RU2011100476A - Способ получения кремния в реакторе с псевдоожиженным слоем с использованием тетрахлорсилана для снижения осаждения на стенках реактора - Google Patents
Способ получения кремния в реакторе с псевдоожиженным слоем с использованием тетрахлорсилана для снижения осаждения на стенках реактора Download PDFInfo
- Publication number
- RU2011100476A RU2011100476A RU2011100476/05A RU2011100476A RU2011100476A RU 2011100476 A RU2011100476 A RU 2011100476A RU 2011100476/05 A RU2011100476/05 A RU 2011100476/05A RU 2011100476 A RU2011100476 A RU 2011100476A RU 2011100476 A RU2011100476 A RU 2011100476A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- fluidized bed
- bed reactor
- silicon
- gas
- reactor
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
- C01B33/035—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23C—METHODS OR APPARATUS FOR COMBUSTION USING FLUID FUEL OR SOLID FUEL SUSPENDED IN A CARRIER GAS OR AIR
- F23C10/00—Fluidised bed combustion apparatus
- F23C10/18—Details; Accessories
- F23C10/20—Inlets for fluidisation air, e.g. grids; Bottoms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1818—Feeding of the fluidising gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1818—Feeding of the fluidising gas
- B01J8/1827—Feeding of the fluidising gas the fluidising gas being a reactant
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
- C01B33/029—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition of monosilane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
- C01B33/03—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition of silicon halides or halosilanes or reduction thereof with hydrogen as the only reducing agent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00245—Avoiding undesirable reactions or side-effects
- B01J2219/00252—Formation of deposits other than coke
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/10—Process efficiency
- Y02P20/129—Energy recovery, e.g. by cogeneration, H2recovery or pressure recovery turbines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
1. Способ получения кремния, включающий: ! 1) подачу осаждающего газа, содержащего водород и кремниевый мономер, во внутреннюю область реактора с псевдоожиженным слоем, где кремниевый мономер выбран из SiH4 и HSiCl3, причем осаждающий газ вводят в нагреваемую зону реактора с псевдоожиженным слоем, и одновременно ! 2) подачу травильного газа, состоящего по существу из SiCl4, в окружающую область реактора с псевдоожиженным слоем, где окружающая область находится между указанной внутренней областью и стенкой реактора с псевдоожиженным слоем, причем количество кремниевого мономера на стадии (1) является достаточным для осаждения кремния на псевдоожиженных частицах кремния в реакционной зоне, расположенной выше нагреваемой зоны реактора с псевдоожиженным слоем, а количество травильного газа на стадии (2) является достаточным для удаления кремния со стенки реактора с псевдоожиженным слоем. ! 2. Способ по п.1, где осаждающий газ происходит из отходящего газа из реактора Сименса. ! 3. Способ по п.1, где поток отходящего газа из одного или более реакторов Сименса после выхода из реакторов Сименса и перед введением в реактор с псевдоожиженным слоем разделяют с получением по меньшей мере части осаждающего газа и по меньшей мере части травильного газа. ! 4. Способ по п.3, дополнительно включающий введение дополнительных хлорсиланов в осаждающий газ. ! 5. Способ по п.4, где дополнительные хлорсиланы содержат HSiCl3, SiCl4 или их комбинацию. ! 6. Способ по п.2 или 3, дополнительно включающий использование кремния, полученного в одном или более реакторах Сименса, в интегральных микросхемах и/или в солнечных батареях. ! 7. Способ по п.1, дополнительно
Claims (20)
1. Способ получения кремния, включающий:
1) подачу осаждающего газа, содержащего водород и кремниевый мономер, во внутреннюю область реактора с псевдоожиженным слоем, где кремниевый мономер выбран из SiH4 и HSiCl3, причем осаждающий газ вводят в нагреваемую зону реактора с псевдоожиженным слоем, и одновременно
2) подачу травильного газа, состоящего по существу из SiCl4, в окружающую область реактора с псевдоожиженным слоем, где окружающая область находится между указанной внутренней областью и стенкой реактора с псевдоожиженным слоем, причем количество кремниевого мономера на стадии (1) является достаточным для осаждения кремния на псевдоожиженных частицах кремния в реакционной зоне, расположенной выше нагреваемой зоны реактора с псевдоожиженным слоем, а количество травильного газа на стадии (2) является достаточным для удаления кремния со стенки реактора с псевдоожиженным слоем.
