KR970074775A - 시클릭 아민에 의해 치환된 페닐 알킬 케톤 및 이의 제조 방법 - Google Patents
시클릭 아민에 의해 치환된 페닐 알킬 케톤 및 이의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970074775A KR970074775A KR1019970017007A KR19970017007A KR970074775A KR 970074775 A KR970074775 A KR 970074775A KR 1019970017007 A KR1019970017007 A KR 1019970017007A KR 19970017007 A KR19970017007 A KR 19970017007A KR 970074775 A KR970074775 A KR 970074775A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- alkyl
- substituted
- phenyl
- formula
- unsubstituted
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 37
- -1 phenyl-alkyl ketone compounds Chemical class 0.000 claims abstract 31
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 18
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims 15
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 claims 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 9
- 125000002853 C1-C4 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 5
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 4
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 claims 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 claims 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims 1
- 238000007098 aminolysis reaction Methods 0.000 abstract 2
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
- C07D295/112—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D265/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one nitrogen atom and one oxygen atom as the only ring hetero atoms
- C07D265/28—1,4-Oxazines; Hydrogenated 1,4-oxazines
- C07D265/30—1,4-Oxazines; Hydrogenated 1,4-oxazines not condensed with other rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
- C07D295/135—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
본 발명은 130℃ 이상의 물에서 하기 일반식(Ⅲ)의 시클릭 아민을 사용하여 하기 일반식(Ⅱ)의 p-할로페닐 알킬 케톤을 가아미노분해시켜 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 신규 방법 뿐만 아니라, 하기 일반식(Ⅰ)의 신규 화합물 및 에틸렌성 불포화 화합물의 광중합용 광개시제를 제조하기 위한 이들의 용도에 관한 것이다.
상기 식에서, X는 할로겐 원자이고, R1, R2및 R3은 제1항에서 정의된 바와 같다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (21)
- 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 :상기 식에서, R1및 R2는 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환 C3-C20알킬렌이고, R3은 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환 C2-C20알킬이며, 또 R4는 H, 직쇄 또는 측쇄 C1-C3알킬, 직쇄 또는 측쇄 C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C|1-C4히드록시 알킬 또는 페닐이고, R1및 R2가 함께 비치환 테트라메틸렌이면, R3은 비치환 C6알킬이다.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가 함께 비치환 또는 히드록시, C1-C4알콕시, 히드록시메틸, C1-C4알콕시메틸, -COO(C1-C4알킬) 또는 페닐에 의해 치환되고 또 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4)기를 가질 수 있는 C3-C20알킬렌이고, R3이 비치환 또는 C1-C4알콕시, 페녹시, 시클로헥실 또는 페닐에 의해 치환된 C2-C|20알킬이며, 또 R4가 H, C1-C3알킬, C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬 또는 페닐인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가 함께 사슬 중간에 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C4-C12알킬렌이고, R3이 C2-C10알킬이며, 또 R4가 H, C1-C3알킬, 알릴, 벤질 또는 C2-C3히드록시알킬인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가, 결합된 N-원자와 함께, 사슬 중간에 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 추가로 가질 수 있는 6-원 고리이고; 또 R3및 R4가 제1항에서 정의한 바와 같은 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 C4-C6알킬렌이고, R3이 직쇄 또는 측쇄, 비치환 C2-C7알킬이고, 또 R4가 H 또는 메틸인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 제1항에 있어서, R1및 R2가, 결합된 N-원자와 함께, 모르폴리닐 라디칼이고, 또 R3이 비치환 C2-C10알킬인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
- 130℃ 이상의 물에서 하기 일반식(Ⅲ)의 시클릭 아민을 사용하여 하기 일반식(Ⅱ)의 p-할로페닐 알킬케톤을 가아미노분해시켜 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법 :상기 식에서, R1및 R2는 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환 C3-C20알킬렌이고, R3은 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환 C2-C20알킬이며, 또 R4는 H, 직쇄 또는 측쇄 C1-C3알킬, 직쇄 또는 측쇄 C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C|1-C4히드록시 알킬 또는 페닐이고, X는 할로겐 원자이다.
