PL199174B1 - Sposób wytwarzania kompozycji do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych i sposób usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych - Google Patents
Sposób wytwarzania kompozycji do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych i sposób usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowychInfo
- Publication number
- PL199174B1 PL199174B1 PL366164A PL36616401A PL199174B1 PL 199174 B1 PL199174 B1 PL 199174B1 PL 366164 A PL366164 A PL 366164A PL 36616401 A PL36616401 A PL 36616401A PL 199174 B1 PL199174 B1 PL 199174B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- water
- hydrogen peroxide
- glycolic acid
- systems
- composition
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 188
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 132
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 24
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 212
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 192
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 183
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 49
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 26
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 27
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 claims description 21
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 20
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 20
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 claims description 16
- 241000233866 Fungi Species 0.000 claims description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 14
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 claims description 13
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 11
- 235000013305 food Nutrition 0.000 claims description 11
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 11
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 claims description 11
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 claims description 10
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 claims description 10
- 230000009182 swimming Effects 0.000 claims description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 9
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 9
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 claims description 7
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 229940061720 alpha hydroxy acid Drugs 0.000 claims description 6
- 150000001280 alpha hydroxy acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000013372 meat Nutrition 0.000 claims description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000008267 milk Substances 0.000 claims description 6
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 claims description 6
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 claims description 6
- 244000144977 poultry Species 0.000 claims description 6
- 150000001277 beta hydroxy acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 claims description 5
- 239000008107 starch Substances 0.000 claims description 5
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 4
- 238000003973 irrigation Methods 0.000 claims description 4
- 230000002262 irrigation Effects 0.000 claims description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 claims description 3
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 3
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims 1
- 238000011012 sanitization Methods 0.000 claims 1
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 73
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 39
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 31
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 14
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 14
- 238000007774 anilox coating Methods 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 11
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 10
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 10
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 8
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 8
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 7
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 241000218645 Cedrus Species 0.000 description 5
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 241000195628 Chlorophyta Species 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- -1 but not limited to Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 3
- 230000005791 algae growth Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 3
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 238000007647 flexography Methods 0.000 description 3
- 230000012010 growth Effects 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XNCOSPRUTUOJCJ-UHFFFAOYSA-N Biguanide Chemical compound NC(N)=NC(N)=N XNCOSPRUTUOJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940123208 Biguanide Drugs 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 208000004434 Calcinosis Diseases 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000003619 algicide Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 230000002538 fungal effect Effects 0.000 description 2
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 2
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 2
- 210000003097 mucus Anatomy 0.000 description 2
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 244000045947 parasite Species 0.000 description 2
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 2
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- MJVIZWIQHKRBPI-UHFFFAOYSA-N 1-(aziridin-1-yl)but-3-en-2-ol Chemical compound C=CC(O)CN1CC1 MJVIZWIQHKRBPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014653 Carica parviflora Nutrition 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 241000243321 Cnidaria Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- 229920002522 Wood fibre Polymers 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 238000009395 breeding Methods 0.000 description 1
- 230000001488 breeding effect Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- XHFVDZNDZCNTLT-UHFFFAOYSA-H chromium(3+);tricarbonate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O XHFVDZNDZCNTLT-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000002635 electroconvulsive therapy Methods 0.000 description 1
- 238000011066 ex-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000010310 metallurgical process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000009372 pisciculture Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000013594 poultry meat Nutrition 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000000384 rearing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 235000014347 soups Nutrition 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 239000002025 wood fiber Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/39—Organic or inorganic per-compounds
- C11D3/3947—Liquid compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/265—Carboxylic acids or salts thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Paper (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania kompozycji do usuwania lub rozpuszczania zanie- czyszcze n srodowiskowych, obejmuj acy kontaktowanie nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody. Sposób mo ze obejmowa c dodatkowo kontaktowanie z jednym lub wi ecej dodatkowych sk ladników, takich jak alkohol izopropylowy. Wytworzona kompozycja jest skuteczna do usuwania szerokiej gamy zanieczyszcze n, takich jak zwi azki organiczne, z wielu ró znych o srodków, takich jak systemy drukuj a- ce. Wynalazek dotyczy tak ze sposobu usuwania lub rozpuszczania zanieczyszcze n srodowiskowych z zastosowaniem wytworzonej kompozycji. PL PL PL PL
Description
Wynalazek dotyczy sposobu wytwarzania kompozycji do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych i sposobu usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych. Kompozycja wytwarzana powyższym sposobem ma zdolność do zmniejszania stężenia zanieczyszczeń w środowisku.
Wiadomo, że różnorodne sposoby stosowane do wytwarzania materiałów drukowanych, takie jak procesy drukowania i litografia, wykorzystują różne maszyny, które zawierają szereg części, takich jak rolki, aparaturę do przechowywania i przesyłania cieczy (takie jak przewody i tacki) i inne części ruchome (takie jak koła zębate i podobne). Takie maszyny są zanieczyszczane różnymi substancjami zanieczyszczającymi, takimi jak osady organiczne, osady wapnia, bakterie, grzyby i dodatkowe resztki powstałe wskutek stosowania różnych tuszy opartych na substancjach organicznych i cieczy do drukowania znanych w technice. Należy się liczyć z dużymi trudnościami podczas zmniejszania stężenia, a korzystnie usuwania zanieczyszczeń z róż nych części maszyn częściowo spowodowanymi trudnościami w dostępie do wewnętrznych części tych maszyn.
Dodatkowo, znane jest, że gdy takich zanieczyszczających resztek stale się nie usuwa, takie pozostałości mogą się nawarstwiać i twardnieć z biegiem czasu powodując powstanie resztek trudnych do usunięcia, które mogą powodować występowanie niepożądanych reakcji chemicznych w różnych procesach. Sposoby stosowane dawniej do usuwania takich pozostałości obejmowały usuwanie mechaniczne, które wymagało rozmontowania maszyny, w celu uzyskania dostępu do części, które zawierały takie pozostałości, a następnie usuwanie takich pozostałości sposobami mechanicznymi, takimi jak odbijanie młotkiem, dłutowanie i podobne. Takie sposoby mechaniczne wymagają znacznego czasu przestoju maszyny, pociągają za sobą zwiększone ryzyko dla wyposażenia i wymagają personelu do usuwania tych pozostałości.
Znane jest także, że różne sposoby usuwania takich pozostałości inne niż metody mechaniczne, zwykle obejmują zastosowanie cieczy, takich jak różne rozpuszczalniki i środki powierzchniowo czynne. Jednak takie rozpuszczalniki i środki powierzchniowo czynne nie usuwają całkowicie takich pozostałości. Ponadto, ponieważ takie rozpuszczalniki i środki powierzchniowo czynne nie usuwają pozostałości całkowicie, pozostałości zaczynają się gromadzić, jak to omawiano wyżej.
Tak więc kompozycja i sposób stosowania takiej kompozycji do usuwania zanieczyszczeń z maszyn, takich jak wyposaż enie do drukowania i do litografii, który nie wymagał yby sposobów mechanicznych usuwania takich pozostałości, zapewniając zasadniczo całkowite usuwanie tych pozostałości i pomagał w zabezpieczaniu nagromadzania się pozostałości przyczyniałyby się w znacznym stopniu do technologii i ekonomiki tych prac.
Znane jest także, że szereg procesów przemysłowych stosowanych do wytwarzania wyrobów wykorzystuje różne systemy, takie jak systemy pakowania, systemy fleksograficzne, systemy przetwórstwa żywności, systemy bielące, systemy metalurgiczne, systemy mycia kwaśnego, systemy produktów weterynaryjnych, systemy pestycydowe, systemy przetwórstwa mięsa, systemy przetwórstwa drobiu, systemy przetwórstwa mleka, systemy sanityzacyjne i podobne oraz ich kombinacje, które zawierają wiele części, takich jak koła zębate, rolki i podobne. Takie systemy mogą być zanieczyszczane różnymi zanieczyszczeniami, takimi jak osady organiczne i wapniowe, kleje wapniowe i oparte na skrobi i podobne oraz ich kombinacje. Znane są różne kompozycje do zmniejszania stężenia lub usuwania takich zanieczyszczeń z wykorzystaniem kompozycji, które są trudne do usunięcia do środowiska naturalnego ze względu na przepisy dotyczące środowiska i możliwość znacznego zagrożenia bezpieczeństwa. Tak więc kompozycje użyteczne do usuwania takich zanieczyszczeń z takich układów, które nie byłyby toksyczne, były łatwe do wytworzenia i nadawałyby się do usuwania do środowiska bez kosztownych procedur unieszkodliwiania, przyczyniałyby się w znacznym stopniu do technologii i ekonomiki.
Znane jest także, że szereg procesów przemysłowych stosowanych do wytwarzania wyrobów, takich jak papier i włóknista masa drzewna wykorzystuje różne systemy zawierające wodę. Takie systemy zawierające wodę znajdujemy także w różnych systemach drukowania, systemach obróbki wody, systemach odwadniania, systemach podgrzewania wody, systemach chłodniczych i podobnych. Zastosowanie takich układów zawierających wodę stwarza wiele problemów związanych z obrastaniem takich układów zawierających wodę w różne zanieczyszczenia, takie jak osad, algi (glony), grzyby, bakterie, środki powierzchniowo czynne, różne związki organiczne i podobne. Zanieczyszczenia mogą porastać takie systemy zawierające wodę do takich rozmiarów, że systemy zawierające wodę
PL 199 174 B1 będą wymagały intensywnego czyszczenia w celu usunięcia zanieczyszczeń, co prowadzi do zmniejszenia produkcji wyrobów.
Wiele znanych kompozycji, które mogą być stosowane do zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania takich zanieczyszczeń z układów zawierających wodę, często wykorzystuje chlor. Jednak stosowanie takich kompozycji opartych na chlorze przedstawia sobą zagrożenie dla bezpieczeństwa i środowiska, a ponadto kierowanie do środowiska naturalnego takich produktów wytworzonych za pomocą kompozycji opartych na chlorze wymaga ścisłych ocen środowiskowych i regulacji. Dodatkowo takie kompozycje oparte na chlorze stosowane są często w postaci gazowej, co wymaga zastosowania rozległych procedur bezpieczeństwa i doświadczenia. Tak więc, kompozycja użyteczna do usuwania lub rozpuszczania jednego lub więcej zanieczyszczeń ze środowiska, która zawierałaby układ oparty na wodzie, która nie byłaby toksyczna, była niedroga i łatwa do wytworzenia i stosowania, miałaby znaczną wartość dla technologii i ekonomiki.
Dodatkowo, kompozycje użyteczne do zmniejszania stężenia, korzystnie do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska, które zawierają więcej niż jeden składnik zwykle wymagają aby jeden ze składników był dodawany do środowiska jako pierwszy a następnie dodaje się drugi składnik. Dwa składniki muszą następnie przereagować „in situ dostarczając przez to kompozycji, która może usunąć lub rozpuścić zanieczyszczenia zawarte w środowisku. Takie kompozycje mogą być trudne do stosowania ze względu na to, że trudno jest określić, jak wiele każdego ze składników kompozycji musi być dodane. Tak więc kompozycje użyteczne w zmniejszaniu stężenia, korzystnie do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska a które mogą być wytwarzane „ex situ” w różnych stężeniach, które mogą być dodawane do środowiska w celu usunię cia lub rozpuszczenia zanieczyszczeni przyczyniałyby się w znacznym stopniu do technologii i ekonomiki tych prac.
