JP2014534324A - 硬化性シリコーンエラストマーのオルガノポリシロキサン組成物及び表面改質 - Google Patents

Abstract

本発明は、表面の少なくとも１つの領域を表面処理化合物を含む溶液と接触させて、Ｓｉ−ＯＨ基、Ｓｉ−ＯＲ基、又はＳｉ−Ｃ基を有する処理された表面を得ることによって、複数のＳｉ−Ｈ基を有するシリコーンエラストマーを含む表面を処理する方法に関する。本発明は、ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物に関する。いくつかの実施例において、当該ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物は、１分子当たり平均で少なくとも４０個のケイ素結合水素原子を有するオルガノ水素ポリシロキサンと、１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する架橋剤と、ヒドロシリル化触媒と、を含み、組成物中のケイ素結合水素原子と組成物中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合とのモル比は少なくとも２０：１である。本発明はまた、膜、膜の作製方法、膜のための気体透過性支持体、及び膜を用いた気体分離方法にも関する。

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１１年１１月８日に出願された、名称「ＯＲＧＡＮＯＰＯＬＹＳＩＬＯＸＡＮＥ ＣＯＭＰＯＳＩＴＩＯＮＳ ＡＮＤ ＳＵＲＦＡＣＥ ＭＯＤＩＦＩＣＡＴＩＯＮ ＯＦ ＣＵＲＥＤ ＳＩＬＩＣＯＮＥ ＥＬＡＳＴＯＭＥＲＳ」の米国特許出願第６１／５５７，１５０号の優先権の利益を主張し、当該出願は参照することによりその全体が本明細書に組み込まれる。

（発明の分野）
シリコーンエラストマーは、高度な熱安定性、良好な耐湿性、優れた可撓性、高いイオン純度、低いアルファ粒子放出、及び様々な基材への良好な接着性を含む、その特有の特性の組み合わせによって多様な用途において有用である。しかしながら、ある用途については、疎水性表面及び低表面エネルギーがシリコーンエラストマーの材料特性の態様を制限し得る。結果として、プラズマ処理（例えば、酸素、窒素、アルゴン）、紫外線照射、及びＵＶ／オゾン照射を含む、シリコーンエラストマーの表面が親水性を示す様々な物理的及び／又は化学方法が、当該技術分野において探求されている。しかしながら、これらの処理は、高価であり、時間がかかり、様々な実験及び環境条件に対して感受性があり、特殊な器具を必要とし、シリコーンエラストマーの１つ以上の望ましい特性の低下をもたらす恐れがある。例えば、様々なエネルギー源への曝露は、エラストマー表面の脆化、及び表面に移動し、混入を引き起こし得る低分子量種の形成をもたらし得る。

人工膜は、小規模及び大規模の両方で分離を行うために使用することができ、そのため多くの状況においてそれらを非常に有用なものにする。例えば、膜は、水を精製するため、透析中に血液を浄化するため、又は気体若しくは蒸気を分離するために使用することができる。組成物を固化又は硬化させることによって膜を作製することができる。気体又は蒸気を分離するための膜の使用は、多くの工業的手順に使用可能な重要な技法である。

本発明の様々な実施形態は、ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物を提供する。この組成物は、成分（Ａ）である、１分子当たり平均で少なくとも２つのケイ素結合水素原子を有するオルガノ水素ポリシロキサンを含む。この組成物はまた、成分（Ｂ）である、（ｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機ケイ素化合物と、（ｉｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機化合物と、（ｉｉｉ）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む混合物とから選択される架橋剤も含む。この組成物はまた、成分（Ｃ）である、ヒドロシリル化触媒も含む。組成物中のケイ素結合水素原子と組成物中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合とのモル比は、少なくとも２０：１である。

本発明の様々な実施形態は、表面を処理する方法を提供する。本方法は、複数のケイ素結合水素原子を有するシリコーンエラストマーを含む。本方法は、複数のケイ素結合水素原子を有するシリコーンエラストマーを含む表面の少なくとも１つの領域を、表面処理化合物を含む溶液と接触させて、処理された表面を得ることを含む。（ａ）、（ｂ）、又は（ｃ）のうちの少なくとも１つが行われる。（ａ）では、接触が、ケイ素結合水素原子の少なくとも一部分をケイ素結合ヒドロキシル基に変換するのに十分な時間行われる。（ｂ）では、接触が、ケイ素結合水素原子の少なくとも一部分をケイ素結合−Ｏ−Ｒ基に変換するのに十分な時間行われ、この溶液が式Ｈ−Ｏ−Ｒを有する化合物を更に含み、式中、ＲがＣ_１〜１５一価脂肪族炭化水素基、Ｃ_６〜１５一価芳香族炭化水素基、Ｃ_１〜１５一価ヘテロアルキル基、又はＣ_１〜１５一価ヘテロアリール基から選択され、Ｒが１個以上のハロゲン原子で任意に置換される。（ｃ）では、接触が、ケイ素結合水素原子の少なくとも一部分をケイ素結合炭素基に変換するのに十分な時間行われ、この溶液が不飽和のカルボン酸又は不飽和の保護されたカルボン酸を更に含む。表面処理化合物は、白金族金属、白金族金属を含有する化合物、塩基、又はＳｎ、Ｔｉ、若しくはＰｄを含む化合物から選択される。シリコーンエラストマーは、ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を含む。

本発明の様々な実施形態は、他の組成物、方法、及び膜に勝るある種の利点を有する。本発明の方法のいくつかの実施形態は、処理された表面の親水性を増加させるより適度な方法であり得る。いくつかの実施形態は、例えば、脆化又は分解を通じた低分子量種の形成などの最小限の付随的損傷を生じるか、又は生じないが、表面で特定の所望の化学的部分の化学的変換を主に生じさせることを好むことによって、処理された表面の親水性を増加させるより選択的な方法であり得る。いくつかの実施形態は、例えば、実施する費用をより少なくすることによって、又はより大きな有効性を有することによって、処理された表面の親水性を増加させるより費用効率の高い方法であり得る。更に、いくつかの実施形態において、技術は、鍛造又はインクジェット印刷などの直接塗布技術の使用による広範な表面マスキングの手順を必要としない、表面改質をパターン化するのに適している。いくつかの実施形態において、本発明のシリコーン組成物を使用して、有益かつ予想外の特性を有する材料、例えば、高い自由体積、特定の気体に対する高度な透過性、及び特定の気体に対する高い選択性を有する膜を生成することができる。いくつかの実施形態において、表面処理方法は、従来の水若しくは油系インクで塗ることが可能な硬化性シリコーン物品を塗る、接着性を改善する、水若しくは水性材料の流れを誘導する、タンパク質の成長を誘導する、又は種晶に役立てることができる。

図面は必ずしも縮尺通りに描かれているわけではなく、図中で類似の番号は、複数の図にわたって実質的に同様な要素を示す。異なる添字付きの類似の番号は、実質的に同様な要素の異なる例を示す。図面は、限定ではなく、例として、本文書において説明されている様々な実施形態の概略を描くものである。
様々な実施形態に従う、正規化されたＳｉ−Ｈ強度対浸漬時間を示す。 様々な実施形態に従う、正規化されたＳｉ−Ｈ強度対浸漬時間を示す。 様々な実施形態に従う、正規化されたＳｉ−Ｈ強度対浸漬時間を示す。 様々な実施形態に従う、正規化されたＳｉ−Ｈ強度対浸漬時間を示す。 様々な実施形態に従う、エラストマー表面のＡＴＲ−ＩＲスペクトルオーバーレイを示す。 様々な実施形態に従う、エラストマー表面のスペクトルオーバーレイを示す。

これより、開示される主題の特定の実施形態について詳細に参照を行い、その例は添付図面の一部分において示されている。開示される主題は、列挙される特許請求の範囲と共に説明されるが、それらは、例示された主題が開示される主題に対して特許請求の範囲を制限するものではないことを理解されたい。

範囲の形式で表される値は、範囲の限度として明示的に記載される数値だけではなく、各数値及び部分範囲が明示的に記載されているかのようにその範囲内に包含される全ての個々の数値又は部分範囲も含むと柔軟に解釈すべきである。例えば、「約０．１％〜約５％」又は「約０．１％〜５％」の範囲は、約０．１％〜約５％を含むだけでなく、示される範囲内の個々の値（例えば、１％、２％、３％、及び４％）及びサブ範囲（例えば、０．１％〜０．５％、１．１％〜２．２％、３．３％〜４．４％）も含むものと解釈されるべきである。記述「約Ｘ〜Ｙ」は、「約Ｘ〜約Ｙ」と同じ意味を有する。同様に、「約Ｘ、Ｙ、又は約Ｚ」という記述は、「約Ｘ、約Ｙ、又は約Ｚ」と同じ意味を有する。

この文書では、用語「ａ」、「ａｎ」、又は「ｔｈｅ」は、特に明確に記載しない限り、１又は１超を含むために用いられる。用語「又は」は、別途記載のない限り、非排他的な「又は」を指すために用いられる。更に、本明細書で使用される語法又は用語は、特に定義しない限り、説明することだけを目的とし、限定することを目的とするものではないことを理解すべきである。項目の見出しの任意の使用は、文書の読解を助けることを意図するものであって、限定するものであると解釈すべきではない。項目の見出しに関連する情報は、その特定の項目内に記載されていても項目外に記載されていてもよい。更に、本文書に参照される全ての刊行物、特許、及び特許文書は、参照することによって個々に組み込まれるかのように、全文が参照することにより本明細書に組み込まれる。この文書と参照することにより組み込まれる文書との間に矛盾した用法が用いられている場合、組み込まれる文書における用法は、この文書の用法を補足するものであるとみなすべきであり、相容れない矛盾については、この文書における用法を採用する。

本明細書に記載の製造方法において、複数の工程は、本発明の原理から逸脱しない限り任意の順番で実行することができるが、但し、時間又は操作順序が明記されている場合は除く。

更に、特定の複数の工程は、これらが別々に実行されると主張に明記されていない限り、同時に実行することができる。例えば、Ｘを行うという主張されている工程とＹを行うという主張されている工程とは、単一の操作内で同時に行うことができ、結果のプロセスは、主張されているプロセスの記載されている通りの範囲内に入る。

用語「約」は、ある値又は範囲においてある程度の変動、例えば、指定の値又は指定の範囲の限度の１０％以内、５％以内、又は１％以内を許容し得る。

本明細書で使用するとき、用語「実質的に」は、少なくとも約５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、９５％、９６％、９７％、９８％、９９％、９９．５％、９９．９％、９９．９９％又は少なくとも約９９．９９９％又はそれ以上といったような大半又はほとんどを指す。

用語「有機基」は、本明細書で使用するとき、任意の炭素含有官能基を指すが、これに限定されない。例としては、アシル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロアリール基、又はヘテロアリールアルキル基、アルキル基などの直鎖及び／若しくは分枝状基、完全に若しくは部分的にハロゲンで置換されているハロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アクリレート及びメタクリレート官能基；並びにエーテル基、シアン酸エステル基、エステル基、カルボン酸塩基、及びマスクされたイソシアノ基などの他の有機官能基が挙げられる。

用語「樹脂」は、本明細書で使用するとき、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を介して３又は４個の他のシロキサンモノマーに結合している少なくとも１個のシロキサンモノマーを含む任意の粘度のポリシロキサン材料を指す。一例として、ポリシロキサン材料は、本明細書に定義されるＴ基又はＱ基を含む。

