MX2008016275A

MX2008016275A - Esquema de recubrimiento por cvd que incluye materiales que contienen alumina y/o titanio y metodo para hacer el mismo.

Info

Publication number: MX2008016275A
Application number: MX2008016275A
Authority: MX
Inventors: Charles G Mcnerny; Pankaj K Mehrotra; Alfred S Gates Jr; Peter R Leicht
Original assignee: Kennametal Inc
Priority date: 2006-06-22
Filing date: 2007-06-12
Publication date: 2009-01-15
Also published as: EP2677059A2; US8221838B2; CN102634771A; CN101473063A; US20070298232A1; WO2007149265A2; RU2009101926A; US20080260947A1; JP2009541075A; EP2047010A2; CA2659588A1; CN101473063B; WO2007149265A3; EP2047010A4; KR20090026154A; US8080312B2; RU2446231C2; BRPI0712145A2

Abstract

Un cuerpo recubierto (20) que incluye un sustrato (22) y un esquema de recubrimiento (36) sobre el sustrato. El esquema de recubrimiento incluye una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio (41) aplicada mediante CVD que contiene granos de carbonitruro de titanio que son de un tamaño preseleccionado de grano. El esquema de recubrimiento incluye además una primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio (48, 52, 56) que contiene primeros granos que contienen titanio/aluminio aplicada de forma tal que esté más alejada del sustrato que la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio. Los primeros granos que contienen titanio/aluminio son de un tamaño preseleccionado de grano. El esquema de recubrimiento incluye además una capa de recubrimiento de alúmina (50, 54, 58) aplicada mediante CVD que contiene granos de alúmina aplicada de forma tal que esté más alejada del sustrato que la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio. Los granos de alúmina son de un tamaño preseleccionado de grano.

Description

ESQUEMA DE RECUBRIMIENTO POR CVD QUE INCLUYE MATERIALES QUE CONTIENEN ALUMINA Y/O TITANIO Y MÉTODO PARA HACER EL MISMO ANTECEDENTES DE LA INVENCIÓN [0001] La presente invención se relaciona con un recubrimiento aplicado mediante deposición química de vapor (CVD) y productos recubiertos, especialmente insertos de corte recubiertos que son útiles en aplicaciones de remoción de materiales tales como, por ejemplo, mecanizado, torneado, y fresado. Más específicamente, la presente invención pertenece a un cuerpo recubierto, tal como, por ejemplo, un inserto de corte recubierto, donde el esquema de recubrimiento incluye una capa de recubrimiento de alúmina y un material que contiene titanio (por ejemplo, carbonitruro de titanio y/u oxicarbonitruro de titanio aluminio) por lo cual la capa de recubrimiento, la cual se aplica mediante CVD, tiene una adhesión y una resistencia al desgaste abrasivo aceptables, y métodos para realizar el recubrimiento y el cuerpo recubierto. [0002] Hasta ahora, los cuerpos recubiertos, tales como, por ejemplo, los insertos cortantes, han sido utilizados en aplicaciones de remoción de material. Las capas de recubrimiento comprenden típicamente materiales refractarios duros que exhiben la propiedad de resistencia al desgaste. Un propósito primario del uso de un recubrimiento en un inserto cortante ha sido alargar la vida útil del inserto cortante. Ha habido esquemas de recubrimientos que incluyen una capa "de recubrimiento de alúmina y/o carbonitruro de titanio, y en algunos de los documentos de patentes siguientes se describen algunos ejemplos de estos esquemas de recubrimiento. [0003] La Solicitud de Patente publicada en Estados Unidos No. US2003/0008181 Al de Ljungberg se relaciona con una herramienta cortante recubierta que tiene un recubrimiento de alúmina con granos finos cortados de igual forma. La patente U.S. 4,984,940 de Bryant y otros y la Patente Europea No. 0 463 000 Bl describen cada una el uso de capas finas de un nitruro de titanio, zirconio y/o hafnio para separar capas de alúmina donde este incluye un proceso de interrupción de la deposición de un material de recubrimiento. La Solicitud de Patente publicada en los Estados Unidos No. US2002/0122701 Al de Ljungberg y otros describe que la alúmina no columnar puede depositarse mediante la interrupción de la deposición de la alúmina. [0004] La Patente U.S. 5,700,569 de Ruppi describe un esquema de recubrimiento que comprende una pluralidad de capas de alúmina. Si la alúmina es alúmina kappa, hay una "capa de modificación" depositada sobre la superficie de la capa de alúmina subyacente donde la capa de modificación puede comprender (Al, Ti) (0, C, N) . [0005] La Patente Europea No. 0980917 Bl de Toshiba Tungaloy describe un esquema de recubrimiento que comprende TiN/Ti(C, N)/(Ti, Al) (C, N, 0) + AI2O3/AI2O3/TÍN. La Patente U.S. No. 5, 545, 490 de Oshika se relaciona con una herramienta cortante recubierta que incluye una secuencia de recubrimiento que comprende TiN/TiCN/TiCNO/Al203. La capa de TiCNO es una capa delgada que separa al TiCN de la capa de alúmina. La Solicitud de Patente PCT No. WO 99/58738 de Valenite, Inc. describe un articulo de carburo cementado o de cerámica que presenta un recubrimiento mediante CVD en forma de multicapa. En una realización, el recubrimiento comprende una capa de carbonitruro de titanio cerca de la superficie del sustrato de carburo cementado, una estructura de recubrimiento multicapas de capas alternas ultrafinas de carbonitruro de titanio y de alúmina, y una capa exterior de nitruro de titanio. [0006] La Patente U.S. No. 4,714,660 de Gates, Jr. se relaciona con recubrimientos duros sobre un sustrato de carburo cementado. El recubrimiento puede comprender oxicarbonitruro de titanio aluminio (TiwAlxOyCzNu) donde w, x, y, z y u representan las fracciones molares de Ti, Al, O, C y N respectivamente. La Patente No. US2002/0176755 Al de Ruppi publicada en los Estados Unidos muestra múltiples capas alternas de MT-TiCN y de alúmina (fase Kappa y fase gamma) . La Patente No. U.S. 6,333,099 Bl de Strondl y otros pertenece a secuencias de recubrimientos alternos que contienen alúmina y que pueden ser un carburo o nitruro de titanio aluminio. [0007] La Solicitud de Patente PCT No. WO99/29920 de Sandvik AB y la Solicitud de Patente PCT No. W099/29921 cada una tiene que ver con un esquema de recubrimiento periódico en el cual la alúmina es una de las capas de recubrimiento alternas. La otra capa es un carburo o un nitruro donde los metales (M y L) pueden incluir Ti y Al. La Solicitud de Patente PCT No. WO00/52225 de Kennametal para UNA HERRAMIENTA QUE TIENE UN RECUBRIMIENTO MULTICAPAS QUE COMPRENDE MÚLTIPLES CAPAS MEDIANTE MTCVD describe múltiples capas de material aplicado mediante MTCVD separadas por una capa interpuesta . [0008] La Patente No. U.S. 5,700,551 de Kukino y otros describe una capa de recubrimiento modulada. La FIG. 4 presenta un cambio periódico en la composición del recubrimiento. La Patente Europea No. 0 709 483 Bl de Sumitomo Electric Industries se relaciona con un esquema de recubrimiento que presenta un región modulada por composición. La FIG. 17 describe un esquema de recubrimiento modulado. [0009] La Patente No. U.S. 5, 330, 853 de Hofmann y otros se relaciona con un esquema de recubrimiento de TiAlN. Las capas difieren en que el contenido de nitrógeno y el gradiente de nitrógeno se muestran a través del espesor de una capa de recubrimiento. La Patente No. U.S 5,436,071 de Odani y otros y la Patente No. U.S. 5,920,760 de Yoshimura y otros describen recubrimientos de TiCN mediante MT-CVD. La Patente Europea No. 1 026 271 Bl de Sandvik AB (Palmqvist y otros inventores) describe insertos con carburo cementado (WC-Co más aditivos) que tienen la siguiente secuencia de recubrimiento: TiN/MT-TiCN/a-Al203/Ti . La Patente No. U.S. 4, 028, 142 de Bitzer y otros y la Patente No. U.S. 4,196, 233 de Bitzer y otros describen métodos para hacer recubrimientos mediante TCVD. [0010] La Patente U.S. No. 5,164,051 de Komaki y otros se relaciona con la preparación previa al recubrimiento de una superficie de sustrato. Estos pasos incluyen el pulimento electrolítico de la superficie y raspar la superficie. El sustrato puede ser WC-Co y el recubrimiento es diamante. La Patente No. U.S. 5,380,408 de Svensson se relaciona con al grabado para retirar el cobalto de la superficie de un sustrato, así como tratamientos mecánicos tales como el decapado por chorro. La Patente No. U.S. 6,110,240 de Saguchi y otros describe un tratamiento previo del sustrato antes del recubrimiento con diamante. La Patente No. U.S. 5,648,119 de Grab y otros describe (Col. 11, lineas 55-58) el pulido del sustrato recubierto con diamante. [0011] Como es evidente de los documentos anteriores, en el pasado se han usado muchos esquemas diferentes de recubrimiento para un inserto cortante recubierto. De acuerdo con estos documentos de patentes, cada uno de estos esquemas de recubrimiento proporciona ciertas ventajas. Aunque ha habido esquemas de recubrimiento que se supone que proporcionen ciertas ventajas, siempre ha permanecido un deseo de continuar alargando la vida útil, asi como de mejorar las características del desempeño, de los insertos cortantes recubiertos. [0012] El deseo de alargar la vida útil y de mejorar las características del desempeño es especialmente el caso de insertos cortantes recubiertos que usan capas de recubrimiento de alúmina y/o carbonitruro de titanio aplicadas mediante CVD ya que estos materiales tienen buenas propiedades de resistencia al desgaste. Las capas de recubrimiento de alúmina incluyen capas de recubrimiento de alúmina de grano refinado que exhiben una excelente resistencia a la abrasión. Lo mismo es cierto para las capas de recubrimiento de carbonitruro de titanio incluyendo las capas de recubrimiento de carbonitruro de titanio de grano fino en las que estas capas de recubrimiento exhiben excelente resistencia a la abrasión. En el contexto de, y para el propósito de esta descripción y las reivindicaciones, se considera que una microestructura de grano refinado exhibe un tamaño promedio de grano igual a o menor que un micrómetro. Sin embargo, una desventaja de estos recubrimientos ha sido que cuando uno deposita un recubrimiento más grueso la estructura granular se hace más áspera a medida que aumenta el espesor del recubrimiento. Una estructura granular más áspera reduce típicamente la resistencia a la abrasión de modo que los recubrimientos más gruesos de alúmina y/o carbonitruro de titanio no han proporcionado una mejoría en la resistencia a la abrasión. [0013] Así, sería altamente deseable proporcionar un inserto de corte recubierto mejorado donde el recubrimiento mediante CVD comprenda un esquema de recubrimiento que incluya una capa de recubrimiento de alúmina y una capa de recubrimiento de un material que contenga titanio (por ejemplo, carbonitruro de titanio aluminio y/u oxicarbonitruro de titanio aluminio) y que el inserto cortante sea útil en aplicaciones de remoción de material donde el inserto cortante tenga una vida alargada como herramienta, así como que exhibiera características de desempeño mejoradas.

