RU2010154630A - Силиконовый каучуковый материал для мягкой литографии - Google Patents

Силиконовый каучуковый материал для мягкой литографии Download PDF

Info

Publication number
RU2010154630A
RU2010154630A RU2010154630/05A RU2010154630A RU2010154630A RU 2010154630 A RU2010154630 A RU 2010154630A RU 2010154630/05 A RU2010154630/05 A RU 2010154630/05A RU 2010154630 A RU2010154630 A RU 2010154630A RU 2010154630 A RU2010154630 A RU 2010154630A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
functional
branched
linear polysiloxane
hydride
poly
Prior art date
Application number
RU2010154630/05A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2497850C2 (ru
Inventor
Маркус А. ВЕРСХЮИРЕН (NL)
Маркус А. ВЕРСХЮИРЕН
Original Assignee
Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. (Nl)
Конинклейке Филипс Электроникс Н.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. (Nl), Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. filed Critical Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. (Nl)
Publication of RU2010154630A publication Critical patent/RU2010154630A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2497850C2 publication Critical patent/RU2497850C2/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04—Polysiloxanes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2083/00—Use of polymers having silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only, in the main chain, as moulding material
    • B29K2083/005—LSR, i.e. liquid silicone rubbers, or derivatives thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/08—Forme preparation by embossing, e.g. with a typewriter
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/80—Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

1. Способ получения формирующего изображение слоя штампа, содержащего силиконовый каучукоподобный материал, имеющий модуль Юнга в интервале от 7 МПа до 80 МПа, причем указанный способ содержит: ! обеспечение композиции, содержащей, по меньшей мере, один функциональный Т-разветвленный и/или Q-разветвленный полисилоксановый предшественник, ! введение в указанную композицию, по меньшей мере, одного функционального линейного полисилоксана, ! выдержку указанной композиции при температуре ниже 100°С и размещение указанного шаблона в указанном силиконовом каучукоподобном материале. ! 2. Способ по п.1, в котором стадия размещения шаблона в указанном силиконовом каучукоподобном материале осуществляется при осуществлении указанной стадии выдержки на шаблоне эталонной матрицы с получением слоя штампа (100; 201), содержащего шаблон элементов формирования изображения (101; 202). ! 3. Способ по п.1, в котором указанную композицию выдерживают при температуре ниже 50°С. ! 4. Способ по п.1, в котором указанный, по меньшей мере, один функциональный Т-разветвленный (поли)силоксановый предшественник выбран из группы, состоящей из гидриднофункционального Т-разветвленного (поли)силоксанового предшественника, винильнофункционального Т-разветвленного (поли)-силоксанового предшественника и их смесей, и/или в котором, по меньшей мере, один функциональный Q-разветвленный (поли)силоксановый предшественник выбран из группы, состоящей из гидриднофункционального Q-разветвленного (поли)силоксанового предшественника, винильнофункционального Q-разветвленного (поли)силоксанового предшественника и их смесей. ! 5. Способ по п.4, в котором указанный, по �

Claims (18)

