RU2003130646A - Способ получения алкоголятов тантала и ниобия - Google Patents
Способ получения алкоголятов тантала и ниобия Download PDFInfo
- Publication number
- RU2003130646A RU2003130646A RU2003130646/04A RU2003130646A RU2003130646A RU 2003130646 A RU2003130646 A RU 2003130646A RU 2003130646/04 A RU2003130646/04 A RU 2003130646/04A RU 2003130646 A RU2003130646 A RU 2003130646A RU 2003130646 A RU2003130646 A RU 2003130646A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- niobium
- tantalum
- tacl
- nbcl
- alcohol
- Prior art date
Links
- 239000010955 niobium Substances 0.000 title claims 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title claims 8
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 title claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta+5] WTKKCYNZRWIVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims 2
- GTHATLPXIYYEDD-UHFFFAOYSA-N [Nb+5].[Ta+5] Chemical compound [Nb+5].[Ta+5] GTHATLPXIYYEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 claims 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/68—Preparation of metal alcoholates
- C07C29/70—Preparation of metal alcoholates by converting hydroxy groups to O-metal groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Claims (12)
1. Способ получения ниобий(V)- и тантал(V)алкоголятов формулы
M(OR)5 (I),
причем М означает Nb и Та и
R означает C1-С5-алкил,
посредством взаимодействия NbCl5 или TaCl5 со спиртом формулы
ROH (II),
причем R имеет указанное выше значение,
в присутствии аммиака, отличающийся тем, что NbCl5 или TaCl5 в инертной атмосфере при температуре от 0 до -50°С растворяют в спирте формулы (II), содержащем от 5 до 7 молей аммиака на моль подлежащего превращению NbCl5 или TaCl5.
2. Способ согласно п.1, отличающийся тем, что R означает метил, этил, н-пропил, изо-пропил, н-бутил, изо-бутил или н-пентил.
3. Способ согласно п.1, отличающийся тем, что R означает этил.
4. Способ согласно, по крайней мере, одному из пп.1-3, отличающийся тем, что реакцию проводят при температуре от -10 до -45°С.
5. Способ согласно п.4, отличающийся тем, что реакцию проводят при температуре от -25 до -40°С.
6. Способ согласно, по крайней мере, одному из пп.1-5, отличающийся тем, что используемый спирт формулы (II) содержит от 5,5 до 6 молей аммиака на моль подлежащего превращению NbCl5 или TaCl5.
7. Способ согласно, по крайней мере, одному из пп.1-6, отличающийся тем, что используют от 80 до 90 молей спирта на моль подлежащего превращению NbCl5 или TaCl5.
8. Способ согласно, по крайней мере, одному из пп.1-7, отличающийся тем, что реакционную смесь обрабатывают посредством фильтрации образующегося хлорида аммония при температуре от -25 до -35°С, дистилляции спирта из фильтрата, вторичной фильтрации при температуре от 5 до 0°С и последующей дистилляции при пониженном давлении.
9. Применение полученных согласно, по крайней мере, одному из пп.1-8, ниобий- или тантал(V)алкоголятов в качестве исходных соединений при химическом осаждении из паровой фазы (CVD).
10. Применение полученных согласно, по крайней мере, одному из пп.1-8, ниобий- или тантал(V)алкоголятов для получения катализаторов.
11. Применение полученных согласно, по крайней мере, одному из пп.1-8, ниобий- или тантал(V)алкоголятов для осаждения из растворов ниобий- или танталоксидных пленок, или ниобий- или танталнитридных пленок.
12. Применение полученных согласно, по крайней мере, одному из пп.1-8, ниобий- или тантал(V)алкоголятов для осаждения гомогенных ниобий- или танталовых покрытий посредством центрифугирования, погружения или золь-гелевым методом нанесения покрытий.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10113169A DE10113169A1 (de) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | Verfahren zur Herstellung von Tantal- und Niobalkoholaten |
| DE10113169.0 | 2001-03-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2003130646A true RU2003130646A (ru) | 2005-04-10 |
| RU2297405C2 RU2297405C2 (ru) | 2007-04-20 |
Family
ID=7678014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2003130646/04A RU2297405C2 (ru) | 2001-03-19 | 2002-03-06 | Способ получения алкоголятов тантала и ниобия |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6548685B2 (ru) |
| JP (1) | JP4002956B2 (ru) |
| KR (1) | KR100871001B1 (ru) |
| CN (1) | CN100445250C (ru) |
| AU (1) | AU2002257617A1 (ru) |
| DE (2) | DE10113169A1 (ru) |
| GB (1) | GB2389361B (ru) |
| RU (1) | RU2297405C2 (ru) |
| TW (1) | TW553948B (ru) |
| WO (1) | WO2002074473A2 (ru) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005052444A1 (de) * | 2005-08-27 | 2007-03-01 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung hochreiner Zirkonium-, Hafnium-, Tantal- und Niobalkoxide |
| DE102006043042A1 (de) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von hochreinen Niobalkoxiden |
| US20090134369A1 (en) * | 2007-11-26 | 2009-05-28 | Applied Nanoworks, Inc. | Metal alkoxides, apparatus for manufacturing metal alkoxides, related methods and uses thereof |
| RU2532926C1 (ru) * | 2013-09-12 | 2014-11-20 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный ордена Трудового Красного Знамени научно-исследовательский институт химических реактивов и особо чистых химических веществ", Министерства образования и науки Российской Федерации | Способ получения сверхвысокомолекулярного полиэтилена (свмпэ), модифицированного наноразмерными частицами пентоксида тантала |
| DE102016205229A1 (de) | 2016-03-30 | 2017-10-05 | Evonik Degussa Gmbh | Synthese von Alkylammoniumsalzen durch Umsetzung von Aminen mit organischen Karbonaten als Alkylierungsmittel |
| CN106186066B (zh) * | 2016-07-14 | 2018-03-09 | 上海交通大学 | 一种利用废旧钽电容器制备超细氧化钽的方法 |
| CN107021870B (zh) * | 2016-12-02 | 2020-06-09 | 苏州复纳电子科技有限公司 | 一种铌醇盐的合成方法 |
| CN115054931B (zh) * | 2022-08-18 | 2022-10-25 | 稀美资源(广东)有限公司 | 一种用于乙醇钽粗产品的分离设备 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57160915A (en) * | 1981-03-27 | 1982-10-04 | Nippon Soda Co Ltd | Composition forming thin tantalum oxide film |
| JPS5895615A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-07 | Nippon Soda Co Ltd | 酸化ニオブ薄膜形成用組成物 |
| US4741894A (en) * | 1986-06-03 | 1988-05-03 | Morton Thiokol, Inc. | Method of producing halide-free metal and hydroxides |
| JP2831431B2 (ja) * | 1990-04-10 | 1998-12-02 | 株式会社ジャパンエナジー | 高純度金属アルコキサイドの製造方法 |
| JPH04362017A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-15 | Nikko Kyodo Co Ltd | 配向性Ｔａ２Ｏ５薄膜の作製方法 |
| US5858323A (en) * | 1996-01-08 | 1999-01-12 | Sandia Corporation | Sol-gel preparation of lead magnesium niobate (PMN) powders and thin films |
| JP3082027B2 (ja) * | 1996-11-08 | 2000-08-28 | 株式会社高純度化学研究所 | ニオブアルコキシドおよびタンタルアルコキシドの 精製方法 |
| JP3911740B2 (ja) * | 1996-11-18 | 2007-05-09 | 昭和電工株式会社 | タンタルアルコキシドの製造方法 |
| JP2000237588A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-05 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 排ガス浄化用触媒担体の製造方法 |
-
2001
- 2001-03-19 DE DE10113169A patent/DE10113169A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-03-06 DE DE10291037T patent/DE10291037B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-06 CN CNB028065476A patent/CN100445250C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-06 RU RU2003130646/04A patent/RU2297405C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-03-06 KR KR1020037012141A patent/KR100871001B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-03-06 AU AU2002257617A patent/AU2002257617A1/en not_active Abandoned
- 2002-03-06 JP JP2002573174A patent/JP4002956B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-06 GB GB0322019A patent/GB2389361B/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-06 WO PCT/EP2002/002428 patent/WO2002074473A2/de active Application Filing
- 2002-03-15 US US10/098,639 patent/US6548685B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-18 TW TW091105014A patent/TW553948B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4002956B2 (ja) | 2007-11-07 |
| GB0322019D0 (en) | 2003-10-22 |
| KR100871001B1 (ko) | 2008-11-27 |
| US6548685B2 (en) | 2003-04-15 |
| US20020143200A1 (en) | 2002-10-03 |
| AU2002257617A1 (en) | 2002-10-03 |
| GB2389361A (en) | 2003-12-10 |
| DE10291037B4 (de) | 2008-03-20 |
| CN1537089A (zh) | 2004-10-13 |
| WO2002074473A3 (de) | 2004-04-01 |
| GB2389361B (en) | 2004-09-15 |
| DE10113169A1 (de) | 2002-09-26 |
| DE10291037D2 (de) | 2004-01-22 |
| RU2297405C2 (ru) | 2007-04-20 |
| TW553948B (en) | 2003-09-21 |
| CN100445250C (zh) | 2008-12-24 |
| JP2005503334A (ja) | 2005-02-03 |
| KR20040015069A (ko) | 2004-02-18 |
| WO2002074473A2 (de) | 2002-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100347974B1 (ko) | 올레핀중합용성분및촉매 | |
| US8952188B2 (en) | Group 4 metal precursors for metal-containing films | |
| RU2003130646A (ru) | Способ получения алкоголятов тантала и ниобия | |
| EP0999215B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen | |
| JP2776782B2 (ja) | アルキルイミダゾリドン（メタ）アクリレートの合成方法 | |
| US4837190A (en) | Organic solvent soluble polyvalent metal alkoxy alkoxides | |
| JPH04330063A (ja) | アルキルイミダゾリドン（メタ）アクリレートの製造方法 | |
| EA027921B1 (ru) | Способ получения медетомидина с использованием хлорацетона | |
| JP2013144688A (ja) | 高純度ジルコニウム、ハフニウム、タンタル及びニオブアルコキサイドの製造方法 | |
| KR970002227B1 (ko) | 알킬 아미다졸리돈(메트) 아크릴레이트의 제조방법 | |
| CA1248124A (en) | Synthesis of vinyl esters | |
| US6008371A (en) | Process for the preparation of (meth)acrylic acid esters | |
| US6603033B2 (en) | Organotitanium precursors for chemical vapor deposition and manufacturing method thereof | |
| US6054600A (en) | Non-toxic solvent soluble group IV and V metal acid salt complexes using polyether acid anhydrides | |
| JP2003113165A (ja) | アルキルイミダゾリドン（メタ）アクリレートの調製方法 | |
| US4891439A (en) | Alcohol-free orthoesters of zirconium and hafnium and method for the preparation thereof | |
| EP0392509A1 (en) | 3-(2-Oxo-1-pyrrolidinyl)-propyl-silanes and method for preparing the silane compounds | |
| EP0070618A1 (en) | Asymmetric epoxidation process | |
| US9790238B2 (en) | Strontium precursor, method for preparing same, and method for forming thin film by using same | |
| JPH05230079A (ja) | 有機酸チタン化合物及びその製造方法 | |
| RU2215745C2 (ru) | Способ получения триалкиларсенитов в условиях межфазного катализа | |
| JP2956356B2 (ja) | 鉛含有ペロブスカイト構造複合酸化物強誘電体薄膜、その製法及び材料 | |
| GB2355262A (en) | Strontium beta-diketonate preparation | |
| JPH085902B2 (ja) | メチル−テキシル−ジメトキシシラン | |
| SU902428A1 (ru) | Биметаллические алкогол ты иттри и циркони и способ их получени |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20120307 |