギ密度が２Ｊ／ｃｍ2 となるようにビー
ムを絞り、照射面における被加工物の光学硝子ＢＫ−７
の回転速度を２．５ｍｍ／ｓに設定し、１００Ｈｚでパ
ルスを発生して加工すると、格子の高さが１０２３ｎｍ
の鋸歯状の同心円の形状を得ることができる。この格子
の角度は、マスクの形状及びレーザービームの出力を変
えることにより変化させることができ、上述の加工方法
を繰り返して、図３に示すような断面の鋸歯形状の回折
光学素子８を作成する。
【００１３】また、図４、図５に示すような形状のマス
クを使用して、上述と同様の加工方法により、それぞれ
図６、図７に示すような鋸歯形状の回折光学素子８を作
成することができる。
クを使用して、上述と同様の加工方法により、それぞれ
図６、図７に示すような鋸歯形状の回折光学素子８を作
成することができる。
【００１４】また、基板材料をアクリル系樹脂に変更し
て、同様の方法及び装置で加工してもよい。この場合
に、被加工物Ｓであるアクリル系樹脂上のエネルギが７
０ｍＪ／ｃｍ2 になるようにビームを絞り、照射面での
被加工物Ｓのアクリル系樹脂の回転速度を２．５ｍｍ／
ｓに設定して、１００Ｈｚでパルスを発生して加工する
と、格子の高さが１０２３ｎｍの鋸歯状の同心円形状を
得ることができ、上述の加工方法を繰り返して鋸歯形状
の回折光学素子８を作成することができる。
て、同様の方法及び装置で加工してもよい。この場合
に、被加工物Ｓであるアクリル系樹脂上のエネルギが７
０ｍＪ／ｃｍ2 になるようにビームを絞り、照射面での
被加工物Ｓのアクリル系樹脂の回転速度を２．５ｍｍ／
ｓに設定して、１００Ｈｚでパルスを発生して加工する
と、格子の高さが１０２３ｎｍの鋸歯状の同心円形状を
得ることができ、上述の加工方法を繰り返して鋸歯形状
の回折光学素子８を作成することができる。
【００１５】光学硝子ＢＫ−７を基板とし、設計次数を
＋１次、設計波長を５３０ｎｍ、段数を４段とすると、
このときのステップの高さは３４１ｎｍである。図８に
示すような階段形状用のマスク４を使用して、スリット
幅を４ｍｍ、３．３ｍｍ、２．６ｍｍとし、被加工物Ｓ
である光学硝子ＢＫ−７の回転速度を２．５ｍｍ／ｓに
設定して、２００Ｈｚでパルスを発生して、鋸歯形状の
場合と同様の加工方法で加工する。その結果、図９に示
すような格子高さが３４１ｎｍの４段の階段形状の回折
光学素子８を作成することができる。
＋１次、設計波長を５３０ｎｍ、段数を４段とすると、
このときのステップの高さは３４１ｎｍである。図８に
示すような階段形状用のマスク４を使用して、スリット
幅を４ｍｍ、３．３ｍｍ、２．６ｍｍとし、被加工物Ｓ
である光学硝子ＢＫ−７の回転速度を２．５ｍｍ／ｓに
設定して、２００Ｈｚでパルスを発生して、鋸歯形状の
場合と同様の加工方法で加工する。その結果、図９に示
すような格子高さが３４１ｎｍの４段の階段形状の回折
光学素子８を作成することができる。
【００１６】この場合のＡｒＦレーザービームの１パル
スによる除去量は、光学硝子ＢＫ−７で０．３μｍ以下
であり、樹脂では０．５μｍ以下であり、この値は出力
により変化する。深さ方向の除去量は照射したパルス量
で決まり、それぞれの段差はマスク４のスリット幅の差
で決まる。
スによる除去量は、光学硝子ＢＫ−７で０．３μｍ以下
であり、樹脂では０．５μｍ以下であり、この値は出力
により変化する。深さ方向の除去量は照射したパルス量
で決まり、それぞれの段差はマスク４のスリット幅の差
で決まる。
【００１７】また、波長による分散特性を補正する目的
で、図１０に示すように第１の回折格子９に屈折率とア
ッベ数の異なる第２の材料から成る第２の回折光学格子
１０を複合して、複合型回折光学素子１１を作成するこ
とができる。この複合型回折光学素子１１は、基板にＢ
Ｋ−７を使用し、２層目の材料にＴｉＯ2 を使用する。
設計波長として５３０ｎｍと４５３ｎｍを設定して、４
段の回折格子９を設計する。この回折格子９の形状は、
第１段の高さが４８８．１５ｎｍで、トップの高さが１
４６４．４５ｎｍ、第２の回折格子１０の段差は３９８
ｎｍである。
で、図１０に示すように第１の回折格子９に屈折率とア
ッベ数の異なる第２の材料から成る第２の回折光学格子
１０を複合して、複合型回折光学素子１１を作成するこ
とができる。この複合型回折光学素子１１は、基板にＢ
Ｋ−７を使用し、２層目の材料にＴｉＯ2 を使用する。
設計波長として５３０ｎｍと４５３ｎｍを設定して、４
段の回折格子９を設計する。この回折格子９の形状は、
第１段の高さが４８８．１５ｎｍで、トップの高さが１
４６４．４５ｎｍ、第２の回折格子１０の段差は３９８
ｎｍである。
【００１８】この場合には、基板を図８の形状のマスク
４を使用して、スリット幅を４ｍｍ、３ｍｍ、２ｍｍと
し、被加工物Ｓである光学硝子ＢＫ−７上のエネルギ密
度が２Ｊ／ｃｍ2 となるようにビームを絞り、照射面で
の被加工物の光学硝子ＢＫ−７の回転速度を２．５ｍｍ
／ｓに設定し、２００Ｈｚでパルスを発生して加工する
と、格子の高さが４８８．１５ｎｍの４段の階段形状の
回折格子９を得る。
４を使用して、スリット幅を４ｍｍ、３ｍｍ、２ｍｍと
し、被加工物Ｓである光学硝子ＢＫ−７上のエネルギ密
度が２Ｊ／ｃｍ2 となるようにビームを絞り、照射面で
の被加工物の光学硝子ＢＫ−７の回転速度を２．５ｍｍ