Dodatkowo kompozycje użyteczne do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska, które mogłyby być wytwarzane z łatwo dostępnych składników i które mogłyby być łatwo wytwarzane z wykorzystaniem minimum oprzyrządowania do wytwarzania, przyczyniałyby się też znacznie do poprawy technologii i ekonomiki tych prac.
Celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie sposobu wytwarzania kompozycji, która jest użyteczna do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania jednego lub więcej zanieczyszczeń ze środowiska. Taki sposób wykorzystuje składniki, które są niezbyt drogie w stosowaniu i łatwe do wytworzenia. Innym celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie prostego i skutecznego sposobu wytwarzania kompozycji o potrzebnych własnościach, takich jak zwiększona zdolność do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska, w porównaniu z kompozycją wytwarzaną innymi sposobami.
Dalszym celem niniejszego wynalazku jest dostarczenie ulepszonego sposobu zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska.
W wykonaniu niniejszego wynalazku otrzymywana jest nowa kompozycja wytwarzana sposobem obejmującym kontaktowanie nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego (powoływanego także jako kwas hydroksyoctowy) i wody.
Inną postacią wykonania niniejszego wynalazku jest sposób wytwarzania nowej kompozycji obejmujący kontaktowanie nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody. Sposób może obejmować dalej kontaktowanie z jednym lub więcej dodatkowych składników, takich jak alkohol izopropylowy .
Nowa kompozycja otrzymana zgodnie z niniejszym wynalazkiem może być stosowana do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania szerokiej gamy zanieczyszczeń z wielu róż norodnych ś rodowisk. Takie zanieczyszczenia mogą obejmować pierwiastki Grupy II układu okresowego pierwiastków, algi (glony), grzyby, bakterie, środki powierzchniowo czynne, żywice naturalne, żywice syntetyczne, związki organiczne, wypełniacze do papieru, filtry papierowe, glinki, siarczyny, siarczany, tlenki, kleje, skrobie i podobne oraz ich kombinacje. Takie środowiska mogą obejmować systemy zawierające wodę, systemy wytwarzania papieru, systemy wytwarzania masy włóknistej (pulpy), systemy drukowania, systemy pakowania, systemy fleksograficzne, systemy przeróbki żywności, systemy bielące, systemy metalurgiczne, systemy mycia kwaśnego, systemy produktów weterynaryjnych, systemy pestycydowe, systemy przetwórstwa mięsa, systemy przetwórstwa drobiu, systemy przetwórstwa mleka, systemy sanityzacyjne i podobne oraz ich kombinacje. Takie systemy zawierające wodę mogą obejmować baseny pływackie, systemy obróbki wody, systemy melioracyjne, systemy podgrzewania wody, systemy chłodni4
PL 199 174 B1 cze, systemy ściekowe, systemy nawadniające, systemy rolnicze, systemy wież chłodniczych i podobne oraz ich kombinacje.
Inne cele i korzyści z niniejszego wynalazku staną się widoczne ze szczegółowego opisu wynalazku i załączonych zastrzeżeń.
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania kompozycji do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych, charakteryzujący się tym, że obejmuje następujące czynności: kontaktuje się nadtlenek wodoru, kwas glikolowy i wodę, przy czym woda jest zawarta w ilości co najmniej 50 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyżej 99,9 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody oraz stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 1 : 1 i najwyż ej 30 : 1.
Korzystnie w sposobie stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 2 : 1 i najwyżej 20 : 1.
Korzystnie w sposobie stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 2 : 1 i najwyżej 10 : 1.
Korzystnie w sposobie nadtlenek wodoru jest zawarty w postaci roztworu nadtlenku wodoru w wodzie, a roztwór nadtlenku wodoru zawiera co najmniej 0,1 procent wagowych nadtlenku wodoru i najwyżej 20 procent wagowych nadtlenku wodoru, zaś kwas glikolowy jest zawarty w postaci roztworu kwasu glikolowego z kwasu glikolowego i wody, przy czym roztwór kwasu glikolowego zawiera co najmniej 1 procent wagowych kwasu glikolowego i najwyżej 15 procent wagowych kwasu glikolowego.
Korzystnie w sposobie nadtlenek wodoru jest zawarty w postaci roztworu nadtlenku wodoru z nadtlenku wodoru w wodzie, a roztwór nadtlenku wodoru zawiera co najmniej 0,5 procent wagowych nadtlenku wodoru i najwyżej 15 procent wagowych nadtlenku wodoru, zaś kwas glikolowy jest zawarty w postaci roztworu kwasu glikolowego z kwasu glikolowego i wody, przy czym roztwór kwasu glikolowego zawiera co najmniej l procent wagowych kwasu glikolowego i najwyżej 10 procent wagowych kwasu glikolowego.
W sposobie korzystnie stosuje się dodatkowo kontaktowanie z alkoholem izopropylowym, przy czym korzystnie alkohol izopropylowy ma czystość co najmniej 99 procent.
W sposobie korzystnie woda jest zawarta w iloś ci co najmniej 60 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyżej 97 procent wagowych w stosunku do cał kowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody.
W sposobie korzystnie nadtlenek wodoru jest zawarty w postaci roztworu nadtlenku wodoru z nadtlenku wodoru w wodzie, a roztwór nadtlenku wodoru zawiera co najmniej 1 procent wagowych nadtlenku wodoru i najwyżej 15 procent wagowych nadtlenku wodoru, zaś kwas glikolowy jest zawarty w postaci roztworu kwasu glikolowego z kwasu glikolowego i wody, przy czym roztwór kwasu glikolowego zawiera co najmniej 1 procent wagowych kwasu glikolowego i najwyżej 5 procent wagowych kwasu glikolowego.
W sposobie korzystnie woda jest zawarta w iloś ci co najmniej 70 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyżej 95 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody.
W sposobie korzystnie stosuje się dodatkowo kontaktowanie ze składnikiem wybranym z grupy składającej się z nadtlenosiarczanu potasu, srebra, kwasów, estrów, alkoholi, alfa-hydroksykwasów, beta-hydroksykwasów i ich kombinacji.
Korzystnie w sposobie kwasy wybiera się z grupy składającej się z kwasu octowego, kwasu siarkowego, kwasu mrówkowego, kwasu peroksooctowego i ich kombinacji.
W sposobie korzystnie alfa-hydroksykwasy i beta-hydroksykwasy wybiera się z grupy składającej się z kwasu cytrynowego, kwasu mlekowego, kwasu maleinowego i ich kombinacji.
Korzystnie sposób charakteryzuje się tym, że kompozycja wykazuje pH co najmniej 1,5 a najwyżej 4,5.
Korzystnie w sposobie kompozycja wykazuje gęstość względną co najmniej 1,0 a najwyżej 1,5.
Przedmiotem wynalazku jest także sposób usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych, charakteryzujący się tym, że obejmuje następujące czynności:
wybiera się kompozycję składającą się z mieszaniny wytworzonej przez kontaktowanie nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody, przy czym woda zawarta jest w ilości co najmniej 50 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyżej 99,9
PL 199 174 B1 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody, z wytworzeniem kompozycji, przy czym stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 1 : 1 i najwyżej 30 : 1; oraz kontaktuje się zanieczyszczenia z kompozycją w ilości usuwającej niektóre z zanieczyszczeń ze środowiska, przy czym zanieczyszczenie wybrane jest z grupy składającej się z pierwiastków Grupy II Układu Okresowego Pierwiastków, alg, grzybów, bakterii, środków powierzchniowo czynnych, żywic naturalnych, żywic syntetycznych, związków organicznych, papierniczych mas włóknistych, filtrów papierowych, glinek, siarczynów, siarczanów, tlenków, klejów, skrobi oraz ich kombinacji.
Sposób korzystnie charakteryzuje się tym, że środowisko wybiera się z grupy składającej się systemów zawierających wodę, systemów wytwarzania papieru, systemów wytwarzania włóknistej masy drzewnej, systemów drukarskich, systemów pakowania, systemów fleksograficznych, systemów przeróbki żywności, systemów bielących, systemów metalurgicznych, systemów mycia kwaśnego, systemów produktów weterynaryjnych, systemów pestycydowych, systemów przetwórstwa mięsa, systemów przetwórstwa drobiu, systemów przetwórstwa mleka, systemów odkażających oraz ich kombinacji.
Sposób korzystnie charakteryzuje się tym, że system zawierający wodę wybiera się z grupy składającej się z basenów pływackich, systemów obróbki wody, systemów melioracyjnych, systemów podgrzewania wody, systemów chłodniczych, systemów obróbki ścieków, systemów nawadniających, systemów rolniczych, systemów wież chłodniczych oraz ich kombinacji.
Korzystnie w sposobie zanieczyszczenie obejmuje algi, a środowisko obejmuje system zawierający wodę.
Korzystnie w sposobie układem zawierającym wodę jest basem pływacki.
Sposób korzystnie charakteryzuje się tym, że zanieczyszczenie obejmuje pierwiastek II Grupy, a ś rodowisko obejmuje system drukujący.
Sposób korzystnie charakteryzuje się tym, że zanieczyszczenie obejmuje pierwiastek II Grupy, a ś rodowisko obejmuje system pakowania.
Sposób korzystnie charakteryzuje się tym, że zanieczyszczenie obejmuje skrobię, a środowisko obejmuje system drukujący.
Stwierdzono, że można polepszyć skuteczność kompozycji do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania jednego lub więcej zanieczyszczeń ze środowiska przez wykorzystanie nowego sposobu wytwarzania takiej kompozycji, który obejmuje kontaktowanie nadtlenku wodoru i kwasu glikolowego.
Generalnie sposób wytwarzania kompozycji według niniejszego wynalazku obejmuje kontaktowanie nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody. Nadtlenek wodoru zawarty jest generalnie jako roztwór nadtlenku wodoru, zawierający nadtlenek wodoru i wodę. Taki roztwór nadtlenku wodoru generalnie zawiera przynajmniej około 0,1% wagowych nadtlenku wodoru w wodzie i co najwyżej około 20% wagowych nadtlenku wodoru w wodzie, korzystnie przynajmniej około 0,5% wagowych nadtlenku wodoru w wodzie i co najwyżej około 15% wagowych nadtlenku wodoru w wodzie, a najbardziej korzystnie przynajmniej około 1% wagowych nadtlenku wodoru w wodzie i co najwyżej około 15% wagowych nadtlenku wodoru w wodzie. Przykładowy roztwór nadtlenku wodoru, który może być stosowany w sposobie według niniejszego wynalazku, może być sporządzony przez dodanie stabilizującej ilości wody do technicznego roztworu nadtlenku wodoru w wodzie o stężeniu 35% z firmy FMC Corporation, Filadelfia, Pensylwania, w celu otrzymania roztworu nadtlenku wodoru odpowiedniego do stosowania w sposobie według wynalazku.
