RU2007134366A - Фотолитографическое формирование микрорельефа в полимерных материалах - Google Patents

Фотолитографическое формирование микрорельефа в полимерных материалах Download PDF

Info

Publication number
RU2007134366A
RU2007134366A RU2007134366/04A RU2007134366A RU2007134366A RU 2007134366 A RU2007134366 A RU 2007134366A RU 2007134366/04 A RU2007134366/04 A RU 2007134366/04A RU 2007134366 A RU2007134366 A RU 2007134366A RU 2007134366 A RU2007134366 A RU 2007134366A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
radiation
polymer
plastic substrate
curable polymer
protective layer
Prior art date
Application number
RU2007134366/04A
Other languages
English (en)
Inventor
Роберт Брюс ЧАРТЕРС (AU)
Роберт Брюс ЧАРТЕРС
Дакс КУКУЛЬ (AU)
Дакс КУКУЛЬ
Original Assignee
Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД (AU)
Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД (AU), Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД filed Critical Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД (AU)
Publication of RU2007134366A publication Critical patent/RU2007134366A/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/085—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/09—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1221—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00—Layers arrangement
    • B32B2250/02—2 layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/26—Polymeric coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/41—Opaque
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/71—Resistive to light or to UV
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/208—Touch screens
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24612—Composite web or sheet
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31507—Of polycarbonate

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Claims (32)

