RU2009136708A - Способ изготовления объемных металлических структур с субмикронными размерами зерен и структуры, полученные этим способом - Google Patents

Способ изготовления объемных металлических структур с субмикронными размерами зерен и структуры, полученные этим способом Download PDF

Info

Publication number
RU2009136708A
RU2009136708A RU2009136708/02A RU2009136708A RU2009136708A RU 2009136708 A RU2009136708 A RU 2009136708A RU 2009136708/02 A RU2009136708/02 A RU 2009136708/02A RU 2009136708 A RU2009136708 A RU 2009136708A RU 2009136708 A RU2009136708 A RU 2009136708A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
powder
metal structure
substrate
deposited layer
large metal
Prior art date
Application number
RU2009136708/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Стивен А. МИЛЛЕР (US)
Стивен А. МИЛЛЕР
Прабхат КУМАР (US)
Прабхат Кумар
Original Assignee
Эйч. Си. СТАРК ИНК. (US)
Эйч. Си. Старк Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=41416078&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=RU2009136708(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Эйч. Си. СТАРК ИНК. (US), Эйч. Си. Старк Инк. filed Critical Эйч. Си. СТАРК ИНК. (US)
Publication of RU2009136708A publication Critical patent/RU2009136708A/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
    • C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
    • C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/07—Metallic powder characterised by particles having a nanoscale microstructure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/14—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas designed for spraying particulate materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/20—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces by extruding
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C2200/00—Crystalline structure
    • C22C2200/04—Nanocrystalline
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
    • Y10T428/12028—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, etc.]

Abstract

1. Способ получения трехмерно больших металлических структур, состоящих из зерен субмикронных размеров, включающий в себя направление сверхзвуковой струи порошка металла на подложку и прилипание порошка к подложке и к самому себе с образованием плотного связного осажденного слоя, имеющего субмикронную зеренную структуру и обладающего большим размером во всех трех измерениях. ! 2. Способ по п.1, в котором струя порошка содержит порошки тугоплавких металлов. ! 3. Способ по п.2, в котором получаемая трехмерно большая металлическая структура является тугоплавкой металлической структурой. ! 4. Способ по п.1, в котором порошок осаждают сверхзвуковой струей и прессуют путем равноканального углового прессования. ! 5. Способ по п.1, в котором осажденный слой оставляют присоединенным к подложке, когда получена трехмерно большая металлическая структура. ! 6. Способ по п.1, включающий в себя отделение подложки и осажденного слоя друг от друга. ! 7. Способ по п.1, в котором получаемая трехмерно большая металлическая структура является продуктом, выбранным из группы, состоящей из снарядоформирующих зарядов и снарядов ударного действия и водородных мембран. ! 8. Способ по п.1, причем в этом способе используется установка холодного напыления, и при этом используется нагретый газ для ускорения порошка и образования сверхзвуковой струи порошка. ! 9. Способ по п.1, в который введен этап отжига для увеличения сцепления между частицами и/или пластичности или для уменьшения деформационного упрочнения. ! 10. Способ по п.1, в который введен этап термообработки для увеличения сцепления между частицами и/или пластичности или для уменьшения дефо

Claims (15)