1. Способ получения формирующего изображение слоя штампа, содержащего силиконовый каучукоподобный материал, имеющий модуль Юнга в интервале от 7 МПа до 80 МПа, причем указанный способ содержит:
обеспечение композиции, содержащей, по меньшей мере, один функциональный Т-разветвленный и/или Q-разветвленный полисилоксановый предшественник,
введение в указанную композицию, по меньшей мере, одного функционального линейного полисилоксана,
выдержку указанной композиции при температуре ниже 100°С и размещение указанного шаблона в указанном силиконовом каучукоподобном материале.
2. Способ по п.1, в котором стадия размещения шаблона в указанном силиконовом каучукоподобном материале осуществляется при осуществлении указанной стадии выдержки на шаблоне эталонной матрицы с получением слоя штампа (100; 201), содержащего шаблон элементов формирования изображения (101; 202).
3. Способ по п.1, в котором указанную композицию выдерживают при температуре ниже 50°С.
4. Способ по п.1, в котором указанный, по меньшей мере, один функциональный Т-разветвленный (поли)силоксановый предшественник выбран из группы, состоящей из гидриднофункционального Т-разветвленного (поли)силоксанового предшественника, винильнофункционального Т-разветвленного (поли)-силоксанового предшественника и их смесей, и/или в котором, по меньшей мере, один функциональный Q-разветвленный (поли)силоксановый предшественник выбран из группы, состоящей из гидриднофункционального Q-разветвленного (поли)силоксанового предшественника, винильнофункционального Q-разветвленного (поли)силоксанового предшественника и их смесей.
5. Способ по п.4, в котором указанный, по меньшей мере, один функциональный линейный полисилоксан выбран из группы, состоящей из гидриднофункционального линейного полисилоксана, винильнофункционального линейного полисилоксана или их смесей.
6. Способ по п.5, в котором указанный, по меньшей мере, один винильнофункциональный линейный полисилоксан является, по меньшей мере, 5% винильнофункциональным.
7. Способ по п.5, в котором указанный, по меньшей мере, один гидриднофункциональный линейный полисилоксан является, по меньшей мере, 30% гидриднофункциональным.
8. Способ по п.6, в котором указанный, по меньшей мере, один гидриднофункциональный линейный полисилоксан является, по меньшей мере, 30% гидриднофункциональным.
9. Способ по любому из пп.5-8, в котором гидриднофункциональный линейный полисилоксан и винильнофункциональный линейный полисилоксан используются в соотношении в интервале от 2:10 до 8:10.
10. Способ по п.1, в котором указанный, по меньшей мере, один функциональный линейный полисилоксан выбран из группы, состоящей из гидриднофункционального линейного полисилоксана, винильнофункционального линейного полисилоксана или их смесей.
11. Способ по п.10, в котором указанный, по меньшей мере, один винильнофункциональный линейный полисилоксан является, по меньшей мере, 5% винильнофункциональным.
12. Способ по п.10, в котором указанный, по меньшей мере, один гидриднофункциональный линейный полисилоксан является, по меньшей мере, 30% гидриднофункциональным.
13. Способ по п.11, в котором указанный, по меньшей мере, один гидриднофункциональный линейный полисилоксан является, по меньшей мере, 30% гидриднофункциональным.
14. Способ по любому из пп.10-13, в котором гидриднофункциональный линейный полисилоксан и винильнофункциональный линейный полисилоксан используются в соотношении в интервале от 2:10 до 8:10.
15. Формирующий изображение слой штампа, полученный способом по любому из пп.1-8 или 10-13.
16. Формирующий изображение слой штампа по п.15, в котором формирующий изображение слой штампа является подходящим для применения в литографическом способе получения отпечатков.
17. Печатающее устройство, содержащее формирующий изображение слой штампа (100; 201), причем слой штампа содержит силиконовый каучукоподобный материал, содержащий, по меньшей мере, один Т-разветвленный и/или Q-разветвленный (поли)силоксан, сшитый, по меньшей мере, одним линейным полисилоксаном, где указанный материал имеет модуль Юнга в интервале от 7 МПа до 80 МПа.
18. Печатающее устройство по п.17, в котором слой штампа содержит шаблон элементов формирования изображения (101; 202).
RU2010154630/04A 2008-06-06 2009-05-29 Силиконовый каучуковый материал для мягкой литографии RU2497850C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08157807.2 2008-06-06
EP08157807 2008-06-06
PCT/IB2009/052276 WO2009147602A2 (en) 2008-06-06 2009-05-29 Silicone rubber material for soft lithography

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2010154630A true RU2010154630A (ru) 2012-07-20
RU2497850C2 RU2497850C2 (ru) 2013-11-10

Family

ID=41259109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010154630/04A RU2497850C2 (ru) 2008-06-06 2009-05-29 Силиконовый каучуковый материал для мягкой литографии

Country Status (8)