本明細書で使用するとき、用語「硬化」は、あらゆる形態の放射線への露光、加熱、又は固化をもたらす、若しくは粘度を増加させる物理又は化学反応を起こさせることを指す。

本明細書で使用される用語「自立」又は「無支持」とは、基材が多孔質であるか否かを問わず、基材に接触していない膜の２つの主表面の各々に、表面積の大半を有する膜を指す。いくつかの実施形態において、「自立」又は「無支持」である膜は、両方の主表面において１００％無支持であり得る。「自立」又は「無支持」である膜は、膜の端部で、あるいは膜の一方又は両方の主表面の表面積の小部分（例えば約５０％未満）で、支持され得る。

本明細書で使用される用語「有支持」とは、基材が多孔質であるか否かを問わず、基材に接触している２つの主表面のうち少なくとも一方に、表面積の大半を有する膜を指す。いくつかの実施形態において、「有支持」膜は、少なくとも一方の側に１００％支持され得る。「有支持」膜は、膜の一方又は両方の主表面の表面積の大半（例えば約５０％超）で任意の好適な位置で支持され得る。

本明細書で使用される用語「富化」とは、液体、気体、又は溶質などの量又は濃度を増加させることを指す。例えば、気体Ａと気体Ｂの混合物は、例えば膜を介する気体Ａの選択的透過によってこの混合物に気体Ａを追加することによって、あるいは、例えば膜を介する気体Ｂの選択的透過によってこの混合物から気体Ｂを除去することによって、気体Ａの濃度又は量を増加させた場合、気体Ａの富化を行うことができる。

本明細書で使用される用語「低減（deplete）」とは、液体、気体、又は溶質などの量又は濃度を減少させることを指す。例えば、気体ＡとＢとの混合物は、例えば、膜を通して気体Ｂを選択的に透過させて、混合物から気体Ｂを取り除くことによって、又は、例えば、膜を通して気体Ａを選択的に透過させて、混合物に気体Ａを添加することによって、気体Ｂの濃度又は量を減少させる場合、気体Ｂを低減させることができる。

用語「選択性」又は「理想選択性」は、本明細書で使用するとき、室温で測定された、より緩徐な透過気体に対するより迅速な透過気体の透過性の比を指す。

用語「透過性」は、本明細書で使用するとき、膜を通る物質Ｘの透過係数（Ｐ_ｘ）（式中、ｑｍｘ＝Ｐ_ｘ ^＊Ａ^＊Δｐ_ｘ ^＊（１／δ）であり、ｑ_ｍｘは、膜を通る物質Ｘの体積流量であり、Ａは、物質Ｘが流れる膜の１つの主側面の表面積であり、Δｐ_ｘは、膜全域にわたる物質Ｘの部分圧の差であり、δは膜の厚さである）を指す。Ｐ_ｘはまた、Ｖ・δ／（Ａ・ｔ・Δｐ）（式中、Ｐ_ｘは、膜中の気体Ｘに対する透過性であり、Ｖは、膜を通って透過する気体Ｘの体積であり、δは膜の厚さであり、Ａは膜の面積であり、ｔは時間であり、Δｐは、保有及び透過する側面での気体Ｘの圧力差である）としても表すこともできる。別途記載のない限り、透過性は、室温で測定される。

用語「バーラー」は、本明細書で使用するとき、透過性の単位を指し、１バーラー＝１０^−１１（ｃｍ^３気体）ｃｍ ｃｍ^−２ ｓ^−１ ｍｍＨｇ^−１、又は１０^−１０（ｃｍ^３気体）ｃｍ ｃｍ^−２ ｓ^−１ ｃｍ Ｈｇ^−１であり、式中、「ｃｍ^３気体」は、標準温度及び圧力で１立方センチメートルを占める気体の量を表す。

用語「表面」は、物体の境界又は側面を指し、上記の境界又は側面は、任意の外周形状を有し得、平面、曲面、又は角張った面を含む任意の３次元形状を有し得、また、上記の境界又は側面は、連続であっても不連続であってもよい。

用語「ミル」は、本明細書で使用するとき、２５．４ミクロンであるような１インチの１０００分の１を指す（１ミル＝０．００１インチ）。

用語「シリコーンエラストマー」は、本明細書で使用するとき、任意の硬化性シリコーンを含有する組成物の硬化生成物を指す。

用語「炭化水素」は、本明細書で使用するとき、任意のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、脂肪族基、又は芳香族基などの炭化水素基、直鎖又は分枝鎖基を指す。

本発明は、表面の少なくとも１つの領域を表面処理化合物を含む溶液と接触させることによって、複数のケイ素結合水素原子を有するシリコーンエラストマーを含む表面を処理する方法に関する。一実施例において、表面処理化合物を含む溶液は、白金族金属を含有する触媒の水溶液を含む。本発明は、ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物に関する。いくつかの実施例において、当該ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物は、１分子当たり平均で少なくとも４０個のケイ素結合水素原子を有するオルガノ水素ポリシロキサンと、１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する架橋剤と、ヒドロシリル化触媒と、を含み、オルガノ水素ポリシロキサン中のケイ素結合水素原子と架橋剤中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合とのモル比は少なくとも２０：１である。本発明はまた、膜、膜の作製方法、膜のための気体透過性支持体、及び膜を使用した気体分離方法にも関する。

表面処理化合物を含む溶液による複数のケイ素結合水素原子を有するシリコーンエラストマーの表面の処理は、処理された表面の親水性を増加させる適度で選択的かつ費用効率の高い方法であり得る。

ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物
本発明の様々な実施形態は、ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物を提供する。ヒドロシリル化硬化性組成物は、当業者に既知の任意の好適なヒドロシリル化硬化性組成物であり得る。硬化する前（例えば、反応生成物又は硬化生成物が形成される前）に、本発明のヒドロシリル化硬化性組成物は、オルガノ水素ポリシロキサン（成分（Ａ））、架橋剤（成分（Ｂ））、及びヒドロシリル化触媒（成分（Ｃ））を含むことができる。このシリコーン組成物は、ケイ素を含まない成分、ポリシロキサン構造体を含まない成分を含む、任意の好適な有機又は無機成分を含む、任意の好適な追加の材料を含むことができる。

ヒドロシリル化硬化プロセス中、Ｓｉ−Ｈ結合は、不飽和結合に対して、例えば、アルケニル基又はアルキニル基に対して付加される。ヒドロシリル化硬化性組成物は、１分子当たり少なくとも１つのＳｉ−Ｈ結合を含むオルガノポリシロキサンを含むことができる。ヒドロシリル化硬化性組成物は、１分子当たり少なくとも１つの不飽和結合を有する架橋剤を含むことができる。いくつかの実施形態において、ヒドロシリル化硬化性混合物は、オルガノポリシロキサン及び架橋剤以外の少なくとも１つのＳｉ−Ｈ結合又は少なくとも１つの不飽和結合を有する他の成分を含むことができる。いくつかの実施形態において、オルガノポリシロキサンは、少なくとも１つのＳｉ−Ｈ結合及び少なくとも１つの不飽和結合の両方を含む。いくつかの実施形態において、組成物中のいくつかのオルガノポリシロキサンは、少なくとも１つのＳｉ−Ｈ結合を含むが、一方、組成物中の他のオルガノポリシロキサンは、少なくとも１つの不飽和結合を含む。オルガノポリシロキサンの一部として、別の成分（例えば架橋剤）の一部として、又は両方が単一成分中に存在するものとして、Ｓｉ−Ｈ結合及び不飽和結合のすべての組み合わせ及び置換は、本発明の実施形態として包含される。

ヒドロシリル化硬化性組成物は、成分（Ａ）であるオルガノ水素ポリシロキサンを含む。オルガノ水素ポリシロキサンは、未硬化組成物の約５重量％〜約９９重量％、約８重量％〜約９８重量％、約１０重量％〜約９６重量％、又は約１５重量％〜９５重量％で存在し得る。いくつかの実施形態において、オルガノ水素ポリシロキサンは、未硬化組成物の約１０重量％〜約５０重量％、約１５重量％〜約４５重量％、２０重量％〜約３５重量％、又は約２５重量％〜３１重量％、又は約２８重量％で存在し得る。いくつかの実施形態において、オルガノ水素ポリシロキサンは、未硬化組成物の約３０重量％〜約７０重量％、約４０重量％〜約６０重量％、４５重量％〜約５５重量％、又は約４８重量％〜５２重量％、又は約５０重量％で存在し得る。いくつかの実施形態において、オルガノ水素ポリシロキサンは、未硬化組成物の約６０重量％〜約９９重量％、約７０重量％〜約９６重量％、又は約８０重量％〜約９５重量％、又は約８６重量％〜約９４重量％、又は約８８重量％〜約９２重量％、又は約９０重量％で存在し得る。この段落中の重量％は、少なくとも成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を含む、未硬化組成物のヒドロシリル化反応する成分の全重量に基づいた重量パーセントを指す。

ヒドロシリル化硬化性組成物は、成分（Ｂ）である架橋剤を含む。この架橋剤は、未硬化組成物の約０．５重量％〜約９９重量％、約１重量％〜約９０重量％、又は約３重量％〜約８０重量％で存在し得る。いくつかの実施形態において、この架橋剤は、未硬化組成物の約５０重量％〜約９９重量％、約６０重量％〜約８０重量％、又は約７０重量％〜約７５重量％、又は約７２重量％で存在し得る。いくつかの実施形態において、この架橋剤は、未硬化組成物の約２５重量％〜約７５重量％、約４０重量％〜約６０重量％、又は約４８重量％〜約５２重量％、又は約５０重量％で存在し得る。いくつかの実施形態において、この架橋剤は、未硬化組成物の約１重量％〜約２０重量％、約５重量％〜約１５重量％、又は約８重量％〜約１０重量％、又は約９重量％で存在し得る。この段落中の重量％は、少なくとも成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を含む、未硬化組成物のヒドロシリル化反応する成分の全重量に基づいた重量パーセントを指す。

ヒドロシリル化硬化性組成物は、成分（Ｃ）であるヒドロシリル化触媒を含む。ヒドロシリル化触媒は、未硬化組成物の約０．００００１重量％〜約２０重量％、約０．００１重量％〜約１０重量％、又は約０．０１重量％〜約３重量％で存在し得る。いくつかの実施形態において、ヒドロシリル化触媒は、未硬化組成物の約０．００１重量％〜約３重量％、約０．０１重量％〜約１重量％、又は約０．１重量％〜約０．３重量％で存在し得る。この段落中の重量％は、少なくとも成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を含む、未硬化組成物のヒドロシリル化反応する成分の全重量に基づいた重量パーセントを指す。

成分（Ａ）、ケイ素結合水素原子を有するオルガノ水素ポリシロキサン
反応混合物は、成分（Ａ）である、ケイ素結合水素原子を含むオルガノ水素ポリシロキサンを含むことができる。いくつかの実施例において、オルガノ水素ポリシロキサン化合物は、平均で少なくとも２個、又は２個を超えるケイ素結合水素原子を有する。オルガノポリシロキサン化合物は、直鎖状、分枝状、環状、又は樹脂性の構造を有し得る。このオルガノポリシロキサン化合物は、ホモポリマー又はコポリマーであり得る。このオルガノポリシロキサン化合物は、ジシロキサン、トリシロキサン、又はポリシロキサンであり得る。この有機ケイ素化合物中のケイ素結合水素原子は、末端位置、ペンダント位置、又は末端とペンダントとの両方に位置し得る。