2. Способ по п.1, где осаждающий газ происходит из отходящего газа из реактора Сименса.
3. Способ по п.1, где поток отходящего газа из одного или более реакторов Сименса после выхода из реакторов Сименса и перед введением в реактор с псевдоожиженным слоем разделяют с получением по меньшей мере части осаждающего газа и по меньшей мере части травильного газа.
4. Способ по п.3, дополнительно включающий введение дополнительных хлорсиланов в осаждающий газ.
5. Способ по п.4, где дополнительные хлорсиланы содержат HSiCl3, SiCl4 или их комбинацию.
6. Способ по п.2 или 3, дополнительно включающий использование кремния, полученного в одном или более реакторах Сименса, в интегральных микросхемах и/или в солнечных батареях.
7. Способ по п.1, дополнительно включающий использование кремния, полученного в реакторе с псевдоожиженным слоем, в солнечных батареях.
8. Способ по п.2, где поток отходящего газа содержит HSiCl3, SiCl4, водород, HCl и кремниевый порошок, и способ дополнительно включает удаление кремниевого порошка из потока отходящего газа перед его подачей в качестве осаждающего газа в реактор с псевдоожиженным слоем.
9. Способ по п.2, где в поток отходящего газа добавляют дополнительный HSiCl3 с получением осаждающего газа, причем осаждающий газ содержит хлорсиланы в концентрации от 20 мол.% до 50 мол.%.
10. Способ по п.9, где концентрация хлорсиланов составляет от 25 мол.% до 35 мол.%.
11 Способ по п.1, дополнительно включающий 3) подачу второго отходящего газового потока из реактора с псевдоожиженным слоем в регенерационную систему.
12 Способ по п.11, где второй отходящий газовый поток содержит водород, HSiCl3, SiCl4 и HCl.
13 Способ по п.12, дополнительно включающий 4) регенерацию водорода, HSiCl3, SiCl4 или их комбинации.
14 Способ по п.13, дополнительно включающий 5) подачу водорода, HSiCl3, или того и другого в реактор Сименса.
15. Способ по п.13, дополнительно включающий добавление водорода, HSiCl3, или того и другого в первый поток на стадии (1).
16. Способ по п.13, дополнительно включающий добавление SiCl4 во второй поток на стадии (2).
17. Способ по п.11, дополнительно включающий 4) регенерацию SiCl4, превращение SiCl4 в HSiCl3, и подачу HSiCl3 в реактор Сименса или в реактор с псевдоожиженным слоем.
18. Реактор (300) с псевдоожиженным слоем, отличающийся тем, что содержит нижнюю часть, где предусмотрены впускные сопла (303, 304), которые ориентированы в коническую решетку, находящуюся выше канала (302) выпуска продукта, причем впускные сопла (303, 304) имеют горизонтальные каналы (306).
19. Реактор по п.18, отличающийся тем, что угол наклона конической решетки составляет от 20 до 60° над горизонталью.
20. Способ получения кремния с использованием реактора с псевдоожиженным слоем по п.18, включающий:
1) подачу осаждающего газа, содержащего водород и кремниевый мономер, во внутреннюю область реактора с псевдоожиженным слоем, где кремниевый мономер выбран из SiH4 и HSiCl3, причем осаждающий газ вводят в нагреваемую зону реактора с псевдоожиженным слоем, и одновременно
2) подачу травильного газа, состоящего по существу из SiCl4, в нагреваемую зону реактора с псевдоожиженным слоем через окружающую область, где окружающая область находится между указанной внутренней областью и стенкой реактора с псевдоожиженным слоем, причем количество кремниевого мономера на стадии (1) является достаточным для осаждения кремния на псевдоожиженных частицах кремния в реакционной зоне, расположенной выше нагреваемой зоны реактора с псевдоожиженным слоем, а количество SiCl4 на стадии (2) является достаточным для удаления кремния со стенки реактора с псевдоожиженным слоем.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/265,038 US7927984B2 (en) | 2008-11-05 | 2008-11-05 | Silicon production with a fluidized bed reactor utilizing tetrachlorosilane to reduce wall deposition |