Country Link
US (2) US9038536B2 (ru)
EP (2) EP2599835B1 (ru)
JP (2) JP6088138B2 (ru)
KR (1) KR101618589B1 (ru)
CN (2) CN103365077B (ru)
RU (1) RU2497850C2 (ru)
TW (2) TWI466951B (ru)
WO (1) WO2009147602A2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2671324C2 (ru) * 2013-07-22 2018-10-30 Конинклейке Филипс Н.В. Способ изготовления снабженного рисунком штампа, способ импринтинга снабженным рисунком штампом и полученное импринтингом изделие

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2955520B1 (fr) * 2010-01-28 2012-08-31 Commissariat Energie Atomique Moule pour la lithographie par nano-impression et procedes de realisation
WO2012083578A1 (zh) * 2010-12-22 2012-06-28 青岛理工大学 整片晶圆纳米压印的装置和方法.
TW201228807A (en) * 2011-01-13 2012-07-16 Moser Baer India Ltd Method of imprinting a texture on a rigid substrate using flexible stamp
JP5812837B2 (ja) * 2011-12-09 2015-11-17 キヤノン株式会社 導電性部材、プロセスカートリッジ、および電子写真装置
CN102707378B (zh) * 2012-06-12 2013-09-04 华南师范大学 一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法
CN102955357A (zh) * 2012-11-20 2013-03-06 苏州光舵微纳科技有限公司 纳米压印复合模板及其制备方法
CN104870576B (zh) 2012-12-21 2017-09-12 皇家飞利浦有限公司 合成物、压印墨和压印方法
SG11201505205QA (en) 2012-12-31 2015-08-28 3M Innovative Properties Co Microcontact printing with high relief stamps in a roll-to-roll process
US20160299424A1 (en) * 2013-11-29 2016-10-13 Ev Group E. Thallner Gmbh Die with a die structure as well as method for its production
JP6022501B2 (ja) * 2014-03-27 2016-11-09 富士フイルム株式会社 超音波プローブ用組成物および超音波プローブ用シリコーン樹脂
JP6387107B2 (ja) 2014-03-31 2018-09-05 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． インプリント方法、そのためのコンピュータプログラム及び装置
TWI653495B (zh) 2014-06-26 2019-03-11 荷蘭商皇家飛利浦有限公司 發光二極體照明單元
KR20170070099A (ko) * 2014-10-04 2017-06-21 토야마켄 임프린트용 템플릿 및 그 제조 방법
BR112017013073A2 (pt) 2014-12-22 2018-01-02 Koninklijke Philips Nv estampa para litografia de estampagem, método de fabricação de uma estampa, uso de uma estampa, e método de impressão
DE102016200793B4 (de) * 2015-02-11 2024-04-04 Heidelberger Druckmaschinen Ag Verfahren zum Herstellen einer Werkzeugplatte zum Bearbeiten von Bedruckstoff
JP6545401B2 (ja) 2016-04-06 2019-07-17 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． インプリントリソグラフィースタンプの作製方法及び使用方法
WO2018019971A1 (en) * 2016-07-27 2018-02-01 Koninklijke Philips N.V. Polyorganosiloxane-based stamp manufacturing method, polyorganosiloxane-based stamp, use of the same for a printing process, and an imprinting method using the same
EP3431582A1 (en) 2017-07-18 2019-01-23 Koninklijke Philips N.V. Cell culturing materials
JP2018166222A (ja) * 2018-07-13 2018-10-25 エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー スタンパ構造を備えたスタンパ並びにその製造方法
CN110228153B (zh) * 2018-07-17 2021-04-30 山东科技大学 一种具有仿生自我监测功能的力致变色光子晶体材料的制备方法
EP3798300A1 (en) 2019-09-24 2021-03-31 Koninklijke Philips N.V. Cell culturing materials
US20220291605A1 (en) * 2020-01-09 2022-09-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Methods for forming structured images and related aspects
JP7136831B2 (ja) * 2020-04-08 2022-09-13 エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー スタンパ構造を備えたスタンパ並びにその製造方法
CN114851684B (zh) * 2021-02-03 2024-03-19 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 一种具有双重防伪效果的模具及其制作方法
EP4151710A1 (en) 2021-09-21 2023-03-22 Koninklijke Philips N.V. Polymer membrane and method of manufacturing the same