SUMARIO DE LA INVENCIÓN [0014] En una forma de la misma, la invención, es un cuerpo recubierto que comprende un sustrato y un esquema de recubrimiento sobre el sustrato. El esquema de recubrimiento comprende una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio que contiene granos de carbonitruro de titanio. La capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio es aplicada mediante deposición química de vapor durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano. El espesor de la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.5 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 25 micrómetros. El esquema de recubrimiento comprende además una primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio que contiene primeros granos que contienen titanio/aluminio. La primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio es aplicada mediante deposición química de vapor durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los primeros granos que contienen titanio/aluminio en un tamaño preseleccionado de grano. El espesor de la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio oscila entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros aproximadamente. La primera capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio está más alejada del sustrato que la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio. El esquema de recubrimiento incluye además una capa de recubrimiento de alúmina que contiene granos de alúmina donde la capa de recubrimiento de alúmina es aplicada duración una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de alúmina en un tamaño preseleccionado del grano. El espesor de la capa de recubrimiento de alúmina oscila entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. La capa de recubrimiento de alúmina está más alejada del sustrato que la primera capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio . [0015] En aún otra forma de la misma, la invención es un cuerpo recubierto que comprende un sustrato y un esquema de recubrimiento sobre el sustrato. El esquema de recubrimiento comprende una región intermedia de recubrimiento que tiene un espesor y un primer constituyente de la composición que comprende aluminio y oxigeno y un segundo constituyente de la composición que comprende titanio y carbono y nitrógeno. El primer componente de la composición varia en una primera manera entre un máximo y un mínimo y el segundo componente de la composición varía en una segunda manera entre un máximo y un mínimo. Cuando el primer componente de la composición está en un máximo el segundo componente de la composición está en un mínimo, y cuando el segundo componente de la composición está en un máximo el primer componente de la composición está en un mínimo. El esquema de recubrimiento incluye además una capa base de recubrimiento de nitruro de titanio aplicada mediante deposición química de vapor al sustrato. La región intermedia de recubrimiento está más alejada del sustrato que la capa base de recubrimiento. [0016] En todavía otra forma de la misma la invención es un método de fabricar un cuerpo recubierto que comprende los pasos de: suministrar un sustrato; aplicar mediante deposición química de vapor una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio que contiene granos de carbonitruro de titanio durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño preseleccionado y controlar el espesor de la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio de forma tal que oscile entre un límite inferior igual a alrededor de 0.5 micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 25 micrometros; aplicar mediante deposición química de vapor de una primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio conteniendo primeros granos que contienen titanio/aluminio durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los primeros granos que contienen titanio/aluminio en un tamaño preseleccionado y controlar el espesor de la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio de forma tal que oscile entre un límite inferior mayor que cero micrometros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrometros, y donde la primera capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio está más alejada del sustrato que la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio; y la aplicación mediante deposición química de vapor de una capa de recubrimiento de alúmina que contiene granos de alúmina durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de alúmina en un tamaño preseleccionado y controlar el espesor de la capa de recubrimiento de alúmina de forma tal que oscile entre un límite inferior mayor que cero micrometros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrometros, y la capa de recubrimiento de alúmina está más alejada del sustrato que la primera capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio . [0017] En aún otra forma de la misma la invención es un método de fabricar un cuerpo recubierto que comprende los pasos de: proporcionar un sustrato; aplicar mediante deposición química de vapor un esquema de recubrimiento de base al sustrato; aplicar mediante deposición química de vapor un primer esquema de recubrimiento secuencial que comprende una primera capa de recubrimiento que contiene titanio y una segunda capa de recubrimiento que contiene aluminio; y aplicar al primer esquema de recubrimiento secuencial mediante deposición química de vapor un segundo esquema de recubrimiento secuencial que comprende una tercera capa de recubrimiento que contiene aluminio y una cuarta capa de recubrimiento que contiene titanio.

BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS [0018] La siguiente es una breve descripción de los dibujos que forman una parte de esta solicitud de patente : [0019] La FIG. 1 es una vista isométrica de un inserto cortante con recubrimiento que tiene un esquema de recubrimiento aplicado sobre un sustrato donde una porción del esquema de recubrimiento ha sido retirada para mostrar el sustrato; [0019A] La FIG. 2 es una vista de la sección transversal de una esquina de un inserto cortante recubierto que muestra en forma esquemática el esquema de recubrimiento del Ejemplo No. 1 presente; [0020] La FIG. 3 es una fotomicrografía coloreada que incluye una escala de 10 micrómetros y muestra la sección transversal del esquema de recubrimiento del Ejemplo No. 1; [0021] La FIG. 4 es una vista de la sección transversal de una esquina de un inserto cortante recubierto que muestra en forma esquemática el esquema de recubrimiento del Ejemplo No. 2 presente; [0022] La FIG. 5 es una fotomicrografía coloreada que incluye una escala de 10 micrómetros y muestra la sección transversal del esquema de recubrimiento del Ejemplo No.2 presente; [0023] La FIG. 6 es una vista de la sección transversal de una esquina de un inserto cortante recubierto que muestra en forma esquemática una realización propuesta de un esquema de recubrimiento; [0024] La FIG. 7 es una vista de la sección transversal de una esquina de un inserto cortante recubierto que muestra en forma esquemática otra realización propuesta de un esquema de recubrimiento; y [0025] La FIG. 8 es una vista de la sección transversal de una esquina de un inserto cortante recubierto que muestra en forma esquemática otra realización propuesta más de un esquema de recubrimiento.