1. Способ формирования микрорельефа в отверждаемом излучением полимере, нанесенном на пластиковую подложку, включающий следующие стадии:
осаждение отверждаемого излучением полимера на пластиковую подложку; и
экспонирование по изображению в отверждающем энергетическом излучении, по меньшей мере, участка упомянутого отверждаемого излучением полимера для создания области отвержденного полимера, причем, упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого излучения.
2. Способ по п. 1, в котором упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого излучения i) обеспечением в подложке добавки, предназначенной для поглощения упомянутого энергетического излучения, или ii) обеспечением защитного слоя, непрозрачного для упомянутого энергетического излучения, и осажденного на упомянутую подложку, или iii) сочетанием перечисленных методов.
3. Способ по п. 2, в котором упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого отверждающего энергетического излучения путем ввода в подложку добавки, подобранной для поглощения упомянутого отверждающего энергетического излучения, где энергетическим излучением предпочтительно является УФ-излучение и добавкой предпочтительно является поглотитель УФ-излучения.
4. Способ по п. 3, в котором упомянутый слой отверждаемого излучением полимера содержит, по меньшей мере, один мономер, олигомер или полимер, содержащий, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную к претерпеванию аддитивной полимеризации, и, по меньшей мере, один фотоинициатор, где, по меньшей мере, один фотоинициатор является предпочтительно фотоинициатором свободно-радикальной полимеризации, и, по меньшей мере, одна функциональная группа является предпочтительно этиленненасыщенной группой или эпокси группой.
5. Способ по п. 3, в котором упомянутая добавка внедрена диффузией в поверхность упомянутой пластиковой подложки, причем пластиковая подложка предпочтительно является полиэтилентерефталатом или поликарбонатом.
6. Способ по п. 4, в котором этиленненасыщенную группу выбирают из метакрилатной, акрилатной, стирольной, винильной или простой винилэфирной групп.
7. Способ по п. 3, в котором отверждаемый излучением полимер содержит силоксановый полимер.
8. Способ по п. 2, в котором упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого отверждающего энергетического излучения защитным слоем, непрозрачным для упомянутого энергетического излучения, и осажденного на упомянутую подложку, где энергетическим излучением предпочтительно является УФ-излучение, и отверждаемый излучением полимер предпочтительно содержит силоксановый полимер.
9. Способ по п. 8, в котором упомянутый защитный слой содержит металлическую пленку, и упомянутая металлическая пленка предпочтительно содержит алюминий.
10. Способ по п. 8, в котором упомянутый защитный слой содержит полимер, содержащий добавку, которая поглощает упомянутое энергетическое излучение, и упомянутый защитный слой предпочтительно экструдируют совместно с упомянутой пластиковой подложкой.
11. Способ по п. 10, в котором упомянутый слой отверждаемого излучением полимера содержит, по меньшей мере, один мономер, олигомер или полимер, содержащий, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную к претерпеванию аддитивной полимеризации, и, по меньшей мере, один фотоинициатор, где, по меньшей мере, один фотоинициатор является предпочтительно фотоинициатором свободно-радикальной полимеризации, и, по меньшей мере, одна функциональная группа является предпочтительно этиленненасыщенной группой, выбранной из метакрилатной, акрилатной, стирольной, винильной или простой винилэфирной групп, или эпокси группой.
12. Способ по п. 3 или 8, в котором экспонирование упомянутого слоя отверждаемого излучением полимера энергетическим излучением выбирают из i) экспонирования через шаблон для формирования рисунка или ii) экспонирования направленным пучком упомянутого энергетического излучения, для обеспечения, по меньшей мере, одной области отвержденного полимера и, по меньшей мере, одной неэкспонированной области отверждаемого излучением полимера, предпочтительно дополнительно содержащий стадию нанесения растворителя для удаления неэкспонированного отверждаемого излучением полимера с упомянутой неэкспонированной области отверждаемого излучением полимера.
13. Способ по п. 12, в котором область отвержденного полимера и неэкспонированная область отверждаемого излучением полимера характеризуются разностью показателей преломления, чтобы обеспечить выполнение функций оптического устройства.
14. Способ по п. 8, в котором пластиковая подложка представляет собой полиэтилентерефталат или поликарбонат.
15. Способ по п. 3 или 8, при применении для изготовления световода предпочтительно дополнительно содержащий стадию осаждения оптического буферного слоя на защитный слой перед осаждением слоя отверждаемого излучением полимера, где оптический буферный слой предпочтительно содержит отверждаемый излучением полимер.