- 제7항에 있어서, X가 Cl 또는 Br이고, R3이 일반식(Ⅰ)에서 정의한 바와 같은 일반식(Ⅱ)의 p-할로페닐 알킬 케톤을 사용하는 것을 포함하는 방법.
- 제7항 또는 제8항에 있어서, 일반식(Ⅲ)의 시클릭 아민의 양이 일반식(Ⅱ)의 p-할로페닐 알킬 케톤을 기준으로 약 2.5 내지 12몰당량인 방법.
- 제7항 내지 제9항 중 어느 하나에 있어서, 물의 양이 일반식(Ⅲ)의 p-할로페닐 알킬 케톤을 기준으로 약 1 내지 100몰당량인 방법.
- 제7항 내지 제10항 중 어느 하나에 있어서, 압력 용기 안에서 가압하에서 반응을 실시하는 것을 포함하는 방법.
- 제7항 내지 제11항 중 어느 하나에 있어서, 온도가 약 140℃ 내지 240℃의 범위에 속하는 방법.
- 제7항 내지 제12항 중 어느 하나에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 p-할로페닐 알킬 케톤을 물 및 시클릭 아민과 함께 반응 용기 안에 넣고 최종 온도에 도달할 때까지 반응시키는 동안에 이 혼합물을 즉시 또는 천천히 가열하는 것을 포함하는 방법.
- 제7항 내지 제12항 중 어느 하나에 있어서, 반응시키는 동안에 일반식(Ⅱ)의 p-할로페닐 알킬 케톤을 미리 반응 온도로 가열된 물 및 시클릭 아민에 첨가하는 것을 포함하는 방법.
- 제7항에 있어서, R3이 직쇄 또는 측쇄, 비치환 C2-C7알킬인 일반식(Ⅱ)의 p-브로모페닐 알킬 케톤 1부 또는 p-클로로페닐 알킬 케톤 1부; R1및 R2가 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4)기를 가질 수 있는 C4-C6알킬렌이고 R4가 H 또는 메틸인 일반식(Ⅲ)의 시클릭 아민 5부; 및 물 5부를 반응 용기에 넣고, 이 혼합물을 가압하에서 p-브로모페닐 알킬 케톤을 사용할 경우에는 약 160℃ 내지 180℃의 온도에서 또는 p-크롤로페닐 알킬 케톤을 사용할 경우에는 약 200℃ 내지 230℃의 온도에서 반응시키는 것을 포함하는 방법.
- 제7항에 있어서, R1및 R2가 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 C4-C6알킬렌이고 R4가 H 또는 메틸인 일반식(Ⅲ)의 시클릭 아민 10 내지 20부를 물 20 내지 40부와 함께 반응 용기에 넣고, R3이 직쇄 또는 측쇄, 비치환 C2-C7알킬인 일반식(Ⅱ)의 p-클로로페닐 알킬 케톤 2 내지 4부를 첨가하고, 이 혼합물을 가압하에서 약 210℃ 내지 230℃의 온도에서 반응시키는 것을 포함하는 방법.