1. Способ получения трехмерно больших металлических структур, состоящих из зерен субмикронных размеров, включающий в себя направление сверхзвуковой струи порошка металла на подложку и прилипание порошка к подложке и к самому себе с образованием плотного связного осажденного слоя, имеющего субмикронную зеренную структуру и обладающего большим размером во всех трех измерениях.
2. Способ по п.1, в котором струя порошка содержит порошки тугоплавких металлов.
3. Способ по п.2, в котором получаемая трехмерно большая металлическая структура является тугоплавкой металлической структурой.
4. Способ по п.1, в котором порошок осаждают сверхзвуковой струей и прессуют путем равноканального углового прессования.
5. Способ по п.1, в котором осажденный слой оставляют присоединенным к подложке, когда получена трехмерно большая металлическая структура.
6. Способ по п.1, включающий в себя отделение подложки и осажденного слоя друг от друга.
7. Способ по п.1, в котором получаемая трехмерно большая металлическая структура является продуктом, выбранным из группы, состоящей из снарядоформирующих зарядов и снарядов ударного действия и водородных мембран.
8. Способ по п.1, причем в этом способе используется установка холодного напыления, и при этом используется нагретый газ для ускорения порошка и образования сверхзвуковой струи порошка.
9. Способ по п.1, в который введен этап отжига для увеличения сцепления между частицами и/или пластичности или для уменьшения деформационного упрочнения.
10. Способ по п.1, в который введен этап термообработки для увеличения сцепления между частицами и/или пластичности или для уменьшения деформационного упрочнения.
11. Способ по п.1, в который порошок выбран из группы, состоящей из тантала, ниобия и молибдена.
12. Трехмерно большая металлическая структура, состоящая из зерен субмикронного размера, полученная способом по п.1.
13. Тугоплавкая металлическая структура, полученная способом по п.1.
14. Тугоплавкая металлическая структура, полученная способом по п.1, которая после напыления была подвергнута отжигу или термообработке.
15. Продукт, выбранный из группы, состоящей из снарядоформирующих зарядов и снарядов ударного действия и водородных мембран, полученный способом по п.1.
RU2009136708/02A 2008-10-06 2009-10-05 Способ изготовления объемных металлических структур с субмикронными размерами зерен и структуры, полученные этим способом RU2009136708A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/245,840 2008-10-06
US12/245,840 US8043655B2 (en) 2008-10-06 2008-10-06 Low-energy method of manufacturing bulk metallic structures with submicron grain sizes

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2009136708A true RU2009136708A (ru) 2011-04-10

Family

ID=41416078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009136708/02A RU2009136708A (ru) 2008-10-06 2009-10-05 Способ изготовления объемных металлических структур с субмикронными размерами зерен и структуры, полученные этим способом

Country Status (10)

Country Link
US (1) US8043655B2 (ru)
EP (1) EP2172292B1 (ru)
JP (1) JP5725700B2 (ru)
KR (1) KR101456725B1 (ru)
CN (1) CN101713071B (ru)
BR (1) BRPI0904976A2 (ru)
CA (1) CA2681424A1 (ru)
MX (1) MX2009010724A (ru)
RU (1) RU2009136708A (ru)
ZA (1) ZA200906940B (ru)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4904341B2 (ja) * 2005-05-05 2012-03-28 ハー．ツェー．スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング スパッタターゲット及びｘ線アノードを製造又は再処理するための被覆方法
RU2434073C9 (ru) * 2005-05-05 2012-12-27 Х.К. Штарк Гмбх Способ покрытия поверхности субстрата и продукт с нанесенным покрытием
US7837929B2 (en) * 2005-10-20 2010-11-23 H.C. Starck Inc. Methods of making molybdenum titanium sputtering plates and targets
US20080078268A1 (en) * 2006-10-03 2008-04-03 H.C. Starck Inc. Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof
AU2007317650B2 (en) * 2006-11-07 2012-06-14 H.C. Starck Surface Technology and Ceramic Powders GmbH Method for coating a substrate and coated product
US20080145688A1 (en) 2006-12-13 2008-06-19 H.C. Starck Inc. Method of joining tantalum clade steel structures
US8197894B2 (en) 2007-05-04 2012-06-12 H.C. Starck Gmbh Methods of forming sputtering targets
US8246903B2 (en) 2008-09-09 2012-08-21 H.C. Starck Inc. Dynamic dehydriding of refractory metal powders
US8709335B1 (en) 2009-10-20 2014-04-29 Hanergy Holding Group Ltd. Method of making a CIG target by cold spraying
US8449818B2 (en) 2010-06-30 2013-05-28 H. C. Starck, Inc. Molybdenum containing targets
US8449817B2 (en) 2010-06-30 2013-05-28 H.C. Stark, Inc. Molybdenum-containing targets comprising three metal elements
KR20160021299A (ko) 2011-05-10 2016-02-24 에이치. 씨. 스타아크 아이앤씨 멀티-블록 스퍼터링 타겟 및 이에 관한 제조방법 및 물품
US9412568B2 (en) 2011-09-29 2016-08-09 H.C. Starck, Inc. Large-area sputtering targets
US9334565B2 (en) 2012-05-09 2016-05-10 H.C. Starck Inc. Multi-block sputtering target with interface portions and associated methods and articles
JP5679395B2 (ja) * 2012-11-12 2015-03-04 日立金属株式会社 コールドスプレー用粉末
EP3131684B1 (en) * 2014-04-15 2019-05-22 Commonwealth Scientific and Industrial Research Organisation Process for producing a preform using cold spray
CN106694872A (zh) * 2016-11-18 2017-05-24 华中科技大学 一种适用于零件与模具的复合增材制造方法
KR101971252B1 (ko) 2018-07-20 2019-04-22 장준하 파력 실험을 위한 수조 타입 물결파 발생장치
CN110508809B (zh) * 2019-08-29 2020-11-17 华中科技大学 一种增材制造与表面涂覆复合成形系统及方法
AU2022287496A1 (en) * 2021-05-31 2023-12-14 Composite Technology R & D Pty Limited Additively manufactured metal casings
CN115338422A (zh) * 2022-06-29 2022-11-15 西北工业大学 一种提高毁伤后效压力的多层药型罩涂层的增材制造方法