16. Способ по п. 15, дополнительно содержащий стадию осаждения слоя оболочки на микрорельефно сформированный слой отвержденного излучением полимера, где слой оболочки предпочтительно содержит отверждаемый излучением полимер.
17. Способ по п. 3 или 15, в котором световод формирует компонент оптического датчика сенсорного экрана.
18. Оптическое устройство, содержащее:
пластиковую подложку;
промежуточный защитный слой, непрозрачный для энергетического излучения; и
микрорельефно сформированный отвержденный излучением полимер, осажденный на упомянутый защитный слой.
19. Оптическое устройство по п. 18, в котором упомянутый защитный слой является металлической пленкой.
20. Оптическое устройство по п. 18, в котором пластиковая подложка представляет собой полиэтилентерефталат или поликарбонат.
21. Оптическое устройство по п. 18, в котором микрорельефно сформированный отвержденный излучением полимер отвержден УФ-излучением, и защитный слой содержит полимер с добавкой, которая поглощает упомянутое УФ-излучение, где упомянутый защитный слой экструдируют совместно с упомянутой пластиковой подложкой.
22. Световодный оптический датчик сенсорного экрана, содержащий оптическое устройство по п. 18.
23. Оптическое устройство, содержащее:
пластиковую подложку; и
микрорельефно сформированный отвержденный излучением полимер, осажденный на упомянутую подложку;
при этом, пластиковая подложка содержит добавку, которая поглощает излучение, применяемое для отверждения полимера.
24. Оптическое устройство по п. 23, в котором пластиковая подложка представляет собой полиэтилентерефталат или поликарбонат, содержащий добавку, которая поглощает излучение, применяемое для отверждения полимера, где излучение предпочтительно является УФ-излучением.
25. Способ фотолитографического формирования микрорельефа в УФ-отверждаемом полимере, нанесенном на пластиковую подложку, включающий следующие стадии:
осаждение УФ-отверждаемого полимера на пластиковую подложку;
экспонирование по изображению в УФ-излучении через шаблон для формирования рисунка, по меньшей мере, участка упомянутого УФ-отверждаемого полимера для создания, по меньшей мере, одной области отвержденного полимера, и, по меньшей мере, одной неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера;
нанесение растворителя для удаления неэкспонированного УФ-отверждаемого полимера с упомянутой неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера; и, при этом, упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого УФ-излучения посредством введения в подложку добавки, подобранной для поглощения УФ-излучения.
26. Способ по п. 25, при применении для изготовления световода, световод формирует предпочтительно компонент оптического датчика сенсорного экрана.
27. Способ фотолитографического формирования микрорельефа в УФ-отверждаемом полимере, нанесенном на пластиковую подложку, включающий следующие стадии:
осаждение УФ-отверждаемого полимера на пластиковую подложку;
экспонирование по изображению в УФ-излучении через шаблон для формирования рисунка, по меньшей мере, участка упомянутого УФ-отверждаемого полимера для создания, по меньшей мере, одной области отвержденного полимера, и, по меньшей мере, одной неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера;
нанесение растворителя для удаления неэкспонированного УФ-отверждаемого полимера с упомянутой неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера; и, при этом, упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого УФ-излучения защитным слоем, непрозрачным для упомянутого энергетического излучения и осажденным на упомянутую подложку.
28. Способ по п. 27, в котором упомянутый защитный слой является металлической пленкой, при применении для изготовления световода, где световод предпочтительно формирует компонент оптического датчика сенсорного экрана.
29. Способ по п. 27, в котором упомянутый защитный слой содержит полимер с добавкой, которая поглощает УФ-излучение, где упомянутый защитный слой экструдируют совместно с упомянутой пластиковой подложкой, при применении для изготовления световода, где световод предпочтительно формирует компонент оптического датчика сенсорного экрана.
30. Оптическое устройство, содержащее:
пластиковую подложку;
промежуточный защитный слой, непрозрачный для УФ-излучения и сформированный совместной экструзией с упомянутой пластиковой подложкой; и
микрорельефно сформированный УФ-отвержденный полимер, осажденный на упомянутый промежуточный слой.
31. Оптическое устройство, содержащее пластиковую подложку, содержащую УФ-поглощающую добавку и содержащее микрорельефно сформированный УФ-отвержденный полимер, осажденный на упомянутую подложку.
32. Световодный оптический датчик сенсорного экрана, содержащий оптическое устройство по п. 30 или 31.
RU2007134366/04A 2005-02-15 2006-02-15 Фотолитографическое формирование микрорельефа в полимерных материалах RU2007134366A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US65334605P 2005-02-15 2005-02-15
US60/653,346 2005-02-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2007134366A true RU2007134366A (ru) 2009-03-27

