MXPA01001281A - Adorno personal cubierto con recubrimiento coloreado y proceso para producir el mismo - Google Patents

Abstract

Un accesorio que tiene sobre la superficie del mismo un recubrimiento coloreado formado mediante un método de chapeado en seco, caracterizado porque comprende un material de base de accesorio hecho de una aleación de cobre o cinc, una capa de recubrimiento de chapeado de níquel formada sobre el material de base o una capa de recubrimiento chapeado de cobre y una capa de recubrimiento chapeado de níquel formada sobre la capa de recubrimiento chapeado de cobre, una capa de recubrimiento chapeado de aleación de níquel-fósforo formada en la superficie de la capa chapeada de níquel y por lo menos una capa de recubrimiento coloreado formada sobre la capa de recubrimiento chapeado de aleación de níquel-fósforo mediante un método de chapeado en seco, un contenido de fósforo en la capa de recubrimiento chapeado de la aleación de níquel-fósforo que es de 11 a 16%en peso, mediante lo cual se proporciona un accesorio de bajo costo que tiene un recubrimiento coloreado mejorado en la resistencia c ontra la corrosión.

Description

ADOR NO PE RSONAL CU B I ERTO CO N RECU BR I MI ENTO COLOREADO Y PROC ESO PARA PRODUC I R EL M ISMO CAMPO TÉCN ICO La presente invención se refiere a un adorno personal e n donde un material de base compuesto de una aleación de cobre o zinc está cubierto con, como una capa más exterior, u n recubrimiento coloreado de, por ejemplo, nitruro de titanio formad o mediante chapeado en seco tal como el proceso de chapeado por iones, y se refiere además a un proceso para producir el adorno personal TÉCNICA ANTECEDENTE Se conocen los adornos personales en donde un material de base compuesto de una aleación de cobre o zinc se cubre con, como la capa más exterior, un recubrimiento coloreado de, por ejemplo, nitruro de titanio formado mediante el proceso de chapeado por iones. Por ejemplo, la Publicación de Patente Japonesa No. 6(1994)-2935 cuyo solicitante es idéntico al de la presente solicitud describe un adorno personal con una superficie coloreada, que comprende un material de base del adorno personal compuesto de una aleación de cobre, una capa de níquel de 1 a 10 µm formada como una capa bajo el recubrimiento en una superficie de la misma mediante electroplastia, una capa de aleación de paladio o paladio de 0.5 a 5 µm de espesor (por ejemplo. paladio/n íquel) formada sobre las capa de n íquel median. e electroplastia y una capa de recubrimiento coloreado de, por ejemplo, nitruro de titanio formada en la capa de aleación de paladio o paladio mediante el proceso de chapeado por iones. Esl e adorno personal, debido a que no es necesario engrosar la capa. de níquel, está libre de desafilado y abolsamiento de diseño atribuidos a chapeado grueso, exhibe una apariencia de calidad superior y es excelente para resistencia a la corroción Sin embargo, este adorno personal, aunque no involucr a problemas prácticos, tiene un problema de costo debido a la inclusión de la capa de paladio o paladio/níquel. El precio del paladio (Pd) como un constituyente de la capa es actualmente muy alto, por lo cual se incrementa de manera extrema el costo de producción del adorno personal. Por ejemplo, el precio del paladio era aproximadamente de 500 yen/g en 1997, pero actualmente (1 998) es tan alto como 1400 yen/g. Además, el gas amon íaco emitido en la electroplastia conducida para la formación de la capa de paladio/n íquel es probablemente que sea perjudicial para otros chapeados que usan cianuro (chapeado de Au/Ag de 14 ó 1 8 kilates) . Además, la capa de paladio/n íquel tiende a ocluir hidrógeno, de manera que es probable que ocurra la fractura de la capa de paladio/níquel resultando en la disminución desfavorable de la adhesión a la capa de recubrimiento coloreado y disminución de la durabilidad (resistencia a la corrosión) de la capa de paladio/níquel.

Además, la Publicación Dejada abierta de la Patente Japonesa No. 4(1992)-304386 cuyo solicitante es idéntico al de la presente solicitud descpbe un material de base compuesto por un material de bajo punto de fusión tal como latón, plata alemana (n íquel plata o argentan) o moldeado a matriz de zinc, una capa de n íquel formada como una capa bajo el recubrimiento en una superficie del material de Dase mediante chapeado en húmedo, una capa de aleación n íquel/fósforo formada directamente sobre la capa de n íquel mediante eíectroplastia y una capa de chapeado en seco (capa de recubrimiento coloreado) formada sobre la capa de aleación ele n íquel/fósforo mediante chapeado en seco. Con respecto a es te miembro de metal, la cantidad de gas amon íaco emitido en la electroplastia conducida para la formación de la capa de aleación de níquel/fósforo es tan pequeña que el gas amon íaco está libre substancialmente de afectar perjudicialmente otros chapeados (proceso de chapeado por iones (chapeado en seco)). También, la capa de aleación de níquel/fósforo no ocluye hidrógeno substancialmente y está libre de agrietamiento, de manera que no hay peligro de disminuir la adhesión a la capa de chapeado en seco (capa de recubrimiento coloreado) y disminuir la durabilidad de la capa de aleación de níquel/fósforo. En particular, el miembro de metal descrito en el ejemplo 1 de la Publicación dejada abierta de la Patente Japonesa No. 4 (1992) - 304386, debido a la formación de una capa de aleación níquel/fósforo que tiene un contenido ele fósforo de aproximadamente 1 0%, es excelente en durabilidad y no tiene de ninguna manera problemas prácticos. Aunque no s e describe en la publicación dejada abierta de la Patente Japones a No. 4(1992)-304386 anterior, la capa de aleación n íquel/fósforo del Ejemplo 1 de la misma se forma mediante electroplastia a una densidad de corriente (Dk) de 5 A/dm2 a 55° C en una solución de chapeado acida de pH 4.0 la cual contiene sulfato de n íquel en una cantidad, en términos de átomos de níquel, de 50 g/lit. , cloruro de níquel en una cantidad en términos de átomos de níquel, de 1 5 g/lit. , y hipofosfito de sodio en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 35 g/lit. La electroplastia en esta solución de chapeado bajo las condiciones de chapeado anteriores durante un tiempo de paso de corriente prolongado, sin embargo, no conduce a la formación de una capa de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 % en peso o más. Los inventores han llevado a cabo estudios extensivos e intensivos con una visión hacia obtener un adorno personal de alto grado que tiene una resistencia a la corrosión mayor que aquella de adornos personales y miembros de metal descritos en las publicaciones anteriores sin el uso de paladio caro. Como resultado se ha encontrado que el siguiente adorno personal producido como se describe más adelante (1 ) o (2) incluye una capa de chapeado de aleación n íquel/fósforo cuyo contenido de fósforo está en el rango de 1 1 a 16% en peso y tiene una resistencia a la corrosión mayor que aquella de adornos personales y miembros de metal descritos en las publicaciones anteriores. La presente invención se ha completado en la base de este hallazgo . Adorno personal ( 1 ): éste se produce mediante el siguiente proceso. Primero, se forma una capa de chapeado de níquel de 1 a 5 µm de espesor mediante electroplastia sobre una superficie de 5 una material de base para adorno personal compuesto de una aleación de cobre o zinc. Alternativamente, se forma una capa de chapeado de cobre de 10 a 1 5 µm de espesor en el material de base mediante electroplastia, y una superficie de la capa de chapeado ele cobre se cubre mediante electroplastia con una capa de chapeado de n íquel de 1 a 1 0 µm de espesor. Subsecuentemente, se forma una capa de recubrimiento de aleación de n íquel/fósforo amorfa ele 3 a 10 µm de espesor (contenido de fósforo: 1 1 a 16% en peso) en una superficie de la capa chapeada de n íquel median te electroplastia a una densidad de corriente (Dk) de 1 a 3 A/dm2, de 50 a 60° C, en una solución de chapeado acida de pH de 3.0 a 3.5 la cual contiene sulfato de n íquel en una cantidad, en términos de átomos de níquel, de 15 a 70 g/lit. , hipofosfito de sodio en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 10 a 50 g/lit. , en una sal conductora eléctricamente (cloruro de amonio) en una cantidad de 50 a 90 g/lit. , un amortiguador de pH en una cantidad de 20 a 50 g/lit. , y un agente formador de complejos en una cantidad de 5 a 30 g/lit. Finalmente, se forma una capa de recubrimiento coloreado ele 0. 1 a 2 µm de grueso mediante chapeado en seco sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa.