／ｓに設定し、２００Ｈｚでパルスを発生して加工する
と、格子の高さが４８８．１５ｎｍの４段の階段形状の
回折格子９を得る。
【００１９】次に、第１の回折格子９上に、ＴｉＯ2 層
を１４６５ｎｍ以上真空蒸着又はスパッタリングで形成
した後に、図８のマスク４を使用して、スリット幅を４
ｍｍ、３．２ｍｍ、２．４ｍｍとし、被加工物Ｓである
光学硝子ＢＫ−７上のエネルギ密度を２Ｊ／ｃｍ2 とな
るようにビームを絞り、照射面での被加工物の光学硝子
ＢＫ−７の回転速度を２．５ｍｍ／ｓに設定して、２０
０Ｈｚでパルスを発生して加工すると、第１の回折格子
９の２段目に段差が３９８ｎｍの回折格子１０が形成さ
れる。この加工を繰り返して第３段目、第４段目に第２
の回折格子１０を形成し、４段の階段形状の複合型回折
光学素子１１が得られる。このとき、第１の回折格子９
と第２の回折格子１０の形状を測定すると、設計通りの
形状であることが分かる。
を１４６５ｎｍ以上真空蒸着又はスパッタリングで形成
した後に、図８のマスク４を使用して、スリット幅を４
ｍｍ、３．２ｍｍ、２．４ｍｍとし、被加工物Ｓである
光学硝子ＢＫ−７上のエネルギ密度を２Ｊ／ｃｍ2 とな
るようにビームを絞り、照射面での被加工物の光学硝子
ＢＫ−７の回転速度を２．５ｍｍ／ｓに設定して、２０
０Ｈｚでパルスを発生して加工すると、第１の回折格子
９の２段目に段差が３９８ｎｍの回折格子１０が形成さ
れる。この加工を繰り返して第３段目、第４段目に第２
の回折格子１０を形成し、４段の階段形状の複合型回折
光学素子１１が得られる。このとき、第１の回折格子９
と第２の回折格子１０の形状を測定すると、設計通りの
形状であることが分かる。
【００２０】図１１、図１２はキノフォーム形状の成形
用マスク４の平面図を示し、これらのマスク４を使用し
てそれぞれ図１３、図１４に示すような断面のキノフォ
ーム形状の回折光学素子８を形成することができ、この
場合も上述の実施例と同様の効果が得られる。
用マスク４の平面図を示し、これらのマスク４を使用し
てそれぞれ図１３、図１４に示すような断面のキノフォ
ーム形状の回折光学素子８を形成することができ、この
場合も上述の実施例と同様の効果が得られる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る回折光
学素子の製造方法は、被加工物の目的パターンに応じた
パターンを有するマスクを通して、被加工物にエキシマ
レーザービームを照射し、同時に被加工物を回転するこ
とにより、同心円上で深さ方向が異なる微細階段形状の
複雑な加工及び鋸歯形状の加工を簡便に精度良く行うこ
とができ、高い回折効率で所定の分光特性を有する回折
光学素子を容易に製造することができる。
学素子の製造方法は、被加工物の目的パターンに応じた
パターンを有するマスクを通して、被加工物にエキシマ
レーザービームを照射し、同時に被加工物を回転するこ
とにより、同心円上で深さ方向が異なる微細階段形状の
複雑な加工及び鋸歯形状の加工を簡便に精度良く行うこ
とができ、高い回折効率で所定の分光特性を有する回折
光学素子を容易に製造することができる。
【００２２】また、本発明に係る回折光学素子の製造方
法は、基板に形成した第１の回折格子上に、基板と異な
る屈折率及びアッベ数を有する膜の第２の回折格子を形
成することにより、同心円上で深さ方向が異なる微細階
段形状の複雑な加工及び鋸歯形状の加工を簡便に精度良
く行うことができ、高い回折効率で所定の分光特性を有
する回折光学素子を容易に製造することができる。
法は、基板に形成した第１の回折格子上に、基板と異な
る屈折率及びアッベ数を有する膜の第２の回折格子を形
成することにより、同心円上で深さ方向が異なる微細階
段形状の複雑な加工及び鋸歯形状の加工を簡便に精度良
く行うことができ、高い回折効率で所定の分光特性を有
する回折光学素子を容易に製造することができる。
【００２３】本発明に係る回折光学素子の製造装置は、
被加工物を加工する加工用光源からのエキシマレーザー
ビームを、マスクを通して被加工物の少なくとも一部に
照射し、同時に被加工物を回転することにより、同心円
上で深さ方向が異なる微細階段形状の複雑な加工及び鋸
歯形状の加工を簡便に精度良く行うことができ、高い回
折効率で所定の分光特性を有する回折光学素子を容易に
製造することができる。
被加工物を加工する加工用光源からのエキシマレーザー
ビームを、マスクを通して被加工物の少なくとも一部に
照射し、同時に被加工物を回転することにより、同心円
上で深さ方向が異なる微細階段形状の複雑な加工及び鋸
歯形状の加工を簡便に精度良く行うことができ、高い回
折効率で所定の分光特性を有する回折光学素子を容易に
製造することができる。
【図１】レーザー加工装置の構成図である。
【図２】鋸歯形状用マスクの平面図である。
【図３】鋸歯形状回折光学素子の断面図である。
【図４】鋸歯形状用マスクの平面図である。
【図５】鋸歯形状用マスクの平面図である。
【図６】鋸歯形状回折光学素子の断面図である。
【図７】鋸歯形状回折光学素子の断面図である。
【図８】階段形状用マスクの平面図である。
【図９】階段形状回折光学素子の断面図である。
【図１０】階段形状回折光学素子の拡大図である。
【図１１】キノフォーム形状用マスクの平面図である。
【図１２】キノフォーム形状用マスクの平面図である。
