NL186353C - Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak. - Google Patents

Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak.

Info

Publication number
NL186353C
NL186353C NLAANVRAGE7904579,A NL7904579A NL186353C NL 186353 C NL186353 C NL 186353C NL 7904579 A NL7904579 A NL 7904579A NL 186353 C NL186353 C NL 186353C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
substrate
derogation
opto
imaging
determining
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7904579,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7904579A (nl
NL186353B (nl
Inventor
Stefan Dr Wittekoek
Theodorus Adolphus Fahner
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NLAANVRAGE7904579,A priority Critical patent/NL186353C/xx
Priority to CA000353625A priority patent/CA1139441A/en
Priority to GB8018792A priority patent/GB2052090B/en
Priority to DE3021622A priority patent/DE3021622C2/de
Priority to FR8012988A priority patent/FR2458830B1/fr
Priority to US06/158,653 priority patent/US4356392A/en
Priority to JP7846280A priority patent/JPS5632114A/ja
Publication of NL7904579A publication Critical patent/NL7904579A/nl
Publication of NL186353B publication Critical patent/NL186353B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL186353C publication Critical patent/NL186353C/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/7026—Focusing
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
NLAANVRAGE7904579,A 1979-06-12 1979-06-12 Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak. NL186353C (nl)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NLAANVRAGE7904579,A NL186353C (nl) 1979-06-12 1979-06-12 Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak.
CA000353625A CA1139441A (en) 1979-06-12 1980-06-09 Optical imaging system provided with an opto-electronic detection system for determining a deviation between the image plane of the imaging system and a second plane on which an image is to be formed
GB8018792A GB2052090B (en) 1979-06-12 1980-06-09 Optical imaging system
DE3021622A DE3021622C2 (de) 1979-06-12 1980-06-09 Optisches Abbildungssystem mit einem optoelektronischen Detektionssystem zur Bestimmung einer Abweichung zwischen der Bildfläche des Abbildungssystems und einer zweiten Fläche, auf der abgebildet wird
FR8012988A FR2458830B1 (fr) 1979-06-12 1980-06-11 Systeme de representation optique muni d'un systeme de detection opto-electronique servant a determiner un ecart entre le plan image du systeme de representation et un second plan destine a la representation
US06/158,653 US4356392A (en) 1979-06-12 1980-06-11 Optical imaging system provided with an opto-electronic detection system for determining a deviation between the image plane of the imaging system and a second plane on which an image is to be formed
JP7846280A JPS5632114A (en) 1979-06-12 1980-06-12 Optical image forming system

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NLAANVRAGE7904579,A NL186353C (nl) 1979-06-12 1979-06-12 Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak.
NL7904579 1979-06-12

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7904579A NL7904579A (nl) 1980-12-16
NL186353B NL186353B (nl) 1990-06-01
NL186353C true NL186353C (nl) 1990-11-01

Family

ID=19833337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7904579,A NL186353C (nl) 1979-06-12 1979-06-12 Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4356392A (xx)
JP (1) JPS5632114A (xx)
CA (1) CA1139441A (xx)
DE (1) DE3021622C2 (xx)
FR (1) FR2458830B1 (xx)
GB (1) GB2052090B (xx)
NL (1) NL186353C (xx)