CN114228137B (zh) * 2021-12-02 2022-10-21 浙江大学 一种使用瓶刷状硅橡胶为离型膜的光固化3d打印装置与方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU472820A1 (ru) * 1971-11-04 1975-06-05 Всесоюзный Научно-Исследовательский Институт Комплексных Проблем Полиграфии Способ изготовлени офсетной печатной формы
JP3601727B2 (ja) 1995-05-26 2004-12-15 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷版の製造方法
EP0784542B1 (en) 1995-08-04 2001-11-28 International Business Machines Corporation Stamp for a lithographic process
FR2743565B1 (fr) * 1996-01-11 1998-02-20 Rhone Poulenc Chimie Utilisation d'une association de composes silicones comme agent de couplage dans les compositions d'elastomeres chargees de silice
AU6590098A (en) * 1997-04-03 1998-10-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoreceptor elements having release layers with texture and means for providing such elements
US5965243A (en) * 1997-04-04 1999-10-12 3M Innovative Properties Company Electrostatic receptors having release layers with texture and means for providing such receptors
US6020098A (en) 1997-04-04 2000-02-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Temporary image receptor and means for chemical modification of release surfaces on a temporary image receptor
JP3482115B2 (ja) * 1997-10-13 2003-12-22 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 硬化性シリコーン組成物および電子部品
US20020130444A1 (en) 2001-03-15 2002-09-19 Gareth Hougham Post cure hardening of siloxane stamps for microcontact printing
US20020150842A1 (en) 2001-04-11 2002-10-17 Solus Micro Technologies, Inc. Lithographically patterning of UV cure elastomer thin films
US6783717B2 (en) * 2002-04-22 2004-08-31 International Business Machines Corporation Process of fabricating a precision microcontact printing stamp
US7296519B2 (en) 2002-05-27 2007-11-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method and device for transferring a pattern from stamp to a substrate
US6792856B2 (en) 2002-07-16 2004-09-21 International Business Machines Corporation Method and apparatus for accurate, micro-contact printing
US20040197712A1 (en) 2002-12-02 2004-10-07 Jacobson Joseph M. System for contact printing
JP3912525B2 (ja) * 2002-12-12 2007-05-09 信越化学工業株式会社 付加硬化型シリコーンゴム組成物及び粘着ゴムシート
WO2004090938A2 (en) 2003-04-02 2004-10-21 Honeywell International Inc. Thermal interconnect and interface systems, methods of production and uses thereof
JP5101788B2 (ja) * 2003-12-22 2012-12-19 東レ・ダウコーニング株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
CN100503681C (zh) * 2003-12-26 2009-06-24 陶氏康宁东丽株式会社 固化性硅氧烷组合物及其固化产物
WO2005104756A2 (en) * 2004-04-27 2005-11-10 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Composite patterning devices for soft lithography
JP4828146B2 (ja) * 2005-03-30 2011-11-30 東レ・ダウコーニング株式会社 熱伝導性シリコーンゴム組成物
US7588967B2 (en) 2005-05-27 2009-09-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Curable silicone rubber composition and semiconductor device
JP2007002234A (ja) * 2005-05-27 2007-01-11 Shin Etsu Chem Co Ltd 硬化性シリコーンゴム組成物及び半導体装置
WO2007117808A2 (en) 2006-03-29 2007-10-18 Dow Corning Corporation Method of forming nanoscale features using soft lithography
EP2005248A2 (en) * 2006-04-11 2008-12-24 Dow Corning Corporation Low thermal distortion silicone composite molds
JP5039145B2 (ja) 2006-12-04 2012-10-03 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ シートを基板に適用するための方法及び装置
DE102008009916A1 (de) * 2008-02-15 2009-11-12 Sms Siemag Aktiengesellschaft Walzanlage zum Walzen von bandförmigem Walzgut