様々な実施形態において、オルガノ水素ポリシロキサン化合物は、１分子当たり平均約５未満、又は少なくとも約５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、８０、１００、２００、又は約２００超のＳｉ−Ｈ単位を有し得る。いくつかの実施形態において、オルガノヒドロポリシロキサン化合物は、１分子当たり平均約４０のＳｉ−Ｈ単位を有する。

一実施例において、有機水素ポリシロキサンは、次の式の化合物を含み得る：
（ａ） Ｒ^ｘ _３ＳｉＯ（Ｒ^ｘ _２ＳｉＯ）_α（Ｒ^ｘＲ^２ＳｉＯ）_βＳｉＲ^ｘ _３、又は
（ｂ） Ｒ^４Ｒ^ｘ _２ＳｉＯ（Ｒ^ｘ _２ＳｉＯ）_χ（Ｒ^ｘＲ^４ＳｉＯ）_δＳｉＲ^ｘ _２Ｒ^４。

式（ａ）では、αは、約０〜約５００，０００の平均値を有し、βは、約２〜約５００，０００の平均値を有する。各Ｒ^ｘは、独立して、一価官能基である。好適な一価官能基としては、アクリル基、アルキル、ハロゲン化炭化水素基、アルケニル、アルキニル、アリール、及びシアノアルキルが挙げられるが、これらに限定されない。各Ｒ^２は、独立して、Ｈ又はＲ^ｘである。いくつかの実施形態において、βは約２０未満、少なくとも２０、４０、１５０、又は約２００超である。式（ｂ）中、χは０〜５００，０００の平均値を有し、δは０〜５００，０００の平均値を有する。各Ｒ^ｘは、独立して、上述の通りである。各Ｒ^４は、独立して、Ｈ又はＲ^ｘである。いくつかの実施形態において、δは約２０未満、少なくとも２０、４０、１５０、又は約２００超である。

有機水素ポリシロキサンの例には、平均単位式：
（Ｒ^ｘＲ^４Ｒ^５ＳｉＯ_１／２）_ｗ（Ｒ^ｘＲ^４ＳｉＯ_２／２）_ｘ（Ｒ^４ＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ （Ｉ）、
式中、Ｒ^ｘは、独立して、上に定義される通りであり、Ｒ^４は、Ｈ又はＲ^ｘであり、Ｒ^５は、Ｈ又はＲ^ｘであり、０≦ｗ＜０．９５、０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜１、０≦ｚ＜０．９５、及びｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ≒１である。いくつかの実施形態において、Ｒ^１はＣ_１〜１０ヒドロカルビル又はＣ_１〜１０ハロゲン置換ヒドロカルビル（いずれも不飽和脂肪族を含まず）であり、あるいはＣ_４〜Ｃ_１４アリールである。いくつかの実施形態において、ｗは０．０１〜０．６、ｘは０〜０．５、ｙは０〜０．９５、ｚは０〜０．４、かつｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ≒１である。

成分（Ｂ）、架橋剤
本発明のヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物は、成分（Ｂ）である架橋剤を含むことができる。この架橋剤は、任意の好適な架橋剤であり得る。一実施形態において、この架橋剤は、（ｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機ケイ素化合物（例えば、１分子当たり少なくとも２つのアルケニル基又はアルキニル基）、（ｉｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機化合物（例えば、１分子当たり２つのアルケニル基又はアルキニル基）、又は（ｉｉｉ）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む混合物を含むことができる。

成分（Ｂ）は、任意の好適な濃度で存在し得る。いくつかの実施形態において、成分（Ｂ）は、シリコーン組成物の少なくとも一部を硬化させるのに十分な濃度で存在し得る。いくつかの実施例において、シリコーン組成物中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合の１モル当たり少なくとも約１、５、１０、１５、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１５０、２００モル、又は約２００モル超のケイ素結合水素原子がある。いくつかの実施形態において、成分（Ａ）中のケイ素結合水素原子のモル比は、成分（Ｂ）中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合の１モル当たり少なくとも約１、５、１０、１５、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１５０、２００モル、又は約２００モル超である。

成分（Ｂ）、（ｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機ケイ素化合物
本発明のヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物は、１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する有機ケイ素化合物を含むことができる。１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する有機ケイ素化合物は、１分子当たり平均で少なくとも２つの不飽和炭素−炭素結合を有する任意の好適な有機ケイ素化合物であり得、２つの不飽和炭素−炭素結合の各々は、独立して又は一緒になって、ケイ素結合基の一部である。いくつかの実施形態において、１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する有機ケイ素化合物は、少なくとも２つのケイ素結合の脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含有する基を有する有機ケイ素化合物であり得る。いくつかの実施形態において、有機ケイ素化合物は、１分子当たり少なくとも３つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する。

有機ケイ素化合物は、オルガノシラン又はオルガノシロキサンであり得る。オルガノシランは、モノシラン、ジシラン、トリシラン、又はポリシランであり得、オルガノシロキサンは、ジシロキサン、トリシロキサン、又はポリシロキサンであり得る。有機ケイ素化合物の構造は、直鎖状、分枝状、環状、又は樹脂性であり得る。シクロシラン及びシクロシロキサンは、３〜１２個のケイ素原子を有し得る。非環式ポリシラン及びポリシロキサンでは、脂肪族不飽和炭素−炭素結合は、末端位及びペンダント位のうちの少なくとも１つに位置し得る。

成分（Ｂ）（ｉ）として使用するのに好適なオルガノシランの例としては、式：Ｖｉ_４Ｓｉ、ＰｈＳｉＶｉ_３、ＭｅＳｉＶｉ_３、ＰｈＭｅＳｉＶｉ_２、Ｐｈ_２ＳｉＶｉ_２、及びＰｈＳｉ（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_３（式中、Ｍｅはメチルであり、Ｐｈはフェニルであり、Ｖｉはビニルである）を有するシランが挙げられるが、これらに限定されない。

脂肪族不飽和炭素−炭素結合含有基の例としては、アルケニル基（例えばビニル、アリル、ブテニル、及びヘキセニル）、アルキニル基（例えばエチニル、プロピニル、及びブチニル）、又はアクリレート官能基（例えばアクリロイロキシアルキル又はメタアクリロイロキシプロピル）が挙げられる。

いくつかの実施形態において、成分（Ｂ）、（ｉ）は、式
（ａ） Ｒ^ｙ _３ＳｉＯ（Ｒ^ｙ _２ＳｉＯ）_α（Ｒ^ｙＲ^２ＳｉＯ）_βＳｉＲ^ｙ _３、
（ｂ） Ｒ^ｙ _２Ｒ^４ＳｉＯ（Ｒ^ｙ _２ＳｉＯ）_χ（Ｒ^ｙＲ^４ＳｉＯ）_δＳｉＲ^ｙ _２Ｒ^４、
のオルガノポリオルガノシロキサン、又はこれらの組み合わせである。

式（ａ）中、αは０〜２０００の平均値を有し、βは１〜２０００の平均値を有する。各Ｒ^ｙは、独立して、本明細書でＲ^ｘについて列記されたものなどの一価有機基、又はアクリロイルオキシプロピル及びメタクリロイルオキシプロピルなどのアクリル官能基；ビニル、アリル、及びブテニルなどのアルケニル基；エチニル及びプロピニルなどのアルキニル基；３−アミノプロピル、６−アミノヘキシル、１１−アミノウンデシル、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピル、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノイソブチル、ｐ−アミノフェニル、２−エチルピリジン、及び３−プロピルピロールなどのアミノアルキル基；３−グリシドキシプロピル、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル、及び５−６エポキシヘキシルなどのエポキシアルキル基；３−イソシアナトプロピル、トリス−３−プロピルイソシアヌレート、プロピル−ｔ−ブチルカルバメート、及びプロピルエチルカルバメートなどのイソシアネート及びマスクドイソシアネート官能基；ウンデカナール及びブチルアルデヒドなどのアルデヒド官能基；３−プロピルコハク酸無水物及び３−プロピルマレイン酸無水物などの無水物官能基；３−カルボキシプロピル及び２−カルボキシエチルなどのカルボン酸官能基；並びに３−カルボキシプロピル及び２−カルボキシエチルのＺｎ、Ｎａ、又はＫ塩などのカルボン酸の金属塩である。各Ｒ^２は、独立して、本明細書に記載されるように、不飽和の一価脂肪族炭素−炭素結合含有基であるか、又はＲｙである。式（ｂ）中、χは０〜２０００の平均値を有し、δは１〜２０００の平均値を有する。各Ｒ^ｙは、独立して、上に定義される通りであり、Ｒ^４は、独立して、上記Ｒ^２に対して定義されるものと同じである。

１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有するオルガノポリシロキサンの例には、平均単位の式
（Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２）_ａ（Ｒ^４Ｒ^５ＳｉＯ_２／２）_ｂ（Ｒ^６ＳｉＯ_３／２）_ｃ（ＳｉＯ_４／２）_ｄ （Ｉ）
を有する化合物が含まれ、式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、上に定義されるように、Ｒ^ｙ又はＲ^２から独立して選択される有機基であり、０≦ａ＜０．９５、０≦ｂ＜１、０≦ｃ＜１、０≦ｄ＜０．９５、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１である。

成分（Ｂ）、（ｉｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機化合物
本発明のヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物は、例えば、アルケニル基又はアルキニル基などの１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する有機化合物を含むことができる。１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する有機化合物の実施形態は、上記の項、成分（Ｂ）（ｉ）に開示される、１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する任意の有機ケイ素化合物を含む。

成分（Ｂ）（ｉｉ）は、１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機化合物である。この有機化合物は、硬化生成物を形成するために、シリコーン組成物のオルガノ水素ポリシロキサンが硬化するのを妨げない場合には、１分子当たり少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を含有する任意の有機化合物であり得る。この有機化合物は、ジエン、トリエン、又はポリエンであり得る。また、不飽和化合物は、直鎖状、分枝状、又は環状構造を有し得る。更に、非環式有機化合物では、不飽和炭素−炭素結合は、末端位、ペンダント位で、又は末端位及びペンダント位の両方に位置し得る。例は、１，４−ブタジエン、１，６−ヘキサジエン、１，８−オクタジエン、及びその内部に不飽和である変異体を含むことができる。

この有機化合物は、室温で液体又は固体状態を有し得る。また、この有機化合物は、シリコーン組成物中で可溶性であり得る。いくつかの実施形態において、この有機化合物は、オルガノ水素ポリシロキサンの硬化温度よりも高い標準沸点を有し、硬化中、揮発によって相当量の有機化合物の除去を防ぐのに役立ち得る。この有機化合物は、５００未満、４００、又は３００未満の分子量を有し得る。

一実施例において、１分子当たり平均で少なくとも２つのアルケニル基を有する有機化合物は、１分子当たり少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有するポリエーテル、又はそのハロゲンで置換された変異体である。

成分（Ｃ）、ヒドロシリル化触媒
硬化前状態のシリコーン組成物には、少なくとも１種類のヒドロシリル化触媒が含まれる。シリコーン組成物の硬化中、ヒドロシリル化触媒は、架橋剤によるオルガノ水素ポリシロキサンの付加反応（ヒドロシリル化）を触媒することができる。いくつかの実施形態において、ヒドロシリル化触媒は、白金族金属、又は白金族金属を含有する化合物を含む、任意のヒドロシリル化触媒であり得る。白金族金属としては、白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム、及びイリジウムが挙げられる。白金族金属は、白金であり得る。

