RU2006104847A - Планарный волновод со структурированной оболочкой и способ его изготовления - Google Patents

Планарный волновод со структурированной оболочкой и способ его изготовления Download PDF

Info

Publication number
RU2006104847A
RU2006104847A RU2006104847/28A RU2006104847A RU2006104847A RU 2006104847 A RU2006104847 A RU 2006104847A RU 2006104847/28 A RU2006104847/28 A RU 2006104847/28A RU 2006104847 A RU2006104847 A RU 2006104847A RU 2006104847 A RU2006104847 A RU 2006104847A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
layer
optical waveguide
structured
integrated optical
light guide
Prior art date
Application number
RU2006104847/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Ян Эндрю МАКСВЕЛЛ (AU)
Ян Эндрю МАКСВЕЛЛ
Дакс КУКУЛЬ (AU)
Дакс КУКУЛЬ
Робби ЧАРТЕРС (AU)
Робби ЧАРТЕРС
Original Assignee
Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД (AU)
Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД (AU), Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД filed Critical Эр Пи Оу ПТИ ЛИМИТЕД (AU)
Publication of RU2006104847A publication Critical patent/RU2006104847A/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
    • G02B6/1245—Geodesic lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1228—Tapered waveguides, e.g. integrated spot-size transformers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Claims (93)

1. Способ формирования интегрального оптического волновода со структурированной верхней оболочкой, содержащий следующие этапы:
a) осаждения слоя сердцевины на подложку;
b) структурирования слоя сердцевины для формирования светопроводящего элемента, в котором светопроводящий элемент содержит волновод и линзу как монолитное тело;
c) осаждения слоя верхней оболочки на светопроводящий элемент;
d) структурирования слоя верхней оболочки для обеспечения, по меньшей мере, одной области, в которой светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку и в котором линза имеет искривленную поверхность с воздушной оболочкой.
2. Способ по п.1, дополнительно включающий в себя этап
e) осаждения слоя нижней оболочки на подложку, перед осаждением указанного слоя сердцевины на указанной подложке.
3. Способ по п.1, в котором светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку, по меньшей мере, на торце.
4. Способ по п.1, в котором часть верхней оболочки совпадает с частью светопроводящего элемента.
5. Способ по п.1, в котором верхняя часть светопроводящего элемента имеет воздушную оболочку.
6. Способ по п.1, в котором слой верхней оболочки содержит полимерный материал.
7. Способ по п.6, в котором полимерный материал содержит термически отверждаемый полимер.
8. Способ по п.7, в котором термически отверждаемый полимер представляет собой силоксановый полимер.
9. Способ по п.6, в котором полимерный материал содержит полимер, отверждаемый посредством химически активного излучения.
10. Способ по п.9, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
11. Способ по п.9, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
12. Способ по п.1, в котором слой верхней оболочки структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника тепла, а неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
13. Способ по п.1, в котором слой верхней оболочки структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника ультрафиолетового света, и неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
14. Способ по п.1, в котором подложка содержит кремний, кварц, аморфную окись кремния, стекло или полимерный материал.
15. Способ по п.14, в котором полимерный материал включает в себя акрилат, Perspex, полиметилметакрилат, поликарбонат, полиэстер, полиэтилентерефталат или PET.
16. Способ по п.2, в котором слой нижней оболочки и светопроводящий элемент содержат материалы, выбранные из полимерных материалов, стекла и полупроводников.
17. Способ по п.16, в котором полимерные материалы содержат полимер, отверждаемый посредством химически активного излучения.
18. Способ по п.17, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
19. Способ по п.17, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
20. Способ формирования интегрального оптического волновода со структурированной верхней оболочкой, содержащий следующие этапы:
a) осаждения слоя сердцевины на подложке;
b) структурирования слоя сердцевины для обеспечения светопроводящего элемента, в котором светопроводящий элемент содержит волновод с изгибом;
c) осаждения слоя верхней оболочки на светопроводящем элементе, в котором слой верхней оболочки содержит полимерный материал;
d) структурирования слоя верхней оболочки для обеспечения, по меньшей мере, одной области, в которой светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку и в которой волновод имеет поверхность с воздушной оболочкой в области изгиба.
21. Способ по п.20, дополнительно включающий в себя этап
e) осаждения слоя нижней оболочки на подложку, перед осаждением указанного слоя сердцевины на указанной подложке.
22. Способ по п.20, в котором светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку, по меньшей мере, на одной стороне.
23. Способ по п.22, в котором волновод имеет поверхность с воздушной оболочкой на стороне, соответствующей наружной стороне изгиба.
24. Способ по п.20, в котором часть верхней оболочки совпадает с частью светопроводящего элемента.
25. Способ по п.20, в котором верхняя часть светопроводящего элемента имеет воздушную оболочку.