US12/265,038 | 2008-11-05 | ||
PCT/US2009/060310 WO2010053659A1 (en) | 2008-11-05 | 2009-10-12 | Silicon production with a fluidized bed reactor utilizing tetrachlorosilane to reduce wall deposition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2011100476A true RU2011100476A (ru) | 2012-10-27 |
RU2518613C2 RU2518613C2 (ru) | 2014-06-10 |
Family
ID=41479231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2011100476/05A RU2518613C2 (ru) | 2008-11-05 | 2009-10-12 | Способ получения кремния в реакторе с псевдоожиженным слоем с использованием тетрахлорсилана для снижения осаждения на стенках реактора |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7927984B2 (ru) |
EP (1) | EP2342007B1 (ru) |
JP (1) | JP5779099B2 (ru) |
KR (1) | KR101639430B1 (ru) |
CN (3) | CN107555440A (ru) |
AU (1) | AU2009311573A1 (ru) |
CA (1) | CA2729980C (ru) |
MY (1) | MY158036A (ru) |
RU (1) | RU2518613C2 (ru) |
TW (2) | TW201431608A (ru) |
WO (1) | WO2010053659A1 (ru) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103058194B (zh) | 2008-09-16 | 2015-02-25 | 储晞 | 生产高纯颗粒硅的反应器 |
US8178051B2 (en) * | 2008-11-05 | 2012-05-15 | Stephen Michael Lord | Apparatus and process for hydrogenation of a silicon tetrahalide and silicon to the trihalosilane |
US8168123B2 (en) * | 2009-02-26 | 2012-05-01 | Siliken Chemicals, S.L. | Fluidized bed reactor for production of high purity silicon |
CA2759446A1 (en) | 2009-04-20 | 2010-10-28 | Ae Polysilicon Corporation | A reactor with silicide-coated metal surfaces |
WO2010123869A1 (en) * | 2009-04-20 | 2010-10-28 | Ae Polysilicon Corporation | Methods and system for cooling a reaction effluent gas |
CN102686307A (zh) * | 2009-12-29 | 2012-09-19 | Memc电子材料有限公司 | 使用外围四氯化硅减少硅在反应器壁上的沉积的方法 |
US20120100059A1 (en) * | 2010-10-22 | 2012-04-26 | Memc Electronic Materials, Inc. | Production of Polycrystalline Silicon By The Thermal Decomposition of Trichlorosilane In A Fluidized Bed Reactor |
US9156705B2 (en) * | 2010-12-23 | 2015-10-13 | Sunedison, Inc. | Production of polycrystalline silicon by the thermal decomposition of dichlorosilane in a fluidized bed reactor |
US8388914B2 (en) | 2010-12-23 | 2013-03-05 | Memc Electronic Materials, Inc. | Systems for producing silane |
US8821825B2 (en) | 2010-12-23 | 2014-09-02 | Sunedison, Inc. | Methods for producing silane |
JP5395102B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-01-22 | 株式会社豊田中央研究所 | 気相成長装置 |
KR20140041692A (ko) | 2011-06-16 | 2014-04-04 | 헴로크세미컨덕터코포레이션 | 고체 처리 밸브 |
NO20231208A1 (no) * | 2011-09-30 | 2014-04-23 | Corner Star Ltd | Produksjon av polykrystallinsk silisium ved termisk nedbrytning av silan i en hvirvelsjiktreaktor |
KR102050114B1 (ko) * | 2011-09-30 | 2019-11-28 | 코너 스타 리미티드 | 유동층 반응기에서의 실란의 열 분해에 의한 다결정 실리콘의 제조 |
CN104136138B (zh) | 2012-01-30 | 2018-03-20 | 赫姆洛克半导体运营有限责任公司 | 修复和/或保护反应器中表面的方法 |
US8875728B2 (en) | 2012-07-12 | 2014-11-04 | Siliken Chemicals, S.L. | Cooled gas distribution plate, thermal bridge breaking system, and related methods |
JP6272867B2 (ja) * | 2012-08-29 | 2018-01-31 | ヘムロック・セミコンダクター・オペレーションズ・エルエルシー | 先細り流動床反応器及びその使用のためのプロセス |
DE102012218747A1 (de) * | 2012-10-15 | 2014-04-17 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Abscheidung von polykristallinem Silicium |
DE102013208071A1 (de) | 2013-05-02 | 2014-11-06 | Wacker Chemie Ag | Wirbelschichtreaktor und Verfahren zur Herstellung von granularem Polysilicium |
