NL8005468A

NL8005468A - Fotopolymeriseerbare, een s-triazineverbinding bevat- tende samenstelling.

Info

Publication number: NL8005468A
Application number: NL8005468A
Authority: NL
Original assignee: Asahi Chemical Ind
Priority date: 1979-10-03
Filing date: 1980-10-02
Publication date: 1981-04-07
Also published as: DE3037521A1; JPS5721697B2; GB2059422A; NL186275C; JPS5651735A; DE3037521C2; US4320189A; FR2466792B1; GB2059422B; FR2466792A1

Description

-4 VO 1060

Fotopolymeriseerbare, een s-triazineverbinding bevattende, samenstelling.

De uitvinding heeft betrekking op een nieuwe fotopoly-meriseerbare samenstelling. Meer in het bijzonder heeft de uitvinding betrekking op een verbeterde fotopolymeriseerbare samenstelling, die bruikbaar is als een fotoreservesamenstelling, waaruit een fotoreserve 5 of beschermings- of etslaag, die bruikbaar is voor waterige bekledings-of etsoplossingen, wordt gemaakt.

Een fotoreservesamenstelling wordt aangebracht of door verhitting gelamineerd op een geschikt substraat, b.v. een met koper beklede epoxyglasvezelplaat en bestraald met aktinisch licht via een 10 transparant medium waarbij de belichte gebieden van de samenstelling worden gepolymeriseerd. De fótöreservelaag wordt in de niet-belichte gebieden weggewassen met een geschikte vloeibare ontwikkelaar, waarbij een reserve- of resistbeeld wordt geproduceerd. Het substraat met daarop de reserve- of et slaag wordt daarna onderworpen aan een aantal diver-15 se behandelingen, zoals etsen en bekleden alsmede een anodische behandeling voor het modificeren van het niet-beschermde oppervlak van het substraat om een produkt te verkrijgen, zoals een gedrukte schakelingenplaat .

Wanneer de reservelaag wordt toegepast in een waterige 20 ets- of bekledings-oplossing of een soortgelijke oplossing, kan door onvoldoende hechting van de reservelaag aan het substraat de oplossing tussen de reservelaag en het substraat infiltreren, zodat zich onder de geharde gebieden van de reservefilm oplossing bevindt. Dit kan leiden tot scheiding of omhoogtrekken van de reservelaag van het substraat, hetgeen 25 leidt tot verliezen aan de randen van de reservelaag bij etsen of deponeren van een metaal op het substraat, waarbij het metaal bij elektroly-tisch bekleden zelfs onder de reservelaag kan komen. Derhalve kan de nauwkeurigheid van het gevormde patroon sterk achteruitgaan door verlies van sommige delen van het patroon en/of verlies van de randbegren-30 zing in het patroon. Als gevolg hiervan moeten een groot aantal platen worden afgekeurd.

Het is derhalve een hoofddoel van de uitvinding te voorzien in een fotopolymeriseerbare samenstelling die een fotoreserve-laag met een verbeterde hechting aan een substraat geeft.

8 0 0 5 46 8 2

Volgens de uitvinding wordt voorzien in een fotopoly-meriseerbare samenstelling, gekenmerkt door: (a) ten minste één niet-gasvormige ethylenisch onverzadigde verbinding met ten minste twee eindstandige ethyleengroepen, die 5 in staat is een boog moleculair polymeer te vormen door middel van een door aktinische straling geactiveerde fotopolymerisatie-inleider; (b) ten minste één thermoplastische organische poly- meerbinder; (c) ten minste één fotopolymerisatie-inleider, die 10 door aktinische straling activeerbaar is en (d) ten minste één s-triazineverbinding voorgesteld door formule (1) van het formuleblad, waarin en R^ elk onafhankelijk een waterstofatoom, een aminogroep, een arylgroep, een‘rechte of vertakte alkylgroep met 1 - 4 koolstofatomen, een rechte of vertakte alkylamino- 15 groep met 1 - k koolstofatomen of een halogeenatoom voorstellen. In deze formule kan de arylgroep, die R^ en/of R^ kan voorstellen, een fe-nyl- of naftylgroep zijn, die al of niet is gesubstitueerd met een of twee rechte of vertakte alkylgroepen met 1 - U koolstofatomen, waarbij het halogeenatoom chloor, broom, fluor of jodium kan zijn.