Woda nadająca się do stosowania w sposobie według wynalazku jest wodą zawierającą korzystnie małe zawartości substancji stałych, generalnie zawierającą mniej niż około 10 części na milion (ppm) rozpuszczonych ciał stałych, korzystnie mniej niż około 5 ppm rozpuszczonych ciał stałych, szczególnie korzystnie mniej niż około 1 ppm rozpuszczonych ciał stałych, a najbardziej korzystnie około 0 ppm rozpuszczonych ciał stałych. Przykładem wody o małej zawartości substancji stałych, która może być stosowana w niniejszym wynalazku jest woda, która może być uzyskana w handlu z firmy PGT Inc. Cedar Hill, Teksas, która jest wodą o mał ej zawartoś ci substancji stał ych produkowaną metodą odwróconej osmozy, zawierającą mniej niż około 0,1 ppm rozpuszczonych ciał stałych.
Woda, korzystnie woda o małej zawartości substancji stałych, może być wytwarzana dowolnym odpowiednim sposobem znanym w technice do wytwarzania wody, która może być stosowana w sposobie według niniejszego wynalazku. Generalnie woda o małej zawartości substancji stałych może być wytwarzana przez poddanie wody o dużej zawartości substancji stałych sposobom obróbki wy6
PL 199 174 B1 branym spośród odwróconej osmozy, dejonizacji i podobnych i ich kombinacji. Woda o wysokiej zawartości substancji stałych generalnie zawiera więcej rozpuszczonych substancji stałych niż woda o ma ł ej zawartoś ci substancji stał ych. Generalnie woda o wysokiej zawartoś ci substancji stał ych zawiera więcej niż około 200 ppm rozpuszczonych substancji stałych.
Generalnie woda zawarta jest w ilości stabilizującej, która umożliwia kontaktowanie nadtlenku wodoru i kwasu glikolowego zgodnie ze sposobem według wynalazku. Generalnie stabilizująca ilość wody, jak to tu opisano, powinna być wystarczająco duża do zapobieżenia niekontrolowanej lub nieprzewidywalnej reakcji między nadtlenkiem wodoru i kwasem glikolowym, co może zachodzić w środowisku nierozcieńczonym jak to wiadomo ze stanu techniki. Jednak stabilizująca ilość wody, jak to tu opisano, powinna być wystarczająco mała, żeby zapobiec rozcieńczeniu uzyskanej kompozycji tak, że nie będzie ona zdolna do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska, jak to opisano. Tak więc nowym aspektem niniejszego wynalazku jest zawartość stabilizującej ilości wody, korzystnie wody o małym stężeniu substancji stałych, wystarczająco dużej do umożliwienia kontaktowania nadtlenku wodoru i kwasu glikolowego w kontrolowany lub przewidywalny sposób lecz wystarczająco małej dla zapobieżenia znacznemu rozcieńczeniu kompozycji aby kompozycja była skuteczna do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska jak opisano.
Generalnie stabilizująca ilość wody, korzystnie wody o małej zawartości substancji stałych, wynosi przynajmniej około 50 procent wagowych wody w stosunku do całkowitej ilości nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i co najwyżej około 99,9 procent wagowych wody w stosunku do całkowitej ilości nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody. Korzystnie stabilizująca ilość wody wynosi przynajmniej około 60 procent wagowych wody w stosunku do całkowitej ilości nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i co najwyżej około 97 procent wagowych wody w stosunku do całkowitej ilości nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody, a bardziej korzystnie stabilizująca ilość wody wynosi przynajmniej około 70 procent wagowych wody w stosunku do całkowitej ilości nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i co najwyżej około 95 procent wagowych wody w stosunku do całkowitej ilości nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody.
Kwas glikolowy jest korzystnie roztworem kwasu glikolowego zawierającym kwas glikolowy i wodę . Taki roztwór kwasu glikolowego zawiera generalnie przynajmniej 1% wagowy kwasu glikolowego i co najwyżej około 15 procent wagowych kwasu glikolowego, korzystnie przynajmniej 1% wagowy kwasu glikolowego i co najwyżej około 10 procent wagowych kwasu glikolowego, a bardziej korzystnie przynajmniej 1% wagowy kwasu glikolowego i co najwyżej około 5 procent wagowych kwasu glikolowego. Przykładowy roztwór kwasu glikolowego, który może być stosowany w sposobie według niniejszego wynalazku, może być otrzymany przez dodanie wody o małej zawartości substancji stałych, jak to tu opisano, do technicznego roztworu kwasu glikolowego o stężeniu 70% wagowych, dostępnego w handlu z firmy DuPont Chemical, Wilmington, Delaware, w celu uzyskania roztworu o stężeniu 5 procent wagowych kwasu glikolowego.
Nadtlenek wodoru, kwas glikolowy i woda mogą być kontaktowane w dowolny odpowiedni sposób, który zapewni, że kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku będzie skuteczna w zmniejszaniu stężenia, korzystnie usuwaniu lub rozpuszczaniu zanieczyszczeń ze środowiska. Korzystnie takie kontaktowanie obejmuje mieszanie z wykorzystaniem dowolnych sposobów mieszania znanych w technice do mieszania roztworów wodnych z innymi roztworami wodnymi. Bardziej korzystnie opisany tu roztwór nadtlenku wodoru miesza się z roztworem kwasu glikolowego, jaki tu opisano. Podczas kontaktowania stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi generalnie przynajmniej około 1 : 1, a co najwyżej około 30 : 1, korzystnie przynajmniej około 2 : 1, a co najwyżej około 20 : 1, bardziej korzystnie przynajmniej około 2 : 1, a co najwyżej około 10 : 1, a najbardziej korzystnie przynajmniej około 2 : 13 co najwyżej około 6 : 1.
Temperatura podczas kontaktowania nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody, korzystnie podczas kontaktowania roztworu nadtlenku wodoru z roztworem kwasu glikolowego może być dowolną temperaturą, która dostarczy kompozycji skutecznej w zmniejszaniu stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń ze środowiska. Generalnie temperatura podczas kontaktowania wynosi przynajmniej około -18°C (0°F), a co najwyżej około 38°C (100°F), korzystnie przynajmniej około -12°C (10°F), a co najwyżej około 32°C (90°F); a bardziej korzystnie przynajmniej około -7°C (20°F), a co najwyżej około 27°C (80°F). Ciśnienie podczas kontaktowania może być dowolnym ciśnieniem, które zapewni kompozycję, jaką tu opisano. Ciśnienie jest generalnie przynajmniej około
PL 199 174 B1 ciśnienia atmosferycznego i co najwyżej 689 kPa (100 funtów na cal kwadratowy ciśnienia absolutnego (psia)), korzystnie zbliżone do atmosferycznego. Czas kontaktowania może być dowolnym okresem czasu, które zapewni kompozycję, jaką tu opisano. Czas ten wynosi generalnie przynajmniej około 0,1 minuty i co najwyżej około 60 minut, korzystnie przynajmniej około 0,1 minuty do co najwyżej około 30 minut.
Sposób otrzymywania kompozycji według niniejszego wynalazku może dodatkowo obejmować kontaktowanie z dodatkowym składnikiem zawierającym alkohol izopropylowy. Generalnie alkohol izopropylowy ma czystość przynajmniej około 95 procent, korzystnie przynajmniej około 98 procent, a bardziej korzystnie przynajmniej okoł o 99 procent.
Dodatkowo, lub zamiast kontaktowania z alkoholem izopropylowym, sposób według niniejszego wynalazku może obejmować kontaktowanie z jednym lub więcej składników wybranych z grupy skł adają cej się z nadtlenosiarczanem potasu, srebra, kwasów, estrów, alkoholi, alfahydroksykwasów, beta-hydroksykwasów i podobnych oraz ich kombinacji. Przykłady odpowiednich estrów obejmują etoksylowane estry i podobne i ich kombinacje, lecz nie są do nich ograniczone. Przykłady odpowiednich kwasów obejmują kwas octowy, kwas siarkowy, kwas mrówkowy, kwas peroksooctowy i podobne i ich kombinacje, lecz nie są do nich ograniczone. Przykłady odpowiednich alfa-hydroksykwasów obejmują kwas cytrynowy, kwas mlekowy, kwas maleinowy i podobne i ich kombinacje, lecz nie są do nich ograniczone.
Taki(e) składnik(i) dodatkowy(e) może(gą) być dodawany(e) w dowolnej(ych) ilości(ach) o ile dostarczają kompozycji skutecznej w zmniejszaniu stężenia, korzystnie usuwaniu lub rozpuszczaniu zanieczyszczeń ze środowiska. Generalnie, gdy taki(e) składnik(i) jest(są) zawarty(e), jego(ich) zawartość wynosi przynajmniej około 0,1 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy końcowej kompozycji i co najwyżej około 20 procent wagowych w stosunku do całkowitej wagi końcowej kompozycji, korzystnie przynajmniej około 0,1 procent wagowych w stosunku do całkowitej wagi końcowej kompozycji i co najwyżej około 10 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy końcowej kompozycji, a bardziej korzystnie przynajmniej około 0,1 procent wagowych w stosunku do całkowitej wagi końcowej kompozycji i co najwyżej około 5 procent wagowych w stosunku do całkowitej wagi końcowej kompozycji.
Korzystny sposób wytwarzania kompozycji według niniejszego wynalazku obejmuje mieszanie roztworu nadtlenku wodoru o stężeniu 35 procent wagowych w wodzie ze stabilizującą ilością wody o małej zawartości substancji stałych, zawierającą mniej niż około 1 ppm rozpuszczonych substancji stałych, w celu dostarczenia gotowej mieszaniny zawierającej około 80 procent wody o małej zawartości substancji stałych i reszty zawierającej roztwór nadtlenku wodoru. Uzyskaną mieszaninę kontaktuje się następnie z roztworem kwasu glikolowego o stężeniu 5 procent wagowych, wytworzonym przez kontaktowanie roztworu kwasu glikolowego o stężeniu 70 procent wagowych kwasu glikolowego z wodą o małej zawartości substancji stałych, zawierającą mniej niż około 1 ppm rozpuszczonych substancji stałych, w celu dostarczenia kompozycji o pH około 1,9 do koło 3,5. Taka kompozycja jest szczególnie użyteczna do stosowania w zmniejszaniu stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczaniu wapnia i klejów skrobiowych oraz pozostałości substancji organicznych i nieorganicznych, typowo spotykanych podczas wytwarzania tektury falistej oraz w procesach drukowania i fleksografii.
Inny korzystny sposób wytwarzania kompozycji według niniejszego wynalazku obejmuje mieszanie roztworu nadtlenku wodoru o stężeniu 35 procent wagowych w wodzie ze stabilizującą ilością wody o małej zawartości substancji stałych, zawierającej mniej niż około 1 ppm rozpuszczonych substancji stałych, w celu dostarczenia gotowej mieszaniny zawierającej około 43 procent wody o małej zawartości substancji stałych i reszty zawierającej roztwór nadtlenku wodoru. Uzyskaną mieszaninę kontaktuje się następnie z roztworem kwasu glikolowego o stężeniu 5 procent wagowych, wytworzonym przez kontaktowanie roztworu kwasu glikolowego o stężeniu 70 procent wagowych kwasu glikolowego z wodą o małej zawartości substancji stałych, zawierającą mniej niż około 1 ppm rozpuszczonych substancji stałych, w celu dostarczenia kompozycji o pH około 1,9 do koło 3,5. Taka kompozycja jest szczególnie użyteczna do stosowania w zmniejszaniu stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń typowo spotykanych w układach zawierających wodę.