CN103553047A (zh) * | 2013-11-06 | 2014-02-05 | 苏州协鑫工业应用研究院有限公司 | 一种用于在反应器中生产多晶硅产品的方法及系统 |
US9428830B2 (en) * | 2014-07-02 | 2016-08-30 | Gtat Corporation | Reverse circulation fluidized bed reactor for granular polysilicon production |
DE102015102521A1 (de) | 2015-02-23 | 2016-08-25 | Sitec Gmbh | Verfahren zum Herstellen von reinem Silizium |
DE102015102527A1 (de) | 2015-02-23 | 2016-08-25 | Sitec Gmbh | Verfahren zur Herstellung von reinem Silizium und Abscheidekörper zur Anlagerung von reinem Silizium |
WO2017145952A1 (ja) * | 2016-02-27 | 2017-08-31 | 学校法人早稲田大学 | 粒子処理装置、並びに触媒担持体及び/又は繊維状炭素ナノ構造体の製造方法 |
US10683209B2 (en) | 2016-03-18 | 2020-06-16 | Lg Chem, Ltd. | Ultra-high temperature precipitation process for manufacturing polysilicon |
US10446420B2 (en) * | 2016-08-19 | 2019-10-15 | Applied Materials, Inc. | Upper cone for epitaxy chamber |
WO2018134125A1 (en) * | 2017-01-23 | 2018-07-26 | Basf Se | Process for making cathode materials, and reactor suitable for carrying out said process |
CN109289711A (zh) * | 2018-10-17 | 2019-02-01 | 中国恩菲工程技术有限公司 | 氢化反应器 |
KR102618384B1 (ko) * | 2019-07-16 | 2023-12-27 | 와커 헤미 아게 | 다결정 실리콘의 제조 방법 |
CN112984833B (zh) * | 2021-02-07 | 2022-05-24 | 南京航空航天大学 | 一种具有v型凹槽的太阳能粒子反应器 |
CN117548414A (zh) * | 2022-08-03 | 2024-02-13 | 江苏中能硅业科技发展有限公司 | 一种清洁流化床内壁结硅的方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4784840A (en) * | 1986-08-25 | 1988-11-15 | Ethyl Corporation | Polysilicon fluid bed process and product |
RU2066296C1 (ru) * | 1994-02-22 | 1996-09-10 | Ангарский электролизный химический комбинат | Способ получения кремния из газообразного тетрафторида кремния и устройство для его осуществления |
US5772708A (en) * | 1995-03-17 | 1998-06-30 | Foster Wheeler Development Corp. | Coaxial coal water paste feed system for gasification reactor |
US5798137A (en) * | 1995-06-07 | 1998-08-25 | Advanced Silicon Materials, Inc. | Method for silicon deposition |
CN1153138A (zh) * | 1995-09-21 | 1997-07-02 | 瓦克化学有限公司 | 制备三氯硅烷的方法 |
RU2116963C1 (ru) * | 1997-06-06 | 1998-08-10 | Институт физики полупроводников СО РАН | Способ получения кремния |
DE19735378A1 (de) * | 1997-08-14 | 1999-02-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliciumgranulat |
US6827786B2 (en) * | 2000-12-26 | 2004-12-07 | Stephen M Lord | Machine for production of granular silicon |
KR100411180B1 (ko) * | 2001-01-03 | 2003-12-18 | 한국화학연구원 | 다결정실리콘의 제조방법과 그 장치 |
NL1017849C2 (nl) * | 2001-04-16 | 2002-10-30 | Univ Eindhoven Tech | Werkwijze en inrichting voor het deponeren van een althans ten dele kristallijne siliciumlaag op een substraat. |
DE60238399D1 (de) * | 2001-06-06 | 2011-01-05 | Tokuyama Corp | Verfahren zur herstellung von silicium |
US7413718B2 (en) * | 2002-06-18 | 2008-08-19 | Tokuyama Corporation | Reaction apparatus for producing silicon |
EP1861408A4 (en) * | 2005-03-09 | 2011-08-03 | Advanced Silicon Materials Llc | PROCESS FOR PRODUCING HYDROCHLOROSILANES |
WO2007002880A2 (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-04 | Jr Chem, Llc | Method of enhanced drug application |
DE102005042753A1 (de) * | 2005-09-08 | 2007-03-15 | Wacker Chemie Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von granulatförmigem polykristallinem Silicium in einem Wirbelschichtreaktor |
KR100813131B1 (ko) * | 2006-06-15 | 2008-03-17 | 한국화학연구원 | 유동층 반응기를 이용한 다결정 실리콘의 지속 가능한제조방법 |
US7935327B2 (en) * | 2006-08-30 | 2011-05-03 | Hemlock Semiconductor Corporation | Silicon production with a fluidized bed reactor integrated into a siemens-type process |