DESCRIPCIÓN DETALLADA DE LA INVENCIÓN [0026] Haciendo referencia a los dibujos, se muestra un número de realizaciones especificas de un inserto cortante recubierto (el inserto cortante recubierto se muestra de modo general en la FIG. 1) donde cada una de estas realizaciones especificas se discute en detalle en lo adelante. Más específicamente, las FIGS . 2-3 pertenecen a la primera realización específica que es un ejemplo presente de recubrimiento, es decir, el Ejemplo No. 1. Las FIGS. 4-5 pertenecen a una segunda realización específica que es un ejemplo presente de recubrimiento, es decir, el Ejemplo No. 2. La FIG. 6 se relaciona con una tercera realización específica propuesta de un esquema de recubrimiento. La FIG. 7 se relaciona con una cuarta realización específica propuesta de un esquema de recubrimiento. La FIG. 8 se relaciona con una quinta realización especifica propuesta de un esquema de recubrimiento. [0027] La principal diferencia entre cada una de las realizaciones especificas descansa en el esquema de recubrimiento. El sustrato para cada una de las realizaciones especificas puede seleccionarse del mismo grupo de materiales. En ese sentido, los materiales adecuados para el sustrato incluyen, pero no se limitan a ellos, carburos cementados (por ejemplo, materiales de carburo de tungsteno-cobalto) , cerámicas (por ejemplo, cerámicas con base de nitruro de silice, cerámicas con base SiAlON, cerámicas con base de carbonitruro de titanio, cerámicas con base de diboruro de titanio, y cerámicas con base de alúmina), cermets (por ejemplo, cermets que tengan aglutinante de níquel-cobalto y un alto nivel de titanio y podría incluir además carburo de tungsteno y carburo de titanio), y aceros. [0028] Los solicitantes también consideran que el sustrato podría exhibir composiciones con gradiente, especialmente en la concentración de aglutinantes, en la concentración de carbonitruros y en la concentración de carburos. Los sustratos ejemplares podrían incluir un sustrato de carburo cementado que presente una zona superficial de enriquecimiento de aglutinante o un sustrato de carburo cementado que exhiba una zona superficial de emprobrecimiento de aglutinante de enriquecimiento de carburo en solución sólida. [0029] Otros materiales de sustrato ejemplares son el nitruro de boro cúbico policristalino (PCBN) (los materiales ejemplares de PCBN incluyen aquellos con aglutinantes cerámicos o metálicos) y otros materiales superduros. Los materiales de PCBN pueden usarse en conjunto con insertos cortantes en dos formas básicas. En una forma, los insertos de PCBN pueden soldarse al cuerpo del inserto cortante. En la segunda forma, los insertos cortantes de PCBN pueden ser insertos de superficie total . [0030] Para cada una de las realizaciones especificas, un sustrato preferido es el nitruro de boro cúbico policristalino (PCBN) . Otro material de sustrato preferido está basado en carburo de tungsteno cementado con cobalto que comprende entre alrededor de 0.1 por ciento en peso y alrededor de 20 por ciento en peso de cobalto y el balance de carburo de tungsteno. Es posible que tal carburo de tungsteno cementado con cobalto incluya aditivos como el titanio, el tantalio, el niobio, el zirconio, el hafnio, el vanadio, y el cromo tanto solos como en cualquier combinación donde estos aditivos pueden estar en la forma de carburos y/o nitruros y/o carbonitruros , asi como otros aditivos típicamente añadidos a los carburos cementados. [0031] Para cada una de las realizaciones específicas, debe apreciarse que antes de la deposición de el esquema de recubrimiento la superficie del sustrato puede tratarse de forma tal de mejorar la adhesión del esquema de recubrimiento al sustrato. Los tratamientos previos ejemplares incluyen un proceso para eliminar o reducir el nivel de aglutinante en la superficie del sustrato. En el caso del sustrato de carburo de tungsteno cementado con cobalto con un tratamiento previo eliminaría el cobalto de la superficie del sustrato o trataría la superficie para mejorar la adhesión del recubrimiento. Otro tratamiento previo ejemplar sería un proceso que elaborara mecánicamente la superficie del sustrato de forma tal de hacer rugosa la superficie del sustrato dejándola lista para producir una buena adhesión del recubrimiento. [0032] Debe apreciarse que en algunos casos la superficie del esquema de recubrimiento puede estar sujeta a un tratamiento de postdeposición de forma tal de mejorar el desempeño y/o la suavidad y/o la adhesión. Un tratamiento ejemplar es la eliminación de las asperezas de la superficie del esquema de recubrimiento de forma tal de reducir o minimizar cualesquier sitio que origine esfuerzos. Otro tratamiento ejemplar es eliminar de manera preferencial el recubrimiento (o una parte de la capa de recubrimiento) de áreas seleccionadas del inserto cortante. Un tratamiento superficial reduce típicamente los esfuerzos de tensión o incrementa los esfuerzos de compresión en las capas de recubrimiento. Por ejemplo, la Publicación de Patente PCT No. WO 02/077312 de Widia GmbH describe el decapado por chorro de un recubrimiento (PVD o PCVD o CVD) para incrementar el esfuerzo interno de presión o reducir el esfuerzo de tensión interno en las capas de recubrimiento exteriores . [0033] Además, debe apreciarse que para mejorar la adhesión de las capas de recubrimiento puede haberse provisto interfaces microscópicamente rugosas entre cada una de las capas de recubrimiento. Estas interfaces microscópicamente rugosas pueden generarse mediante el control de los parámetros del CVD (o deposición química de vapor a temperatura moderada [MT-CVD] ) de forma tal de promover altas tasas de crecimiento para las capas de recubrimiento. Las altos tasas de crecimiento en los procesos de CVD (incluyendo los procesos de MT-CVD) pueden ocurrir mediante el uso de temperaturas de deposición relativamente elevadas y/o presiones relativamente altas. Como otra alternativa para mejorar la adhesión entre las capas de recubrimiento, en el proceso de deposición la composición puede cambiarse gradualmente entre las capas adyacentes de forma tal de reducir la existencia de una interfaz de la composición abrupta entre las capas de recubrimiento adyacentes. [0034] En cuanto al proceso para producir cada una de las realizaciones especificas, debe apreciarse que para cada uno de los pasos del proceso, la presión y la duración del paso del proceso pueden variar de forma tal de alcanzar el espesor de recubrimiento deseado. Generalmente hablando, el presente proceso usa el concepto de interrumpir un paso de recubrimiento y entonces seguir a esta interrupción con otro paso que tiene un cambio (y a veces un cambio significativo) en la composición del recubrimiento o en los parámetros de recubrimiento. Estas interrupciones resultan en capas de recubrimiento en las cuales los granos se nuclean de nuevo en cada capa, y por lo tanto, exhiben un tamaño refinado de grano (es decir, un grano promedio igual o menor que un micrómetro) . [0035] Para todos los ejemplos presentes; a saber, los Ejemplos Nos. 1 y 2, el material en cada capa de recubrimiento mostró un tamaño de grano refinado (es decir, un grano de tamaño igual o menor que un micrómetro) . Hubo una interrupción en la aplicación de cada una de las capas de recubrimiento, y esta interrupción resultó en la estructura refinada de grano. [0036] La FIG. 1 ilustra una realización de un inserto cortante recubierto (el cual es una forma de un cuerpo recubierto) que está generalmente designado como . El inserto cortante recubierto 20 comprende un sustrato 22. Una porción del recubrimiento del inserto cortante recubierto 20 se ha retirado de forma tal de mostrar el sustrato 22 en la FIG. 1. El sustrato 22 puede hacerse de cualquiera de uno de una cantidad de materiales de sustrato aceptables. El inserto cortante recubierto 20 tiene una superficie de flanco 24 y una superficie de barrido 26. La superficie de flanco 24 y la superficie de barrido 26 se intersectan para formar un borde cortante 28 en la unión de las mismas. Debe apreciarse que el inserto cortante recubierto puede exhibir geometrías que son diferentes de la geometría mostrada en la FIG. 1. Por ejemplo, aunque no se ilustra, para ciertas geometrías de insertos cortantes, un inserto cortante recubierto puede contener una abertura central que se usa para fijar el inserto cortante recubierto en un portaherramientas o algo similar. [0037] Con referencia a la FIG. 2, se muestra en sección transversal una primera realización específica de un esquema de recubrimiento (Ejemplo No. 1 presente) en una esquina de un inserto cortante recubierto. El esquema de recubrimiento del Ejemplo No. 1 presente está ilustrado de forma esquemática en la FIG. 2 y está generalmente designado mediante una llave por 36. Como se discutirá posteriormente, la FIG. 3 es una fotomicrografía que muestra en sección transversal el esquema de recubrimiento presente que se muestra de forma esquemática en la FIG. 2. [0038] Haciendo referencia al esquema de recubrimiento 36 y en particular a la FIG. 2, la base o primera capa de recubrimiento (o la capa base de recubrimiento) 38 comprende nitruro de titanio aplicado mediante deposición química de vapor (CVD) a la superficie del sustrato 22. Este paso es el Paso 1 en la Tabla 1. Para todas las. capas de recubrimiento de la FIG. 2, los gases que estaban presentes en el momento durante otro paso particular del proceso y la temperatura del paso particular del proceso son definidos en la Tabla 1 a partir de ese momento. El espesor de la capa base de recubrimiento 38 posee un rango que tiene un límite inferior mayor que cero micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. [0039] La segunda capa de recubrimiento 40 se aplica a la capa base de recubrimiento 38 y comprende una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio que contiene granos de carbonitruro de titanio aplicados mediante deposición química de vapor a temperatura moderada (MT-CVD) a una temperatura entre 880°C y 900°C. Este paso es el Paso 2 en la Tabla 1. Debe apreciarse que para los pasos del proceso de MT-CVD, la temperatura de deposición puede oscilar entre alrededor de 700 grados Centígrados y alrededor de 920 grados Centígrados. Como un rango alternativo, la temperatura de deposición de la MT-CVD puede oscilar entre alrededor de 850 grados Centígrados y alrededor de 920 grados Centígrados. Como otro rango alternativo, la temperatura de deposición de la MT-CVD puede oscilar entre alrededor de 870 grados Centígrados y alrededor de 910 grados Centígrados. La segunda capa de recubrimiento 40 es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano. El espesor de la segunda capa de recubrimiento 40 tiene un rango con un límite inferior igual a alrededor de 0.5 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 25 micrómetros . Como una alternativa, el espesor de la segunda capa de recubrimiento 40 tiene un rango con un limite inferior igual a alrededor de 1 micrómetro y un limite superior igual a alrededor de 20 micrómetros. Debe apreciarse que la composición del carbonitruro de titanio puede variar a través del espesor de la capa de recubrimiento 40. En este sentido, la relación carbono : nitrógeno (C:N) puede cambiar con la ubicación de la capa de recubrimiento 40. Como una alternativa, el carbonitruro de titanio puede ser rico con carbono en la parte inferior de la capa de recubrimiento y cerca de la misma y puede ser rica en nitrógeno en la parte superior de la capa de recubrimiento y cerca de la misma. Debe apreciarse también que la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio aplicada mediante MT-CVD puede en vez de eso ser sustituida por una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio aplicada mediante CVD a alta temperatura. [0040] Una tercera capa de recubrimiento 41 es aplicada a la segunda capa de recubrimiento 40. La tercera capa de recubrimiento 41 comprende una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio aplicada mediante deposición química de vapor a alta temperatura (HT-CVD) a una temperatura igual a alrededor de 1000 grados Centígrados. Este paso es el Paso 3 en la Tabla 1. Esta capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio mediante HT-CVD comprende granos de carbonitruro de titanio y es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar los granos en un tamaño de grano preseleccionado . El espesor de la capa de recubrimiento 41 tiene un rango entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros . [0041] Las siguientes seis capas de recubrimiento realmente comprenden tres repeticiones de un par de capas de recubrimiento. Cada una de las llaves 42, 44 y 46 designa una repetición de este trio de capas de recubrimiento . [0042] La primera capa de recubrimiento (48, 52, 56) en cada repetición, la cual es formada a través del paso 4A en la Tabla 1, comprende una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio que comprende granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio aplicados mediante CVD. La primera capa de recubrimiento (48, 52, 56) es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar los granos que comprenden la capa de recubrimiento en un tamaño promedio preseleccionado del grano. Estas primeras capas de recubrimiento (48, 52, 56) pueden ser consideradas capas de recubrimiento que contienen titanio/aluminio que comprenden granos que contienen titanio/aluminio. El espesor de cada una de estas primeras capas de recubrimiento (48, 52, 56) tiene un rango cuyo limite inferior es mayor que cero micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros . Como una alternativa, el espesor de cada capa de recubrimiento (48, 52, 56) tiene un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 4 micrómetros . [0043] La segunda capa de recubrimiento (50, 54, 58) en cada una de las repeticiones, la cual es formada mediante el paso 4B en la Tabla 1, es aplicada mediante CVD y comprende una capa de recubrimiento de alúmina que comprende granos de alúmina. La capa de recubrimiento de alúmina es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el grano de alúmina en un tamaño promedio de grano preseleccionado . El espesor de cada capa de recubrimiento de alúmina (50, 54, 58) tiene un rango con un limite inferior igual a alrededor de 0.5 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 25 micrómetros . Como una alternativa, el espesor de cada capa de recubrimiento (50, 54, 58) tiene un limite inferior igual a alrededor de 1 micrómetro y un limite superior igual a alrededor de 20 micrómetros. [0044] La próxima capa de recubrimiento 60 es aplicada mediante CVD a la capa de alúmina 58 y comprende una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio aluminio (es decir, una capa de recubrimiento que contiene titanio) que comprende granos de carbonitruro de titanio aluminio aplicada mediante CVD durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio aluminio en un tamaño promedio de grano preseleccionado. Este paso es el Paso 5 en la Tabla 1. El espesor de la capa de recubrimiento 60 tiene un rango que tiene un limite inferior mayor que cero micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. Como una alternativa, el espesor de la capa de recubrimiento 60 tiene un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 4 micrómetros . [0045] La próxima capa de recubrimiento 62 comprende carbonitruro de titanio aplicado mediante deposición química de vapor a la capa de recubrimiento 60. Este paso es el Paso 6 en la Tabla 1. El espesor de esta capa de recubrimiento 62 varia entre alrededor de 0.5 micrómetros y alrededor de 2 micrómetros. [0046] La capa de recubrimiento exterior 64 comprende nitruro de titanio aplicado mediante deposición química de vapor a la capa de recubrimiento 62. Este paso es el Paso 7 en la Tabla 1. El espesor de esta capa de recubrimiento exterior 64 oscila entre un límite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros . [0047] Como se mencionó anteriormente, la FIG. 3 es una fotomicrografía que muestra la microestructura de sección transversal del Ejemplo No. 1 presente. Más específicamente, la capa base es una capa de recubrimiento de nitruro de titanio de color dorado y es delgada. La próxima capa es carbonitruro de titanio que fue aplicada mediante deposición química de vapor a temperatura moderada (MT-CVD) y es de color azul/gris. La próxima capa es carbonitruro de titanio depositada mediante un proceso de deposición química de vapor a temperatura alta (HT-CVD) y es de color azul/gris. [0048] Después de terminar la aplicación de la capa de carbonitruro de titanio mediante HT-CVD, hay tres secuencias de recubrimiento donde cada secuencia de recubrimiento comprende: (a) una capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio (es decir, la capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio) , y (b) una capa de recubrimiento de alúmina. La capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio mediante HT-CVD es de color azul-gris y es delgada. La capa de oxicarbonitruro de titanio aluminio es de color dorado y es delgada. La capa de recubrimiento de alúmina es negra y (al menos en esta realización) es más gruesa que la otra capa de recubrimiento. Hay una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio aluminio y una capa de carbonitruro de titanio que es la transición de la secuencia de recubrimiento hacia la capa exterior de nitruro de titanio. Estas capas de recubrimiento de transición son de color rosado. La capa exterior de nitruro de titanio es de color amarillento (o dorado) . [0049] En cuanto al proceso para producir el esquema de recubrimiento del Ejemplo No. 1, la Tabla 1 describe estos pasos de procesamiento. Con referencia a la Tabla 1, los pasos del proceso son listados en la primera columna comenzando en el lado izquierdo de la Tabla 1. Debe apreciarse que los pasos desde el 4A hasta el 4B comprenden los pasos para aplicar las capas de recubrimiento que comprende cada secuencia de recubrimiento. La segunda columna establece el rango de temperatura en grados Centígrados para el paso correspondiente del proceso. La tercera columna establece el rango de presión en milibares para el paso correspondiente del proceso. La cuarta columna establece la duración total en minutos del paso correspondiente del proceso. La quinta columna establece los gases que estaban presentes (en total o en parte) durante el paso correspondiente del proceso. Tabla 1 Pasos del proceso para Producir la Primera Realización Específica del Esquema de Recubrimiento Paso/Parámetro Rango de Rango de Tiempo Gases Temperaturas Presiones Total del Presentes (°C) (mb) paso (minutos ) Paso 1: Capa Base 900-905 70-160 35 H2 + N2 + 38 de Nitruro de TiCl, Titanio Paso 2: Capa de 880-900 70-90 417 H2 + N2 + Recubrimiento 40 TiCl4 + de Carbonitruro CH3CN de Titanio mediante MT-CVD Paso 3: Capa de 1000 500 16 H2 + CH4 + Recubrimiento 40 N2 + de carbonitruro TiCl4 de titano mediante HT-CVD Comienzan las Repeticiones Paso 4A: Capa de 1000 75-500 41 H2 + CH4 + Recubrimiento (48, N2 + 52, 56) de TiCl4 + oxicarbonitruro A1C13 + de titanio HCl + CO aluminio + C02 Paso 4B: Capa de 1000 75 140 H2 + N2 + Recubrimiento de AICI3 + Alúmina (50, 54, HCl + CO 58) + C02 + H2S Finalizan las Repeticiones Paso 5: Capa de 1000 80-500 30 H2 + CH4 + Recubrimiento de N2 + carbonitruro de TÍCI4 + titanio alúmina AICI3 Paso 6: Capa de 985 200-500 66 H2 + CH4 + Recubrimiento de N2 + carbonitruro de T1CI4 titanio Paso 7: nitruro 980 200-800 121 H2 + N2 + de titanio TiCl4 Para una fácil comprensión el Paso 4A en la Tabla 1 se lista como un paso único; sin embargo, en realidad, el Paso 4A comprende los tres pasos secuenciales siguientes cada uno realizado a 1000 °C y dentro del rango de presión de 75 a 500 mb: El Paso 4A-1 tiene una duración igual a 30 minutos y usa los gases siguientes H2, CH4, N2, TÍCI4, CO, este es seguido por el paso 4A-2 que dura 5 minutos y usa los gases siguientes ¾, CH4, N2, TiCl4, CO y AICI3, y finalmente, este es seguido por el Paso 4A-3 que dura 6 minutos y usa los gases siguientes: H2, CH4, N2, .TiCl4, CO, CO2 y HC1. Los solicitantes creen que el Paso 4A-1 deposita una capa de oxicarbonitruro de titanio, y que el Paso 4A-2 deposita una capa de oxicarbonitruro de titanio aluminio, y que el paso 4A-3 deposita una capa de óxido de titanio que funciona como una capa de recubrimiento de formación de núcleos de alfa-alúmina. Debe apreciarse que los solicitantes creen que las capas de recubrimiento depositadas mediante el Paso 4A exhiben una morfología de filamento y que las capas de recubrimiento de los Pasos 4A-2 y 4A-3 recubren los filamentos. Los solicitantes no tienen la intención de limitar la invención a la presencia de estas capas de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio o de oxicarbonitruro de titanio aluminio o de óxido de titanio . [0050] Para una fácil comprensión, el Paso 4B en la Tabla 1 se lista como un paso único; pero en realidad, comprende los tres pasos secuenciales siguientes cada uno realizado a una temperatura igual a 1000 °C y a una presión igual a 75 mb: El Paso 4B-1 tiene una duración igual a 30 minutos y usa los gases siguientes: ¾ + N2 + AICI3 + HC1 + CO + C02, este paso es seguido entonces por el Paso 4B-2 el cual dura 100 minutos y usa los gases siguientes: H2 + A1C13 + HC1 + C02 + H2S, y finalmente, este paso es seguido por el Paso 4B-3 el cual dura 10 minutos y usa los gases siguientes: ¾ + 2 + AICI3 + HC1 + C02. Cada uno de los Pasos del 4B-1 al 4B-3 deposita una capa de alúmina. [0051] Para una fácil comprensión, el Paso 5 en la Tabla 1 se lista como un paso único; sin embargo, en realidad, comprende los dos pasos secuenciales siguientes que ocurren a 1000 grados Centígrados: El Paso 5-1 dura 10 minutos a una. presión igual a 80 mb y usa los gases siguientes: H2 + CH4 + N2 + TiCl4 + AICI3. El Paso 5-2 dura 20 minutos a una presión igual a 500 mb y usa los gases siguientes: H2 + CH4 + N2 + TiCl4 + AICI3. El Paso 5-1 y el Paso 5-2 depositan cada uno una capa de carbonitruro de titanio aluminio. [0052] Haciendo referencia a la FIG. 4, se muestra en sección transversal una esquina de una segunda realización de un inserto cortante recubierto (el cual es una forma del cuerpo recubierto) generalmente designado como 70. El inserto cortante recubierto 70 comprende un sustrato 72. El inserto cortante recubierto 70 tiene un esquema de recubrimiento mostrado por las llaves 74. El esquema de recubrimiento 74 comprende capas de recubrimiento aplicadas mediante CVD o MT-CVD que se describen a continuación. Los rangos de temperatura y los gases presentes (para todo o para una parte del paso de deposición) para cada capa se exponen en la Tabla 2 a continuación . [0053] La primera capa de recubrimiento o capa base 76 comprende una capa de recubrimiento de nitruro de titanio que contiene granos de nitruro de titanio y es depositada sobre la superficie del sustrato 72 mediante CVD. Este paso es el Paso 1 en la Tabla 2. El espesor de la primera capa de recubrimiento 76 tiene un límite inferior mayor que cero micrometros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrometros. Los granos de nitruro de titanio tienen un tamaño promedio de grano igual o menor que alrededor de un micrómetro.