Family Cites Families (115)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3990784A (en) * 1974-06-05 1976-11-09 Optical Coating Laboratory, Inc. Coated architectural glass system and method
US4011981A (en) * 1975-03-27 1977-03-15 Olin Corporation Process for bonding titanium, tantalum, and alloys thereof
US4073427A (en) * 1976-10-07 1978-02-14 Fansteel Inc. Lined equipment with triclad wall construction
US4140172A (en) * 1976-12-23 1979-02-20 Fansteel Inc. Liners and tube supports for industrial and chemical process equipment
US4291104A (en) * 1978-04-17 1981-09-22 Fansteel Inc. Brazed corrosion resistant lined equipment
US4202932A (en) * 1978-07-21 1980-05-13 Xerox Corporation Magnetic recording medium
DE3130392C2 (de) * 1981-07-31 1985-10-17 Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin Verfahren zur Herstellung reiner agglomerierter Ventilmetallpulver für Elektrolytkondensatoren, deren Verwendung und Verfahren zur Herstellung von Sinteranoden
US4459062A (en) 1981-09-11 1984-07-10 Monsanto Company Clad metal joint closure
CA1202599A (en) 1982-06-10 1986-04-01 Michael G. Down Upgrading titanium, zirconium and hafnium powders by plasma processing
DE3309891A1 (de) * 1983-03-18 1984-10-31 Hermann C. Starck Berlin, 1000 Berlin Verfahren zur herstellung von ventilmetallanoden fuer elektrolytkondensatoren
US4508563A (en) * 1984-03-19 1985-04-02 Sprague Electric Company Reducing the oxygen content of tantalum
US4818629A (en) * 1985-08-26 1989-04-04 Fansteel Inc. Joint construction for lined equipment
US4722756A (en) * 1987-02-27 1988-02-02 Cabot Corp Method for deoxidizing tantalum material
US4731111A (en) * 1987-03-16 1988-03-15 Gte Products Corporation Hydrometallurical process for producing finely divided spherical refractory metal based powders
JPS6415353A (en) * 1987-07-08 1989-01-19 Toshiba Corp Alloy for thermal spraying
US4915745A (en) * 1988-09-22 1990-04-10 Atlantic Richfield Company Thin film solar cell and method of making
US5242481A (en) 1989-06-26 1993-09-07 Cabot Corporation Method of making powders and products of tantalum and niobium
US4964906A (en) * 1989-09-26 1990-10-23 Fife James A Method for controlling the oxygen content of tantalum material
DE69016433T2 (de) * 1990-05-19 1995-07-20 Papyrin Anatolij Nikiforovic Beschichtungsverfahren und -vorrichtung.
US5091244A (en) * 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US5270858A (en) 1990-10-11 1993-12-14 Viratec Thin Films Inc D.C. reactively sputtered antireflection coatings
US5612254A (en) * 1992-06-29 1997-03-18 Intel Corporation Methods of forming an interconnect on a semiconductor substrate
US5693203A (en) 1992-09-29 1997-12-02 Japan Energy Corporation Sputtering target assembly having solid-phase bonded interface
US5305946A (en) * 1992-11-05 1994-04-26 Nooter Corporation Welding process for clad metals
US5679473A (en) * 1993-04-01 1997-10-21 Asahi Komag Co., Ltd. Magnetic recording medium and method for its production
US6103392A (en) 1994-12-22 2000-08-15 Osram Sylvania Inc. Tungsten-copper composite powder
US5795626A (en) * 1995-04-28 1998-08-18 Innovative Technology Inc. Coating or ablation applicator with a debris recovery attachment
US5993513A (en) * 1996-04-05 1999-11-30 Cabot Corporation Method for controlling the oxygen content in valve metal materials
US5954856A (en) * 1996-04-25 1999-09-21 Cabot Corporation Method of making tantalum metal powder with controlled size distribution and products made therefrom
US5859654A (en) * 1996-10-31 1999-01-12 Hewlett-Packard Company Print head for ink-jet printing a method for making print heads
DE59801636D1 (de) * 1997-02-19 2001-11-08 Starck H C Gmbh Co Kg Tantalpulver, verfahren zu seiner herstellung, sowie daraus erhältliche sinteranoden
US5972065A (en) * 1997-07-10 1999-10-26 The Regents Of The University Of California Purification of tantalum by plasma arc melting
KR20010032498A (ko) * 1997-11-26 2001-04-25 조셉 제이. 스위니 손상없는 스컵쳐 코팅 증착
US6911124B2 (en) * 1998-09-24 2005-06-28 Applied Materials, Inc. Method of depositing a TaN seed layer
US6171363B1 (en) * 1998-05-06 2001-01-09 H. C. Starck, Inc. Method for producing tantallum/niobium metal powders by the reduction of their oxides with gaseous magnesium
US6189663B1 (en) * 1998-06-08 2001-02-20 General Motors Corporation Spray coatings for suspension damper rods
DE19847012A1 (de) * 1998-10-13 2000-04-20 Starck H C Gmbh Co Kg Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung
FR2785897B1 (fr) * 1998-11-16 2000-12-08 Commissariat Energie Atomique Couche mince d'oxyde d'hafnium et procede de depot
US6328927B1 (en) 1998-12-24 2001-12-11 Praxair Technology, Inc. Method of making high-density, high-purity tungsten sputter targets
US6197082B1 (en) * 1999-02-17 2001-03-06 H.C. Starck, Inc. Refining of tantalum and tantalum scrap with carbon
US6558447B1 (en) * 1999-05-05 2003-05-06 H.C. Starck, Inc. Metal powders produced by the reduction of the oxides with gaseous magnesium
US6139913A (en) * 1999-06-29 2000-10-31 National Center For Manufacturing Sciences Kinetic spray coating method and apparatus
JP2001020065A (ja) * 1999-07-07 2001-01-23 Hitachi Metals Ltd スパッタリング用ターゲット及びその製造方法ならびに高融点金属粉末材料
US6261337B1 (en) * 1999-08-19 2001-07-17 Prabhat Kumar Low oxygen refractory metal powder for powder metallurgy
US6521173B2 (en) * 1999-08-19 2003-02-18 H.C. Starck, Inc. Low oxygen refractory metal powder for powder metallurgy
DE19942916A1 (de) * 1999-09-08 2001-03-15 Linde Gas Ag Herstellen von aufschäumbaren Metallkörpern und Metallschäumen
JP2001085378A (ja) * 1999-09-13 2001-03-30 Sony Corp 半導体装置およびその製造方法
US6258402B1 (en) * 1999-10-12 2001-07-10 Nakhleh Hussary Method for repairing spray-formed steel tooling
TW570987B (en) * 1999-12-28 2004-01-11 Toshiba Corp Components for vacuum deposition apparatus and vacuum deposition apparatus therewith, and target apparatus
US6331233B1 (en) * 2000-02-02 2001-12-18 Honeywell International Inc. Tantalum sputtering target with fine grains and uniform texture and method of manufacture
US7122069B2 (en) 2000-03-29 2006-10-17 Osram Sylvania Inc. Mo-Cu composite powder
US6502767B2 (en) * 2000-05-03 2003-01-07 Asb Industries Advanced cold spray system
US20030023132A1 (en) * 2000-05-31 2003-01-30 Melvin David B. Cyclic device for restructuring heart chamber geometry
JP2001347672A (ja) * 2000-06-07 2001-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録ヘッドの製造方法ならびにインクジェットプリンタ
EP1320872A2 (en) * 2000-09-27 2003-06-25 NUP2 Incorporated Fabrication of semiconductor devices
US6498091B1 (en) * 2000-11-01 2002-12-24 Applied Materials, Inc. Method of using a barrier sputter reactor to remove an underlying barrier layer
US6669782B1 (en) 2000-11-15 2003-12-30 Randhir P. S. Thakur Method and apparatus to control the formation of layers useful in integrated circuits
