RU2000122450A - Кремнегерманиевый кристалл - Google Patents

Кремнегерманиевый кристалл

Info

Publication number
RU2000122450A
RU2000122450A RU2000122450/12A RU2000122450A RU2000122450A RU 2000122450 A RU2000122450 A RU 2000122450A RU 2000122450/12 A RU2000122450/12 A RU 2000122450/12A RU 2000122450 A RU2000122450 A RU 2000122450A RU 2000122450 A RU2000122450 A RU 2000122450A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
crystal
range
paragraphs
lies
crystal according
Prior art date
Application number
RU2000122450/12A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2206643C2 (ru
Inventor
Такао АБЕ
Итиро ЕНЕНАГА
Тецуя ИГАРАСИ
Original Assignee
Син-Етцу Хандотай Ко., Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Син-Етцу Хандотай Ко., Лтд. filed Critical Син-Етцу Хандотай Ко., Лтд.
Publication of RU2000122450A publication Critical patent/RU2000122450A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2206643C2 publication Critical patent/RU2206643C2/ru

Links

Claims (1)

1. SixGe1-x (0<х<1) кристалл, отличающийся тем, что кристаллические зерна, образующие кристалл, имеют объем 5•10-5 мм3 и более.
2. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по п. 1, отличающийся тем, что кристалл изготовлен методом вытягивания.
3. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по п. 1 или 2, отличающийся тем, что абсолютное значение зеебековского коэффициента кристалла лежит в интервале от 100 до 700 μв/K.
4. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по п. 1 или 2, отличающийся тем, что значение удельной теплопроводности кристалла лежит в интервале от 1 до 20 вт/м•К.
5. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по п. 1 или 2, отличающийся тем, что значение удельной электропроводности кристалла лежит в интервале от 101 до 105 вт/ом•м.
6. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по п. 1 или 2, отличающийся тем, что кристалл имеет абсолютное значение зеебековского коэффициента в интервале от 100 до 700 μв/K, значение удельной теплопроводности в интервале от 1 до 20 вт/м•К и значение удельной электропроводности в интервале от 101 до 105 вт/ом•м.
7. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по любому одному из пп. 1-6, отличающийся тем, что значение х кристалла лежит в интервале от 0,6 до 0,8.
8. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по любому одному из пп. 1-7, отличающийся тем, что в кристалл введен один элемент из В, Al и Ga.
9. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по любому одному из пп. 1-7, отличающийся тем, что в кристалл введен один элемент из Р, As и Sb.
10. SixGe1-x (0<х<1) кристалл по любому одному из пп. 1-9, отличающийся тем, что кристалл является по существу монокристаллом.
11. Термоэлектрическое устройство, отличающееся тем, что изготовлено с применением SixGe1-x (0<х<1) кристалла, соответствующего любому из пп. 1-10.
RU2000122450/12A 1998-11-26 1999-11-05 Кремнегерманиевый кристалл RU2206643C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33589498 1998-11-26
JP10/335894 1998-11-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2000122450A true RU2000122450A (ru) 2002-08-20
RU2206643C2 RU2206643C2 (ru) 2003-06-20

Family

ID=18293571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2000122450/12A RU2206643C2 (ru) 1998-11-26 1999-11-05 Кремнегерманиевый кристалл

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6498288B1 (ru)
EP (1) EP1052222B1 (ru)
JP (1) JP3975676B2 (ru)
KR (1) KR100654486B1 (ru)
CN (1) CN1130308C (ru)
DE (1) DE69920662T2 (ru)
RU (1) RU2206643C2 (ru)
WO (1) WO2000030975A1 (ru)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002094131A (ja) * 2000-09-13 2002-03-29 Sumitomo Special Metals Co Ltd 熱電変換素子
CN100459202C (zh) * 2007-07-02 2009-02-04 北京科技大学 一种硅锗系热电材料的制备方法
WO2021002221A1 (ja) * 2019-07-03 2021-01-07 住友電気工業株式会社 熱電変換材料、熱電変換素子、熱電変換モジュールおよび光センサ
RU2739887C1 (ru) * 2020-05-06 2020-12-29 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТЕРМОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА n-ТИПА ПРОВОДИМОСТИ НА ОСНОВЕ ТВЕРДОГО РАСТВОРА Gex-δSi1-xSbδ ПРИ х=0,26-0,36, δ=0,008-0,01

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8431071D0 (en) * 1984-12-08 1985-01-16 Univ Glasgow Alloys
JP2686928B2 (ja) * 1985-08-26 1997-12-08 アンリツ株式会社 シリコン・ゲルマニウム混晶薄膜導電体
JPH04285096A (ja) * 1991-03-12 1992-10-09 Nec Corp Si−Ge単結晶育成法
JP3313412B2 (ja) * 1992-07-07 2002-08-12 徳三 助川 半導体結晶の製造方法および装置
JPH07321323A (ja) * 1994-05-24 1995-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4998897B2 (ja) 熱電変換材料及びその製造方法
Bose et al. Electrocal, thermal, thermoelectric and related properties of magnesium silicide semiconductor prepared from rice husk
WO2002047178A3 (en) Thermoelectric devices
WO2002065030A8 (en) Improved efficiency thermoelectrics utilizing thermal isolation
JP2003533031A5 (ru)
AU2002357242A1 (en) Thermoelectric device with si/sic superlattice n-legs
US5547598A (en) Thermoelectric semiconductor material
RU2000122450A (ru) Кремнегерманиевый кристалл
JP2007013000A (ja) 熱電変換材料と熱電変換素子
Bah et al. A CMOS compatible thermoelectric device made of crystalline silicon membranes with nanopores
JPH11135840A (ja) 熱電変換材料
EP1148558A3 (en) Image sensor integrated circuit package having cooling
JPS6430117A (en) Formation of ceramic superconductor membrane
GB2375433A (en) Semiconductive ceramic positive temperature coefficient thermistor for degaussing degaussing circuit and method for manufacturing semiconductive ceramic
JP2009186223A (ja) 赤外線センサ
JP2510158B2 (ja) 熱電素子およびその製造方法
Rysbaev Producing thermally sensitive structures by ion implantation in silicon
Tang et al. Solid state reaction synthesis of skutterudite compounds Fe (x) Co (4-x) Sb 12 and thermoelectric properties
JP2004063768A (ja) 熱電材料およびその製造方法
WO2000030975A1 (fr) CRISTAL SiGe
JPH0864874A (ja) 熱電素子
Gravesteijn et al. Transport properties of p-Si/SiGe single-modulation-doped heterostructures grown by MBE
JP2005159019A (ja) 熱電モジュール
TWIGG et al. Intrinsically doped III-A and V-A compounds having precipitates of V-A element(Patent)
JPS52135678A (en) Semiconductor device and its productions