[0054] La segunda capa de recubrimiento 78 comprende una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio que contiene granos de carbonitruro de titanio aplicada mediante MT-CVD a la capa base de recubrimiento 76. Este es el Paso 2 en la Tabla 2. La segunda capa de recubrimiento 78 es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño de grano preseleccionado . Los granos de carbonitruro de titanio tienen un tamaño promedio de grano igual o menor que alrededor de un micrómetro. El espesor de la segunda capa de recubrimiento 78 tiene un limite inferior igual a alrededor de 0.5 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 25 micrómetros. La tercera capa de recubrimiento 79 comprende carbonitruro de titanio aplicado mediante HT-CVD. Este es el Paso 3 en la Tabla 2. El espesor de la tercera capa de recubrimiento 79 oscila entre mayor que 0 micrómetros hasta alrededor de 5 micrómetros, y más preferiblemente, oscila entre alrededor de 0.1 micrómetros y alrededor de 4 micrómetros . [0055] El esquema de recubrimiento 74 incluye además dieciocho secuencias de recubrimiento mostradas mediante la llave 80 donde cada secuencia de recubrimiento 80 comprende un par de capas de recubrimiento. Una capa de recubrimiento del par es una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio depositada mediante CVD, y este es el Paso 4A en la Tabla 2. La otra capa de recubrimiento es una capa de recubrimiento de alúmina depositada mediante CVD, y este es al Paso 4B en la Tabla 2. Cada capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio comprende granos de carbonitruro de titanio. Cada capa de oxicarbonitruro de titanio aluminio es aplicada mediante CVD durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio en un tamaño preseleccionado de grano. Los granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio tienen un tamaño promedio de grano igual a o menor que un micrómetro. Cada capa de recubrimiento de alúmina comprende granos de alúmina. Cada capa de alúmina es aplicada mediante CVD durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de alúmina en un tamaño de grano preseleccionado. Los granos de alúmina tienen un tamaño promedio de grano igual a o menor que un micrómetro. [0056] Más específicamente, la secuencia de recubrimiento inferior se muestra mediante la llave 84 y comprende la capa de recubrimiento 86 de oxicarbonitruro de titanio aluminio y la capa de recubrimiento 88 de alúmina. La llave 90 es representativa de las dieciséis secuencias de recubrimiento intermedias donde cada secuencia de recubrimiento es igual a la secuencia de recubrimiento 84. La secuencia de recubrimiento superior es mostrada por la llave 94 y comprende una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio 96 y una capa de recubrimiento 98 de alúmina. [0057] El espesor total de cada una de las secuencias de recubrimiento (84, 94) oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 10 micrómetros. Como una alternativa, el espesor total de cada una de estas secuencias de recubrimiento (84, 94) oscila entre un límite inferior igual a alrededor de 1 micrómetro y un limite superior igual a alrededor de 8 micrómetros . El espesor de la capa de recubrimiento (86, 96) de oxicarbonitruro de titanio aluminio que es parte de cada una de estas secuencias de recubrimiento (84, 94) oscila entre un limite inferior mayor que cero micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. Como una alternativa, el espesor de esta capa de recubrimiento (86, 96) de oxicarbonitruro de titanio aluminio oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 4 micrómetros. El espesor de la capa de recubrimiento (88, 98) de alúmina que es una parte de cada una de estas secuencias de recubrimiento (84, 94) oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 25 micrómetros. Como una alternativa, el espesor de esta capa de recubrimiento (88, 98) de alúmina oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 1 micrómetro y un limite superior igual a alrededor de 20 micrómetros. [0058] En este esquema de recubrimiento 74 especifico, la próxima capa de recubrimiento es una capa de carbonitruro de titanio aluminio 100, la cual es el Paso 5 en la Tabla 2. La capa de recubrimiento 100 es seguida por una capa 102 de carbonitruro de titanio, la cual es el Paso 6 en la Tabla 2. La capa de recubrimiento 102 es seguida por la capa exterior de nitruro de titanio 104, la cual es el Paso 7 en la Tabla 2. El espesor de la capa de recubrimiento 100 de carbonitruro de titanio aluminio oscila entre un limite inferior mayor que cero micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. Como una alternativa, el espesor de esta capa de recubrimiento 100 oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 4 micrómetros. El espesor de la capa de recubrimiento 102 de carbonitruro de titanio oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. El espesor de la capa de recubrimiento exterior 104 de carbonitruro de titanio oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. [0059] La capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio aluminio comprende granos de carbonitruro de titanio aluminio que tienen un tamaño promedio de grano igual o menor que alrededor de un micrómetro. La capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio aluminio es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio aluminio en un tamaño preseleccionado de grano . [0060] La capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio comprende granos de carbonitruro de titanio que tienen un tamaño promedio de grano igual o menor que alrededor de un micrómetro. La capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano. [0061] La capa de recubrimiento de nitruro de titanio comprende granos de nitruro de titanio que tienen un tamaño promedio de grano igual o menor que alrededor de un micrómetro. La capa de recubrimiento de nitruro de titanio es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de nitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano. [0062] En cuanto al proceso para producir la segunda realización especifica de la invención, la Tabla 2 describe los pasos de procesamiento usados para producir el esquema de recubrimiento de la segunda realización especifica (Ejemplo No. 2 presente) del inserto cortante recubierto. Haciendo referencia a la Tabla 2, la primera columna comenzando por el lado izquierdo de la Tabla 2 establece los pasos del proceso. Debe apreciarse que los Pasos 4A hasta el 4B comprenden los pasos que aplican las capas de recubrimiento que comprenden cada secuencia de recubrimiento. [0063] La segunda columna establece el rango de temperatura en grados Centígrados para el paso correspondiente. La tercera columna establece el rango de presión en milibares para el paso correspondiente. La cuarta columna establece la duración total en minutos del paso correspondiente. La quinta columna establece los gases que estaban presentes (en total o en parte) durante el paso correspondiente.