US6491208B2 (en) 2000-12-05 2002-12-10 Siemens Westinghouse Power Corporation Cold spray repair process
US6444259B1 (en) * 2001-01-30 2002-09-03 Siemens Westinghouse Power Corporation Thermal barrier coating applied with cold spray technique
PT1362132E (pt) * 2001-02-14 2006-09-29 Starck H C Inc Regeneracao de um alvo de pulverizacao de tantalo
US7794554B2 (en) 2001-02-14 2010-09-14 H.C. Starck Inc. Rejuvenation of refractory metal products
KR100966682B1 (ko) * 2001-02-20 2010-06-29 에이치. 씨. 스타아크 아이앤씨 균일한 조직을 갖는 내화성 금속판 및 이 금속판의 제작방법
US6915964B2 (en) * 2001-04-24 2005-07-12 Innovative Technology, Inc. System and process for solid-state deposition and consolidation of high velocity powder particles using thermal plastic deformation
US6722584B2 (en) * 2001-05-02 2004-04-20 Asb Industries, Inc. Cold spray system nozzle
US7053294B2 (en) * 2001-07-13 2006-05-30 Midwest Research Institute Thin-film solar cell fabricated on a flexible metallic substrate
CN1608141A (zh) * 2001-09-17 2005-04-20 黑罗伊斯有限公司 废弃溅射靶的修复
US7081148B2 (en) * 2001-09-18 2006-07-25 Praxair S.T. Technology, Inc. Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target
US6770154B2 (en) * 2001-09-18 2004-08-03 Praxair S.T. Technology, Inc. Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target
US6861101B1 (en) * 2002-01-08 2005-03-01 Flame Spray Industries, Inc. Plasma spray method for applying a coating utilizing particle kinetics
US6986471B1 (en) * 2002-01-08 2006-01-17 Flame Spray Industries, Inc. Rotary plasma spray method and apparatus for applying a coating utilizing particle kinetics
RS65004A (en) * 2002-01-24 2006-10-27 H.C. Starck Inc. Refractory metal and alloy refining by laser forming and melting
US6627814B1 (en) * 2002-03-22 2003-09-30 David H. Stark Hermetically sealed micro-device package with window
BE1014736A5 (fr) 2002-03-29 2004-03-02 Alloys For Technical Applic S Procede de fabrication et de recharge de cibles pour pulverisation cathodique.
US6896933B2 (en) * 2002-04-05 2005-05-24 Delphi Technologies, Inc. Method of maintaining a non-obstructed interior opening in kinetic spray nozzles
US20030219542A1 (en) * 2002-05-25 2003-11-27 Ewasyshyn Frank J. Method of forming dense coatings by powder spraying
DE10224777A1 (de) * 2002-06-04 2003-12-18 Linde Ag Verfahren und Vorrichtung zum Kaltgasspritzen
DE10224780A1 (de) * 2002-06-04 2003-12-18 Linde Ag Verfahren und Vorrichtung zum Kaltgasspritzen
US6759085B2 (en) * 2002-06-17 2004-07-06 Sulzer Metco (Us) Inc. Method and apparatus for low pressure cold spraying
US7128988B2 (en) * 2002-08-29 2006-10-31 Lambeth Systems Magnetic material structures, devices and methods
JP4883546B2 (ja) * 2002-09-20 2012-02-22 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 タンタルスパッタリングターゲットの製造方法
US7108893B2 (en) * 2002-09-23 2006-09-19 Delphi Technologies, Inc. Spray system with combined kinetic spray and thermal spray ability
US20040065546A1 (en) * 2002-10-04 2004-04-08 Michaluk Christopher A. Method to recover spent components of a sputter target
CA2444917A1 (en) 2002-10-18 2004-04-18 United Technologies Corporation Cold sprayed copper for rocket engine applications
US6749002B2 (en) * 2002-10-21 2004-06-15 Ford Motor Company Method of spray joining articles
DE10253794B4 (de) 2002-11-19 2005-03-17 Hühne, Erwin Dieter Niedertemperatur Hochgeschwindigkeits-Flammspritzsystem
TW571342B (en) * 2002-12-18 2004-01-11 Au Optronics Corp Method of forming a thin film transistor
US7067197B2 (en) * 2003-01-07 2006-06-27 Cabot Corporation Powder metallurgy sputtering targets and methods of producing same
JP4637819B2 (ja) 2003-02-24 2011-02-23 テクナ・プラズマ・システムズ・インコーポレーテッド スパッタリングターゲットを製造するための方法および装置
JP4008388B2 (ja) * 2003-06-30 2007-11-14 シャープ株式会社 半導体キャリア用フィルムおよびそれを用いた半導体装置、液晶モジュール
US7170915B2 (en) * 2003-07-23 2007-01-30 Intel Corporation Anti-reflective (AR) coating for high index gain media
US7208230B2 (en) * 2003-08-29 2007-04-24 General Electric Company Optical reflector for reducing radiation heat transfer to hot engine parts
US7128948B2 (en) * 2003-10-20 2006-10-31 The Boeing Company Sprayed preforms for forming structural members
WO2005073418A1 (ja) 2004-01-30 2005-08-11 Nippon Tungsten Co., Ltd. タングステン系焼結体およびその製造方法
US6905728B1 (en) * 2004-03-22 2005-06-14 Honeywell International, Inc. Cold gas-dynamic spray repair on gas turbine engine components
US20050220995A1 (en) * 2004-04-06 2005-10-06 Yiping Hu Cold gas-dynamic spraying of wear resistant alloys on turbine blades
US20060021870A1 (en) * 2004-07-27 2006-02-02 Applied Materials, Inc. Profile detection and refurbishment of deposition targets
US20060045785A1 (en) * 2004-08-30 2006-03-02 Yiping Hu Method for repairing titanium alloy components
US20060042728A1 (en) * 2004-08-31 2006-03-02 Brad Lemon Molybdenum sputtering targets
WO2006032522A1 (de) * 2004-09-25 2006-03-30 Abb Technology Ag Verfahren zur herstellung einer abbrandfesten beschichtung, sowie entsprechende schirmung für vakuumschaltkammern
US20060090593A1 (en) * 2004-11-03 2006-05-04 Junhai Liu Cold spray formation of thin metal coatings
US20060121187A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Haynes Jeffrey D Vacuum cold spray process
US7479299B2 (en) * 2005-01-26 2009-01-20 Honeywell International Inc. Methods of forming high strength coatings
US7399335B2 (en) * 2005-03-22 2008-07-15 H.C. Starck Inc. Method of preparing primary refractory metal
RU2434073C9 (ru) * 2005-05-05 2012-12-27 Х.К. Штарк Гмбх Способ покрытия поверхности субстрата и продукт с нанесенным покрытием
US20060251872A1 (en) * 2005-05-05 2006-11-09 Wang Jenn Y Conductive barrier layer, especially an alloy of ruthenium and tantalum and sputter deposition thereof
JP4904341B2 (ja) * 2005-05-05 2012-03-28 ハー．ツェー．スタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング スパッタターゲット及びｘ線アノードを製造又は再処理するための被覆方法
US20060289139A1 (en) * 2005-06-24 2006-12-28 Fushan Zhang Retention and drainage in the manufacture of paper
JP4795157B2 (ja) * 2005-10-24 2011-10-19 新日本製鐵株式会社 コールドスプレー装置
US20080078268A1 (en) * 2006-10-03 2008-04-03 H.C. Starck Inc. Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof
AU2007317650B2 (en) * 2006-11-07 2012-06-14 H.C. Starck Surface Technology and Ceramic Powders GmbH Method for coating a substrate and coated product
US20080145688A1 (en) * 2006-12-13 2008-06-19 H.C. Starck Inc. Method of joining tantalum clade steel structures
JP5215192B2 (ja) * 2007-01-05 2013-06-19 株式会社東芝 スパッタリングターゲット
US8784729B2 (en) 2007-01-16 2014-07-22 H.C. Starck Inc. High density refractory metals and alloys sputtering targets
US8197894B2 (en) 2007-05-04 2012-06-12 H.C. Starck Gmbh Methods of forming sputtering targets
US8246903B2 (en) * 2008-09-09 2012-08-21 H.C. Starck Inc. Dynamic dehydriding of refractory metal powders