20 Door de in de fotopolymeriseerbare samenstelling van de uitvinding aanwezige s-triazineverbinding, wordt de hechting van een uit de samenstelling bereide reservelaag aan een substraat zo sterk verbeterd, dat de in verband met de reservelaag genoemde problemen, die behandelingen, zoals etsen of bekleden, begeleiden, niet meer worden on-25 dervonden. Het was tot dusver niet bekend dat welke triazineverbinding dan ook de hechting van een reservelaag, bereid uit een de triazine bevattende samenstelling, aan een metallisch substraat zou bevorderen.

Specifieke voorbeelden van de in de samenstelling van de uitvinding toe te passen s-triazineverbinding omvatten melamine, 30 guanamine, acetoguanamine, benzoguanamine, 2-ethyl-4,6-diamino-s-tria-zine, 2,^-diamino-s-triazine, 2,^-diamino-6-tolyl-s-triazine, 2,^-dia-mino-6-xylyl-s-triazine en 2-amino-4-methyl-6-fenyl-s-triazine. Deze kunnen hetzij alleen of in combinatie worden toegepast. De hoeveelheid in de fotopolymeriseerbare samenstelling toe te passen s-triazinever-35 binding, hoewel de bovengrens daarvan wordt beheerst door de oplosbaarheid van de verbinding in de samenstelling, kan in het gebied van 0,1 -5 gew.% en bij voorkeur in het gebied van 0,5-2 gev.%, gebaseerd op 80 05 46 8 3 «É· % de samenstelling, liggen.

De fotopolymeriseerbare samenstelling van de uitvinding "bevat een niet-gasvormige ethylenisch onverzadigde verbinding en een thermoplastische organische polymeerbinder, die met deze verbinding ver-5 enigbaar is. De in de samenstelling van de uitvinding toe te passen ethylenisch onverzadigde verbinding heeft ten minste twee eindstandige ethyleengroepen, waarbij een hoogmoleculair polymeer wordt verkregen met behulp van een fotopolymerisatie-inleider, die wordt geactiveerd door aktinische straling, welke verbinding een kookpunt van 100°C of 10 hoger onder atmosferische druk kan bezitten. Als ethylenisch onverzadigde verbinding kan men b.v. noemen: acrylzuuresters, methaerylzuuresters, acrylamidederivaten, methacryl-amidederivaten, allylverbindingen, vinyletherverbindingen en vinylester-verbindingen. Specifieke voorbeelden van de ethylenisch onverzadigde 15 verbinding omvatten acrylzuur- of methaerylzuuresters, zoals polyacryl-zuur of polymethacrylzuuresters van veelwaardige alcoholen, waarbij het voorvoegsel "poly" "di" of hoger betekent, terwijl specifieke voorbeelden van de veelwaardige alcoholen omvatten polyethyleenglycol, poly-propyleenglycol, neopentylglycol, trimethylolpropaan, pentaeritritol, 20 butaandiol en trimethylolethaan; acryl- of methacrylamidederivaten, zoals methyleen-bis-acrylamide, methyleen-bis-methacrylamide, methyleen-bis-acrylamide, ethyleen-bis-methacrylamide, hexamethyleen-bis-acrylamide en hexamethyleen-bis-methacrylamide; allylverbindingen, zoals diallyl-esters van ftaalzuur, adipinezuur, malonzuur, en dergelijke; vinylether-25 verbindingen, zoals polyethers van vinylalcohol en een veelwaardige alcohol, waarvan specifiek voorbeelden als boven zijn vermeld; en vinyl-esterverbindingen zoals divinylsuccinaat, divinyladipaat en divinylfta-laat. Acrylzuuresters en methaerylzuuresters hebben de meeste voorkeur in de samenstelling van de uitvinding.

30 Het viscositeitsgemiddelde molecuulgewicht van poly ethyleenglycol of polypropyleenglycol als boven vermeld is niet kritisch, en is gewoonlijk tot 10.000, bij voorkeur tot ten hoogste 5*000.

De bovenvermelde ethylenisch onverzadigde verbindingen kunnen hetzij alleen of in mengsel worden toegepast. De hoeveelheid van de ethyle-35 nisch. onverzadigde verbinding kan 20 - βθ gew./t bedragen, gebaseerd op de fotopolymeriseerbare samenstelling.

80 0 5 46 8 k

De in de samenstellingen van de uitvinding toe te passen thermoplastische organische polymeerbinder kan zodanig worden gekozen, dat deze verenigbaar is met de ethylenisch onverzadigde verbinding. Specifieke voorbeelden van de in de samenstelling van de uitvinding toe 5 te passen polymere binder omvatten methylmethacrylaathomopolymeer, alsmede copolymeren met een monomeer of monomeren, zoals methacrylzuur, acrylzuur, methylacrylaat, butylacrylaat, enz.; styreenhomopolymeer en copolymeren met een monomeer of monomeren, zoals methylmethacrylaat, acrylonitril, butadieen, enz.; vinylchloridehomopolymeer en copolymeren 10 met een monomeer of monomeren, zoals vinylacetaat, vinylideenchloride, enz.; vinylacetaathomopolymeer en copolymeren met een monomeer of monomeren, zoals ethyleen, vinylchloride, enz.; gechloreerd polyethyleen; polyvinylalcohol en polyvinylbutyral. Deze kunnen hetzij alleen of in mengsel worden toegepast. De hoeveelheid van de polymere binder kan 30 -15 77 gew.% zijn, gebaseerd op de fotopolymeriseerbare samenstelling. Het gemiddelde viscositeitsmolecuulgewicht van de organische polymere binder is niet kritisch en elke binder kan worden toegepast voorzover deze door wassen met een vloeibare ontwikkelaar in de ontwikkelingstrap kan worden verwijderd. In het algemeen is het viscositeitsgemiddelde 20 molecuulgewicht van de polymere binder 5*000 - 1.000.000, bij voorkeur 10.000 - 300.000.

De meeste fotopolymerisatie-inleiders die gewoonlijk worden toegepast zijn in de fotopolymeriseerbare samenstelling van de uitvinding bruikbaar. Specifieke voorbeelden van fotopolymerisatie-inlei-25 ders, die bijzonder geschikt zijn voor de polymerisatie van ethylenisch onverzadigde verbindingen, omvatten antrachinon en derivaten van antra-chinon, zoals 2-methyl-antrachinon en 2-ethyl-antrachinon; benzoine en derivaten van benzoine, zoals benzoxne-methylether en benzoïne-ethylether; benzofenon en derivaten van benzofenon, zoals Michler's-30 keton [ h, hr -bis-(dimethylamino )benzofenon ] 'y en chinonverbindingen, zoals fenantreenchinon. Deze kunnen hetzij alleen of in combinatie worden toegepast. De hoeveelheid van de fotopolymerisatie-inleider kan in het gebied van 1-10 gew.% liggen, gebaseerd op de fotopolymeriseerbare samenstelling.

35 Haast de essentiële ingrediënten (a), (b), (c) en (d) kan de fotopolymeriseerbare samenstelling van de uitvinding een poly- 80 05 46 8 i * * 5 merisatieremmer omvatten ter verhindering van thermische polymerisatie gedurende opslag van de polymeriseerbare samenstelling, een kleurstof of pigment voor het uit de samenstelling maken van een reservelaag, die duidelijk zichtbaar is en/of een weekmaker ter verbetering van de 5 fysische en chemische eigenschappen van de samenstelling,

De fotopolymeriseerbare samenstelling van de uitvinding wordt op een geschikt substraat aangebracht, b.v, kan deze worden bekleed op een geschikte filmdrager, waarna de verkregen fotopolymeri-seerbare laag met de filmdrager kan worden gelamineerd op een met ko-10 per beklede, epoxyglas-vezelplaat. Voor of nadat de filmdrager wordt af gestript, wordt de fotopolymeriseerbare laag bestraald met aktinisch licht via een transparant medium, dat een negatief of positief kan zijn, gevolgd door het wegwassen van de niet-belichte gebieden van de foto-polymeerfilm met een geschikte vloeibare ontwikkelaar, zoals 1,1,1-tri-15 chloorethaan, ter vorming van een patroon op de plaat. De belichte ko-perlaag van de plaat die niet door de reservelaag wordt beschermd, kan worden weggeëtst met een etsoplossing, zoals een ferrichlorideoplos-sing, onder vorming van een geëtst patroon electrolytisch bekleed met een metaal of metalen, zoals koper en/of soldeer, ter vorming van een 20 bekleed patroon.

De fotopolymeriseerbare samenstelling van de uitvinding is bruikbaar voor het maken van een fotoreservelaag, die bijzonder geschikt is voor bekleden en etsen en tevens voor solderen. De samenstelling van de uitvinding kan tevens worden toegepast als een UV-inkt (een 25 inkt die door belichting met ultraviolette straling hardhaar is) alsmede voor de vervaardiging van reliefbeelden en drukplaten.

Het viscositeitsgemiddelde molecuulgewieht (Mv) als aangegeven in de beschrijving wordt berekend uit de intrinsieke viscositeit ( ^ ) bij 25°C van een oplossing van een polymeer materiaal in 30 een oplosmiddel, onder toepassing van de nu volgende vergelijking. De intrinsieke viscositeit wordt onderzocht met een Ostvald' s-viscometer.

[ 7? ] * KM®

L v V

(waarin K en a constanten zijn inherent aan het type polymere materiaal).

Met betrekking tot polymethylmethacrylaat en polysty-35 reen zijn b.v. de toe te passen oplosmiddelen en de constanten K en α als volgt: 6

Oplosmiddel K a polymethylmethacrylaat chloroform U,85 x 10 0,80 _1| .

polystyreen "benzeen 1,0 x 10 0,7^

Het viscositeitsgemiddelde molecuulgewicht (Mv) is 5 vrijwel gelijk aan het gewichtsgemiddelde molecuulgewicht (Mw).

De volgende voorbeelden illustreren de uitvinding in meer bijzonderheden, zonder dat zij beperkend zijn bedoeld.

Voorbeeld I en vergelijkend voorbeeld 1

De volgende fotoreservesamenstelling werd bereid: 10 polymethylmethacrylaat (Mv = 80.000) U0 g trimethylolpropaantriacrylaat 30 g tricresylfosfaat 5 g benzofenon 3 g

Michler’s keton 0,6 g a 15 p-methoxyfenol 0,03 g methylviolet 1 g

Tevens werden 5 extra mengsels met de bovengenoemde samenstelling bereid. Aan elk mengsel van de samenstelling werd 0,5 g van een van de volgende s-triazineverbindingen toegevoegd. Aldus werden 5 20 soorten fotoreservesamenstellingen, die elk een van de 5 s-triazine-verbindingen bevatten, bereid.

Verbinding 1: acetoguanamine verbinding 2: benzoguanamine verbinding 3: 2,U-diamino-6-tolyl-s-triazine 25 verbinding !+: 2-ethyl-4,6-diamine-s-triazine verbinding 5 · 2-amino-J+nnethyl-6-fenyl-s-triazine.

Elke in methylethylketon opgeloste samenstelling werd bekleed op een 25 micrometer dikke polyethyleentereftalaatfilm en gedroogd onder vorming van een fotopolymeriseerbare laag met een dikte 30 van 25 micrometer, die daarna werd gelamineerd op een met koper beklede epoxyglas-vezelplaat en gedurende 20 seconden door een transparant medium belicht met aktinisch licht uit een 2 kW super-hogedrukkwikdamp-lamp Phoenix 3.000 (handelsnaam van produkt van Ork Manufacturing Co.

Otd. Japan).

35 De polyethyleentereftalaatfilm wordt daarna afgepeld 80 0 5 46 8 f _ '·' τ en 1,1,1-tri chloor et haan werd gedurende 1 minuut uit een sproeimond-stuk op de laminaatplaat gespoten om ontwikkeling tot stand te "brengen.

De verkregen laminaatplaat werd gewassen met water en gedroogd.

Een afpelproef, waarbij een eellofaandrukgevoelige 5 hechttape aan een op het substraat achterblijvende reservelaag wordt vastgemaakt en daarna zeer snel afgetrokken, toonde aan, dat de uit de samenstellingen gevormde reservelagen, die elk êên van de 5 s-triazine-verbindingen bevatten, aan de met koper beklede epoxyglasvezelplaat bleven hechten en dat de uit de samenstelling, die geen s-triazineverbin-10 ding bevatte, gevormde reservelaag tegelijk met de cellofaanhechttape werd af gepeld.

Elke reservekoperplaat (met koper beklede epoxyglasvezelplaat met daarop een.reservelaag) werd gedurende 30 seconden gedompeld in een waterige oplossing van 200 g/1 ammoniumpersulfaat, gewassen 15 met water en gedurende 30 minuten met koper bekleed in een bad van een koperthiofosfaat-bekledingsoplossing Pyrodon Conc. (handelsnaam van een bekledingsoplossing van Harshaw Murat a Co. Japan), welk bad werd toege-past bij 1,0 V met een kathcdestroomdichtheid van 3,0 A/100 cm . Bij de uit de geen s-triazineverbinding bevattende verbinding gevormde reserve-20 laag werd omhooggaan van de reservelaag van de met koper beklede plaat waargenomen, die blijkbaar veroorzaakt werd door infiltratie van de be-kledingsoplossing tussen de reservelaag en de met koper beklede plaat.

Bij de reservelagen, gevormd uit de samenstellingen, die elk éên van de 5 s-triazineverbindingen bevatten, vond een dergelijk omhooggaan niet 25 plaats.

Daarna werd elke met koper beklede plaat onderworpen aan een 12 minuten soldeerbekleding in een bad van een boorfluoride sol- deerbekledingsoplossing (van Sumitomo 3 M. Ltd, Japan), welk bad werd 2 gebruikt bij 0,5 V met een kathodestroomdichtheid van 2,0 A/100 cm , 30 gevolgd door verwijdering uit het bad, wassen met water en drogen. Elke met soldeer beklede plaat werd onderzocht. Bij de reservelaag gevormd uit de samenstelling, die geen s-triazineverbinding bevatte, werden de gebieden van de met koper beklede plaat zelfs onder de reservelaag met soldeer bekleed. Bij reservelagen gevormd uit samenstellingen die elk 35 êên van de 5 s-triazineverbindingen bevatten, vond geen soldeerbekleding onder de reservelaag plaats omdat de reservelaag stevig aan de met 80 0 5 46 8 8 koper beklede plaat gehecht bleef.

Ha het afpellen van de reservelaag werd elke met soldeer beklede plaat geëtst in een etsoplossing (een waterige oplossing van 200 g/1 ammoniumpersulfaat) die wel in staat was koper, maar niet 5 in staat was soldeer weg te etsen ter vorming van een soldeerpatroon.

De reservelaag gevormd uit de samenstelling,, die geen s-triazineverbin-ding bevatte, leverde een onduidelijk soldeerpatroon, terwijl daarentegen reservelagen gevormd uit de samenstellingen, die elk êên van de 5 s-triazineverbindingen bevatten, duidelijke soldeerpatronen oplever-10 den.

Voorbeeld II en vergelijkend voorbeeld 2 6 Reservekoperplaten werden op dezelfde wijze vervaardigd als in voorbeeld I. Elke reservekoperplaat werd geëtst in een U5° Baumë ferrichloride-oplossing. Bij de reservelaag gevormd uit de samen-15 stelling, die geen s-triazineverbinding bevatte werd in sommige gebieden omhooggaan van de reservelaag van de met koper beklede plaat waargenomen, waarbij het koperpatroon, dat na het afpellen van de reservelaag achterbleef, een slechte randbegrenzing had en kleiner in breedte was dan het reservepatroon. Bij de reservelagen gevormd uit de samen-20 stellingen, die elk êên van de 5 s-triazineverbindingen bevatten, vond een dergelijk omhooggaan in het geheel niet plaats en de na het afpellen van de reservelagen achtergebleven koperpatronen waren alle duidelijk, hadden een uitstekend randbegrenzing en een vrijwel gelijke breedte als de overeenkomstige reservepatronen.