Adorno personal (2) : éste se produce mediante el siguien e proceso. Primero, una capa chapeada de n íquel de 1 a 10 µm d e espesor se forma mediante electroplastia sobre una superficie de u n material de base para adorno personal compuesto de una aleació n de cobre o zinc. Alternativamente, se forma una capa de chapead o de cobre de 10 a 1 5 µm de espesor en el material de base mediante electroplastia, y después se cubre una superficie de la capa de chapeado de cobre mediante electroplastia con una capa de chapeado de níquel de 1 a 10 µm de espesor. Subsecuentemente , se forma una capa de recubrimiento de aleación de n íquel/fósforo amorfa de 3 a 10 µm de espesor (contenido de fósforo: 1 1 a 16% en peso) sobre una superficie del chapeado de n íquel (recubrimiento) mediante chapeado no electrolítico en una solución de chapeado que contiene una sal de n íquel tal como sulfato de n íquel en una cantidad, en términos de átomos de n íquel, de 1 a 1 5 g/lit. , hipofosfito de sodio (agente reductor) en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 5 a 30 g/lit. , un agente formador de complejos, un amortiguador y un regulador de pH , de 85 a 90° C y pH de 3.0 a 4.5. Alternativamente, se forma la capa de recubrimiento de aleación de n íquel/fósforo amorfa de 3 a 10 µm de espesor (contenido de fósforo: 1 1 a 16% en peso) mediante primero electroplastia pasando corriente a una densidad (Dk) de 0.5 a 1 .0 A/dm2 durante un período de 5 a 30 de seg. a través de la solución de chapeado anterior cuyo pH están en el rango de 3.0 a 4.5 y cuya temperatura está en el rango de 50 a 95° C y después chapeado no electrolítico en la solución" de chapeado cuyo p H están en el rang o de 3.0 a 4.5 y cuya temperatura está en el rango de 85 a 95° C. Finalmente, se forma una capa de recubrimiento coloreado de 0. 1 a 2 µm de espesor mediante chapeado en seco sobre una superfici e de la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósoforo amorfa. En consecuencia, el objetivo de la presente invención es proporcionar un adorno personal barato que tiene una resistencia a la corrosión mayor que aquella de adornos personales y miembros de metal descritos en las publicaciones anteriores sin el uso d e paladio caro y para proporcionar un proceso para producir el mismo.

DESCR I PC IÓ N DETALLADA DE LA I NVENCI Ó N De acuerdo con un aspecto esencial de la presente invención, se proporciona un adorno personal que tiene su superficie cubierl a con un recubrimiento coloreado, el recubrimiento coloreado formad o mediante chapeado en seco el adorno personal comprende: un material de base para el adorno personal, compuesto d e una aleación de cobre o zinc; una capa de chapeado de n íquel (recubrimiento) sobre un a superficie del material de base, o una capa de chapeado de n íquel sobre una superficie de una capa de chapeado de cobre sobre un a superficie del material de base; una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa sobre una superficie de la capa de chapeado de n íquel, y por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósfo ro amorfa, la capa de recubrimiento coloreado formada mediante chapeado en seco; la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso. Como una forma (la primera forma) del adorno personal cubierto con un recubrimiento coloreado de acuerdo con la presente invención, se proporciona un adorno personal que tiene su superficie cubierta con un recubrimiento coloreado, el recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco dicho adorno personal comprende: un material de base para el adorno personal, compuesto de una aleación de cobre o zinc; una capa de chapeado de níquel sobre una superficie del material de base, o una capa de chapeado de níquel superpuesta en una superficie de una capa de chapeado de cobre sobre una superficie del material de base; una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa sobre una superficie de la capa de chapeado de níquel, la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa formada en una solución de chapeado que contiene sulfato de níquel en u na cantidad, en términos de átomos de níquel, de 15 a 70 g/lit. , hipofosfito de sodio en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 10 a 50 g/lit. , una sal conductora eléctricamente en una *a».¿ aatll^ ^ cantidad de 50 a 90 g/lit. , un amortiguador de pH en una cantidad de 20 a 50 g/lit. , y un agente formador de complejos en una cantidad de 5 a 30 g/lit. , y por lo menos una capa de recubrimien?o coloreado sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación 5 de níq uel/fósforo amorfa, la capa de recubrimiento coloreado formada mediante chapeado en seco; la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa qu e tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso. La capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorl a anterior se puede obtener mediante electroplastia a una densida d de corriente (Dk) de 1 a 3 A/dm2, y temperatura en el rango de 50 a 60° C, en la solución de chapeado anterior cuyo pH está en el rango de 3.0 a 3.5. El agente formador de complejos anterior puede ser por lo 15 menos un miembro seleccionado del grupo que consiste de ácido cítrico, ácido tartárico, ácido malónico, ácido málico, glicina, ácido glucónico y sales de los mismos. Como otra forma (la segunda forma) del adorno personal cubierto con un recubrimiento coloreado de acuerdo con la presente 20 invención, se proporciona un adorno personal que tiene su superficie cubierta con un recubrimiento coloreado, el recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco, dicho adorno personal comprende: un material de base para el adorno personal, compuesto de 25 una aleación de cobre o zinc; >/J una capa de chapeado de níquel sobre una superficie del material de base, o una capa de chapeado de níquel sobre ura superficie de una capa de chapeado de cobre sobre una superficie del material de base, una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa sobre una superficie de la capa de chapeado de níquel, la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa formada medíanle chapeado no electrolítico en una solución de chapeado que contiene una sal de níquel en una cantidad, en términos de átomos de níquel, de 1 a 15 g/lit., hipofosfito de sodio (agente reductor) en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 5 a 30 g/lit., un agente formador de complejos, un amortiguador y un regulador de pH, o mediante primero electroplastia en la solución de chapeado y después chapeado no electrolítico en la misma solución de chapeado, y por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa, la capa de recubrimiento coloreado formada medíanle chapeado en seco; la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 11 a 16% en peso. La solución de chapeado para uso en el chapeado no electrolítico o en la electroplastia seguida por el chapeado no electrolítico puede tener un pH de 3.0 a 4.5 y una temperatura de 50 a 95° C.