ヒドロシリル化触媒の例としては、米国特許第３，４１９，５９３号でＷｉｌｌｉｎｇによって開示された塩化白金酸と特定のビニル含有オルガノシロキサンとの錯体、例えば、塩化白金酸と１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンとの反応生成物、米国特許第４，７６６，１７６号及び米国特許第５，０１７，６５４号に例示される熱可塑性樹脂内にカプセル化された白金族金属を含むマイクロカプセル化ヒドロシリル化触媒、並びに米国特許第７，７９９，８４２号に例示される白金（ＩＩ）ビス（２，４−ペンタンジオエート）などの光活性化されたヒドロシリル化触媒が挙げられる。好適なヒドロシリル化触媒の例には、１，３−ジエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの白金（ＩＶ）錯体が挙げられる。

表面を処理する方法
本発明の様々な実施形態は、表面を処理する方法を提供する。この表面は、複数のケイ素結合水素原子を有し得る。この処理は、ケイ素結合水素原子数を減少させるが、Ｓｉ−ＯＨ基、Ｓｉ−ＯＲ基、又はＳｉ−Ｃ基の数を増加させる。この処理は、表面の疎水性を減少させ、それによって、その親水性を増加させることができる。様々な実施形態において、本発明によって提供される表面を処理する方法は、硬化性シロキサンエラストマーの表面を親水性にする適度で選択的かつ費用効率の高い方法である。

一実施形態において、表面を処理する方法が提供される。この表面は、シリコーンエラストマーを含む。このシリコーンエラストマーは、複数のケイ素結合水素原子を含むことができる。本方法は、表面の少なくとも１つの領域を、表面処理化合物を含む溶液と接触させることを含む。様々な実施形態において、表面の１つを超える別個の領域が、表面処理化合物を含む溶液と接触させられる。この接触は、ケイ素結合水素原子の少なくとも一部分をケイ素結合ヒドロキシル基に変換するのに十分な時間、行われ得る。

いくつかの実施形態において、シリコーンエラストマーは、複数のケイ素結合水素原子を含む任意の好適なシリコーンエラストマーであり得る。ケイ素結合水素原子は、シリコーンエラストマーの表面で又はその付近で生じ得る。処理によってアクセスすることができる任意のケイ素結合水素原子は、複数のケイ素結合水素原子中に含まれ得る。処理によってアクセスすることができるシリコーンエラストマーの任意の部分は、シリコーンエラストマーの表面内に含まれ得る。この表面は、少なくとも１個のケイ素結合水素原子を含む。

いくつかの実施例において、シリコーンエラストマーは、反応生成物又は硬化性シリコーン組成物の硬化生成物であり得る。一実施例において、シリコーン組成物は、ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物である。様々な実施形態において、シリコーン組成物は、成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を含む、本発明の実施形態によって提供されたヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物であり得る。

本方法は、シリコーンエラストマーの表面の少なくとも１つの領域を処理溶液と接触させることを含むことができる。接触中、Ｓｉ−Ｈ結合の数は減少し、Ｓｉ−ＯＨ結合、Ｓｉ−ＯＲ結合、又はＳｉ−Ｃ結合の数は増加する。接触は、任意の好適な接触であり得る。接触は、処理溶液中の浸漬であり得る。接触は、例えば、はけ塗り、ピぺッティング、液滴、スプレー、浸漬などによる、任意の好適な様式で表面上に溶液を塗ることを含むことができる。接触は、処理された表面上のケイ素結合水素原子の数を減少させるために、任意の好適な持続時間行われ得る。例えば、接触の持続時間は、約１秒、１０秒、２０秒、３０秒、１分、２分、５分、１０分、２０分、３０分、４０分、５０分、６０分、２時間、４時間、８時間、１６時間、２４時間、２日間、又は約４日間であり得る。接触は、処理された表面上のケイ素結合水素原子の数を減少させるために、任意の好適な温度で行われ得る。例えば、接触は、室温で行われ得る。他の実施例において、接触は、室温より低い温度で、又は室温よりも高い温度で行われ得る。いくつかの実施例において、接触は、約−２０℃、−１０℃、０℃、１０℃、２０℃、３０℃、４０℃、５０℃、６０℃、７０℃、８０℃、９０℃、又は約１００℃で行われ得る。

シリコーンエラストマーは、任意の数の表面を含み得る。表面の処理された領域は、シリコーンエラストマーの表面の任意の領域であり得る。この領域は、ほぼ全表面、表面の約７５％、約５０％、約２５％、約１％、又は表面の１％未満を含む、任意の好適な大きさであり得る。この領域は、単一領域であり得る。この領域は、全表面であり得る。この領域は、全表面未満、例えば、全表面の約７５％、約５０％、約２５％、約１％、又は約１％未満であり得る。この領域は、隣接した領域又は隣接しない領域などの領域の組み合わせであり得る。いくつかの実施例において、この領域は、例えば、処理溶液の液滴による使用による、表面上のパターンであり得る。

表面処理溶液は、少なくとも１つの表面処理化合物を含むことができる溶液であり、任意に溶媒である。表面処理化合物は、本明細書に記載される、任意の好適な表面処理化合物であり得る。この溶媒は、任意の好適な溶媒であり得る。例えば、この溶媒は水であり得る。別の実施例において、この溶媒は有機溶媒であり得る。この溶媒は、任意の好適な有機溶媒であり得る。この溶液は、１つを超える溶媒を含み得る。この溶液は、水及び共溶媒を含み得る。

一実施例において、本方法は、表面Ｓｉ−Ｈ基の少なくとも一部をＳｉ−ＯＨ基に変換する塩化白金酸水溶液中の複数の残基Ｓｉ−Ｈ基を含むヒドロシリル化硬化性エラストマーを浸漬することを含む。

本発明の一実施形態において、この溶液は、式Ｈ−Ｏ−Ｒ（式中、Ｒは、本明細書に記載される、任意の好適な有機基である）を有するアルコールを更に含む。このような溶液による十分な時間の処理は、Ｓｉ−Ｈ基の少なくとも一部を、Ｒ基が式Ｈ−Ｏ−Ｒを有するアルコール由来であるＳｉ−Ｏ−Ｒ基に変換させることを可能にする。

本発明の一実施形態において、この溶液は、不飽和カルボン酸又は不飽和の保護されたカルボン酸を更に含む。このような溶液による処理は、不飽和カルボン酸中又は不飽和の保護されたカルボン酸中の不飽和基に対するＳｉ−Ｈ基のヒドロシリル化を可能にする。したがって、このような溶液による十分な時間の処理は、Ｓｉ−Ｈ基の少なくとも一部を、炭素基が不飽和カルボン酸又は不飽和の保護されたカルボン酸由来であるＳｉ−Ｃ基に変換することを可能にする。不飽和カルボン酸は、任意の好適な不飽和カルボン酸であり得、不飽和の保護されたカルボン酸は、任意の好適な不飽和の保護されたカルボン酸であり得る。例えば、カルボン酸は、任意のＣ_１〜２０アルケン酸であり得る。例えば、カルボン酸は、ウンデシレン酸、イタコン酸、アクリル酸、又はメタクリル酸であり得る。

いくつかの実施例において、保護基を、加水分解によって除去して、カルボン酸を得ることができる。したがって、いくつかの実施例において、保護されたカルボン酸は、カルボン酸の加水分解性誘導体であり得る。例えば、保護されたカルボン酸は、エステル、アミド、ニトリル、又は無水物であり得る。いくつかの実施例において、保護基を、他の工程、例えば、１つを超える工程、例えば、脱水、酸化、脱シリル化、又は任意の好適な脱保護手順によって除去することができる。いくつかの実施例において、保護基は、オルトエステル、オルト酸、シリルエステル、又はオキサゾリンであり得る。カルボン酸保護基及び除去方法は、当該技術分野において公知である。

いくつかの実施例において、カルボン酸基を、カルボン酸反応性基と反応させることができる。これにより、処理されたシリコーンエラストマーの表面上に更なる官能化の付加を可能にし得る。例えば、カルボン酸基を、アミン化合物と反応させて、表面上に続く層を生成することができる。

処理されたシリコーンエラストマーの表面は、多くの異なる使用を有し得る。一実施例において、処理は、非改質のシリコーン表面への結合親和性を通常欠く種晶に対して、この表面をより相溶性にすることができる。別の実施例において、処理は、更に以下に記載される、膜の付着のために気体透過性支持体の合成を可能にすることができる。別の実施例において、従来の水又は油系インク若しくは塗料又は無溶剤インク若しくは塗料を含むインク若しくは塗料で印付け可能な、又は塗装可能にすることができ、そのため、このインク若しくは塗料はビーディングなしで、処理前の塗料若しくはインクによる表面の湿潤が、困難であるか、又は不可能である表面を湿らせることができる。有利なことには、これは、プラズマ、コロナ、火炎、又は紫外オゾン処理などの高価な、潜在的に損傷する高エネルギー表面処理プロセスのような、表面を塗装可能にする従来の方法を避けることができる。

いくつかの実施形態において、処理溶液は表面と反応するが、本方法は、組成物の再湿潤を避けるための被覆層又はパターン化されたスタンプの存在を更に含むことができる。いくつかの実施形態において、処理溶液を表面と反応させた後、本方法は、過剰な組成物及び任意の被覆層又はパターン化されたスタンプを除去することを含むことができる。

表面処理化合物
表面処理化合物は、Ｓｉ−Ｈ基をＳｉ−ＯＨ基、Ｓｉ−ＯＲ基、又はＳｉ−Ｃ基に変換させる化学反応を促進する任意の好適な化合物であり得る。この化学反応は、任意の数の中間工程で行われ得る。一実施例において、表面処理化合物によって促進される化学反応は、触媒であり、そのため、表面処理化合物は、それ自体消費されることなく、Ｓｉ−Ｈ基の他の基への反応速度を増加させる。別の実施例において、表面処理化合物によって促進される化学反応は、触媒ではなく、そのため、Ｓｉ−Ｈ基の他の基への反応は、表面処理化合物によって引き起こされるか、又は支援され、表面処理化合物それ自体が反応を促進するプロセスにおいて消費される。

表面処理化合物は、任意の好適な表面処理化合物であり得る。例えば、表面処理化合物は、白金族金属含有化合物を含むことができる。一実施例において、白金族金属含有化合物は塩化白金酸である。いくつかの実施例において、塩化白金酸は触媒である。他の実施例において、表面処理化合物は、Ｓｎ、Ｔｉ、又はＰｄを含む触媒又は化合物であり得る。

表面処理化合物は、溶液中に存在する。この溶液は、表面処理化合物及び好適な溶媒を含む。いくつかの実施例において、表面処理溶液は、少なくとも１ｐｐｍの白金族金属を有するように、十分な白金族金属含有化合物を有する。他の実施例において、この表面処理溶液は、Ｐｔ又は他の金属の、少なくとも５ｐｐｍ、１０ｐｐｍ、２０ｐｐｍ、４０ｐｐｍ、６０ｐｐｍ、７５ｐｐｍ、１００ｐｐｍ、１５０ｐｐｍ、２００ｐｐｍ、２５０ｐｐｍ、３００ｐｐｍ、４５０ｐｐｍ、５００ｐｐｍ、１０００ｐｐｍ、２０００ｐｐｍ、又は任意の好適なｐｐｍを有する。