Family

ID=36916114

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007134366/04A RU2007134366A (ru) 2005-02-15 2006-02-15 Фотолитографическое формирование микрорельефа в полимерных материалах

Country Status (11)

Country Link
US (3) US7923071B2 (ru)
EP (1) EP1851591A4 (ru)
JP (2) JP2008530317A (ru)
KR (1) KR20070103069A (ru)
CN (1) CN101142532A (ru)
AU (1) AU2006214795A1 (ru)
BR (1) BRPI0607463A2 (ru)
CA (1) CA2597866A1 (ru)
RU (1) RU2007134366A (ru)
TW (1) TW200702904A (ru)
WO (1) WO2006086841A1 (ru)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7811640B2 (en) * 2006-05-02 2010-10-12 Rpo Pty Limited Methods for fabricating polymer optical waveguides on large area panels
US20080106527A1 (en) * 2006-11-06 2008-05-08 Rpo Pty Limited Waveguide Configurations for Minimising Substrate Area
EP2019336A1 (en) * 2007-06-11 2009-01-28 Stichting Dutch Polymer Institute Process for preparing a polymeric relief structure
US8883291B2 (en) 2007-08-07 2014-11-11 President And Fellows Of Harvard College Metal oxide coating on surfaces
US8562770B2 (en) 2008-05-21 2013-10-22 Manufacturing Resources International, Inc. Frame seal methods for LCD
US8268604B2 (en) * 2007-12-20 2012-09-18 Abbott Point Of Care Inc. Compositions for forming immobilized biological layers for sensing
US8241697B2 (en) 2007-12-20 2012-08-14 Abbott Point Of Care Inc. Formation of immobilized biological layers for sensing
US9342187B2 (en) * 2008-01-11 2016-05-17 O-Net Wavetouch Limited Touch-sensitive device
JP2011515236A (ja) * 2008-03-28 2011-05-19 プレジデント アンド フェローズ オブ ハーバード カレッジ 制御された濡れ特性を有するマイクロ流体チャネルを含む表面
GB2459505A (en) * 2008-04-25 2009-10-28 Dublin Inst Of Technology Optical component fabrication by depositing a polymerisation activator pattern
JP2009276724A (ja) * 2008-05-19 2009-11-26 Nitto Denko Corp 光導波路装置の製造方法
US9573346B2 (en) 2008-05-21 2017-02-21 Manufacturing Resources International, Inc. Photoinitiated optical adhesive and method for using same
JP2010066667A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Nitto Denko Corp 光導波路装置の製造方法
JP5106332B2 (ja) * 2008-09-18 2012-12-26 日東電工株式会社 光導波路装置の製造方法およびそれによって得られた光導波路装置
EP2506707A1 (de) * 2009-12-02 2012-10-10 Basf Se Verfahren zur bekämpfung von phytopathogenen mikroorganismen mit oberflächenmodifizierten, nanopartikulären kupfersalzen
US9465296B2 (en) 2010-01-12 2016-10-11 Rolith, Inc. Nanopatterning method and apparatus
KR102396005B1 (ko) * 2013-10-21 2022-05-10 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 광도파로의 제조방법
US11407901B2 (en) * 2018-06-13 2022-08-09 The Boeing Company System and method for protecting a surface from UV radiation
WO2022174006A1 (en) 2021-02-12 2022-08-18 Manufacturing Resourcesinternational, Inc Display assembly using structural adhesive

Family Cites Families (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3689264A (en) 1970-03-19 1972-09-05 Bell Telephone Labor Inc Method for increasing index of refraction in transparent bodies and its application to light guides and the like
US3809732A (en) 1972-12-18 1974-05-07 Bell Telephone Labor Inc Photo-locking technique for producing integrated optical circuits
GB1464718A (en) * 1973-05-10 1977-02-16 Grace W R & Co Laminates containing layers of aluminium and hydrolysed olefin-vinyl ester copolymer
US4126466A (en) * 1974-07-22 1978-11-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Composite, mask-forming, photohardenable elements
US3993485A (en) 1975-05-27 1976-11-23 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Photopolymerization process and related devices
US4126468A (en) * 1975-06-28 1978-11-21 Vickers Limited Radiation sensitive compositions of quaternary ammonium salt and carboxylic acid sensitizer
US4609252A (en) 1979-04-02 1986-09-02 Hughes Aircraft Company Organic optical waveguide device and method of making
JPS61231541A (ja) * 1985-04-06 1986-10-15 Nippon Seihaku Kk 感光性平版印刷版材
US4645731A (en) * 1985-12-27 1987-02-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Distortion resistant polyester support for use as a phototool
GB8610227D0 (en) * 1986-04-25 1986-05-29 Plessey Co Plc Organic optical waveguides
US5292620A (en) 1988-01-15 1994-03-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Optical waveguide devices, elements for making the devices and methods of making the devices and elements
DE3814298A1 (de) * 1988-04-28 1989-11-09 Hoechst Ag Lichtwellenleiter
JPH01282543A (ja) * 1988-05-09 1989-11-14 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
EP0412675B1 (en) 1989-08-08 1995-06-07 Imperial Chemical Industries Plc Optical components
FR2656156A1 (fr) * 1989-12-16 1991-06-21 Sgs Thomson Microelectronics Circuit integre entierement protege des rayons ultra-violets.
US5054872A (en) 1990-03-16 1991-10-08 Ibm Corporation Polymeric optical waveguides and methods of forming the same
EP0504824B1 (en) * 1991-03-20 1998-01-14 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive printing element
TW262537B (ru) 1993-07-01 1995-11-11 Allied Signal Inc
CH688165A5 (de) * 1993-07-26 1997-05-30 Balzers Hochvakuum Verfahren zur Herstellung eines optischen Wellenleiters und darnach hergestellter optischer Wellenleiter
JPH0792337A (ja) 1993-09-27 1995-04-07 Hitachi Cable Ltd ポリマコア光導波路およびその製造方法
GB9320326D0 (en) 1993-10-01 1993-11-17 Ici Plc Organic optical components and preparation thereof
US5462700A (en) 1993-11-08 1995-10-31 Alliedsignal Inc. Process for making an array of tapered photopolymerized waveguides
GB2290745A (en) * 1994-07-01 1996-01-10 Ciba Geigy Ag Coextruded stabilised laminated thermolastics
US6162579A (en) 1996-04-19 2000-12-19 Corning Incorporated Nitrone compounds as photopolymer polymerization inhibitors and contrast enhancing additives
US5789015A (en) * 1996-06-26 1998-08-04 Innotech, Inc. Impregnation of plastic substrates with photochromic additives
SE508067C2 (sv) 1996-10-18 1998-08-24 Ericsson Telefon Ab L M Optisk ledare tillverkad av ett polymert material innefattande glycidylakrylat och pentafluorstyren
EP0950204B1 (en) 1996-12-31 2002-01-23 Honeywell Inc. Flexible optic connector assembly
US5914709A (en) 1997-03-14 1999-06-22 Poa Sana, Llc User input device for a computer system
US6335149B1 (en) 1997-04-08 2002-01-01 Corning Incorporated High performance acrylate materials for optical interconnects
US6054253A (en) 1997-10-10 2000-04-25 Mcgill University-The Royal Institute For The Advancement Of Learning Solvent-assisted lithographic process using photosensitive sol-gel derived glass for depositing ridge waveguides on silicon
US6133472A (en) 1998-01-20 2000-10-17 Alliedsignal Inc. Fluorinated oxyvinyl compounds and methods of preparing and using same
US6537723B1 (en) 1998-10-05 2003-03-25 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Photosensitive composition for manufacturing optical waveguide, production method thereof and polymer optical waveguide pattern formation method using the same
JP4304549B2 (ja) * 1999-01-18 2009-07-29 東洋紡績株式会社 感光性樹脂積層体
EP1094094A4 (en) * 1999-04-12 2002-07-24 Asahi Denka Kogyo Kk POLYMERIC COMPOSITION
US6306563B1 (en) 1999-06-21 2001-10-23 Corning Inc. Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
US6413699B1 (en) * 1999-10-11 2002-07-02 Macdermid Graphic Arts, Inc. UV-absorbing support layers and flexographic printing elements comprising same
CN1337013A (zh) 1999-11-12 2002-02-20 日本板硝子株式会社 感光性组合物与光波导元件及其制造方法
JP2003515782A (ja) 1999-12-02 2003-05-07 ジェムファイア コーポレイション 光デバイスの光画定
JP2001175185A (ja) * 1999-12-14 2001-06-29 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材及び表示装置
US6181842B1 (en) 2000-01-10 2001-01-30 Poa Sana, Inc. Position digitizer waveguide array with integrated collimating optics
JP2001296438A (ja) * 2000-04-12 2001-10-26 Hitachi Cable Ltd フォトブリーチング導波路
JP2001166166A (ja) * 2000-11-06 2001-06-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高分子光導波路フィルム
US20020142234A1 (en) * 2001-03-29 2002-10-03 Hansel Gregory A. Photomask
US6731857B2 (en) 2001-03-29 2004-05-04 Shipley Company, L.L.C. Photodefinable composition, method of manufacturing an optical waveguide with the photodefinable composition, and optical waveguide formed therefrom
WO2002088221A1 (en) 2001-04-27 2002-11-07 The University Of Sydney Materials for optical applications
US6542684B2 (en) 2001-05-01 2003-04-01 Corning Incorporated Optimized multi-layer optical waveguiding system
US6599957B2 (en) 2001-05-07 2003-07-29 Corning Incorporated Photosensitive material suitable for making waveguides and method of making waveguides utilizing this photosensitive optical material
TW557368B (en) * 2001-06-29 2003-10-11 Jsr Corp Anti-reflection film laminated body and method of manufacturing the laminated body
DE10153760A1 (de) * 2001-10-31 2003-05-22 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung einer UV-absorbierenden transparenten Abriebschutzschicht
JP3846284B2 (ja) * 2001-11-26 2006-11-15 株式会社トッパンＮｅｃサーキットソリューションズ 光導波路の製造方法
JP3838964B2 (ja) * 2002-03-13 2006-10-25 株式会社リコー 機能性素子基板の製造装置
US6965006B2 (en) 2002-04-10 2005-11-15 Rpo Pty Ltd. Metal alkoxide polymers
US6727337B2 (en) 2002-05-16 2004-04-27 The Australian National University Low loss optical material
AU2003233621A1 (en) * 2002-05-17 2003-12-02 Nanoventions, Inc. Planar optical waveguide
US6781761B2 (en) * 2002-08-29 2004-08-24 Mark A. Raymond Lenticular lens system and method for use in producing images with clear-walled containers
US6832036B2 (en) * 2002-10-11 2004-12-14 Polyset Company, Inc. Siloxane optical waveguides
US6818721B2 (en) 2002-12-02 2004-11-16 Rpo Pty Ltd. Process for producing polysiloxanes and use of the same
JP4193544B2 (ja) * 2003-03-27 2008-12-10 セイコーエプソン株式会社 光学式タッチパネル及び電子機器
US7786983B2 (en) * 2003-04-08 2010-08-31 Poa Sana Liquidating Trust Apparatus and method for a data input device using a light lamina screen
US7058272B2 (en) * 2003-12-29 2006-06-06 Eastman Kodak Company Wave-guided optical indicator
JP2005225996A (ja) * 2004-02-13 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 樹脂組成物およびそれを用いた光学部品、プラスチックレンズ、プラスチックフィルム基板
JP4067504B2 (ja) 2004-03-17 2008-03-26 三洋電機株式会社 光導波路及びその製造方法
EP1794220A1 (en) * 2004-09-30 2007-06-13 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Method for replenishing or introducing light stabilizers