Tabla 2 Pasos del proceso para Producir la Segunda Realización Específica del Esquema de Recubrimiento Paso 2 : Capa de 880-900 70-90 417 H2 + Recubrimiento CH3CN + de Carbonitruro N2 + de Titanio TiCl4 mediante MT Paso 3: Capa de 1000 500 17 H2 + CH4 Recubrimiento + N2 + de carbonitruro TiCl„ de titano mediante HT Comienza cada Repetición Paso 4A de la 1000 75-500 41 H2 + CH4 Secuencia: Capa + N2 + de TiCl„ + Recubrimiento AICI3 + de HC1 + CO oxicarbonitruro + C02 de titanio aluminio Paso 4B de la 1000 75 30 H2 + N2 + Secuencia : AICI3 + Capas de HC1 + CO Recubrimiento + C02 + de Alúmina H2S Finaliza cada Repetición Paso 5 : Capa de 1000 80-500 30 H2 + CH4 Recubrimiento + N2 + de carbonitruro TÍCI4 + de aluminio AICI3 Paso 6: Capa de 985 200-500 66 H2 + CH4 Recubrimiento + N2 + de carbonitruro TiCl,, de titanio Paso 7: Capa de 980-985 200-800 121 H2 + N2 + Recubrimiento TÍCI4 exterior de nitruro de titanio Para una fácil comprensión del Paso 4A en la Tabla 2 se lista como un paso único; sin embargo, en realidad, el Paso 4A comprende los tres pasos secuenciales siguientes cada uno realizado a 1000 °C y dentro del rango de presión de 75 a 500 mb: El Paso 4A-1 tiene una duración igual a 30 minutos y usa los gases siguientes: ¾, CH4, N2, TiCl4, CO, este es seguido por el Paso 4A-2 que dura 5 minutos y usa los gases siguientes: H2, CH4, N2, TiCl4, CO y A1C13, y finalmente, este es seguido por el Paso 4A-3 que dura 6 minutos y usa los gases siguientes: H2, CH4, N2, T1CI4, CO, C02 y HC1. Los solicitantes creen que el Paso 4A-1 deposita una capa de oxicarbonitruro de titanio, y que el Paso 4A-2 deposita una capa de oxicarbonitruro de titanio aluminio, y que el paso 4A-3 deposita una capa de óxido de titanio que funciona como una capa de recubrimiento de formación de núcleos de alfa-alúmina. Debe apreciarse que los solicitantes creen que las capas de recubrimiento depositadas mediante el Paso 4A exhiben una morfología de filamento donde la capa de recubrimiento del Paso 4A-1 tiene una morfología de filamento y que las capas de recubrimiento de los Pasos 4A-2 y 4A-3 recubren los filamentos. Los solicitantes no tienen la intención de limitar la invención a la presencia de estas capas de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio o de oxicarbonitruro de titanio aluminio o de óxido de titanio. [0064] Para una fácil comprensión, el Paso 4B en la Tabla 1 se lista como un paso único; pero en realidad, comprende los tres pasos secuenciales siguientes cada uno realizado a una temperatura igual a 1000 °C y a una presión igual a 75 mb: El Paso 4B-1 tiene una duración igual a 5 minutos y usa los gases siguientes: H2 + N2 + AICI3 + HC1 + CO + C02, este paso es seguido entonces por el Paso 4B-2 el cual dura 20 minutos y usa los gases siguientes: H2 + AICI3 + HC1 + C02 + H2S, y finalmente, este paso es seguido por el Paso 4B-3 el cual dura 5 minutos y usa los gases siguientes: H2 + N2 + AICI3 + HC1 + C02. Cada uno de los Pasos del 4B-1 al 4B-3 deposita una capa de alúmina. [0065 ] Para una fácil comprensión, el Paso 5 en la Tabla 2 se lista como un paso único; sin embargo, en realidad, comprende los dos pasos secuenciales siguientes que ocurren a 1000 grados Centígrados: El Paso 5-1 dura 10 minutos a una presión igual a 80 mb y usa los gases siguientes: H2 + CH4 + N2 + TiCl4 + A1C13. El Paso 5-2 dura 20 minutos a una presión igual a 500 mb y usa los gases siguientes: H2 + CH + N2 + TiCl4 + A1C13. El Paso 5-1 y el Paso 5-2 depositan cada uno una capa de carbonitruro de titanio aluminio. [0066] La FIG 5 es una fotomicrografía (a color) que muestra la microestructura de un esquema de recubrimiento presente que se muestra de forma esquemática en la FIG. 4 como esquema de recubrimiento 74. El sustrato particular mostrado en la FIG. 5 es un carburo cementado de carburo de tungsteno-cobalto. [0067 ] Haciendo referencia al esquema de recubrimiento mostrado en la FIG. 5, la capa base es una capa de recubrimiento de nitruro de titanio de color dorado y es delgada. La próxima capa es carbonitruro de titanio que fue aplicada mediante deposición química de vapor a temperatura moderada (MT-CVD) y es de color azul/gris. La próxima capa es carbonitruro de titanio que fue aplicada mediante deposición química de vapor a alta temperatura (HT-CVD) y también es de color azul/gris. [0068 ] Después de terminar la aplicación de la capa de carbonitruro de titanio mediante HT-CVD, hay dieciocho secuencias de recubrimiento donde cada una de las secuencias de recubrimiento comprende: (a) una capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio (es decir, la capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio), y (b) una capa de recubrimiento de alúmina. La capa de oxicarbonitruro. de titanio aluminio es de color dorado y es delgada. La capa de recubrimiento de alúmina es negra y más gruesa. Hay una capa de carbonitruro de titanio aluminio y una capa de carbonitruro de titanio que es la transición de la secuencia de recubrimiento hacia la capa exterior de nitruro de titanio. Estas capas de transición son de color rosado. La capa exterior de nitruro de titanio es de color amarillento (o dorado) . [0069] Haciendo referencia a la FIG. 6, se muestra en sección transversal una esquina de una tercera realización propuesta de un inserto cortante recubierto (el cual es un ejemplo de un cuerpo recubierto) generalmente designado como 90. El inserto cortante recubierto 90 comprende un sustrato 92. El inserto cortante recubierto 90 tiene un esquema de recubrimiento mostrado por las llaves 94. El esquema de recubrimiento 94 comprende una pluralidad de capas de recubrimiento que se describen a continuación. [0070] La capa base (o primera) de recubrimiento 96 es de nitruro de titanio (que comprende granos de nitruro de titanio) depositada mediante CVD sobre la superficie del sustrato 92. Los parámetros del proceso para la aplicación de la capa base 96 son los establecidos en la Tabla 1 para la aplicación de la capa 38. El proceso de CVD es para una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de nitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano. Los granos de nitruro de titanio tienen un tamaño promedio de grano igual o menor que alrededor de un micrómetro. La primera capa de recubrimiento 96 tiene un espesor que puede oscilar entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. [0071] El esquema de recubrimiento 94 incluye además una serie de cinco secuencias de recubrimiento como es mostrado mediante las llaves 98, 100, 102, 104, 106. El espesor de cada zona de estas secuencias de recubrimiento (98, 100, 102, 104, 106) oscila entre un límite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 25 micrómetros. Como una alternativa, el espesor de cada secuencia de recubrimiento (98, 100, 102, 104, 106) oscila entre un límite inferior igual a alrededor de 1 micrómetro y un límite superior igual a alrededor de 20 micrómetros. [0072] Cada una de estas secuencias de recubrimiento (98, 100, 102, 104, 106) comprende cuatro capas de recubrimiento. La primera capa de recubrimiento en cada secuencia de recubrimiento comprende una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio que comprende granos de carbonitruro de titanio aplicados mediante CVD. El proceso de CVD es aplicado durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano. Los granos de carbonitruro de titanio tienen un tamaño promedio de grano igual o menor que alrededor de un micrómetro. Una porción de esta capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio es aplicada mediante T-CVD donde la temperatura de deposición del proceso de MT-CVD oscila entre alrededor de 700 grados Centígrados y alrededor de 900 grados Centígrados. La deposición del balance de la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio en la secuencia es depositada a una temperatura de alrededor de 1000 grados Centígrados. Los parámetros del proceso ejemplar para esta capa de recubrimiento (MT-CVD y HT-CVD) de carbonitruro de titanio son establecidos en la Tabla 1 como los Pasos 2A y 2B. [0073] La segunda capa de recubrimiento en cada secuencia de recubrimiento comprende una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio que comprende granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio depositados mediante CVD donde esta capa de recubrimiento tiene un espesor que oscila entre un límite inferior mayor que cero micrometros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrometros. Como una alternativa, el espesor de esta capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio oscila entre un límite inferior igual a alrededor de 0.1 micrometros y un límite superior igual a alrededor de 4 micrometros. Los parámetros del proceso ejemplar para esta capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio son establecidos en el Paso 4A de la Tabla 1. El proceso de CVD es aplicado durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio en un tamaño preseleccionado de grano. Los granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio tienen un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro. [0074] La tercera capa de recubrimiento en cada secuencia de recubrimiento comprende una capa de recubrimiento de alúmina depositada mediante CVD donde esta capa de recubrimiento tiene un espesor que oscila entre un límite inferior igual a alrededor de 0.1 micrometros y un límite superior igual a alrededor de 25 mierómetros . Como una alternativa, el espesor de esta capa de recubrimiento de alúmina de grano refinado oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 1 micrómetro y un limite superior igual a alrededor de 20 micrómetros. Los parámetros del proceso ejemplar para esta capa de recubrimiento de alúmina son establecidos en el Paso 4B de la Tabla 1. El proceso de CVD es aplicado durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de alúmina en un tamaño preseleccionado de grano. Los granos de alúmina tienen un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro. La fase cristalina de esta capa de recubrimiento de alúmina es la fase alfa. [0075] La cuarta capa de recubrimiento en cada secuencia de recubrimiento comprende una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio depositada mediante CVD donde esta capa de recubrimiento tiene un espesor que oscila entre un limite inferior mayor que cero micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros. Como una alternativa, el espesor de esta capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 4 micrómetros. Los parámetros del proceso ejemplar para esta capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio son establecidos en al Paso 4A de la Tabla 1. El proceso de CVD es aplicado durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio en un tamaño preseleccionado de grano. Los granos de oxicarbonitruro de titanio aluminio tienen un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro. [0076] Haciendo referencia en más detalle a estas cinco secuencias de recubrimiento (98, 100, 102, 104, 106) , la primera de estas secuencias de recubrimiento 98 comprende una segunda capa de recubrimiento 108 de carbonitruro de titanio, una tercera capa de recubrimiento 110 de oxicarbonitruro de titanio aluminio, una cuarta capa de recubrimiento 112 de alúmina, y una quinta capa de recubrimiento 114 de oxicarbonitruro de titanio aluminio. La segunda de estas secuencias de recubrimiento 100 comprende una sexta capa de recubrimiento 116 de carbonitruro de titanio, una séptima capa de recubrimiento 118 de oxicarbonitruro de titanio aluminio, una octava capa de recubrimiento 120 de alúmina, y una novena capa de recubrimiento 122 de oxicarbonitruro de titanio aluminio de grano refinado. [0077] La tercera de estas secuencias de recubrimiento 102 comprende una décima capa de recubrimiento 124 de carbonitruro de titanio, una undécima capa de recubrimiento 126 de oxicarbonitruro de titanio aluminio, una duodécima capa de recubrimiento 128 de alúmina, y una decimotercera capa de recubrimiento 130 de oxicarbonitruro de titanio aluminio. La cuarta de las secuencias de recubrimiento 104 comprende una decimocuarta capa de recubrimiento 132 de carbonitruro de titanio, una decimoquinta capa de recubrimiento 134 de oxicarbonitruro de titanio aluminio, una decimosexta capa de recubrimiento 136 de alúmina, y una decimoséptima capa de recubrimiento 138 de oxicarbonitruro de titanio aluminio .