別の実施例において、表面処理化合物は、任意の好適な塩基であり得る。例えば、塩基は、ＫＯＨ、ＮａＯＨ、Ｂａ（ＯＨ）_２、ＣｓＯＨ、Ｓｒ（ＯＨ）_２、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｍｇ（ＯＨ）_２、ＬｉＯＨ、又はＲｂＯＨなどの塩であり得る。別の実施例において、塩基は、例えば、ピリジン、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、ヒスチジン、又はホスファゼン塩基などの有機塩基であり得る。例は、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミン、リチウムジエチルアミン、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、又はリチウムビス（トリメチルシリル）アミドを含むことができる。別の実施例において、塩基は、例えば、アンモニア、トリエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、任意のモノ−、ジ−、又はトリアルキル置換アミンなどを含む、第１級、第２級、又は第３級アミンを含む任意のアミンなどのアミンなどの有機塩基であり得る。塩基の濃度は、任意の好適な濃度であり得る。例えば、塩基の濃度は、約０．０００，０００，０００，０００，００１ｇ／ｍＬ、０．０００，０００，０００，００１ｇ／ｍＬ、又は約０．０００，０００，００１ｇ／ｍＬ、０．０００，００１ｇ／ｍＬ、０．０００，０１ｇ／ｍＬ、０．０００，１ｇ／ｍＬ、０．００１ｇ／ｍＬ、０．０１ｇ／ｍＬ、０．１ｇ／ｍＬ、又は約１ｇ／ｍＬであり得る。

多孔性又は高度に透過性の基材の作製方法
本発明の様々な実施形態は、多孔性又は高度に透過性の基材の作製方法を提供する。多孔性又は高度に透過性の基材、及びその使用が本明細書に記載される。本方法は、本明細書に記載される表面処理方法を用いてＳｉ−Ｈ基を含む任意の材料の表面を処理して、表面でＳｉ−Ｈ基の量を減少させ、表面でＳｉ−ＯＨ基、Ｓｉ−ＯＲ基、又はＳｉ−Ｃ基の量を増加させる多孔性又は高度に透過性の基材を得ることを含むことができる。この基材は、少なくとも１つの表面上にＳｉ−Ｈ基を含む任意の好適な材料であり得、この表面は、本明細書に記載される表面の処理方法によって到達され得る基材の任意の部分である。この処理により、処理された基材を得る。

膜
様々な実施形態において、本発明は、本発明の実施形態によって提供されたヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物の反応生成物又は硬化生成物を含む膜を提供する。いくつかの実施形態において、本発明は、シリコーンエラストマーの処理方法を提供し、このシリコーンエラストマーは、膜の少なくとも一部であり、シリコーンエラストマーが、処理された膜を提供するために、本発明のヒドロシリル化硬化性組成物又は別の組成物からの反応生成物を含む。いくつかの実施形態において、本発明は、多孔性基材上に形成された膜を提供し、この多孔性基材は、本発明の実施形態によって提供された表面処理方法によって処理されるシリコーンエラストマーを含み、いくつかの実施形態において、このシリコーンエラストマーは、本発明の実施形態によって提供されたヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物の反応生成物を含み、他の実施形態において、このシリコーンエラストマーは、他の組成物由来である。本発明によって提供される膜の実施形態は、任意の好適な膜であり得、例えば、有支持又は無支持であり得る。

一実施形態において、本発明は膜を形成する方法を提供する。本発明は、膜を形成する工程を含み得る。膜は、基材の少なくとも１つの表面上に形成され得る。基材の「上」にあると見なされる任意の膜について、膜は基材に付着（例えば接着）していてよく、又は接着されずに別の方法で基材に接触していてもよい。基材は任意の表面質感を有していてよく、また多孔質であっても非多孔質であってもよい。基材には、膜形成工程によって膜でコーティングされていない表面が含まれ得る。基材のすべての表面を膜形成の工程によってコーティングすることができ、又は１つの表面をコーティングすることができ、又は任意の数の表面をコーティングすることができる。

膜形成工程は、２つの工程を含み得る。第１の工程では、膜を形成する組成物が、基材の少なくとも１つの表面に塗布され得る。第２の工程では、その膜を形成する塗布された組成物を硬化させて膜を形成することができる。いくつかの実施形態において、組成物の硬化プロセスは、組成物の表面への塗布前、塗布中、又は塗布後に開始することができる。硬化プロセスは、膜を形成する組成物を、膜へと変化させる。この膜を形成する組成物は、液体状態であり得る。膜は、固体状態であり得る。

膜を形成する組成物は、従来のコーティング技術、例えば、浸漬コーティング、金型コーティング、ブレードコーティング、押出、カーテンコーティング、ドローダウン、溶媒鋳造、スピンコーティング、浸し塗り、スプレー、はけ塗り、ロールコーティング、押出、スクリーン印刷、パッド印刷、又はインクジェット印刷を用いて塗布され得る。

膜を形成する組成物の硬化には、例えばヒドロシリル化触媒などの硬化剤又は反応開始剤の添加が含まれ得る。いくつかの実施形態において、硬化プロセスは、硬化剤又は反応開始剤の添加直後に開始し得る。硬化剤又は反応開始剤を添加しても速やかに硬化プロセスが開始されない場合があり、更なる硬化工程を必要とする場合もある。他の実施形態において、硬化剤又は開始剤の添加は、硬化プロセスを直ぐに開始させることができるが、更なる硬化工程も必要とし得る。硬化剤又は反応開始剤の添加は、硬化プロセスを開始させることができるが、組成物が完全に硬化、又は作業不可能な段階まで硬化しなくともよい。よって、硬化剤又は反応開始剤は、硬化プロセス前又はプロセス中に添加することができ、更なる処理工程により、膜を形成するために硬化を完了させることができる。膜を形成する組成物の硬化は、ポリマーを周囲温度、高温、水分、又は放射線に曝露することを含む様々な方法を含み得る。いくつかの実施形態において、組成物の硬化は、方法の組み合わせを含み得る。

本発明の膜は、任意の好適な厚さを有し得る。いくつかの実施例において、膜は、約１μｍ〜約２０μｍ、約０．１μｍ〜約２００μｍ、又は約０．０１μｍ〜約２０００μｍの厚さを有する。硬化プロセス前、硬化プロセス中、又は硬化プロセス後、硬化プロセス後に生じる膜が所望の厚さ及び形状を有するために、組成物の厚さ又は形状を、任意の好適な手段によって変更することができる、例えば、等しくする、又はそうでなければ調節することができる。一実施例において、ドクターブレード又はドローダウンバーを用いて、塗布された組成物の厚さを調節する。別の実施例において、円錐の金型を使用して、後に取り除かれる繊維上の塗布された組成物の厚さを調節する。

本発明の膜は、他の物質に比べて１つの物質に対して選択的透過性であり得る。いくつかの実施形態において、成分（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｂ）を含むヒドロシリル化硬化性組成物由来の本発明の膜は、少なくとも約５０バーラー、１００バーラー、１０００バーラー、２８００バーラー、又は少なくとも約３５００バーラーのＣＯ_２透過係数を有し得る。膜は、少なくとも約４、６、８、１０、又は少なくとも約１２の、理想的なＣＯ_２／Ｎ_２選択性を有する。いくつかの実施例において、膜は、少なくとも約２、３、４、５、又は少なくとも約７のＣＯ_２／ＣＨ_４選択性を有する。いくつかの実施例において、膜は、２５℃で、少なくとも約２，５００バーラー、５，０００バーラー、少なくとも約１０，０００バーラー、又は少なくとも２０，０００バーラーの水蒸気透過係数を有する。

本発明の膜は、任意の好適な形状を有し得る。いくつかの実施例において、本発明の膜は、プレートアンドフレーム型膜、スパイラル型膜、管状膜、毛細繊維膜、又は中空繊維膜である。膜は、材料の連続層又は不連続層であり得る。

有支持膜
本発明のいくつかの実施形態において、膜は、多孔質又は高透過性の非多孔質基材上で支持される。この基材は、任意の好適な基材であり得る。有支持膜は、膜の２つの主表面のうち少なくとも一方の表面積の大半が、多孔質又は高透過性の非多孔質基材に接触している。多孔質基材上の有支持膜は、複合膜と呼ばれることがあり、膜は、膜と多孔質基材の複合体である。有支持膜が配置されている多孔質基材は、その孔を通して気体を通過させ、膜に到達させることができる。有支持膜は、多孔質基材に付着（例えば接着）され得る。有支持膜は、接着されることなく、基材に接触し得る。多孔質基材は、膜に部分的に一体化されていてよく、完全に一体化されていてよく、又は一体化されていなくともよい。

多孔質基材は、例えば、フィルター、又は線維構造若しくは任意の構造を含む任意の好適な形状の任意の基材であり得る。多孔質基材は、織られていても、織られていなくてもよい。多孔質基材は、ガラス原料であり得る。多孔質基材は、任意の形状の当業者に既知である任意の好適な多孔質材料であり得る。例えば、少なくとも１つの表面は、平面、湾曲、又はそれらのいずれかの組み合わせであり得る。表面は、任意の周囲形状を有し得る。多孔質基材は、あらゆる数の表面を有することができ、任意の３次元形状であり得る。３次元形状の例としては、立方体、球体、錐体、及び様々な厚さを含むあらゆる厚さのその平面断面、並びに多孔性中空ファイバが挙げられる。多孔質基材は任意の数の細孔を有することができ、細孔は任意の大きさ、深さ、形状、及び分布のものであり得る。一実施例において、多孔質基材は、約０．２ｎｍ〜約５００ｍｍの孔径を有する。少なくとも１つの表面は、任意の数の空孔を有し得る。

無支持膜
本発明のいくつかの実施形態において、膜は無支持であり、これは自立とも呼ばれる。自立している膜の２つの主表面の各々において、表面積の大半が基材（基材が多孔質であるか否かを問わない）に接触していない。いくつかの実施形態において、自立膜は１００％無支持であり得る。自立膜は、膜の端部で、あるいは膜の一方又は両方の主表面の表面積の小部分（例えば５０％未満）で、支持され得る。自立膜の支持は、多孔質基材又は非多孔質基材であり得る。自立膜の好適な支持の例としては、上記の「有支持膜」で挙げられている任意の支持の例が挙げられ得る。自立膜は、自立膜の支持されているパーセンテージを問わず、任意の好適な形状を有し得る。自立膜の好適な形状の例としては、例えば、正方形、長方形、円形、管状、立方体、球体、錐体、及び様々な厚さを含む任意の厚さの平面断片が挙げられる。

基材を含む実施例において、基材は多孔質又は非多孔質であり得る。基材は、任意の好適な材料であってもよく、平面、曲面、固体、中空、又はこれらの組み合わせを含む任意の好適な形状又は大きさであってもよい。多孔質又は非多孔質基材の好適な材料には、有支持膜における多孔質基材として使用するのに好適なものとして上述されている任意のポリマーが挙げられる。基材は、水溶性ポリマーであり得、水でパージすることにより溶解する。基材は、米国特許第６，７９７，２１２ Ｂ２号に記載されるような、繊維又は中空繊維であり得る。いくつかの実施例において、基材は、膜の形成前に、一旦形成されると、膜の除去を促進する材料でコーティングされる。基材を形成する材料を選択して、膜と基材との間の粘着を最小限に抑えることができる。いくつかの実施例において、膜は、加熱、冷却、洗浄、エッチング、ないしは他の処理を行って、基材からの除去を促進することができる。他の実施例において、空気圧を使用して、膜の基材からの除去を促進することができる。