Also Published As

Publication number Publication date
CA2597866A1 (en) 2006-08-24
EP1851591A1 (en) 2007-11-07
JP2013080242A (ja) 2013-05-02
AU2006214795A1 (en) 2006-08-24
US20070190331A1 (en) 2007-08-16
BRPI0607463A2 (pt) 2009-09-08
US9176384B2 (en) 2015-11-03
CN101142532A (zh) 2008-03-12
KR20070103069A (ko) 2007-10-22
US7923071B2 (en) 2011-04-12
WO2006086841A1 (en) 2006-08-24
EP1851591A4 (en) 2010-09-01
US20120219771A1 (en) 2012-08-30
JP2008530317A (ja) 2008-08-07
US20110151197A1 (en) 2011-06-23
WO2006086841A8 (en) 2008-02-28
TW200702904A (en) 2007-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2007134366A (ru) Фотолитографическое формирование микрорельефа в полимерных материалах
JP2008530317A5 (ru)
JP2704047B2 (ja) 先細の光重合導波路のアレイを製造する方法
US8017193B1 (en) Monomeric formulation for making polymer waveguides
JP4894348B2 (ja) フレキシブル光導波路及びその製造方法
JP2006076026A5 (ru)
RU2006104847A (ru) Планарный волновод со структурированной оболочкой и способ его изготовления
JP2008239757A (ja) 光硬化性組成物及びこれを硬化させてなる光制御膜
CN2874533Y (zh) 抗刮聚光片
JP6745295B2 (ja) 遮光フィルム及び遮光フィルムの製造方法
JP2006163263A (ja) 透過型スクリーン
JPWO2017002847A1 (ja) 含フッ素共重合体、組成物、光学フィルム、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ、並びに含フッ素共重合体の製造方法
JP5567419B2 (ja) 光インプリント用硬化性組成物およびそれを用いた硬化物の製造方法
JP2009157252A (ja) 光制御膜の製造装置及びその製造方法
JPH1039118A (ja) 光線指向性化シートおよびそれを用いた指向性面状光源
JP2002267805A (ja) レンズフィルム
KR102075546B1 (ko) Uv 차단 기능을 갖는 재귀반사 시트 및 그 제조 방법
JP2021124639A (ja) 加飾フィルム及び加飾フィルムの製造方法
JP5066926B2 (ja) フレキシブル光導波路の製造方法
JP2008026343A (ja) 光導波路用ドライフィルム及びその光導波路用ドライフィルムを用いた光導波路の製造方法
JPWO2019155933A5 (ru)
JP2778988B2 (ja) 光学材料の製造法
JP2005031575A5 (ru)
JPH01109308A (ja) 光フアイバー用耐熱鞘材組成物
NL2034193A (en) Resin composition, optical fiber, method for producing optical fiber, optical fiber ribbon, and optical fiber cable

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20090326