RU2011118203A - Испаряющийся материал и способ его изготовления - Google Patents

Испаряющийся материал и способ его изготовления Download PDF

Info

Publication number
RU2011118203A
RU2011118203A RU2011118203/02A RU2011118203A RU2011118203A RU 2011118203 A RU2011118203 A RU 2011118203A RU 2011118203/02 A RU2011118203/02 A RU 2011118203/02A RU 2011118203 A RU2011118203 A RU 2011118203A RU 2011118203 A RU2011118203 A RU 2011118203A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
material according
earth metal
core
alloy
rare earth
Prior art date
Application number
RU2011118203/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2490367C2 (ru
Inventor
Хироси НАГАТА (JP)
Хироси НАГАТА
Йосинори СИНГАКИ (JP)
Йосинори СИНГАКИ
Йоуити ХИРОСЕ (JP)
Йоуити ХИРОСЕ
Кеутоси МИЯГИ (JP)
Кеутоси МИЯГИ
Original Assignee
Улвак, Инк. (Jp)
Улвак, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Улвак, Инк. (Jp), Улвак, Инк. filed Critical Улвак, Инк. (Jp)
Publication of RU2011118203A publication Critical patent/RU2011118203A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2490367C2 publication Critical patent/RU2490367C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D23/00—Casting processes not provided for in groups B22D1/00 - B22D21/00
    • B22D23/04—Casting by dipping
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/68—Temporary coatings or embedding materials applied before or during heat treatment
    • C21D1/72—Temporary coatings or embedding materials applied before or during heat treatment during chemical change of surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D6/00—Heat treatment of ferrous alloys
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
    • H01F41/0293—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets diffusion of rare earth elements, e.g. Tb, Dy or Ho, into permanent magnets
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12361—All metal or with adjacent metals having aperture or cut

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Hard Magnetic Materials (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

1. Испаряющийся материал, содержащий сердцевину, выполненную из тугоплавкого металла и имеющую множество сквозных отверстий, причем сердцевина имеет редкоземельный металл или его сплав, который расплавлен, налип на сердцевину и затвердел на ней. ! 2. Испаряющийся материал по п.1, при этом редкоземельный металл или его сплав, налипший на сердцевину, образован погружением сердцевины в расплавленную ванну редкоземельного металла или его сплава и извлечением сердцевины из нее. ! 3. Испаряющийся материал по п.1, при этом редкоземельный металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из тербия, диспрозия и гольмия. ! 4. Испаряющийся материал по п.2, при этом редкоземельный металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из тербия, диспрозия и гольмия. ! 5. Испаряющийся материал по любому из пп.1-4, при этом тугоплавкий металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из ниобия, молибдена, тантала, титана, ванадия и вольфрама. ! 6. Испаряющийся материал по любому из пп.1-4, при этом сердцевина содержит дно из сетчатой детали, которая выполнена сборкой множества проволочных материалов в форме решетки, тянутого металла и перфорированного металла. !7. Испаряющийся материал по любому из пп.1-4, при этом испаряющийся материал подвергают термической обработке с испарением испаряющегося материала, включая диспрозий и тербий, в вакууме или в атмосфере инертного газа с пониженным давлением, причем испаряющийся материал предназначен для применения при повышении коэрцитивной силы спеченного магнита неодим-железо-бор или магнита горячей пластической деформации. ! 8. Способ изготовлени

Claims (14)

1. Испаряющийся материал, содержащий сердцевину, выполненную из тугоплавкого металла и имеющую множество сквозных отверстий, причем сердцевина имеет редкоземельный металл или его сплав, который расплавлен, налип на сердцевину и затвердел на ней.
2. Испаряющийся материал по п.1, при этом редкоземельный металл или его сплав, налипший на сердцевину, образован погружением сердцевины в расплавленную ванну редкоземельного металла или его сплава и извлечением сердцевины из нее.
3. Испаряющийся материал по п.1, при этом редкоземельный металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из тербия, диспрозия и гольмия.
4. Испаряющийся материал по п.2, при этом редкоземельный металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из тербия, диспрозия и гольмия.
5. Испаряющийся материал по любому из пп.1-4, при этом тугоплавкий металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из ниобия, молибдена, тантала, титана, ванадия и вольфрама.
6. Испаряющийся материал по любому из пп.1-4, при этом сердцевина содержит дно из сетчатой детали, которая выполнена сборкой множества проволочных материалов в форме решетки, тянутого металла и перфорированного металла.
7. Испаряющийся материал по любому из пп.1-4, при этом испаряющийся материал подвергают термической обработке с испарением испаряющегося материала, включая диспрозий и тербий, в вакууме или в атмосфере инертного газа с пониженным давлением, причем испаряющийся материал предназначен для применения при повышении коэрцитивной силы спеченного магнита неодим-железо-бор или магнита горячей пластической деформации.
8. Способ изготовления испаряющегося материала, при котором
формируют затвердевшее тело из редкоземельного металла или его сплава расплавлением редкоземельного металла или его сплава, погружением основы, выполненной из тугоплавкого металла, в расплавленную ванну редкоземельного металла или его сплава в состоянии поддерживания основы при температуре ниже температуры плавления редкоземельного металла или его сплава, и после этого извлечением основы с образованием тем самым на поверхности основы затвердевшего тела
отделяют затвердевшее тело от основы и
обрабатывают отделенное таким образом затвердевшее тело до пластинчатой формы.
9. Способ изготовления испаряющегося материала по п.8, при этом основа имеет столбчатую форму или призматическую форму.
10. Способ изготовления испаряющегося материала по п.8, дополнительно содержащий увеличение или уменьшение продолжительности погружения основы в расплавленную ванну, чтобы тем самым регулировать толщину затвердевшего тела.
11. Способ изготовления испаряющегося материала по п.9, дополнительно содержащий увеличение или уменьшение продолжительности погружения основы в расплавленную ванну, чтобы тем самым регулировать толщину затвердевшего тела.
12. Способ изготовления испаряющегося материала по любому из пп.8-11, дополнительно содержащий изменение температуры основы при погружении основы в расплавленную ванну, чтобы тем самым регулировать толщину затвердевшего тела.
13. Способ изготовления испаряющегося материала по любому из пп.8-11, при этом редкоземельный металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из тербия, диспрозия и гольмия.
14. Способ изготовления испаряющегося материала по любому из пп.8-11, при этом тугоплавкий металл представляет собой элемент, выбранный из группы, состоящей из ниобия, молибдена, тантала, титана, ванадия и вольфрама.
RU2011118203/02A 2008-10-08 2009-10-06 Иcпаряющийся материал и способ его изготовления RU2490367C2 (ru)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008261772 2008-10-08
JP2008-261772 2008-10-08
JP2008-271904 2008-10-22
JP2008271904 2008-10-22
PCT/JP2009/005168 WO2010041416A1 (ja) 2008-10-08 2009-10-06 蒸発材料及び蒸発材料の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011118203A true RU2011118203A (ru) 2012-11-20
RU2490367C2 RU2490367C2 (ru) 2013-08-20

Family

ID=42100378

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011118203/02A RU2490367C2 (ru) 2008-10-08 2009-10-06 Иcпаряющийся материал и способ его изготовления

Country Status (8)

Country Link
US (2) US20110189498A1 (ru)
JP (2) JP5348670B2 (ru)
KR (2) KR101373270B1 (ru)
CN (1) CN102177271B (ru)
DE (1) DE112009002354T5 (ru)
RU (1) RU2490367C2 (ru)
TW (1) TWI471875B (ru)
WO (1) WO2010041416A1 (ru)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102177271B (zh) 2008-10-08 2014-05-21 株式会社爱发科 蒸发材料及蒸发材料的制造方法
JP5747543B2 (ja) * 2011-02-14 2015-07-15 日立金属株式会社 Ｒｈ拡散源およびそれを用いたｒ−ｔ−ｂ系焼結磁石の製造方法
CN103258633B (zh) * 2013-05-30 2015-10-28 烟台正海磁性材料股份有限公司 一种R-Fe-B系烧结磁体的制备方法
US20150158083A1 (en) * 2013-12-06 2015-06-11 Howard A. Fromson Immersion Casting
CN103985534B (zh) * 2014-05-30 2016-08-24 厦门钨业股份有限公司 对R-T-B系磁体进行Dy扩散的方法、磁体和扩散源
CN104907572B (zh) * 2015-07-16 2017-11-10 浙江中杭新材料科技有限公司 一种钕铁硼磁材料的制备方法
CN105063550B (zh) * 2015-08-20 2017-11-28 包头天和磁材技术有限责任公司 渗透装置及方法
CN105177598A (zh) * 2015-10-15 2015-12-23 杭州科德磁业有限公司 钕铁硼磁体晶界扩散重稀土工艺
CN107871602A (zh) * 2016-09-26 2018-04-03 厦门钨业股份有限公司 一种R‑Fe‑B系稀土烧结磁铁的晶界扩散方法、HRE扩散源及其制备方法
CN106670430B (zh) * 2016-12-28 2019-04-26 新冶高科技集团有限公司 热等静压浸渍系统、方法和碳/金属复合材料
CA3051259A1 (en) * 2017-01-27 2018-08-02 Andrew J. Birnbaum Method and apparatus for volumetric manufacture of composite objects
CN110106334B (zh) * 2018-02-01 2021-06-22 福建省长汀金龙稀土有限公司 一种连续进行晶界扩散和热处理的装置以及方法
WO2019148918A1 (zh) 2018-02-01 2019-08-08 福建省长汀金龙稀土有限公司 一种连续进行晶界扩散和热处理的装置以及方法
CN109735687B (zh) * 2018-10-18 2021-05-04 福建省长汀金龙稀土有限公司 一种连续进行晶界扩散和热处理的装置以及方法
CN112962043B (zh) * 2021-02-02 2023-04-25 武汉钢铁有限公司 一种锌锭托举装置、加锭起重吊装置以及自动加锭系统
CN113458365A (zh) * 2021-07-02 2021-10-01 宁国市华成金研科技有限公司 一种外铸造工艺及铸造设备