Also Published As

Publication number Publication date
CN101713071A (zh) 2010-05-26
JP2010090477A (ja) 2010-04-22
US20100086800A1 (en) 2010-04-08
BRPI0904976A2 (pt) 2010-11-03
ZA200906940B (en) 2011-06-29
US8043655B2 (en) 2011-10-25
EP2172292A1 (en) 2010-04-07
KR20100039259A (ko) 2010-04-15
CA2681424A1 (en) 2010-04-06
CN101713071B (zh) 2014-05-07
MX2009010724A (es) 2010-10-05
KR101456725B1 (ko) 2014-10-31
EP2172292B1 (en) 2012-07-11
JP5725700B2 (ja) 2015-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009136708A (ru) Способ изготовления объемных металлических структур с субмикронными размерами зерен и структуры, полученные этим способом
EP1674595B1 (en) Structural repair using cold sprayed aluminum material
JP2010090477A5 (ru)
EP1666636A1 (en) Vacuum cold spray process
EP1674596A1 (en) Laser enhancements of cold sprayed deposits
EP1705266B1 (en) Applying bond coat to engine components using cold spray
CN102605312B (zh) 一种塑料模具表面处理方法
US20130034661A1 (en) Method for processing a surface of a component
JP2008540836A5 (ru)
US8993048B2 (en) Method for producing a layer by means of cold spraying and use of such a layer
JP4959685B2 (ja) 材料堆積の方法および装置
CN102586721A (zh) 一种混凝土双曲面薄壳模板模具表面处理方法
CN111020558B (zh) 一种具有与基体高结合强度的多金属复合涂层及制备方法
CN108291310A (zh) 层叠体以及层叠体的制造方法
EP2472058A3 (en) Gas turbine engine component material addition process
WO2008141593A1 (en) Method for production of sputtering targets
US20130115378A1 (en) Pre-treatment apparatus and method for improving adhesion of thin film
CN101429596B (zh) 一种纳米晶WC-Co硬质合金的制备方法
CN206912247U (zh) 可泄压式爆炸烧结纳米铝棒的装置
RU2430995C2 (ru) Способ получения композиционного покрытия
RU2561407C1 (ru) Способ изготовления двухслойных листовых металлополимерных материалов
RU2011123407A (ru) Способ формирования покрытий и получения объемных форм и устройство для его осуществления
RU2444439C1 (ru) Двухслойный листовой материал и способ его изготовления
Ahn et al. Planar shock wave compaction of oxidized copper nano powders using high speed collision and its mechanical properties
KR20090052698A (ko) 분사코팅법을 이용한 박판의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20121008