- 하기 일반식(Ⅳ)의 라디칼 광개시제 또는 이들의 산 부가 염을 제조하기 위한, 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 제13항 내지 제23항 중 어느 하나에 따른 방법으로 수득된 화합물의 용도 :상기 일반식(Ⅰ)에서, R1및 R2는 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환 C3-C20알킬렌이고, R3은 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환 C2-C20알킬이며, 또 R4는 H, 직쇄 또는 측쇄 C1-C3알킬, 직쇄 또는 측쇄 C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬 또는 페닐이고, 상기 일반식(Ⅳ)에서, R1및 R2는 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 직쇄 또는 측쇄, 비치환 C3-C20알킬렌일 수 있고 및/또는 히드록시, C1-C4알콕시, 히드록시메틸, C1-C4알콕시메틸, -COO(C1-C4알킬) 또는 페닐에 의해 치환될 수 있는 C3-C20알킬렌이며; R3은 비치환 또는 C1-C4알콕시, 페녹시, 시클로헥실 또는 페닐에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄 C2-C20알킬이고, R4는 H, C1-C3알킬, C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬 또는 페닐이며; R5는 하기 일반식의 라디칼 중 하나이다:상기 식에서, p는 0 또는 1이고, q는 0, 1, 2 또는 3이며, Ar는 비치환 또는 할로겐, OH, C1-C12알킬에 의해, 또는 OH, 할로겐, -N(R12)2, C1-C12알콕시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH2CH2)nOCH3또는 -OCO(C1-C4)알킬로 치환된 C1-C4알킬에 의해; C1-C12알콕시에 의해, 또는 -COO(C1-C18알킬) 또는 -CO(OCH2CH2)nOCH3으로 치환된 C1-C4알콕시에 의해; 또는 -(OCH2CH2)nOH, -(OCH2CH2)nOCH|3, C1-C8알킬티오, 페녹시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH2CH2)nOCH3, 페닐 또는 벤조일에 의해 치환된 페닐, 나프틸, 푸릴, 티에닐 또는 피리딜 라디칼이고, n은 1 내지 20이며, R12는 H, C1-C8알킬, C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬 또는 페닐이고, R8은 H, C1-C8알킬 또는 페닐이며, 또 R9, R10및 R11은 서로 독립적으로 H 또는 C1-C|4알킬이거나, 또는 R9및 R10이 함께 C3-C7알킬렌이고, R6이 H, C1-C12알킬; 히드록시, C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)에 의해 치환된 C2-C4알킬; C3-C|5알케닐, C5-C12시클로알킬 또는 C7-C9페닐알킬이며, R7이 C1-C12알킬; 히드록시, C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)에 의해 치환된 C2-C4알킬; C3-C5알케닐, C5-C|12시클로알킬, C7-C9페닐알킬, 페닐, 또는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C|4알킬)에 의해 치환된 페닐이거나, 또는 R7이 R3과 함께 C1-C7알킬렌, C7-C10페닐알킬렌, o-크실릴렌, 2-부테닐렌 또는 C2-C3옥사알킬렌 또는 아자알킬렌이거나, 또는 R6및 R7이 함께 사슬 중간에 -O-, -S-, -CO- 또는 -N(R13)-을 가질 수 있거나 또는 히드록시, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)에 의해 치환될 수 있는 C3-C7알킬렌; 사슬 중간에 하나 이상의 -O-을 가질 수 있는 C1-C12알킬; C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬, -CH2CH2CN, -CH2CH2COO(C1-C4알킬), C2-C8알카노일 또는 벤조일이며, R13은 H이다.