La capa de recubrimiento coloreado anterior puede ser por lo menos una capa seleccionada del grupo que consiste de una capa de recubrimiento de metal , una capa de recubrimiento de nitruro de metal, una capa de recubrimiento de carburo de metal, una capa de 5 recubrimiento de óxido de metal, una capa de recubrimiento de carbonitruro de metal , una capa de recubrimiento de oxinitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxicarburo de metal y una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de metal. En el adorno personal cubierto con un recubrimiento coloread o de acuerdo con la presente invención, la capa de chapeado d e níquel puede tener un espesor de 1 a 10 µm, la capa de chapead o de aleación de níquel/fósforo amorfa puede tener un espesor de 3 a 10 µm, y la capa de recubrimiento coloreado puede tener un espesor (espesor total en el caso de una pluralidad de capas de recubrimiento coloreado) de 0.1 a 2 µm Para obtener la primera forma de adorno personal cubierto con un recubrimiento coloreado de acuerdo con la presente invención , se proporciona un proceso para producir un adorno personal que tiene su superficie cubierta con un recubrimiento coloreado, e l recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco, dicho proceso comprende los pasos de: electroplastia de una superficie de un material de base para adorno personal compuesto de una aleación de cobre o zinc para con esto formar una capa de chapeado de n íquel sobre la superficie, o primero electroplastia de una superficie del material de base para .,.yj --^^.ÍJ¿^fe-s -»a.S-érita»,-^¿ai fe=&=feifc con esto formar una capa de chapeado de cobre sobre la superficie y después electroplastia de una superficie de la capa de chapeado de cobre para formar con esto una capa de chapeado de n íquel sobre la superficie de la capa de chapeado de cobre, 5 electroplastia de una superficie de la capa de chapeado de n íquel en una solución de chapeado que contiene sulfato de n íquel en una cantidad, en términos de átomos de n íquel, de 1 5 a 70 g/lit. , hipofosfito de sodio en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 10 a 50 g/lit. , una sal conductora eléctricamente en una cantidad de 50 a 90 g/lit. , un amortiguador de pH en una cantidad de 20 a 50 g/lit. , y un agente formador de complejos en una cantidad de 5 a 30 g/lit. , para formar con esto sobre la superficie de la capa de chapeado de níquel una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa, que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso, y sujetar una superficie de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa para chapeado en seco de manera que se forma por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre la superficie. 20 La formación anterior de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa se puede realizar con una densidad de corriente (Dk) de 1 a 3 A/dm2 en la solución de chapeado cuya temperatura está en el rango de 50 a 60° C. El agente formador de complejos anterior puede ser por lo menos un miembro seleccionado del grupo que consiste de ácido ??^ ?k 'j .^i ?? cítrico, ácido tartárico, ácido malónico, ácido málico, glicina, ácido glucónico y sales de los mismos. Para obtener la segunda forma de adorno personal cubierto con un recubrimiento coloreado de acuerdo con la presente 5 invención, se proporciona un proceso para producir un adorno personal que tiene su superficie cubierta con un recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco, dicho proceso comprende los pasos de. electroplastia de una superficie de un material de base para adorno personal compuesto de una aleación de cobre o zinc para con esto formar una capa de chapeado de n íquel sobre ia superficie, o primero electroplastia de una superficie dei material de base para con esto formar una capa de chapeado de cobre sobre la superficie y después electroplastia de una superficie de la capa de chapeado de cobre para formar con esto una capa de chapeado de níquel sobre la superficie de la capa de chapeado de cobre, chapeado no electrolítico de una superficie de la capa de chapeado de n íquel en una solución de chapeado que contiene una sal de níquel en una cantidad, en términos de átomos de níquel, de 1 a 15 g/lit. , hipofosfito de sodio (agente reductor) en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 5 a 30 g/lit. , un agente formador de complejos, un amortiguador y un regulador de pH, o primero electroplastia de una superficie de la capa de chapeado d e n íquel en la solución de chapeado y después chapeado n o electrolítico de la superficie en la misma solución de chapeado, para kl formar con esto sobre la superficie de la capa de chapeado de níquel una capa de chapeado de* aleación de n íquel/fósforo amorfa, que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso, y sujetar una superficie de la capa de chapeado de aleación de 5 níquel/fósforo amorfa a chapeado en seco de manera que se forma por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre la superficie. La capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa se puede formar mediante chapeado no electrolítico en la solución de 10 chapeado cuyo pH está en el rango de 3.0 a 4.5 y la temperatura está en el rango de 85 a 95° C. Alternativamente, se puede formar la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa mediante primero electroplastia pasando corriente a una densidad (Dk) de 0.5 a 3 A/dm2 durante un período de 5 a 30 de seg. a través de la 15 solución de chapeado cuyo pH están en el rango de 3.0 a 4.5 y cuya temperatura está en el rango de 50 a 95° C y después chapeado no electrol ítico en la solución de chapeado. En el adorno personal obtenido mediante el proceso para producir un adorno personal cubierto con un recubrimiento 20 coloreado de acuerdo con la presente invención, el contenido de fósforo de la capa de recubrimiento de aleación de níquel/fósforo amorfa está en el rango de 1 1 a 16% en peso. La capa de recubrimiento coloreado puede ser por lo menos una capa seleccionada del grupo que consiste de una capa d e 25 recubrimiento de metal, una capa de recubrimiento de nitruro de metal, una capa de recubrimiento de carburo de metal, una capa de recubrimiento de óxido de metá^* una capa de recubrimiento ele carbonitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxinitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxicarburo de metal y una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de metal. En el adorno personal obtenido mediante el proceso para producir un adorno personal cubierto con un recubrimienl o coloreado de acuerdo con la presente invención, la capa o e chapeado de n íquel puede tener un espesor de 1 a 10 µm, la cap a de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa puede tener u n espesor de 3 a 10 µm, y ia capa de recubrimiento coloreado pued e tener un espesor (espesor total en el caso de una pluralidad d e capas de recubrimiento coloreado) de 0.1 a 2 µm .

BREVE DESCR I PC I ÓN DEL DI BUJO La Figura 1 es una vista seccional de una parte esencial de una forma de adorno personal de acuerdo con la presente invención La Figura 2 es una vista seccional de una parte esencial de otra forma de adorno personal de acuerdo con la presente invención.

M EJOR M ODO DE LLEVAR A CABO LA INVENC IÓN El adorno personal cubierto con un recubrimiento coloreado de acuerdo con la presente invención, haciendo referencia a las Figuras 1 y 2, es un adorno personal 1 que tiene su superficie ^ _ s¿sJ¿&?g cubierta con un recubrimiento coloreado, el recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco , dicho adorno personal comprende: un material de base para el adorno personal 2, compuesto de 5 una aleación de cobre o zinc; una capa 3 de chapeado de níquel sobre una superficie del material de base 2, o una capa 3 de chapeado de níquel sobre una superficie de una capa 4 de la capa de chapeado de cobre sobre una superficie del material de base 2, 10 una capa 5 de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa sobre una superficie de la capa 3 de chapeado de níquel, la capa 5 de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso, y por lo menos una capa 6 de recubrimiento coloreado sobre una 15 superficie de la capa 5 de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa, la capa de recubrimiento coloreado formada mediante chapeado en seco.

MATER IAL DE BASE PARA ADORNO PERSONAL 20 El material de base para adorno personal para uso en la presente invención está compuesto de una aleación de cobre, tal como latón o plata alemana (n íquel plata o argentan), o zinc, tal como vaciado en molde de zinc. Ejemplos de adornos personale s (incluyendo partes) incluyen un alojamiento de pieza de reloj, una 25 banda de reloj, un vastago de reloj, una tapa posterior de reloj, una ife»Éfe»~ IAi81fe>«M8¿ • * hebilla de cinturón , un anillo para dedo, un collar, un brazalete, un arete, un pendiente, un broche, botones para puños de camisa , u n fistol, una insignia, una medalla y unas gafas. Se prefiere que la superficie del material de base para el adorno personal esté provisto con pre-tratamientos comunes. Tales pre-tratamientos pueden comprender, por ejemplo, sumergir el material de base para el adorno personal en un a solución desengrasante por inmersión disponible comercialmente, una solución desengrasante electrolítica disponible comercialmente, una solución de cianuro o una solución de una mezcla de ácido sulfúrico y un fluoruro, seguido por lavado con agua.

CAPA DE CHAPEADO DE COBRE Y CAPA DE C HAPEADO D E NÍQUEL Cuando el material de base para el adorno personal está compuesto por una aleación de cobre, la capa de chapeado de n íquel se forma en una superficie del material de base anterior para el adorno personal. Cuando el material de base para el adorno personal está compuesto por zinc, la capa de chapeado de cobre y la capa de chapeado de níquel se forman de manera secuencial en la superficie del material de base para el adorno personal. Aunqu e la adherencia entre el material de base compuesto por una aleació n de cobre y la capa de chapeado de n íquel es excelente, hay cavidades en el material de base compuesto por zinc con el resultado de que el material de base compuesto por zinc no pued e ser cubierto completamente con un chapeado de n íquel solamen te para con esto dejar abierta la puerta para una pobre resistencia a la corrosión . Por lo tanto, con el fin de aumentar la resistencia a la corrosión, la capa de chapeado de cobre se interpone entre el material de base compuesto por zinc y la capa de chapeado d e níquel. En la presente invención, el espesor de la capa de chapeado de níquel está generalmente en el rango de 1 a 10 µm, de preferencia de 3 a 5 µm. La capa de chapeado de n íquel cuyo espesor está en estos rangos ejerce el efecto de aumentar el brillo y la resistencia a la corrosión del adorno persona l. El espesor de la capa de chapeado de cobre está generalmente en el rango de 10 a 15 µm . Esta capa de chapeado de cobre se puede formar en el material de base compuesto por zinc mediante chapeado en húmedo. Por ejemplo, se puede formar con el uso de una solución de chapeado que contiene iones de cobre. La capa de chapeado de níquel anterior se puede formar en el material de base compuesto por una aleación de cobre o en la capa de chapeado de cobre mediante chapeado en húmedo. Por ejemplo, se puede formar con el uso de una solución de chapeado que contiene iones de n íquel.

CAPA DE CHAPEADO DE ALEACIÓN N ÍQUEL/FÓSFORO La capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo formada sobre la capa de chapeado de n íquel anterior está compuesta de una aleación de n íquel/fósforo amorfa. El conten ido de fósforo d e la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo está en el rango de 1 1 a 16% en peso, de preferencia de 12 a 16% en 5 peso . El espesor de la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo está generalmente en el rango de 3 a 1 0 µm, de preferencia de 3 a 5 µm. En la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo cuyo contenido de fósforo y espesor están en los rangos anteriores, la cantidad de amorfo es mayor, los granos depositados son más finos y el número de hoyos de alfiler es menor que en la capa convencional de chapeado de aleación d e n íquel/fósforo cuyo contenido de fósforo es aproximadamente 10% en peso. As í, la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo cuyo contenido de fósforo y espesor están en los rangos anteriores le permite impartir excelente resistencia a la corrosión al adorno personal obtenido.

PR IMERA FORMA Como la primera forma de capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo, de acuerdo con la presente invención, se puede mencionar una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso, formada en una superficie de la capa de chapeado de n íquel en una solución de chapeado la cual contiene sulfato de níquel en una cantidad, en términos de átomo de níquel, de 15 a 70 g/lit. , de ^ *-ífl£4*Jí. =A preferencia de 40 a 50 g/lit. , hipofosfito de sodio en una cantida d, en términos de átomos de fósforo, de 10 a 50 g/lit , de preferencia de 30 a 40 g/lit. , una sal conductora eléctricamente en una cantidad de 50 a 90 g/lit. , de preferencia 60 a 80 g/lit. , un amortiguador o e pH en una cantidad de 20 a 50 g/lit. , de preferencia 30 a 40 g/lit. , y un agente formador de complejos en una cantidad de 5 a 30 g/lit. , de preferencia 10 a 20 g/lit. Esta solución de chapeado puede ser una solución acida cuyo pH está en el rango de 3.0 a 3.5, de preferencia 3.0 a 3.2. La capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo se puede formar mediante electroplastia a una densidad de corriente (Dk) de 1 a 3 A/dm2 en la solución de chapeado anterior calentada de 50 a 60° C. La sal conductora eléctricamente para uso en la presente invención es, por ejemplo, cloruro de amonio, cloruro de sodio, cloruro de potasio o las similares. Estas sales conductoras eléctricamente se pueden usar ya sea individualmente o en combinación. El amortiguador de pH para uso en la presente invención es., por ejemplo, ácido bórico, ácido fórmico , ácido acético y sales d e los mismos. Las sales pueden ser sales de sodio, tal como borato de sodio, y sales de potasio, tal como acetato de potasio. Estos amortiguadores de pH se pueden usar ya sea individualmente o en combinación. El agente formador de complejos para uso en la presente invención puede ser por lo menos un miembro seleccionado del grupo que consiste de ácido cítrico, ácido tartárico, ácido malónico, áodo málico, glicina, ácido glucónico y sus sales. Estas sales pueden ser, por ejemplo, sales de sodio y potasio de los ácidos y aminoácidos anteriores. En la presente invención, la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso se puede formar regulándola concentración del hipofosfito en la solución de chapeado, el tipo y concentración del agente formador de complejos como un constituyente de la solución d e chapeado, el pH de la solución de chapeado y la densidad d e corriente para caer dentro de los rangos anteriores.

SEGUNDA FORMA Como la segunda forma de capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo, de acuerdo con la presente invención, se puede mencionar: (1 ) una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso, formada en una superficie de la capa de chapeado de níquel mediante chapeado no electrolítico en una solución de chapeado que contiene una sa l de n íquel, hipofosfito de sodio, un agente formador de complejos, un amortiguador y un regulador de pH ; y (2) una capa amorfa de chapeado de aleación de níquel/fósforo que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso, formada en bsí&aifefeafe ..- * ... una superficie de la capa de chapeado de n íquel median te electroplastia primero en una solución de chapeado que contiene una sal de níquel, hipofosfito de sodio (agente reductor), un ágeme formador de complejos, un amortiguador y un regulador de pH y 5 subsecuentemente, después de descontinuar el paso de corriente, chapeado no electrol ítico en la misma solución de chapeado. La sal de n íquel como un constituyente de la solución de chapeado para uso en la formación de la capa amorfa de chapead o de aleación de n íquel/fósforo ( 1 ), (2) puede ser, por ejemplo, sulfat o 10 de n íquel, cloruro de n íquel, sulfamato de n íquel, citrato de n íquel y las similares. Estas sales de n íquel se pueden usar ya sea individualmente o en combinación. El hipofosfito de sodio anterior se usa como un agente reductor, y constituye una fuente de suministro de fósforo para la 15 formación de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo. Por ejemplo, se usa un malato, un lactato, un citrato, un tartrato o una sal de aminoácido tal como glicina o ácido glucónico como el agente formador de complejos anterior. Específicamente se pueden usar, por ejemplo, cualesquiera sales de sodio y potasio de 20 ácido málico, ácido láctico, ácido cítrico, ácido tartárico, glicina y ácido glucónico. Estos agentes formadores de complejos se pueden usar ya sea individualmente o en combinación. Por ejemplo, cualesquiera sales de sodio y potasio de ácido acético, ácido succínico y ácido malónico se usan como el 25 amortiguador anterior. « ¡¡ ^g Por ejemplo, se usa hidróxido de sodio, hidróxido de amonio, carbonato de n íquel o hidróxido de n íquel como el regulador de pH anterior. Por ejemplo , se puede mencionar la siguiente solución de chapeado como la solución de chapeado que se puede emplear e n el chapeado no electrol ítico conducido para la formación de la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo anterior (1 ), o empleada en la electroplastia y chapeado no electrolítico conducidos para la formación de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo anterior (2). También , las condiciones de chapeado para ser cumplidas cuando se usa la solución de chapeado en el chapeado no electrolítico se indica más adelante. La regulación del valor de pH se realiza con el uso de hidróxido de sodio, hidróxido de amonio, carbonato de níquel o hidróxido de n íquel.

COMPOS I C IÓN DE LA SOLUC IÓN DE CHAPEADO Rango Utilizable Rango Óptimo Sulfato de níquel 1 -15 g/lit. 5-10 g/lit. Hipofosfito de sodio 5-30 g/lit. 10-20 g/lit. Malato de sodio 15-40 g/lit. 20-35 g/lit. Succinato de sodio 5-30 g/lit. 1 0-25 g/lit. < Condiciones de chapeado > pH 3.0-4.5 Temperatura del baño 50-95° C La capa de chapeado de aleación n íque/fósforo ( 1 ) anterior se obtiene realizando el chapeado no electrolítico en la solución de chapeado de la composición anterior cuyo pH está en el rango de 3.0 a 4.5, de preferencia de 3.5 a 4.5, y todavía de preferencia de 3.5 a 4.0, y cuya temperatura está en el rango de 85 a 95° C. Por otra parte, la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo (2) anterior se obtiene mediante electroplastia primero pasando corriente a una densidad (Dk) de 0.5 a 1 .0 A/dm2 durante un período de 5 a 30 seg. a través de la solución de chapeado de la composición anterior cuyo valor de pH está en el rango de 3.0 a 4.5, de preferencia de 3.5 a 4.5, y todavía de preferencia de 3.5 a 4.0, y cuya temperatura está en el rango de 85 a 95° C y subsecuentemente, después de descontinuar el paso d e corriente, realizar el chapeado no electrolítico. Cuando se realiz a primero la electroplastia, el níquel se deposita en la capa de chapeado de níquel. Solamente la descontinuación subsecuente del paso de corriente induce el chapeado no electrolítico. Con respecto a la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo (2), la capa de chapeado compuesta de ambos, el níquel depositado mediante electroplastia primero y la aleación de n íquel/fósforo depositada mediante el chapeado no electrolítico se contempla como la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo. Las condiciones óptimas de chapeado para el chapeado con electroplastia y no electrol ítico son, por ejemplo, como sigue. En la electroplastia, la temperatura y el valor de pH de la solución d e chapeado se fijan de preferencia en 50-60° C y 3.0-3 5 , respectivamente, y la densidad de corriente (Dk) está de preferencia 5 en el rango de 1 a 3 A/dm2. En el chapeado no electrolítico, la temperatura y el valor de pH de la solución de chapeado se fijan de preferencia en 85-95° C y 3.5-4.5, respectivamente. Específicamente, la electroplastia anterior seguida por chapeado no electrolítico se pueden realizar con el uso de solamente un baño de chapeado o con el uso de baños de chapeado separados. Cuando la electroplastia y el chapeado no electrol ítico se realizan en uno y el mismo baño de chapeado, por ejemplo, la elecfroplastia se lleva a cabo en el baño de chapeado calentado de 50 a 60° C, y después se coloca un calentador de tubo en el baño de chapeado para incrementar rápidamente con esto la temperatura del baño de chapeado hasta 85-95° C, a la cual se efectúa el chapeado no electrol ítico. Por otra parte, cuando la electroplastia y el chapeado no electrolítico se realizan en baños de chapeado separados, por ejemplo, un baño de chapeado en donde se acomoda una solución de chapeado de 50 a 60° C y otro baño de chapeado en donde se acomoda una solución de chapeado de 85 a 95° C están dispuestos lado a lado. Primero, se lleva a cabo la electroplastia en el baño de chapeado en donde está acomodada la solución de chapeado de 50 a 60° C, y, después, se lleva a cabo el chapeado no electrolítico en el otro baño de chapeado en donde 7Í-.7?._ ii4¿a está acomodada una solución de chapeado de 85 a 95° C. Las composiciones de la solución dp chapeado para electroplastia y la solución de chapeado para chapeado no electrolítico pueden ser idénticas o diferentes entre ellas. 5 En la presente invención, la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% e n peso se puede formar regulando la concentración del hipofosfito e n la solución de chapeado, el tipo y concentración del agenl e formador de complejos como un constituyente de la solución ele chapeado y el valor de pH de la solución de chapeado para caer dentro de los rangos anteriores Con respecto a la capa de chapeado de aleación e n íquel/fósforo formada mediante el chapeado no electrolítico, la uniformidad de espesor es excelente, de manera que aún en espacios angostos entre, por ejemplo, piezas de bandas para reloj, la deterioración de la resistencia a la corrosión es sorprendentemente ligera Además, la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo formada mediante el chapeado no electrol ítico es superior, en la adherencia a la capa de chapeado de níquel circunvecina, a la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo formada mediante electroplastia De acuerdo con el incremento del contenido de fósforo de la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo, los granos de cristal de la capa de recubrimiento se hacen más finos para llev ar con esto un cambio de la forma cristal a la forma amorra , independientemente de si la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo se forma mediante la electroplastia o el chapeado no electrolítico. El cambio a amorfo empieza en un contenido de fósforo de aproximadamente 8% en peso, y, en un contenido de fósforo que excede de 1 1 % en peso, la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo se vuelve completamente amorfa. Lo s agujeros de alfiler se pueden eliminar haciendo más finos los granos de cristal para permitir con esto la obtención de la capa d e chapeado de aleación de níquel/fósforo que tiene excelent e resistencia a la corrosión.

CAPA DE RECU BR I MI ENTO COLO READO En la presente invención, se forman una o una pluralidad ele capas de recubrimiento coloreado sobre la capa de chapeado ele aleación de n íquel/fósforo anterior. Las capas de recubrimiento coloreado anteriores pueden consistir de por lo menos una capa seleccionada del grupo que consiste de una capa de recubrimiento de metal, una capa de recubrimiento de nitruro de metal, una capa de recubrimiento de carburo de metal , una capa de recubrimiento de óxido de metal, una capa de recubrimiento de carbonitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxinitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxicarburo de metal y una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de metal. El metal para formar la capa de recubrimiento de metal puede ser, por ejemplo, cualquiera *c §Mos metales que pertenece al Grupo IVA de la tabla periódica (titanio, zirconio y hafnio), metales que pertenecen al Grupo VA de la tabla periódica (vanadio, niobio y tantalio), metales que pertenecen al Grupo VIA de la tabla 5 periódica (cromo, molibdeno y tungsteno), silicio, germanio, oro, plata, cobre, platino, paladio, hierro, cobalto, níquel, rodio y rutenio. Estos metales se pueden usar ya sea individualmente o en combinación . El nitruro de metal para formar la capa de recubrimiento de nitruro de metal puede ser cualquiera de los nitruros de los metales anteriores (incluyendo aleaciones), por ejemplo, cualquiera de nitruro de titanio, n itruro de zirconio, nitruro de hafnio, nitruro de vanadio, nitruro de niobio, nitruro de cromo, nitruro de molibdeno, nitruro de tantalio, nitruro de tungsteno, nitruro de silicio, nitruro de germanio, nítruro de oro, nitruro de plata, nitruro de cobre, nitruro de hierro, nitruro de cobalto y nitruro de n íquel. El carburo de metal para formar la capa de recubrimiento de carburo de metal puede ser cualquiera de los carburos de los metales anteriores (incluyendo aleaciones), por ejemplo, cualquiera de carburo de titanio, carburo de zirconio, carburo de hafnio, carburo de vanadio, carburo de niobio, carburo de tantalio, carburo de cromo, carburo de molibdeno, carburo de tungsteno, carburo de silicio, carbu ro de oro carburo de plata, carburo de cobre , carburo de hierro , carburo de cobalto y carburo de n íquel 25 El óxido de metal para formar la capa de recubrimiento de óxido de metal puede ser cualq?fera de los óxidos de los metales anteriores (incluyendo aleaciones), por ejemplo, cualquiera de óxid o de titanio, óxido de zirconio, óxido de vanadio, óxido de niobio, óxido de tantalio, óxido de cromo, óxido de molibdeno, óxido de 5 tungsteno, óxido de silicio, óxido de germanio, óxido de oro, óxido de plata, óxido de cobre, óxido de platino, óxido de paladio, óxido de hierro, óxido de cobalto, óxido de níquel y óxido de hierro titanio. El carbonitruro de metal para formar la capa de recubrimiento de carbonitruro de metal puede ser cualquiera de los carbonitruros de los metales anteriores (incluyendo aleaciones), por ejemplo, cualquiera de los carbonitruros de titanio, zirconio, hafnio, vanadio, niobio y tantanlio. El oxinitruro de metal para formar la capa de recubrimiento de oxinitruro de metal puede ser cualquiera de los oxinitruros de l os metales anteriores (incluyendo aleaciones), por ejemplo, cualquiera de los oxinitruros de titanio, zirconio, hafnio, vanadio, niobio y tantanlio. El oxicarburo de metal para formar la capa de recubrimiento de oxicarburo de metal puede ser cualquiera de los oxicarburos de los metales anteriores (incluyendo aleaciones), por ejemplo, cualquiera de los oxicarburos de titanio, zirconio, hafnio , vanadio, niobio y ta ntanho El oxicarbonitruro de metal para formar la capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de metal puede ser cualquiera de ^aaí J^^^^^^^^ .^i^^ÍÍ^Í^.. - los oxicarbonitruros de los metales anteriores (incluyendo aleaciones), por ejemplo, cualquiera de los oxicarbonitruros de titanio, zirconio, hafnio, vanadio, niobio y tantanlio. La capa de recubrimiento coloreado de la presente invención consiste de una o por lo menos dos capas, y el espesor total de las mismas puede estar en el rango de 0.1 a 2 µm, de preferencia 0.3 a 1 .0 µm. La capa de recubrimiento coloreado anterior se forma mediante técnicas convencionales de chapeado en seco. Ejemplos de las técnicas de chapeado en seco incluyen el método de chapeado por iones, el método de haz de iones, los métodos de deposición qu ímica de vapor (PVD) tales como el método de deposición electrónica y el método de CVD. De estos, se emplea de preferencia el método de chapeado con iones.

EFECTO DE LA I NVENCIÓN El adorno personal cubierto con un recubrimiento coloreado de acuerdo con la presente invención es superior, en la resistencia a la corrosión, a los adornos personales y miembros de metal convencionales El adorno personal de la presente invención, es el más barato debido a que no se usa paladio caro en las capas d iferentes a la capa de recubrimiento coloreado El proceso para producir un adorno personal de acuerdo con la presente invención proporciona el adorno personal anterior cubierto con un recubrimiento coloreado de acuerdo con la presente k invención.

EJEMPLO La presente invención se1 ilustrará adicionalmente más Vt adelante con referencia a los siguientes Ejemplos, los cuales no limitan de ninguna manera el alcance de la invención. La prueba de inmersión en sudor artificial y la prueba de corrosión y agrietamiento en gas amoníaco mencionadas en los Ejemplos y Ejemplo Comparativo se llevaron a cabo de la siguienle manera. (1) Prueba de inmersión en sudor artificial Una muestra (adorno personal se sumergió en la siguienie solución de prueba de sudor artificial durante 48 horas, y s.e sacaron, y la superficie de la muestra se inspeccionó visualmente.

Solución de prueba con sudor artificial Cloruro de sodio 9 9 g/lit. Sulfuro de sodio 08 g/lit Urea 1 7 g/lit. Acido láctico 1 7 ml/lit pH (ajustado con amoníaco) 36 Temperatura 40° C La muestra, cuando la superficie de la misma no exhibió cambio independientemente de la inmersión, se evaluó como "pasa", mientras que la muestra, cuando la superficie de la misma exhibió un cambio después de la inmersi¿y¡ jfe§e evaluó como "falla" . (2) Prueba de corrosión y agrietamiento con gas amoniaco. Una muestra (adorno personal) se colocó en un atmósfera cíe gas amoniaco de 28% de concentración durante 48 horas, se sacaron, y la superficie de la muestra se inspeccionó visualmente. La muestra, cuando la superficie de la misma quedó libre ele corrosión y agrietamiento, se evaluó como "pasa", mientras que la muestra, cuando la superficie de la misma sufrió de corrosión y agrietamiento, se evaluó como "falla".

Eiemplo 1 15 Primero, se sumergió una banda para reloj, compuesta de latón, en una solución de cianuro, se sacó y lavó con agua. Subsecuentemente, el material de base para la banda de rel oj se sumergió en una solución de chapeado de la siguiente composición y se aplicó electroplastia bajo las siguientes 20 cond iciones, con lo que se formó una capa de chapeado de níquel de 5 µm de espesor sobre una superficie del material de base. < < Chaceado de N íquel >> < Composición de solución de chapeado > 25 sulfa to de n íquel 300 g/l 11 ¿•W ksaÁ l-mk ÉÁí ' ¿¡ «WBtt-f. Mi cloruro de níquel ®" g/lit. ácido bórico 30 g/lit. < Condiciones de chapeado > pH 4.0 temperatura del baño 60° C densidad de corriente (Dk) 5 A/dm2.

El material de base obtenido para banda de reloj cubierto con la capa de chapeado de níquel se sumergió en la siguiente solución de chapeado de pH 3.5 a 90° C, y la electroplastia se llevó a cabo a una densidad de corriente (Dk) de 1 A/dm2 durante 5 seg. El paso de corriente se descontinuó, y se llevó a cabo el chapeado no electrolítico. Así, se formó una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo (contenido de fósforo' 12% en peso) sobre una superficie de la capa de chapeado de níquel. La solución de chapeado contenía una sal de níquel, hipofosfito de sodio, un agente formador de complejos, un amortiguador y un regulador ae pH como sigue << Chapeado de níquel/fósforo no electrolítico >> < Composición de la solución de chapeado > sulfato de níquel (en términos de Ni atómico) 8 g/ t hiposulfito de sodio (en términos de P atómico) 15 g/ht malato de sodio 30 g/ht succinato de sodio 20 g/lit. < Condiciones de chapeado > pH 3.5 temperatura del baño 90° C.

Después, se formó una capa de recubrimiento de nitruro d e titanio de 0.6 µm de espesor mediante chapeado por iones sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo. Como resultado, se obtuvo u na banda para reloj cubierta con un recubrimiento de color dorado. Se llevaron a cabo la prueba de inmersión en sudor artificial y la prueba de corrosión y agrietamiento con gas amoniaco de la banda de reloj obtenida de la manera anterior. Los resultados se dan en la Tabla 1 .