[0078] La quina secuencia de recubrimiento 106 comprende una decimoctava capa de recubrimiento 140 de carbonitruro de titanio, una decimonovena capa de recubrimiento 142 de oxicarbonitruro de titanio aluminio, una vigésima capa de recubrimiento 144 de alúmina, y una capa de recubrimiento 146 de oxicarbonitruro de titanio aluminio . [0079] El esquema de recubrimiento tiene finalmente una capa de recubrimiento 148 exterior de nitruro de titanio donde esta capa de recubrimiento 148 tiene un espesor que oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros . La capa de recubrimiento 148 de nitruro de titanio comprende granos de nitruro de titanio. Esta capa de recubrimiento es aplicada durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de nitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano. Los granos de nitruro de titanio tienen un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro. [0080] Haciendo referencia a la FIG. 7, se muestra en sección transversal una esquina de una cuarta realización especifica de un inserto cortante recubierto generalmente designado como 160. El inserto cortante recubierto 160 incluye un sustrato 162. Los parámetros del proceso para los pasos para depositar el esquema de recubrimiento 164 son establecidos en la Tabla 3 a continuación . [0081] El esquema de recubrimiento 164 mostrado mediante llaves incluye una capa base de recubrimiento 166 que comprende nitruro de titanio aplicada mediante CVD. Este es el Paso 1 en la Tabla 3. Los rangos de temperatura a los cuales la capa de recubrimiento 166 es depositada pueden oscilar y los gases presentes son los mismos que aquellos para la capa base de recubrimiento 38 de la primera realización especifica. La capa base de recubrimiento 166 tiene un espesor que oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrometros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrometros. [0082] El Paso 2 en la Tabla 3 ocurre a una temperatura igual a entre 880-900 °C a una presión igual a 70-90 mb y durante una duración igual a 182 minutos. Los gases presentes son establecidos en conexión con el Paso 2 en la Tabla 3. El Paso 2 de la Tabla 3 deposita una capa 167 de carbonitruro de titanio (vea la FIG. 7) . [0083] El esquema de recubrimiento 164 incluye además una región intermedia de recubrimiento 168 mostrada mediante llaves aplicada mediante CVD. Este es el Paso 3 en la Tabla 3. La región intermedia de recubrimiento 168 comprende una composición modulada que comprende dos mezclas básicas de componentes. Una de estas mezclas de componentes comprende aluminio y oxigeno. La otra de las mezclas de componentes comprende titanio, carbono y nitrógeno. [0084] El esquema de recubrimiento 164 incluye además una capa de recubrimiento 170 de oxicarbonitruro de titanio aluminio de grano refinado aplicada mediante CVD a la región intermedia de recubrimiento 168. Este es el Paso 4 en la Tabla 3. Los rangos de temperatura a los cuales es depositada la capa de recubrimiento 170 y los gases presentes son los mismos que aquellos para la capa de recubrimiento 40 de la primera realización especifica. La capa 170 de oxicarbonitruro de titanio aluminio de grano refinado tiene un espesor que oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrometros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrometros. [0085] El esquema de recubrimiento 164 incluye finalmente una capa de recubrimiento exterior 172 de nitruro de titanio refinado depositada mediante CVD a la capa de recubrimiento 170. Los rangos de temperatura a los cuales es depositada la capa de recubrimiento 172 y los gases presentes son los mismos que aquellos para la capa de recubrimiento exterior 64 de la primera realización especifica. La capa de recubrimiento exterior 172 tiene un espesor que oscila entre un limite inferior igual a alrededor de 0.1 micrometros y un limite superior igual a alrededor de 4 micrometros. [0086] Refiriéndonos de nuevo a la región intermedia de recubrimiento 168, una de las curvas sinusoidales es sólida y representa la mezcla de aluminio y oxigeno. La otra de las curvas sinusoidales es discontinua (o de trazos) y representa la mezcla de titanio, carbono y nitrógeno. Como se muestra por la curvas sinusoidales para estos dos componentes, la composición de la región intermedia de recubrimiento 168 comprende solamente titanio, carbono y nitrógeno comenzando en la interfaz (designada como 174) con la capa base de recubrimiento 166 de nitruro de titanio y en puntos periódicos (176, 178, 180) a lo largo del espesor de la región intermedia de recubrimiento 168. Como también es mostrado por las curvas sinusoidales para estos dos componentes, la composición de la región intermedia de recubrimiento 168 comprende solamente aluminio y oxigeno (es decir, alúmina) en la interfaz (designada como 186) con la capa de recubrimiento 170 (oxicarbonitruro de titanio aluminio) y en puntos periódicos (188, 190, 192) a lo largo del espesor de la región intermedia de recubrimiento 168. [0087] Como se muestra también por las curvas sinusoidales para estos dos componentes, la composición de la región intermedia de recubrimiento 168, excepto para esos puntos en los cuales la composición es solamente de aluminio y oxigeno o solamente titanio, nitrógeno y carbono, contiene titanio, aluminio, oxigeno, carbono y nitrógeno de forma tal de formar oxicarbonitruro de titanio aluminio de composiciones variables . Las concentraciones de cada uno de los elementos varían a lo largo del espesor de la región intermedia de recubrimiento 168 como es evidente a partir de y de acuerdo con las curvas sinusoidales para los dos componentes . [0088] Debe apreciarse que la variación de los elementos puede tomar una forma diferente a la de la curva sinusoidal. De hecho, los solicitantes consideran la posibilidad de que cualquier curva periódica (es decir, de forma repetible) sería adecuada. Los solicitantes no pretenden limitar el alcance de la invención por la forma de cualquier geometría particular que represente la variación de los elementos. [0089] En cuanto a un proceso que podría usarse para producir la cuarta realización específica de la invención, la Tabla 3 describe los pasos de procesamiento que podrían usarse para producir el esquema de recubrimiento de la cuarta realización específica del inserto cortante recubierto. Haciendo referencia a la Tabla 3, la primera columna comenzando por el lado izquierdo de la Tabla 3 establece los pasos del proceso. La segunda columna establece el rango de temperatura en grados Centígrados para el paso correspondiente. La tercera columna establece ' el rango de presión en milibares para el paso correspondiente. La cuarta columna establece la duración total en minutos del paso correspondiente. La quinta columna establece los gases que estaban presentes (en total o en parte) durante el paso correspondiente. Tabla 3 Pasos del Proceso que Podrían Usarse para Producir la Cuarta Realización Específica del Esquema de Recubrimiento

[0090] La secuencia de recubrimiento para el Paso 3 se establece en la Tabla 3A a continuación. Para todos los pasos, la presión era igual a 75 mb, y la temperatura era igual a 880°C. Tabla 3A Secuencia de Recubrimiento para el Paso 3 (Región de Recubrimiento Modulado) Paso Material Duración Gases Presentes Paso 3-1 MT-carbonitruro de Pasos 3-1 y H2 + N2 + titanio 3-2 igual a TiCl4 + CH3CN 30 minutos Paso 3-2 Alúmina H2 + HC1 + C02 + H2S + A1C13 Paso 3-3 Alúmina Pasos 3-3 y H2 + HC1 +C02 3-4 igual a + H2S + AICI3 30 minutos Paso 3-4 MT-carbonitruro de H2 + N2 + titanio TiCl4 + CH3CN Paso 3-5 MT-carbonitruro de Pasos 3-5 y H2 + N2 + titanio 3-6 igual a TiCl4 + CH3CN 30 minutos Paso 3-6 Alúmina H2 + HC1 +C02 + H2S + AICI3 Paso 3-7 Alúmina Pasos 3-7 y H2 + HC1 +C02 3-8 igual a + H2S + AICI3 30 minutos Paso 3-8 MT-carbonitruro de H2 + N2 + titanio T1CI4 + CH3CN Paso 3-9 MT-carbonitruro de Pasos 3-9 y H2 + N2 + titanio 3-10 igual a T1CI4 + .CH3CN 30 minutos Paso 3-10 Alúmina H2 + HC1 +C02 + H2S + AICI3