気体成分の分離方法
本発明は、また、本明細書に記載する膜を用いることによって供給気体混合物中の気体又は蒸気成分を分離する方法を提供する。この方法には、膜の第１の面に供給気体混合物を接触させて、膜の第２の面側に透過気体混合物を生成し、膜の第１の面側に残余気体混合物を生成する工程が含まれる。この透過気体混合物は、第１の気体成分が富化されている。この残余気体混合物は、第１の気体成分が低減されている。膜には、本明細書に記述される任意の好適な膜が含まれ得る。いくつかの実施例において、透過性気体混合物が二酸化炭素を含み、供給気体混合物が窒素及びメタンのうちの少なくとも１つを含む。いくつかの実施例において、透過性気体混合物が水蒸気を含み、供給気体混合物が窒素及びＣＯ_２のうちの少なくとも１つを含む。

膜は自立であってよく、また多孔質若しくは透過性の基材によって支持されていてもよい。いくつかの実施形態において、膜のいずれかの側にかかる圧力は、ほぼ同じであり得る。他の実施形態において、膜の一方の側と他方の側との間には圧力差があり得る。例えば、膜の残余側の圧力は、膜の透過側の圧力よりも高くてもよい。他の例において、膜の透過側の圧力は、膜の残余側の圧力よりも高くてもよい。

供給気体混合物は、気体又は蒸気の任意の混合物を含み得る。例えば、供給気体混合物には、水素、二酸化炭素、窒素、アンモニア、メタン、水蒸気、硫化水素、又はこれらの任意の混合物が含まれ得る。供給気体は、当業者に公知の任意の気体又は蒸気を含み得る。膜は、供給気体中の任意の１つの気体に対して選択的透過性であり得、あるいは、供給気体中の任意の複数の気体に対して選択的透過性であり得る。膜は、供給気体中の１つの気体以外のすべてに対して選択的透過性であり得る。

分離を達成するために、任意の数の膜を使用することができる。例えば、１枚の膜を使用することができる。膜は、平らなシート又は繊維として製造することができ、中空繊維、シート、又は中空繊維若しくはシートの配列を含む、任意の好適な様々なモジュールにパッケージ化することができる。一般的なモジュール形態には、中空繊維モジュール、スパイラル型モジュール、プレートアンドフレーム型モジュール、管状モジュール、及び毛細繊維モジュールが挙げられる。

本発明は、図示の手段として提示される以下の実施例を参照することにより、より良く理解され得る。本発明は、本明細書に提供される実施例に制限されない。別途記載のない限り、部分は重量部で示される。

参照実施例１：減衰全反射赤外線（ＡＴＲ−ＩＲ）分光法
セレン化亜鉛結晶を有するＳｍａｒｔ Ｍｉｒａｃｌｅ付属器具を装備したＮｉｃｏｌｅｔ ６７００ ＦＴＩＲを用いて、周囲の実験室条件で、試料を試験した。まず、水中に浸した試料を、Ｋｉｍｗｉｐｅで完全に拭き取り乾燥させ、場合によっては、結晶上に面を下向きにして硬化させる間、空気に曝された表面に設置し、締め金具で軽く接触させる前に、圧縮空気又は窒素で送風乾燥させた。溶液を除去してから５分以内にデータ収集を行った。スペクトルの質をプレビューすることによって判断されるように、完全な結晶接触を構築するために、接触圧は必要とされる最小値を維持した。試料の中で、Ｓｉ−Ｈ及びＳｉ−ＯＨのピークの高さの比較（それぞれ、約２１６０ｃｍ^−１及び広域の信号約３３９０ｃｍ^−１）は、同一の基準点で行われ、１４４６ｃｍ^−１の非対称のＣＨ_３変形に対して好適な内部基準ピークによって正規化された。次いで、時間ゼロ（溶液への曝露前）での元のデータ点に対する比率を取ることによって、水への曝露時間にわたる相対的な濃度が報告された。

参照実施例２：平行板レオロジー
未硬化試料を、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ＡＲＥＳ ４４００の歪み制御されたレオメーター中で、密閉された容器から７０℃で予熱された２つの直径８ｍｍの平行板間の隙間に移動させ、室温で１．５ｍｍの最終の隙間まで圧縮した。過剰な試料を、かみそり刀で削り、次いで、加熱中、一定の垂直力を維持するように作動される自動張力機能を用いて、１２０℃の温度まで環境試験室中で直ちに加熱した。この試料を１２０℃で１時間完全にその場で硬化させ、次いで、自動張力下で、２５℃に冷却させた。次いで、５％の歪みで硬化させた試料上で周波数掃引を２５℃で行い、その平坦な動的貯蔵弾性率を決定した。

（実施例１）
ポリプロピレン混合カップ内で、１０．６０ｇの部分Ａ（約６７．９部のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン（２５℃で約２Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、約３２部のオルガノポリシロキサン樹脂（実質的にＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２単位、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２単位、及びＳｉＯ_４／２単位からなる）と、を混合することによって調製され、ＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２単位と（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２単位を合わせたもののＳｉＯ_４／２単位に対するモル比は約０．７であり、樹脂は約２２，０００の重量平均分子量及び約５の多分散性を有し、約１．８重量％（約５．５モル％）のビニル基、及び約０．１部のカールシュテット触媒を含有する）と、１．０６ｇの部分Ｂ（２６部のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン（２５℃で約２Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、１２部のオルガノポリシロキサン樹脂（実質的にＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２単位、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２単位、及びＳｉＯ_４／２単位からなる）と、を混合することによって調製され、ＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２単位と（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２単位を合わせたもののＳｉＯ_４／２単位に対するモル比は約０．７であり、樹脂は約２２，０００の重量平均分子量、約５の多分散性を有し、約１．８重量％（約５．５モル％）のビニル基、６０部のポリジメチルシロキサン−ポリヒドリドメチルシロキサンコポリマー（２５℃で約０．００５Ｐａ・ｓの平均粘度を有する）を含有し、ＳｉＨ形態で０．８重量％のＨ、及び２部のテトラメチルテトラビニルテトラシクロシロキサンを含む）と、を混ぜ合わせた。この含有物は、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで３０秒サイクルを２回行い、サイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。この試料を、フルオロシリコーンでコーティングされたマイラー剥離ライナーの上に１５２．４ミクロン（６ミル）のドクターブレードで引き落とすことによって、フィルムに流し込み、強制空気熱対流炉内で１００℃で１時間硬化した。

（実施例２）
９９．６部のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ１）（２５℃で約５５Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、０．４部の触媒（触媒１）（１％の１，１−ジエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの白金（ＩＶ）錯体、９２％のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン（２５℃で約０．４５Ｐａ・ｓの粘度を有する）、及び７％のテトラメチルジビニルジシロキサンの混合物を含む）と、を含む混合物を混ぜ合わせることによって、２部のシロキサン組成物の部分Ａを調製した。部分Ａは、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで４０秒混合サイクルを２回行い、最初の２回のサイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。４４．５部のＰＤＭＳ１と、５５．１部のトリメチルシロキシ末端ポリヒドリドメチルシロキサンポリマー（ＰＨＭＳ１）（２５℃で約０．３０Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、０．４部の２−メチル−３−ブチン−２−オールと、を混合することによって、同様の様式で２部のシロキサン組成物の部分Ｂを調製した。実施例１に記載される部分Ａと部分Ｂの各々５部を、ポリプロピレンカップ内で混ぜ合わせ、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで４０秒サイクルを２回行い、サイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。組成物を、フルオロシリコーンでコーティングされたマイラーの上に４、６、及び２５４ミクロン（１０ミル）のドクターブレードでフィルムが引き込まれ、１５０℃で３０分間硬化した。

（実施例３）
実施例１で調製されたフィルムの一片を、１００％脱イオン水を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

（実施例４）
実施例１で調製されたフィルムの一片を、脱イオン水中の塩化白金酸触媒溶液の希釈溶液を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。塩化白金酸触媒溶液は、１．０重量％Ｐｔの濃度になるまでイソプロパノール中に塩化白金酸を溶解することによって、予め調製された。Ｐｔの最終濃度は、水に対して重量で７５ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

（実施例５）
実施例１で調製されたフィルムの一片を、脱イオン水中の実施例４の塩化白金酸触媒溶液の希釈溶液を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。Ｐｔの最終濃度は、水に対して重量で１５０ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

（実施例６）
実施例１で調製されたフィルムの一片を、脱イオン水中の実施例４の塩化白金酸触媒溶液の希釈溶液を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。Ｐｔの最終濃度は、水に対して重量で３００ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

（実施例７）
実施例２で調製されたフィルムの一片を、１００％脱イオン水を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

（実施例８）
実施例２で調製されたフィルムの一片を、脱イオン水中の実施例４の塩化白金酸触媒溶液の希釈溶液を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。Ｐｔの最終濃度は、水に対して重量で１０ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

（実施例９）
実施例２で調製されたフィルムの一片を、脱イオン水中の実施例４の塩化白金酸触媒溶液の希釈溶液を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。Ｐｔの最終濃度は、水に対して重量で１００ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

（実施例１０）
実施例２で調製されたフィルムの一片を、脱イオン水中の実施例４の塩化白金酸触媒溶液の希釈溶液を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、表１中に規定された持続時間浸漬した。Ｐｔの最終濃度は、水に対して重量で３００ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析し、更なる処理のために溶液に戻した。

表１及び図１及び２の結果に要約されるように、実施例３〜１０の実施形態は、Ｓｉ−Ｈ基を同時に還元しながら、実施例１及び２において生じたエラストマーの表面上でＳｉ−ＯＨ基が著しく発生した。図１ａは、様々なレベルのＰｔ触媒を含有する水溶液中の曝露時間を伴う、実施例１のシロキサンエラストマーの表面上にＳｉ−ＯＨ基の発生及びＳｉＨ基の消失を示す表１からのデータのプロットを示す。図１ｂは、様々なレベルのＰｔ触媒を含有する水溶液中の曝露時間を伴う、実施例１のシロキサンエラストマーの表面上にＳｉ−ＯＨ基の発生及びＳｉ−Ｈ基の消失を示す表１からのデータのプロットを示す。図２ａは、様々なレベルのＰｔ触媒を含有する水溶液中の曝露時間を伴う、実施例２のシロキサンエラストマーの表面上にＳｉ−ＯＨ基の発生及びＳｉ−Ｈ基の消失を示す表１からのデータのプロットを示す。図２ｂは、様々なレベルのＰｔ触媒を含有する水溶液中の曝露時間を伴う、実施例２のシロキサンエラストマーの表面上にＳｉ−ＯＨ基の発生及びＳｉ−Ｈ基の消失を示す表１からのデータのプロットを示す。

（実施例１１）
９７．４８部のシロキサン−シルセスキオキサン配合（配合１）（実質的に７３部のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン（２５℃で約５５Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、２７部のオルガノポリシロキサン樹脂（実質的にＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２単位、（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２単位、及びＳｉＯ_４／２単位からなり、ＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２単位と（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２単位を合わせたもののＳｉＯ_４／２単位に対するモル比は約０．７であり、樹脂は約２２，０００の重量平均分子量、約５の多分散性を有し、約１．８重量％（約５．５モル％）のビニル基を含有する）とからなる）と、２．０５部のオリゴマーのジメチルシロキサン（Ｄ）−メチルビニルシロキサン（Ｄ^Ｖｉ）ジオール（ＭＶジオール）（約１のＤ：Ｄ^Ｖｉ比及び２５℃で約０．０２Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、０．４７部の触媒（触媒１）（１％の１，１−ジエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの白金（ＩＶ）錯体、９２％のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン（２５℃で約０．４５Ｐａ・ｓの粘度を有する）、及び７％のテトラメチルジビニルジシロキサンの混合物を含む）と、を含む混合物を混ぜ合わせることによって、２部のシロキサン組成物の部分Ａを調製した。

