SE528929C2 - Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta - Google Patents
Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa dettaInfo
- Publication number
- SE528929C2 SE528929C2 SE0500858A SE0500858A SE528929C2 SE 528929 C2 SE528929 C2 SE 528929C2 SE 0500858 A SE0500858 A SE 0500858A SE 0500858 A SE0500858 A SE 0500858A SE 528929 C2 SE528929 C2 SE 528929C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- layer
- titanium
- outermost
- tiox
- thick
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 20
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 5
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 52
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims description 17
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 claims description 16
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 9
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 3
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N titanium(III) oxide Chemical compound O=[Ti]O[Ti]=O GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 4
- 229910009973 Ti2O3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical group [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23B—TURNING; BORING
- B23B27/00—Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
- B23B27/14—Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/36—Carbonitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/042—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material including a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxides, ZrO2, rare earth oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
l0 15 20 25 30 35 528 929 eftersom rester av TiCQ%OZ ibland syns på Alfih-ytan efter blästringsprocessen. TiC@%Oz-rester på Algb-ytan reducerar flagningsmotstándet, på grund av att TiCQ%Oz svetsas fast på arbetsstycket vid skäreggen resulterande i avlägsnande av beläggningen och en kortare livstid för skäret. En andra effekt av dessa rester efter blästring är missfärgningen, som är synlig med blotta ögat, av A120;-ytan. I produktion upprepas eller modifieras vanligtvis blästringen för att avlägsna rester av TiCxNyOz, men detta leder ofta till skador, som till exempel flagning av beläggningen på skäreggslinjen. Det är därför viktigt att hitta en lösning på detta problem, speciellt för tunna Algh-beläggningar, där vanligtvis ett lägre blästringstryck används för att inte skada beläggningen på skäreggen, vilket är en orsak till en högre risk att erhålla TiCxNgL-rester efter blästringsprocessen.
I patentet US 6,426,l37, har ett titanoxidskikt använts för att reducera fastkletning pà skäreggen. I detta fall täcker titanoxidskiktet helt Al2O3-ytan, fungerande som det översta skiktet med en tjocklek av 0.1-3 um. I en annan utföringsform är titanoxidskiktet belagt med ett TiN~skikt.
Det är ett mål med föreliggande uppfinning att lösa problemet med TiCxN¿L-rester på den efterbehandlade egglinjen och spànsidan.
Fig. 1A-lC är ljusmikroskopbilder som i ZOOX visar det yttersta Al2O3-skiktet av skär enligt föreliggande uppfinning, med olika mängder titannitridrester efter blästrings- behandlingen, där i fig. 1A A - TiN-rester, B - AlgOg . och Fig. 2A-2C är svepelektronmikroskopbilder som i 500X visar det yttersta Al2O3-skiktet av skär enligt föreliggande uppfinning, med olika mängder av titanoxidrester efter blästringsbehandlingen, där i fig. 2A A - Ti2O3-rester, och B _ Ål2O3.
Fig. 3 är en ljusmikroskopbild som i 2OOX visar det yttersta Al2O3-skiktet av en skäregg enligt tidigare känd teknik, med titannitridrester efter blästringsbehandlingen, i vilken 10 15 20 25 30 35 929 LH I\3 OS A - TiN-rester, och B - Al2O3 .