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2504281A1 (fr) * 1981-04-16 1982-10-22 Euromask Appareil de projection a dispositif de mise au point
US4443096A (en) * 1981-05-18 1984-04-17 Optimetrix Corporation On machine reticle inspection device
DD159377A1 (de) * 1981-05-28 1983-03-02 Reiner Hesse Anordnung zur positionierung
JPS58113706A (ja) * 1981-12-26 1983-07-06 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 水平位置検出装置
US4468565A (en) * 1981-12-31 1984-08-28 International Business Machines Corporation Automatic focus and deflection correction in E-beam system using optical target height measurements
JPS59121932A (ja) * 1982-12-28 1984-07-14 Fujitsu Ltd 自動焦点制御装置
DE3325042A1 (de) * 1983-07-12 1984-02-23 Kodak Ag, 7000 Stuttgart Selbstfokussiervorrichtung
AU575332B2 (en) * 1983-07-29 1988-07-28 Sony Corporation Optical disk pick-up
DE3340646A1 (de) * 1983-11-10 1985-05-23 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar Verfahren und anordnung zur abstandsdetektion zwischen einem objekt und einem ultraschall-objektiv
JPS60145764A (ja) * 1984-01-10 1985-08-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 画像走査記録方法
US4742506A (en) * 1984-07-12 1988-05-03 Sony Corporation Tracking error detecting apparatus for an optical head with skew error reduction by using an inclined header portion
GB2162634B (en) * 1984-08-01 1988-03-30 Hamar M R System for measuring position of incidence of laser beam on a continuous cell target with respect to a given point
JPS6174338A (ja) * 1984-09-20 1986-04-16 Hitachi Ltd 縮小投影露光装置およびその方法
JPH0792916B2 (ja) * 1985-02-08 1995-10-09 松下電器産業株式会社 光学記録信号再生方法
US4667090A (en) * 1985-06-10 1987-05-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Synthetic aperture multi-telescope tracker apparatus
JPH0610695B2 (ja) * 1985-06-19 1994-02-09 株式会社日立製作所 焦点合せ方法及びその装置
JPH0660811B2 (ja) * 1985-09-24 1994-08-10 ソニー株式会社 反射型傾き検出素子
NL8600253A (nl) * 1986-02-03 1987-09-01 Philips Nv Optisch afbeeldingssysteem voorzien van een opto-elektronisch fokusfoutdetektiestelsel.
US4956833A (en) * 1986-03-31 1990-09-11 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Objective driving device for an optical disk apparatus
JPS63190334A (ja) * 1987-02-02 1988-08-05 Canon Inc 投影露光方法
JPS63262841A (ja) * 1987-04-21 1988-10-31 Canon Inc 投影露光方法
US5055663A (en) * 1988-06-28 1991-10-08 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Optical scanning system and method for adjusting thereof
DE3834117A1 (de) * 1988-10-07 1990-04-12 Zeiss Carl Fa Koordinatenmessgeraet mit einem optischen tastkopf
US6094268A (en) * 1989-04-21 2000-07-25 Hitachi, Ltd. Projection exposure apparatus and projection exposure method
DE69027738T2 (de) * 1989-04-21 1996-11-28 Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo Projektions- und wiedergabeschaltung sowie projektions- und wiedergabeverfahren
JP2960746B2 (ja) * 1990-03-15 1999-10-12 株式会社日立製作所 ビーム照射方法および電子ビーム描画方法とビーム照射装置並びに電子ビーム描画装置
NL9001611A (nl) * 1990-07-16 1992-02-17 Asm Lithography Bv Apparaat voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat.
JPH0646300B2 (ja) * 1990-07-26 1994-06-15 株式会社東芝 パターン検査装置
DE4131737C2 (de) * 1991-09-24 1997-05-07 Zeiss Carl Fa Autofokus-Anordnung für ein Stereomikroskop
US5266791A (en) * 1991-10-17 1993-11-30 Fuji Photo Optical Co., Ltd. Autofocus binocular stereomicroscope
US5216235A (en) * 1992-04-24 1993-06-01 Amray, Inc. Opto-mechanical automatic focusing system and method
JPH0632215U (ja) * 1992-10-02 1994-04-26 東洋ゴム工業株式会社 自動車用ウエザストリップ
US5298976A (en) * 1992-11-16 1994-03-29 Arie Shahar Method and apparatus for measuring surface distances from a reference plane
KR100300618B1 (ko) 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
DE69508228T2 (de) * 1994-06-02 1999-09-23 Koninkl Philips Electronics Nv Verfahren zur wiederholten abbildung eines maskenmusters auf einem substrat und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE69531854T2 (de) * 1994-08-02 2004-08-19 Koninklijke Philips Electronics N.V. Verfahren zur wiederholten abbildung eines maskenmusters auf einem substrat
JP2728368B2 (ja) * 1994-09-05 1998-03-18 株式会社 日立製作所 露光方法
JPH11504770A (ja) * 1996-03-04 1999-04-27 アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ マスクパターンをステップ及びスキャン結像するリソグラフィ装置
TW367407B (en) * 1997-12-22 1999-08-21 Asml Netherlands Bv Interferometer system with two wavelengths, and lithographic apparatus provided with such a system
US6160622A (en) * 1997-12-29 2000-12-12 Asm Lithography, B.V. Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device
US6417922B1 (en) 1997-12-29 2002-07-09 Asml Netherlands B.V. Alignment device and lithographic apparatus comprising such a device
ES2232137T3 (es) 1998-05-15 2005-05-16 Astrazeneca Ab Derivados de benzamida para el tratamiento de enfermedades mediadas por citoquinas.
US6137580A (en) * 1998-09-22 2000-10-24 Creo Srl Autofocus system
US6368763B2 (en) 1998-11-23 2002-04-09 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6248486B1 (en) 1998-11-23 2001-06-19 U.S. Philips Corporation Method of detecting aberrations of an optical imaging system
US6544694B2 (en) 2000-03-03 2003-04-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a device by means of a mask phase-shifting mask for use in said method
TW556296B (en) * 2000-12-27 2003-10-01 Koninkl Philips Electronics Nv Method of measuring alignment of a substrate with respect to a reference alignment mark
TW526573B (en) * 2000-12-27 2003-04-01 Koninkl Philips Electronics Nv Method of measuring overlay
JP4504622B2 (ja) * 2001-05-18 2010-07-14 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ デバイスを製造するリソグラフィック方法
US6987561B2 (en) * 2002-04-24 2006-01-17 Analog Devices, Inc. System and apparatus for testing a micromachined optical device
JP2004282017A (ja) * 2002-09-20 2004-10-07 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法
US7355675B2 (en) * 2004-12-29 2008-04-08 Asml Netherlands B.V. Method for measuring information about a substrate, and a substrate for use in a lithographic apparatus
FR2883369B1 (fr) * 2005-03-18 2007-06-01 Sagem Dispositif de mesure optique par triangulation optique
US10112258B2 (en) * 2012-03-30 2018-10-30 View, Inc. Coaxial distance measurement via folding of triangulation sensor optics path
CN107450287B (zh) * 2016-05-31 2019-10-25 上海微电子装备（集团）股份有限公司 调焦调平测量装置及方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3037423A (en) * 1957-12-30 1962-06-05 Polaroid Corp Automatic focusing system
US3264935A (en) * 1964-01-06 1966-08-09 Robert W Vose Self-focusing slide projector
US3775012A (en) * 1971-07-07 1973-11-27 El Ab As Means for determining distance
JPS5515685B2 (xx) * 1972-06-30 1980-04-25
DE2658609A1 (de) * 1975-12-26 1977-07-07 Seiko Instr & Electronics Optisches messverfahren und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
NL7706753A (nl) * 1977-03-23 1978-12-22 Philips Nv Inrichting voor het uitlezen van een optische stralingsreflekterende informatiedrager.
JPS5422845A (en) * 1977-07-22 1979-02-21 Toshiba Corp Automatic focusing device
DE2744130A1 (de) * 1977-09-30 1979-04-12 Siemens Ag Vorrichtung zum beruehrungsfreien messen des abstandes einer oberflaeche eines objektes von einer bezugsebene