Eiemplo 2 Se formó una capa de chapeado de n íquel de 5 µm de espesor sobre una superficie de un material de base para banda de reloj en la misma manera que en el Ejemplo 1 El material de base obtenido para banda de reloj cubierto con la capa de chapeado de n íquel se sumergió en la siguiente solución de chapeado, y se sujetó a electroplastia bajo las siguientes cond iciones As í, se formó una capa de cha peado de aleación de n íq uel/fósforo (conten ido de fósforo 1 4% ep peso) de 5 µm de Z-*átilí&m»ttB ?A- , J&¿»+ „»t espe-sor sobre una superficie de chapeado de níquel << Chapeado de aleación de níquel/fósforo >> < Composición de la solución de chapeado > sulfato de níquel (en términos Be Ni atómico) 50 g/ hipofosfito de sodio (en términos de P atómico) 40 g/ cloruro de amonio (sal electro-conductora) 70 gl ácido bórico (amortiguador de pH) 35 g/ ácido málico (agente formador de complejos) 15 g/ 10 < Condiciones de chapeado > pH 3.2 temperatura del baño 50° C densidad de corriente (Dk) 2.5 A/dpV 15 Después, se formó una capa de recubrimiento de carbonitru ro de titanio de 1 0 µm de espesor mediante chapeado por iones sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo. Como resultado, se obtuvo una banda para reloj cubierta con un recubrimiento de color gris. Se llevaron a cabo la prueba de inmersión en sudor artificial y la prueba de corrosión y agrietamiento con gas amoniaco de la banda para reloj obtenida de la manera anterior Los resultados se dan en la Tabla 1 25 LÍ Ejemplo 3 Primero se sumergió un material para alojamiento de pieza de reloj, compuesto de fundición de matriz de cinc, en una solución d e cianuro, se saco y se lavó con agua. Subsecuentemente, el material de base para alojamiento d e pieza de reloj se sumergió en una solución de chapeado de la siguiente composición y se sujetó a electroplastia bajo las siguientes condiciones, con lo que se formó una capa de chapeado de cobre de 15 µm de espesor sobre una superficie del material ele base. << Chapeado de cobre >> < Composición de la solución de chapeado > pirofosfato de cobre 100 g/lit. pirofosfato de potasio 340 g/lit. citrato de amonio 10 g/lit. amoniaco 3 g/lit. < Condiciones de chapeado > pH 8 5 temperatura del baño 50° C densidad de corriente (Dk) 3 A/dm: E l material de base resultante para alojamiento de pieza de reloj cu bierto con ia capa de chapeado de cobre se sumergió en un a í fe* solución de chapeado de la composición y se sujetó a electroplastia bajo las siguientes condiciones, con lo que se formó una capa de chapeado de n íquel de 10 µm de espesor sobre una superficie de la capa de chapeado dé cobre. << Chapeado de níquel >> < Composición de la solución de chapeado > sulfato de níquel 300 g/lit. cloruro de níquel 50 g/lit. 10 ácido bórico 30 g/lit. < Condiciones de chapeado > PH 4.0 temperatura del baño 60° C 15 densidad de corriente (Dk) 5 A/dm: El material de base obtenido para alojamiento de reloj cubierto con la capa de chapeado de níquel se sumergió en la siguiente solución de chapeado, y se sujetó a electropiastia bajo las 20 siguientes condiciones. Así, se formó una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo (contenido de fósforo: 14% en peso) de 7 µm de espesor sobre una superficie de la capa de chapeado de n íquel. < < C hapeado de aleación de n íq uel/fósforo > > ^¿.^Í.^ . ¿ < Composición de la solución da" | |#teado > sulfato de níquel (en términos de Ni atómico) 40 g/Mt hipofosfito de sodio (en términos de P atómico) 30 g/ut cloruro de amonio (sal electro-conductora) 60 g/lit ácido bórico (amortiguador de pH) 30 g/iit ácido málico (agente formador de complejos) 10 g/lit < Condiciones de chapeado > pH 3.0 temperatura del baño 50° C densidad de corriente (Dk) 1 .5 A/d m Después, se formó una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio de 1 0 µm de espesor mediante chapeado por iones sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo. Como resultado, se obtuvo un alojamiento para pieza de reloj cubierto con un recubrimiento de color rosa. Se llevaron a cabo la prueba de inmersión en sudor artificial y la prueba de corrosión y agrietamiento con gas amoniaco del alojamiento para pieza de reloj obtenido de la manera anterior Los resultados se dan en la Tabla 1 E|emplo Comparativo 1 Primero, se sumergió un material de base para banda de reloj, compuesto de latón , en una solución de cianuro, se sacó y se lavó Ufca«f»? t * á con agua. « ,'i Subsecuentemente, el material de base para la banda de reloj se sumergió en una solución de chapeado de la siguiente composición y se aplicó electroplastia bajo las siguientes condiciones, con lo que se formó una capa de chapeado de níqu el de 5 µm de espesor sobre una superficie del material de base. << Chapeado de Níquel >> < Composición de solución de chapeado > 10 sulfato de níquel 300 g/lit. cloruro de níquel 50 g/lit. ácido bórico 30 g/lit. < Condiciones de chapeado > 15 pH 4.0 temperatura del baño 50° C densidad de corriente (Dk) 5 A/dnr El material de base obtenido para banda de reloj cubierto con la capa de chapeado de n íquel se sumergió en una solución d e chapeado de la siguiente composición y se sujetó a electroplastia bajo las siguientes condiciones. Así, se formó una capa de chapeado de aleación de paladio/níquei (contenido de paladio: 65% en peso) sobre una superficie de la capa de chapeado de n íquel. 25 slái* ^SS ^,?<H.?iáig << Chapeado de aleación de paladio/níquel >> < Composición de la solución de chapeado > cloruro de paladio 10 g/lit. sulfamato de níquel 15 g/lit. cloruro de amonio (sal electro-conductora) 60 g/lit. abrillantador 10 ml/lit. agente previsor de picado 3 ml/lit. < Condiciones de chapeado > pH 8.2 temperatura del baño 35° C densidad de corriente (Dk) 1 A/dm: Los anteriores abrillantador y agente de prevención contra el picado están disponibles comercialmente de Chuo Kagaku Sangyo K. K Por el nombre comercial "Precious SCX 53" y "Precious SCX 55", respectivamente. Después, se formó una capa de recubrimiento de nitruro de titanio de 0 3 µm de espesor mediante chapeado por iones sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación e paladio/n íquel Como resultado, se obtuvo una banda para reloj cubierta con un recubrimiento de color dorado Se llevaron a cabo la prueba de inmersión en sudor artificial y l a prueba de corrosión y agrietamiento con gas amoniaco de la banda para reloj obten ida de la manera anterior Los resu ltados se dan en la Tabla 1 Tabla 1 *a?¡i¡&&~'¡v ?*AiiBB tS? o»», .«gy ¡, -«.»«.»

Claims (16)