[0091] Como una alternativa, un esquema de recubrimiento podría ser igual que el establecido en la Tabla 3, excepto que la región de recubrimiento modulado sería realizada a una temperatura igual a 1000 °C y seguiría la secuencia establecida en la Tabla 3B dada a continuación . Tabla 3B Secuencia de Recubrimiento para el Paso 3 (Región de Recubrimiento Modulado) Paso Material Presión Duración Gases (mb) Presentes Paso 3- MT- 500 mb Pasos 3-1 y H2 + N2 + 1 carbonitruro durante 15 3-2 igual a TiCl4 + de titanio minutos 30 minutos CH3CN Paso 3- Alúmina 75 mb H2 + HC1 2 durante 15 +C02 + H2S minutos + A1C13 Paso 3- Alúmina 75 mb Pasos 3-3 y H2 + HC1 3 durante 15 3-4 igual a +C02 + H2S minutos 30 minutos + AICI3 Paso 3- MT- 500 mb H2 + N2 + 4 carbonitruro durante 15 TiCl4 + de titanio minutos CH3CN Paso 3- MT- 500 mb Pasos 3-5 y H2 + N2 + 5 carbonitruro durante 15 3-6 igual a TiCl + de titanio minutos 30 minutos CH3CN Paso 3- Alúmina 75 mb H2 + HC1 6 durante 15 +C02 + H2S minutos + AICI3 Paso 3- Alúmina 75 mb Pasos 3-7 y H2 + HC1 7 durante 15 3-8 igual a +C02 + H2S minutos 30 minutos + AICI3 Paso 3- MT- 500 mb H2 + N2 + 8 carbonitruro durante 15 TiCl„ + de titanio minutos CH3CN Paso 3- MT- 500 mb Pasos 3-9 y H2 + N2 + 9 carbonitruro durante 15 3-10 igual TÍCI4 + de titanio minutos a 30 CH3CN minutos Paso 3- Alúmina 75 mb H2 + HC1 10 durante 15 +C02 + H2S minutos + AICI3

[0092] Haciendo referencia a ambas alternativas como se establece en las Tablas 3A y 3B, la combinación de los Pasos 3-1 y 3-2 puede ser considerada un primer esquema de recubrimiento secuencial. Este primer esquema de recubrimiento secuencial comprende una primera capa de recubrimiento que contiene titanio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-1) y una segunda capa de recubrimiento que contiene aluminio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-2). La combinación de los pasos 3-3 y 3-4 puede considerarse como un segundo esquema de recubrimiento secuencial. Este segundo esquema de recubrimiento secuencial comprende una tercera capa de recubrimiento que contiene aluminio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-3) y una cuarta capa de recubrimiento que contiene titanio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-4) . [0093] Refiriéndonos aún a ambas alternativas como se establece en las Tablas 3? y 3B, la combinación de los Pasos 3-5 y 3-6 puede ser considerada como un tercer esquema de recubrimiento secuencial. Este tercer esquema de recubrimiento secuencial comprende una quinta capa de recubrimiento que contiene titanio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-5) y una sexta capa de recubrimiento que contiene aluminio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-6) . La combinación de los pasos 3-7 y 3-8 puede considerarse como un cuarto esquema de recubrimiento secuencial. Este cuarto esquema de recubrimiento secuencial comprende una séptima capa de recubrimiento que contiene aluminio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-7) y una octava capa de recubrimiento que contiene titanio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-8) . [0094] Refiriéndonos aún a ambas alternativas como se establece en las Tablas 3A y 3B, la combinación de los Pasos 3-9 y 3-10 puede ser considerada, como un quinto esquema de recubrimiento secuencial. Este quinto esquema de recubrimiento secuencial comprende una novena capa de recubrimiento que contiene titanio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-9) y una décima capa de recubrimiento que contiene aluminio (la cual corresponde a la capa de recubrimiento aplicada mediante el Paso 3-10) . Debe apreciarse que los solicitantes consideran la posibilidad de que puedan aplicarse a un sustrato más de cinco esquemas de recubrimiento secuencial. [0095] Debe apreciarse que los inventores consideran la posibilidad de que otros materiales duros de recubrimiento puedan estar dentro del alcance de la presente invención. En este sentido, los materiales duros pueden incluir carburos, nitruros, carbonitruros y oxicarbonitruros de grano refinado del Grupo IVB de los metales, asi como, alúmina (incluyendo alfa-alúmina, gamma-alúmina y kappa-alúmina) , óxido de circonio, y óxido de hafnio y combinaciones de los mismos. [0096] Haciendo referencia a la FIG. 8, se muestra en sección transversal una esquina de una cuarta realización especifica de un inserto cortante recubierto generalmente designado como 200. El inserto cortante recubierto 200 incluye un sustrato 202. Los parámetros del proceso para los pasos para depositar el esquema de recubrimiento 204 son establecidos en la Tabla 3 a continuación . [0097] El esquema de recubrimiento mostrado mediante llaves 204 incluye una capa base de recubrimiento 206 que comprende nitruro de titanio de grano refinado aplicada mediante CVD. Los rangos de temperatura a los cuales la capa de recubrimiento 206 es depositada puede oscilar y los gases presentes son los mismos que aquellos para la capa base de recubrimiento 38 de la primera realización especifica. La capa base de recubrimiento 206 tiene un espesor que oscila entre mayor que 0 micrómetros y alrededor de 5 micrómetros . [0098] El esquema de recubrimiento 204 incluye además una región intermedia de recubrimiento 210 mostrada mediante llaves aplicada mediante CVD. La región intermedia de recubrimiento 210 comprende una composición modulada que comprende dos mezclas básicas de componentes. Una de estas mezclas de componentes comprende aluminio y oxigeno. La otra de las mezclas de componentes comprende titanio, carbono y nitrógeno. [0099] El esquema de recubrimiento 204 incluye además una capa de recubrimiento 212 de oxicarbonitruro de titanio aluminio de grano refinado aplicada mediante CVD a la región intermedia de recubrimiento 210. Los rangos de temperatura a los cuales la capa de recubrimiento 212 es depositada y los gases presentes son los mismos que aquellos para la capa de recubrimiento 42 de la primera realización especifica. La capa 212 de oxicarbonitruro de titanio aluminio de grano refinado tiene un espesor que oscila entre alrededor de 0.5 micrómetros y alrededor de 2 micrómetros.

[0100] El esquema de recubrimiento 204 incluye finalmente una capa de recubrimiento exterior 214 de nitruro de titanio refinado depositada mediante CVD a la capa de recubrimiento 212. Los rangos de temperatura a los cuales la capa de recubrimiento 214 es depositada y los gases presentes son los mismos que aquellos para la capa de recubrimiento exterior 48 de la primera realización especifica. La capa de recubrimiento exterior 214 tiene un espesor que oscila entre alrededor de 0.1 micrómetros y alrededor de 5 micrómetros. [0101] Refiriéndonos de nuevo a la región intermedia de recubrimiento 210, una de las curvas es sólida y representa una mezcla de aluminio y oxigeno. La otra de las curvas es discontinua (o de trazos) y representa una mezcla de titanio, carbono y nitrógeno. Como se muestra por las curvas de estos dos componentes, la composición de la región intermedia de recubrimiento 210 comprende principalmente titanio, carbono y nitrógeno (con una minoría de aluminio y oxígeno) comenzando en la interfaz (designada como 216) con la capa base de recubrimiento 206 de nitruro de titanio. La composición de la región intermedia de recubrimiento 210 cambia gradualmente a medida que la región de recubrimiento 210 se aleja de la interfaz 216 hacia un punto 218 en el cual la composición es solamente titanio, carbono y nitrógeno. [0102] La composición de la región intermedia de recubrimiento 210 cambia de nuevo a medida que la región de recubrimiento 210 se aleja aún más de la interfaz 216 (es decir, un movimiento desde el punto 218 hacia el punto 220) . El cambio es de una naturaleza tal que el contenido de aluminio-oxígeno se incrementa y el contenido de titanio-carbono-nitrógeno disminuye de forma tal que en el punto 220 la cantidad de aluminio y oxigeno es casi igual que la cantidad de titanio y nitrógeno y carbono. [0103] La composición de la región de recubrimiento 210 cambia de acuerdo con una curva sinusoidal desde el punto 220 hasta una interfaz con la capa de recubrimiento 212. Más específicamente, la composición varía de forma tal que en el punto 222 y en el punto 226 el recubrimiento tiene una composición que tiene un componente mayoritario de aluminio y oxígeno y un componente minoritario de titanio, carbono y nitrógeno. En el punto 224, el recubrimiento tiene una composición que tiene un componente mayoritario de titanio, carbono, y nitrógeno y un componente minoritario de aluminio y oxígeno. El punto 226 es la interfaz entre la región de recubrimiento 210 y la capa de recubrimiento 212. [0104] Excepto para ese punto 218 en el cual la composición es solamente titanio, nitrógeno y carbono, el recubrimiento contiene titanio, aluminio, oxígeno, carbono y nitrógeno de forma tal de formar oxicarbonitruro de titanio aluminio de composiciones variables. Las concentraciones de cada uno de los elementos varían a lo largo del espesor de la región intermedia de recubrimiento. [0105] Debe apreciarse que los inventores consideran la posibilidad de que otros materiales duros de recubrimiento puedan estar dentro del alcance de la presente invención. En este sentido, los materiales duros pueden incluir carburos, nitruros, carbonitruros y oxicarbonitruros de grano refinado del Grupo IVB de los metales, así como, alúmina (incluyendo alfa-alúmina, gamma-alúmina y kappa-alúmina) , óxido de circonio, y óxido de hafnio. [0106] Las patentes y otros documentos identificados aquí son incorporados aquí como referencia. Otras realizaciones de la invención serán evidentes para aquellos expertos en el arte a partir de una consideración de la descripción o una práctica de la invención descrita aquí. Se pretende que la descripción y los ejemplos sean solamente ilustrativos y no se pretende que limiten el alcance de la invención. El alcance y espíritu verdaderos de la invención están indicados por las reivindicaciones siguientes.