- 130℃ 이상의 물에서 하기 일반식(Ⅲ)의 시클릭 아민을 사용하기 하기 일반식(Ⅱ)의 p-할로페닐 알킬 케톤을 가아미노분해시켜 하기 일반식(Ⅰ)의 시클릭 아민-치환 페닐 알켈 케톤을 생성시킨 후, 그 일반식(Ⅰ)의 화합의 화합물을 할로겐화시킨 다음, 일반식의 아민과 반응시킨 후, 이어 R5를 도입하는 화합물과 반응시키고, 또 염기 조건하에서 스티븐 재배열을 실시하여 하기 일반식(Ⅳ)의 광개시제 또는 이들의 산부가 염을 제조하는 방법 :상기 식에서, R1및 R2는 함께 사슬 중간에 하나 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R4) 기를 가질 수 있는 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환 C3-C20알킬렌일 수 있고 및/또는 히드록시, C1-C4알콕시, 히드록시메틸, C1-C4알콕시메틸, -COO(C1-C4알킬) 또는 페닐에 의해 치환될 수 있는 C3-C20알킬렌이며; R3은 비치환 또는 C1-C4알콕시, 페녹시, 시클로헥실 또는 페닐에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄 C2-C20알킬이고, R4는 H, C1-C3알킬, C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬 또는 페닐이며; R5는 하기일반식의라디칼중하나이다상기 식에서, p는 0 또는 1이고, q는 0, 1, 2 또는 3이며, Ar는 비치환 또는 할로겐, OH, C1-C12알킬에 의해, 또는 OH, 할로겐, -N(R12)2, C1-C12알콕시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH2CH2)nOCH3또는 -OCO(C1-C4)알킬로 치환된 C1-C4알킬에 의해; C1-C12알콕시에 의해, 또는 -COO(C1-C18알킬) 또는 -CO(OCH2CH2)nOCH3으로 치환된 C1-C4알콕시에 의해; 또는 -(OCH2CH2)nOH, -(OCH2CH2)nOCH3, C1-C8알킬티오, 페녹시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH2CH2)nOCH3, 페닐 또는 벤조일에 의해 치환된 페닐, 나프틸, 푸릴, 티에닐 또는 피리딜 라디칼이고, n은 1 내지 20이며, R12는 H, C1-C8알킬, C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬 또는 페닐이고, R8은 H, C1-C8알킬 또는 페닐이며, 또 R9, R10및 R11은 서로 독립적으로 H 또는 C1-C|4알킬이거나, 또는 R9및 R10이 함께 C3-C7알킬렌이고, R6이 H, C1-C12알킬; 히드록시, C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)에 의해 치환된 C2-C4알킬; C3-C|5알케닐, C5-C12시클로알킬 또는 C7-C9페닐알킬이며, R7이 C1-C12알킬; 히드록시, C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)에 의해 치환된 C2-C4알킬; C3-C5알케닐, C5-C|12시클로알킬, C7-C9페닐알킬, 페닐, 또는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C|4알킬)에 의해 치환된 페닐이거나, 또는 R7이 R3과 함께 C1-C7알킬렌, C7-C10페닐알킬렌, o-크실릴렌, 2-부테닐렌 또는 C2-C3옥사알킬렌 또는 아자알킬렌이거나, 또는 R6및 R7이 함께 사슬 중간에 -O-, -S-, -CO- 또는 -N(R13)-을 가질 수 있거나 또는 히드록시, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)에 의해 치환될 수 있는 C3-C7알킬렌; 사슬 중간에 하나 이상의 -O-을 가질 수 있는 C1-C12알킬; C3-C5알케닐, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬, -CH2CH2CN, -CH2CH2COO(C1-C4알킬), C2-C8알카노일 또는 벤조일이며, R13은 H이이고, X는 할로겐 원자이다.
- 에틸렌성 불포화 화합물의 광중합을 위한, 제17항에 따른 일반식(Ⅳ)의 광개세제 또는 제18항의 방법으로 수득된 광개시제의 용도.
- 안료계 예컨대 인쇄용 잉크 또는 백색 마감재의 광경화; 비-안료계 예컨대 UV-경화성 인쇄용 잉크의 광경화; 포토레지스트 및 인쇄판의 제조 및 주광에 의해 표면에서 후경화되는 외장용 니스의 제조를 제17항에 따른 일반식(Ⅳ)의 광개시제 또는 제18항의 방법으로 수득된 광개시제의 용도.