Enligt föreliggande uppfinning tillhandahålls nu en metod att göra ett belagt skär, innefattande en övre sida (spånsida), en motsatt sida och minst en släppningssida korsande sagda övre och motsatta sidor så att skäreggar definieras, innefattande deponering på ett hàrdmetall-, titanbaserat eller keramiskt substrat, genom användning av kända CVD-metoder - ett hårt skiktsystem, som har en total tjocklek av 2-50 um, innefattande minst ett skikt valt från titankarbid, titannitrid, titankarbonitrid, titankarboxid och aluminiumoxid, och ett yttre, l- l5 um tjockt, aluminiumoxidskikt eller (Al2O3 + ZrO2)*N-multiskikt, - ett näst yttersta skikt av TiOx, där x sträcker sig från l till 2, helst från 1.3 till 1.9, som har en tjocklek företrädesvis inom 0.05-3 um, helst inom 0.1-l.O um, och - ett yttersta, 0.3-2 um tjockt, TiC@@Oz-skikt, där x+y+z=l, x20, y20, och z20, helst ett enkelskikt eller ett multiskikt av TiN, TiC eller TiCQ%, där x+y=l, x2O och y20, följt av en efterbehandling, helst blästring eller borstning, avlägsnande åtminstone sagda yttersta skikt på egglinjen och på spånsidan. För att säkerställa prestandan av skäret och frånvaron av missfärgning på grund av TiN-rester, är det föredraget att sagda efterbehandling även avlägsnar minst 50 % av TiOx-skiktet, med avseende på den yttre ytans täckning, dvs. helst minst 50 % hårda_skiktsystem är exponerat. av det yttersta skiktet på utsidan av sagda Med användning av TiOx, som har en hårdhet av omkring 20% av den för Alfih, med den föreslagna tjockleken, lyfts TiCQ%Oz- så att det kan bli helt avlägsnat av blästringsmediet. TiOx är dessutom en transparent skiktet över den grova Algb-ytan, oxid, vilka innebär att eventuella rester kvar på Al2O3-ytan inte är synliga med blotta ögat, TiN.
Föreliggande uppfinning avser även ett belagt skär som har som är fallet med t.ex. en övre sida (spànsida), en motsatt sida och minst en 20 25 30 528 929 släppningssida korsande sagda övre och motsatta sidor så att skäreggar definieras tillverkat av hårdmetall, titanbaserad karbonitrid eller keramik. Skäret är belagt med ett hårt skiktsystem, med en total tjocklek av 2-50 pm, innefattande minst ett skikt valt från titankarbid, titannitrid, titankarbonitrid, titankarboxid och aluminiumoxid, och ett yttre, l-15 pm tjockt, aluminiumoxid-, helst finkornig d-Algh-, skikt eller (Al2O3 + ZrO2)*N-multiskikt, sagda hårda skiktsystem är försett med ett TiOx-skikt, där x sträcker sig från 1 till 2, helst från 1.3 till 1.9, med en tjocklek av företrädesvis 0.05-3 pm, helst 0.1-1.0 pm, sagda TiOx-skikt är det yttersta skiktet på skäreggslinjen och spånsidan, och sagda TiOx-skikt är på släppningssidan försett med ett yttersta, 0.3-2 pm tjockt, TiCxNgL-skikt, där x+y+z=l, XZO, y20, och 220, helst ett enkel- skikt eller multiskikt av TiN, TiC eller TiCXNy, där x+y=l, x2O Och y20.
I en föredragen form täcker sagda TiOx~skikt på egglinjen och spånsidan mindre än 50 % av ytan av sagda hårda skiktsystem.
Exempel l A (uppfinning): Hàrdmetallskär CNMG 120408-PM med sammansättningen 5.5 vikts-% Co, 8.6 vikts-% kubiska karbider (TiC+TaC+NbC) och resten WC belades med CVD-teknik enligt följande sekvens: 0.7 pm TiN, 4.0 pm Ti(CN), 5.0 pm d-Algb, 0.7 (Ti2O3) och 0.7 pm TiN.
Ti2O3-skiktet deponerades med CVD-teknik, där substraten som skulle beläggas hölls vid en temperatur av l0l0°C och bringädes i kontakt med en väte bärargas innehållande TiCl4, C02 och HCl.
Nukleationen startades upp i en sekvens där reaktantgaserna HCl och C02 fördes in i reaktorn först, i en H2 atmosfär, följt av TiCl4. Titanoxidskiktet deponerades med en CVD-process med följande processparametrar: pm titanoxid Gasflöden (i %). T=l0l0 °C, P=55 mbar. Ti2O3 H2 (%) 88.0 Hcl (%) 7.6 C02 (%) 2.1 TiCl4 (%) 2.3 W 15 523 929 Deponeringshastighet (um/h) 1-5 De andra skikten deponerades med kända CVD-metoder.