1. REIVINDICACIONES 1. Un adorno personal que tiene su superficie cubierta con un recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco que comprende: un material de base para adorno personal, compuesto de una aleación de cobre o cinc, una capa de chapeado de níquel sobre una superficie del material de base, o una capa de chapeado de níquel sobre una superficie de una capa de chapeado de cobre sobre una superficie del material de base, una capa de chapeado de aleación amorfa de níquel/fósforo sobre una superficie de la capa de chapeado de níquel, y por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre una superficie de la capa de chapeado de aleación amorfa de n íquel/fósforo, la capa de recubrimiento coloreado formada mediante chapeado en seco, dicha capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso.
2. 2 Un adorno personal que tiene su superficie cubierta con un recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco que comprende un material de base para adorno personal, compuesto de una aleación de cobre o cinc, una ca pa de chapeado de n íquel sobre u na superficie del material de base, o una capa de chapeado de n íquel sobre u na superficie de una capa de chapeado de cobre sobre una superficie del material de base, una capa de chapeado de aleación amorfa de níquel/fósforo sobre una superficie de la capa de chapeado de níquel, dicha capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa formada en una solución de chapeado que contiene sulfato de níquel en una cantidad, en términos de átomos de níquel, de 15 a 70 g/lit. , hipofosfito de sodio en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 10 a 50 g/lit. , una sal conductora eléctricamente en una cantidad de 50 a 90 g/lit. , un amortiguador de pH en una cantidad de 20 a 50 g/lit. , y un agente formador de complejos en una cantidad de 5 a 30 g/lit. , y por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre un a superficie de la capa de chapeado de aleación amorfa d e níquel/fósforo, la capa de recubrimiento coloreado formad a mediante chapeado en seco, dicha capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso.
3. 3 El adorno personal como se reivindicó en la reivindicación 2 , en donde la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa es una obtenida mediante electroplastia a una densidad ele corriente (Dk) de 1 a 3 A/dm2 en dicha solución de chapeado cuyo pH está en el rango de 3 0 a 3 5 y cuya temperatura está en el rango de 50 a 60° C
4. 4 El adorno personal como se reivindicó en la reivindicación 2, en donde el agente formador de complejos es por lo menos un miembro seleccionado del grupo que consiste de ácido cítrico, ácido tartárico, ácido malónico, ácido málico, glicina, ácido glucónico y sus sales. 5
5. 5. Un adorno personal que tiene su superficie cubierta con un recubrimiento coloreado, el recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco, dicho adorno personal comprende: un material de base para adorno personal, compuesto de una aleación de cobre o cinc, 10 una capa de chapeado de níquel sobre una superficie del material de base, o una capa de chapeado de níquel sobre una superficie de una capa de chapeado de cobre sobre una superficie del material de base, una capa de chapeado de aleación amorfa de níquel/fósfo ro 15 sobre una superficie de la capa de chapeado de n íquel, dicha capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa formada mediante chapeado no electrolítico en una solución de chapeado que contiene una sal de níquel en una cantidad, en términos de átomos de n íquel, de 1 a 15 g/lit. , hipofosfito de sodio (agente reductor) en una 20 cantidad , en términos de átomos de fósforo, de 5 a 30 g/lit. , un agente formador de complejos, un amortiguador y un regulador de pH , o mediante primero electroplastia en la solución de chapeado y después chapeado no electrolítico en la misma solución de chapeado, y 25 por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre una j^ ^tth^^^^^^ ^^^^^ ^^/^l^&^ití superficie de la capa de chapeado de aleación amorfa de níquel/fósforo, la capa de recubrimiento coloreado formad a mediante chapeado en seco, dicha capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa 5 que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso.
6. 6. El adorno personal como se reivindicó en la reivindicación 5, en donde la solución de chapeado para uso en el chapeado no electrolítico o en la electroplastia seguida por el chapeado no electrolítico tiene un pH de 3.0 a 4.5 y una temperatura de 50 a 95° 10 C .
7. 7. El adorno personal como se reivindicó en cualquiera de las reivindicaciones 1 , 2 y 5, en donde la capa de recubrimiento Goíoreado es por lo menos una capa seleccionada del grupo que consiste de una capa de recubrimiento de metal, una capa de 15 recubrimiento de nitruro de metal, una capa de recubrimiento de carburo de metal, una capa de recubrimiento de óxido de metal, una capa de recubrimiento de carbonitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxinitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxicarburo de metal y una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro 20 de metal.
8. 8 El adorno personal como se reivindicó en cualquiera de las reivindicaciones 1 , 2 y 5, en donde la capa de chapeado de níqu el tiene un espesor de 1 a 10 µm, la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa tiene un espesor d e 3 a 1 0 µm, y la capa de 25 recu brimiento coloreado tiene un espesor de 0 1 a 2 µm
9. 9. Un proceso para producir un adorno personal que tiene s.u superficie cubierta con un recubrimiento coloreado, el recubrimiento coloreado formado mediante chapeado en seco, dicho proces o comprende los pasos de: sujetar a electroplastia una superficie de un material de base, para adorno personal compuesto por una aleación de cobre o cinc para con esto formar una capa de chapeado de níquel en la superficie, o primero sujetar a electroplastia una superficie del material de base para mediante lo cual formar una capa ele chapeado de cobre en la superficie y después sujetar a electroplastia una superficie de la capa de chapeado de cobre para mediante lo cual formar una capa de chapeado de n íquel en la superficie de la capa de chapeado de cobre, sujetar a electroplastia una superficie de la capa de chapeado de n íquel en una solución de chapeado que contiene sulfato de n íquel en una cantidad, en términos de átomos de níquel, de 15 a 70 g/lit. , hipofosfito de sodio en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 10 a 50 g/lit. , una sal conductora eléctricamente en una cantidad de 50 a 90 g/lit. , un amortiguador de pH en una cantidad de 20 a 50 g/lit. , y un agente formador de complejos en una cantidad de 5 a 30 g/lit. , para con lo cual formar sobre la superficie de la capa de chapeado de n íquel una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido d e fósforo de 1 1 a 16% en peso, y sujetar una superficie de la capa de chapeado de aleación de &£'&& £'„». t &Ébái n íquel/fósforo amorfa a chapeado en seco de manera que se forma por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre la superficie.
10. 10. El proceso como se reivindicó en la reivindicación 9, en 5 donde la formación de la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa se realiza a una densidad de corriente (Dk) de 1 a 3 A/dm2 en la solución de chapeado cuya temperatura está en el rango de 50 a 60° C.
11. 1 1 . El proceso como se reivindicó en la reivindicación 9, e n 10 donde el agente formador de complejos es por lo menos un miembro seleccionado del grupo que consiste de ácido cítrico, ácido tartárico, ácido malónico, ácido málico, glicina, ácido glucónico y sus sales.
12. 12. Un proceso para producir un adorno personal que tiene su 15 superficie cubierta con un recubrimiento coloreado, el recubrimien to coloreado formado mediante chapeado en seco, dicho proceso comprende los pasos de: sujetar a electroplastia una superficie de un material de base para adorno personal compuesto por una aleación de cobre o cinc 20 para con esto formar una capa de chapeado de níquel en la superficie, o primero sujetar a electroplastia una superficie del material de base para mediante lo cual formar una capa de chapeado de cobre en la superficie y después sujetar a electroplastia una superficie de la capa de chapeado de cobre para 25 mediante lo cual formar una capa de chapeado de n íquel en la superficie de la capa de chapeado de cobre, sujetar a electroplastia una superficie de la capa de chapeado de níquel en una solución de chapeado que contiene una sal de n íquel en una cantidad, en términos de átomos de níquel, de 1 a 15 g/lit. , hipofosfito de sodio (agente reductor) en una cantidad, en términos de átomos de fósforo, de 5 a 30 g/lit. , un agente formador de complejos, un amortiguador y un regulador de pH, o primero sujetar a electroplastia una superficie de la capa de chapeado de níquel en la solución de chapeado y después chapeado no electrolítico de la superficie en la misma solución de chapeado, para mediante lo cual formar sobre la superficie de la capa de chapead o de n íquel una capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa que tiene un contenido de fósforo de 1 1 a 16% en peso, y sujetar una superficie de la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa a chapeado en seco de manera que se forma por lo menos una capa de recubrimiento coloreado sobre la superficie.
13. 13. El proceso como se reivindicó en la reivindicación 12, en donde la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa se forma mediante chapeado no electrolítico en la solución de chapeado cuyo pH está en el rango de 3.0 a 4 5 y cuya temperatu ra está en el rango de 85 a 95° C .
14. 14 El proceso como se reivindicó en la reivindicación 12, en donde la capa de chapeado de aleación de n íquel/fósforo amorfa se forma mediante primero electroplastia pasando corriente a una .--.A>.. densidad de corriente (Dk) de 0.5 a 3 A/dm2 durante un periodo de 5 a 30 seg a través de la soluéíSgr,de chapeado cuyo pH está en el rango de 3.0 a 4.5 y cuya temperatura está en el rango de 50 a 95° C y después chapeado no electrolítico en la solución ele chapeado.
15. 15. El proceso como se reivindicó en la reivindicación 9 o 12, en donde la capa de recubrimiento coloreado es por lo menos una capa seleccionada del grupo que consiste de una capa ele recubrimiento de metal, una capa de recubrimiento de nitruro ele metal, una capa de recubrimiento de carburo de metal, una capa ele recubrimiento de óxido de metal, una capa de recubrimiento ele carbonitruro de metal, una capa de recubrimiento de oxinitruro e metal, una capa de recubrimiento de oxicarburo de metal y una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de metal.
16. 16. El proceso como se reivindicó en la reivindicación 9 o 12, en donde la capa de chapeado de n íquel tiene un espesor de 1 a 10 µm, la capa de chapeado de aleación de níquel/fósforo amorfa tiene un espesor de 3 a 10 µm, y la capa de recubrimiento coloreado tiene un espesor de 0.1 a 2 µm.