25 Voorbeeld III

Er werden 5 mengsels met de volgende samenstelling bereid: polymethylmethacrylaat (Mv = βΟ.ΟΟΟ ^0 g trimethylolpropaantriacrylaat 10 g 30 tetraethyleenglycoldiacrylaat 10 g triëthyleenglycoldiacrylaat 3 g benzoguanamine 0,3 g malachiet-groen 0,6 g

An elk mengsel van de samenstelling werd ëën van de nu 35 volgende fotopolymerisatie-inleiders toegevoegd. Aldus werden 5 soorten fotoreservesamenstellingen bereid.

80 05 46 8 I „ , 9 2-Ethylantrachinon 2,0 g benzoine-ethylether 1,0 g benzofenon 2,0 g acetonfenon 3,0 g 5 fenantreenchinon 2,0 g

Elk van de voornoemde samenstellingen (opgelost in methylethylketon) werd "bekleed op een laag, gelamineerd, "belicht, ontwikkeld, met koper "bekleed en met soldeer "bekleed als in voorbeeld I.

Alle uit de 5 soorten samenstellingen gevormde reservelagen voldeden 10 uitstekend en gaven geen moeilijkheden, zodat de verkregen platen alle bruikbaar waren voor gedrukte schakelingenplaten.

Voorbeeld IV en vergelijkend voorbeeld 3

Er werden 3 mengsels van de volgende fotoreservesamen- stelling bereid.

15 Styreen-aerylonitrilcopolymeer (styreen: acrylonitril = 85 ' 15 in mol, Mv = 150.000) li-0 g pentaerytritoltriaerylaat 25 g triëthyleenglycoldiacetaat 5»2 g 2-methylantrachinon 2,5 g 20 methyl violet 0,3 g methylhydrochinon 0,1 g

Aan ëén mengsel van de voornoemde samenstelling (opgelost in methylethylketon) werd 1,5 g benzoguanamine toegevoegd ter bereiding van een andere fotoreservesamenstelling. Aan een andere lading 25 van de genoemde samenstelling werd 1,5 S 2,U-diamino-6-tolyl-n-triazine .toegevoegd ter bereiding van nog een andere fotoreservesamenstelling.

Aan de achterblijvende lading van de voornoemde samenstelling werd geen s-triazineverbinding toegevoegd. Aldus werden 3 soorten fotoreserve-samenstellingen bereid.

30 Elke fotoreservesamenstelling werd bekleed op een bi- axiaal georiënteerde polypropeenfilm en gedroogd ter vorming van een fotopolymeriseerbare laag met een dikte van 38 micrometer, die daarna werd gelamineerd en op dezelfde wijze belicht als in voorbeeld I. De polypropyleenfilm werd afgepeld en de laminaatplaat. werd onderworpen aan 35 electrolytische koperbekleding en soldeerbekleding op dezelfde wijze 80 05 46 8 10 als in voorbeeld I. De uit de samenstellingen, die elk één van de voornoemde twee s-triazineverbindingen bevatten, gevormde reservelagen gaven geen ongunstige metaalafzetting in de gebieden onder de reservelagen bij de bekleding met koper en soldeer en leverden zeer duidelijke 5 patronen.

De reservelaag gevormd uit de samenstelling, die geen s-triazineverbinding bevatte, gaf een ongunstige metaalafzetting in gebieden onder de reservelaag en leverde een onduidelijk patroon met een slechte randbegrenzing, waarvan zelfs delen met een zeer kleine lijn-10 breedte waren losgeraakt.

Voorbeeld V en vergelijkend voorbeeld k

Er werden 3 mengsels van de volgende fotoreservesamen- stelling bereid.

Gechloreerd polyetheen 907 LTA (handelsnaam 15 van een produkt van Sanyo-Kokusaku Pulp. Co.

Ltd. Japan) 40 g trimethylolpropaantriacrylaat 12 g triëthyleenglycoldimethacrylaat 12 g trifenylfosfaat U g 20 2-ethylantrachinon 2 g victoriablauw 0,1 g

Aan één lading van de voornoemde samenstelling (opgelost in methylethylketon) werden toegevoegd 0,2 g benzoguanamine en 0,1 g 2,^-diamino-6-tolyl-s-triazine ter bereiding van een andere foto-25 reservesamenstelling. Aan een andere lading van de voornoemde samenstelling werd 0,3 g 2-amino-4-ethyl-6-fenyl-s-triazine toegevoegd, ter bereiding van nog een andere fotoreservesamenstelling. Aan het achterblijvende mengsel van de voomoemde samenstelling werd geen s-triazinever-binding toegevoegd. Aldus werden drie soorten fotoreservesamenstellingen 30 bereid.