De belagda skären efterbehandlades med blästring vid olika blästringstryck 1.8, 2.0 och 2.2 bar, användande Al2O3-korn.
B (tidigare känd teknik): hårdmetallskär CNMG 120408-PM med sammansättningen 5.5 vikts-% Co, 8.6 vikts-% kubiska karbider (TiC+TaC+NbC) och resten WC belades med CVD-teknik enligt följande sekvens: 0.7 um TiN, 4.0 um Ti(CN), 5.0 pm d-Al2O3 och 0.7 pm TiN enligt kända CVD-metoder.
Det belagda skäret efterbehandlades med blästring vid 2.4 bar användande Alflb-korn.
Skär av typen A and B studerades i ett ljusmikroskop (200X) för att detektera TiN-rester på Al2O3-ytan och vidare i ett svepelektronmikroskop (500X) för att detektera rester av Ti2O3.
Mängden Ti2O3-rester bestämdes genom bildanalys (Leica Quantimet 500). Resultaten är sammanfattade i följande tabell: Prov A, blästring En viss mängd av TiN <75 % av Al2O3- vid 1.8 bar rester på Alflh-ytan ytan täcks av (uppfinning) observerades genom Ti2O3-rester (Fig. ljusmikroskop (Fig. 2A). lA). Ytan på skäret framstår med blotta ögat som lätt missfärgad.
Prov A, blästring vid 2.0 bar täcks av TiN-rester ytan täcks av (uppfinning) (Fig. lB). Ingen Ti2O3-rester. missfärgning av (Fig. 2B) skärets yta.
Prov A, blästring Inga rester av TiN <3O % av Algh- vid 2.2 bar, (Fig. lC). ytan täcks av (uppfinning) Ingen missfärgning av Ti2O3-rester. skärets yta. (Fig. 2C) 528 929 Prov B, blästring vid 2.4 bar (tidigare känd teknik) Stora mängder av TiN- rester på Algh-ytan observerades med ljusmikroskop (Fig. 3). Skärets yta ser med blotta ögat missfärgad ut.
Claims (5)
1. -2 k ä n nhe t e c k n a d av att det deponerade TiOx-skíktets tjocklek är 0.05-3 pm. 4. Ett belagt skär som har en övre sida (spànsida), en motsatt sida och minst en släppningssida korsande sagda övre och motsatta sidor så att skäreggar definieras, tillverkat av hárdmetall, titanbaserad karbonitrid eller keramik, k ä n n e t e c k n a t av att skäret är belagt med ett hart skiktsystem, med en total tjocklek av omkring
2. -50 pm, omfattande minst ett skikt valt fràn titankarbid, titannitrid, titankarbonitrid, titankarboxid och aluminiumoxid, och ett yttersta, l-15 pm tjockt, aluminiumoxid-, helst finkornig d- Al2O
3. -, skikt eller (Al2O3 + ZrO2)*N~multiskikt, sagda hàrda 528 e29 skiktsystem är försett med ett TiOx-skikt, där x sträcker sig fràn l till 2, med en tjocklek av företrädesvis 0.05-3 pm, sagda TiOx-skikt är det yttersta skiktet pà skâreggslinjen och spànsidan, och sagda TiOx-skikt är pà släppningssidan försett med ett yttersta, 0.3-2 pm tjockt, TicxNyoz-skikt, där x+y+z=1, x20. y20, och z20, företrädesvis ett enkelskikt eller ett multiskikt av TiN, TiC eller TiC¿Ny, där x+y=l, x2O och y20. 5. En skär enligt krav 4 k ä n n e t e c k n a t av att sagda TiOx-skikt pà skäreggen och spànsidan täcker mindre än 50 % av ytan av sagda hårda skiktsystem. 6. Ett skär enligt krav
4. -5 k ä n n e t e c k n a t av att sagda TiOx-skikt har en tjocklek av 0.0
5. -3 pm.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0500858A SE528929C2 (sv) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta |
IL174865A IL174865A0 (en) | 2005-04-18 | 2006-04-09 | A method for making cutting tool inserts and coating cutting tool inserts produced thereby |
EP06445014.1A EP1717348B1 (en) | 2005-04-18 | 2006-04-10 | Coated cutting tool insert |
US11/403,206 US7531213B2 (en) | 2005-04-18 | 2006-04-13 | Method for making coated cutting tool insert |
JP2006113552A JP2006297585A (ja) | 2005-04-18 | 2006-04-17 | 被覆切削工具インサート及びその製造方法 |
KR1020060035118A KR100753382B1 (ko) | 2005-04-18 | 2006-04-18 | 코팅된 절삭 공구 인서트 |
CN2006100736665A CN1854335B (zh) | 2005-04-18 | 2006-04-18 | 涂层刀具刀片 |
US12/320,578 US7820310B2 (en) | 2005-04-18 | 2009-01-29 | Coated cutting tool insert |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0500858A SE528929C2 (sv) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE0500858L SE0500858L (sv) | 2006-10-19 |
SE528929C2 true SE528929C2 (sv) | 2007-03-20 |
Family
ID=36608386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE0500858A SE528929C2 (sv) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7531213B2 (sv) |
EP (1) | EP1717348B1 (sv) |
JP (1) | JP2006297585A (sv) |
KR (1) | KR100753382B1 (sv) |
CN (1) | CN1854335B (sv) |
IL (1) | IL174865A0 (sv) |
SE (1) | SE528929C2 (sv) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE528929C2 (sv) * | 2005-04-18 | 2007-03-20 | Sandvik Intellectual Property | Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta |
JP4853612B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2012-01-11 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質被覆層が高速切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削スローアウエイチップの製造方法 |
JP4853613B2 (ja) * | 2005-09-27 | 2012-01-11 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質被覆層が高速切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削スローアウエイチップの製造方法 |
MX2009005719A (es) * | 2006-11-30 | 2009-06-08 | Taegu Tec Ltd | Metodo de tratamiento de superficie para inserto cortador recubierto. |
CN100588556C (zh) * | 2007-06-14 | 2010-02-10 | 西北工业大学 | 标刻在刀具上的数据矩阵码识读率的提高方法 |
US8557406B2 (en) | 2007-06-28 | 2013-10-15 | Kennametal Inc. | Coated PCBN cutting insert, coated PCBN cutting tool using such coated PCBN cutting insert, and method for making the same |
US8475944B2 (en) | 2007-06-28 | 2013-07-02 | Kennametal Inc. | Coated ceramic cutting insert and method for making the same |
US20090004449A1 (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-01 | Zhigang Ban | Cutting insert with a wear-resistant coating scheme exhibiting wear indication and method of making the same |
US8080323B2 (en) | 2007-06-28 | 2011-12-20 | Kennametal Inc. | Cutting insert with a wear-resistant coating scheme exhibiting wear indication and method of making the same |
AT505759B1 (de) * | 2007-11-22 | 2009-04-15 | Boehlerit Gmbh & Co Kg | Rotierend eingesetztes schneidwerkzeug zum bearbeiten von holz |
WO2011105420A1 (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-01 | 京セラ株式会社 | 切削工具 |
US8574728B2 (en) | 2011-03-15 | 2013-11-05 | Kennametal Inc. | Aluminum oxynitride coated article and method of making the same |