26. Способ по п.20, в котором полимерный материал содержит термически отверждаемый полимер.
27. Способ по п.26, в котором термически отверждаемый полимер представляет собой силоксановый полимер.
28. Способ по п.20, в котором полимерный материал содержит полимер, отверждаемый посредством химически активного излучения.
29. Способ по п.28, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
30. Способ по п.28, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
31. Способ по п.20, в котором слой верхней оболочки структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника тепла, а неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
32. Способ по п.20, в котором слой верхней оболочки структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника ультрафиолетового света, а неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
33. Способ по п.20, в котором подложка содержит кремний, кварц, аморфную окись кремния, стекло или полимерный материал.
34. Способ по п.33, в котором полимерный материал включает в себя акрилат, Perspex, полиметилметакрилат, поликарбонат, полиэстер, полиэтилентерефталат или PET.
35. Способ по п.21, в котором слой нижней оболочки и светопроводящий элемент содержит материалы, выбранные из полимерных материалов, стекла и полупроводников.
36. Способ по п.35, в котором полимерный материал содержит полимер, отверждаемый посредством химически активного излучения.
37. Способ по п.36, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
38. Способ по п.36, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
39. Интегральный оптический волновод со структурированной верхней оболочкой, содержащий
подложку;
светопроводящий элемент, содержащий волновод и линзу в виде монолитного тела;
верхнюю оболочку, структурированную для обеспечения, по меньшей мере, одной области, в которой светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку; и
в котором линза имеет искривленную поверхность с воздушной оболочкой, по существу перпендикулярной подложке, и фокусирует свет в плоскости, параллельной подложке.
40. Интегральный оптический волновод по п.39, дополнительно содержащий слой нижней оболочки между подложкой и светопроводящим элементом.
41. Интегральный оптический волновод по п.39, в котором светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку, по меньшей мере, на одном торце.
42. Интегральный оптический волновод по п.39, в котором часть верхней оболочки совпадает с частью светопроводящего элемента.
43. Интегральный оптический волновод по п.39, в котором верхняя часть светопроводящего элемента имеет воздушную оболочку.
44. Интегральный оптический волновод по п.39, в котором верхняя оболочка содержит полимерный материал.
45. Интегральный оптический волновод по п.44, в котором полимерный материал содержит термически отверждаемый полимер.
46. Интегральный оптический волновод по п.45, в котором термически отверждаемый полимер представляет собой силоксановый полимер.
47. Интегральный оптический волновод по п.44, в котором полимерный материал содержит полимер, отверждаемый посредством химически активного излучения.
48. Интегральный оптический волновод по п.47, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
49. Интегральный оптический волновод по п.47, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
50. Интегральный оптический волновод по п.39, в котором верхняя оболочка структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника тепла, а неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
51. Интегральный оптический волновод по п.39, в котором верхняя оболочка структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника ультрафиолетового света, а неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
52. Интегральный оптический волновод по п.39, в котором подложка содержит кремний, кварц, аморфную окись кремния, стекло или полимерный материал.
53. Интегральный оптический волновод по п.52, в котором полимерный материал включает в себя акрилат, Perspex, полиметилметакрилат, поликарбонат, полиэстер, полиэтилентерефталат или PET.
54. Интегральный оптический волновод по п.40, в котором слой нижней оболочки и светопроводящий элемент содержат материалы, выбранные из полимерных материалов, стекла и полупроводников.
55. Интегральный оптический волновод по п.54, в котором полимерные материалы содержат полимеры, отверждаемые посредством химически активного излучения.
56. Интегральный оптический волновод по п.55, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
57. Интегральный оптический волновод по п.55, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
58. Интегральный оптический волновод со структурированной верхней оболочкой, содержащий
подложку;
светопроводящий элемент, содержащий волновод с изгибом; и
верхнюю оболочку, структурированную для обеспечения, по меньшей мере, одной области, в которой светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку, в котором верхняя оболочка содержит полимерный материал; и
в котором волновод имеет поверхность с воздушной оболочкой в области изгиба.
59. Интегральный оптический волновод по п.58, дополнительно содержащий слой нижней оболочки между подложкой и светопроводящим элементом.
60. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором светопроводящий элемент имеет воздушную оболочку, по меньшей мере, на одной стороне.
61. Интегральный оптический волновод по п.60, в котором волновод имеет поверхность с воздушной оболочкой на стороне, соответствующей наружной стороне изгиба.
62. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором часть верхней оболочки совпадает с частью светопроводящего элемента.
63. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором верхняя часть светопроводящего элемента имеет воздушную оболочку.
64. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором полимерный материал содержит термически отверждаемый полимер.
65. Интегральный оптический волновод по п.64, в котором термически отверждаемый полимер представляет собой силоксановый полимер.
66. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором полимерный материал содержит полимер, отверждаемый посредством химически активного излучения.
67. Интегральный оптический волновод по п.66, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
68. Интегральный оптический волновод по п.66, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
69. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором верхняя оболочка структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника тепла, а неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
70. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором верхняя оболочка структурируется посредством селективного отверждения с помощью структурированного источника ультрафиолетового света, а неотвержденный материал растворяется с помощью растворителя, при этом отвержденный материал не является растворимым в растворителе.
71. Интегральный оптический волновод по п.58, в котором подложка содержит кремний, кварц, аморфную окись кремния, стекло, или полимерный материал.
72. Интегральный оптический волновод по п.71, в котором полимерный материал включает в себя акрилат, Perspex, полиметилметакрилат, поликарбонат, полиэстер, полиэтилентерефталат или PET.
73. Интегральный оптический волновод по п.59, в котором слой нижней оболочки и светопроводящий элемент содержат материалы, выбранные из полимерных материалов, стекла и полупроводников.
74. Интегральный оптический волновод по п.72, в котором полимерный материал содержит полимеры, отверждаемые посредством химически активного излучения.
75. Интегральный оптический волновод по п.74, в котором химически активное излучение представляет собой ультрафиолетовый свет.
76. Интегральный оптический волновод по п.74, в котором полимерный материал представляет собой силоксановый полимер.
77. Способ изготовления устройства оптического волновода со структурированной верхней оболочкой, содержащий следующие этапы:
a) формирования структурированного блокирующего слоя, непрозрачного для предварительно определенной длины волны, на части подложки, прозрачной для предварительно определенной длины волны;
b) осаждения слоя сердцевины на указанном структурированном блокирующем слое и/или на непокрытой части подложки;
c) структурирования слоя сердцевины сверху для обеспечения светопроводящего элемента;
d) осаждения слоя верхней оболочки, который содержит материал, отверждаемый посредством экспонирования для света предварительно определенной длины волны, на светопроводящем элементе и/или на структурированном блокирующем слое, и/или на непокрытой части подложки;
e) облучения указанного слоя верхней оболочки снизу светом предварительно определенной длины волны, для отверждения тех частей указанного слоя верхней оболочки, которые не размещаются над указанным структурированным блокирующим слоем; и
f) удаления неотвержденных частей указанного слоя верхней оболочки.
78. Способ изготовления устройства оптического волновода со структурированной верхней оболочкой, содержащий следующие этапы:
a) формирования структурированного блокирующего слоя, непрозрачного для предварительно определенной длины волны, на части подложки, прозрачной для предварительно определенной длины волны;
b) осаждения слоя нижней оболочки на указанном блокирующем слое и/или на непокрытой части указанной подложки;
c) осаждения слоя сердцевины на указанном слое нижней оболочки;
d) структурирования слоя сердцевины сверху для обеспечения светопроводящего элемента;
e) осаждение слоя верхней оболочки, который содержит материал, отверждаемый посредством экспонирования для света предварительно определенной длины волны, на указанном светопроводящем элементе и/или на непокрытой части указанной нижней оболочки;
f) облучения указанного слоя верхней оболочки снизу с помощью света предварительно определенной длины волны, для отверждения тех частей указанного слоя верхней оболочки, которые не расположены над указанным структурированным блокирующим слоем; и
g) удаления неотвержденных частей указанного слоя верхней оболочки.
79. Способ по п.77, в котором подложка содержит кремний, кварц, аморфную окись кремния, стекло, или полимерный материал.
80. Способ по п.79, в котором полимерный материал включает в себя акрилат, Perspex, полиметилметакрилат, поликарбонат, полиэстер, полиэтилентерефталат или PET.
81. Способ по п.77, в котором структурированный блокирующий слой формируется с помощью трафаретной печати.
82. Способ по п.76, в котором слой верхней оболочки содержит полимер, отверждаемый посредством экспонирования для света предварительно определенной длины волны.
83. Способ по п.82, в котором предварительно определенная длина волны находится в ультрафиолетовой области.
84. Способ по п.82, в котором полимер представляет собой силоксановый полимер.
85. Способ по п.77, в котором структурированный блокирующий слой содержит соединение, которое поглощает свет предварительно определенной длины волны.
86. Способ по п.77, в котором структурированный блокирующий слой содержит структуру рассеивающих поверхностей, в котором рассеивающие поверхности рассеивают свет предварительно определенной длины волны, эффективно блокируя прохождение указанного света.
87. Способ по п.86, в котором рассеивающие поверхности получают посредством механического истирания.
88. Способ по п.86, в котором рассеивающие поверхности получают посредством химического травления.