Dodatkowy korzystny sposób wytwarzania takiej kompozycji obejmuje dalsze kontaktowanie uzyskanej kompozycji z alkoholem izopropylowym o czystości około 99 procent w ilości takiej, aby uzyskana kompozycja zawierała alkohol izopropylowy w ilości około 5 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy końcowej kompozycji.
PL 199 174 B1
Kompozycja zgodnie z niniejszym wynalazkiem ma pH przynajmniej około 1,5 i co najwyżej 4,5, korzystnie przynajmniej około 1,7 i co najwyżej około 4, a najbardziej korzystnie przynajmniej około 1,9 i co najwyżej około 3,8.
Kompozycja zgodnie z niniejszym wynalazkiem ma gęstość względną przynajmniej około 1,0 i co najwyż ej 1,5, korzystnie przynajmniej okoł o 1,1 i co najwyż ej okoł o 1,4 a bardziej korzystnie przynajmniej około 1,3 i co najwyżej około 1,4, a najbardziej korzystnie około 1,35.
Nie chcąc się wiązać żadną teorią, uważa się, że kompozycja zgodnie z niniejszym wynalazkiem zawiera cząsteczki zawierające dwa atomy węgla, cztery atomy wodoru i cztery atomy tlenu. Uważa się, że dwa z czterech atomów wodoru i dwa z czterech atomów tlenu występują jako grupy hydroksylowe (OH).
Kompozycja wytwarzana opisanym sposobem według niniejszego wynalazku może być wykorzystana do zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania szerokiej gamy zanieczyszczeń z szerokiego asortymentu środowisk. Taki proces generalnie obejmuje kontaktowanie takiego(ich) zanieczyszczenia(ń) z kompozycją wytworzoną według niniejszego wynalazku, sporządzoną opisanym sposobem, w stężeniu skutecznym do zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania takiego(ich) zanieczyszczenia(ń) ze środowiska. Przykłady takich zanieczyszczeń obejmują pierwiastki Grupy II układu okresowego pierwiastków, algi (glony), grzyby, bakterie, środki powierzchniowo czynne, żywice naturalne, żywice syntetyczne, związki organiczne, napełniacze do papieru, filtry papierowe, glinki, siarczyny, siarczany, tlenki, kleje, skrobie i podobne oraz ich kombinacje, ale nie są do nich ograniczone.
Przykłady odpowiednich środowisk obejmują systemy zawierające wodę, systemy przetwórstwa papieru, systemy wytwarzania masy włóknistej, systemy drukowania, systemy pakowania, systemy fleksograficzne, systemy przeróbki żywności, systemy bielące, systemy metalurgiczne, systemy mycia kwaśnego, systemy produktów weterynaryjnych, systemy pestycydowe, systemy przetwórstwa mięsa, systemy przetwórstwa drobiu, systemy przetwórstwa mleka, systemy sanityzacyjne i podobne oraz ich kombinacje, lecz nie są do nich ograniczone.
Określenie „system” odnosi się do dowolnej metody, sposobu, aparatury, składników i podobnych oraz ich kombinacji, związanej w dowolny sposób i na dowolnej drodze z podanym typem systemu. Na przykład, „system zawierający wodę” odnosi się do dowolnej metody, sposobu, aparatury, składników i podobnych oraz ich kombinacji znanej w technice, związanej w jakiś sposób z zawartością wody lub bezpieczeństwem wody. Także, na przykład, określenie „system przetwarzania żywności” odnosi się do dowolnej metody, sposobu, aparatury, składników i tym podobnych oraz ich kombinacji znanej w technice, związanej w jakiś sposób z przeróbką żywności. Także, na przykład, określenie „system drukowania” odnosi się do dowolnej metody, sposobu, aparatury, składników i tym podobnych oraz ich kombinacji znanej w technice, związanej w jakiś sposób z drukowaniem.
Przykłady odpowiednich systemów zawierających wodę obejmują baseny pływackie, systemy obróbki wody, systemy melioracyjne, systemy podgrzewania wody, systemy chłodnicze, systemy ściekowe, systemy nawadniające, systemy rolnicze, systemy wież chłodniczych i podobne oraz ich kombinacje lecz nie są do nich ograniczone.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być kontaktowana z jednym lub więcej zanieczyszczeniem, jakie tu opisano dowolnym odpowiednim sposobem i w dowolnych odpowiednich warunkach, które są skuteczne do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania takich zanieczyszczeń ze środowiska. Warunki kontaktowania, powoływane także jako warunki kontaktowania z zanieczyszczeniem, które obejmują stężenie opisanej tu kompozycji, temperaturę kontaktowania, ciśnienie kontaktowania i czas kontaktowania, mogą być dowolnymi warunkami kontaktowania skutecznymi do zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczenia ze środowiska, jak to tu opisano. Warunki kontaktowania będą generalnie zależeć od typu i stężenia zanieczyszczenia i typu środowiska. Na przykład, warunki kontaktowania będą obejmować zwiększone stężenie kompozycji, temperatury, ciśnienia i czasu działania, gdy będzie zwiększać się stężenie jednego lub więcej zanieczyszczeń, w porównaniu do warunków kontaktowania potrzebnych w przypadku, gdy takie zanieczyszczenia zawarte są w mniejszym stężeniu. Na przykł ad, gdy kompozycja wytworzona wedł ug niniejszego wynalazku jest stosowana jako obróbka wstrząsowa (uderzeniowa) w basenie, w celu wspomożenia na początku zmniejszenia pierwotnych zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczenia, stężenie kompozycji wytworzonej według niniejszego wynalazku będzie znacznie
PL 199 174 B1 wyższe, a czas działania krótszy w porównaniu do sytuacji, gdy kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku jest stosowana do utrzymania zmniejszonego stężenia zanieczyszczeń w takim basenie, na przykł ad, przez okres trzydziestu dni. Wybór wł a ś ciwych warunków kontaktowania w oparciu o stężenie zanieczyszczenia w środowisku należy do fachowców.
Gdy środowisko zawiera ośrodek ciekły, taki jak tu opisany układ zawierający wodę, stężenie kompozycji generalnie wynosi przynajmniej około 0,1 części objętościowych kompozycji na milion części środowiska (ppmv) i co najwyżej 25 procent objętościowych, korzystnie przynajmniej około 0,5 ppmv i co najwyżej 20 procent objętościowych, a jeszcze korzystniej przynajmniej około 1 ppmv i co najwyżej 15 procent objętościowych. Gdy środowisko nie zawiera ośrodka ciekłego, jak to jest w przypadku zastosowania kompozycji bezpośrednio na zanieczyszczenie, stężenie kompozycji generalnie wynosi przynajmniej około 0,1 część wagową kompozycji na milion części środowiska (ppm) i co najwyżej 20 procent wagowych, korzystnie przynajmniej około 0,5 części wagowych kompozycji na milion części środowiska (ppm) i co najwyżej 10 procent wagowych, bardziej korzystnie przynajmniej około 1 ppm i co najwyż ej 5 procent wagowych.
Generalnie, temperatura kontaktowania, powoływana także jako temperatura kontaktowania z zanieczyszczeniem wynosi przynajmniej około 10°C (50°F) ą co najwyżej około 93°C (200°F), korzystnie przynajmniej około 21°C (70°F), a co najwyżej około 66°C (150°F). Ciśnienie kontaktowania, powoływane także jako ciśnienie kontaktowania z zanieczyszczeniem generalnie wynosi przynajmniej około ciśnienia atmosferycznego i co najwyżej 689 kPa (100 funtów na cal kwadratowy ciśnienia absolutnego (psia)), korzystnie zbliżone do atmosferycznego. Czas kontaktowania, powoływany także jako czas kontaktowania z zanieczyszczeniem wynosi generalnie przynajmniej około 0,1 minuty i co najwyżej około 30 dni, korzystnie przynajmniej około 0,5 minuty do co najwyżej około 20 dni a bardziej korzystnie przynajmniej około 1 minuty do co najwyżej około 10 dni.
Przykłady odpowiedniego zastosowania kompozycji wytworzonej według niniejszego wynalazku obejmują następujące zastosowania, lecz nie są do nich ograniczone.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana jako środek do usuwania osadów, środków biobójczych, środek przeciw obrastaniu śluzem, flokulant i podobne oraz ich kombinacji, do zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania osadu, alg i podobnych oraz ich kombinacji z maszyn i aparatury stosowanej do wytwarzania papieru i miazgi drzewnej (pulpy).
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana jako środek do usuwania osadów, środek biobójczy, środek przeciw algom, do zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń z układów zawierających wodę stosowanych w drukarstwie. Na przykład, kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana jako środek do usuwania wapnia i preparat do usuwania środków powierzchniowo czynnych, do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania wapnia, rozpuszczonych substancji mineralnych, środków powierzchniowo czynnych, bakterii i podobnych oraz ich kombinacji z przewodów i zbiorników w układach zawierających wodę stosowanych w drukarstwie, przemyśle opakowań i podobnych oraz ich kombinacji. Takż e, na przykład, kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych środków powierzchniowo czynnych, żywic naturalnych, węglanu wapnia, pozostałości zawierających polimery i podobnych z powierzchni płyt litograficznych. Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być także stosowana jako płukanka do rolek gumowych, w celu zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń organicznych, zanieczyszczeń opartych na wodzie i ciekłych metalowych substancji strąconych obejmujących, lecz nie ograniczonych tylko do włókien drzewnych, wypełniaczy do papieru, powłok z glinki, siarczynów, siarczanów, dwutlenku tytanu, węglanu chromu, baru, wapnia i podobnych oraz ich kombinacji. Zmniejszenie stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania tych zanieczyszczeń prowadzi do polepszenia konsystencji przenoszonego tuszu i pomaga w ograniczaniu neutralizacji kwaśnych chemikaliów w pojemnikach z tuszem stosowanych zwykle w litografii i procesach litograficznych.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń, takich jak osady, algi, grzyby, bakterie, minerały i podobnych i ich kombinacji, z układów zawierających wodę, takich jak zbiorniki do wody, przewody do wody, pompy i podobne i ich kombinacje. Znane jest, że takie zanieczyszczenia występują w takich układach zawierających wodę, stosowanych zwykle w drukarstwie i przemyśle papierniczym i podobnych ze względu na duży kontakt z produktami papierniczymi, które zawierają
PL 199 174 B1 pleśnie, zarodniki grzybów i bakterie, które zwykle stwierdza się w drewnie stosowanym do wytwarzania takich produktów papierowych.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania klejów. W różnych procesach, takich jak procesy wytwarzania tektury falistej i podczas pakowania stosuje się zwykle kleje zawierające związki organiczne i skrobie. Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być kontaktowana z takimi klejami i spoiwami np. przez natryskiwanie i po czasie skutecznym dla umożliwienia kompozycji zgodnej z niniejszym wynalazkiem wniknięcia do takiego kleju może zapewnić w ten sposób jego łatwe usunięcie.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do obróbki rolek aniloksowych, w szczególności komórek znajdujących się obok lub zawartych w obrębie takich rolek aniloksowych zwykle spotykanych we fleksografii. Rolki aniloksowe wykorzystywane zwykle przy fleksografii zwykle zawierają substancje organiczne mikroskopijnych wymiarów stwierdzane w różnych stężeniach. Istnieją różne sposoby nakładania różnych kompozycji w celu usuwania takich substancji, które obejmują natrysk na obrabianą powierzchnię, mechaniczne nakładanie na powierzchnię, obróbkę przez zanurzanie i podobne oraz ich kombinacje. Wykorzystując kompozycję wytworzoną według wynalazku zapewnia się polepszenie w stosunku do istniejących technologii czyszczenia rolek aniloksowych, które stosowane są obecnie, takich jak piaskowanie sodą, czyszczenie ultradźwiękowe i wykorzystywanie chemikaliów o duż ym stężeniu alkaliów.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń zwykle stwierdzanych w środowiskach przetwórstwa żywności i pakowania żywności i podobnych.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana w procesach obróbki ścieków, w celu wspomagania rozkładu substancji stałych i zapewnienia efektu biobójczego.
Kompozycja wytworzona według wynalazku może być stosowana do przemysłowej obróbki biobójczej w celu zniszczenia różnych grzybów, takich jak grzyby bottrus, pleśni i bakterii.
Kompozycja wytworzona według wynalazku może być stosowana do wspomagania procesów bielenia zwykle prowadzonych w przemyśle tekstylnym, w przemyśle papierniczym i przemyśle wytwarzania ścieru drzewnego (pulpy) i podobnych oraz ich kombinacji.
Kompozycja wytworzona według wynalazku może być stosowana do zwiększenia skuteczności znanych środków do usuwania kamienia, śluzu, środków biobójczych i podobnych oraz ich kombinacji.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana w hodowli ryb i procesach rolniczych, jako pestycyd do zabijania mikroorganizmów i/lub pasoż ytów, obejmują cych bakterie i grzyby, stwierdzanych jako występujące w takich procesach. Takie procesy rolnicze obejmują, lecz nie są ograniczone do uzyskiwania produktów spożywczych i hodowli, obejmujące różne związane powierzchnie przytrzymujące, które mogą zawierać takie bakterie, grzyby i pasożyty.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń zwykle stwierdzanych podczas uzyskiwania mięsa, drobiu i mleka oraz w instalacjach przetwórczych.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń zwykle stwierdzanych w procesach metalurgicznych obejmujących miedź i inne metale.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń zwykle stwierdzanych w procesach obejmujących mycie betonu kwasem.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń zwykle stwierdzanych w procesach wytwarzania produktów weterynaryjnych.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń zwykle stwierdzanych w układach przetwórstwa piwa, układach przetwórstwa wina i podobnych i do usuwania zanieczyszczeń z różnych kadzi.
Kompozycja wytworzona według wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń z powierzchni samochodów, takich jak usuwanie pozostałości spalin i smoły z powierzchni zewnętrznych, np. zderzaków samochodów lub ciężarówek.
PL 199 174 B1
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana jako dodatek w różnych produktach stosowanych w przemyśle kosmetycznym, takich jak produkty do peelingu twarzy.
Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania różnych zanieczyszczeń, takich jak substancje oparte na wapniu i substancje organiczne zwykle stwierdzane w przemyśle morskim, takie jak powierzchnie zewnętrzne statków.
Korzystnie kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku jest stosowana do zmniejszania zanieczyszczeń, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń z systemów drukowania. Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana dodatkowo lub alternatywnie w stosunku do różnych sposobów mechanicznych i stosowania różnych rozpuszczalników i/lub różnych środków powierzchniowo czynnych, takich jak wodorotlenek sodu, w celu usuwania takich zanieczyszczeń.
Także korzystnie, kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku jest stosowana jako środek odkażający, fungicyd, algicyd i podobne oraz ich kombinacje, w celu zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń z układów zawierających wodę, takich jak baseny pływackie, ogródki wodne i podobne i ich kombinacje. Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana dodatkowo lub alternatywnie do kompozycji opartych na chlorze lub kompozycji opartych na bromkach czy opartych na biguanidynie.
Także korzystnie, kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku jest stosowana jako środek odkażający, fungicyd, algicyd i podobne oraz ich kombinacje, w celu zmniejszenia stężenia, korzystnie usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń z systemów zawierających wodę, zwykle spotykanych w miejskich systemach obróbki wody, przemysłowych systemach melioracyjnych, przemysłowych instalacjach grzania wody, przemysłowych instalacjach chłodniczych, systemach wież chłodniczych i podobnych oraz ich kombinacji. Kompozycja wytworzona według niniejszego wynalazku może być stosowana dodatkowo lub korzystnie alternatywnie do kompozycji opartych na chlorze lub kompozycji opartych na bromkach czy opartych na biguanidynie.
Następujące dalej przykłady zostały przedstawione w celu dalszego zilustrowania niniejszego wynalazku i nie powinny być uważane, jako nadmiernie ograniczające zakres niniejszego wynalazku.
P r z y k ł a d 1
Przykład ten ilustruje wytwarzanie kompozycji według wynalazku.
Wytworzono kompozycję zgodnie z wynalazkiem w ilości 208 l (55 galonów), przez zmieszanie 31,2 l (8,25 galonów) roztworu nadtlenku wodoru o stężeniu 35 procent wagowych (otrzymanego z firmy FMC Corporation, Filadelfia, Pensylwania w postaci technicznego roztworu nadtlenku wodoru w wodzie o stężeniu 35 procent wagowych) i 131,26 l (34,675 galonów) wody o mał ej zawartoś ci substancji stał ych, zawierają cej mniej niż 0,1 ppm rozpuszczonych ciał stałych (otrzymanej z firmy PGT Inc., Cedar Hill, Teksas, uzyskiwanej metodą odwróconej osmozy) w temperaturze pokojowej (okoł o 21°C (70°F)) i pod ciś nieniem atmosferycznym. Cał kowity czas mieszania wynosił około 15 minut. Uzyskaną mieszaninę kontaktowano następnie z 43,7 l (11,55 galonami) roztworu kwasu glikolowego o stężeniu 5 procent wagowych, który został wytworzony przez kontaktowanie 3,12 l (0,825 galona) roztworu kwasu glikolowego o stężeniu 70 procent wagowych (otrzymanego z firmy DuPont Chemical, Wilmington, Delaware w postaci technicznego kwasu glikolowego o stężeniu 70 procent wagowych w wodzie) z 40,60 l (10,725 galonami) wody o mał ej zawartoś ci substancji stał ych zawierającej mniej niż 0,1 ppm rozpuszczonych ciał stał ych (otrzymanej z firmy PGT Inc., Cedar Hill, Teksas, uzyskiwanej metodą odwróconej osmozy) w temperaturze pokojowej (okoł o 21°C (70°F)) i pod ciś nieniem atmosferycznym, otrzymują c około 208 l (55 galonów) kompozycji wytworzonej według niniejszego wynalazku powoływanej dalej jako „kompozycja A”, mającej pH około 3,3.
P r z y k ł a d 2
Przykład ten przedstawia zastosowanie kompozycji zgodnej z niniejszym wynalazkiem (kompozycja A, jak to tu opisano) w celu zmniejszenia stężenia, korzystnie usunięcia lub rozpuszczenia wapnia i/lub klejów skrobiowych oraz substancji z wyposażenia do produkcji tektury falistej, stosowanej do wytwarzania pudełek z tektury falistej.
Wyposażenie pochodziło z firmy Packaging Corporation of America (PCA) z siedzibą w Waco, Teksas i było użytkowane przez wiele lat. Zauważono znaczne ilości pozostałości kleju (kolor tych pozostałości był brudno-biały ze względu na to, że klej wysechł do półprzeźroczystego w ciągu tego czasu). Znaczne ilości pozostałości kleju znajdowały się na poprzecznicach urządzenia do nakładania
PL 199 174 B1 kleju takiego urządzenia, wynoszące około 25,4 cm (10 cali), pod aplikatorem dla kleju, którym klej nakładano na wstęgę tektury falistej, w celu wytworzenia postaci arkusza falistej tektury. Pozostałości kleju gromadziły się do takiego stopnia, że należało się liczyć z trudnościami w produkcji. PCA zwracał się o pomoc do szeregu towarzystw chemicznych w celu opracowania produktu, który mógłby usunąć lub pozwolił usunąć pozostałości kleju. Sądzi się, że wykonano dwadzieścia nieskutecznych prób przez wielu różnych sprzedawców produktów chemicznych, dla wykonania tego. Następnie zastosowano kompozycję A bezpośrednio na pozostałości kleju za pomocą spryskiwacza spustowego. W ciągu 5 minut klej o wyglądzie półprzeźroczystym zmienił kolor na biały, o wyglądzie pozostałości kleju na początku (tzn. wyglądzie kleju przed wysuszeniem). Warstwa po warstwie nagromadzone pozostałości kleju zmieniły kolor na biały. W ciągu 20 minut warstwy pozostałości wyraźnie nawodniły się ponownie i można je było usunąć ręcznie przez zdzieranie każdej z warstw z poprzecznicy. Gdy kompozycja A dotarła do dolnej warstwy pozostałości, którą oceniono na powstanie przed dwudziestu laty, tę dolną warstwę można było usunąć, co doprowadziło instalację do ponownego stanu gotowości do pracy. Ogólnie problemy z utrzymaniem ruchu wyposażenia dla kleju, związane z pozostałością kleju, zostały zminimalizowane. Przed zastosowaniem kompozycji A, korzystnym i jedynym sposobem usuwania tych pozostałości był młotek i dłuto. Młotek i dłuto stosowano w celu oddłutowania warstw z sekcji poprzecznicy urządzenia do nakładania kleju.
P r z y k ł a d 3
Przykład ten przedstawia inne zastosowanie kompozycji wytworzonej według niniejszego wynalazku (kompozycja A, jak to tu opisano) w celu usunięcia substancji organicznych i pozostałości mineralnych z wyposażenia, takiego jak rolki aniloksowe, stosowane w procesach fleksografii.
Wyposażenie dostarczone zostało przez firmę Packaging Corporation of America (PCA) w siedzibą w Waco, Teksas. Wyposaż enie to był o uż ytkowane przez wiele lat. Nieodłącznym problemem, który występuje w procesach fleksografii jest to, że wiele zanieczyszczeń ma tendencję do nagromadzania się i wiązania się z małymi komórkami trawionymi laserowo w rolkach o aniloksowych. Te komórki dostarczają wodę i tusz fleksograficzny oparty na rozpuszczalnikach do podnoszonej fotopolimerowej płyty drukarskiej. Po usunięciu nadmiaru tuszu fleksograficzego istnieje wiele procedur stosowanych do usuwania osadów i pozostałości z rolek aniloksowych. Rolki aniloksowe w wyposażeniu PCA miały różne osady mineralne i osady z tuszu, których nie można było łatwo usunąć poprzednimi sposobami, takimi jak piaskowanie sodą oczyszczaną i stosowanie ultradź wię ków.