部分Ａは、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで３０秒混合サイクルを２回行い、最初の２回のサイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。５１．７７部の配合１と、４５．３６部のトリメチルシロキシ末端ポリヒドリドメチルシロキサンポリマー（ＰＨＭＳ１）（２５℃で約０．２４Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、２．５６部のポリジメチルシロキサン−ポリヒドリドメチルシロキサンコポリマー（２５℃で約０．０３Ｐａ・ｓの平均粘度を有し、ＳｉＨ（ＰＤＭＳ−ＰＨＭＳ）の形態で１重量％のＨを含む）と、０．３１部の２−メチル−３−ブタン−２−オールと、を混ぜ合わせることによって、同様の様式で２部のシロキサン組成物の部分Ｂを調製した。次いで、３．５部の部分Ａと６．４部の部分Ｂをポリプロピレンカップ内で混ぜ合わせ、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで４０秒サイクルを２回行い、サイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。この組成物を、＜６．７ｋＰａ（５０ｍｍ Ｈｇ）の圧力で真空槽内で約５分間脱気し、次いで、無菌のスライドガラス上に５０８ミクロン（２０ミル）のドクターブレードでフィルムが引き込まれ、１５０℃で４５〜６０分間硬化した。

（実施例１１ｂ）
Ｐｔの濃度が水に対して重量で１５０ｐｐｍである、脱イオン水中の塩化白金酸の希釈溶液を含む表面を処理する溶液を調製した（溶液Ａ）。「Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｐｒｏｐｒｉｅｔａｒｙ」という文字付きゴム製スタンプは、底が溶液Ａのフィルムで覆われたポリスチレンペトリ皿に優しくスタンプを押圧することによって湿らせた。次いで、湿らせたスタンプを、実施例１１で調製されたフィルムの表面と接触させて迅速に押圧し、室温で平面上に静置し、約４．５時間接触したままにした。スタンプを取り外し、フィルムの全表面を脱イオン水ですすいだ後、青色の水溶性フェルト先端マーカー（Ｓａｎｆｏｒｄ Ｖｉｓ−ａ−ｖｉｓ湿式消去）で描かれた横線を用いて表面に印を付けた。青色インクは、エラストマーの周囲領域から脱湿潤したが、青色インクでスタンプされた文字を示すために、パターン化した文字をはっきりと湿潤した。このインクは、水で洗い落とすことができ、再度線引きした際に、青色の文字の解像度を失うことなく、プロセスを数回繰り返した。

（実施例１１ｃ）
実施例１１ｂで使用された基材の表面を水で洗浄し、水溶性の青色インクを除去し、次いで、油性（非水溶性）黒色マーカー（Ｓａｎｆｏｒｄ Ｓｈａｒｐｉｅ）で表面上に描かれた一連の横線で印を付けた。黒色インクは、エラストマーの周囲領域から脱湿潤したが、黒色でパターンの輪郭を示すために、スタンプによって文字が画定された領域内では湿潤したままにした。このインクパターンは、水によって洗浄しにくい。

（実施例１２）
９４．９８部の配合１と、４．４７部のＭＶジオールと、０．５６部の触媒１と、を含む混合物を混ぜ合わせることによって、２部のシロキサン組成物の部分Ａを調製した。部分Ａは、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで３０秒サイクルで２回行い、最初の２回のサイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。３２．１６部の配合１と、６５．９８部のＰＨＭＳ１と、１．５９部のＰＤＭＳ−ＰＨＭＳと、０．２８部の２−メチル−３−ブタン−２−オールと、を混ぜ合わせることによって、同様の様式で２部のシロキサン組成物の部分Ｂを調製した。次いで、５．２４部の部分Ａと１４．７６部の部分Ｂをポリプロピレンカップ内で混ぜ合わせ、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで４０秒サイクルを２回行い、サイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。この組成物を、＜６．７ｋＰａ（５０ｍｍ Ｈｇ）の圧力で真空槽内で約５分間脱気し、次いで、無菌のスライドガラス上に５０８ミクロン（２０ミル）のドクターブレードでフィルムが引き込まれ、１５０℃で４５〜６０分間硬化した。

（実施例１３）
０．０７４ｄＬ（１／４オンス）のポリプロピレン混合カップ内で、１．００部のウンデシレン酸（Ａｌｄｒｉｃｈ）と、０．０１４部の触媒１と、を混ぜ合わせることによって表面を処理する溶液（溶液１）を調製し、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで３０秒混合サイクルを２回行い、混合した。

（実施例１４）
「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＰＲＯＰＲＩＥＴＡＲＹ」という文字付きゴム製スタンプは、底が溶液１のフィルムで覆われたポリスチレンペトリ皿にそっとスタンプを押圧することによって湿らせた。次いで、湿らせたスタンプを、実施例１２で調製されたフィルムの表面と接触させて迅速に押圧し、１００℃に設定されたホットプレート上に静置した。このスタンプを１時間の加熱時間を通して接触させたままにした。約１時間後、スライドガラスで支持されたフィルムをホットプレートから取り外し、スタンプをそっと離した。文字の半透明の圧痕は、スタンプを接触させた領域内のエラストマーの表面上に見られ得た。

次いで、青色の水溶性フェルト先端マーカー（Ｓａｎｆｏｒｄ Ｖｉｓ−ａ−ｖｉｓ湿式消去）で描かれた横線を用いて「ＰＲＯＰＲＩＥＴＡＲＹ」という文字周辺の基材の下半分に軽く印を付けた。青色インクは、エラストマーの周囲領域から脱湿潤したが、青色インクでスタンプされた文字を示すために、パターン化した文字を明らかに湿潤させた。このインクは水で洗い落とすことができ、本発明の実施形態において、水系マーカーによって露出されるエラストマー上にホットスタンプされたパターンを説明する実施例１１ｂに記載される実施形態と同様に、再度線引きした際に、青色の文字の解像度を失うことなく、プロセスを数回繰り返した。

（実施例１５）
「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ」という連結されていない文字付きのパターンの上半分周辺の実施例１４からのフィルムの表面を、数回水ですすぎ、拭き取り、空気送風乾燥させて、参照実施例１のＡＴＲ−ＩＲ方法によって検査した。文字から離れたスタンプされていない領域は、約２１６０ｃｍ^−１の強いＳｉ−Ｈ信号を示した。また、スタンプした文字「Ｎ」も調べられ、図３に示されるように、このＳｉ−Ｈピーク強度の著しい低下及び移植されたウンデシレン酸からの信号の強い寄与（Ｃ−Ｈほぼ２９２５ｃｍ^−１及び２８５４ｃｍ^−１、Ｃ＝Ｏ １７２０ｃｍ^−１）を示した。この分析後、基材の上半分にある文字は、実施例１４などの場合、青色の水溶性マーカーで露出され、「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ」という文字を示すためにパターン化された領域内のインクの選択吸着を同様に示した。図３は、溶液１でパターン化されていない領域（紫色）及びパターン化されている領域（赤色）内で実施例１２からのエラストマー表面のＡＴＲ−ＩＲ分光オーバーレイを示し、このパターンがより親水性になり、青色インクで可溶性になる表面変換の異なる特徴を示す。

（実施例１６）
同様の様式であるが、鋳造し、１５０℃の代わりに１００℃で３０分間のみスライドガラス上で硬化して、実施例１２のエラストマー製剤を調製した。

（実施例１７）
実施例１４に記載されるものと同様の様式であるが、室温まで冷却させる前に、ホットプレートを１時間１５０℃に設定して、実施例１６からのスライドガラスを支持した硬化されたエラストマー試料を、ホットプレート上に置き、溶液１でスタンプした。

（実施例１８）
実施例１７の冷却した基材を、ポリスチレン（ＰＳ）ペトリ皿中に入れ、次いで、エチレングリコール中の２０ｍｍｏｌのピラジンを混ぜ合わせることによって調製された１２．５５ｇのピラジン溶液を含む溶液で覆った）。この溶液に、３０ｍＬの脱イオン水中の１０ｍｍｏｌのＣｕ（ＮＯ_３）_２・３Ｈ_２Ｏ（９８％、Ａｌｄｒｉｃｈ）及び１０ｍｍｏｌの（ＮＨ_４）_２ＳｉＦ_６を混ぜ合わせることによって調製された１２．３９ｇの青色Ｃｕ−ＳｉＦ_６溶液を添加した。この溶液を覆い、室温で２４時間反応させた。青色金属−Ｓｉ−フレームワーク（ＭＳｉＦ）結晶が、ペトリ皿中で観察された。スライドガラスを溶液から慎重に取り外し、表面を脱イオン水で数回すすぎ、薄青色のパターン化した文字を示した。次いで、このパターンを、光学顕微鏡によって調べた。結晶の濃密配列が、実施例１７において溶液１をスタンプすることによって処理された文字が付けられた領域内で選択的に見られ得た。これらの結晶は、遊離溶液中に置き去りにされたものよりも微粒の大きさで出現し、表面処理された領域内で結晶が有核であり、より濃密に成長し、処理されていないエラストマーの残りでは成長できないことが示唆されている。２４時間成長させ、水ですすいだ後、カルボン酸で処理されたシロキサン表面上に播種されたものよりもかなり大きい遊離な結晶が、見出され得た。

（実施例１９）
４８．７８部の配合１と、４８．７８部のジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン（約０．２５Ｐａ・ｓの粘度を有する）と、２．４４部の触媒１と、を含む混合物を混ぜ合わせることによって、２部のシロキサン組成物の部分Ａを調製した。部分Ａは、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで３０秒混合サイクルを２回行い、最初の２回のサイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。９９．７９部のＰＨＭＳ１を有するものと、０．２１部の２−メチル−３−ブタン−２−オールとを混ぜ合わせることによって、同様の様式で２部のシロキサン組成物の部分Ｂを調製した。次いで、１部の部分Ａと約１０部の部分Ｂをポリプロピレンカップ内で混ぜ合わせ、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで４０秒サイクルを２回行い、サイクル間に手作業でスパチュラによる混合工程を行い、混合した。この組成物を、＜６．７ｋＰａ（５０ｍｍ Ｈｇ）の圧力で真空槽内で約５分間脱気し、次いで、無菌のスライドガラス上に５０８ミクロン（２０ミル）のドクターブレードでフィルムが引き込まれ、１５０℃で４５〜６０分間硬化した。

（実施例２０）
０．０７４ｄＬ（１／４オンス）のポリプロピレン混合カップ内で０．７４部の溶液１と、０．７６部のエチレングリコールジアセテート（ＥＧＤＡ）（Ａｌｄｒｉｃｈ）と、０．００６部の更なる触媒１と、を混ぜ合わせることによって、第２の表面を処理する溶液（溶液２）を調製し、Ｈａｕｓｃｈｉｌｄ回転ミキサーで３０秒混合サイクルを２回行い、混合した。