- A) 하나 이상의 에틸렌성 불포화 광중합성 화합물, 및 B) 제17항에 따른 일반식(Ⅳ)의 광개시제 또는 제18항에 따른 방법으로 수득된 하나 이상의 광개시제 및, C) 임의적으로, 공지된 첨가제를 포함하는 광중합성 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040077005A KR100479989B1 (ko) | 1996-05-03 | 2004-09-24 | 시클릭 아민에 의해 치환된 페닐 알킬 케톤 및 이의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH113896 | 1996-05-03 | ||
| CH96/1138 | 1996-05-03 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020040077005A Division KR100479989B1 (ko) | 1996-05-03 | 2004-09-24 | 시클릭 아민에 의해 치환된 페닐 알킬 케톤 및 이의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970074775A true KR970074775A (ko) | 1997-12-10 |
| KR100507664B1 KR100507664B1 (ko) | 2005-11-22 |
Family
ID=4203382
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019970017007A KR100507664B1 (ko) | 1996-05-03 | 1997-05-02 | 시클릭아민에의해치환된페닐알킬케톤및이의제조방법 |
| KR1020040077005A KR100479989B1 (ko) | 1996-05-03 | 2004-09-24 | 시클릭 아민에 의해 치환된 페닐 알킬 케톤 및 이의 제조방법 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020040077005A KR100479989B1 (ko) | 1996-05-03 | 2004-09-24 | 시클릭 아민에 의해 치환된 페닐 알킬 케톤 및 이의 제조방법 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5795985A (ko) |
| EP (2) | EP0805152B1 (ko) |
| JP (1) | JP4545835B2 (ko) |
| KR (2) | KR100507664B1 (ko) |
| CN (2) | CN1168700C (ko) |
| AT (2) | ATE297387T1 (ko) |
| BR (1) | BR9703050A (ko) |
| CA (1) | CA2204200C (ko) |
| DE (2) | DE59712337D1 (ko) |
| DK (2) | DK0805152T3 (ko) |
| ES (2) | ES2356448T3 (ko) |
| ID (1) | ID16845A (ko) |
| TW (1) | TW455592B (ko) |
| ZA (1) | ZA973797B (ko) |
Families Citing this family (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
| DK1277751T3 (da) * | 1996-08-05 | 2007-02-26 | Bayer Cropscience Ag | 2- og 2,5-substituerede phenylketoenoler |
| US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| WO1999054363A1 (en) * | 1998-04-17 | 1999-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
| JP2002517523A (ja) | 1998-06-03 | 2002-06-18 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 新規な光開始剤およびその利用 |
| CA2298615C (en) | 1998-06-03 | 2009-03-31 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing |
| AU5219299A (en) | 1998-07-20 | 2000-02-07 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Improved ink jet ink compositions |
| PL366326A1 (en) | 1998-09-28 | 2005-01-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
| EP1144512B1 (en) | 1999-01-19 | 2003-04-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
| US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
| US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
| SE0001866D0 (sv) | 2000-05-18 | 2000-05-18 | Astrazeneca Ab | A new process |
| WO2002000735A1 (en) * | 2000-06-19 | 2002-01-03 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
| US6562989B2 (en) | 2000-08-07 | 2003-05-13 | Yale University | Catalyst for aromatic C—O, C—N, and C—C bond formation |
| US6359075B1 (en) | 2001-01-09 | 2002-03-19 | Bridgestone/Firestone, Inc. | Means of producing high diblock content thermoplastic elastomers via chain transfer |
| BR0315786A (pt) * | 2002-10-28 | 2005-09-13 | Ciba Sc Holding Ag | Aperfeiçoamento na estabilidade sob armazenagem de fotoiniciadores |
| US8409618B2 (en) | 2002-12-20 | 2013-04-02 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Odor-reducing quinone compounds |
| US6780896B2 (en) * | 2002-12-20 | 2004-08-24 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Stabilized photoinitiators and applications thereof |
| US7666410B2 (en) | 2002-12-20 | 2010-02-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Delivery system for functional compounds |