W pierwszym sposobie kompozycję A natryskiwano bezpośrednio na powierzchnie komórek rolek aniloksowych zawartych w ilości 57 komórek na centymetr (145 komórek na cal) długości rolki aniloksowej. Rolki zostały nawodnione kompozycją A i pozostały nawodnione przez około 5 minut. Następnie zastosowano standardowe mycie fleksograficzne oparte na wodzie, w celu wypłukania zanieczyszczeń z komórek. Wydaje się, że nałożenie kompozycji A rozłożyło związane minerały i osady mineralne, pozwalając, że te osady mogły być usunięte przez mycie normalnym środkiem myjącym typu alkalicznego, stosowanym we fleksografii. Proces ten umożliwił odzyskanie głębokości komórki i obję toś ci komórki w rolkach aniloksowych. Kompozycja A umoż liwił a umycie wyposaż enia aniloksowego na prasie bez kosztownego zamawiania wyposażenia do mycia, co prowadziło do zmniejszenia czasu postoju i wydatków na wysyłkę dla PCA.
Drugim sposobem stosowania kompozycji A było dodanie kompozycji do jednostki zasobnika do tuszu w drukarce fleksograficznej stykającego się z pompą do tuszu. Czas kontaktu wynosił około pięć minut, z dalszym płukaniem za pomocą standardowych procedur mycia aparatury fleksograficznej opartych na wodzie. Poprzednio stosowano piaskowanie sodą oczyszczaną i wyposażenie ultradźwiękowe, lecz można było oczyścić tylko powierzchnię rolek aniloksowych. Kompozycja A zachowywała się lepiej niż sposoby poprzednie i otwierała komórki do stanu podobnego jak w nowych rolkach.
P r z y k ł a d 4
Przykład ten ilustruje inne wytwarzanie kompozycji zgodnej z wynalazkiem.
Wytworzono kompozycję sposobem według wynalazku w ilości 208 l (55 galonów), przez zmieszanie 68,7 l (18,15 galonów) roztworu nadtlenku wodoru o stężeniu 35 procent wagowych (otrzymanego z firmy FMC Corporation, Filadelfia, Pensylwania w postaci technicznego roztworu nadtlenku wodoru w wodzie o stężeniu 35 procent wagowych) i 52,0 l (13,75 galonów) wody o mał ej zawartoś ci substancji stał ych, zawierają cej mniej niż 0,1 ppm rozpuszczonych ciał stałych (otrzymanej z firmy PGT Inc., Cedar Hill, Teksas, uzyskiwanej metodą odwróconej osmozy) w temperaturze pokojowej (okoł o 21°C (70°F)) i pod ciś nieniem atmosferycznym. Cał kowity czas
PL 199 174 B1 mieszania wynosił około 15 minut. Uzyskaną mieszaninę kontaktowano następnie z 87 l (23,1 galona) roztworu kwasu glikolowego o stężeniu 5 procent wagowych, który został wytworzony przez kontaktowanie 6,2 l (1,65 galona) roztworu kwasu glikolowego o stężeniu 70 procent wagowych (otrzymanego z firmy DuPont Chemical, Wilmington, Delaware w postaci technicznego kwasu glikolowego o stężeniu 70 procent wagowych w wodzie) z 81,2 l (21,45 galonami) wody o małej zawartości substancji stałych, zawierającej mniej niż 0,1 ppm rozpuszczonych ciał stałych (otrzymanej z firmy PGT Inc., Cedar Hill, Teksas, uzyskiwanej metodą odwróconej osmozy) w temperaturze pokojowej (około 21°C (70°F)) i pod ciśnieniem atmosferycznym, dzięki czemu uzyskano około 208 l (55 galonów) kompozycji zgodnej z niniejszym wynalazkiem powoływanej dalej jako „kompozycja B”, mającej pH około 2,2.
P r z y k ł a d 5
Przykład ten przedstawia zastosowanie kompozycji według niniejszego wynalazku (opisanej tu kompozycji B) do usuwania pozostałości i rozwoju bakterii i grzybów z układu recyrkulacyjnego roztworu zbiornika z tuszem prasy drukarskiej (układ zawierający wodę).
Prasę drukarską otrzymano z firmy Rock Tenn Company, Waxahachie, Teksas i zawierała ona układ recyrkulacyjny roztworu dla zbiornika z tuszem Man Roland, określany także jako układ nawilżający, który zawierał mieszalnik, chłodnicę i jednostkę recyrkulacyjną, zawierającą zasobnik o pojemnoś ci okoł o 114 l (30 galonów), o cał kowitej pojemnoś ci 757 l (200 galonów) wody. Wyposażenie było używane prawie ciągle przez około 20 lat. Zauważono znaczne ilości osadu substancji mineralnych, takie jak osady mineralne wapnia i wapna oraz wzrost grzybów i bakterii, włącznie z algami orzęsionymi (hair algae), które były białe, zielone, brązowe i w różnych innych kolorach, co jest typowe w przemyśle. Stosowano wiele rozpuszczalników w próbach usuwania pozostałości i rozwoju populacji mikroorganizmów zanim taki osad się nagromadził i spowodował przerwanie produkcji. Zwykłe produkty przemysłowe stosowane do czyszczenia takiego układu recyrkulacyjnego prasy drukarskiej obejmowały produkty, zawierające mieszaniny wodorotlenku sodu, eterów glikoli i różnych substancji biobójczych, takie jak sprzedawane przez różnych wytwórców chemicznych, włącznie z Varn International (znany w świecie producent wytwarzający chemikalia do hali maszyn w drukarniach i drukowania i rozprowadzający je po całym świecie).
Jednak zastosowanie takich rozpuszczalników było nieskuteczne do usuwania mineralnych pozostałości oraz wzrostu bakterii i grzybów. Pozostałość mineralna i populacja mikroorganizmów nagromadzały się do momentu, że stawały się stwardniałe w przewodzie do wody i nie mogły być usunięte. Przewody zatykały się, utrudniając produkcję. Dodatkowa opcja zastąpienia przewodu do wody i/lub przepłukania układu wodnego substancjami bielącymi mogłaby być brana pod uwagę, jednak ilość wody, jaką należałoby zużyć, wynosiłaby tysiące litrów (galonów). Dodatkowo rezultaty związane z produkcją z pozostał o ś ci substancji bielą cych był yby trudne do naprawienia, sprawiają c, ż e opcja bielenia jest niepożądana i ekonomicznie nie do wykonania.
Dostarczono 19 l (pięć galonów) opisanej tu kompozycji B do następującej procedury. Kompozycję B wlano bezpośrednio, w ilościach po 0,47 l (jednej pincie), do każdej z sześciu tacek do wody układu recyrkulacyjnego. Po kontakcie kompozycji B z osadem mineralnym i populacją bakterii i grzybów, zauważono, że w ciągu około 15 do 30 sekund woda natychmiast zaczęła płynąć w przewodzie zwrotnym z prasy ponownie do ukł adu recyrkulacyjnego wskazują c, ż e kompozycja B usunęła róż ne zanieczyszczenia. Nastę pnie odblokował się drenaż ukł adu recyrkulacyjnego tak, że woda mogła swobodnie płynąć. Następnie dodano 15 l (cztery galony) kompozycji B bezpośrednio do 114 l (30 galonowego) zbiornika. W ciągu około 15 do 30 sekund woda natychmiast zaczęła płynąć w przewodzie zwrotnym z prasy ponownie do układu recyrkulacyjnego wskazując, że kompozycja B usunęła różne zanieczyszczenia. Zauważono, że substancje usuwane przez kompozycję B zawierały pył z papieru, śluz, grzyby, algi, składniki tuszu i podobne. Zebrano około 132 l (35 galonów) takiej substancji do pustej beczki. W ciągu około 30 minut przepuszczono przez układ wodny około 757 l (200 galonów) świeżej wody, w celu dalszego wspomożenia usuwania zanieczyszczeń i pozostałości zabitych alg i bakterii, które zostały usunięte i/lub rozpuszczone przez kompozycję B.
Układ recyrkulacyjny następnie napełniono ponownie standardowym roztworem do zbiornika z tuszem o pH okoł o 3,8. Prasę włączono natychmiast do produkcji. Poprzednio normalny czas rozruchu wynosił 20 do 25 arkuszy zadrukowanych przed produkcją. Po zastosowaniu kompozycji B czas rozruchu wyniósł 2 do 3 arkuszy. Uważa się że lepszy czas rozruchu spowodowany był tym, że pH kompozycji B było zbliżone do zalecanego pH roztworu w zbiorniku z tuszem. Przed zastosowaniem
PL 199 174 B1 kompozycji B, poprzednio stosowany roztwór zawierał wodorotlenek sodu, etery glikoli i środki biobójcze, przy czym niektóre z tych produktów zawierały środki pianotwórcze lub alkalia, takie jak soda kaustyczna. Pozostałe pH w układzie wodnym po zastosowaniu tradycyjnych produktów czyszczących wynosiło zwykle w zakresie około 9 do około 10,5. Tak więc, ponieważ pH roztworu w zbiorniku z tuszem typowo wynosi w zakresie około 3,8 do około 4,0, tak więc kompozycja B miała podobne pH i zastosowanie kompozycji B dostarczył o bezpoś rednich korzyś ci w odniesieniu do zdolnoś ci produkcyjnej, jakości druku i zmniejszenia kosztów wody.
P r z y k ł a d 6
Przykład ten przedstawia zastosowanie kompozycji zgodnej z niniejszym wynalazkiem (opisanej tu kompozycji B) do usuwania zanieczyszczeń z basenu pływackiego.
Miejscem badanym był basen pływacki, zawierający 95000 l (25000 galonów) wody, która zasadniczo nie zawierała chloru i innych substancji chemicznych. Basen miał prostokątny kształt, o głębokoś ci na pł ytkim końcu okoł o 1 m (trzech stóp) i głębokoś ci na głębokim koń cu okoł o 3 m (dziewięciu stóp). Basen był przykryty i nieczynny przez około dziewięć miesięcy zimowych. Przed obróbką, woda wydawała się niebieskawa i wydzielała silny odór zgnilizny. Powierzchnie basenu pod wodą były pokryte zielonym narostem alg o grubości około 3,8 cm (1,5 cala). Populacja alg wydawała się pokrywać leżącą pod nią substancję typu alg, zabarwioną na szaro. Ze względu na silny wzrost alg, dolna powierzchnia basenu i powierzchnie pierwszego i drugiego schodka basenu nie były widoczne. Środkiem filtracyjnym znajdującym się w układzie filtracyjnym basenu była ziemia okrzemkowa. Wartość pH wody wynosiła 7,2 a temperatura wody około 26°C (78°F).
Do basenu wlano 8 l (dziesięć galonów) opisanej tu kompozycji B, przez dolewanie kompozycji B ze stałą szybkością do basenu z wiadra z tworzywa sztucznego, spacerując dokoła brzegów basenu od strony płytszej do głębszej. Po około dwudziestu pięciu minutach kolor wody zmienił się na jasnozielony, kolor „zupy z groszku”. Zanieczyszczenia zaczęły wypływać do góry i wyglądały jak duże kawałki zielonych alg i zabarwione na szaro substancje algowate. Przejrzystość wody ciągle się poprawiała. Po około dwudziestu czterech godzinach woda wydawała się lekko zmętniała, i w kolorze „mlecznym”. Zielone algi i szarawe substancje algopodobne wydawały się być „zabite”, przy czym pozostałości takich alg wyglądały jak białe szkieletowe zanieczyszczenia, które pokrywały dół basenu z pewną ilością zanieczyszczeń pływających po powierzchni. pH wody wynosiło 6,8. Następnie dodano flokulant w ilości około dwóch kwart cieczy, w celu wspomożenia usuwania pływających zanieczyszczeń. Po około siedemdziesięciu dwóch godzinach od dodania kompozycji B dno basenu oczyszczono odkurzaczem i zebrane zanieczyszczenia wyłożono na powierzchni obok basenu. Wartość pH w basenie wynosiła 6,8. Następnie do basenu dodano wody wodociągowej, aż pH wody w basenie wyniosło 7,0.