US8507082B2 (en) | 2011-03-25 | 2013-08-13 | Kennametal Inc. | CVD coated polycrystalline c-BN cutting tools |
CN102161106B (zh) * | 2011-04-01 | 2013-02-20 | 山推工程机械股份有限公司 | Ti-TiN&Ti-MoS2/Ti双刀面涂层刀具的制备工艺 |
US9028953B2 (en) | 2013-01-11 | 2015-05-12 | Kennametal Inc. | CVD coated polycrystalline c-BN cutting tools |
US9138864B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-09-22 | Kennametal Inc. | Green colored refractory coatings for cutting tools |
US9017809B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-04-28 | Kennametal Inc. | Coatings for cutting tools |
DE112014001520B4 (de) | 2013-03-21 | 2023-06-15 | Kennametal Inc. | Beschichtungen für Schneidwerkzeuge |
US9371580B2 (en) | 2013-03-21 | 2016-06-21 | Kennametal Inc. | Coated body wherein the coating scheme includes a coating layer of TiAl2O3 and method of making the same |
CN105051248B (zh) | 2013-03-21 | 2018-03-20 | 钴碳化钨硬质合金公司 | 用于切削工具的涂层 |
US9427808B2 (en) | 2013-08-30 | 2016-08-30 | Kennametal Inc. | Refractory coatings for cutting tools |
US9719175B2 (en) | 2014-09-30 | 2017-08-01 | Kennametal Inc. | Multilayer structured coatings for cutting tools |
US9650714B2 (en) | 2014-12-08 | 2017-05-16 | Kennametal Inc. | Nanocomposite refractory coatings and applications thereof |
US9650712B2 (en) | 2014-12-08 | 2017-05-16 | Kennametal Inc. | Inter-anchored multilayer refractory coatings |
CN107716961B (zh) * | 2017-08-21 | 2019-05-14 | 厦门金鹭特种合金有限公司 | 一种涂层后处理的可转位刀片及其制作方法 |
JP6999383B2 (ja) | 2017-11-29 | 2022-01-18 | 株式会社タンガロイ | 被覆切削工具 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4150195A (en) * | 1976-06-18 | 1979-04-17 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Surface-coated cemented carbide article and a process for the production thereof |
US4714660A (en) * | 1985-12-23 | 1987-12-22 | Fansteel Inc. | Hard coatings with multiphase microstructures |
SE501527C2 (sv) * | 1992-12-18 | 1995-03-06 | Sandvik Ab | Sätt och alster vid beläggning av ett skärande verktyg med ett aluminiumoxidskikt |
SE514737C2 (sv) * | 1994-03-22 | 2001-04-09 | Sandvik Ab | Belagt skärverktyg av hårdmetall |
US5920760A (en) * | 1994-05-31 | 1999-07-06 | Mitsubishi Materials Corporation | Coated hard alloy blade member |
SE509201C2 (sv) * | 1994-07-20 | 1998-12-14 | Sandvik Ab | Aluminiumoxidbelagt verktyg |
DE69720561T2 (de) * | 1996-01-10 | 2003-11-27 | Mitsubishi Materials Corp | Verfahren zur Herstellung von beschichteten Schneideinsätzen |
JP3353675B2 (ja) * | 1997-11-19 | 2002-12-03 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐チッピング性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
US6071601A (en) * | 1997-05-12 | 2000-06-06 | Mitsubishi Materials Corporation | Coated cutting tool member |
DE10017909B4 (de) | 1999-04-13 | 2009-07-23 | Mitsubishi Materials Corp. | Beschichtetes Sinterkarbid-Schneidwerkzeugelement |
US20020187370A1 (en) * | 2000-07-12 | 2002-12-12 | Kazuo Yamagata | Coated cutting tool |
US6733874B2 (en) | 2001-08-31 | 2004-05-11 | Mitsubishi Materials Corporation | Surface-coated carbide alloy cutting tool |
KR100457658B1 (ko) * | 2002-01-16 | 2004-11-17 | 한국야금 주식회사 | 내마모성 및 인성이 향상된 피복 초경합금 절삭공구 |
JP2004188501A (ja) * | 2002-07-01 | 2004-07-08 | Mitsubishi Materials Corp | 硬質被覆層がすぐれた耐熱衝撃性および表面潤滑性を有する表面被覆サーメット製切削工具 |
KR20040020316A (ko) * | 2002-08-30 | 2004-03-09 | 한국야금 주식회사 | 절삭공구/내마모성 공구용 표면 피복 경질부재 |
WO2004033751A1 (de) * | 2002-10-07 | 2004-04-22 | Kennametal Widia Gmbh & Co. Kg | Verbundwerkstoff |
SE526603C3 (sv) * | 2003-01-24 | 2005-11-16 | Sandvik Intellectual Property | Belagt hårdmetallskär |
EP1536041B1 (en) * | 2003-11-25 | 2008-05-21 | Mitsubishi Materials Corporation | Coated cermet cutting tool with a chipping resistant, hard coating layer |
KR100576321B1 (ko) * | 2004-12-14 | 2006-05-03 | 한국야금 주식회사 | 고인성 절삭공구/내마모성 공구 |
SE528891C2 (sv) * | 2005-03-23 | 2007-03-06 | Sandvik Intellectual Property | Skär belagt med ett multiskikt av metaloxid |
SE528929C2 (sv) * | 2005-04-18 | 2007-03-20 | Sandvik Intellectual Property | Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta |
US8080312B2 (en) * | 2006-06-22 | 2011-12-20 | Kennametal Inc. | CVD coating scheme including alumina and/or titanium-containing materials and method of making the same |
-
2005
- 2005-04-18 SE SE0500858A patent/SE528929C2/sv unknown
-
2006
- 2006-04-09 IL IL174865A patent/IL174865A0/en unknown
- 2006-04-10 EP EP06445014.1A patent/EP1717348B1/en active Active
- 2006-04-13 US US11/403,206 patent/US7531213B2/en active Active
- 2006-04-17 JP JP2006113552A patent/JP2006297585A/ja active Pending
- 2006-04-18 KR KR1020060035118A patent/KR100753382B1/ko active IP Right Grant
- 2006-04-18 CN CN2006100736665A patent/CN1854335B/zh active Active
-
2009
- 2009-01-29 US US12/320,578 patent/US7820310B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1717348A3 (en) | 2007-03-21 |
CN1854335B (zh) | 2010-05-12 |
SE0500858L (sv) | 2006-10-19 |
US20060257690A1 (en) | 2006-11-16 |
US7531213B2 (en) | 2009-05-12 |
KR20060109853A (ko) | 2006-10-23 |
CN1854335A (zh) | 2006-11-01 |
EP1717348B1 (en) | 2017-12-20 |
IL174865A0 (en) | 2006-08-20 |
EP1717348A2 (en) | 2006-11-02 |
US7820310B2 (en) | 2010-10-26 |
KR100753382B1 (ko) | 2007-08-30 |
JP2006297585A (ja) | 2006-11-02 |
US20090136728A1 (en) | 2009-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE528929C2 (sv) | Skär belagt med ett skiktsystem och metod att framställa detta | |
US6869668B2 (en) | α-alumina coated cutting tool | |
US6713172B2 (en) | Oxide coated cutting tool | |
JP5363445B2 (ja) | 切削工具 | |
RU2206432C2 (ru) | Режущий инструмент и способ его изготовления | |
US8709583B2 (en) | PVD coated tool | |
KR101104493B1 (ko) | 절삭공구 또는 내마모성 공구용 표면 피복 박막 | |
US20110262233A1 (en) | Coated tool and a method of making thereof | |
SE528891C2 (sv) | Skär belagt med ett multiskikt av metaloxid | |
KR101667091B1 (ko) | 텍스쳐화된 알루미나 층 | |
US6855413B2 (en) | Oxide coated cutting tool | |
KR20060001349A (ko) | 절삭공구/내마모성 공구용 표면 피복 경질부재 | |
KR20040020316A (ko) | 절삭공구/내마모성 공구용 표면 피복 경질부재 |