（実施例２１）
実施例１９のエラストマーのスライドガラスで支持した試料を９０℃のホットプレート上に置き、溶液１で浸漬した無菌のＭｉｌｌｉｐｏｒｅ ＰＳペトリスライド（ＰＤＭＡ０４７００，Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）のセルロースパッドと接触させることによって湿らせたゴムスタンプを用いて、実施例１４及び１７に記載されるものと同様の方法でパターン化された。このスタンプを、ホットプレート上に１４分間曝露させた後、取り外し、このパターンをＥＧＤＡ及び水ですすぎ、乾燥させた。参照実施例１のＡＴＲ−ＩＲ方法は、パターン化された領域内で、図３よりもいくぶん明確ではないが、溶液１の移植の証拠を示した。この証拠には、パターン化された領域内で、Ｓｉ−Ｈピーク強度の著しい低下及び移植されたウンデシレン酸からの信号の寄与の強力な増加（Ｃ−Ｈほぼ２９２５ｃｍ^−１及び２８５４ｃｍ^−１、Ｃ＝Ｏ １７２０ｃｍ^−１）が含まれた。このパターンは、いくぶん明確ではないが、「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ」という文字を示すために、パターン化された領域内でインクの選択吸着を示した。

（実施例２２）
実施例１９のエラストマーのスライドガラスで支持した試料を９０℃のホットプレート上に置き、溶液２で浸漬した無菌のＭｉｌｌｉｐｏｒｅ ＰＳペトリスライド（ＰＤＭＡ０４７００，Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）のセルロースパッドと接触させることによって湿らせたゴムスタンプを用いて、実施例１４及び１７に記載されるものと同様の方法でパターン化された。このスタンプをホットプレート上に３０分間曝露させた後、取り外し、このパターンをＥＧＤＡ及び水ですすぎ、乾燥させた。ホットスタンプしたパターンを、スタンプしていない周囲領域から脱湿潤した同じ水溶性の青色マーカーによって選択的に容易に露出した。

（実施例２３）
実施例２１の試料のパターン化された表面を、大粒の水中の２５重量％のポリエチレンイミン溶液（ＰＥＩ）（Ｌｕｐａｓｏｌ ＰＬ）で上塗りした。ＰＥＩを一晩表面に接触させてなじませた後、過剰なＰＥＩをすすぎ、未使用の脱イオン水及び脱イオン水を湿漬したペーパータオルを用い、繰り返し拭くことによって取り除いた。この手順により、元の表面パターンが著しく広くなり、水溶性マーカーで印を付けた場合、より濃い色素沈着を示し、これは、カルボン酸の反応性化合物の連続的な添加によって、多層を形成することが可能であることを示した。

（実施例２４）
実施例２の組成物に従って調製されるが、（１５０℃で３０分間よりも）１５０℃で１時間硬化されたフィルムの一片を、メタノール中の実施例４の塩化白金酸触媒溶液の希釈溶液を含む無菌のポリスチレンペトリ皿中に室温（２１℃）で入れ、１時間湿浸した。Ｐｔの最終濃度は、メタノールに対して重量で３００ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、拭き取り乾燥させて、室温で静置して、遊離メタノールを蒸発させ、次いで、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析した。

（実施例２５）
実施例２４に記載される手順に従って、実施例２４で調製された同じフィルムの一片を処理したが、３．５時間浸漬した。Ｐｔの最終濃度は、メタノールに対して重量で３００ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、拭き取り乾燥させて、１５分間室温で乾燥させて、遊離メタノールを蒸発させ、次いで、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析した。この試料を更に１５分間乾燥させ、ＡＴＲ−ＩＲによって再試験を行い、有意なスペクトル変化を示さず、表面安定性の機能化を確認し、この信号が残留するメタノールによって影響を受けないことを確認した。

（実施例２６）
実施例２４に記載される手順に従って、実施例２４で調製された同じフィルムの一片を処理したが、２０時間浸漬した。Ｐｔの最終濃度は、メタノールに対して重量で３００ｐｐｍであった。次いで、フィルムを取り出し、拭き取り乾燥させて、１５分間室温で乾燥させて、遊離メタノールを蒸発させ、次いで、参照実施例１の方法によるＡＴＲ−ＩＲによって分析した。次いで、この試料を更に１５分間乾燥させ、ＡＴＲ−ＩＲによって再試験を行い、有意なスペクトル変化を示さず、表面安定性の機能化を確認し、この信号が残留するメタノールによって影響を受けないことを確認した。

実施例２４〜２６の実施形態は、Ｐｔ触媒されたメタノール溶液による処理時間の関数として、Ｓｉ−Ｈ基の同時還元を伴い、実施例２中で生成されたエラストマー表面上にＳｉ−ＯＣＨ_３基の有意な発生を示した。図４は、処理前、Ｐｔ触媒されたメタノール溶液への１時間の曝露後、３．５時間の曝露後（周囲空気内で＋１５分間乾燥）、及び２０時間の曝露後（周囲空気内で＋１５分間乾燥）の、エラストマー表面のＡＴＲ−ＩＲスペクトルのＳｉＯＣＨ_３ピーク（２８３９ｃｍ^−１）の発生、及びＳｉＨピーク（２１６４ｃｍ^−１）の同時低下を示す。

使用された用語及び表現は、説明の用語として使用され、限定するものではない。また、図示及び記載された機構の任意の等価物又はその一部を除くこのような用語及び表現の使用において、意図は存在しないが、請求される本発明の範囲内で様々な改変が可能であることが認識される。よって、本発明は好ましい実施形態及び任意の特性によって具体的に開示されてきたが、本明細書に開示される内容の修正及び変形は当業者によって用いられ、そのような修正及び変形は付属の特許請求の範囲によって定義される本発明の範囲内であると考えられることを理解するべきである。

Claims (17)

1. ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物であって、
   （Ａ）１分子当たり平均で少なくとも２つのケイ素結合水素原子を有するオルガノ水素ポリシロキサンと、
   （Ｂ）（ｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機ケイ素化合物、（ｉｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機化合物、並びに（ｉｉｉ）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む混合物から選択される架橋剤と、
   （Ｃ）ヒドロシリル化触媒と、を含み、前記組成物中のケイ素結合水素原子と前記組成物中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合とのモル比が少なくとも２０：１である、ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物。
2. 複数のケイ素結合水素原子を有するシリコーンエラストマーを含む表面を処理する方法であって、
   複数のケイ素結合水素原子を有するシリコーンエラストマーを含む表面の少なくとも１つの領域を、表面処理化合物を含む溶液と接触させて、処理された表面を得ることを含み、（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）：
   （ａ）前記接触が、前記ケイ素結合水素原子の少なくとも一部分をケイ素結合ヒドロキシル基に変換するのに十分な時間行われる、
   （ｂ）前記接触が、前記ケイ素結合水素原子の少なくとも一部分をケイ素結合−Ｏ−Ｒ基に変換するのに十分な時間行われ、前記溶液が、式Ｈ−Ｏ−Ｒを有する化合物を更に含み、式中、ＲがＣ_１〜１５一価脂肪族炭化水素基、Ｃ_６〜１５一価芳香族炭化水素基、Ｃ_１〜１５一価ヘテロアルキル基、又はＣ_１〜１５一価ヘテロアリール基から選択され、Ｒが１個以上のハロゲン原子で任意に置換される、
   （ｃ）前記接触が、前記ケイ素結合水素原子の少なくとも一部分をケイ素結合炭素基に変換するのに十分な時間行われ、前記溶液が不飽和のカルボン酸又は不飽和の保護されたカルボン酸を更に含む、から選択される少なくとも１つが行われ、
   前記表面処理化合物が、白金族金属、白金族金属を含有する化合物、塩基、又はＳｎ、Ｔｉ、若しくはＰｄを含む化合物から選択され、
   前記シリコーンエラストマーがヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物の硬化生成物を含む、方法。
3. 前記ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物が、
   （Ａ）１分子当たり平均で少なくとも２つのケイ素結合水素原子を有するオルガノ水素ポリシロキサンと、
   （Ｂ）（ｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機ケイ素化合物、（ｉｉ）１分子当たり平均で少なくとも２つの脂肪族不飽和炭素−炭素結合を有する少なくとも１つの有機化合物、並びに（ｉｉｉ）（ｉ）及び（ｉｉ）を含む混合物から選択される架橋剤と、
   （Ｃ）ヒドロシリル化触媒と、を含み、成分（Ａ）中のケイ素結合水素原子と成分（Ｂ）中の脂肪族不飽和炭素−炭素結合とのモル比が約１：１超である、請求項２に記載の方法。
4. 請求項２〜３のいずれか一項に記載の方法を含む、多孔性又は高度に透過性の基材の作製方法であって、
   前記ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物を含む未硬化基材を形成することと、
   前記未硬化基材を硬化して、前記ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物の前記硬化生成物を含む基材を得ることと、を更に含み、
   前記処理された表面が処理された基材を含む、方法。
5. 膜の作製方法であって、
   請求項４に記載の前記多孔性又は高度に透過性の基材の前記基材上のコーティングであって、硬化性組成物を含む、コーティングを形成することと、
   前記コーティングを硬化して、膜を得ることと、を含む、方法。
6. 請求項２〜５のいずれか一項に記載の方法を含む、種晶方法であって、
   前記ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物を含む未硬化基材を形成することと、
   前記未硬化基材を硬化して、前記シリコーンエラストマーを含む基材を得ることと、
   前記処理された表面上に種晶することと、を更に含む、方法。
7. 請求項２〜６のいずれか一項に記載の方法に従って調製された、処理されたシリコーンエラストマー。
8. 膜の作製方法であって、
   請求項１に記載の組成物を含むコーティングを形成することと、
   前記コーティングを硬化して、膜を得ることと、を含む、方法。
9. 請求項２〜６のいずれか一項に記載の方法を含む、処理された膜の作製方法であって、
   前記ヒドロシリル化硬化性シリコーン組成物を含むコーティングを形成することと、
   前記コーティングを硬化して、前記シリコーンエラストマーを含む膜を得ることと、を更に含み、
   前記処理された表面が処理された膜を含む、方法。
10. 前記膜が独立している、請求項７に記載の前記処理されたシリコーンエラストマーを含む無支持膜。
11. 前記膜が、プレート型膜、スパイラル型膜、管状膜、及び中空繊維膜から選択される、請求項１０に記載の無支持膜。
12. コーティングされた基材であって、
    基材と、
    前記基材上のコーティングと、を含み、前記コーティングが請求項７に記載の処理されたシリコーンエラストマーを含む、コーティングされた基材。
13. 前記基材が多孔性であり、前記コーティングが膜である、請求項１２に記載のコーティングされた基材。
14. 前記多孔性基材がガラス、セラミック、アルミナ、及び多孔性ポリマーから選択される材料を含むガラス原料である、請求項１２又は１３のいずれか一項に記載のコーティングされた基材。
15. 供給気体又は蒸気混合物中の気体成分の分離方法であって、
    膜の第１の側面を少なくとも第１の気体成分と第２の気体成分とを含む供給気体混合物と接触させて、前記膜の第２の側面上に透過気体混合物及び前記膜の第１の側面上に未透過気体混合物を生じさせることを含み、
    前記透過気体混合物は、前記第１の気体成分が富化されており、
    前記未透過気体混合物は、前記第１の気体成分が低減されており、
    前記膜が、請求項１に記載のヒドロシリル化硬化性組成物の硬化された生成物、請求項２に記載の処理された表面、請求項５及び８のいずれか一項に記載の膜、又は請求項９に記載の処理された膜を含む、方法。
16. 前記透過気体混合物が二酸化炭素を含み、前記供給気体混合物が窒素及びメタンのうちの少なくとも１つを含む、請求項１５に記載の方法。
17. 前記透過気体混合物が水蒸気を含み、前記供給気体混合物が窒素及びＣＯ_２のうちの少なくとも１つを含む、請求項１５に記載の方法。

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