89. Способ изготовления устройства оптического волновода со структурированной верхней оболочкой, содержащей следующие этапы:
a) осаждения слоя нижней оболочки на подложку, прозрачную для света предварительно определенной длины волны;
b) формирования структурированного блокирующего слоя, непрозрачного для света, имеющего предварительно определенную длину волны, на указанном слое нижней оболочки;
c) осаждения слоя сердцевины на указанном блокирующем слое и/или на непокрытой части нижнего слоя оболочки;
d) структурирования слоя сердцевины сверху для обеспечения светопроводящего элемента;
e) осаждения слоя верхней оболочки, который содержит материал, отверждаемый посредством экспонирования для света предварительно определенной длины волны, на указанном светопроводящем элементе и/или на указанном блокирующем слое, и/или на указанном слое нижней оболочки;
f) облучения указанного слоя верхней оболочки снизу светом предварительно определенной длины волны, для отверждения тех частей указанного слоя верхней оболочки, которые не размещаются над указанным структурированным блокирующим слоем; и
g) удаления неотвержденных частей указанного слоя верхней оболочки.
90. Способ по п.89, дополнительно содержащий этапы:
i) формирования отслаиваемого слоя после формирования структурированного блокирующего слоя и перед осаждением слоя нижней оболочки; и
ii) удаления отслаиваемого слоя после удаления неотвержденных частей указанного слоя верхней оболочки, для отделения слоя нижней оболочки, светопроводящего элемента и структурированного слоя верхней оболочки от подложки.
91. Способ по п.89, дополнительно содержащий этапы:
i) формирования отслаиваемого слоя на подложке перед осаждением слоя нижней оболочки; и
ii) удаления отслаиваемого слоя после удаления неотвержденных частей указанного слоя верхней оболочки, для отделения слоя нижней оболочки, структурированного блокирующего слоя, светопроводящего элемента и структурированного слоя верхней оболочки от подложки.
92. Способ по п.89, в котором подложка содержит кремний, кварц, аморфную окись кремния, стекло, или полимерный материал.
93. Способ по п.92, в котором полимерный материал включает в себя акрилат, Perspex, полиметилметакрилат, поликарбонат, полиэстер, полиэтилентерефталат или PET.
RU2006104847/28A 2003-10-27 2004-10-14 Планарный волновод со структурированной оболочкой и способ его изготовления RU2006104847A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/694,928 US7218812B2 (en) 2003-10-27 2003-10-27 Planar waveguide with patterned cladding and method for producing the same
US10/694,928 2003-10-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2006104847A true RU2006104847A (ru) 2007-09-10

Family

ID=34522677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2006104847/28A RU2006104847A (ru) 2003-10-27 2004-10-14 Планарный волновод со структурированной оболочкой и способ его изготовления

Country Status (10)

Country Link
US (3) US7218812B2 (ru)
EP (1) EP1678534A4 (ru)
JP (2) JP4732356B2 (ru)
KR (3) KR20110117271A (ru)
CN (3) CN101339272B (ru)
AU (1) AU2004283319B2 (ru)
BR (1) BRPI0413673A (ru)
CA (1) CA2536130C (ru)
RU (1) RU2006104847A (ru)
WO (1) WO2005040873A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2487084C1 (ru) * 2012-05-03 2013-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" Способ получения планарного волновода оксида цинка в ниобате лития

Families Citing this family (91)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI289708B (en) 2002-12-25 2007-11-11 Qualcomm Mems Technologies Inc Optical interference type color display
KR100448968B1 (ko) * 2002-12-31 2004-09-18 삼성전자주식회사 광결합 소자의 제작 방법, 광결합 소자, 광결합 소자조립체 및 광결합 소자를 이용한 렌즈 결합형 광섬유
US7218812B2 (en) * 2003-10-27 2007-05-15 Rpo Pty Limited Planar waveguide with patterned cladding and method for producing the same
JP2007010692A (ja) * 2003-11-05 2007-01-18 Hitachi Chem Co Ltd 光導波路及びその製造方法
US7509011B2 (en) * 2004-01-15 2009-03-24 Poa Sana Liquidating Trust Hybrid waveguide
US7342705B2 (en) 2004-02-03 2008-03-11 Idc, Llc Spatial light modulator with integrated optical compensation structure
TWI294258B (en) * 2004-08-03 2008-03-01 Rohm & Haas Elect Mat Methods of forming devices having optical functionality
US7750886B2 (en) 2004-09-27 2010-07-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods and devices for lighting displays
US7807488B2 (en) 2004-09-27 2010-10-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display element having filter material diffused in a substrate of the display element
US7561323B2 (en) * 2004-09-27 2009-07-14 Idc, Llc Optical films for directing light towards active areas of displays
AU2005299243A1 (en) * 2004-10-25 2006-05-04 Rpo Pty Limited Planar lenses for integrated optics
KR100705759B1 (ko) * 2005-01-17 2007-04-10 한국과학기술원 직접 광패터닝에 의한 평판형 멀티모드 광도파로 제조방법
US7603001B2 (en) * 2006-02-17 2009-10-13 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and apparatus for providing back-lighting in an interferometric modulator display device
US7551814B1 (en) 2006-02-21 2009-06-23 National Semiconductor Corporation Optical detection of user interaction based on external light source
KR20090007776A (ko) * 2006-05-01 2009-01-20 알피오 피티와이 리미티드 광학 터치스크린용 도파로 물질
US7811640B2 (en) * 2006-05-02 2010-10-12 Rpo Pty Limited Methods for fabricating polymer optical waveguides on large area panels
US7766498B2 (en) 2006-06-21 2010-08-03 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Linear solid state illuminator
US7845841B2 (en) * 2006-08-28 2010-12-07 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Angle sweeping holographic illuminator
US8872085B2 (en) 2006-10-06 2014-10-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display device having front illuminator with turning features
EP2366943B1 (en) 2006-10-06 2013-04-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Optical loss structure integrated in an illumination apparatus of a display
US7855827B2 (en) 2006-10-06 2010-12-21 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Internal optical isolation structure for integrated front or back lighting
US8107155B2 (en) 2006-10-06 2012-01-31 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for reducing visual artifacts in displays
US7864395B2 (en) 2006-10-27 2011-01-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light guide including optical scattering elements and a method of manufacture
US20080106527A1 (en) * 2006-11-06 2008-05-08 Rpo Pty Limited Waveguide Configurations for Minimising Substrate Area
JP4950676B2 (ja) * 2007-01-18 2012-06-13 リンテック株式会社 回路基板の製造方法
JP2008181411A (ja) * 2007-01-25 2008-08-07 Nitto Denko Corp タッチパネル用光導波路
US7777954B2 (en) 2007-01-30 2010-08-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods of providing a light guiding layer
US7733439B2 (en) * 2007-04-30 2010-06-08 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Dual film light guide for illuminating displays
JP4875537B2 (ja) * 2007-05-08 2012-02-15 日東電工株式会社 光導波路の製造方法
JP4735599B2 (ja) 2007-05-08 2011-07-27 日立電線株式会社 光ファイバ実装導波路素子及びその製造方法
US7444042B1 (en) 2007-05-25 2008-10-28 National Semiconductor Corporation Optical switch
AT505533A1 (de) * 2007-08-14 2009-02-15 Austria Tech & System Tech Verfahren zur herstellung von in einem auf einem träger aufgebrachten, insbesondere flexiblen polymermaterial ausgebildeten, optischen wellenleitern sowie leiterplatte und verwendung
JP4845851B2 (ja) * 2007-10-23 2011-12-28 日東電工株式会社 タッチパネル用光導波路およびそれを用いたタッチパネル
US8562770B2 (en) 2008-05-21 2013-10-22 Manufacturing Resources International, Inc. Frame seal methods for LCD
US8068710B2 (en) 2007-12-07 2011-11-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Decoupled holographic film and diffuser
CA2711858C (en) 2008-01-11 2015-04-28 Opdi Technologies A/S A touch-sensitive device
JP5275634B2 (ja) * 2008-01-17 2013-08-28 古河電気工業株式会社 光集積素子および光集積素子の製造方法
US8721149B2 (en) 2008-01-30 2014-05-13 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination device having a tapered light guide
EP2247978A4 (en) 2008-01-30 2012-12-26 Qualcomm Mems Technologies Inc THIN LIGHTING SYSTEM
US8654061B2 (en) 2008-02-12 2014-02-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Integrated front light solution
WO2009102731A2 (en) 2008-02-12 2009-08-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Devices and methods for enhancing brightness of displays using angle conversion layers
US8200051B2 (en) * 2008-03-24 2012-06-12 Nitto Denko Corporation Apparatus using waveguide, optical touch panel, and method of fabricating waveguide
WO2009129264A1 (en) 2008-04-15 2009-10-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light with bi-directional propagation
US9573346B2 (en) 2008-05-21 2017-02-21 Manufacturing Resources International, Inc. Photoinitiated optical adhesive and method for using same
CN102047155B (zh) * 2008-05-28 2013-04-03 高通Mems科技公司 具有光转向微结构的光导面板、其制造方法和显示装置
JP5007280B2 (ja) * 2008-07-10 2012-08-22 日東電工株式会社 タッチパネル用光導波路の製法およびそれによって得られたタッチパネル用光導波路
JP5210074B2 (ja) * 2008-07-29 2013-06-12 日東電工株式会社 ３次元センサ用光導波路およびそれを用いた３次元センサ
US20100051089A1 (en) * 2008-09-02 2010-03-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light collection device with prismatic light turning features
US8358266B2 (en) 2008-09-02 2013-01-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Light turning device with prismatic light turning features
JP2010066667A (ja) * 2008-09-12 2010-03-25 Nitto Denko Corp 光導波路装置の製造方法
EP2351464A4 (en) * 2008-10-10 2013-10-09 Qualcomm Mems Technologies Inc DECENTRALIZED LIGHTING CONTROL SYSTEM
JP5492899B2 (ja) * 2008-10-10 2014-05-14 クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 分配型照明システム
EP2387690A1 (en) 2009-01-13 2011-11-23 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Large area light panel and screen
US9778188B2 (en) * 2009-03-11 2017-10-03 Industrial Technology Research Institute Apparatus and method for detection and discrimination molecular object
US8979349B2 (en) 2009-05-29 2015-03-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination devices and methods of fabrication thereof
US20100302802A1 (en) * 2009-05-29 2010-12-02 QUALCOMM MEMS Tecnologies, Inc. Illumination devices
JP2012529081A (ja) 2009-06-03 2012-11-15 マニュファクチャリング・リソーシズ・インターナショナル・インコーポレーテッド Ｌｅｄバックライトの動的減光
JP2010282080A (ja) * 2009-06-05 2010-12-16 Nitto Denko Corp 光導波路の製造方法
US20110169428A1 (en) * 2010-01-08 2011-07-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Edge bar designs to mitigate edge shadow artifact
US9482615B2 (en) * 2010-03-15 2016-11-01 Industrial Technology Research Institute Single-molecule detection system and methods
US8848294B2 (en) 2010-05-20 2014-09-30 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and structure capable of changing color saturation
US8865078B2 (en) 2010-06-11 2014-10-21 Industrial Technology Research Institute Apparatus for single-molecule detection
US8865077B2 (en) 2010-06-11 2014-10-21 Industrial Technology Research Institute Apparatus for single-molecule detection
US8402647B2 (en) 2010-08-25 2013-03-26 Qualcomm Mems Technologies Inc. Methods of manufacturing illumination systems
US8902484B2 (en) 2010-12-15 2014-12-02 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Holographic brightness enhancement film
JP2012160163A (ja) * 2011-01-12 2012-08-23 Nitto Denko Corp タッチパネル用光導波路およびそれを用いたタッチパネル
KR20120116674A (ko) * 2011-04-13 2012-10-23 한국전자통신연구원 도파로형 고밀도 광 매트릭스 스위치
US8649645B2 (en) 2011-06-10 2014-02-11 Xyratex Technology Limited Optical waveguide and a method of fabricating an optical waveguide
WO2014158642A1 (en) 2013-03-14 2014-10-02 Manufacturing Resources International, Inc. Rigid lcd assembly
US9690137B2 (en) 2013-07-03 2017-06-27 Manufacturing Resources International, Inc. Airguide backlight assembly
US9874690B2 (en) 2013-10-04 2018-01-23 Globalfoundries Inc. Integrated waveguide structure with perforated chip edge seal
US10191212B2 (en) 2013-12-02 2019-01-29 Manufacturing Resources International, Inc. Expandable light guide for backlight
US10527276B2 (en) 2014-04-17 2020-01-07 Manufacturing Resources International, Inc. Rod as a lens element for light emitting diodes
KR101529524B1 (ko) * 2014-08-18 2015-06-17 한국야금 주식회사 절삭 인서트 및 이를 장착하는 공구 홀더
JP2016066176A (ja) * 2014-09-24 2016-04-28 日東電工株式会社 位置センサ
US10649273B2 (en) 2014-10-08 2020-05-12 Manufacturing Resources International, Inc. LED assembly for transparent liquid crystal display and static graphic
CN104459880A (zh) * 2014-12-30 2015-03-25 中国科学院半导体研究所 一种端面透镜化的平面光波导
US10261362B2 (en) 2015-09-01 2019-04-16 Manufacturing Resources International, Inc. Optical sheet tensioner
US10203461B2 (en) * 2015-09-04 2019-02-12 Raytheon Company Techniques for forming waveguides for use in laser systems or other systems and associated devices
CN105278010B (zh) * 2015-09-25 2017-01-11 河南仕佳光子科技股份有限公司 二氧化硅微透镜的制造方法
CN110770616B (zh) * 2017-02-27 2021-02-05 罗格斯(新泽西州立)大学 基于集成非球面半透镜的超紧凑平面模式尺寸转换器
EP4350405A2 (en) * 2017-06-16 2024-04-10 Kyocera Corporation Optical connector module
JP2019045750A (ja) * 2017-09-05 2019-03-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US10511135B2 (en) 2017-12-19 2019-12-17 Raytheon Company Laser system with mechanically-robust monolithic fused planar waveguide (PWG) structure
US20220113464A1 (en) * 2018-09-17 2022-04-14 Ams Sensors Singapore Pte. Ltd. Optical light guides and methods of manufacturing the same
JP2020098283A (ja) * 2018-12-18 2020-06-25 日本電信電話株式会社 光導波路とその製造方法
US20230393129A1 (en) * 2020-11-26 2023-12-07 National University Corporation Saitama University Immunochromatographic kit for fluorescent immunochromatography and housing case comprising immunochromatographic kit
CN112612078B (zh) * 2020-12-18 2023-02-10 海南师范大学 一种基于goi或soi上的高效耦合波导及其制备方法
US11740415B2 (en) * 2021-05-14 2023-08-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Structures and process flow for integrated photonic-electric IC package by using polymer waveguide
CN113406745A (zh) * 2021-08-19 2021-09-17 江苏铌奥光电科技有限公司 一种波导到光纤三维聚合物水平透镜耦合器
US20230296834A1 (en) * 2022-03-18 2023-09-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Photonic device and methods of forming same

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4262996A (en) 1979-05-29 1981-04-21 Rockwell International Corporation Chirp-grating lens for guided-wave optics
FR2459986A1 (fr) 1979-06-22 1981-01-16 Commissariat Energie Atomique Lentille de fresnel integree
DE3035849A1 (de) 1980-09-23 1982-05-06 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Planare wellenleiter-bragg-linse
FR2491632A1 (fr) 1980-10-08 1982-04-09 Commissariat Energie Atomique Lentille de fresnel integree et son procede de fabrication
JPS57114109A (en) * 1980-12-30 1982-07-15 Dainippon Printing Co Ltd Production of light transmission line sheet
JPS5965808A (ja) * 1982-10-06 1984-04-14 Omron Tateisi Electronics Co 光導波路の製造方法
FR2633401B1 (fr) * 1988-06-24 1990-10-05 Labo Electronique Physique Dispositif semiconducteur comprenant un guide de lumiere integre qui presente au moins une partie rectiligne et une partie courbe
US5253319A (en) 1992-02-24 1993-10-12 Corning Incorporated Planar optical waveguides with planar optical elements
DE4206328A1 (de) 1992-02-29 1993-09-02 Sel Alcatel Ag Verfahren zur herstellung optoelektronischer bauelemente
JPH05297244A (ja) * 1992-04-17 1993-11-12 Victor Co Of Japan Ltd 光導波路
US5265177A (en) * 1992-05-08 1993-11-23 At&T Bell Laboratories Integrated optical package for coupling optical fibers to devices with asymmetric light beams
US5342877A (en) * 1992-07-06 1994-08-30 Eastman Chemical Company Blends of polyesters and alkylhydroxy (meth)acrylate compounds
EP0678196B1 (en) * 1993-01-08 2002-04-10 Massachusetts Institute Of Technology Low-loss optical and optoelectronic integrated circuits
JP2671764B2 (ja) * 1993-07-19 1997-10-29 日本電気株式会社 導波路型光デバイスの光導波路と光半導体素子の結合構造
US5432877A (en) * 1994-06-03 1995-07-11 Photonic Integration Research, Inc. Integrated optical circuit having a waveguide end of lens geometry, and method for making same
US5719973A (en) 1996-07-30 1998-02-17 Lucent Technologies Inc. Optical waveguides and components with integrated grin lens
KR100219712B1 (ko) * 1997-02-26 1999-09-01 윤종용 저손실 능동광소자 및 그 제조방법
KR100288742B1 (ko) * 1997-03-12 2001-05-02 윤종용 광도파로소자의제조방법
US5850498A (en) 1997-04-08 1998-12-15 Alliedsignal Inc. Low stress optical waveguide having conformal cladding and fixture for precision optical interconnects
JP2000035524A (ja) * 1998-07-21 2000-02-02 Sony Corp 光導波路およびその製造方法
JP2000039531A (ja) 1998-07-22 2000-02-08 Sony Corp 光信号伝送システムおよびその製造方法
JP2000147289A (ja) * 1998-11-13 2000-05-26 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光導波路およびその製造方法
EP1058135A1 (en) 1999-05-21 2000-12-06 BRITISH TELECOMMUNICATIONS public limited company Planar optical waveguide in silica between double grooves