Claims

REIVINDICACIONES 1. Un cuerpo recubierto que comprende: un sustrato y un esquema de recubrimiento sobre el sustrato donde el esquema de recubrimiento comprende: una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio que contiene granos de carbonitruro de titanio y la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio siendo aplicada mediante deposición quimica de vapor durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño preseleccionado de grano, y el espesor de la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio oscilando entre un limite inferior igual a alrededor de 0.5 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 25 micrómetros; una primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio que contiene primeros granos que contienen titanio/aluminio, y la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio siendo aplicada mediante deposición quimica de vapor durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los primeros granos que contienen titanio/aluminio en un tamaño preseleccionado de grano, y el espesor de la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio oscilando entre un limite inferior mayor que cero micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 5 micrómetros, y la primera capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio estando más alejada del sustrato que la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio; y una capa de recubrimiento de alúmina que contiene granos de alúmina, y la capa de recubrimiento de alúmina siendo aplicada mediante deposición química de vapor durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de alúmina en un tamaño preseleccionado de grano, y el espesor de la capa de recubrimiento de alúmina oscilando entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros, y la capa de recubrimiento de alúmina estando más alejada del sustrato que la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio .
2. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde el esquema de recubrimiento incluye además una capa base de recubrimiento de nitruro de titanio aplicada al sustrato mediante deposición química de vapor, y la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio siendo aplicada de forma tal que está más alejada del sustrato que la capa base de recubrimiento.
3. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde el esquema de recubrimiento incluye además una segunda capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio de segundos granos que contienen titanio/aluminio, la segunda capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio siendo aplicada mediante deposición química de vapor durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los segundos granos que contienen titanio/aluminio en un tamaño preseleccionado, y el espesor de la segunda capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio oscilando entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y ún límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros, y la segunda capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio estando más alejada del sustrato que la capa de recubrimiento de alúmina.
4. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde el esquema de recubrimiento incluye además una capa de recubrimiento exterior de nitruro de titanio aplicada mediante deposición química de vapor, y la capa de recubrimiento exterior de nitruro de titanio teniendo un espesor que oscila entre un límite inferior igual a alrededor de 0.1 micrómetro y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros.
5. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde los primeros granos que contienen titanio/aluminio contienen además uno o más de los siguientes: oxígeno y carbono y nitrógeno, y los segundos granos que contienen titanio/aluminio contienen además uno o más de los siguientes: oxígeno y carbono y nitrógeno.
6. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde el sustrato comprende cualquiera de los materiales siguientes: carburos cementados, cerámicas, cermets, acero, y nitruro de boro cúbico policristalino .
7. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde el tamaño promedio de grano de los granos de carbonitruro de titanio es igual a o menor que alrededor de un micrómetro, y el tamaño promedio de grano de los primeros granos que contienen titanio es igual a o menor que alrededor de un micrómetro, y el tamaño promedio de grano de los primeros granos que contienen titanio/aluminio es igual a o menor que alrededor de un micrómetro, y el tamaño promedio de grano de los granos de alúmina es igual a o menor que alrededor de un micrómetro .
8. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde al menos una porción de la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio se aplica mediante deposición química de vapor a temperatura moderada a una temperatura que oscila entre alrededor de 850 grados Centígrados y alrededor de 900 grados Centígrados.
9. El cuerpo recubierto de la reivindicación 8 donde al menos otra porción de la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio se aplica mediante deposición química de vapor a alta temperatura a una temperatura igual a o mayor que alrededor de 950 grados Centígrados.
10. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio y la capa de recubrimiento de alúmina comprenden una secuencia de recubrimiento, y el esquema de recubrimiento comprende una pluralidad de las secuencias de recubrimiento.
11. El cuerpo recubierto de la reivindicación 1 donde el sustrato comprende un carburo cementado aglutinante, y el sustrato teniendo una zona de enriquecimiento de aglutinante comenzando en la superficie del mismo o cerca de el, la zona de enriquecimiento de aglutinante extendiéndose hacia adentro a partir de la superficie del sustrato.
12. El cuerpo recubierto de acuerdo con la reivindicación 1 donde la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio exhibe una morfología de filamento .
13. El cuerpo recubierto de acuerdo con la reivindicación 1 donde la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio comprende una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio sobre la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio y una capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio sobre la capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio y una capa de recubrimiento de formación de núcleos de alfa-alúmina sobre la capa de recubrimiento de oxicarbonitruro de titanio aluminio.
14. El cuerpo recubierto de acuerdo con la reivindicación 13 donde la capa de recubrimiento de formación de núcleos de alúmina comprende óxido de titanio.
15. Un cuerpo recubierto que comprende: un sustrato, y un esquema de recubrimiento sobre el sustrato donde el esquema de recubrimiento comprende: una región intermedia de recubrimiento que tiene un espesor y un primer constituyente de la composición que comprende aluminio y oxigeno y un segundo constituyente de la composición que comprende titanio y carbono y nitrógeno; el primer componente de la composición oscilando en una primera forma entre un máximo y mínimo y el segundo componente de la composición oscilando en una segunda forma entre un máximo y un mínimo donde cuando el primer componente de la composición está en un máximo el segundo componente de la composición está en un mínimo, y cuando el segundo componente de la composición está en un máximo el primer componente de la composición está en un mínimo; y una capa base de recubrimiento de nitruro de titanio aplicada mediante deposición química de vapor al sustrato, y la región de recubrimiento intermedia estando más alejada del sustrato que la capa base de recubrimiento .
16. El cuerpo recubierto de la reivindicación 15 donde el esquema de recubrimiento incluye además una capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio que contiene granos que contienen titanio/aluminio aplicada mediante deposición química de vapor durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos que contienen titanio/aluminio en un tamaño preseleccionado, y los granos que contienen titanio/aluminio conteniendo además uno o más de oxígeno y carbono y nitrógeno, y la capa que contiene titanio/aluminio estando más alejada del sustrato que la región de recubrimiento intermedia.
17. El cuerpo recubierto de la reivindicación 15 donde el primer componente de la composición y el segundo componente de la composición varían de una forma periódica repetida por al menos una porción del espesor de la región de recubrimiento intermedio.
18. El cuerpo recubierto de la reivindicación 15 donde el primer componente de la composición y el segundo componente de la composición varían de una forma periódica repetida en todo el espesor del recubrimiento intermedio .
19. Un método de fabricar un cuerpo recubierto que comprende los pasos de: suministrar un sustrato; aplicar mediante deposición química de vapor una capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio que contiene granos de carbonitruro de titanio, durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de carbonitruro de titanio en un tamaño preseleccionado, y controlar el espesor de la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio de forma que oscile entre un limite inferior igual a alrededor de 0.5 micrómetros y un limite superior igual a alrededor de 25 micrómetros ; aplicar mediante deposición química de vapor una primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio que contiene primeros granos que contienen titanio/aluminio, durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los primeros granos que contienen titanio/aluminio en un tamaño preseleccionado, y controlar el espesor de la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio de forma que oscile entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros, y la primera capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio está más alejada del sustrato que la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio; y aplicar mediante deposición química de vapor una capa de recubrimiento de alúmina que contiene granos de alúmina durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los granos de alúmina en un tamaño preseleccionado y controlar el espesor de la capa de recubrimiento de alúmina de forma tal que oscile entre un límite inferior mayor que cero micrómetros y un límite superior igual a alrededor de 5 micrómetros, y la capa de recubrimiento de alúmina estando más alejada del sustrato que la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio .
20. El método de la reivindicación 19 donde el esquema de recubrimiento incluye además depositar mediante la deposición química de vapor una segunda capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio que contiene segundos granos que contienen titanio/aluminio durante una duración seleccionada de forma tal de terminar el crecimiento de los segundos granos que contienen titanio/aluminio en un tamaño preseleccionado, y los segundos granos que contienen titanio/aluminio conteniendo además uno o más de oxígeno y carbono y nitrógeno, y la segunda capa de recubrimiento que contiene aluminio/titanio estando más alejada del sustrato que la capa de recubrimiento de alúmina.
21. El método de la reivindicación 19 donde los granos de carbonitruro de titanio en la capa de recubrimiento de carbonitruro de titanio tienen un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro, y los primeros granos que contienen titanio/aluminio en la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio teniendo un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro, los granos de alúmina en la capa de recubrimiento de alúmina teniendo un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro, y los segundos granos que contienen titanio/aluminio en la segunda capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio teniendo un tamaño promedio de grano igual a o menor que alrededor de un micrómetro.
22. El método de la reivindicación 19 donde la primera capa de recubrimiento que contiene titanio y la capa de recubrimiento de alúmina comprenden una secuencia de recubrimiento, y el método comprende aplicar una pluralidad de las secuencias de recubrimiento mediante CVD.
23. El método de la reivindicación 19 donde la primera capa de recubrimiento que contiene titanio/aluminio exhibe una morfología de filamento.
24. Un método de fabricar un cuerpo recubierto que comprende los pasos de: suministrar un sustrato; aplicar mediante deposición química de vapor un esquema de recubrimiento base al sustrato; aplicar mediante deposición química de vapor un primer esquema de recubrimiento secuencial que comprende una primera capa de recubrimiento que contiene titanio y una segunda capa de recubrimiento que contiene aluminio; y aplicar al primer esquema de recubrimiento secuencial mediante deposición química de vapor un segundo esquema de recubrimiento secuencial que comprende una tercera capa de recubrimiento que contiene aluminio y una cuarta capa de recubrimiento que contiene titanio.
25. El método de la reivindicación 24 donde la capa de recubrimiento que contiene titanio comprende carbonitruro de titanio, y la capa de recubrimiento que contiene aluminio comprende óxido de aluminio.
26. El método de la reivindicación 24 donde la primera capa de recubrimiento secuencial y la segunda capa de recubrimiento secuencial se aplican a una temperatura y presión y duración sustancialmente iguales.
27. El método de la reivindicación 24 donde la capa de recubrimiento que contiene titanio del primer esquema de recubrimiento secuencial y del segundo esquema de recubrimiento secuencial se aplican a una primera presión y la capa de recubrimiento que contiene aluminio del primer esquema de recubrimiento secuencial y del segundo esquema de recubrimiento secuencial se aplican a una segunda presión, y la primera presión siendo mayor que la segunda presión.
28. El método de la reivindicación 27 donde la primera presión es al menos alrededor de cuatro veces mayor que la segunda presión.
29. El método de la reivindicación 24 que comprende además : aplicar al segundo esquema de recubrimiento secuencial mediante deposición química de vapor un tercer esquema de recubrimiento secuencial que comprende una quinta capa de recubrimiento que contiene titanio y una sexta capa de recubrimiento que contiene aluminio; y aplicar al tercer esquema de recubrimiento secuencial mediante deposición química de vapor un cuarto esquema de recubrimiento secuencial que comprende una séptima capa de recubrimiento que contiene aluminio y una octava capa de recubrimiento que contiene titanio.
30. El método de la reivindicación 29 que comprende además : aplicar al cuarto esquema de recubrimiento secuencial mediante deposición química de vapor un quinto esquema de recubrimiento secuencial que comprende una novena capa de recubrimiento que contiene titanio y una décima capa de recubrimiento que contiene aluminio.