CN101254921B (zh) * | 2008-03-19 | 2010-10-06 | 四川金谷多晶硅有限公司 | 一种转化四氯化硅制取三氯氢硅和多晶硅的方法 |
US20100124525A1 (en) * | 2008-11-19 | 2010-05-20 | Kuyen Li | ZERO-HEAT-BURDEN FLUIDIZED BED REACTOR FOR HYDRO-CHLORINATION OF SiCl4 and M.G.-Si |
-
2008
- 2008-11-05 US US12/265,038 patent/US7927984B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-10-12 MY MYPI2011001327A patent/MY158036A/en unknown
- 2009-10-12 CA CA2729980A patent/CA2729980C/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-12 AU AU2009311573A patent/AU2009311573A1/en not_active Abandoned
- 2009-10-12 JP JP2011534595A patent/JP5779099B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-12 EP EP09744514.2A patent/EP2342007B1/en not_active Not-in-force
- 2009-10-12 RU RU2011100476/05A patent/RU2518613C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2009-10-12 KR KR1020117002273A patent/KR101639430B1/ko active IP Right Grant
- 2009-10-12 CN CN201710659561.6A patent/CN107555440A/zh active Pending
- 2009-10-12 CN CN201510164136.0A patent/CN104828826B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-12 WO PCT/US2009/060310 patent/WO2010053659A1/en active Application Filing
- 2009-10-12 CN CN200980144312.7A patent/CN102333585B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-28 TW TW103115873A patent/TW201431608A/zh unknown
- 2009-10-28 TW TW098136542A patent/TWI461358B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20110091639A (ko) | 2011-08-12 |
TW201026605A (en) | 2010-07-16 |
TW201431608A (zh) | 2014-08-16 |
EP2342007B1 (en) | 2017-04-26 |
JP5779099B2 (ja) | 2015-09-16 |
CN102333585A (zh) | 2012-01-25 |
CN104828826B (zh) | 2018-03-27 |
CN104828826A (zh) | 2015-08-12 |
EP2342007A1 (en) | 2011-07-13 |
US7927984B2 (en) | 2011-04-19 |
WO2010053659A1 (en) | 2010-05-14 |
KR101639430B1 (ko) | 2016-07-13 |
CN107555440A (zh) | 2018-01-09 |
CA2729980C (en) | 2017-01-03 |
CA2729980A1 (en) | 2010-05-14 |
US20100112744A1 (en) | 2010-05-06 |
RU2518613C2 (ru) | 2014-06-10 |
AU2009311573A1 (en) | 2010-05-14 |
TWI461358B (zh) | 2014-11-21 |
JP2012507462A (ja) | 2012-03-29 |
CN102333585B (zh) | 2015-08-26 |
MY158036A (en) | 2016-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2011100476A (ru) | Способ получения кремния в реакторе с псевдоожиженным слоем с использованием тетрахлорсилана для снижения осаждения на стенках реактора | |
AU2007290858B2 (en) | Silicon production with a fluidized bed reactor integrated into a Siemens-type process | |
KR101426099B1 (ko) | 다결정 실리콘의 제조 방법 및 다결정 실리콘 제조 설비 | |
JP5632362B2 (ja) | 純シリコンを製造するための方法およびシステム | |
JP4740646B2 (ja) | シリコンの製造方法 | |
JP6246905B2 (ja) | 多結晶シリコンを製造する反応器、およびそのような反応器の構成部品上のシリコン含有層を除去する方法 | |
JP2010502542A5 (ru) | ||
KR20120025995A (ko) | 다결정 실리콘을 제조하는 방법 | |
RU2499801C2 (ru) | Способ получения трихлорсилана и тетрахлорсилана | |
CA2648378A1 (en) | Process for depositing polycrystalline silicon | |
EP2036857A3 (en) | Method for producing trichlorosilane | |
JP2009062209A (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
MY160519A (en) | Method and system for producing monosilane | |
CN105980304A (zh) | 用于生产多晶硅的方法 | |
JP5321827B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法および製造装置 | |
CN116171258B (zh) | 三甲硅烷基胺的制造装置及制造方法 | |
JP4542209B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法および高純度シリカの製造方法 | |
CN106145119B (zh) | 一种乙硅烷反应釜 | |
CN112758936A (zh) | 一种同时生产电子级硅烷和电子级一氯硅烷的系统和方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
HE9A | Changing address for correspondence with an applicant | ||
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20161013 |