WO2000072066A1 (en) * 1999-05-21 2000-11-30 British Telecommunications Public Limited Company Arrayed waveguide gratings
US6555288B1 (en) 1999-06-21 2003-04-29 Corning Incorporated Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
US6341189B1 (en) 1999-11-12 2002-01-22 Sparkolor Corporation Lenticular structure for integrated waveguides
JP2002107559A (ja) * 2000-09-27 2002-04-10 Kyocera Corp 光集積回路基板
US6621972B2 (en) * 2000-10-13 2003-09-16 Massachusetts Institute Of Technology Optical waveguides with trench structures
JP4433608B2 (ja) * 2000-12-28 2010-03-17 株式会社トッパンＮｅｃサーキットソリューションズ 光モジュール及びその製造方法
US6807352B2 (en) 2001-02-11 2004-10-19 Georgia Tech Research Corporation Optical waveguides with embedded air-gap cladding layer and methods of fabrication thereof
US6785458B2 (en) 2001-02-11 2004-08-31 Georgia Tech Research Corporation Guided-wave optical interconnections embedded within a microelectronic wafer-level batch package
JP2002258081A (ja) * 2001-02-28 2002-09-11 Fujitsu Ltd 光配線基板、光配線基板の製造方法及び多層光配線
US6690863B2 (en) * 2001-05-17 2004-02-10 Si Optical, Inc. Waveguide coupler and method for making same
JP4665240B2 (ja) * 2001-06-25 2011-04-06 富士通株式会社 光伝送装置
US6922508B2 (en) * 2001-08-17 2005-07-26 Fujitsu Limited Optical switching apparatus with adiabatic coupling to optical fiber
JP2003195075A (ja) * 2001-12-26 2003-07-09 Jsr Corp 光導波路
JP3665967B2 (ja) 2002-09-30 2005-06-29 日本航空電子工業株式会社 レンズ付き光導波路の作製方法
US6832036B2 (en) * 2002-10-11 2004-12-14 Polyset Company, Inc. Siloxane optical waveguides
US6818721B2 (en) * 2002-12-02 2004-11-16 Rpo Pty Ltd. Process for producing polysiloxanes and use of the same
US7218812B2 (en) * 2003-10-27 2007-05-15 Rpo Pty Limited Planar waveguide with patterned cladding and method for producing the same
US7509011B2 (en) 2004-01-15 2009-03-24 Poa Sana Liquidating Trust Hybrid waveguide

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2487084C1 (ru) * 2012-05-03 2013-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" Способ получения планарного волновода оксида цинка в ниобате лития

Also Published As

Publication number Publication date
US20120033912A1 (en) 2012-02-09
US8994037B2 (en) 2015-03-31
KR20120085943A (ko) 2012-08-01
CN101339271A (zh) 2009-01-07
KR101198444B1 (ko) 2012-11-06
JP4732356B2 (ja) 2011-07-27
US7218812B2 (en) 2007-05-15
US20050089298A1 (en) 2005-04-28
CA2536130C (en) 2014-07-15
KR20110117271A (ko) 2011-10-26
KR20070003755A (ko) 2007-01-05
EP1678534A4 (en) 2009-09-02
CN101339272A (zh) 2009-01-07
EP1678534A1 (en) 2006-07-12
JP2007509372A (ja) 2007-04-12
WO2005040873A1 (en) 2005-05-06
CN1836179A (zh) 2006-09-20
CN100416320C (zh) 2008-09-03
CN101339272B (zh) 2012-06-20
AU2004283319B2 (en) 2010-02-18
BRPI0413673A (pt) 2006-10-24
JP2011081424A (ja) 2011-04-21
US8021900B2 (en) 2011-09-20
US20070287212A1 (en) 2007-12-13
AU2004283319A1 (en) 2005-05-06
CA2536130A1 (en) 2005-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2006104847A (ru) Планарный волновод со структурированной оболочкой и способ его изготовления
JP3836127B2 (ja) 光ファイバーの、導波路への連結を容易にする高分子ミクロ構造体
US6488414B1 (en) Optical fiber component with shaped optical element and method of making same
JP2008530317A5 (ru)
Zhao et al. Demonstration of waveguide couplers fabricated using microtransfer molding
US7912332B2 (en) Manufacturing method of optical waveguide device and optical waveguide device obtained thereby
JP2007183468A (ja) ミラー付光導波路の製造方法
US7635555B2 (en) Method for fabricating polymer ridged waveguides by using tilted immersion lithography
JPH06172533A (ja) 光導波路形成用高分子及びポリシロキサン系光導波路の製造方法
JP4453335B2 (ja) 光回路パターン及び高分子光導波路の製造方法
US7702206B2 (en) Optical waveguide and method for manufacturing the same
JP2002202426A (ja) 光導波路の製造方法
US8778452B2 (en) Method of manufacturing optical waveguide
JP2007041122A (ja) ポリマ光導波路の製造方法及びポリマ光導波路、並びにそれを用いた光モジュール
JP2005099514A (ja) 光導波路の製造方法
JPH02134606A (ja) 光軸合せ用ガイド付光デバイス
JP2005221556A (ja) 光導波路の製法
JP2006184298A (ja) 表面に微細な凹凸構造を有する物体の製造方法
US8778451B2 (en) Method of manufacturing optical waveguide
JP5269571B2 (ja) 光導波路の製造方法
JPH08254628A (ja) 光モジュールとその作製方法
KR20060015621A (ko) 중합체 광 도파로 및 광학 장치

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20090130