【図１３】キノフォーム形状回折光学素子の断面図であ
る。
る。
【図１４】キノフォーム形状回折光学素子の断面図であ
る。
る。
１ レーザー発振器 ２ 折り返しミラー ３ ビーム整形機構 ４ マスク ５ 縮小光学系 ６ 回転機構付き架台 ７ ＸＹステージ ８ 回折光学素子 ９ 第１の回折格子 １０ 第２の回折格子 １１ 複合型回折光学素子
Claims (5)
- 【請求項１】 被加工物の目的パターンに応じたパター
ンを有するマスクと前記被加工物とを光軸上に並べ、前
記マスクのパターンを通して前記被加工物にエキシマレ
ーザービームを照射し、同時に前記被加工物を回転する
ことにより、鋸歯状又は階段状又はキノフォーム状の表
面形状を得ることを特徴とする回折光学素子の製造方
法。 - 【請求項２】 前記被加工物にエキシマレーザービーム
を照射する投影光学系は縮小光学系とした請求項１に記
載の回折光学素子の製造方法。 - 【請求項３】 基板に形成した第１の回折格子上に前記
基板と異なる屈折率及びアッベ数を有する膜を形成し、
第２の回折格子をその条件に対応したマスクを使用して
形成することを特徴とする回折光学素子の製造方法。 - 【請求項４】 被加工物を加工するエキシマレーザービ
ームを射出する加工用光源と、該加工光源からのレーザ
ービームに対して透明部分と不透明部分を有し、前記レ
ーザービームの一部を透過して前記被加工物の少なくと
も一部に照射するマスクと、前記被加工物を回転する機
構とを有することを特徴とする回折光学素子の製造装
置。 - 【請求項５】 前記被加工物にエキシマレーザービーム
を照射する投影光学系は縮小光学系とした請求項４に記
載の回折光学素子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28791197A JPH11109117A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 回折光学素子の製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28791197A JPH11109117A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 回折光学素子の製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11109117A true JPH11109117A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17723330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28791197A Pending JPH11109117A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 回折光学素子の製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11109117A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7518294B2 (en) | 2004-05-21 | 2009-04-14 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method of quartz crystal resonator, apparatus therefor, and quartz crystal resonator manufactured thereby |
| JP2013514539A (ja) * | 2009-12-18 | 2013-04-25 | ボエグリ − グラビュル ソシエテ アノニム | 回折格子を使用して色パターンを生成する方法及びデバイス |
-
1997
- 1997-10-03 JP JP28791197A patent/JPH11109117A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7518294B2 (en) | 2004-05-21 | 2009-04-14 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method of quartz crystal resonator, apparatus therefor, and quartz crystal resonator manufactured thereby |
| JP2013514539A (ja) * | 2009-12-18 | 2013-04-25 | ボエグリ − グラビュル ソシエテ アノニム | 回折格子を使用して色パターンを生成する方法及びデバイス |
| US9140834B2 (en) | 2009-12-18 | 2015-09-22 | Boegli-Gravures S.A. | Method and device for producing color pattern by means of diffraction gratings |
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