| US7837663B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-11-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Odor controlling article including a visual indicating device for monitoring odor absorption |
| US7488520B2 (en) | 2003-10-16 | 2009-02-10 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | High surface area material blends for odor reduction, articles utilizing such blends and methods of using same |
| US7678367B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-03-16 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for reducing odor using metal-modified particles |
| US7754197B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-07-13 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for reducing odor using coordinated polydentate compounds |
| US7413550B2 (en) | 2003-10-16 | 2008-08-19 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Visual indicating device for bad breath |
| US7879350B2 (en) | 2003-10-16 | 2011-02-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Method for reducing odor using colloidal nanoparticles |
| US7141518B2 (en) * | 2003-10-16 | 2006-11-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Durable charged particle coatings and materials |
| US7794737B2 (en) * | 2003-10-16 | 2010-09-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Odor absorbing extrudates |
| US20070048247A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Deodorizing tablets |
| CN102112497B (zh) | 2008-06-06 | 2013-04-10 | 巴斯夫欧洲公司 | 光引发剂混合物 |
| CN101792497B (zh) * | 2010-01-28 | 2013-03-13 | 四川大学 | 一种光敏剂及其光引发剂组合物 |
| CN103360272A (zh) * | 2012-04-10 | 2013-10-23 | 北京英力科技发展有限公司 | 一种季铵盐的制备方法及其用途 |
| AT514594B1 (de) | 2013-09-06 | 2015-02-15 | Durst Phototech Digital Tech | Photoinitiator |
| CN105384707B (zh) * | 2014-09-03 | 2018-04-17 | 山东久日化学科技有限公司 | 一种α‑氨基苯乙酮类光引发剂的制备方法 |
| US10113075B2 (en) | 2014-09-04 | 2018-10-30 | Igm Malta Limited | Polycyclic photoinitiators |
| CN109721566B (zh) * | 2017-10-27 | 2022-03-22 | 天津久日新材料股份有限公司 | 一种1-（4-吗啉苯基）-1-丁酮的制备方法 |
| CN108358871B (zh) * | 2018-02-01 | 2020-05-22 | 浙江扬帆新材料股份有限公司 | 一种2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮的合成方法 |
| CN108503556B (zh) * | 2018-03-19 | 2020-12-29 | 同济大学 | 以联苯基二苯基胺为共轭主体结构的羰基类化合物及其制备方法与应用 |
| IT201800009683A1 (it) * | 2018-10-22 | 2020-04-22 | Ind Chimica Srl | Processo per la preparazione di 3α-idrossi-5α-pregnan-20-one (brexanolone) |
| CN110776480B (zh) * | 2019-11-28 | 2022-05-03 | 怀化市恒渝新材料有限公司 | 一种光引发剂的回收方法 |
| CN116178336A (zh) * | 2022-12-26 | 2023-05-30 | 西安近代化学研究所 | 一种酸催化缩酮法合成n-芳基酮亚胺的方法及应用 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1946058A (en) * | 1932-07-27 | 1934-02-06 | Dow Chemical Co | Amino-aromatic ketones and method of making same |
| US2205728A (en) * | 1937-07-16 | 1940-06-25 | Geigy Ag J R | Process of manufacturing amino ketones |
| CH200365A (de) * | 1937-07-16 | 1938-10-15 | Geigy Ag J R | Verfahren zur Darstellung eines neuen Aminoketons. |
| US3317538A (en) * | 1965-10-22 | 1967-05-02 | American Home Prod | 4, 4'-diamino-butyrophenones |
| GB1164608A (en) * | 1966-08-23 | 1969-09-17 | May & Baker Ltd | Semicarbazone and Thiosemicarbazone Quaternary Salts |
| US3975388A (en) * | 1971-02-22 | 1976-08-17 | Bdh Pharmaceuticals Limited | Pyridazinones |
| US3806526A (en) * | 1972-01-28 | 1974-04-23 | Richardson Merrell Inc | 1-aroylalkyl-4-diphenylmethyl piperidines |
| LU80081A1 (fr) * | 1977-08-26 | 1979-05-15 | Delalande Sa | Nouvelles hydroxymethyl-5 oxazolidinones-2,leur procede de preparation et leur application therapeutique |
| JPS54132542A (en) * | 1978-04-07 | 1979-10-15 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Production of n-alkyl derivative of p-aminoacetophenone |
| EP0138754B1 (de) * | 1983-08-15 | 1988-05-25 | Ciba-Geigy Ag | Photohärtbare Gemische |
| JPS61134346A (ja) * | 1984-12-03 | 1986-06-21 | Shionogi & Co Ltd | ４−オキソカルボン酸誘導体および抗潰瘍剤 |
| EP0269573B1 (de) * | 1986-11-26 | 1991-03-27 | Ciba-Geigy Ag | Flüssige Photoinitiatorgemische |
| DE3880868D1 (en) * | 1987-03-26 | 1993-06-17 | Ciba Geigy Ag | Neue alpha-aminoacetophenone als photoinitiatoren. |
| JP2969359B2 (ja) * | 1989-01-13 | 1999-11-02 | 武田薬品工業株式会社 | 環状アミン化合物 |
| JP2861274B2 (ja) * | 1989-06-06 | 1999-02-24 | 武田薬品工業株式会社 | アミノケトン誘導体 |
| EP0544812B1 (en) * | 1990-08-21 | 1995-04-05 | The Upjohn Company | Bisphosphonic acid derivatives as anti-arthritic agents |
| JP2000502343A (ja) * | 1995-12-22 | 2000-02-29 | ワーナー―ランバート・コンパニー | マトリックスメタロプロテイナーゼのインヒビターとしての芳香族ケト酸およびその誘導体 |
-
1997
- 1997-04-21 US US08/847,519 patent/US5795985A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 AT AT97810255T patent/ATE297387T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-04-24 AT AT04102145T patent/ATE489373T1/de active
- 1997-04-24 DE DE59712337T patent/DE59712337D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 ES ES04102145T patent/ES2356448T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 EP EP97810255A patent/EP0805152B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 DK DK97810255T patent/DK0805152T3/da active
- 1997-04-24 EP EP04102145A patent/EP1468994B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 DE DE59713049T patent/DE59713049D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 DK DK04102145.2T patent/DK1468994T3/da active
- 1997-04-24 ES ES97810255T patent/ES2242974T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-29 ID IDP971429A patent/ID16845A/id unknown
- 1997-04-30 CN CNB00135342XA patent/CN1168700C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-30 CN CN97110835A patent/CN1072662C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-01 JP JP12794597A patent/JP4545835B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-01 CA CA002204200A patent/CA2204200C/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-01 TW TW086105781A patent/TW455592B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-05-02 KR KR1019970017007A patent/KR100507664B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-05-02 ZA ZA9703797A patent/ZA973797B/xx unknown
- 1997-05-05 BR BR9703050A patent/BR9703050A/pt not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-06-01 US US09/088,218 patent/US5977357A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-06-10 US US09/329,833 patent/US6191182B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-09-24 KR KR1020040077005A patent/KR100479989B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR9703050A (pt) | 1998-09-01 |
| CN1072662C (zh) | 2001-10-10 |
| ES2242974T3 (es) | 2005-11-16 |
| JP4545835B2 (ja) | 2010-09-15 |
| US5977357A (en) | 1999-11-02 |
| CN1309116A (zh) | 2001-08-22 |
| ATE297387T1 (de) | 2005-06-15 |
| DK1468994T3 (da) | 2011-02-21 |
| DK0805152T3 (da) | 2005-08-08 |
| ID16845A (id) | 1997-11-13 |
| US6191182B1 (en) | 2001-02-20 |
| EP0805152B1 (de) | 2005-06-08 |
| US5795985A (en) | 1998-08-18 |
| EP0805152A2 (de) | 1997-11-05 |
| CA2204200C (en) | 2007-04-10 |
| EP1468994B1 (de) | 2010-11-24 |
| DE59712337D1 (de) | 2005-07-14 |
| EP1468994A1 (de) | 2004-10-20 |
| ES2356448T3 (es) | 2011-04-08 |
| KR100479989B1 (ko) | 2005-03-31 |
| CN1168700C (zh) | 2004-09-29 |
| KR100507664B1 (ko) | 2005-11-22 |
| ATE489373T1 (de) | 2010-12-15 |
| ZA973797B (en) | 1997-12-01 |
| EP0805152A3 (de) | 1998-01-28 |
| MX9703235A (es) | 1997-11-29 |
| TW455592B (en) | 2001-09-21 |
| CA2204200A1 (en) | 1997-11-03 |
| CN1166487A (zh) | 1997-12-03 |
| DE59713049D1 (de) | 2011-01-05 |
| JPH1087643A (ja) | 1998-04-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970074775A (ko) | 시클릭 아민에 의해 치환된 페닐 알킬 케톤 및 이의 제조 방법 | |
| KR940000447A (ko) | 티아졸의 분지쇄 알킬아미노유도체, 그의 제조방법 및 그를 함유하는 약제학적 조성물 | |
| DE3853577T2 (de) | Benzyliden-Malononitril-Derivate zur Hemmung von proliferativen Prozessen in Säugetierzellen. | |
| DE69202286D1 (de) | Verfahren zur Färbung keratinischer Fasern mit Isatin oder Isatinderivaten zusammen mit Aminopyrimidin oder Aminopyridin und Färbemittel. | |
| PT77110A (fr) | Procede de preparation de nouveaux derives de la xanthine | |
| NO881701D0 (no) | Middel for koservering av tre og trematerialer. | |
| EP0069070A1 (en) | Colour photographic materials containing stabilizers | |
| KR870003164A (ko) | 수용성 아조화합물의 제조방법 | |
| GB1478261A (en) | Derivatives of 4-oxopiperidines | |
| DE69728180D1 (de) | Verfahren zur herstellung von carbamoylsubstituierten imidazolderivaten | |
| PT85688A (de) | Neue naphthylderivate diese verbindungen enthaltende arzneimittel und verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE59305012D1 (de) | 4-Amino-2-ureido-pyrimidin-5-carbonsäureamide, Verfahren zu deren Herstellung, diese Verbindungen enthaltende Arzneimittel und deren Verwendung | |
| PT76575B (fr) | Procede de preparation de polymethylene-diamines n,n'-substituees | |
| DE58900982D1 (de) | Verfahren zur herstellung von alpha, beta -ungesaettigten ketonen. | |
| ATE135694T1 (de) | Alkylthiopoly(ethylimidazolium)verbindungen, verfahren zur herstellung und deren verwendung als biozidemittel | |
| DE69619685D1 (de) | Galanthaminderivate und verfahren zu deren herstellung | |
| HU904921D0 (en) | Process for producing new esthers of 19-nor-steroide alcohol derivatives and pharmaceutical preparatives containing these compounds as active substance | |
| ATE22011T1 (de) | Virusimpfstoffe und verfahren zu ihrer herstellung. | |
| PT83786A (de) | Neue basisch substituierte pyridinverbindungen verfahren zu ihrer herstellung die sie enthaltenden arzneimittel und ihre verwendung | |
| JPS56115749A (en) | Dopa derivative | |
| GB1223826A (en) | Fluorine and silicon containing polycondensates, process for their preparation and their use as oil- and water-repellent agents | |
| DE1242451B (de) | Diazotypieschicht | |
| ES439641A1 (es) | Procedimiento para la obtencion de 1, 3-dihidrogeno-hetero- ciclos. | |
| HU9602700D0 (en) | Process for producing rapid hardening silicones by aminosilane cross-bonded | |
| DE50107832D1 (de) | Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsäurechloriden |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| A107 | Divisional application of patent | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120725 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130723 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140724 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150723 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160801 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Expiration of term |