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4615944A (en) * 1983-05-17 1986-10-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Amorphous magneto optical recording medium
JPS61151975A (ja) * 1984-12-24 1986-07-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 非水電解液二次電池
US4783245A (en) * 1986-03-25 1988-11-08 Sumitomo Light Metal Industries, Ltd. Process and apparatus for producing alloy containing terbium and/or gadolinium
DE3617833C1 (de) * 1986-05-27 1987-09-03 Mannesmann Ag Verfahren zum Herstellen von rotationssymmetrischen Hohlkoerpern
JPH02197564A (ja) * 1989-01-27 1990-08-06 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 真空蒸着装置
US5104695A (en) * 1989-09-08 1992-04-14 International Business Machines Corporation Method and apparatus for vapor deposition of material onto a substrate
RU2086699C1 (ru) * 1990-05-14 1997-08-10 Сибирская аэрокосмическая академия Способ изготовления мишени
JP2000345324A (ja) * 1999-06-03 2000-12-12 Sony Corp 蒸着装置
JP2001059164A (ja) * 1999-08-24 2001-03-06 Toray Ind Inc 蒸着装置と薄膜の製造方法
JP4585852B2 (ja) * 2002-07-30 2010-11-24 エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド 基板処理システム、基板処理方法及び昇華装置
KR100489300B1 (ko) 2002-12-23 2005-05-17 재단법인 포항산업과학연구원 진공증착에 의한 중성자 검출용 후막 제조방법 및 그후막을 포함하는 중성자 검출용 금속판
JP4409411B2 (ja) * 2004-10-29 2010-02-03 シャープ株式会社 冷却体、ならびにそれを用いる析出板製造装置および析出板の製造方法
CN102242342B (zh) * 2005-03-18 2014-10-01 株式会社爱发科 成膜方法和成膜装置以及永磁铁和永磁铁的制造方法
JP4725456B2 (ja) 2006-08-09 2011-07-13 セイコーエプソン株式会社 固体光源およびプロジェクタ
US8257511B2 (en) * 2006-08-23 2012-09-04 Ulvac, Inc. Permanent magnet and a manufacturing method thereof
RU2453942C2 (ru) * 2006-09-14 2012-06-20 Улвак, Инк. Постоянный магнит и способ его изготовления
JP4483849B2 (ja) * 2006-10-04 2010-06-16 Ｔｄｋ株式会社 強誘電体薄膜
JP5117220B2 (ja) 2007-10-31 2013-01-16 株式会社アルバック 永久磁石の製造方法
CN102177271B (zh) 2008-10-08 2014-05-21 株式会社爱发科 蒸发材料及蒸发材料的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201019350A (en) 2010-05-16
KR101456837B1 (ko) 2014-11-04
US20110189498A1 (en) 2011-08-04
US20140027083A1 (en) 2014-01-30
WO2010041416A1 (ja) 2010-04-15
RU2490367C2 (ru) 2013-08-20
CN102177271B (zh) 2014-05-21
KR101373270B1 (ko) 2014-03-11
US9434002B2 (en) 2016-09-06
CN102177271A (zh) 2011-09-07
JP5728533B2 (ja) 2015-06-03
DE112009002354T5 (de) 2012-01-19
JP2013237929A (ja) 2013-11-28
KR20130101167A (ko) 2013-09-12
TWI471875B (zh) 2015-02-01
JPWO2010041416A1 (ja) 2012-03-01
KR20110074573A (ko) 2011-06-30
JP5348670B2 (ja) 2013-11-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2011118203A (ru) Испаряющийся материал и способ его изготовления
US9981090B2 (en) Method for producing an aperture plate
KR101376074B1 (ko) 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금, 그 제조방법, 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법
WO2009057592A1 (ja) 永久磁石の製造方法及び永久磁石
CN103003898B (zh) R-t-b类烧结磁体的制造方法
JP2015527481A5 (ru)
CA2393330A1 (en) Manufacturing medical devices by vapor deposition
KR102074281B1 (ko) 자석
RU2009128059A (ru) Постоянный магнит и способ его изготовления
CN106498221A (zh) 纳米多孔金及其制备方法
RU2009128025A (ru) Постоянный магнит и способ его изготовления
US20140061912A1 (en) Patterned Graphene Structures on Silicon Carbide
RU2009128022A (ru) Постоянный магнит и способ его изготовления
JP2013199686A (ja) 金属多孔体の製造方法
DE10316379B4 (de) Verfahren zur Herstellung von Metall-Polymer-Nanokompositen
TW201704482A (zh) Ｃｕ－Ｇａ合金濺鍍靶及Ｃｕ－Ｇａ合金濺鍍靶之製造方法
WO2016046022A1 (de) Verfahren zur herstellung eines permanentmagneten
Davies et al. Characterization of micromachining processes during KrF excimer laser ablation of TiNi shape memory alloy thin sheets and films
CN203846095U (zh) 钼的蒸镀盖
JPH03126865A (ja) 電子ビーム蒸発装置
Tatar et al. The effects of γ-irradiation on some physical properties of Cu–13.5 wt.% Al–4 wt.% Ni shape memory alloy
JP4236601B2 (ja) 固体電解コンデンサの製造方法及び製造装置
JP2008001965A (ja) 多孔質体の製造方法および多孔質樹脂体の製造方法
DE102019002184B4 (de) Lötspitze und Verfahren zur Herstellung einer Lötspitze
US6983594B2 (en) Shape memory thin micro-actuator, and method for producing the same