Also Published As

Publication number Publication date
GB2052090B (en) 1983-04-13
JPS6337364B2 (xx) 1988-07-25
US4356392A (en) 1982-10-26
FR2458830B1 (fr) 1988-02-19
CA1139441A (en) 1983-01-11
GB2052090A (en) 1981-01-21
NL7904579A (nl) 1980-12-16
DE3021622A1 (de) 1980-12-18
NL186353B (nl) 1990-06-01
DE3021622C2 (de) 1984-01-12
JPS5632114A (en) 1981-04-01
FR2458830A1 (fr) 1981-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL186353C (nl) Inrichting voor het afbeelden van een maskerpatroon op een substraat voorzien van een opto-elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van een projektielenzenstelsel en het substraatvlak.
NL182244C (nl) Inrichting voor het op een afbeeldoppervlak verkrijgen van kleureffecten.
NL184298C (nl) Inrichting voor verschilbeeldbepaling.
NL7706200A (nl) Aftast- en stuurketen voor halfgeleiderplaataf- beeldinrichting.
NL187594C (nl) Inrichting voor het detecteren van x- en y-cooerdinaten.
NL191192C (nl) Werkwijze voor het vormen van beelden op een elektrofotografische plaat.
IT1067020B (it) Derivati fenossicarbonilici sostituiti e non sostituiti di uno sviluppatore parafenilendiaminico di colore e loro impiego in un foglio ricevente immagine per un sistema fotografico incolore a trasferimento per diffusione
FR2339838A1 (fr) Dispositif de detection de la position relative d&#39;un element
NL7815005A (nl) Meetwerkwijze en inrichting voor het vinden van fouten op bedrukte vellen en banen.
FR2314584A1 (fr) Dispositif capteur d&#39;images
NL7709658A (nl) Inrichting voor het fixeren van een op een re- gistratiedrager opgebracht tonerbeeld.
NL7705607A (nl) Werkwijze en inrichting voor het detekteren van fouten op een fotomasker.
NL7903676A (nl) Inrichting en werkwijze voor het instellen met behulp van hoge resolutie.
BR8007510A (pt) Chapa de impressao fotossensivel
NL7901133A (nl) Signaalbewerkingsschakeling voor toepassing bij een kleurenbeelddetectiestelsel.
DE69121120D1 (de) Bilderzeugungsgerät mit Fehlererkennungsdetektor für die Fixiermittel
NL7709558A (nl) Stelsel en inrichting voor het verwerken van gedrukte informatie.
NL7705683A (nl) Inrichting en werkwijze voor het vormen van beelden op gevoelig gemaakte oppervlakken.
NL7810638A (nl) Werkwijze en inrichting voor het elektrostatisch drukken en kopieeren.
NL7806450A (nl) Werkwijze voor het vastleggen van beelden op een voor straling gevoelig materiaal.
NL188423C (nl) Optisch-elektrotechnische inrichting voor een thermografisch beeld- en volgapparaat.
NL7803546A (nl) Plaat voor gedrukte bedrading en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL186841C (nl) Inrichting voor het opnemen van kleurenbeelden.
NL7700155A (nl) Inrichting voor het afdekken van de belichtings- plaat van een fotokopieermachine.
JPS57118106A (en) Measuring device for film thickness of thick film hybrid ic or the like

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
A85 Still pending on 85-01-01
BC A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee