KR970076092A - 감광성 조성물, 패턴 형성방법 및 전자부품의 제조방법 - Google Patents

감광성 조성물, 패턴 형성방법 및 전자부품의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 다음 화학식(1)로 표시되는 반복단위를 갖는 폴리실란과, 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물을 함유하는 감광성 조성물에 관한 것이다.
상기 식에서, Ar은 치환 또는 비치환 아릴기를 나타낸다.

Description

감광성 조성물, 패턴 형성방법 및 전자부품의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (28)

  1. 다음 화학식(1)로 표시되는 반복단위를 갖는 폴리실란과, 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물을 함유하는 감광성 조성물.
    상기 식에서, Ar은 치환 또는 비치환 아릴기를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 알칼리 가용성 유기 화합물이 배합되어 있는 감광성 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 폴리실란 가교제가 배합되어 있는 감광성 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 알칼리 가용성 유기 화합물이 배합되어 있는 감광성 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물이 다음 화학식(2) 내지 화학식(4)로 표시되는 화합물 중에 적어도 1종인 것인 감광성 조성물.
    상기 식에서, R1, R2는 서로 동일하거나 다른, 유기 과산화물을 갖는 기이며, X는 산소원자 또는 황원자이고, Y는 산소원자, 황원자, -CH2- 또는 -N(R3)-이며(R3는 알킬기이다). m,n은 0 내지 5의 정수이나, m과 n이 동시에 0은 아니다.
  6. 제5항에 있어서, 상기 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물이 상기 화학식(2)로 표시되는 화합물이고, 상기 화학식(2)에 있어서, m=n=2인 것인 감광성 조성물.
  7. 제5항에 있어서, 알칼리 가용성 유기 화합물이 배합되어 있는 감광성 조성물.
  8. 제5항에 있어서, 폴리실란 가교제가 배합되어 있는 감광성 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 알칼리 가용성 유기 화합물이 배합되어 있는 감광성 조성물.
  10. 다음 화학식(5)로 표시되는 반복단위를 갖는 폴리실란과, 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물을 함유하는 감광성 조성물을 함유한 막을 기판상에 형성하는 공정; 상기 감광성 조성물 막의 일정 영역에 빛을 조사하여 노광을 실시하는 공정; 및 상기 노광후, 감광성 조성물 막의 노광부를 알칼리 수용액으로 용해 제거하여 현상하는 공정으로 이루어진 패턴 형성방법.
    상기 식에서, R11은 수소원자, 치환 또는 비치환 알킬기, 또는 치환 또는 비치환 아릴기를 나타내고, R12는 치환 또는 비치환 알킬기, 또는 치환 또는 비치환 아릴기를 나타낸다.
  11. 제10항에 있어서, 상기 감광성 조성물이 알칼리 가용성 유기 화합물을 함유하는 것인 패턴 형성방법.
  12. 제10항에 있어서, 상기 감광성 조성물에 폴리실란 가교제가 배합되어 있는 것인 패턴 형성방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 감광성 조성물에 알칼리 가용성 유기 화합물이 배합되어 있는 것인 패턴 형성방법.
  14. 제10항에 있어서, 상기 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물이 다음 화학식(2) 내지 화학식(4)로 표시되는 화합물 중에 적어도 1종인 것인 패턴 형성방법.
    상기 식에서, R1, R2는 서로 동일 하거나 다른, 유기 과산화물을 갖는 기이며, X는 산소원자 또는 황원자이고, Y는 산소원자, 황원자, -CH2-또는 -N(R3)-이며(R3는 알킬기이다), m,n은 0내지 5의 정수이나, m과 n이 동시에 0은 아니다.
  15. 제14항에 있어서, 상기 유기과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물이 상기 화학식(2)로 표시되는 화합물아고, 상기 화학식(2)에 있어서, m=n=2인 것인 패턴 형성방법.
  16. 제14항에 있어서, 상기 감광성 조성물이 알칼리 가용성 유기 화합물을 함유하는 것인 패턴 형성방법.
  17. 제14항에 있어서, 상기 감광성 조성물에 폴리실란 가교제가 배합되어 있는 것인 패턴 형성방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 감광성 조성물에 알칼리 가용성 유기 화합물이 배합되어 있는 것인 패턴 형성방법,
  19. 제10항에 있어서, 상기 감광성 조성물을 기판상에 도포하는 공정 이전에, 기판상에 탄소계 화합물막을 형성하는 공정을 갖추고, 상기 감광성 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하는 공정 후에, 생성된 감광성 조성물 막 패턴을 탄소계 화합물 막에 전사하는 고정을 갖춘 패턴 형성방법.
  20. 다음 화학식(5)로 표시되는 반복단위를 갖는 폴리실란과, 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물을 함유하는 감광성 조성물을 함유한 막을 기판상에 형성하는 공정; 상기 감광성 조성물 막의 일정 영역에 빛을조사하여 노광을 실시하는 공정; 상기 노광후, 감광성 조성물 막의 노광부를 알칼리 현상액으로 용해 제거하고 현상하여, 패턴화된 감광성 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 조성물 막 패턴을 가열처리하여 규소산화물막 패턴을 생성하는 공정; 및 생성된 규소산화물막 패턴을 에칭마스크로 사용하여, 기판에 패턴을 전사하는 공정으로 이루어진 전자부품의 제조방법.
    상기 식에서, R11은 수소원자, 치환 또는 비치환 알킬기, 또는 치환 또는 비치환 아릴기를 나타내고, R12는 치환 또는 비치환 알킬기, 또는 비치환 아릴기를 나타낸다.
  21. 제20항에 있어서, 상기 감광성 조성물이 알칼리 가용성 유기 화합물을 함유하는 것인 전자부품의 제조방법.
  22. 제20항에 있어서, 상기 감광성 조성물에 폴리실란 가교제가 배합되어 있는 것인 전자부품의 제조방법.
  23. 제22항에 있어서, 상기 감광성 조성물이 알칼리 가용성유기 화합물을 함유하는 것인 전자부품의 제조방법.
  24. 제20항에 있어서, 상기 유기 과산화물를 갖는 벤조페논계 화합물이 다음 화학식(2)내지 화학식(4)로 표시되는 화합물 중에 적어도 1종인 것인 전자부품의 제조방법.
    상기 식에서, R1, R2는 서로 동일하거나 다른, 유기 과산화물을 갖는 기이며, X는 산소원자 또는 황원자이고, Y는 산소원자, 황원자, -CH2- 또는 -N(R3)-이며(R3는 알킬기이다), m, n은 0 내지 5의 정수이나, m과 n이 동시에 0은 아니다.
  25. 제24항에 있어서, 상기 유기 과산화물을 갖는 벤조페논계 화합물이 상기 화학식(2)로 표시되는 화합물이고, 상기 화학식(2)에 있어서, m=n=2인 것인 전자부품의 제조방법.
  26. 제24항에 있어서, 상기 감광성 조성물이 알칼리 가용성 유기 화합물을 함유하는 것인 전자부품의 제조방법.
  27. 제24항에 있어서, 상기 감광성 조성물에 폴리실란 가교제가 배합되어 있는 것인 전자부품의 제조방법.
  28. 제27항에 있어서, 상기 감광성 조성물에 알칼리 가용성 유기 화합물을 함유하는 것인 전자부품의 제조방법,
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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