Elke fotoreservesamenstelling werd bekleed op een poly-ethyleentereftalaatfilm en gedroogd onder vorming van een fotopolymeri-seerbare laag met een dikte van 38 micrometer, die daarna werd gelamineerd en op dezelfde wijze als in voorbeeld I belicht. De polyethyleen-35 tereftalaatfilm werd afgepeld en de laminaatplaat werd met koper en met soldeer bekleed op dezelfde wijze als in voorbeeld I. De uit de samen- 80 05 46 8 ✓ 11 stellingen, die elk een of twee s-triazineverbindingen bevatten, gevormde reservelagen gaven geen ongunstige metaalafzetting in de gebieden onder de reservelagen bij het met koper en soldeer bekleden, waarbij zeer duidelijke patronen werden verkregen. De reservelaag gevormd 5 uit de samenstelling die geen s-triazineverbinding bevatte gaf een ongunstige metaalafzetting- in de gebieden onder de reservelaag, en leverde een onduidelijk patroon met een slechte randbegrenzing.

80 05 468

Claims

1. Fotopolymeriseerbare samenstelling, met het kenmerk, dat deze omvat: (a) ten minste ien niet-gasvormige ethylenisch onverza-‘digde verbinding met ten minste twee eindstandige ethylenische groepen, 5 die in staat is door middel van een door aktinische straling act i vee r-bare fotopolymerisatie-inleider een hoogmoleculair polymeer te vormen; (b) ten minste eln thermoplastische organische poly- mere binder; (c) ten minste êên fotopolymerisatie-inleider die door 10 aktinische straling activeerbaar is en (d) ten minste eln s-triazineverbinding, voorgesteld door formule 1, waarbij R en R^ elk onafhankelijk waterstof, een amino-groep, een arylgroep, een rechte of vertakte alkylgroep met 1 - k koolstof at omen, een rechte of vertakte alkylaminogroep met 1 - k koolstof- 15 atomen of een halogeenatoom voorstellen.

2. Samenstelling volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de arylgroep een fenyl- of naftylgroep al of niet gesubstitueerd met een of twee rechte of vertakte alkylgroepen met 1 - k koolstofatomen, voorstelt. 20 3· Samenstelling volgens conclusies 1-2, met het ken merk, dat ten minste een s-triazineverbinding (d) in een hoeveelheid van 0,1 - 5 gew.$, gebaseerd op de samenstelling, aanwezig is. k. Samenstelling volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat ten minste een s-triazineverbinding (d) in een hoeveelheid van 0,5 -25 2 gew.gebaseerd op de samenstelling, aanwezig is. - 5· Samenstelling volgens conclusies 1 - k, met het ken merk, dat ten minste een ethylenisch onverzadigde verbinding (a) een polyacrylzuur- of polymethacrylzunrester van een veelwaardige alcohol is.

6. Samenstelling volgens conclusies 1-5, met hét kenmerk, dat ten minste Ien thermoplastische organische polymere binder wordt gekozen uit een methylmethacrylaathomopolymeer en copolymeren, een sty-reenhomopolymeer en copolymeren, en vinylchloridehomopolymeer en co- 80 05 46 8 i ^ polymeren, een .vinylac et aathomopolymeer en copolymer en, gechloreerd polyetheen, polyvinylalcohol en polyvinyltutyral.

7. Samenstelling volgens conclusies 1-6, met het ken merk., dat 2.0 - 6q gew.% van ten minste een ethylenisch onverzadigde 5 verbinding (a) 30 - 7T gev.$ van ten minste een thermoplastische organische polymere hinder (b) en 1 - 10 gev.% van ten minste een fotopoly-merisatie-inleider (c), gebaseerd op de samenstelling, aanwezig zijn. 80 0 5 46 8