Woda w basenie pozostała nie przykryta, spokojna i nie poddawano jej cyrkulacji przez dwa tygodnie. Po okresie dwóch tygodni ilość rozpuszczonego tlenu (DO) wynosiła 106 części na milion (ppm), woda wydawała się bardzo przejrzysta (widoczna było dno w głębszej części basenu) i włączono pompę stosowaną do cyrkulacji wody w basenie, ustawiają c cyrkulację na dwie godziny każdego dnia. Tydzień później (trzy tygodnie od dodania kompozycji B), które obejmowały opad wielkości 5,08 cm (dwóch cali), DO wynosiło 98 ppm. Jeden tydzień później (cztery tygodnie od dodania kompozycji B), DO wynosiło 44 ppm. Woda była wciąż przezroczysta, lecz zaobserwowano wiele małych obszarów zielonych alg rosnących na powierzchniach podwodnych basenu. Następnie do basenu dodano 9 l (2,5 galona) „dawkę podtrzymującą” kompozycji B przez dolewanie z plastikowego wiadra na jednym z końców basenu. Po dodaniu DO wynosiło 100 ppm (co było żądaną wielkością) a pH wyniosło 7,4. Do basenu wlewano następnie dawkę 9 l (2,5 galona) kompozycji B co każde dwa tygodnie.
P r z y k ł a d 7
Przykład ten przedstawia efekt różnego zwiększenia stężenia kompozycji zgodnej z wynalazkiem.
Do określenia toksyczności kompozycji zgodnej z wynalazkiem wykorzystywano dwa miejsca 1 i 2. Miejscem testowym 1 był zewnętrzny ogródek wodny, zawierający okrągły zbiornik z formowanego włókna szklanego o średnicy około 152 cm (5 stóp), który zawierał około 1900 l (500 galonów) wody. Zbiornik zawierał także glebę, skały, kilka cegieł i 36 drobnych rybek. Woda pachniała zgnilizną i była czarna. Substancje, które wydawały się czarne były czarnymi pleśniami lub algami pokrywającymi glebę i skały w dole zbiornika.
240 ml (osiem uncji) kompozycji B opisanej w zgłoszeniu dodano następnie do zbiornika przez wlewanie kompozycji B bezpośrednio z butelki z tworzywa sztucznego do wody na jednym końcu
PL 199 174 B1 zbiornika. Temperatura podczas dodawania wynosiła około 26°C (78°F). Po dodaniu woda zaraz zaczęła bulgotać. Bulgotanie rozpoczęło się na jednym końcu zbiornika i przesuwało się do drugiego końca zbiornika przez około 15 minut. Po 24 godzinach ustało, woda wydawała się przezroczysta a cegły i skały zawarte w zbiorniku były całkowicie widoczne i nie były już pokryte czarnymi pleśniami czy algami. Wydawało się, że dodanie kompozycji B nie ma wpływu na rybki. Szkieletowe zanieczyszczenia wydawały się pokrywać dół zbiornika. Nie prowadzono odczytów pH ani ilości rozpuszczonego tlenu.
W oparciu o obserwacje opracowano zalecaną dawkę podtrzymującą 240 ml (ośmiu uncji) kompozycji B stosowanej co każde dwa do trzech tygodni.
Miejscem badanym 2 było standardowe akwarium o pojemności 110 l (29 galonów), zawierające 23 l (sześć galonów) pokruszonych gałązek korali. Takie akwarium napełniono 110 l (29 galonami) wody obrabianej metodą odwróconej osmozy. Wartość pH wynosiła 8,0. Ośrodek hodowlany stosowany w zbiorniku obejmował lampę General Electric Gro-Lita (o widmie UV podobnym do światła słonecznego) i pożywienie dla ryb tropikalnych TETRA-MIN. Wodę wprawiono w cyrkulację przez akwarium przez około pięć dni bez dodawania jakichkolwiek chemikaliów, żyjących ryb lub roślin. Po pięciu dniach do wody dodano dwadzieścia cztery małe rybki i pozostawiono same przez około dwa dni (około 48 godzin). Następnie dodano kompozycję B w ilości 100 części wagowych kompozycji B na milion części wody (tzn. 100 ppm). Około trzydzieści minut po dodaniu zawartość rozpuszczonego tlenu wynosiła 106 ppm.
Po dwudziestu czterech godzinach ilość rozpuszczonego tlenu wynosiła około 44 ppm i dodano dodatkową ilość 200 ppm kompozycji B. Po trzydziestu minutach ilość rozpuszczonego tlenu wynosiła około 210 ppm. Zaobserwowano, że rybki pływały przy dnie basenu. Po dodatkowych dwudziestu czterech godzinach ilość rozpuszczonego tlenu wynosiła 86 ppm. Do zbiornika dodano dodatkową ilość 500 ppm kompozycji B. Po tej operacji nie można było odczytać ilości rozpuszczonego tlenu, ponieważ ilość rozpuszczonego tlenu była zbyt wysoka tak, że medium do miareczkowania (tiosiarczan sodu) stawało się czarne, co przeszkadzało w dokładnym oznaczeniu rozpuszczonego tlenu. Nawet po sześciu godzinach i zastosowaniu ponad 600 ppm tiosiarczanu sodu wciąż nie można było odczytać ilości rozpuszczonego tlenu.
Do zbiornika nie dodawano żadnych dodatkowych chemikaliów przez cztery dni. Po dziesięciu dniach od początkowego zastosowania kompozycji B ryby zaczęły wymierać z szybkością około jednej rybki dziennie przez następne dwa tygodnie. Łuski z około trzech rybek wydawały się odpadać od ciała rybek. Po czterech tygodniach od początkowego zastosowania kompozycji B do zbiornika woda była wciąż przezroczysta i bez wzrostu alg. Ilość rozpuszczonego tlenu wynosiła 44 ppm.
Wyniki pokazane w powyższych przykładach wyraźnie potwierdzają, że rozwiązanie daje się dobrze przystosowywać do przedmiotu wynalazku i osiągać cele i korzyści wymienione oraz zawarte w wynalazku.
Rozsądne zmiany, modyfikacje i adaptacje można wykonać w zakresie niniejszego ujawnienia i załączonych zastrzeże ń bez odchodzenia od zakresu wynalazku.
Claims (23)
1. Sposób wytwarzania kompozycji do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych, znamienny tym, że obejmuje następujące czynności: kontaktuje się nadtlenek wodoru, kwas glikolowy i wodę, przy czym woda jest zawarta w ilości co najmniej 50 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyż ej 99,9 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody oraz stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 1 : 1 i najwyżej 30 : 1.
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 2 : 1 i najwyżej 20 : 1.
3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 2 : 1 i najwyżej 10 : 1.
4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że nadtlenek wodoru jest zawarty w postaci roztworu nadtlenku wodoru w wodzie, a roztwór nadtlenku wodoru zawiera co najmniej 0,1 procent wagowych nadtlenku wodoru i najwyżej 20 procent wagowych nadtlenku wodoru, zaś kwas glikolowy jest
PL 199 174 B1 zawarty w postaci roztworu kwasu glikolowego z kwasu glikolowego i wody, przy czym roztwór kwasu glikolowego zawiera co najmniej 1 procent wagowych kwasu glikolowego i najwyżej 15 procent wagowych kwasu glikolowego.
5. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, ż e nadtlenek wodoru jest zawarty w postaci roztworu nadtlenku wodoru z nadtlenku wodoru w wodzie, a roztwór nadtlenku wodoru zawiera co najmniej 0,5 procent wagowych nadtlenku wodoru i najwyżej 15 procent wagowych nadtlenku wodoru, zaś kwas glikolowy jest zawarty w postaci roztworu kwasu glikolowego z kwasu glikolowego i wody, przy czym roztwór kwasu glikolowego zawiera co najmniej 1 procent wagowych kwasu glikolowego i najwyż ej 10 procent wagowych kwasu glikolowego.
6. Sposób wedł ug zastrz. 1, znamienny tym, ż e dodatkowo stosuje się kontaktowanie z alkoholem izopropylowym.
7. Sposób według zastrz. 6, znamienny tym, ż e alkohol izopropylowy ma czystość co najmniej 99 procent.
8. Sposób wedł ug zastrz. 1, znamienny tym, ż e woda jest zawarta w iloś ci co najmniej 60 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyż ej 97 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody.
9. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, ż e nadtlenek wodoru jest zawarty w postaci roztworu nadtlenku wodoru z nadtlenku wodoru w wodzie, a roztwór nadtlenku wodoru zawiera co najmniej 1 procent wagowych nadtlenku wodoru i najwyżej 15 procent wagowych nadtlenku wodoru, zaś kwas glikolowy jest zawarty w postaci roztworu kwasu glikolowego z kwasu glikolowego i wody, przy czym roztwór kwasu glikolowego zawiera co najmniej l procent wagowych kwasu glikolowego i najwyżej 5 procent wagowych kwasu glikolowego.
10. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że woda jest zawarta w ilości co najmniej 70 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyż ej 95 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody.
11. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że dodatkowo stosuje się kontaktowanie ze składnikiem wybranym z grupy składającej się z nadtlenosiarczanu potasu, srebra, kwasów, estrów, alkoholi, alfa-hydroksykwasów, beta-hydroksykwasów i ich kombinacji.
12. Sposób według zastrz. 11, znamienny tym, że kwasy wybiera się z grupy składającej się z kwasu octowego, kwasu siarkowego, kwasu mrówkowego, kwasu peroksooctowego i ich kombinacji.
13. Sposób według zastrz. 11, znamienny tym, że alfa-hydroksykwasy i beta-hydroksykwasy wybiera się z grupy składającej się z kwasu cytrynowego, kwasu mlekowego, kwasu maleinowego i ich kombinacji.
14. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że kompozycja wykazuje pH co najmniej 1,5, a najwyż ej 4,5.
15. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że kompozycja wykazuje gęstość względną co najmniej 1,0, a najwyżej 1,5.
16. Sposób usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych, znamienny tym, że obejmuje następujące czynności:
wybiera się kompozycję składającą się z mieszaniny wytworzonej przez kontaktowanie nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody, przy czym woda zawarta jest w ilości co najmniej 50 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody i najwyżej 99,9 procent wagowych w stosunku do całkowitej masy nadtlenku wodoru, kwasu glikolowego i wody, z wytworzeniem kompozycji, przy czym stosunek wagowy nadtlenku wodoru do kwasu glikolowego wynosi co najmniej 1 : 1 i najwyżej 30 : 1; oraz kontaktuje się zanieczyszczenia z kompozycją w ilości usuwającej niektóre z zanieczyszczeń ze środowiska, przy czym zanieczyszczenie wybrane jest z grupy składającej się z pierwiastków Grupy II Układu Okresowego Pierwiastków, alg, grzybów, bakterii, środków powierzchniowo czynnych, żywic naturalnych, żywic syntetycznych, związków organicznych, papierniczych mas włóknistych, filtrów papierowych, glinek, siarczynów, siarczanów, tlenków, klejów, skrobi oraz ich kombinacji.
17. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że środowisko wybiera się z grupy składającej się systemów zawierających wodę, systemów wytwarzania papieru, systemów wytwarzania włóknistej masy drzewnej, systemów drukarskich, systemów pakowania, systemów fleksograficzPL 199 174 B1 nych, systemów przeróbki żywności, systemów bielących, systemów metalurgicznych, systemów mycia kwaśnego, systemów produktów weterynaryjnych, systemów pestycydowych, systemów przetwórstwa mięsa, systemów przetwórstwa drobiu, systemów przetwórstwa mleka, systemów odkażających oraz ich kombinacji.
18. Sposób według zastrz. 17, znamienny tym, że system zawierający wodę wybiera się z grupy składającej się z basenów pływackich, systemów obróbki wody, systemów melioracyjnych, systemów podgrzewania wody, systemów chłodniczych, systemów obróbki ścieków, systemów nawadniających, systemów rolniczych, systemów wież chłodniczych oraz ich kombinacji.
19. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że zanieczyszczenie obejmuje algi a środowisko obejmuje system zawierający wodę.
20. Sposób według zastrz. 19, znamienny tym, że układem zawierającym wodę jest basem pływacki.
21. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że zanieczyszczenie obejmuje pierwiastek II Grupy, a środowisko obejmuje system drukujący.
22. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że zanieczyszczenie obejmuje pierwiastek II Grupy, a środowisko obejmuje system pakowania.
23. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że zanieczyszczenie obejmuje skrobię, a środowisko obejmuje system drukujący.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US22306400P | 2000-08-04 | 2000-08-04 | |
| PCT/US2001/024775 WO2002012428A1 (en) | 2000-08-04 | 2001-08-03 | Method of making a composition, a product from such method, and the use thereof in removing or dissolving a contaminant from an environment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL366164A1 PL366164A1 (pl) | 2005-01-24 |
| PL199174B1 true PL199174B1 (pl) | 2008-08-29 |
Family
ID=22834863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL366164A PL199174B1 (pl) | 2000-08-04 | 2001-08-03 | Sposób wytwarzania kompozycji do usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych i sposób usuwania lub rozpuszczania zanieczyszczeń środowiskowych |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1409632B1 (pl) |
| JP (2) | JP5614912B2 (pl) |
| CN (1) | CN1261555C (pl) |
| AT (1) | ATE367431T1 (pl) |
| AU (1) | AU8316501A (pl) |
| BR (1) | BR0113031B1 (pl) |
| CA (1) | CA2417927C (pl) |
| CY (1) | CY1107765T1 (pl) |
| DE (1) | DE60129477T2 (pl) |
| DK (1) | DK1409632T3 (pl) |
| ES (1) | ES2288980T3 (pl) |
| IL (2) | IL154269A0 (pl) |
| MX (1) | MXPA03001038A (pl) |
| NZ (2) | NZ545460A (pl) |
| PL (1) | PL199174B1 (pl) |
| PT (1) | PT1409632E (pl) |
| WO (1) | WO2002012428A1 (pl) |
| ZA (1) | ZA200300973B (pl) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7029588B2 (en) * | 2003-03-19 | 2006-04-18 | Samuel Rupert Owens | Oxidizing solution and process for contaminants |
| US8398781B2 (en) * | 2004-08-27 | 2013-03-19 | Ecolab Usa Inc. | Methods for cleaning industrial equipment with pre-treatment |
| US11421191B1 (en) | 2018-11-15 | 2022-08-23 | Ecolab Usa Inc. | Acidic cleaner |
| GEP20237469B (en) * | 2020-11-10 | 2023-02-10 | Dzala Llc | Novel compositions for neutralizing toxic effects of hydrogen peroxide in living cells or tissues |
| DE102021129678A1 (de) | 2021-11-15 | 2023-05-17 | Knieler & Team Gmbh | Gebrauchsfertige Wässrige Desinfektionsmittelzusammensetzung |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2720441A (en) * | 1953-09-21 | 1955-10-11 | Du Pont | Peroxygen bleaching of nylon |
| US4609475A (en) * | 1984-02-24 | 1986-09-02 | Halliburton Company | Method of improving the permeability of a subterranean formation by removal of polymeric materials therefrom |
| US5122538A (en) * | 1990-07-23 | 1992-06-16 | Ecolab Inc. | Peroxy acid generator |
| DE4026806A1 (de) * | 1990-08-24 | 1992-02-27 | Henkel Kgaa | Verfahren zum reinigen von teppichen |
| JP3397383B2 (ja) * | 1992-10-28 | 2003-04-14 | 花王株式会社 | 液体漂白洗浄剤組成物 |
| GB9302441D0 (en) * | 1993-02-08 | 1993-03-24 | Warwick Int Group | Oxidising agents |
| US5409713A (en) * | 1993-03-17 | 1995-04-25 | Ecolab Inc. | Process for inhibition of microbial growth in aqueous transport streams |
| US5961736A (en) * | 1993-04-05 | 1999-10-05 | Active Environmental Technologies, Inc. | Method for removal of contaminants from surfaces |
| AU671895B2 (en) * | 1993-04-12 | 1996-09-12 | Colgate-Palmolive Company, The | Tricritical point composition |
| US5567444A (en) * | 1993-08-30 | 1996-10-22 | Ecolab Inc. | Potentiated aqueous ozone cleaning and sanitizing composition for removal of a contaminating soil from a surface |
| EP0659876A3 (en) * | 1993-12-24 | 1996-12-04 | Procter & Gamble | Cleaning additives. |
| US5759975A (en) * | 1996-08-26 | 1998-06-02 | Gage Products Company | Paint line cleaner |
| US5958984A (en) * | 1996-10-10 | 1999-09-28 | Devillez; Richard L. | Method and composition for skin treatment |
| JPH115995A (ja) * | 1997-04-21 | 1999-01-12 | Lion Corp | 液体酸素系漂白剤組成物 |
| JP3370571B2 (ja) * | 1997-09-03 | 2003-01-27 | クリーンケミカル株式会社 | 医療機器用消毒洗浄剤と消毒洗浄方法 |
| JPH1180794A (ja) * | 1997-09-08 | 1999-03-26 | Kao Corp | 液体漂白剤組成物 |
| JP3766746B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2006-04-19 | ライオン株式会社 | 液体漂白剤組成物 |
-
2001
- 2001-08-03 PL PL366164A patent/PL199174B1/pl unknown
- 2001-08-03 MX MXPA03001038A patent/MXPA03001038A/es active IP Right Grant
- 2001-08-03 CA CA2417927A patent/CA2417927C/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-03 DK DK01961943T patent/DK1409632T3/da active
- 2001-08-03 NZ NZ545460A patent/NZ545460A/en not_active IP Right Cessation
- 2001-08-03 IL IL15426901A patent/IL154269A0/xx active IP Right Grant
- 2001-08-03 NZ NZ524399A patent/NZ524399A/xx not_active IP Right Cessation
- 2001-08-03 CN CN01813465.3A patent/CN1261555C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-03 BR BRPI0113031-5A patent/BR0113031B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-08-03 JP JP2002517719A patent/JP5614912B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-03 PT PT01961943T patent/PT1409632E/pt unknown
- 2001-08-03 AT AT01961943T patent/ATE367431T1/de active
- 2001-08-03 ES ES01961943T patent/ES2288980T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-03 WO PCT/US2001/024775 patent/WO2002012428A1/en not_active Ceased
- 2001-08-03 EP EP01961943A patent/EP1409632B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-03 DE DE60129477T patent/DE60129477T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-03 AU AU8316501A patent/AU8316501A/xx active Pending
-
2003
- 2003-02-03 IL IL154269A patent/IL154269A/en not_active IP Right Cessation
- 2003-02-04 ZA ZA200300973A patent/ZA200300973B/en unknown
-
2007
- 2007-10-15 CY CY20071101329T patent/CY1107765T1/el unknown
-
2014
- 2014-07-24 JP JP2014150725A patent/JP5976731B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1261555C (zh) | 2006-06-28 |
| CN1447852A (zh) | 2003-10-08 |
| BR0113031A (pt) | 2004-11-09 |
| WO2002012428A1 (en) | 2002-02-14 |
| ATE367431T1 (de) | 2007-08-15 |
| MXPA03001038A (es) | 2004-09-10 |
| NZ524399A (en) | 2006-03-31 |
| CA2417927C (en) | 2012-05-22 |
| ZA200300973B (en) | 2004-07-28 |
| DK1409632T3 (da) | 2007-11-12 |
| CY1107765T1 (el) | 2013-04-18 |
| JP2014224265A (ja) | 2014-12-04 |
| AU2001283165B2 (en) | 2006-10-26 |
| IL154269A0 (en) | 2003-09-17 |
| EP1409632B1 (en) | 2007-07-18 |
| CA2417927A1 (en) | 2002-02-14 |
| DE60129477T2 (de) | 2008-02-14 |
| DE60129477D1 (de) | 2007-08-30 |
| IL154269A (en) | 2007-03-08 |
| PL366164A1 (pl) | 2005-01-24 |
| BR0113031B1 (pt) | 2012-01-24 |
| EP1409632A4 (en) | 2004-08-25 |
| PT1409632E (pt) | 2007-10-11 |
| NZ545460A (en) | 2008-07-31 |
| AU8316501A (en) | 2002-02-18 |
| ES2288980T3 (es) | 2008-02-01 |
| JP2004519529A (ja) | 2004-07-02 |
| EP1409632A1 (en) | 2004-04-21 |
| JP5976731B2 (ja) | 2016-08-24 |
| JP5614912B2 (ja) | 2014-10-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8524647B2 (en) | Method of making a composition and the uses thereof in removing or dissolving a contaminant from an environment | |
| EP1058501B1 (en) | Solid tcmtb formulations | |
| JP5976731B2 (ja) | 組成物の製造方法、該方法による製造物、および環境からの汚染物質の除去または分解におけるその使用 | |
| US7501388B2 (en) | Method of using a composition for disinfection and/or sterilization | |
| CA2705589A1 (en) | Method and composition for removing contamination from surfaces in contact with water | |
| JP4440457B2 (ja) | スルファミン酸を使用する生物汚染の制御方法および組成物 | |
| ES2211977T3 (es) | Control de la bioincrustacion mediante la utilizacion de esteres de acidos grasos de poliglicol. | |
| JP4039692B2 (ja) | フルオロ界面活性剤を用いる生物汚損を抑制する方法および組成物 | |
| AU2001283165B8 (en) | Method of making a composition, a product from such method, and the use thereof in removing or dissolving a contaminant from an environment | |
| US20080314416A1 (en) | Method and Composition For Removing Biological Fouling From Surfaces in Contact With Water | |
| AU2001283165A1 (en) | Method of making a composition, a product from such method, and the use thereof in removing or dissolving a contaminant from an environment | |
| US20050087216A1 (en) | Exterior surface cleaner and method of use | |
| US20060000495A1 (en) | Novel methods and compositions for remediating submerged deposits | |
| KR100704617B1 (ko) | 선박용 수용성 세척제 조성물 | |
| AU2003204716B2 (en) | Solid TCMTB Formulations | |
| BRPI1102485A2 (pt) | Composição e processo de higienização de reservatório de água |