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2671324C2 (ru) * 2013-07-22 2018-10-30 Конинклейке Филипс Н.В. Способ изготовления снабженного рисунком штампа, способ импринтинга снабженным рисунком штампом и полученное импринтингом изделие

Also Published As

Publication number Publication date
EP2288662A2 (en) 2011-03-02
KR101618589B1 (ko) 2016-05-09
JP6433708B2 (ja) 2018-12-05
US9038536B2 (en) 2015-05-26
TW201009020A (en) 2010-03-01
TW201431962A (zh) 2014-08-16
EP2599835B1 (en) 2016-07-20
JP2014241427A (ja) 2014-12-25
US20150239171A1 (en) 2015-08-27
EP2599835A1 (en) 2013-06-05
EP2288662B1 (en) 2014-07-30
CN102056990B (zh) 2014-02-19
KR20110034630A (ko) 2011-04-05
US10220563B2 (en) 2019-03-05
JP2011522100A (ja) 2011-07-28
WO2009147602A3 (en) 2010-05-14
CN103365077B (zh) 2016-06-08
JP6088138B2 (ja) 2017-03-01
WO2009147602A2 (en) 2009-12-10
CN102056990A (zh) 2011-05-11
CN103365077A (zh) 2013-10-23
TWI466951B (zh) 2015-01-01
US20110094403A1 (en) 2011-04-28
RU2497850C2 (ru) 2013-11-10
TWI507483B (zh) 2015-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2010154630A (ru) Силиконовый каучуковый материал для мягкой литографии
BRPI0417848A (pt) métodos para produzir micro-e nano-estruturas isoladas utilizando litografia suave ou de impressão
TW200613927A (en) Imprint lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
WO2008005208A3 (en) Printing form precursor and process for preparing a stamp from the precursor
ATE486719T1 (de) Aufzeichnungsmaterial, flachdruckplatte die dieses aufzeichnungsmaterial verwendet sowie herstellungsverfahren der flachdruckplatte
TW200728937A (en) Imprint lithography
US11086217B2 (en) Patterned stamp manufacturing method, patterned stamp and imprinting method
EP2053640A3 (en) Method and system for improving dielectric film quality for void free gap fill
WO2005109095A3 (en) Method for imprint lithography at constant temperature
ATE555421T1 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung und negativ arbeitende flachdruckplatte
SG133539A1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method using multiple exposures and multiple exposure types
ATE407799T1 (de) Verfahren zur herstellung lithographischer druckplatten
JP2014534324A (ja) 硬化性シリコーンエラストマーのオルガノポリシロキサン組成物及び表面改質
EP2042312A3 (en) Processing method of lithographic printing plate precursor
WO2006047012A3 (en) Apparatus for the rapid development of photosensitive printing elements
EP1975710A3 (en) Plate-making method of lithographic printing plate precursor
RU2019105312A (ru) Способ получения штампа на основе полиорганосилоксанов, штамп на основе полиорганосилоксанов, применение его для процесса печати и способ впечатывания с его использованием
CN103660666B (zh) 可变平版印刷方法
DE50304396D1 (de) Vorrichtung und verfahren zur herstellung von flexodruckplatten für den zeitungsdruck mittels digitaler bebilderung
ES2390110T3 (es) Acolchado flexográfico mejorado
DE602006008659D1 (de) Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
CN106003880B (zh) 复制膜及其制造方法
KR100768705B1 (ko) 임프린팅용 고분자 스탬프의 제조방법 및 그에 의한 고분자스탬프
ATE435125T1 (de) Verfahren zur herstellung eines lithografiedruckplattenvorläufers für lithografietrockendruck
DE60215237D1 (de) Flachdruckplattenvorläufer zur Direktbebilderung